KR890010956A - 게이트 산화막을 이용한 양극성 캐패시터의 제조방법 - Google Patents

게이트 산화막을 이용한 양극성 캐패시터의 제조방법 Download PDF

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KR890010956A
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김봉남
오순석
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강진구
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66007Multistep manufacturing processes
    • H01L29/66075Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials
    • H01L29/66083Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials the devices being controllable only by variation of the electric current supplied or the electric potential applied, to one or more of the electrodes carrying the current to be rectified, amplified, oscillated or switched, e.g. two-terminal devices
    • H01L29/66181Conductor-insulator-semiconductor capacitors, e.g. trench capacitors

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Abstract

내용 없음

Description

게이트 산화막을 이용한 양극성 캐퍼시터의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 2 도는 본 발명의 제조방법 설명도이다.

Claims (1)

  1. 능동소자 영역을 한정한 후 캐패시터 전극 영역(11)을 형성시키기 위한 이온주입 공정과, 게이트 산화막을 성장시키고 폴리(12)를 형성시키는 공정과, 소스/드레인 영역(13)을 형성시키기 위한 이온주입 공정과, 절연막(14)을 형성시킨 다음 폴리(12)와 이온주입이 겹친 양측 캐퍼시터 전극영역(11)에 메탈라인(15)을 형성시키는 공정과로 되는 것을 특징으로 하는 게이트 산화막을 이용한 양극성 캐퍼시터의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019870015044A 1987-12-28 1987-12-28 게이트 산화막을 이용한 양극성 커패시터의 제조방법 KR900004253B1 (ko)

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