KR860006911A - 연성 x-선 발생장치 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 연성 X-선 발생장치의 바람직한 실시예의 도식도. 제2도는 제1도의 장치에 포함되는 자기 펄스압축 전원장치의 개략적인 회로도. 제5도는 폐쇄위치의 밸브를 부분적으로 도시하는, 제1도 장치에 사용된 밸브의 축단면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
13: 전원장치, 14: 이송관, 15: 여과장치, 16: 창, 17: 물체, 20: 밸브장치, 22: 솔레노이드, 24: 코일, 28: 밸브조립체, 32: 하우징, 36: 흡입구, 38: 배기구, 122: 제1도체, 124: 제2도체.
Claims (7)
- 순간적인 가스의 폭발을 반복해서 공급하기 위한 밸브장치, 고전류 펄스를 공급하기 위한 자기펄스압축정원, 상기 가스폭발을 통해 상기 전원으로부터 동력펄스를 전달하기 위한 상기 전원에 연결된 이송관으로서, 상기 전원은 다수의 일련의 가포화 유도가 자기스위치 및 다수의 분로축전기를 포함하는 이송관, 및 상기 밸브장치 및 상기 전원을 동시에 작동시키기 위한 수단으로서, 상기 수단에 의해서 상기 밸브장치로부터의 가스폭발 및 상기 전원으로 부터의 동력펄스가 동시에 공급될 때, 고전류 방전이 플라즈마 및 강력한 자기장을 발생시키며, 강력한 자기장이 플라즈마를 방사상으로 압축하여 연성 X-선의 강력한 발생원이 되는 조밀하고 고온 플라즈마가 형성되는 상기 수단을 포함하는 연성 X-선 발생장치.
- 제1항에 있어서, 안에서 상기 고전류 방전이 발생하는 진공체임버를 포함하는 장치.
- 제2항에 있어서, -선을 조명될 물체에 전달하는 창으로서, 상기 창과 상기 이송관이 상기 진공체임버를 부분적으로 한정하는 창을 포함하는 장치.
- 제3항에 있어서, 파편들을 모으고 상기 X-선 발생의 부산물인 바라지 않는 성분들을 제거하기 위한 수단을 포함하는 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 밸브장치는 후퇴위치 및 연장위치를 가지는 왕복운동 플런저 및 코일을 포함하며 플런저의 위치가 상기 코일의 동력공급 상태에 의해서 조정되는 솔레노이드와, 상기 플런저에의 해서작동되는 밸브조립체를 포함하며, 상기 밸브조립체는 가스흡입구 및 가스배기구를 가지는 체임버를 한정하는 하우징으로서 밸브시이트가 상기 배기구를 둘러싸고 있는 하우징, 구멍을 한정하는 베어링, 상기 밸브시이트와 선택적으로 결합하여 상기 배기구를 폐쇄하는 상기 체임버내에 위치한 헤드를 가지며 또한 상기 헤드로부터 상기 구멍을 지나 돌출된 밸브축을 포함하는 밸브봉합 부재로서, 상기 헤드가 상기 시이트와 결합하는 폐쇄위치 및 상기 헤드가 상기 시이트로 부터 멀어지는 개방위치 사이에 가동할 수 있는 밸브봉합부재와, 상기 밸브봉합부재를 폐쇄위치로 바이어스하는 수단으로서, 상기 밸브축이 상기 헤드와 대향하는 충격면을 가지는 접촉수단을 지지하는 수단을 포함하며, 상기 밸브장치는 또한 상기 플랜저에 부착된 작동기를 포함하며, 상기 작동기가 상기 접촉수단을 지나 연장되고 상기 충격면과 대향되며 서로 간섭관계로 배치된 해머면을 가지는 말단부에 끝나며, 상기 코일이 상기 플랜저의 거리보다 가까운 거리에서 동력이 차단될 때 상기 해머면은 상기 충격면으로부터 이격되며, 상기 코일의 동력공급에 의해서 강한 충격으로 상기 밸브가 급속히 개방되는 장치.
