JP2000017500A - 電解処理装置及び電解処理方法 - Google Patents
電解処理装置及び電解処理方法Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
- C25F7/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic removal of material from objects; Servicing or operating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/03—Chemical or electrical pretreatment
- B41N3/034—Chemical or electrical pretreatment characterised by the electrochemical treatment of the aluminum support, e.g. anodisation, electro-graining; Sealing of the anodised layer; Treatment of the anodic layer with inorganic compounds; Colouring of the anodic layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
- C25F3/00—Electrolytic etching or polishing
- C25F3/02—Etching
- C25F3/04—Etching of light metals
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 アルミニウムウェブを電解エッチング処
理して平版印刷版用支持体を製造する際、アルミニウム
ウェブの表面に生じる周波数に応じた不均一性を無く
し、高い処理スピード及び高電流密度処理が可能なよう
にする。 【解決手段】 金属ウェブ１は、パスローラ２、４を通
ってドラムローラ３に巻き掛けられている。ドラムロー
ル３の外側には電極５、６が同心円状に設けられてい
る。交番波形電源１３の電源出力端子の一方はコンタク
ト給電ローラ７に、他方は電極５、６に接続され電圧印
加される。交番波形電源１３には、周波数を任意に設定
できる周波数設定器１５が内蔵されている。電解処理す
るには、金属ウェブ１の処理スピード、電流密度等の条
件を考慮し、不均一な処理ムラが最も発生しない周波数
を選択し、周波数設定器１５でこの選択された周波数と
なるように調整して行う。
理して平版印刷版用支持体を製造する際、アルミニウム
ウェブの表面に生じる周波数に応じた不均一性を無く
し、高い処理スピード及び高電流密度処理が可能なよう
にする。 【解決手段】 金属ウェブ１は、パスローラ２、４を通
ってドラムローラ３に巻き掛けられている。ドラムロー
ル３の外側には電極５、６が同心円状に設けられてい
る。交番波形電源１３の電源出力端子の一方はコンタク
ト給電ローラ７に、他方は電極５、６に接続され電圧印
加される。交番波形電源１３には、周波数を任意に設定
できる周波数設定器１５が内蔵されている。電解処理す
るには、金属ウェブ１の処理スピード、電流密度等の条
件を考慮し、不均一な処理ムラが最も発生しない周波数
を選択し、周波数設定器１５でこの選択された周波数と
なるように調整して行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、交番波形電流を用
いて連続的に金属ウェブに電解エッチング処理を行う電
解処理装置及び電解処理方法に関し、特に、平版印刷版
支持体を製造する際におけるアルミニウムウェブの電解
エッチングに好適な電解処理装置及び電解処理方法に関
するものである。
いて連続的に金属ウェブに電解エッチング処理を行う電
解処理装置及び電解処理方法に関し、特に、平版印刷版
支持体を製造する際におけるアルミニウムウェブの電解
エッチングに好適な電解処理装置及び電解処理方法に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】アルミニウム、鉄などの表面に電解エッ
チングする方法は広く実用化されており、要求される品
質や反応効率の向上の目的から交番波形電流を用いるこ
とは一般的に行われている。例えば、特公昭５６−１９
２８０号公報には、アルミニウム板の電解粗面化処理に
おいて陽極時電圧が陰極時電圧より大なるよう印加した
交番波形電圧を用いることにより、オフセット印刷版支
持体として優れた粗面化処理が可能になるという電解エ
ッチング処理方法が開示されている。
チングする方法は広く実用化されており、要求される品
質や反応効率の向上の目的から交番波形電流を用いるこ
とは一般的に行われている。例えば、特公昭５６−１９
２８０号公報には、アルミニウム板の電解粗面化処理に
おいて陽極時電圧が陰極時電圧より大なるよう印加した
交番波形電圧を用いることにより、オフセット印刷版支
