KR900014155A - 감광성층용 기질의 조면처리방법 및 장치 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1도는 전극에 주파수-전환된 3-위상 전류가 적용되는, 본 발명에 따른 장치의 첫 번째 양태를 도식한 것이다.
제 2도는 첫번째 양태의 전극 이외에, 추가의 전극이 기준 주파수에서 3-위상 전류에 의해 작동되는 장치의 두 번째 양태를 도식한 것이다.
제 3도는 전극쌍에 주파수 -전환된 교류가 적용되는 장치의 세 번째 양태를 도식한 것이다.
Claims (19)
- 감광성층용 기질의 표면을 기계적으로 조면처리한 후, 3-위상 전류 또는 교류를 기질의 맞은편에 있는 전극에 가함으로써 수정 전해조중에서 전기화학적으로 조면처리하고, 여기서 3-위상 전류 또는 교류의 주파수는 50㎐의 기준 주파수보다 높으며 이 주파수는 전해조를 통한 기질의 이동 속도의 증가에 따라 더 높게 조절되는 감광성층용 기질의 조면처리 방법.
- 제 1 항에 있어서, 3-위상 전류 또는 교류 주파수가 50㎐내지 300㎐또는 그 이상의 범위에서 선택되는 방법.
- 제 2 항에 있어서, 기질은 전해조를 통해 50내지 150m/분의 일정 속도에서 이동하며, 3-위상 전류 또는 교류 주파수는 3-위상 전류 또는 교류의 극성 변화에 따라 형성되는 기질 표면상의 전기적 크로스-슬로우크(cross-stroke)의 간격(t)이 15mm 또는 그 이하가 되도록 선택되는 방법.
- 제 3 항에 있어서, 기질 표면상의 전기적 크로스-스트로우크의 간격(t)이 관계식 t=v/f[여기에서, 기질의 이동 속도(v)의 단위는 ㎜/초이고, 3-위상 전류 또는 교류 주파수(f)의 단위는 ㎐(1/초)이다]에 따라서 3내지 15mm의 범위내에서 선택되는 방법.
- 제 4 항에 있어서,3-위상 전류 또는 교류 주파수가 300㎐인 경우에 기질 표면상의 전기적 크로스-스트로우크의 간격(t)이 60mm 또는 그 이하인 방법.
- 제 1 항 내지 5항중 어느 한 항에 있어서, 수성 전해조중에 침지된 전극의 전류 밀도가 단순한 전기화학적 조면처리의 경우 50㎐의 3-위상 전류 또는 교류 주파수에 의해 작동되는 전극의 전류 밀도의 5내지 50%인 방법.
- 제 6 항에 있어서, 수성 전해조중에 침지된 전극의 밀도가 단순한 전기화학적 조면처리의 경우 50㎐의 3-위상 전류 또는 교류 주파수에 의해 작동되는 전극의 전류 밀도의 10내지 20%이며, 상기 침지된 전극의 전류 밀도는 250내지 1400A/㎡인 방법.
- 제 1 항 내지 7항중 어느 한 항에 있어서, 도중에 산처리하지 않고 전기화학적으로 조면처리한 후, 기질을 세정하고 전기화학적으로 전기 분해시키는 방법.
- 제 1 항 내지 8항중 어느 한 항에 있어서, 주파수와 관련하여 변환될 전압이 주파수가 50내지 300㎐의 범위내인 경우 1내지 380V의 범위이고, 전극에 적용되는 전압은 20내지 50V, 특히 35V인 방법.
- 제 1 항 내지 9항 중 어느 한 항에 있어서, 전기 화학적 조면처리의 초기 및/또는 종결시에, 직류를 사용하여 기질의 전해 처리를 수행하는 방법.
- 전해조(1)중의 전극(3,4 및 5)이 제1의 3-위상 변환기(6)의 제 2면에 접속되고, 이 3-위상 변환기의 제1면이 조절 변환기에 의한 3-위상 주파수 전환기(7)를 통해 3-위상 전류용 전력 변환기에 접속된, 제1항 내지 10항중 어느 한 항에서 청구된 방법을 수행하기 위한 장치.
- 제11항에 있어서,3-위상 주파수 전환기(7)가 도선(L1,L2 및 L3)을 통해 공급된 3-위상 전류의 기준 주파수를 50내지 300㎐ 또는 그 이상의 범위에서 변환시키는 장치.
- 제11항 또는 12항에 있어서, 3-위상 변환기(6)가 스타 또는 델타 접속 형태로 와이어링(wiring)된 장치.
- 제11항 내지 13항중 어느 한 항에 있어서, 추가의 전극(8,9 및 10)이 전해조(11)중에서 제2의 3-위상 변환기(13)(이 변환기는 스타 또는 델타 접속 형태로 와이어링된다)의 제2면에 접속되어 있으며, 이 3-위상 변환기의 제 1면은 3-위상 조절 변환기(12) 및 전력 변환기를 통해 3-위상 전류에 접속되는 장치.
- 제14항에 있어서,추가의 전극(8,9 및 10)이 전해조(11)의 도입부분 및/또는 말단부분에 배열되어 있고, 도선(L1,L2 및 L3)을 통해 기준 주파수의 3-위상 전류가 3-위상 조절 변환기(12)에 공급되는 장치.