- 제2항에 있어서, 상기 이송관은 가스의 폭발에 의해 구성되는 부하의 한면과 상기 전원의 한면에 전기 접속하는 제1도체, 제1도체에 이웃한채 이격되어 위치되며 부하의 다른면 및 상기 전원의 다른면에 전기접속된 제2도체, 상기 도체들사이에 연장되며 부분적으로 상기 체임버를 한정하는 절연체, 비가스형태로 파편들을 수용하기 위한 상기 부하 및 상기 절연체 사이에 위치한 수단, 및 상기 부하 및 상기 절연체 사이에 위치하고 상기 도체들사이로부터 가스형태의 파편들을 배출하기 위한 수단을 포함하는 장치.
- 제4항에 있어서, 상기 여과물을 모으는 상기 수단은 상기창으로 부터 멀어지도록 분산된 뜨거운 가스들의 방향을 조정하는 배플과, 상기 X-선 발생원으로부터 상기 창을 통과하는 X-선비임(beam)으로 부터 자외선을 흡수하기 위한 수단을 포함하는 장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Families Citing this family (26)
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JPS62172648A (ja) * | 1986-01-24 | 1987-07-29 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | X線発生装置 |
JPS61250948A (ja) * | 1985-04-30 | 1986-11-08 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | X線発生装置およびx線露光法 |
CA1239486A (en) * | 1985-10-03 | 1988-07-19 | Rajendra P. Gupta | Gas discharge derived annular plasma pinch x-ray source |
US4663567A (en) * | 1985-10-28 | 1987-05-05 | Physics International Company | Generation of stable linear plasmas |
JP2532443B2 (ja) * | 1987-03-02 | 1996-09-11 | ニチコン株式会社 | プラズマx線発生装置 |
DE3806901C2 (de) * | 1988-03-03 | 1995-04-27 | Kernforschungsz Karlsruhe | Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung eines Plasmas hoher Strahlungsintensität im Röntgenbereich |
US5102776A (en) * | 1989-11-09 | 1992-04-07 | Cornell Research Foundation, Inc. | Method and apparatus for microlithography using x-pinch x-ray source |
US5302882A (en) * | 1991-09-09 | 1994-04-12 | Sematech, Inc. | Low pass filter for plasma discharge |
KR930021034A (ko) * | 1992-03-31 | 1993-10-20 | 다니이 아끼오 | 플라즈마발생방법 및 그 발생장치 |
US5325019A (en) * | 1992-08-21 | 1994-06-28 | Sematech, Inc. | Control of plasma process by use of harmonic frequency components of voltage and current |
US6586757B2 (en) * | 1997-05-12 | 2003-07-01 | Cymer, Inc. | Plasma focus light source with active and buffer gas control |
US5898236A (en) * | 1997-06-24 | 1999-04-27 | Sandia Corporation | Magnetic switch coupling to synchronize magnetic modulators |
JP3985416B2 (ja) * | 2000-03-02 | 2007-10-03 | 松下電器産業株式会社 | ガスレーザ発振装置 |
TW518913B (en) * | 2000-07-03 | 2003-01-21 | Asml Netherlands Bv | Radiation source, lithographic apparatus, and semiconductor device manufacturing method |
JP5388018B2 (ja) * | 2007-05-07 | 2014-01-15 | 独立行政法人日本原子力研究開発機構 | レーザー駆動の小型・高コントラスト・コヒーレントx線発生装置及びその発生方法 |
US20080317768A1 (en) | 2007-06-21 | 2008-12-25 | Boeing Company | Bioconjugated nanoparticles |
US7872244B2 (en) * | 2007-08-08 | 2011-01-18 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
KR101522426B1 (ko) * | 2008-06-25 | 2015-05-21 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | X선 조사 시스템 및 x선 조사 장치 |
US8044594B2 (en) * | 2008-07-31 | 2011-10-25 | Advanced Energy Industries, Inc. | Power supply ignition system and method |