持体として優れた粗面化処理が可能になるという電解エ
ッチング処理方法が開示されている。
【０００３】通常、電解エッチング処理は、１〜５％の
硝酸あるいは塩酸等の酸性電解液中において、電流密度
１０Ａ／ｄｍ2〜１００Ａ／ｍ2で行われる。交番波形電
流を用いる場合、例えば、金属ウェブとしてアルミニウ
ム板を用いた時、陽極周期時はＡｌ→Ａｌ3+＋３ｅの溶
解反応が生じ、また、陰極周期時はＨ+＋ｅ→（１／
２）Ｈ2↑とＡｌ3+＋３ＯＨ→Ａｌ（ＯＨ）3の水素ガス
発生反応と同時に水酸化アルミニウムのスマット生成反
応がアルミニウム板上で生じる。
硝酸あるいは塩酸等の酸性電解液中において、電流密度
１０Ａ／ｄｍ2〜１００Ａ／ｍ2で行われる。交番波形電
流を用いる場合、例えば、金属ウェブとしてアルミニウ
ム板を用いた時、陽極周期時はＡｌ→Ａｌ3+＋３ｅの溶
解反応が生じ、また、陰極周期時はＨ+＋ｅ→（１／
２）Ｈ2↑とＡｌ3+＋３ＯＨ→Ａｌ（ＯＨ）3の水素ガス
発生反応と同時に水酸化アルミニウムのスマット生成反
応がアルミニウム板上で生じる。
【０００４】これらの反応は電源の周波数に応じて交互
に起り、これらの基本反応を電解液の種類及び濃度、温
度条件、電流密度、投入電気量等の電解条件を制御する
ことにより、要求される粗面化表面を得ることが一般的
に可能である。
に起り、これらの基本反応を電解液の種類及び濃度、温
度条件、電流密度、投入電気量等の電解条件を制御する
ことにより、要求される粗面化表面を得ることが一般的
に可能である。
【０００５】しかしながら、交番波形電流を用いる場合
は、金属ウェブが電解槽に入った時と出た時との電流周
期により、溶解反応により処理を開始する部分と、終了
する部分との相違が必ずある。これらの相違は当然のこ
とながら電源の周波数に応じて発生する。例えば、処理
スピードを５０ｍ／ｍｉｎ、電源周波数を６０Ｈｚとし
た場合、金属ウェブの長手方向において、１．３９ｃｍ
ピッチでその相違が発生する。また、より高い量産化の
観点からは、高い処理スピード、高電流密度処理が望ま
れており、また、近年増加しているマンガンなどを含有
した高強度アルミニウム支持体では、周波数を低下させ
ることで高品質の平版印刷版支持体を製造するという傾
向もある。
は、金属ウェブが電解槽に入った時と出た時との電流周
期により、溶解反応により処理を開始する部分と、終了
する部分との相違が必ずある。これらの相違は当然のこ
とながら電源の周波数に応じて発生する。例えば、処理
スピードを５０ｍ／ｍｉｎ、電源周波数を６０Ｈｚとし
た場合、金属ウェブの長手方向において、１．３９ｃｍ
ピッチでその相違が発生する。また、より高い量産化の
観点からは、高い処理スピード、高電流密度処理が望ま
れており、また、近年増加しているマンガンなどを含有
した高強度アルミニウム支持体では、周波数を低下させ
ることで高品質の平版印刷版支持体を製造するという傾
向もある。
【０００６】しかしながら、上述した電源周波数に応じ
た不均一性は、発生のメカニズムからして、処理スピー
ドが高くなるほど、電流密度が高くなるほど、そして、
周波数が低くなるほど、いずれもその程度が強くなるも
のである。
た不均一性は、発生のメカニズムからして、処理スピー
ドが高くなるほど、電流密度が高くなるほど、そして、
周波数が低くなるほど、いずれもその程度が強くなるも
のである。
【０００７】そして、特開平１−２３０８００号公報に
は、金属ウェブの入口及び出口、すなわち電極の先端及
び後端において低電流密度ゾーンを設けたことを特徴と
する電解装置が開示され、特開平４−２８９２００号公
報には、電源周波数を１〜３０Ｈｚとした粗面化方法が
開示されている。
は、金属ウェブの入口及び出口、すなわち電極の先端及
び後端において低電流密度ゾーンを設けたことを特徴と
する電解装置が開示され、特開平４−２８９２００号公
報には、電源周波数を１〜３０Ｈｚとした粗面化方法が
開示されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上述した
従来の方法は、高い処理スピードの場合や高電流密度の
場合、また、電解液の条件が変化した場合には、周波数
に応じた不均一性を完全に無くすことは出来なかった。
従来の方法は、高い処理スピードの場合や高電流密度の
場合、また、電解液の条件が変化した場合には、周波数
に応じた不均一性を完全に無くすことは出来なかった。
【０００９】本発明の目的は、以上の問題点を解消し、
周波数に応じた不均一性を無くし、高い処理スピード及
び高電流密度処理が可能な電解処理装置及び電解処理方
法を提供することにある。
周波数に応じた不均一性を無くし、高い処理スピード及
び高電流密度処理が可能な電解処理装置及び電解処理方
法を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、周波数に
応じた金属ウェブの不均一性について鋭意研究努力した
結果、処理スピード、電流密度等の一定の条件に対し、
不均一性が小さくなる周波数が有ることを見出し、本発
