KR880002986A - 페놀성 벤조티아졸 유도체 및 그의 부식 방지제로서의 용도 - Google Patents

페놀성 벤조티아졸 유도체 및 그의 부식 방지제로서의 용도 Download PDF

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Abstract

내용 없음

Description

페놀성 벤조티아졸 유도체 및 그이 부식 방지제로서의 용도
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (23)

  1. 코우팅 물질 또는 윤활제로 구성되고, 또한 1개 이상의 하기 일반식(Ⅰ) 화합물을 함유하는 조성물:
    상기 식에서, R은 상호 독립적으로 수소, C1-C12알킬, C1-C4할로게노알킬, C1-C12알콕시, C1-C12알킬티노, 페닐티오, 벤질티오, C1-C12알킬술포닐, 페닐, C7-C15알킬페닐, C7-C10페닐알킬, C5-C8시클로알킬, 할로겐, -NO2, -CN, -COOH, -COO-(C1-C4알킬), -OH, -NH2, -NHR6-N(R6)2-CONH2, -CONHR6또는 -CON(R6)2; R´은 수소 ; C1-C12알킬 ; 페닐 ; 할로겐, C1-C4알킬 C1-C14알콕시 또는 -NO2에 의해 치환된 페닐 ; 피리딜 ; 티엔일 또는 푸릴 ; R2는 수소 또는 C1-C4알킬 ; R3및 R4가 상호 독립적으로 수소, 할로겐, C1-C14알콕시, 시아노, 니트로, C1-C20알킬, -(CH2)m-COOR7, -(CH2)m-CONHR6, -(CH2)mCON(R6)2(여기서, m은 0, 1 또는 2임), C3-C20알켄일, C7-C10페닐알킬, 페닐, 시클로헥실, 시클로펜틸 또는 다음 일반식(Ⅱ)의 기이고 :
    R5는 수소, C1-C20알킬, C3-C20알켄일 또는 히드록시이거나, 또는 R3가 및 R4가 함께, 또는 R4및 R5가 함께, 페놀 잔기에 융합된 고리를 형성하고, 이 고리는 카르보시클릭 고리 또는 헤테로 원자로서 산소, 질소 또는 유황을 함유하는 헤테로시클릭 고리로서, 각각의 고리가 경우에 따라서 C1-C4알킬, C1-C4알콕시 또는 할로겐에 의해 치환될 수 있으며 ; R6는 C1-C12알킬 ; 1개 또는 그 이상의 0원자가 도입된 C3-C12알킬 ; C5-C8시클로알킬 ; 벤질 ; 페닐 ; 또는 할고겐, C1-C4알킬, C1-C4알콕시 또는 니트로에 의해 치환된 페닐이거나 ; 또는 -N(R6)2가 피롤리디노, 피페리디노 또는 모르폴리노기이고 ; 또한 R7은 수소이거나, 또는 할로겐이나 히드록시에 의해 치환될 수 있는 C1-C20알킬, 또는 1개 그 이상의 산소원자가 도입되고, 또한 히드록시에 의해 치환될 수 있는 C3-C20알킬이다.
  2. 제1항에 있어서, 일반식(Ⅰ) 및 일반식(Ⅱ) 중의 1개 R이 수소, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 트리플루오로메틸 또는 니트로이고, 나머지 3개 R은 수소인 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 일반식(Ⅰ)중의 R1이 수소, C1-C8알킬, 페닐 또는 푸릴이고, 또한 R2가 수소인 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 일반식(Ⅰ)중의 R1및 R2가 수소인 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 일반식(Ⅰ)중의 R3및 R4가 상호 독립적으로 수소, C1-C8알킬, 알릴, C7-C10페닐알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 페닐, 시클로헥실, 또는 -CH2CH2COOR7기이고, R5가 수소, C1-C18알킬, C3-C18알켄일 또는 OH이고, 또한 R7이 C1-C18알킬, 또는 1개 또는 그 이상의 산소 원자가 도입된 C3-C20알킬인 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 일반식(Ⅲ)의 화합물을 함유하는 조성물 :
    상기 식에서, R은 수소, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 염소, 트리플루오로메틸 또는 니트로이고 ; R3및 R4는 상호 독립적으로 수소, C1-C8알킬, 알릴, 염소, 메톡시, C7-C10페닐알킬, 페닐 또는 시클로헥실이며 ; 또한 R5는 H, CH3또는 OH이다.
  7. 제1항에 있어서, 일반식(Ⅳ)의 화합물을 함유하는 조성물 :
    상기 식에서, R은 수소, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 염소, 트리플루오로메틸 또는 니트로이고 ; R3및 R4는 상호 독립적으로 수소, C1-C8알킬, C7-C10페닐알킬, 페닐 시클로헥실 또는 하기 일반식(Ⅱa)의 기이며 ; 또한
