KR900014936A - 포지티브 방사선-감응성 혼합물 및 이로부터 제조된 고에너지 방사선을 위한 방사선-감응성 기록 물질 - Google Patents

포지티브 방사선-감응성 혼합물 및 이로부터 제조된 고에너지 방사선을 위한 방사선-감응성 기록 물질 Download PDF

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KR900014936A
KR900014936A KR1019900003093A KR900003093A KR900014936A KR 900014936 A KR900014936 A KR 900014936A KR 1019900003093 A KR1019900003093 A KR 1019900003093A KR 900003093 A KR900003093 A KR 900003093A KR 900014936 A KR900014936 A KR 900014936A
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acid
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담멜 랄프
링나우 우에르겐
파울로스키 게오르그
타이스 우에르겐
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메이어-둘헤우어, 게르만
훽스트 아크티엔게젤샤프트
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    • G—PHYSICS
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Abstract

내용 없음.

Description

포지티브 방사선-감응성 혼합물 및 이로부터 제조된 고에너지 방사선을 위한 방사선-감응성 기록 물질
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (15)

  1. 지방족에 결합된 할로겐(염소 또는 브롬)을 함유하고 pka값이 12미만이거나 산 촉매를 통해 유리 화합물로 전환시킬 수 있는 pak값을 지닌 화합물의 유도체이며, 고에너지 방사선의 작용하에서 산을 형성하는, 화합물과 산-경화성 물질을 함유함을 특징으로 하는, 포지티브 방사선-경화성 혼합물(positive radition-sensitive mixture).
  2. 제1항에 있어서, 산-형성 화합물이 6내지 10의 pak값을 갖는 포지티브 혼합물.
  3. 제1항에 있어서, 산-형성 화합물이 페놀성 OH그룹, 부근에 강력한 전자구인성 치환체를 지닌 지방족 OH그룹, 방향족SH그룹, 지방족 또는 방향족 설폰아미드 그룹, 지방족 또는 방향족 아미드 그룹, N-아실-치환된 카바메이트 그룹 또는 N-아실-치환된 카바메이트 그룹, 및 CH-산성 그룹 중에서 적어도 하나 이상의 그룹을 함유하는 포지티브 혼합물.
  4. 제1항에 있어서, 산-형성 화합물이 페놀성 OH그룹, 이미드 그룹, N-아실-치환된 카바메이트 그룹, N-아실-치환된 카바메이트 그룹 또는 CH-산성 그룹을 함유하는 포지티브 혼합물.
  5. 제1항에 있어서, 할로겐원자가 Sp3-하이브리드화 탄소원자에 결합되는 포지티브 혼합물.
  6. 제1항 내지 제5항중 어느 한항에 있어서, 산-형성 화합물이 염소 또는 브롬 치환체를 지닌 탄소원자에 대해 a-위치에서 수소원자를 함유하지 포지티브 조성물.
  7. 제5항 또는 제6항에 있어서, 산-형성 화합물이 염소화 또는 브롬화 아세틸 그룹을 함유하는 포지티브 조성물.
  8. 제1항에 있어서, 산-형성 화합물이 염소화 또는 브롬화 3급-부틸 그룹을 함유하는 포지티브 조성무.
  9. 제1항에 있어서, 할로겐-치환된 탄소원자에 대해 a-탄소원자상에서 산-형성 화합물이 할로겐 원자에 대해 트랜스-위치에서 어떠한 수소원자도 함유하지 않는 포지티브 혼합물.
  10. 제1항에 있어서, 산-형성 화합물이 지방족에 결합된 할로겐 원자 이외에 방향족에 결합된 할로겐 원자도 함유하는 포지티브 혼합물.
  11. 제10항에 있어서, 방향족에 결합된 할로겐 원자가 페놀성 OH그룹에 대해 O-위치로 존재하는 포지티브 혼합물.
  12. 제1항에 있어서, 지방족에 결합된 브롬 또는 염소를 함유하는 치환제가 하나 또는 수개의 케이스로 알칼리-가용성 중합체에 결합되는 포지티브 혼합물.
  13. 제1항 내지 제12항중 어느 한항에 있어서, 혼합물이 추가로 알칼리-가용성 결합체를 함유하는 포지티브 조성물.
  14. 기질과 제1항 내지 제13항중 어느 한항에서 청구한 방사선-경화성 혼합물을 포함하는 방사선-감응성 피복물을 필수적으로 포함함을 특징으로 하는, 포지티브 기록물질.
  15. 제1항 내지 제13항에서 청구한 방사선-경화성 혼합물을 기질에 적용시키고, 임의로 점착 촉진제로 피복시키며, 이 물질을 건조시킨후, 고-에너지 방사선, 특히 X-선 또는 전자방사선 또는 화상으로(imagewise)조사한 다음, 경우에 따라, 이 물질을 승온하에서 콘디셔닝(conditioning)하고, 최종적으로 수성 알칼리 현상액을 사용하여 피복물의 비조사된 영역을 제거함으로서 화상(image)을 현상시킴을 특징으로 하여, 제14항에서 청구한 포지티브 기록물질을 이용하여 고-에너지 방사선을 기록시키는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019900003093A 1989-03-11 1990-03-09 포지티브 방사선-감응성 혼합물 및 이로부터 제조된 고에너지 방사선을 위한 방사선-감응성 기록 물질 KR900014936A (ko)

