JPH10280199A - 電解処理方法 - Google Patents
電解処理方法Info
- Publication number
- JPH10280199A JPH10280199A JP8525597A JP8525597A JPH10280199A JP H10280199 A JPH10280199 A JP H10280199A JP 8525597 A JP8525597 A JP 8525597A JP 8525597 A JP8525597 A JP 8525597A JP H10280199 A JPH10280199 A JP H10280199A
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- JP
- Japan
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- electrolytic
- electrode
- soft start
- treatment
- start zone
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 アルミニウム板を粗面化処理する電解処
理方法において、波形立ち上がりが急峻な電解電流を使
用し、50m/分以上のラインスピードで電解処理を異
なった場合であっても、チャターマークの面質ムラの発
生を防止できるようにする。 【解決手段】 電解処理槽1には電解液2が貯留されて
いる。電解処理槽1の底面には電極3が設けられてお
り、この電極3は交流電源4を介して給電ロール5に接
続されている。電極3におけるアルミニウムウェブ10
の入口側端部にはソフトスタートゾーン11が形成され
ており、ソフトスタートゾーン11におけるアルミニウ
ムウェブ11の進行方向の長さは、その処理時間が0.
21〜2秒となるように設定されている。
理方法において、波形立ち上がりが急峻な電解電流を使
用し、50m/分以上のラインスピードで電解処理を異
なった場合であっても、チャターマークの面質ムラの発
生を防止できるようにする。 【解決手段】 電解処理槽1には電解液2が貯留されて
いる。電解処理槽1の底面には電極3が設けられてお
り、この電極3は交流電源4を介して給電ロール5に接
続されている。電極3におけるアルミニウムウェブ10
の入口側端部にはソフトスタートゾーン11が形成され
ており、ソフトスタートゾーン11におけるアルミニウ
ムウェブ11の進行方向の長さは、その処理時間が0.
21〜2秒となるように設定されている。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、印刷版用アルミニ
ウム支持板に使用するアルミニウム板を粗面化処理する
電解処理方法に関するものである。
ウム支持板に使用するアルミニウム板を粗面化処理する
電解処理方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】印刷版用アルミニウム支持体としてはア
ルミニウム板(アルミニウム合金板を含む)が用いられ
ており、そのアルミニウム板の表面は、感光材との適度
な接着性と保水性を有することが必要である。
ルミニウム板(アルミニウム合金板を含む)が用いられ
ており、そのアルミニウム板の表面は、感光材との適度
な接着性と保水性を有することが必要である。
【0003】このため、アルミニウム板の表面を均一か
つ緻密な砂目状に粗面化しなければならず、この粗面化
処理は製版後実際にオフセット印刷を行ったとき、版材
の印刷性能や耐刷力に著しい影響を与えるので、その良
否は版材製造上重要な要素となっている。そして、一般
に、印刷版用アルミニウム板の粗面化処理方法としては
交流電解エッチング法が採用されており、電流として
は、普通の正弦波交流電流、矩形波などの特殊交番波形
電流が用いられている。
つ緻密な砂目状に粗面化しなければならず、この粗面化
処理は製版後実際にオフセット印刷を行ったとき、版材
の印刷性能や耐刷力に著しい影響を与えるので、その良
否は版材製造上重要な要素となっている。そして、一般
に、印刷版用アルミニウム板の粗面化処理方法としては
交流電解エッチング法が採用されており、電流として
は、普通の正弦波交流電流、矩形波などの特殊交番波形
電流が用いられている。
【0004】従来、このような電解処理方法としては、
特開平3−79799号公報において、1サイクル当た
りの陽極時間をTf、陰極時間をTrとすると、それぞ
れの電流のピーク値迄に達する時間を、それぞれTf、
Trの0.1%以上20%以下にすることにより、アル
ミニウム材料の合金成分のばらつきに対してピットのば
らつきを小さくできるようにした方法が提案されてい
る。