- 각 전극쌍(14 및 15, 16 및 17, 18 및 19)이 전해조(20)중에서 교류 변환기(21,22,23)의 제 2면에 접속되고, 각 교류 변환기의 제 1면이 교류 주파수 전환기(3,25,26)를 통해 교류에 접속되는, 제 1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 따른 방법을 수행하기 위한 장치.
- 제16항에 있어서, 각 교류 주파수 전환기(24,25,26)가 1내지 380V의 교류 전압에서 50내지 300㎐또는 그 이상의 주파수 범위에서 작동되는 장치.
- 제17항에 있어서, 추가의 전극쌍(27 및 28, 29 및 30)이 전해조(31)중에서 교류 변환기(32,33)의 제 2면에 접속되어 있으며, 이 교류 변환기의 제 1면은 교류 조절변환기(34,35)를 통해 교류에 접속되는 장치.
- 제18항에 있어서, 추가의 전극쌍(27 및 28, 29 및 30)이 전해조(31)의 도입부분 및/또는 말단부분에 배열되어 있으며, 기준 주파수의 교류가 교류 조절 변환기(34,35)에 공급되는 장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3910213A DE3910213A1 (de) | 1989-03-30 | 1989-03-30 | Verfahren und vorrichtung zum aufrauhen eines traegers fuer lichtempfindliche schichten |
DE39102130 | 1989-03-30 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR900014155A true KR900014155A (ko) | 1990-10-23 |
Family
ID=6377415
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019900004208A KR900014155A (ko) | 1989-03-30 | 1990-03-29 | 감광성층용 기질의 조면처리방법 및 장치 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5082537A (ko) |
EP (1) | EP0390033B1 (ko) |
JP (1) | JPH02298300A (ko) |
KR (1) | KR900014155A (ko) |
BR (1) | BR9001389A (ko) |
CA (1) | CA2013299A1 (ko) |
DE (2) | DE3910213A1 (ko) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5221442A (en) * | 1991-03-07 | 1993-06-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method and apparatus for electrolytic treatment |
JP2707381B2 (ja) * | 1991-11-05 | 1998-01-28 | 富士写真フイルム株式会社 | 印刷版用アルミニウム支持体の電解処理方法 |
EP0585586B1 (en) * | 1992-07-20 | 1997-01-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for electrolytic treatment |
GB9326150D0 (en) * | 1993-12-22 | 1994-02-23 | Alcan Int Ltd | Electrochemical roughening method |
DE69818204T2 (de) | 1997-12-16 | 2004-07-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara | Verfahren zur Herstellung eines Aluminiumträgers für eine Flachdruckplatte |
JP2000017500A (ja) * | 1998-06-26 | 2000-01-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 電解処理装置及び電解処理方法 |
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DE19908884C1 (de) | 1999-03-02 | 2000-10-05 | Agfa Gevaert Ag | Verfahren und Vorrichtung zum elektrochemischen Aufrauhen eines Trägers für lichtempfindliche Schichten |
GB2418628B (en) * | 2004-10-01 | 2006-12-13 | Acktar Ltd | Improved laminates and the manufacture thereof |
WO2007097105A1 (ja) * | 2006-02-21 | 2007-08-30 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 平版印刷版材料用アルミニウム支持体の製造方法、平版印刷版材料用アルミニウム支持体、平版印刷版材料および画像形成方法 |
EP2343402B1 (en) * | 2008-09-30 | 2017-08-02 | FUJIFILM Corporation | Electrolytic treatment method and electrolytic treatment device |
US8741392B2 (en) | 2009-06-02 | 2014-06-03 | Integran Technologies, Inc. | Anodically assisted chemical etching of conductive polymers and polymer composites |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL7017765A (ko) * | 1969-12-15 | 1971-06-17 | ||
JPS5146003B1 (ko) * | 1970-08-03 | 1976-12-07 | ||
GB1548689A (en) * | 1975-11-06 | 1979-07-18 | Nippon Light Metal Res Labor | Process for electrograining aluminum substrates for lithographic printing |
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JPS5629699A (en) * | 1979-08-15 | 1981-03-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Surface roughening method by electrolysis |
US4336113A (en) * | 1981-06-26 | 1982-06-22 | American Hoechst Corporation | Electrolytic graining of aluminum with hydrogen peroxide and nitric or hydrochloric acid |
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DE3715791A1 (de) * | 1987-05-12 | 1988-11-24 | Hoechst Ag | Druckplattentraeger sowie verfahren und vorrichtung zu dessen herstellung |
-
1989
- 1989-03-30 DE DE3910213A patent/DE3910213A1/de not_active Withdrawn
-
1990
- 1990-03-26 DE DE9090105701T patent/DE59001749D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-03-26 EP EP90105701A patent/EP0390033B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-03-27 BR BR909001389A patent/BR9001389A/pt unknown
- 1990-03-29 KR KR1019900004208A patent/KR900014155A/ko not_active Application Discontinuation
- 1990-03-29 US US07/500,955 patent/US5082537A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-03-29 CA CA002013299A patent/CA2013299A1/en not_active Abandoned
- 1990-03-30 JP JP2084775A patent/JPH02298300A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0390033A1 (de) | 1990-10-03 |
DE59001749D1 (de) | 1993-07-22 |
US5082537A (en) | 1992-01-21 |
CA2013299A1 (en) | 1990-09-30 |
BR9001389A (pt) | 1991-04-09 |
JPH02298300A (ja) | 1990-12-10 |
DE3910213A1 (de) | 1990-10-11 |
EP0390033B1 (de) | 1993-06-16 |
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---|---|---|---|
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