KR900010466A - 개선된 홀로그래픽 광중합체 조성물, 반사 홀로그램 제조에 적합한 광감성 원조 및 반사 홀로그램 제조방법 - Google Patents

개선된 홀로그래픽 광중합체 조성물, 반사 홀로그램 제조에 적합한 광감성 원조 및 반사 홀로그램 제조방법 Download PDF

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맬컴 먼로 브루스
밍-탁챈 도미니크
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Abstract

내용 없음

Description

개선된 홀로그래픽 광중합체 조성물, 반사 홀로그램 제조에 적합한 광감성 원조 및 반사 홀로그램 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 홀로그래픽 거울을 제조하기 위해 사용되는 실험적 장치를 예시하는 것이다, 제2도는 홀로그래픽 격자를 제조하기 위해 사용되는 실험적 장치를 예시하는 것이다.

Claims (43)

  1. (a)용매 용해성, 열가소성 중합체 결합제 25내지 75%, (b)100℃이상의 비점을 가지며, 고리-열림 시그마 결합 분열을 통해 첨가 중합 가능한 단량체 5내지 60% 및 (c)화학선에 노출시 상기 단량체의 중합을 활성화시키는 광개시제 시스템 0.1내지 10%(여기서, 상기 백분율은 전체 조성물의 중량 백분율임)로 필수적으로 구성된, 단일 공정 단계로서 화학선에 노출시 반사 홀로그램을 형성하는 본질적으로 고형인 광중합 가능한 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 사익 단량체가 7개이하의 탄소원자의 카르보시클릭 고리와 질소, 산소 및 황으로 구성된 군으로부터 선택된 2개이하의 이형원자를 함유하는 7개이하의 원자의 헤테로시클릭 고리로 구성된 군으로부터 선택된 고리를 함유하는 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 상기 단량체가 질소, 산소 및 황으로 구성된 군으로 부터 선택된 2개이하의 이형원자를 함유하는 5개이하의 원자의 헤테로시클릭 고리를 함유하는 조성물.
  4. 제3항에 있어서, 상기 단량체가 비닐시클로프로판인 조성물.
  5. 제4항에 있어서, 상기 비닐기가 비치환되고 적어도 한개의 전자 끄는기가 시클로프로판 고리에 부착된 조성물.
  6. 제4항에 있어서, 상기 단량체가 디에틸 2-비닐시클로프로판-1.1-디카르복실레이트, 에틸 1-아세틸-2-비닐-1-시클로프로판 카르복실레이트 및 에틸-1-벤조일-2-비닐-1-시클로프로판 카르복실레트 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로 부터 선택된 조성물.
  7. 제1항에 있어서, 조성물이 상형성후 적어도 10%의 반사 효율을 갖는 조성물.
  8. 제7항에 있어서, 결합제 또는 단량체가 치환 또는 비치환된 페닐, 페녹시, 나프릴, 나프틸옥시, 3개이하의 방향족 고리를 함유하는 헤테로아로마틱기, 브롬 및 염소로 구성된 군으로 부터 선택된 1개이상의 부분을 함유하고 다른 것은 본질적으로 상기 부분이 없는 조성물.
  9. 제8항에 있어서, 상기 단량체가 상기 부분을 함유하고 상기 결합제가 본질적으로 상기 부분이 없는 조성물.
  10. 제9항에 있어서, 단량체가 치환된 비닐시클로프롤판인 조성물.
  11. 제10항에 있어서, 결합제가 셀룰로우스 아세테이트 부티레이트 중합체, 아크릴 중합체 및 인터폴리머, 메틸 메타크릴레이트 중합체 및 공중합체, 폴리 비닐 아세테이트, 폴리비닐 아세탈, 폴리비닐 부티랄, 폴리비닐포름알 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로 부터 선택된 조성물.
