KR910018853A - 레지스트 구조를 만들기 위한 방법. - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (10)
- 수직의 테두리를 가지는 용성이 큰 레지스트 구조를 제조하는 방법에 있어서, -화학반응성 그룹을 함유하는 폴리머와 디아조케론 및 퀴논 디아지드를 기초로 한 광활성 성분으로 이루어진 포토레지스트 층을 기판위에 부착시칸 다음, -포토레지스트층을 상(image)에 적합하게 노광하고, -폴리머의 반응성 그룹과 화학반응하는 작용기성 그룹을 가지는 다중 작용기성 유기화합물로써 노광포토레지스트층을 처리한 다음, -플러드 노광시키고, -폴리머의 반응성 그룹과 화학반응하는 하나 이상의 작용기성 그룹을 가지는, 금속 함유 유기화합물로써 상기 노광 포토레지스트 층을 처리한 다음, -상기 포토레지스트층을 산소 함유 플라즈마로 에칭하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 화학반응성 그룹으로서 무수물 그룹을 함유하는 폴리머를 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1 또는 2항에 있어서, 다중 작용기성 유기화합물로서 폴리아민을 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제3항에 있어서, 지방족 폴리아민을 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1내지 4항중 어느 한항에 있어서, 금속함유 유기화합물로서 유기실리콘 화합물을 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제5항에 있어서, 디아민실옥산을 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1내지 6항중 어느 한항에 있어서, 실온에서 다중 작용기성 유기화합물로 포토레지스트 층을 처리하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1내지 7항중 어느 한항에 있어서, 금속함유 유기화합물의 물-알콜용액으로 포토레지스트 층을 처리한느 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1내지 8항중 어느 한항에 있어서, 온도처리의 플러드 노광에 의해 포토레지스트 층이 변화될수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1내지 9항에중 어느 한항에 있어서, 드라이 에칭할 수 있는 플래너층 위에 포토레지스트층을 부착하는 것을 특징으로 하는 방법.※ 참고사항 : 최초출원내용에 의하여 공개하는 것임.
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