KR880009906A - 신규한 제초 화합물과 그 제조방법 및 이를 포함하는 제초조성물 - Google Patents

신규한 제초 화합물과 그 제조방법 및 이를 포함하는 제초조성물 Download PDF

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Abstract

내용 없음.

Description

신규한 제초 화합물과 그 제조방법 및 이를 포함하는 제초조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (20)

  1. 하기 일반구조식(Ⅰ)의 화합물 및 그러한 화합물의 염;
    상기식에서 X는 2-위치에서 시아노기, 또는 일반구조식 CQNR1R2또는 COQR3기 (여기서 Q는 산소 또는 황원자를 나타내고 각각의 R1, R2및 R3은 수소원자 또는 임의 치환된 알킬, 시클로알킬, 알케닐, 알키닐, 페닐 또는 펜알킬기이거나 R1과 R2는 결합되어 탄화수소사슬을 나타냄)에 의해 치환되고 3-, 4-, 5- 및 6- 위치의 하나이상에서 임의 치환된 페닐기를 나타내고; Y는 임의 치환된 페닐기이며; L은 산소 또는 황원자이며; Z는 수소원자 또는 임의 치환된 알킬, 시클로알킬, 알케닐, 알키닐, 페닐 또는 펜알킬기이다.
  2. 제1항에 있어서, 기 X는 2-위치에서의 치환체가 시아노기, 또는 R1, R2및 R3이 각각 수소원자 또는 알킬기 이거나 R1과 R2가 함께 알킬렌기를 나타내는 일반 구조식 CONR1R2또는 COOR3기이고 페닐기는 3-, 4-, 5- 또는 6- 위치의 하나이상에서 임의 치환되고; Y는 임의 치환된 페닐기이고; L은 산소원자이며; Z는 수소원자 또는 임의 치환된 알킬, 페닐 또는 벤질기인 일반 구조식(Ⅰ)화합물과 그러한 화합물의 염.
  3. 제2항에 있어서, 페닐기 X의 치환체가 시아노기, 또는 일반구조식 CONH2또는 COO(C1-4알킬)의 기인 화합물.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 기 X가 니트로기 또는 1개 또는 2개의 할로겐 원자에 의해임의 치환된 화합물.
  5. 제4항에 있어서, 기X가 3 또는 6위치에서 할로겐 원자에 의해 치환된 화합물.
  6. 제1항내지 제5항 중 어느한 항에 있어서, 기Y가 할로겐 원자와 니트로, C1-4알콕시, C1-4알킬티오, C1-4알케닐옥시, 페녹시, C1-4알킬 및 C1-4할로알킬기로부터 선택된 1 내지 3개의 부분에 의해 임의 치환된 화합물.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 치환시에, 기Y가 4- 위치에서 치환체를 갖는 화합물.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 기Z가 알킬기인 화합물.
  9. 하기 일반 구조식(Ⅱ)이 화합물을 알칼리 금속 수소화물로 처리하고 이 생성물을 하기 일반 구조식(Ⅲ)의 화합물과 반응시키는 것을 포함하는 제1항 내지 제9항중 어느 한 항에서 청구된 일반 구조식(Ⅰ)의 화합물을 제조하는 방법.
    상기식에서 Hal은 할로겐 원자를 나타낸다.
  10. 하기 일반 구조식(Ⅳ)의 화합물을 일반 구조식 Y-CO-Hal(Hal은 할로겐 원자를 나타냄)의 벤조일할로겐화물과 반응시키는 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에서 청구된 일반 구조식(Ⅰ)의 화합물을 제조하는 방법.
  11. X와 Y는 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에서 정의된 바와 같고 R4는 알칼리 금속 원자인 하기 일반구조식(Ⅴ)의 화합물.
  12. 일반구조식 X-NH2인 아닐린을 일반구조식 Y-CO-Hal(Hal은 할로겐 원자임)인 벤조일 할로겐화물과 반응시키고 그 생성물을 알칼리 금속 수소화물로 처리하는 제11항에서 청구된 일반구조식(Ⅴ)화합물의 제조방법.
  13. X는 2-위치에서 시아노기에 의해 치환되고 3-, 4-, 5- 및 6- 위치의 하나이상에서 임의 치환된 페닐기이고, Y는 임의 치환된 페닐기이고; 단 X는 4-치환되지 않고; 또한, X가 3-, 4-, 5- 및 6-위치에서 비치환되었을 때, Y는 니트로 또는 시아노기에 의해 임의로 2-치환된 페닐기를 나타내지 않는 제9항에서 청구된 일반구조식(Ⅱ)의 화합물.
  14. 일반구조식X-NH2인 아닐린을 일반구조식 Y-CO-Hal 의 벤조일 할로겐화물(Hal은 할로겐 원자이고 X와 Y는 제13항에서 정의한 바와 같음)과 반응시키는 것을 포함하는 제13항에서 정의된 일반 구조식(Ⅱ)화합물의 제조방법.
  15. N-2-(시아노페닐)글리신 에틸 에스테르가 아닌, 제10항에서 정의한 바와 같은 일반구조식(Ⅳ)의 화합물.
  16. 일반구조식 X-NH2인 아닐린을 일반구조식 Hal-CH2-COLZ(여기서 Hal은 할로겐 원자이고 Z는 제15항에서 청구된 바와 같음)의 화합물과 반응시키는 제15항에서 청구된 일반구조식(Ⅳ)화합물의 제조방법.
  17. 적어도 하나의 담체와 함께 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에서 청구된 일반 구조식(Ⅰ)의 화합물을 함유하는 제초 조성물.
  18. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 따른 화합물 또는 제17항에 따른 조성물을 원하지 않는 식물 성장을 막는데 사용하는 방법.
  19. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에서 정의한 일반 구조식(Ⅰ)의 화합물 또는 제17항에서 청구된 조성물로 어떤 지역을 처리함으로써 그 지역에서 원하지 않는 식물 성장을 막는 방법.
  20. 제9항 또는 제10항에서 청구된 방법에 의해서 생성된 일반구조식(Ⅰ)의 화합물, 또는 제12항에서 청구된 방법에 의해 생성된 일반 구조식(Ⅴ)의 화합물; 또는 제14항에서 청구된 방법에 의해 생성된 제13항에서 청구된 바의 일반구조식(Ⅱ)의 화합물; 또는 제16항에서 청구된 방법에 의해 생성된 제15항에서 정의된 바의 일반 구조식(Ⅳ)의 화합물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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