明を完成させたものである。
応じた金属ウェブの不均一性について鋭意研究努力した
結果、処理スピード、電流密度等の一定の条件に対し、
不均一性が小さくなる周波数が有ることを見出し、本発
明を完成させたものである。
【００１１】すなわち、本発明による電解処理装置は、
交番波形電流を用いて金属ウェブに連続的に電解エッチ
ングを行う電解処理装置において、この交番波形電流の
電源周波数を任意に変更できる周波数可変手段が設けら
れていることを特徴として構成されている。
交番波形電流を用いて金属ウェブに連続的に電解エッチ
ングを行う電解処理装置において、この交番波形電流の
電源周波数を任意に変更できる周波数可変手段が設けら
れていることを特徴として構成されている。
【００１２】また、本願発明による電解処理方法は、交
番波形電流を用いて金属ウェブに連続的に電解エッチン
グを行う電解処理方法において、電解液の種類、電解液
の濃度、電解液の温度、電流密度、投入電気量及び電解
処理時間より、最適な電源周波数を設定して電解エッチ
ングを行うことを特徴として構成されている。
番波形電流を用いて金属ウェブに連続的に電解エッチン
グを行う電解処理方法において、電解液の種類、電解液
の濃度、電解液の温度、電流密度、投入電気量及び電解
処理時間より、最適な電源周波数を設定して電解エッチ
ングを行うことを特徴として構成されている。
【００１３】周波数可変手段は、交番波形電源の周波数
を変更できる手段であれば特に限定されるものでなく、
例えば、水晶発振器を用いて分周比を変える手段を使用
することができる。この周波数可変手段で電源周波数を
変更するには、１Ｈｚの範囲で数段階(例えば、０．０
１Ｈｚ毎に設定する)に変更できることが好ましい。ま
た、電源周波数を変更するには、電解液の種類、電解液
の濃度、電解液の温度、電流密度、投入電気量及び電解
処理時間等により、自動的に変更するようにしても、手
動で変更できるようにしてもよい。
を変更できる手段であれば特に限定されるものでなく、
例えば、水晶発振器を用いて分周比を変える手段を使用
することができる。この周波数可変手段で電源周波数を
変更するには、１Ｈｚの範囲で数段階(例えば、０．０
１Ｈｚ毎に設定する)に変更できることが好ましい。ま
た、電源周波数を変更するには、電解液の種類、電解液
の濃度、電解液の温度、電流密度、投入電気量及び電解
処理時間等により、自動的に変更するようにしても、手
動で変更できるようにしてもよい。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明による電解処理装置及び電
解処理方法の一実施形態を図面に基づいて説明する。
解処理方法の一実施形態を図面に基づいて説明する。
【００１５】図１は連続電解処理装置の一実施形態を示
す模式的説明図である。図１において、１は電解処理さ
れる金属ウェブであり、この金属ウェブ１は、パスロー
ラ２、４を通ってドラムローラ３に巻き掛けられてい
る。このドラムローラ３は後述する電極と金属ウェブ１
との間隔を維持するためのもので、通常、その間隔は５
〜５０ｍｍに設定されている。ドラムロール３の外側に
は電極５、６が同心円状に設けられており、この電極
５、６の先端及び後端には、低電流密度ゾーンを設ける
ために、金属ウェブ１と電極５、６面との距離を漸次離
していくように、切り欠き部１４ａ、１４ｂ、１４ｃ、
１４ｄがそれぞれ設けられている。７はコンタクト給電
ローラであり、金属ウェブ１に接触し、金属ウェブ１と
同速で回転駆動されている。
す模式的説明図である。図１において、１は電解処理さ
れる金属ウェブであり、この金属ウェブ１は、パスロー
ラ２、４を通ってドラムローラ３に巻き掛けられてい
る。このドラムローラ３は後述する電極と金属ウェブ１
との間隔を維持するためのもので、通常、その間隔は５
〜５０ｍｍに設定されている。ドラムロール３の外側に
は電極５、６が同心円状に設けられており、この電極
５、６の先端及び後端には、低電流密度ゾーンを設ける
ために、金属ウェブ１と電極５、６面との距離を漸次離
していくように、切り欠き部１４ａ、１４ｂ、１４ｃ、
１４ｄがそれぞれ設けられている。７はコンタクト給電
ローラであり、金属ウェブ１に接触し、金属ウェブ１と
同速で回転駆動されている。
【００１６】電解液８は、ドラムローラ３の真下に配設
した電解液給液部９より供給されてセル内に満たされ、
電解液排出部１０ａ、１０ｂよりセル外に排出され、そ
して、循環タンク１１を経てポンプ１２により電解液給
液部９へ強制循環される。
した電解液給液部９より供給されてセル内に満たされ、
電解液排出部１０ａ、１０ｂよりセル外に排出され、そ
して、循環タンク１１を経てポンプ１２により電解液給
液部９へ強制循環される。
【００１７】１３は交番波形電源であり、この交番波形
電源１３の電源出力端子の一方はコンタクト給電ローラ
７に、他方は電極５、６に接続され電圧印加される。そ
して、この交番波形電源１３には、周波数を任意に設定
できる周波数可変手段としての周波数設定器１５が内蔵
されており、この周波数設定器１５を設定することによ