DE102008052216B3 (de) * | 2008-10-17 | 2010-05-20 | Johann Wolfgang Goethe-Universität | Plasma-Induktionsschalter und Verfahren zum Schalten hoher Spannungen |
US8395078B2 (en) | 2008-12-05 | 2013-03-12 | Advanced Energy Industries, Inc | Arc recovery with over-voltage protection for plasma-chamber power supplies |
EP2219205B1 (en) | 2009-02-17 | 2014-06-04 | Solvix GmbH | A power supply device for plasma processing |
US8552665B2 (en) | 2010-08-20 | 2013-10-08 | Advanced Energy Industries, Inc. | Proactive arc management of a plasma load |
FR2976440B1 (fr) | 2011-06-09 | 2014-01-17 | Ecole Polytech | Procede et agencement pour engendrer un jet de fluide, procede et systeme de transformation du jet en un plasma et applications de ce systeme |
EP3968738A1 (en) * | 2020-09-14 | 2022-03-16 | Koninklijke Philips N.V. | Fast kvp switching employing non-linear inductance and resonant operation |
KR20240009476A (ko) * | 2021-05-28 | 2024-01-22 | 잽 에너지, 인크. | 연장된 플라즈마 밀폐를 위한 전극 구성 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2700114A (en) * | 1946-01-17 | 1955-01-18 | Richard H Blythe | Pulse network |
US2898482A (en) * | 1955-06-13 | 1959-08-04 | Bell Telephone Labor Inc | Magnetic radar pulse duration-clipper and damper |
US3171030A (en) * | 1961-03-06 | 1965-02-23 | Zenith Radio Corp | System for producing short pulses of x-ray energy |
US3363102A (en) * | 1965-01-25 | 1968-01-09 | Field Emission Corp | High voltage pulse transmission system employing field emission diodes for successively pulsing a load |
US3388275A (en) * | 1966-06-08 | 1968-06-11 | Battelle Development Corp | Cathode provided with ion-producing material for decreasing space charge |
US3746860A (en) * | 1972-02-17 | 1973-07-17 | J Stettler | Soft x-ray generator assisted by laser |
US4042827A (en) * | 1973-10-03 | 1977-08-16 | Research Corporation | Stimulated emission X-ray generator |
US4042848A (en) * | 1974-05-17 | 1977-08-16 | Ja Hyun Lee | Hypocycloidal pinch device |
JPS5342695A (en) * | 1976-09-30 | 1978-04-18 | Toshiba Corp | Ct scanner |
US4275317A (en) * | 1979-03-23 | 1981-06-23 | Nasa | Pulse switching for high energy lasers |
US4494043A (en) * | 1981-07-02 | 1985-01-15 | Physics International Company | Imploding plasma device |
JPS58113800A (ja) * | 1981-12-26 | 1983-07-06 | 富士通株式会社 | エツクス線照射装置 |
JPS58113898A (ja) * | 1981-12-28 | 1983-07-06 | 富士通株式会社 | エツクス線照射装置 |
JPS58174849U (ja) * | 1982-05-17 | 1983-11-22 | 富士通株式会社 | プラズマx線発生装置 |
US4536884A (en) * | 1982-09-20 | 1985-08-20 | Eaton Corporation | Plasma pinch X-ray apparatus |
JPS5958748A (ja) * | 1982-09-28 | 1984-04-04 | Fujitsu Ltd | エツクス線発生装置 |
JPS5958747A (ja) * | 1982-09-28 | 1984-04-04 | Fujitsu Ltd | エツクス線発生装置 |
JPS607723A (ja) * | 1983-06-28 | 1985-01-16 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | プラズマx線露光装置 |
JPS6084748A (ja) * | 1983-10-14 | 1985-05-14 | Hitachi Ltd | ガスパフ形プラズマx線源 |
-
1985
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