KR830002746A - 테트라 히드로프탈 아미드 유도체의 제조방법 및 제초조성물 - Google Patents

테트라 히드로프탈 아미드 유도체의 제조방법 및 제초조성물

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KR830002746A
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다쓰오까 스에오
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Abstract

내용 없음

Description

테트라 히드로프탈 아미드 유도체의 제조방법 및 제초조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (3)

  1. 하기 일반식(Ⅱ)로 표시되는 화합물과 하기 일반식(Ⅳ)로 표시되는 화합물을 반응시킴을 특징으로 하는 하기 일반식(Ⅰ)로 표시되는 테트라히드로프탈 아미드유도체의 제조방법.
    (상기 식들에 있어서, X1는 수소원자 또는 할로겐원자, X2는 할로겐원자, 알콕시 또는 치환벤질옥시기, X3는 수소원자, 알콕시 또는 알케닐옥시기를 나타내고, R, R'는 동일 또는 상이하게 치환되어 있어도 좋은 알킬, 시클로알킬, 알케닐 또는 페닐기를 나타내거나 또는 R과 R'는 두개가 합하여 1개 또는 2개의 질소원자 또는 질소원자와 산소원자를 함유하는 치환식 복소환을 형성하여도 좋다.
  2. 하기 일반식(Ⅲ)으로 표시되는 화합물과 하기 일반식(Ⅳ)로 표시되는 화합물을 반응시킴을 특징으로 하는 하기 일반식(Ⅰ)로 표시되는 테트라 히드로프탈아미드 유도체의 제조방법.
    (상기 식들에 있어서, X1은 수소원자 또는 할로겐 원자, X2는 할로겐원자, 알콕시 또는 치환벤질옥시기, R, R'는 수소원자, 알콕시 또는 알케닐옥시기를 나타내고, R, R'는 동일 또는 상이하게 치환되어 있어도 좋은 알킬, 시클로알킬, 알케닐 또는 페닐기를 나타내거나, 또는 R과 R'는 두개가 합하여 1개 또는 2개의 질소원자 또는 질소원자와 산소원자를 합유하는 지환식 복소환을 형성하여도 좋다.)
  3. 하기 일반식(Ⅰ)로 표시되는 테트라히드로프탈아미드 유도체의 1종 또는 그 이상과 담체와로 조성됨을 특징으로 하는 제초 조성물.
    (식중, X1은 수소원자 또는 할로겐원자, X2는 할로겐원자, 알콕시 또는 치환벤질옥시기 X3는 수소원자, 알콕시 또는 알케닐옥시기를 나타내고, R, R'는 동일 또는 상이하게 치환되어 있어도 좋은 알킬, 시클로알킬 알케닐 또는 페닐기를 나타내거나 또는 R과 R'는 두개가 합하여 1개 또는 2개의 질소원자 또는 질소 원자와 산소원자를 함유하는 지환식 복소환을 형성하여도 좋다.)
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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