り交番波形電源１３の出力する交番波形電流の周波数を
０．１Ｈｚ単位で任意に設定できるようになっている。
電源１３の電源出力端子の一方はコンタクト給電ローラ
７に、他方は電極５、６に接続され電圧印加される。そ
して、この交番波形電源１３には、周波数を任意に設定
できる周波数可変手段としての周波数設定器１５が内蔵
されており、この周波数設定器１５を設定することによ
り交番波形電源１３の出力する交番波形電流の周波数を
０．１Ｈｚ単位で任意に設定できるようになっている。
【００１８】以上のような電解処理装置で金属ウェブ１
を電解処理するには、まず、金属ウェブ１の処理スピー
ド、電解液の種類、濃度及び温度、電流密度、投入電気
量、電解処理時間等の条件を考慮し、不均一な処理ムラ
が最も発生しない周波数を選択し、周波数設定器１５で
この選択された周波数となるように調整する。
を電解処理するには、まず、金属ウェブ１の処理スピー
ド、電解液の種類、濃度及び温度、電流密度、投入電気
量、電解処理時間等の条件を考慮し、不均一な処理ムラ
が最も発生しない周波数を選択し、周波数設定器１５で
この選択された周波数となるように調整する。
【００１９】そして、この状態で金属ウェブ１を連続的
に電解エッチング処理し、処理ムラのない金属ウェブ１
を得ることができる。この電解エッチング処理を続け、
電解液濃度等の条件が変化してくると、その都度、最適
な周波数に設定を変更して電解エッチング処理を続け
る。この周波数の設定は自動的に行っても手動で行って
もよい。
に電解エッチング処理し、処理ムラのない金属ウェブ１
を得ることができる。この電解エッチング処理を続け、
電解液濃度等の条件が変化してくると、その都度、最適
な周波数に設定を変更して電解エッチング処理を続け
る。この周波数の設定は自動的に行っても手動で行って
もよい。
【００２０】
【実施例】図１に示す連続電解処理装置を用い、金属ウ
ェブとしてアルミニウムウェブを電解処理し、処理ムラ
の発生を比較した。
ェブとしてアルミニウムウェブを電解処理し、処理ムラ
の発生を比較した。
【００２１】電解処理条件は下記による。 アルミ幅 ：１０００ｍｍ 処理スピード：５０／ｍｉｎ 電源周波数 ：６０Ｈｚ〜６０．５Ｈｚ 電流密度 ：５０Ａ／ｄｍ２
【００２２】結果を表１に示す。
【００２３】
【表１】 ○：処理ムラ殆どなし ○△：処理ムラ若干発生
【００２４】以上の結果より、最適な電源周波数を採用
することにより、処理ムラを小さくできることが確認さ
れた。
することにより、処理ムラを小さくできることが確認さ
れた。
【００２５】
【発明の効果】本発明は、交番波形電流を用いて金属ウ
ェブに連続的に電解エッチング処理を行う際、電解条件
に応じて最適な電源周波数を設定することができるの
で、不均一な処理ムラを小さくすることができ、その結
果、高い電解処理スピード及び高電流密度処理が可能と
なり、高品質の平版印刷版用支持体等を安価に製造する
ことができる。
ェブに連続的に電解エッチング処理を行う際、電解条件
に応じて最適な電源周波数を設定することができるの
で、不均一な処理ムラを小さくすることができ、その結
果、高い電解処理スピード及び高電流密度処理が可能と
なり、高品質の平版印刷版用支持体等を安価に製造する
ことができる。
【図１】 本発明による電解処理装置の一実施形態の模
式的説明図である。
式的説明図である。
１………金属ウェブ ２，４…パスローラ ３………ドラムローラ ５，６…電極 ７………コンタクト給電ローラ ８………電解液 １３……交番波形電源 １５……周波数設定器（周波数可変手段）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松浦 睦 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 2H114 AA04 AA14 DA04 FA04 GA08
Claims (2)
- 【請求項１】 交番波形電流を用いて金属ウェブに連続
的に電解エッチングを行う電解処理装置において、この
交番波形電流の電源周波数を任意に変更できる周波数可
変手段が設けられていることを特徴とする電解処理装
置。 - 【請求項２】 交番波形電流を用いて金属ウェブに連続
的に電解エッチングを行う電解処理方法において、電解
液の種類、電解液の濃度、電解液の温度、電流密度、投
入電気量及び電解処理時間より、最適な電源周波数を設
定して電解エッチングを行うことを特徴とする電解処理
方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10180149A JP2000017500A (ja) | 1998-06-26 | 1998-06-26 | 電解処理装置及び電解処理方法 |
| US09/344,107 US6221236B1 (en) | 1998-06-26 | 1999-06-24 | Apparatus and method for electrolytic treatment |
