KR900018282A - 실리콘 기포 조절 조성물 - Google Patents
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내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (5)
- (I) (ⅰ) (A) 25℃에서의 점도가 약 20내지 100,000cs이며, 일반식(1)로 표현되는 폴리오가노실록산, 및 (B) 25℃에서의 점도가 200내지 약 100,000cs이며, 일반식(2)로 표현되는 폴리오가노실록산으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 폴리오가노실록산 100중량부; (ⅱ) (a) 일반식(3)의 오가노실리콘 화합물, (b)상기 화합물(a)의 부분적으로 가수분해된 축합물, (c) (CH3)3SiO1/22단위 및 SiO4/2단위로 필수적으로 이루어지며, SiO4/2단위에 대한 (CH3)3SiO1/2단위의 비가 0.4 : 1 내지 1.2 : 1인 실록산수지, 및 (d) 상기 화합물 (a) 또는 (b)와 상기 화합물(c)의 축합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나이상의 수지상 실리콘 화합물 0.5내지 20중량부; (ⅲ) 미세하게 분할된 충전제 0.5내지 30중량부; 및 (ⅳ) 다른 성분의 반응을 촉진시키기 위한 촉매량의화합물을 50내지 300℃에서 반응시켜 제조한 실리콘 소포제 반응 생성물, 및 (Ⅱ) 실리콘 소포제 반응 생성물 (Ⅰ) 100중량부에 대해, 평균 일반식(4)를 가지며, 물중에서 분산될 수 있는 실리콘 글리콜 공중합체 약 20내지 200중량부를 함유함을 특징으로 하는 조성물.상기식에서, R1은 탄소수 1내지 10의 1가 탄화수소 또는 할로겐화 탄화수소 그룹이고, a는 1.9내지 2.2의 평균값을 가지며, R2는 탄소수 1내지 10의 1가 탄화수소 또는 할로겐화 탄화수소 그룹이고, R3는 수소 또는 탄소수 1내지 10의 1가 탄화수소 그룹이며, b는 1.9내지 2.2의 평균값을 갖고, c는 각 분자중에 -OR3그룹(여기에서, -OR3그룹은 적어도 분자쇄의 말단에 존재한다)하나 이상을 부여하기에 충분히 큰 값을 가지며, R4는 탄소수 1내지 5의 1가 탄화수소 그룹이고, X는 가수분해 가능한 그룹이며, d는 1이하의 평균값을 갖고, Q는 R1또는 G이며, j는 1내지 20이고, k는 0내지 200이며, G는 하기 평균 구조식을 갖는 폴리옥시알킬렌 그룹이다.상기식에서, R1은 탄소수 1내지 10의 1가 탄화수소 또는 할로겐화 탄화수소 그룹이고, a는 1.9내지 2.2의 평균값을 가지며, R2는 탄소수 1내지 10의 1가 탄화수소 또는 할로겐화 탄화수소 그룹이고, R3는 수소 또는 탄소수 1내지 10의 1가 탄화수소 그룹이며, b는 1.9내지 2.2의 평균값을 갖고, c는 각 분자중에 -OR3그룹(여기에서, -OR3그룹은 적어도 분자쇄의 말단에 존재한다)하나 이상을 부여하기에 충분히 큰 값을 가지며, R4는 탄소수 1내지 5의 1가 탄화수소 그룹이고, X는 가수분해 가능한 그룹이며, d는 1이하의 평균값을 갖고, Q는 R1또는 G이며, j는 1내지 20이고, k는 0내지 200이며, G는 하기 평균 구조식을 갖는 폴리옥시알킬렌 그룹이다.(여기에서, R은 탄소수 2내지 20의 2가 탄화수소 그룹이고, m은 약 2내지 50이며, n은 0내지 약 50이고, z는 수소, 탄소수 1내지 6의 알킬 라디칼 및 탄소수 2내지 6의 아실 그룹으로 이루어진 그룹으로 부터 선택된다)
- 제1항에 있어서, 실리콘 소포제 반응 생성물(Ⅰ)이, 25℃에서의 점도가 5내지 200cs이고, 일반식(5)로 표현되는 성분(ⅴ)의 폴리오가노실록산 20중량부 이하를 추가로 함유하는 조성물.상기식에서, R6는 탄소수 1내지 10의 1가 탄화수소 또는 할로겐화 탄화수소 그룹이고, R9은 수소 또는 탄소수 1내지 10의 1가 탄화수소 그룹이며, e는 1.9내지 2.2이고, f는 분자쇄의 말단에서 각 분자중에 -OR9그룹 2개 이상을 부여하기에 충분히 큰 값을 갖는다.
- 제2항에 있어서, 실리콘 소포제 반응 생성물(Ⅰ) 100중량부에 대해 미세하게 분할된 충전제(Ⅲ) 약1내지 15중량부를 추가로 함유하는 조성물.
- 제3항에 있어서, 실리콘 소포제 반응 생성물(Ⅰ) 100중량부에 대해, 25℃에서 약2내지 100cs의 점도를 갖는 트리메틸실릴-말단성 폴리디메틸실록산으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 폴리오가노실록산(Ⅳ)약 10내지 100중량부를 추가로 함유하는 조성물.
- 기포 조절제의 첨가를 포함하는 수성 기포형성 시스템에서의 기포 조절 방법에 있어서, 기포 조절제로서 제1항의 조성물을 사용함을 특징으로 하는 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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