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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3907953A1 (de) * 1989-03-11 1990-09-13 Hoechst Ag Strahlungshaertbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial fuer hochenergetische strahlung
EP0410606B1 (en) * 1989-07-12 1996-11-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Siloxane polymers and positive working light-sensitive compositions comprising the same
EP0422628A3 (en) * 1989-10-13 1992-02-26 E.I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive element
EP0536690B1 (en) * 1991-10-07 1998-09-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive composition
JPH05247386A (ja) * 1991-11-27 1993-09-24 Hitachi Chem Co Ltd ポジ型感光性アニオン電着塗料樹脂組成物、ポジ型感光性アニオン電着塗料、電着塗装浴、電着塗装法及びプリント回路板の製造法
JPH0954437A (ja) * 1995-06-05 1997-02-25 Fuji Photo Film Co Ltd 化学増幅型ポジレジスト組成物
EP1209528B1 (en) 2000-11-28 2015-07-22 Eternal Technology Corporation Photoresist composition
US20100025069A1 (en) * 2008-07-30 2010-02-04 Smith Iii Robert L Cable and a method of assembling same

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3502476A (en) * 1965-10-20 1970-03-24 Konishiroku Photo Ind Light-sensitive photographic materials
GB1248036A (en) * 1968-01-12 1971-09-29 Agfa Gevaert Photopolymerisation of ethylenically unsaturated organic compounds
DE1949010C3 (de) * 1969-09-27 1979-11-29 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Verwendung von halogenmethylierten Benzophenonen als Photopolymerisationsinitiatoren
US3912606A (en) * 1974-11-21 1975-10-14 Eastman Kodak Co Photosensitive compositions containing benzoxazole sensitizers
CH621416A5 (ko) * 1975-03-27 1981-01-30 Hoechst Ag
DE2541977B2 (de) * 1975-09-20 1978-07-06 Te Ka De Felten & Guilleaume Fernmeldeanlagen Gmbh, 8500 Nuernberg Anordnung zum Entzerren von Restdämpfungskurven
DE2718254C3 (de) * 1977-04-25 1980-04-10 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Strahlungsempfindliche Kopiermasse
US4289845A (en) * 1978-05-22 1981-09-15 Bell Telephone Laboratories, Inc. Fabrication based on radiation sensitive resists and related products
DE2928636A1 (de) * 1979-07-16 1981-02-12 Hoechst Ag Strahlungsempfindliches gemisch und verfahren zur herstellung von reliefbildern
DE3144480A1 (de) * 1981-11-09 1983-05-19 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial
DE3144499A1 (de) * 1981-11-09 1983-05-19 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial
DE3151078A1 (de) * 1981-12-23 1983-07-28 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur herstellung von reliefbildern
US4398001A (en) * 1982-03-22 1983-08-09 International Business Machines Corporation Terpolymer resist compositions
DE3473359D1 (de) * 1983-06-29 1988-09-15 Fuji Photo Film Co Ltd Photosolubilizable composition
DE3406927A1 (de) * 1984-02-25 1985-08-29 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Strahlungsempfindliches gemisch auf basis von saeurespaltbaren verbindungen
EP0164083B1 (de) * 1984-06-07 1991-05-02 Hoechst Aktiengesellschaft Positiv arbeitende strahlungsempfindliche Beschichtungslösung
DE3442756A1 (de) * 1984-11-23 1986-05-28 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Strahlungsempfindliches gemisch, daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von waermebestaendigen reliefaufzeichnungen
JPH067263B2 (ja) * 1985-08-19 1994-01-26 富士写真フイルム株式会社 光可溶化組成物
CA1307695C (en) * 1986-01-13 1992-09-22 Wayne Edmund Feely Photosensitive compounds and thermally stable and aqueous developablenegative images
DE3621376A1 (de) * 1986-06-26 1988-01-07 Hoechst Ag Strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial

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AU631610B2 (en) 1992-12-03

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