  12. 제8항에 있어서, 상기 결합제가 상기 부분을 함유하고 상기 단량체가 본질적으로 상기 부분이 없는 조성물.
  13. 제12항에 있어서, 단량체가 비닐시클로 프로판인 조성물.
  14. 제13항에 있어서, 결합제가 폴리스티렌, 폴리(스티렌/아크릴로니트릴), 폴리(스티렌/메틸 메타크릴레이트), 폴리비닐 부티랄 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로 부터 선택된 조성물.
  15. 제8항에 있어서, 가소제가 전체 조성물의 약 25중향 %이하의 양으로 존재하는 조성물.
  16. (a)용매 용해성, 열가소성 중합체 결합제 25내지 75%, (b)100℃이상의 비점을 가지며, 고리, 열림 시그마 결합 분열을 통해 첨가 중합가능한 단량체 5내지 60%, (c)가소제 25%이하, 및 (d)화학선에 노출시 상기 단량체의 중합을 활성화시키는 광개시제 시스템 0.1내지 10%(여기서, 상기 백분율은 전체 조성물의 중량 백분율임)로 필수적으로 구성된, 본질적으로 고형의 광중합 가능한 조성물을 지지하는 지지체를 포함하는, 단일 공정 단계로서 화학선에 노출시킴으로써 반사 홀로그램을 제조하기에 적합한 광감성 원소.
  17. 제16항에 있어서, 상기 단량체가 7개이하의 탄소원자의 카르보시클릭 고리와 질소, 산소 및 황으로 구성된 군으로 부터 선택된 2개이하의 이형원자를 함유하는 7개이하의 원자의 헤테로시클릭고리로 구성된 군으로부터 선택된 고리를 함유하는 원소.
  18. 제16항에 있어서, 상기 단량체가 질소, 산소 및 황으로 구성된 군으로부터 선택된 2개 이하의 이형원자를 함유하는 5개이하의 원자의 헤테로시클릭 고리를 함유하는 원소.
  19. 제16항에 있어서, 상기 단량체가 비닐시클로프로판인 원소.
  20. 제19항에 있어서, 상기 비닐기가 비치환되고 적어도 한개의 전자끄는기가 시클로프로판고리에 부착된 원소.
  21. 제19항에 있어서, 상기 단량체가 디에틸 2-비닐시클로프로판-1.1-디카르복실 레이트, 에틸 1-아세틸-2-비닐-1-시클로프로판 카르복실레이트, 및 에틸-1-벤조일-2-비닐-1-시킬로프로판 카르복실레이트 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로 부터 선택된 원소.
  22. 제16항에 있어서, 조성물이 상형성후 적어도 약 10%의 반사 효율을 갖고 코우팅 성분이 약45내지 65의 결합제, 약 15내지 50%의 단량체, 약 5내지 15%의 가소제 및 약 1내지 5%의 개시제로 존재하는 원소.
  23. 제22항에 있어서, 결합제 또는 단량체가 치환 또는 비치환된 페닐, 페녹시, 나프릴, 나프틸옥시, 3개이하의 방향족 고리를 함유하는 헤테로 아로마틱기, 브롬 및 염소로 구성된 군으로 부터 선택된 1개이상의 부분을 함유하고 다른 것은 본질적으로 상기 부분이 없는 원소.
  24. 제23항에 있어서, 상기 단량체가 상기 부분을 함유하고 상기 결합제가 본질적으로 상기 부분이 없는 원소.
  25. 제24항에 있어서, 단량체가 치환된 비닐시클로프로판인 원소.
  26. 제25항에 있어서, 결합제가 셀룰로우스 아세테이트 부리레이트 중합체, 아크릴 중합체 및 인터 폴리머, 메틸메타크릴레이트 중합체 및 공중합체, 폴리비닐 아세테이트, 폴리비닐 아세탈, 폴리비닐부티랄 폴리비닐포름알 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로 부터 선택된 원소.
  27. 제23항에 있어서, 상기 결합제가 상기 부분을 함유하고 상기 단량체가 본질적으로 상기 부분이 없는 원소.
  28. 제27항에 있어서, 단량체가 비닐시클로프로판인 원소.
  29. 제28항에 있어서, 결합제가 폴리스티렌, 폴리(스티렌/아크릴로니트릴), 폴리(스티렌/메틸메타크릴레이트), 폴리비닐부티랄 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로 부터 선택된 원소.