特開平3−79799号公報において、1サイクル当た
りの陽極時間をTf、陰極時間をTrとすると、それぞ
れの電流のピーク値迄に達する時間を、それぞれTf、
Trの0.1%以上20%以下にすることにより、アル
ミニウム材料の合金成分のばらつきに対してピットのば
らつきを小さくできるようにした方法が提案されてい
る。
【0005】また、特公昭63−16000号公報にお
いて、交流波形電流を用いて金属ウェブに連続的に電解
エッチング処理を行う電解槽において金属ウェブの入口
部分に低電流密度処理を行うソフトスタートゾーンを設
けることにより、高電流密度処理であっても均一な処理
表面をすることができる電解処理装置が提案されてい
る。
いて、交流波形電流を用いて金属ウェブに連続的に電解
エッチング処理を行う電解槽において金属ウェブの入口
部分に低電流密度処理を行うソフトスタートゾーンを設
けることにより、高電流密度処理であっても均一な処理
表面をすることができる電解処理装置が提案されてい
る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た特開平3−79799号公報で提案された技術は、波
形の立ち上がり時間を急峻にすることにより均一な砂目
立てができるので好ましいものであるが、50m/分以
上の速いラインスピードで処理を行った場合、チャター
マークの面質ムラが発生するものであった。
た特開平3−79799号公報で提案された技術は、波
形の立ち上がり時間を急峻にすることにより均一な砂目
立てができるので好ましいものであるが、50m/分以
上の速いラインスピードで処理を行った場合、チャター
マークの面質ムラが発生するものであった。
【0007】また、特公昭63−16000号公報で提
案された技術を上記特開平3−79799号公報で提案
された技術に適応しても、チャターマークの面質ムラを
完全に解消することはできなかった。
案された技術を上記特開平3−79799号公報で提案
された技術に適応しても、チャターマークの面質ムラを
完全に解消することはできなかった。
【0008】本発明は、以上の問題点を解決し、波形の
立ち上がりの急峻な電解電流を用い、かつラインスピー
ドを早くした場合であっても、チャターマークが発生す
ることのない電解処理方法を提供することを目的とす
る。
立ち上がりの急峻な電解電流を用い、かつラインスピー
ドを早くした場合であっても、チャターマークが発生す
ることのない電解処理方法を提供することを目的とす
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされたもので、酸性電解液中で交流電源
を用いて金属ウェブ表面に電気化学的な粗面化を行う方
法であって、交流電源の波形立ち上がり時間をTp、1
サイクル当たりの陽極時間をTf、1サイクル当たりの
陰極時間をTrとしたときTpがTfとTrそれぞれの
0.01〜40%の場合、電極の金属ウェブ入口側端部
において0.21〜2秒間ソフトスタートゾーンで処理
することを特徴とする電解処理方法である。
成するためになされたもので、酸性電解液中で交流電源
を用いて金属ウェブ表面に電気化学的な粗面化を行う方
法であって、交流電源の波形立ち上がり時間をTp、1
サイクル当たりの陽極時間をTf、1サイクル当たりの
陰極時間をTrとしたときTpがTfとTrそれぞれの
0.01〜40%の場合、電極の金属ウェブ入口側端部
において0.21〜2秒間ソフトスタートゾーンで処理
することを特徴とする電解処理方法である。
【0010】このように構成することにより、均一な砂
目を形成できるとともに、ラインスピードを上げてもチ
ャターマークが発生することがない。
目を形成できるとともに、ラインスピードを上げてもチ
ャターマークが発生することがない。
【0011】また、上記電解処理方法において、処理途
中に50ms以上の処理休止時間がある場合、処理休止
後の電極の金属ウェブ入口側端部において0.21〜2
秒間ソフトスタートゾーンで処理することが好ましい。
このように構成することにより、処理の再開始時におい
てチャターマークの発生を防止することができる。
中に50ms以上の処理休止時間がある場合、処理休止
後の電極の金属ウェブ入口側端部において0.21〜2
秒間ソフトスタートゾーンで処理することが好ましい。
このように構成することにより、処理の再開始時におい
てチャターマークの発生を防止することができる。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明においては、ソフトスター
トゾーンによる処理を0.21〜2秒間とし、好ましく
は0.25〜1.5秒間処理する。ソフトスタートゾー
ンによる処理時間が0.21秒未満であるとチャターマ
