KR870004648A - 회로 기판용 금속박층을 입힌 베이스 물질의 제조방법 및 장치 - Google Patents

회로 기판용 금속박층을 입힌 베이스 물질의 제조방법 및 장치 Download PDF

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Abstract

내용 없음

Description

회로 기판용 금속박층을 입힌 베이스 물질의 제조방법 및 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명을 수행하기 위한 이중 벨트 프레스가 있는 장치.
제2도는 본 발명에 의한 이중 벨트 프레스의 특별한 실시예를 나타낸 도면.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1: 이중벨트 프레스 2 : 가열프레스 영역
3 : 냉각프레스 영역

Claims (21)

  1. 열 경화성 수지로 함침된 연속적인 웨브 형태로 공급된 시이트 물질을 그 위에 박층으로 입혀지는 호일 또는 경우에 따라 박층으로 입혀지는 호일들과 함께 프레스 형태의 장치에서 수행되는 고온압착에 의해 회로 기판용 금속 박층을 입힌 베이스 물질을 제조하는 방법에 있어서 촉매로 가속화 된 수지 시스템을 포함하는 함침제를 시이트 물질의 웨브를 함침시키는데 사용하고 함침된 웨브를 압착시켜 박층으로 입혀지는 호일 또는 경우에 따라 박층으로 입혀지는 호일들과 밀착 시키는 것을 특징으로 하는 회로기판용 금속 박층을 입힌 베이스 물질을 제조하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 함침제가 가속된 에폭시 경화제/촉매 시스템 형태로 수지 시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 함침제가 페놀 경화제/촉매 시스템 형태로 수지 시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제1항에서 제3항중 어느 한항에 있어서, 수지 시스템이 가속화제로 작용을 하고 치환된 피리딘 화합물, 이미다졸 및/또는 치환된 이미다졸의 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제1항에서 제4항중 어느 한항에 있어서, 디시안디아미드 및/또는 벤질 디메틸아민을 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제1항에서 제5항중 어느 한항에 있어서, 가속화된 수지 경화제/촉매 시스템이 0.2-0.8 중량 퍼센트의 고체수지로 언급되는 가속화제 또는 가속화제 혼합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 상기 조작이 진공하에서 일어나는 것을 특징으로 하는 상기 항중 어느하나에 따른 방법.
  8. 회로기판용 다층의 베이스 라미네이트를 만들기 위하여 가속화된 수지 시스템으로 함침된 각각 물질의 웨브를 분리된 리일로 부터 풀고 박층으로 입혀지는 호일로 구성되고 또 다른 리일로 부터 풀려지는 적어도 하나의 물질의 웨브와 같이 운반되고, 물질의 웨브가 호일의 주입과 같은 방향으로 같이 운반되고 또는 특별히 필요한 경우에 호일로부터 분리되어 운반되며, 그렇게 하여 형성된 밴드가 정해진 시각에 스톱-고 작동 사이클 시퀀스에 따라 프레스로 가이드 되며 고온 압착되고 바람직하기로는 프레스 그 자체는 이중 벨트 타입인 것을 특징으로 하는 상기 항중 하나 또는 그 이상의 항에 따른 방법.
  9. 물질의 웨브가 압착 조작을 하기 전에 최종길이로 절단되고 그 다음 호일 웨브와 같이 압착이 가해지는 구역으로 들어가고 호일을 최종 길이로 절단하는 것이 이 단계에서 선택적인 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 라미네이트의 압착되지 않는 구역이 압착된 베이스 라미네이트의 구역 사이에서 형성되고 또는 호일 연결부가 남는 것을 특징으로 하는 상기 항중 하나 또는 그 이상의 항에 따른 방법.