| EP99112277A EP0967302B1 (en) | 1998-06-26 | 1999-06-25 | Apparatus and method for electrolytic treatment |
| DE69901582T DE69901582T2 (de) | 1998-06-26 | 1999-06-25 | Vorrichtung und Verfahren zur elektrolytischen Behandlung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10180149A JP2000017500A (ja) | 1998-06-26 | 1998-06-26 | 電解処理装置及び電解処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000017500A true JP2000017500A (ja) | 2000-01-18 |
Family
ID=16078265
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10180149A Pending JP2000017500A (ja) | 1998-06-26 | 1998-06-26 | 電解処理装置及び電解処理方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6221236B1 (ja) |
| EP (1) | EP0967302B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000017500A (ja) |
| DE (1) | DE69901582T2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000239900A (ja) * | 1999-02-24 | 2000-09-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 電解処理装置及び電解処理方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4315806A (en) | 1980-09-19 | 1982-02-16 | Sprague Electric Company | Intermittent AC etching of aluminum foil |
| DE3217552A1 (de) * | 1982-05-10 | 1983-11-10 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur elektrochemischen aufrauhung von aluminium fuer druckplattentraeger |
| DE3910213A1 (de) * | 1989-03-30 | 1990-10-11 | Hoechst Ag | Verfahren und vorrichtung zum aufrauhen eines traegers fuer lichtempfindliche schichten |
| US5358610A (en) | 1992-07-20 | 1994-10-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for electrolytic treatment |
| GB9326150D0 (en) * | 1993-12-22 | 1994-02-23 | Alcan Int Ltd | Electrochemical roughening method |
-
1998
- 1998-06-26 JP JP10180149A patent/JP2000017500A/ja active Pending
-
1999
- 1999-06-24 US US09/344,107 patent/US6221236B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-06-25 EP EP99112277A patent/EP0967302B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-06-25 DE DE69901582T patent/DE69901582T2/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69901582T2 (de) | 2002-09-12 |
| EP0967302A1 (en) | 1999-12-29 |
| DE69901582D1 (de) | 2002-07-04 |
| EP0967302B1 (en) | 2002-05-29 |
| US6221236B1 (en) | 2001-04-24 |
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