ークの発生が大きく、また、2秒を越えると均一かつ緻
密な砂目の形成が不充分になる。このソフトスタートゾ
ーンにおける電解処理時間を設定するには、ソフトスタ
ートゾーンの長さ及びラインスピードを調整することに
より行なう。
トゾーンによる処理を0.21〜2秒間とし、好ましく
は0.25〜1.5秒間処理する。ソフトスタートゾー
ンによる処理時間が0.21秒未満であるとチャターマ
ークの発生が大きく、また、2秒を越えると均一かつ緻
密な砂目の形成が不充分になる。このソフトスタートゾ
ーンにおける電解処理時間を設定するには、ソフトスタ
ートゾーンの長さ及びラインスピードを調整することに
より行なう。
【0013】ソフトスタートゾーンは、低電流密度で処
理を行なうものであり、金属ウェブと電極との間隔を広
くしたり、抵抗を介して交流電源に接続したり、電極の
一部を切取り金属ウェブに対向する長さを短くしたりす
ることにより構成する。例えば、金属ウェブとの間隔を
広くする場合は、通常電解エッチングの場合の間隔が5
〜50mmであるのに対し、その5〜10倍の間隔に設
定する。
理を行なうものであり、金属ウェブと電極との間隔を広
くしたり、抵抗を介して交流電源に接続したり、電極の
一部を切取り金属ウェブに対向する長さを短くしたりす
ることにより構成する。例えば、金属ウェブとの間隔を
広くする場合は、通常電解エッチングの場合の間隔が5
〜50mmであるのに対し、その5〜10倍の間隔に設
定する。
【0014】また、電解処理の休止時間が50mS以上
ある場合、即ち、電極が2つ以上に分割されて配置され
ており、その電極間の非電解処理時間が50mSある場
合は、休止後、次の電極入口部にソフトスタートゾーン
を設け、同様に0.21〜2秒間処理することが好まし
い。
ある場合、即ち、電極が2つ以上に分割されて配置され
ており、その電極間の非電解処理時間が50mSある場
合は、休止後、次の電極入口部にソフトスタートゾーン
を設け、同様に0.21〜2秒間処理することが好まし
い。
【0015】金属ウェブとしては、例えば、PS版用支
持体の場合はアルミニウムウェブを用いる。電解液とし
ては、塩酸溶液、硝酸溶液を用いる。
持体の場合はアルミニウムウェブを用いる。電解液とし
ては、塩酸溶液、硝酸溶液を用いる。
【0016】本発明の電解処理方法について、図面を参
照して説明する。
照して説明する。
【0017】図1は本発明の電解処理方法を実施する電
解処理装置の断面模式図である。この図に示す電解処理
装置は直給フラット形セルタイプのものであり、符号1
は電解処理槽で、その内部には電解液2が貯留されてい
る。この電解処理槽1の底面には、電極3が設けられて
おり、この電極3は交流電源4を介して給電ロール5に
接続されている。
解処理装置の断面模式図である。この図に示す電解処理
装置は直給フラット形セルタイプのものであり、符号1
は電解処理槽で、その内部には電解液2が貯留されてい
る。この電解処理槽1の底面には、電極3が設けられて
おり、この電極3は交流電源4を介して給電ロール5に
接続されている。
【0018】電解処理槽1の底面の一方の端部には電解
液の給液口7が連結され、他方の端部には電解液の排出
口8が連結されており、これら給液口7及び排出口8は
電解液2を貯留するストックタンク(図示せず)に連結
されている。また、パスロール9が電解槽1の内部にお
いて電解液2に半分浸漬した状態で設けられ、金属ウェ
ブとしてのアルミニウムウェブ10の搬送路が構成され
ている。
液の給液口7が連結され、他方の端部には電解液の排出
口8が連結されており、これら給液口7及び排出口8は
電解液2を貯留するストックタンク(図示せず)に連結
されている。また、パスロール9が電解槽1の内部にお
いて電解液2に半分浸漬した状態で設けられ、金属ウェ
ブとしてのアルミニウムウェブ10の搬送路が構成され
ている。
【0019】また、前記電極3におけるアルミニウムウ
ェブ10の入口側(図中左側、以下同様)端部にはソフ
トスタートゾーン11が形成されており、このソフトス
タートゾーン11は、アルミニウムウェブ10の入口側
端面に向かって徐々にアルミニウムウェブ11との間隔
が長くなるように、テーパー状に形成されている。そし
て、このソフトスタートゾーン11におけるアルミニウ
ムウェブ11の進行方向の長さは、その処理時間が0.
21〜2秒となるように設定されている。
ェブ10の入口側(図中左側、以下同様)端部にはソフ
トスタートゾーン11が形成されており、このソフトス
タートゾーン11は、アルミニウムウェブ10の入口側
端面に向かって徐々にアルミニウムウェブ11との間隔
が長くなるように、テーパー状に形成されている。そし
て、このソフトスタートゾーン11におけるアルミニウ
ムウェブ11の進行方向の長さは、その処理時間が0.
