KR880009086A - 지연 경화되는 uv 경화성 에폭시 수지조성물 - Google Patents

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죠셉 자빈스키 레이몬드
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Abstract

내용 없음.

Description

지연 경화되는 UV 경화성 에폭시 수지조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (34)

  1. (a) 에폭시 수지, (b) UV 경화성 조성물로 만들기에 충분한 양의 UV 촉매 및 (c) UV 노출에 의한 조속한 스키닝(skinning)을 방지하기에 충분한 양의, 폴리(알킬렌 옥사이드)잔기를 함유하는 고정제(fixing agent)로 이루어진 경화성 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 언급한 UV 촉매가 오늄 광개시제인 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 언급한 고정제가 총 에폭시 수지 함량 100 중량부당 약 1 내지 약 100 중량부의 양으로 존재하는 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 언급한 고정제가 총 에폭시 수지 함량 100 중량부당 약 5 내지 약 50 중량부의 양으로 존재하는 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 언급한 고정제가 에폭시 작용성인 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 언급한 고정제가 다음 일반식을 갖는 조성물.
    R7-(-OR6-)n-OR7
    상기식에서, R6은 독립적으로 탄소수 2 내지 약 8인 치환되거나 비치환된 2가 탄화수소 라디칼이고, R7은 독립적으로 수소 및 탄소수 1 내지 약 8인 치환되거나 비치환된 1가 탄화수소 라디칼로 이루어진 그룹중에서 선택되며, H은 2 이상이다.
  7. 제6항에 있어서, 언급한 R6이 탄소원자 1 내지 5개를 갖고, R7이 수소, 메틸 및 에폭시 탄화수소로 이루어진 그룹중에서 선택되며, H이 2 내지 50인 값을 갖는 조성물.
  8. 제6항에 있어서, 언급한 R7이 지방족 및 지환족 에폭시로 이루어진 그룹중에서 선택되는 조성물.
  9. 제1항에 있어서, 언급한 고정제가 폴리(알킬렌 옥사이드)의 디글리시딜 에테르인 조성물.
  10. 제1항에 있어서, 에폭시 수지가 비스페놀-에폭시 수지로 이루어진 그룹중에서 선택된 수지 하나 이상을 포함하는 조성물.
  11. (a) 에폭시 수지, (b) UV 경화성 조성물로 만들기에 충분한 양의 UV 촉매, 및 (c) UV 노출에 의한 조속한 스키닝을 방지하기에 충분한 양의, 폴리(알킬렌 옥사이드)잔기를 함유하는 고정제로 이루어진, UV 방사선에 노출된 조성물.
  12. 제11항에 있어서, 언급한 UV 촉매가 오늄광개시제인 조성물.
  13. 제11항에 있어서, 언급한 고정제가 총 에폭시 수지 함량 100중량부당 약 1 내지 약 100 중량부의 양으로 존재하는 조성물.
  14. 제11항에 있어서, 언급한 고정제가 총 에폭시 수지 함량 100중량부당 약 5 내지 50 중량부의 양으로 존재하는 조성물.
  15. 제11항에 있어서, 언급한 고정제가 에폭시 작용성인 조성물.
  16. 제11항에 있어서, 언급한 고정제가 다음 일반식을 갖는 조성물.
    R7-(-OR6-)n-OR7
    상기식에서 R6는 독립적으로 탄소수 2 내지 약 8인 치환되거나 비치환된 2가 탄화수소 라디칼이고, R7은 독립적으로 수소 및 탄소수 1 내지 약 8인 치환되거나 비치환된 1가 탄화수소 라디칼로 이루어진 그룹중에서 선택되며, n은 2 이상이다.
  17. 제16항에 있어서, 언급한 R6이 탄소원자 1 내지 5개를 갖고, R7이 수소, 메틸 및 에폭시 탄화수소로 이루어진 그룹중에서 선택되며, n은 2 내지 50의 값을 갖는 조성물.
