KR890702183A - 박층 자기 헤드의 그라인딩의 종료 탐지방법 - Google Patents

박층 자기 헤드의 그라인딩의 종료 탐지방법

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KR890702183A
KR890702183A KR1019890701160A KR890701160A KR890702183A KR 890702183 A KR890702183 A KR 890702183A KR 1019890701160 A KR1019890701160 A KR 1019890701160A KR 890701160 A KR890701160 A KR 890701160A KR 890702183 A KR890702183 A KR 890702183A
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KR
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grinding
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dielectric material
conductive layer
material layer
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KR1019890701160A
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롤랑 쟝-루크
베귕 쟝-이브
망나 앙리뜨
자꼬벨리 알랭
뻬노 모리세
Original Assignee
아르레뜨 다낭제
꽁빠니 유로삐느 드 꽁뽀쌍 에레끄뜨로니끄 엘쎄쎄
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    • G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
    • G11B5/23—Gap features
    • G—PHYSICS
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    • G—PHYSICS
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Abstract

내용 없음

Description

박층 자기 헤드의 그라인딩의 종료 탐지방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1 도는 평면 헤드의 간략한 구조를 도시한다. 제 2 도 내지 제 6 도는 제 1 도에 도시된 구조에 적용되는 본 발명에 의한 방법에 여러 단계를 도시한다.

Claims (7)

  1. 헤드는 갭(4)에 의해 분리된 두 자기 폴(1, 2)에 의해 이루어진 액티브 페이스(3)를 방법의 수행 단계에서 포함하며, 탐지는 전기 회로의 중지를 통하여 이루어지는 방법으로서, 하나 이상의 박층 자기 헤드의 그라인딩의 종료를 탐지하는 방법에 있어서, 상기 전기 회로를 만들기 위해 전체의 액티브 페이스(3)에 전도층(7)을 침전시키는 단계와, 상기 전도층으로 피복된 액티브 페이스의 에칭 단계와, 에칭된 액티브 페이스에 유전체 재료층(8)을 침전시키는 단계와, 유전체 재료층(8)이 없는 부분의 액티브 페이스에서 시작하여 상기 갭(4) 위에 있는 전도층(7) 부분이 모두 제거될때까지 액티브 페이스를 그라인딩하는 단계를 포함하며, 상기 제거는 두 자기 폴 사이의 저항의 갑작스런 변화로 알게됨을 특징으로 하는 방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 그라인딩은 원통형임을 특징으로 하는 방법.
  3. 제 1 항에 있어서, 그라인딩은 평면형임을 특징으로 하는 방법.
  4. 제 2 항에 있어서, 액티브 페이스의 그라인딩은 상기 갭(4)에 대해 대칭적으로 이루어짐을 특징으로 하는 방법.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항중 어느 한 항에 있어서, 유전체 재료층(8)의 두께는 최소한 자기 폴(1, 2)의 두께와 동일함을 특징으로 하는 방법.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 전도층(7)은 알루미늄 혹은 크롬으로 형성됨을 특징으로 하는 방법.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 유전체 재료층(8)은 알루미나 혹은 실리카로 형성됨을 특징으로 하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019890701160A 1987-10-27 1988-10-21 박층 자기 헤드의 그라인딩의 종료 탐지방법 KR890702183A (ko)

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FR8714821A FR2622339A1 (fr) 1987-10-27 1987-10-27 Procede de detection de fin de polissage d'une tete magnetique couches minces
FR87-14821 1987-10-27
PCT/FR1988/000518 WO1989004038A1 (fr) 1987-10-27 1988-10-21 Procede de detection de fin de polissage d'une tete magnetique couches minces

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WO (1) WO1989004038A1 (ko)

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CA1317097C (fr) 1993-05-04
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EP0339069A1 (fr) 1989-11-02
US5013394A (en) 1991-05-07
FR2622339A1 (fr) 1989-04-28
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WO1989004038A1 (fr) 1989-05-05

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