21〜2秒となるように設定されている。
【0020】図2は、本発明の電解処理方法における交
流電源の電流波形を示す図である。この図において、T
pは波形立ち上がり時間、Tfは1サイクルにおける陽
極時間、Trは1サイクルにおける陰極時間を示してい
る。そして、本発明の電解処理方法においては、波形立
ち上がり時間Tpが、TfとTrそれぞれの0.01〜
40%の間となるように設定されている。
流電源の電流波形を示す図である。この図において、T
pは波形立ち上がり時間、Tfは1サイクルにおける陽
極時間、Trは1サイクルにおける陰極時間を示してい
る。そして、本発明の電解処理方法においては、波形立
ち上がり時間Tpが、TfとTrそれぞれの0.01〜
40%の間となるように設定されている。
【0021】そして、以上のような電解処理装置で電解
処理を行なうと、アルミニウムウェブ10は、0.21
〜2秒間の間ソフトスタートゾーン11で小さい電流密
度で処理された後、電極3で本格的に電解処理される。
処理を行なうと、アルミニウムウェブ10は、0.21
〜2秒間の間ソフトスタートゾーン11で小さい電流密
度で処理された後、電極3で本格的に電解処理される。
【0022】図3は本発明の電解処理方法を実施する電
解処理装置の他の例を示す断面模式図である。この図に
示す電解処理装置は、電極が2分割されて配置されたも
ので、上流側の電極3aと下流側の電極3bとの間が処
理休止時間50mS以上の間隔となるように設定されて
いる。また、各電極3a及び3bのアルミニウムウェブ
10の入口側端部には、ソフトスタートゾーン11a及
び11bが端面に行くに従ってアルミニウムウェブ10
との間隔が広くなるようにテーパー状に形成されてい
る。その他の構成は、図1に示す電解処理装置と同様で
ある。
解処理装置の他の例を示す断面模式図である。この図に
示す電解処理装置は、電極が2分割されて配置されたも
ので、上流側の電極3aと下流側の電極3bとの間が処
理休止時間50mS以上の間隔となるように設定されて
いる。また、各電極3a及び3bのアルミニウムウェブ
10の入口側端部には、ソフトスタートゾーン11a及
び11bが端面に行くに従ってアルミニウムウェブ10
との間隔が広くなるようにテーパー状に形成されてい
る。その他の構成は、図1に示す電解処理装置と同様で
ある。
【0023】図4は本発明の電解処理方法を実施する電
解処理装置の他の例を示す断面模式図である。この図に
示す電解処理装置は間給ラジアル型セルタイプのもので
あり、符号21は電解処理槽で、その内部には電解液2
2が貯留されている。この電解処理槽21の周面には、
2分割された2個の電極23、23が設けられており、
これらの電極23は交流電源24に接続されている。
解処理装置の他の例を示す断面模式図である。この図に
示す電解処理装置は間給ラジアル型セルタイプのもので
あり、符号21は電解処理槽で、その内部には電解液2
2が貯留されている。この電解処理槽21の周面には、
2分割された2個の電極23、23が設けられており、
これらの電極23は交流電源24に接続されている。
【0024】電解処理槽21の上部の一方の端部には電
解液の給液口25が連結され、他方の端部には電解液の
排出口26が連結されており、これら給液口25及び排
出口26は電解液22を貯留するストックタンク(図示
せず)に連結されている。また、電解処理槽21の上方
にはパスロール27が設けられるとともに、電解槽21
の内部には円筒状の案内ロール28が設けられ、これら
パスロール27及び案内板28で金属ウェブとしてのア
ルミニウムウェブ29の搬送路が構成されている。
解液の給液口25が連結され、他方の端部には電解液の
排出口26が連結されており、これら給液口25及び排
出口26は電解液22を貯留するストックタンク(図示
せず)に連結されている。また、電解処理槽21の上方
にはパスロール27が設けられるとともに、電解槽21
の内部には円筒状の案内ロール28が設けられ、これら
パスロール27及び案内板28で金属ウェブとしてのア
ルミニウムウェブ29の搬送路が構成されている。
【0025】また、前記電極23、23の間が処理休止
時間50mS以上の間隔となるように配置されており、
各電極23におけるアルミニウムウェブ10の入口側端
部には、ソフトスタートゾーン30が形成されており、
このソフトスタートゾーン30は、アルミニウムウェブ
29の入口側端面に向かって徐々にアルミニウムウェブ
29との間隔が長くなるように、テーパー状に形成され
ている。
時間50mS以上の間隔となるように配置されており、
各電極23におけるアルミニウムウェブ10の入口側端
部には、ソフトスタートゾーン30が形成されており、
このソフトスタートゾーン30は、アルミニウムウェブ
29の入口側端面に向かって徐々にアルミニウムウェブ
29との間隔が長くなるように、テーパー状に形成され
ている。
【0026】
【実施例】実施例1〜5及び比較例1〜6を表1に示
す。
す。
【0027】
【表1】
【0028】<電解処理装置>図1に示す電解処理装置
を使用した。この電解処理装置において、電極3の長さ
(ソストスタートゾーンを含まず)は4000mm、ソフ
トスタートゾーン11の長さは表1に記載の通り、電極
3とアルミニウムウェブ10の間隔は20mm、ソフト
スタートゾーン11とアルミニウムウェブ10の端面に
おける間隔は100mmである。
