KR920002508A - 2,4-디히드록시아디프산 유도체 - Google Patents

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Abstract

내용 없음

Description

2,4-디히드록시아디프산 유도체
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (30)

  1. 하기식(Ⅰ)의 2,4-디히드록시아디프산 유도체;
    (식중, R1및 R4는 동일 또는 상이하고 각각 수소 원자, 알킬기, 아랄킬기, 아릴기 또는 시릴기이고, R2및 R3동일 또는 상이하고 각각 수소 원자 또는 히드록시기의 보호기이거나 또는 함께 고리를 형성한다.)
  2. 하기식(Ⅱ)의 2-히드록시-4-옥소아디프산 유도체;
    (식중, R4는 수소 원자, 알킬기, 아랄킬기, 아릴기 또는 시릴기이고, X 및 Y는 동일 또는 상이하고 각각 수소원자, 알킬기, 이랄킬기 또는 아릴기이거나 또는 함께 고리를 형성한다.)
  3. 하기식(Ⅲ)의 2-히드록시-4-옥소아디프산 유도체;
    (식중, R1및 R4는 동일 또는 상이하고 각각 수소 원자, 알킬기, 아랄킬기, 아릴기 또는 시릴기이고, P는 수소 원자 또는 히드록시기의 보호기이다.)
  4. 하기식(Ⅳ)의 2,4-디히드록시아디프산 유도체;
    (식중, X 및 Y는 동일 또는 상이하고 각각 수소 원자, 알킬기, 아랄킬기 또는 아랄기이거나 또는 함께 고리를 형성하고, R4는 수소 원자, 알킬기, 아랄킬기, 아릴기 또는 시릴기이고, Q는 수소원자 또는 히드록시기의 보호기이다.)
  5. 제1항 내지 제4항중의 어느 한 항에 있어서 R4가 t-부틸기인 화합물.
  6. 제1항 또는 제3항에 있어서, R1이 C1-C4알킬기인 화합물.
  7. 제1항에 있어서, R2및 R3가 모두 수소 원자인 화합물.
  8. 제1항에 있어서, R2및 R3가 함께 이소프로필리덴기를 형성하는 화합물.
  9. 제1항에 있어서, R1이 C1-C4알킬기, R2및 R3가 모두 수소 원자이고 R4가 t-부틸기인 화합물.
  10. 제1항에 있어서, R1이 메틸기 또는 에틸기, R2및 R3가 모두 수소 원자이고 R4가 t-부틸기인 화합물.
  11. 제1항에 있어서, R1이 C1-C4알킬기이고, R2및 R3함께 이소프로필리덴기를 형성하고 R4가 t-부틸기인 화합물.
  12. 제2항 또는 제4항에 있어서, X 및 Y가 모두 메틸기인 화합물.
  13. 제2항 또는 제4항에 있어서, X 및 Y가 모두 메틸기이고, R4가 t-부틸기인 화합물.
  14. 제3항에 있어서, P가 수소 원자인 화합물.
  15. 제3항에 있어서, R1이 메틸기 또는 에틸기이고, P가 수소 원자이고, R4가 t-부틸기인 화합물.
  16. 제3항에 있어서, R1이 메틸기 또는 에틸기이고, P가 수소 원자이고, R4가 t-부틸기인 화합물.
  17. 제4항에 있어서, Q가 수소 원자인 화합물.
  18. 제4항에 있어서, X 및 Y가 모두 메틸기이고, Q가 수소원자이고, R4가 t-부틸기인 화합물.
  19. 하기식(Ⅱ)의 2-히드록시-4-옥소아디프산 유도체를 금속 알콜시드와 반응시켜 하기식(Ⅲ)의 2-히드록시-4-옥소아디프산 유도체를 수득하고, 상기 2-히드록시-4-옥소아디프산, 유도체(Ⅲ)을 탄원시키고 임의로 히드록시기를 탈보호 및/또는 에스테르기를 가수분해시키는 것을 포함하는 하기식(Ⅰ)의 2,4-디히록시아디프산 유도체의 제조방법;
