KR890003749A - 테트라히드로 인다졸릴-벤족 사진류, 그의 제조방법 및 용도 - Google Patents

테트라히드로 인다졸릴-벤족 사진류, 그의 제조방법 및 용도 Download PDF

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에이끼 니가노
하가도루
고우이찌 모리따
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모리 히데오
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Abstract

내용 없음

Description

테트라히드로 인다졸릴 - 벤족 사진류, 그의 제조방법 및 용도
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (24)

  1. 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물.
    (상기식중, R1은 C1~C6알킬기, C3~C7알케니기, C3~C7알키닐기,할로(C1~C5)알킬기,할로(C3~C4)알케닐기, 할로(C3~C4)알키닐기, C1~C4알콕시 (C1~C2)알킬기 또는 C1~C2알킬티오(C1~C2)알킬기이고, R2는 수소원자 또는 메틸기이다)
  2. 제1항에 있어서, R2가 수소원자인 화합물.
  3. 제1항에 있어서, R1이 C3~C4알케닐기, C3~C4알킬닐기, 할로(C1~C5)알킬기 또는 할로(C3~C4)알케닐기인 화합물.
  4. 제1항에 있어서, R1이 C3~C4알키닐기 또는 할로(C3~C4)알케닐기이고, R2가 수소원자인 화합물.
  5. 제1항에 있어서, 3-클로로-2-[7-플루오로-4-프로파르길-2H-1,4-벤족사진-3(4H)-온-6-일]-4,5,6,7-테트라히드로-2H-인다졸인 화합물.
  6. 제1항에 있어서, 3-클로로-2-[7-플루오로-4-(1-부틴-3-일)-2H-1,4-벤족사진 -3(4H)-온-6-일]-4,5,6,7-테트라히드로-2H-인다졸인 화합물.
  7. 제1항에 있어서, 3-클로로-2-[7-플루오로-4-(2-클로로-2-프로페닐)-2H-1,4-벤족사진-3(4H)-온-6-일]-4,5,6,7-테트라히드로-2H-인다졸인 화합물.
  8. 하기 일반식(Ⅱ)의 화합물을 하기 일반식(Ⅲ)의 화합물과 반응시킴을 특징으로하는 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물의 제조방법.
    (상기식중, R1은 C1~C6알킬기, C3~C7알케닐기, C3~C7알키닐기, 할로(C1~C5)알킬기, 할로(C3~C4)알케닐기, 할로(C3~C4)알키닐기, C1~C4알콕시(C1~C2)알킬기 또는 C1~C2알킬티오(C1~C2)알킬기이고, R2는 수소원자 또는 메틸기이며, X는 강산에서 수소원자를 제거한 강산의 잔기이다)
  9. 하기 일반식(Ⅳ)의 화합물을 염소화제와 반응시킴을 특징으로 하는 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물의 제조방법.
    (상기식중, R1은 C1~C6알킬기, C3~C7알케닐기, C3~C7알키닐기, 할로(C1~C5)알킬기,할로(C3~C4)알케닐기,할로(C3~C4)알키닐기,C1~C4알콕시(C1~C2)알킬기또는 C1~C2알킬티오(C1~C2)알킬기이고, R2는 수소원자 또는 메틸기이다)
  10. 하기 일반식(Ⅱ)의 화합물.
    (상기식중, R2는 수소원자 또는 메틸기이다)
  11. 제10항에 있어서, R2가 수소원자인 화합물.
  12. 하기 일반식(Ⅳ)의 화합물.
    (상기식중, R1은 C1~C6알킬기, C3~C7알케닐기, C3~C7알키닐기, 할로(C1~C5)알킬기, 할로(C3~C4)알케닐기, 할로(C3~C4)알키닐기, C1~C4알콕시(C1~C2)알킬기 또는 C1~C2알킬티오(C1~C2)알킬기이고, R2는 수소원자 또는 메틸기이다)
  13. 하기 일반식(Ⅴ)의 화합물.
    (상기식중, R2는 수소원자 또는 메틸기이고, R3는 C1~C5알킬기이다)
  14. 하기 일반식(Ⅵ)의 화합물을 하기 일반식(ⅩⅠ)의 화합물과 반응시킴을 특징으로 하는 하기 일반식(Ⅴ)의 화합물의 제조방법.
    (상기식중, R2는 수소원자 또는 메틸기이고, R3는 C1~C5알킬기이다)
  15. 하기 일반식(Ⅷ)의 화합물.
    (상기식중, R2는 수소원자 또는 메틸기이다)
  16. 하기 일반식(Ⅸ)의 화합물.
    상기식중, R2는 수소원자 또는 메틸기이고, R4는 수소원자, C1~C6알킬기, C3~C7알케닐기, C3~C7알키닐기, 할로(C1~C5)알킬기, 할로(C3~C4)알케닐기, 할로(C3~C4)알키닐기, C1~C4알콕시(C3~C4)알킬기 또는 C1~C2알킬티오(C1~C2)알킬기이다)
  17. 제16항에 있어서, R2가 수소원자인 화합물.
  18. 제16항에 있어서, R4가 수소원자, C3~C4알케닐기, C3~C4알키닐기, 할로(C1~C5)알킬기 또는 할로(C3~C4)알케닐기인 화합물.
  19. 제16항에 있어서, R4가 수소원자, C3~C4알키닐기 또는 할로(C3~C4)알케닐기인 화합물.
  20. 제16항에 있어서, R4가 수소원자, C3~C4알키닐기 또는 할로 (C3~C4)알케닐기인 화합물.
  21. 유효성분으로 제초에 유효한 량의 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물, 및 불활성 담체
    또는 희석제를 함유하는 제초 조성물.
    (상기식중, R1는 C1~C6알킬기, C3~C7알케닐기, C3~C7알키닐기, 할로(C1~C5)알킬기, 할로(C3~C4)알케닐기, 할로(C3~C4)알키닐기, C1~C4알콕시(C1~C2)알킬기 또는 C1~C2알킬티오(C1~C2)알킬기이고, R2는 수소원자 또는 메틸기이다)
  22. 제초에 유효한량의 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물 및 불활성 담체 또는 희석제를 바람직하지 못한 잡초가 성장하거나 성장할 가능성이 있는 지역에 살포함을 특징으로 하는 유해한 잡초의 제거방법.
    (상기식중, R1은 C1~C6알킬기, C3~C7알케닐기, C3~C7알키닐기, 할로(C1~C5)알킬기, 할로(C3~C4)알케닐기, 할로(C3~C4)알키닐기, C1~C4알콕시(C1~C2)알킬기 또는 C1~C2알킬티오(C1~C2)알킬기이고, R2는 수소원자 또는 메틸기이다)
  23. 제22항에 있어서, 살포를 논에 수행하는 방법.
  24. 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물의 제초제로서의 용도.
    (상기식중, R1은 C1~C6알킬기, C3~C7알케닐기, C3~C7알키닐기, 할로(C1~C5)알킬기, 할로(C3~C4)알케닐기, 할로(C3~C4)알키닐기, C1~C4알콕시(C1~C2)알킬기 또는 C1~C2알킬티오(C1~C2)알킬기이고, R2는 수소원자 또는 메틸기이다)
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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