    R5는 수소, C1-C18알킬 또는 C3-C18알켄일이거나, 또는 R3및 R5가 함께 페놀고리에 융합된 벤젠, 피리딘 또는 벤조푸란 고리를 형성한다.
  8. 제1항에 있어서, 금속성 기재용 시발체인 조성물.
  9. 제8항에 있어서, 철, 강철, 구리, 아연 또는 알루미늄상의 시발체인 조성물.
  10. 제1항에 있어서, 수성 코우팅 물질인 조성물.
  11. 제10항에 있어서, 음극 전착성 코우팅 물질인 조성물.
  12. 제1항에 있어서, 제1항에서 정의된 일반식(Ⅰ)의 화합물 1개 이상이, 조성물의 고체 함량 기준으로 0.5 내지 5중량%만큼 함유되는 코우팅 물질 조성물.
  13. 제1항에 있어서, 에폭사이드, 폴리우레탄, 아미노플라스트, 아크릴릭, 알키드 또는 폴리에스테르 수지, 또는 이 같은 수지의 혼합물을 기재로 하는 코우팅 물질이 함유되는 조성물.
  14. 제1항에 있어서, 비닐 수지, 셀룰로오스 에스테르, 염소화된 고무, 페놀성 수지, 스티렌-부타디엔 공중합체 또는 건성유를 기재로 하는 코우팅 물질이 함유되는 조성물.
  15. 제1항에 있어서, 윤활제인 조성물.
  16. 제15에 있어서, 제1항에 정의된 일반식(Ⅰ)의 화합물이 0.2 내지 2중량% 만큼 함유되는 윤활제 조성물.
  17. 제15에 있어서, 제7항에서 정의된 일반식(Ⅳ)의 화합물이 함유되는 윤활제 조성물.
  18. 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물 :
    상기 식에서, R은 상호 독립적으로 수소, C1-C12알킬, C1-C4할로게노알킬, C1-C12알콕시, C1-C12알킬티노, 페닐티오, 벤질티오, C1-C12알킬술포닐, 페닐, C7-C15알킬페닐, C7-C10페닐알킬, C5-C8시클로알킬, 할로겐, -NO2, -CN, -COOH, -COO-(C1-C4알킬), -OH, -NH2, -NHR6, -N(R6)2-CONH2, -CONHR6또는 -CON(R6)2; R1은 수소 ; C1-C12알킬 ; 페닐 ; 할로겐, C1-C4알킬 C1-C4알콕시 또는 -NO2에 의해 치환된 페닐 ; 피리딜 ; 티엔일 또는 푸릴 ; R2는 수소 또는 C1-C4알킬 ; R3및 R4가 상호 독립적으로 수소, 할로겐, C1-C4알콕시, 시아노, 니트로, C1-C20알킬, -(CH2)m-COOR7, -(CH2)m-CONHR6, -(CH2)m-CON(R6)2(여기서, m은 0, 1 또는 2임), C3-C20알켄일, C7-C10페닐알킬, 페닐, 시클로헥실, 시클로펜틸 또는 다음 일반식(Ⅱ)의 기이고 :
    R5는 수소, C1-C20알킬, C3-C20알켄일 또는 히드록시이거나, 또는 R3가 및 R5가 함께, 또는 R4및 R5가 함께, 페놀 잔기에 융합된 고리를 형성하고, 이 고리는 카르보시클릭 고리 또는 헤테로 원자로서 산소, 질소 또는 유황을 함유하는 헤테로시클릭 고리로서, 각각의 고리가 경우에 따라서 C1-C4알킬, C1-C4알콕시 또는 할로겐에 의해 치환될 수 있으며 ; R6는 C1-C12알킬 ; 1개 또는 그 이상의 0원자가 도입된 C3-C12알킬 ; C5-C8시클로알킬 ; 벤질 ; 페닐 ; 또는 할고겐, C1-C4알킬, C1-C4알콕시 또는 니트로에 의해 치환된 페닐이거나 ; 또는 -N(R6)2가 피롤리디노, 피페리디노 또는 모르폴리노기이고 ; 또한 R7은 수소이거나, 또는 할로겐이나 히드록시에 의해 치환될 수 있는 C1-C20알킬, 또는 1개 또는 그 이상의 산소원자가 도입되고, 또한 히드록시에 의해 치환될 수 있는 C3-C20알킬이고 ; 단, R, R1및 R2가 수소이고, R3및 R4가 히드록시에 대해 오르토-위치에 있는 3급 부틸기인 경우, R5는 수소일 수 없다.
  19. 하기 일반식(Ⅴ)의 화합물을 70 내지 250℃, 바람직하게는 100 내지 200℃온도로 가열시켜서 하기 일반식(Ⅰ) 화합물을 제조하는 방법 :
    상기 식에서, R, R1, R2, R3, R4, 및 R5는 제1항에서의 정의와 같다.
  20. 제19항에 있어서, 가열이 극성 용매 중에서 진행되는 방법.
  21. 제19항에 있어서, 가열이 염기성 촉매 존재하에서 진행되는 방법.
  22. 염기성 촉매 존재하에서, 하기 일반식(Ⅵ)의 2-메르캅토벤조티아졸, 및 카르보닐 화합물을 하기 일반식(Ⅷ)의 페놀과 반응시켜서, 하기 일반식(Ⅰ) 화합물을 제조하는 방법 :
    상기 식에서 R, R1, R2, R3, R4, 및 R5는 제1항에서의 정의와 같다.
  23. 제22항에 있어서, 반응이 극성 용매중에서 진행되는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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