  11. 잘려지기 전 또는 잘리는 동안에 밴드 모양을 한 길이의 물질이 서로에 대해 고정되고 상기 고정은 클리핑, 죄거나, 리벳으로 고정하거나 꺽쇠로 고정하거나 또는 유사한 방법으로 가장자리 부분에서 이루어지며 그후 물질이 정해진 시각에 스톱-고 작동 사이클 시퀀스에 따라 프레스로 가이드 되는 것을 특징으로 하는 상기 항중 하나 또는 그 이상의 항에 따른 방법.
  12. 물질의 웨브가 박층으로 입혀지는 호일과 함께 고온 압착 구역으로 가이드 되고 그것들은 조작 사이클의 첫 단계 동안 남아 있고, 두번째 조작 단계 동안 냉각 구역에서 압착하에 냉각을 시키고 세번째 조작단계 동안에 생성되는 회로 기판 베이스 라미네이트의 가장자리가 잘라 다듬어지고 알맞게 되면 최종길이로 절단되어지는 것을 특징으로 하는 상기 항중 하나 또는 그 이상의 항에 따른 방법.
  13. 조작 사이클의 첫번째 단계 동안 웨브가 압착 구역으로 가이드 되고 거기서 우선 고주파 방사에 의해 가열되고 그 다음 냉각되고 회로기판 베이스 라미네이트의 가장자리가 잘라 다듬어지고 알맞게 되면 두번째 조작 단계 동안 최종길이로 절단되어지는 것을 특징으로 하는 상기 항중 하나 또는 그 이상의 항에 따른 방법.
  14. 호일 또는 호일들이 박층으로 입혀지기 전에 예열되어지는 것을 특징으로 하는 방법.
  15. 정해진 시각에 스톱-고 작동 사이클 시퀀스에 따라 개시되는 앞 방향으로 나아가는 이중 벨트 프레스가 가열 구역 및 바로 그 다음에 냉각구역을 가지고 있고 냉각될 수 있고 가열 구역의 상부 라인에 설치된 한쌍의 풀-인, 벨트 역동 드럼을 가지고 있는 또한 냉각 구역의 하부라인에 설치된 한쌍의 풀-아우트 또는 후미드럼을 가직고 있는 것을 특징으로 하는 상기 항중 하나 또는 그 이상의 항에 따른 방법을 수행하기 위한 장치.
  16. 정해진 시각에 스톱-고 작동 사이클 시퀀스에 따라 개시되는 앞 방향으로 나아가는 이중 벨트 프레스가 가열이 고주파 방사에 의해 냉각이 그 다음 일어나는 첫번째 구역을 가지고 있고, 냉각될 수 있고 프레싱 구역의 상부 라인에 설치되고 그 다음에 한쌍의 풀-아우트 또는 후미드럼이 계속하여 있는 한쌍의 풀-인, 벨트 역동 드럼을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 상기 항중 하나 또는 그 이상의 항에 따른 방법을 수행하기 위한 장치.
  17. 제15항 또는 제16항에 있어서, 물질을 저장하고, 풀고, 가이드 하기 위한 장치와 호일 웨브가 풀-인 방향의 이중 벨트 프레스의 상부라인에 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  18. 제15항 또는 제16항에 있어서, 절연 장치가 가열 구역의 상부 라인 및 하부 라인에 설치되고 방사를 통한 열 손실을 방지하거나 최소한 열 방출을 제한하도록 디자인 되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  19. 제15항 또는 제16항에 있어서, 호일 웨브용으로 풀-인 및 벨트 역동 드럼이 가열 장치와 상호 작동 되도록 디자인 되어 있고 방사열로 부터 물질의 웨브를 보호하기 위하여 열차폐물이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  20. 제15항 또는 제16항에 있어서, 에지트리머(edge-trimmer)가 특별히 필요한 경우 길이 절단 장치와 같이 한쌍의 풀-아우트, 또는 후미드럼의 하부선에 설치된 것을 특징으로 하는 장치.
  21. 상기 항중 어느 하나에 따라 얻어진 회로기판용 베이스 라미네이트
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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