  30. 기록매체가 (a)용매 용해성, 열가소성 중합체 결합 제25내지 75%, (b)100℃이상의 비점을 가지며 고리-열림 시그마 결합 분열을 통해 첨가 중합 가능한 단량체 5내지 60%, (c)가소제 25%이하 및 (d)화학선에 노출시 상기 단량체의 중합을 활성화시키는 광개시체 시스템 0.1내지 10%(여기서 상기 백분율은 전체 조성물의 중량 백분율임)로 필수적으로 구성된, 본질적으로 고형인 광중합가능한 조성물을 지지하는 지지체를 포함하는 것을 특징으로 하는, 기록 매체의 반대면에 간섭 화학선의 물체광성과 기준 광선을 향하게 함으로써 반사홀로그램을 형성하는 방법.
  31. 제30항에 있어서, 상기 단량체가 7개이하의 탄소원자의 카르보시클릭고리와 질소, 산소 및 황으로 구성된 군으로 부터 선택된 2개이하의 이형원자를 함유하는 7개 이하의 원자의 헤테로시클릭 고리로 구성된 군으로 부터 선택된 고리를 함유하는 방법.
  32. 제30항에 있어서, 상기 단량체가 질소, 산소 및 황으로 구성된 군으로 부터 선택된 2개이하의 이형원자를 함유하는 5개이하의 원자의 헤테로시클릭 고리를 함유하는 방법.
  33. 제30항에 있어서, 상기 단량체가 비닐시클로프로판인 방법.
  34. 제33항에 있어서, 상기 비닐기가 비치환되고 적어도 한개의 전자 끄는 기가 시클로프로판 고리에 부착된 방법.
  35. 제33항에 있어서, 상기 단량체가 디에틸 2-비닐시클로프로판-1.1-디카르복실레이트, 에틸 1-아세틸-2-비닐-1-시클로프로판 카르복실레이트, 및 에틸-1-벤조일-2-비닐-1-시클로프로판 카르복실레이트 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로 부터 선택된 방법.
  36. 제30항에 있어서, 조성물이 상형성 후 적어도 약 10%의 반사 효율을 갖고 코우팅 성분이 약 45내지 65%의 결합제, 약 15내지 50%의 단량체, 약 5내지 15%의 가소제, 및 약 1내지 5%의 개시제로 존재하는 방법.
  37. 제36항에 있어서, 결합제 또는 단량체가 치환 또는 비치환된 페닐, 페녹시, 나프릴, 나프틸옥시, 3개이하의 방향족 고리를 함유하는 헤테로 아로마틱기, 브롬 미채 염소로 구성된 군으로 부터 선택된 1개이상의 부분을 함유하고 다른 것은 본질적으로 상기 부분이 없는 방법.
  38. 제37항에 있어서, 상기 단량체가 상기 부분을 함유하고 상기 결합제가 본질적으로 상기 부분이 없는 방법.
  39. 제38항에 있어서, 단량체가 치환된 비닐시클로프로판인 방법.
  40. 제39항에 있어서, 결합제가 셀룰로우스 아세테이트 부티레이트 중합체, 아크릴 중합체 및 인터폴리머, 메틸메타크릴레이트 중합체 및 공중합체, 폴리비닐 아세테이트, 폴리비닐 아세탈, 폴리비닐 부티랄, 폴리비닐 포름알 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로 부터 선택된 방법.
  41. 제37항에 있어서, 상기 결합제가 상기 부분을 함유하고 상기 단량체가 본질적으로 상기 부분이 없는 방법.
  42. 제41항에 있어서, 상기 단량체가 비닐시클로 프로판인 방법.
  43. 제42항에 있어서, 상기 결합제가 폴리스티렌, 폴리(스티렌/아크릴로니트릴), 폴리(스티렌/메틸메타크릴레이트), 폴리비닐부티랄 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로 부터 선택된 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019890020629A 1988-12-29 1989-12-28 개선된 홀로그래픽 광중합체 조성물, 반사 홀로그램 제조에 적합한 광감성 원조 및 반사 홀로그램 제조방법 KR900010466A (ko)