  18. 제16항에 있어서, 언급한 R7이 지방족 및 지환족 에폭시로 이루어진 그룹중에서 선택되는 조성물.
  19. 제11항에 있어서, 언급한 고정제가 폴리(알킬렌 옥사이드)의 디글리시딜 에테르인 조성물.
  20. 제11항에 있어서, 에폭시 수지가 비스페놀-A 에폭시 수지. 에폭시 노보락 수지 및 지환족 에폭시 수지로 이루어진 그룹중에서 선택된 수지 하나 이상을 포함하는 조성물.
  21. (a) (i) 에폭시 수지, (ii) UV 경화성 조성물로 만들기에 충분한 양의 UV 촉매 및 (iii) UV 노출에 의한 조속한 스키닝을 방지하기에 충분한 양의, 폴리(알킬렌 옥사이드)잔기를 함유하는 고정제로 이루어진 조성물을 언급한 촉매를 활성화시키기에 충분한 UV 방사선에 노출시키고, (b) 스키닝 또는 경화시키기 전에 노출로 부터 언급한 조성물을 제거하는 단계로 이루어진 에폭시 수지 조성물을 사용하는 방법.
  22. 제21항에 있어서, (c) 경화될 때까지 풍건시간 동안에 언급한 에폭시 수지 조성물을 가공하는 단계를 포함하는 방법.
  23. 제21항에 있어서, 언급한 경화를, (d) 언급한 수지 조성물을 약 40℃ 내지 150℃의 온도로 가열시키는 단계로 수행하는 방법.
  24. 제21항에 있어서, 언급한 UV 촉매가 오늄광개시제인 방법.
  25. 제21항에 있어서, 언급한 고정제가 총 에폭시 수지 함량 100 중량부당 약 1 내지 약 100 중량부의 양으로 존재하는 방법.
  26. 제21항에 있어서, 언급한 고정제가 총 에폭시 수지 함량 100 중량부당 약 5 내지 50 중량부의 양으로 존재하는 방법.
  27. 제21항에 있어서, 언급한 고정제가 에폭시 작용성인 방법.
  28. 제21항에 있어서, 언급한 고정제가 다음 일반식을 갖는 방법.
    R7-(- OR6-)n-OR7
    상기식에서 R6는 독립적으로 탄소수 2 내지 약 8인 치환되거나 비치환된 2가 탄화수소 라디칼이고, R7은 독립적으로 수소 및 탄소수 1 내지 약 8인 치환되거나 비치환된 1가 탄화수소 라디칼로 이루어진 그룹중에서 선택되며, n은 2 이상이다.
  29. 제28항에 있어서, 언급한 R6이 탄소원자 1 내지 5개를 갖고, R7이 수소, 메틸 및 에폭시 탄화수소로 이루어진 그룹중에서 선택되며, n은 2 내지 50의 값을 갖는 방법.
  30. 제28항에 있어서, 언급한 R7이 지방족 및 지환족 에폭시로 이루어진 그룹중에서 선택되는 방법.
  31. 제21항에 있어서, 언급한 고정제가 폴리(알킬렌 옥사이드)의 디글리시딜 에테르인 방법.
  32. 제21항에 있어서, 에폭시 수지가 비스페놀-A 에폭시 수지, 에폭시 노보락 수지 및 지환족 에폭시 수지로 이루어진 그룹중에서 선택된 수지 하나 이상을 포함하는 방법.
  33. (b) UV 경화성 조성물로 만들기에 충분한 양의 UV 촉매, 및 (c) UV 노출에 의한 조속한 스키닝을 방지하기에 충분한 양의, 폴리(알킬렌 옥사이드)잔기를 함유하는 고정제로 이루어진 에폭시 수지조성물.
  34. (a) (i) 에폭시 수지, (ii) UV 경화성 조성물로 만들기에 충분한 양의 UV 촉매 및 (iii) UV 노출에 의한 조속한 스키닝을 방지하기에 충분한 양의, 폴리(알킬렌 옥사이드)잔기를 함유하는 고정제로 이루어진 조성물을 언급한 촉매를 활성화시키기에 충분한 UV 방사선에 노출시키고, (d) 경화될 때까지 풍건시간(open time)동안 언급한 에폭시 수지조성물을 가공하는 단계로 이루어진 에폭시 수지 조성물을 사용하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019880000821A 1987-01-30 1988-01-30 지연 경화되는 uv 경화성 에폭시 수지조성물 KR880009086A (ko)

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