    (식중, R1및 R4는 상기 정의한 바와 동일하고, P는 수소 원자, 알킬기, 아랄킬기, 아릴기 또는 시릴기이고, R2및 R3동일 또는 각각 수소 원자 또는 히드록시기의 보호기이거나 또는 함께 고리를 형성한다.)
    (식중, R4는 수소 원자, 알킬기, 아랄킬기, 아릴기 또는 시릴기이고, X 및 Y는 동일 또는 상이하고 각각 수소 원자, 알킬기, 아랄킬기 또는 아릴기이거나 또는 함께 고리를 형성한다.)
    (식중, R1및 R4는 상기 정의한 바와 동일하고, P는 수소 원자 또는 함께 고리를 형성한다.)
  20. 하기식(Ⅱ)의 2-히드록시-4-옥소아디프산 유도체를 환원시켜 하기식(Ⅳ)의 2,4-디히드록시아디프산 유도체를 수득하고, 상기 2,4-디히드록시아디프산 유도체(Ⅳ)를 금속 알콕시드와 반응시키고 임의로 히드록시기를 탈보호 및/또는 에스테르기를 가수분해시키는 것을 포함하는 하기식(Ⅰ)의 2,4-디히드록시아디프산 유도체의 제조방법.
    (식중, R1및 R4는 동일 또는 상이하고 각각 수소원자, 알킬기, 아랄킬기, 아릴기 또는 시릴기이고, R2및 R3동일 또는 상이하고 각각 수소 원자 또는 히드록시기의 보호기이거나 또는 함께 고리를 형성한다.)
    (식중, R4는 수소 원자, 알킬기, 아랄킬기, 아릴기 또는 시릴기이고, X 및 Y는 동일 또는 상이하고 각각 수소 원자, 알킬기, 아랄킬기 또는 아릴기이거나 또는 함께 고리를 형성한다.)
    (식중, Q는 수소원자 또는 히드록시기의 보호기이다.)
  21. 제19항 또는 제20항에 있어서, 상기 금속 알콕시드가 나트륨 메록시드, 나트륨 에톡시드 및 나트륨 이소프로폭시드로 구성된 군으로 부터 선택된 1종인 방법.
  22. 제19항 또는 제20항에 있어서, 상기 금속 알콕시드가 칼륨 메록시드, 칼륨 에톡시드 및 칼륨 이소프로폭시드로 구성된 군으로 부터 선택된 1종인 방법.
  23. 하기식(Ⅴ)의 2,4-디히드록시아페이트 유도체의 디에스테 1-위치에서의 에스테르기의 선택적 환원을 포함하는 하기식(Ⅵ)의 3,5,6-트리히드록시헥사노에이트 유도체의 제조방법.
    (식중, R6및 R7는 동일 또는 상이하고 각각 수고 원자 또는 히드록시기의 보호기이거나 또는 함께 고리를 형성하고, R8는 알킬기, 아랄킬기 또는 아릴기이다.)
    (식중, R6, R7및 R8는 상기 정의한 바와 같고, R5는 알킬기, 아랄킬기 또는 아릴기이다.)
  24. 제23항에 있어서, 식(Ⅴ)의 R6및 R7이 함께 케틸형 또는 아세탈형 보호기를 형성하는 방법.
  25. 제24항에 있어서, 식(Ⅴ)의 R6및 R7이 함께 이소프로필리덴기를 형성하는 방법.
  26. 제23항, 제24항 또는 제25항에 있어서, 식(Ⅴ)의 R5가 C1-C41급 또는 2급 알킬기이고, R8가 t-부틸기인 방법.
  27. 제23항에 있어서, 상기 2,4-디히드록시아디프산 유도체(Ⅴ)가 수소화물 환원제로 환원되는 방법.
  28. 제27항에 있어서, 상기 수소화물 환원제가 수소화 붕소 나트륨인 방법.
  29. 제27항에 있어서, 상기 수소화물 환원제가 수소화 리튬 알루미늄인 방법.
  30. 제23항에 있어서, 식(Ⅴ)에서의 R5가 메틸기 또는 에틸기, R8가 t-부틸기이고, R6및 R7이 함께 이소프로필리덴기를 형성하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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