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Families Citing this family (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4942112A (en) * 1988-01-15 1990-07-17 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photopolymerizable compositions and elements for refractive index imaging
US5096790A (en) * 1988-07-28 1992-03-17 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process of forming hologram and polymeric holographic recording medium with sensitizer
US5774240A (en) * 1992-02-20 1998-06-30 Nikon Corporation Exposure apparatus for reproducing a mask pattern onto a photo-sensitive surface of a substrate using holographic techniques
US5415950A (en) * 1993-11-08 1995-05-16 E. I. Du Pont De Nemours And Company Holographic flake pigment
US5499117A (en) * 1994-08-31 1996-03-12 Hughes Aircraft Company Transfer of photopolymer hologram from a curve surface to another curve surface
US5725970A (en) * 1994-11-07 1998-03-10 E. I. Du Pont De Nemours And Company Broad band reflection holograms and a dry process for making same
JP3564836B2 (ja) * 1995-11-22 2004-09-15 Ｊｓｒ株式会社 カラーフィルタ用感放射線性組成物およびカラーフィルタ
US6489065B1 (en) * 1996-05-17 2002-12-03 Polaroid Corporation Holographic medium and process for use thereof
JP3547610B2 (ja) * 1998-03-27 2004-07-28 パイオニア株式会社 体積ホログラフィックメモリ光情報記録再生装置
US6870651B2 (en) * 2003-05-30 2005-03-22 Eastman Kodak Company Apparatus and method for generating a dynamic image
JP2006195009A (ja) 2005-01-11 2006-07-27 Fuji Photo Film Co Ltd ホログラム記録方法、ホログラム記録装置及びホログラム記録媒体
JP2006301171A (ja) 2005-04-19 2006-11-02 Fuji Photo Film Co Ltd 光記録媒体及びその製造方法、並びに、光記録媒体の記録方法及び光記録媒体の再生方法
JP4373383B2 (ja) 2005-08-24 2009-11-25 富士フイルム株式会社 光記録方法、光記録装置、光記録媒体及び光記録再生方法
JP2007072192A (ja) 2005-09-07 2007-03-22 Fujifilm Corp 光記録媒体及びその製造方法
JP2007291056A (ja) * 2006-03-29 2007-11-08 Fujifilm Corp ビニルシクロプロパン化合物、及びホログラフィック記録用組成物、並びに光記録媒体、及び光記録方法
WO2008013774A2 (en) * 2006-07-25 2008-01-31 Nitto Denko Corporation Non-linear optical device with long grating persistency
US7985356B2 (en) * 2006-07-25 2011-07-26 Nitto Denko Corporation Non-linear optical device sensitive to green laser
JP4974711B2 (ja) * 2007-03-05 2012-07-11 富士フイルム株式会社 印刷装置
JP4918393B2 (ja) 2007-04-19 2012-04-18 富士フイルム株式会社 光記録用組成物およびホログラフィック記録媒体
US20090142671A1 (en) 2007-11-30 2009-06-04 Fujifilm Corporation Optical recording composition and holographic recording medium
TWI370334B (en) * 2007-12-20 2012-08-11 Ind Tech Res Inst Holographic gratings and method of fabricating the same
JP2009186515A (ja) * 2008-02-01 2009-08-20 Toshiba Corp ホログラム記録媒体、ホログラム記録媒体の製造方法、および光情報記録再生装置
WO2009099898A1 (en) * 2008-02-05 2009-08-13 Nitto Denko Corporation Optical devices responsive to blue laser and method of modulating light
DE102008009332A1 (de) 2008-02-14 2009-08-20 Leibniz-Institut Für Neue Materialien Gemeinnützige Gmbh Optische Elemente mit Gradientenstruktur