を使用した。この電解処理装置において、電極3の長さ
(ソストスタートゾーンを含まず)は4000mm、ソフ
トスタートゾーン11の長さは表1に記載の通り、電極
3とアルミニウムウェブ10の間隔は20mm、ソフト
スタートゾーン11とアルミニウムウェブ10の端面に
おける間隔は100mmである。
【0029】 <電解処理条件> 電 解 液:硝酸溶液(2%) 電 解 条 件:60Hz交流 50A/dm2 200C/dm2 処 理 時 間:4秒 ラインスピード:60m/分
【0030】<電解処理性の判断>電解処理終了後、ア
ルミニウムウェブを目視により観察した。
ルミニウムウェブを目視により観察した。
【0031】<チャターマーク及び砂目の評価> ◎:優 ○ :良 ○△:良〜可 △:可 △×:可〜不可 × :不可
【0032】
【発明の効果】本発明は、波形立ち上がりが急峻な電解
電流を使用し、50m/分以上のラインスピードで電解
処理を異なった場合であっても、チャターマークの面質
ムラの発生を防止することができる。したがって、良質
な砂目が形成された金属ウェブを効率よく製造すること
ができる。
電流を使用し、50m/分以上のラインスピードで電解
処理を異なった場合であっても、チャターマークの面質
ムラの発生を防止することができる。したがって、良質
な砂目が形成された金属ウェブを効率よく製造すること
ができる。
【図1】 本発明の電解処理方法を実施する電解処理装
置の一例を示す断面模式図である。
置の一例を示す断面模式図である。
【図2】 本発明の電解処理方法における交流電流の波
形を示す図である。
形を示す図である。
【図3】 本発明の電解処理方法を実施する電解処理装
置の他の例を示す断面模式図である。
置の他の例を示す断面模式図である。
【図4】 本発明の電解処理方法を実施する電解処理装
置の他の例を示す断面模式図である。
置の他の例を示す断面模式図である。
1、21:電解槽 2、22:電解液 3、3a、3b、23:電極 4、24:交流電源 11、11a、11b、30ソフトスタートゾーン
Claims (2)
- 【請求項1】 酸性電解液中で交流電源を用いて金属ウ
ェブ表面に電気化学的な粗面化を行う方法であって、交
流電源の波形立ち上がり時間をTp、1サイクル当たり
の陽極時間をTf、1サイクル当たりの陰極時間をTr
としたときTpがTfとTrそれぞれの0.01〜40
%の場合、電極の金属ウェブ入口側端部において0.2
1〜2秒間ソフトスタートゾーンで処理することを特徴
とする電解処理方法。 - 【請求項2】 電解処理途中に50ms以上の処理休止
時間がある場合、処理休止後の電極の金属ウェブ入口側
端部において、0.21〜2秒間ソフトスタートゾーン
で処理する請求項1記載の電解処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8525597A JPH10280199A (ja) | 1997-04-03 | 1997-04-03 | 電解処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8525597A JPH10280199A (ja) | 1997-04-03 | 1997-04-03 | 電解処理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10280199A true JPH10280199A (ja) | 1998-10-20 |
Family
ID=13853474
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8525597A Pending JPH10280199A (ja) | 1997-04-03 | 1997-04-03 | 電解処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10280199A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008246971A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Fujifilm Corp | 電解処理装置、平版印刷版支持体、平版印刷原版、および電解処理方法 |
EP2106907A2 (en) | 2008-04-02 | 2009-10-07 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor |
-
1997
- 1997-04-03 JP JP8525597A patent/JPH10280199A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008246971A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Fujifilm Corp | 電解処理装置、平版印刷版支持体、平版印刷原版、および電解処理方法 |
EP2106907A2 (en) | 2008-04-02 | 2009-10-07 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor |
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