IL200996A0 (en) 2008-10-01 2010-06-30 Bayer Materialscience Ag Photopolymer formulations having a low crosslinking density
IL200722A0 (en) 2008-10-01 2010-06-30 Bayer Materialscience Ag Photopolymer compositions for optical elements and visual displays
US20100096603A1 (en) * 2008-10-20 2010-04-22 Nitto Denko Corporation Optical devices responsive to near infrared laser and methods of modulating light
US20100099789A1 (en) * 2008-10-20 2010-04-22 Nitto Denko Corporation Method for modulating light of photorefractive composition
EP2218742A1 (de) 2009-02-12 2010-08-18 Bayer MaterialScience AG Photopolymerzusammensetzungen als verdruckbare Formulierungen
EP2219073B1 (de) 2009-02-17 2020-06-03 Covestro Deutschland AG Holografische Medien und Photopolymerzusammensetzungen
JP5459465B2 (ja) * 2009-05-01 2014-04-02 日産化学工業株式会社 低重合収縮性ビニルシクロプロパン化合物及びその重合方法
JP5284866B2 (ja) * 2009-05-01 2013-09-11 国立大学法人電気通信大学 ビニルシクロプロパン化合物を含む感光性組成物
US9128460B2 (en) 2012-11-08 2015-09-08 Samsung Electronics Co., Ltd. Photopolymer composition for recording hologram, and photopolymer layer and hologram recording media including the same
US20150353485A1 (en) 2013-01-25 2015-12-10 Bayer Materialscience Ag Security element having volume hologram and printed feature
CN107466375B (zh) 2015-04-03 2020-03-10 依视路国际公司 用于增强现实的方法和系统
JP7074478B2 (ja) 2015-07-03 2022-05-24 エシロール アンテルナショナル 拡張現実のための方法とシステム
CN107850788B (zh) 2015-07-03 2020-10-27 依视路国际公司 用于增强现实的方法和系统
EP3435139A1 (en) 2017-07-25 2019-01-30 Essilor International Optical article with a holographic waveguide
WO2021046645A1 (en) * 2019-09-10 2021-03-18 North Inc. Methods and media for recording holograms
KR20240073782A (ko) 2022-11-18 2024-05-27 고려대학교 산학협력단 광학 구조체 및 그 제조 방법

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE755251A (fr) * 1969-08-25 1971-02-25 Du Pont Enregistrement holographique dans des couches photopoly- merisables
US4378277A (en) * 1974-05-08 1983-03-29 Minnesota Mining & Manufacturing Company Photopolymerizable epoxy-containing compositions
US4307177A (en) * 1975-12-09 1981-12-22 General Electric Company Method of using polymerizable compositions containing onium salts
US4108747A (en) * 1976-07-14 1978-08-22 General Electric Company Curable compositions and method for curing such compositions
US4321406A (en) * 1980-07-17 1982-03-23 Emery Industries, Inc. Vinylcyclopropane monomers and oligomers
US4397215A (en) * 1981-02-06 1983-08-09 Westinghouse Electric Corp. System for controlling the temperature of the upper end of a missile
JPS58155491A (ja) * 1982-03-10 1983-09-16 Toshiba Corp 情報記録担体
US4734356A (en) * 1986-04-30 1988-03-29 E. I. Du Pont De Nemours And Company Positive-working color proofing film and process
US4857654A (en) * 1986-08-01 1989-08-15 Ciba-Geigy Corporation Titanocenes and their use
US4908285A (en) * 1987-05-18 1990-03-13 Canon Kabushiki Kaisha Hologram member

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