KR101522426B1 - X선 조사 시스템 및 x선 조사 장치 - Google Patents
X선 조사 시스템 및 x선 조사 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101522426B1 KR101522426B1 KR1020080060324A KR20080060324A KR101522426B1 KR 101522426 B1 KR101522426 B1 KR 101522426B1 KR 1020080060324 A KR1020080060324 A KR 1020080060324A KR 20080060324 A KR20080060324 A KR 20080060324A KR 101522426 B1 KR101522426 B1 KR 101522426B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- gas
- ray
- opening
- cable
- case
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K5/00—Irradiation devices
- G21K5/04—Irradiation devices with beam-forming means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/16—Vessels; Containers; Shields associated therewith
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
X선 조사 장치(1)는 X선관(8)과, X선관(8)을 구동시키는 구동부(35)와, X선관(8) 및 구동부(35)를 수용하며, 개구부(6a)를 가지는 보호 케이스(2)와, 보호 케이스(2)에 마련되고 개구부(6a)에 대응하는 위치에 개구(36a)를 가지는 판 모양의 부재(36)를 구비한다. 케이블(42)은, 해당 케이블(42)의 일단에 마련되고 해당 케이블(42)의 일단과 구동부(35)를 개구부(6a) 및 개구 (36a)의 위치에서 X선 조사 장치(1)와 착탈이 자유롭게 접속하기 위한 커넥터(44)와, 커넥터(44)를 포위하는 통 모양의 부재(45)를 구비한다. 통 모양의 부재(45)의 일단에서는, 일단에 마련된 수나사부(45a)와 판 모양의 부재(36)의 개구(36a)에 마련된 암나사부(36c)가 나사 결합된다. 통 모양의 부재(45)의 타단에는 케이블(42)을 클램프하기 위한 캡 콘(48)이 마련되어 해당 외단과 캡 콘(48)이 나사 결합된다.
X선관, 구동부, 보호 케이스, 개구부, 개구, 케이블, 커넥터
Description
본 발명은 X선 조사 시스템 및 X선 조사 장치에 관한 것이다.
종래, X선 조사 장치가 알려져 있다(예를 들어, 특허문헌 1, 2를 참조). 특허문헌 2에는, 예를 들어 특허문헌 1에 기재의 X선 조사 장치로부터의 연(軟)X선을 이용하여, 기판에 발생한 정전기를 제전(除電)하는 시스템에 대하여 기재되어 있다. 특히, 이 시스템에서는, 연X선이 기판에 소정 시간 이상 조사되지 않도록 제어하면서 기판을 제전함으로써, 예를 들어 현상 얼룩과 같은 기판 처리상의 문제를 억제하고 있다.
[특허문헌 1] 일본국 특개2004-356056호 공보
[특허문헌 2] 일본국 특개2000-21726호 공보
상기와 같은 시스템에 있어서는, 예를 들어, 기판 위에 레지스트를 도포하는 장치 내에 X선 조사 장치가 배치되어 있고, 이 레지스트 도포 장치 내에서 X선 조사 장치와 그 이외의 부분이 공기의 이동 면에 있어서 격리되어 있는 것이 바람직하다. 즉, X선 조사 장치 내의 가스 등이 X선 조사 장치로부터 나와 레지스트 도포 장치 내에 대량으로 흘러가는 것이나, 레지스트 도포 장치 내의 가스(유기용제) 등이 X선 조사 장치 내에 들어오는 것은 바람직하지 않다. 왜냐하면, X선 조사 장치 내의 가스가 X선 조사 장치로부터 새어 레지스트 도포 장치 내에 대량으로 유입하면, 레지스트 도포 장치의 오염이나 클린도 저하의 원인이 될 수 있다. 또, 레지스트를 도포하는 공정 중에 존재하는 라디칼의 가스가 X선 조사 장치 내에 침입하면 가스에 의해 X선 조사 장치 내의 부품 등이 손상을 받게 된다. 또, 가연성의 예를 들어 유기용제가 충만해 경우에는, 이 가연성 용제가 X선 조사 장치에 혼입되면, X선 조사 장치 내에서 발생한 불꽃 등에 의해 X선 조사 장치 내에서 인화 또는 폭발이 발생할 우려가 있기 때문이다. 또, 이와 같이 가연성의 용제를 사용하는 것이나 장치가 오염되어 클린도가 저하하는 것은, 레지스트 도포 장치에 한정되지 않으며, 예를 들어 현상 처리 장치에 있어서도 마찬가지라고 할 수 있다.
따라서, 본 발명은 상기를 감안하여 이루어진 것으로, X선 조사 장치의 밀폐성을 높이는 것이 가능한 X선 조사 시스템 및 X선 조사 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명의 X선 조사 시스템은, X선을 조사하는 X선 조사 장치와, 상기 X선 조사 장치를 제어하는 X선 제어 장치와, 상기 X선 조사 장치 및 상기 X선 제어 장치를 전기적으로 접속하는 케이블을 구비하는 X선 조사 시스템으로서, 상기 X선 조사 장치는 X선관과, 상기 X선관을 구동시키는 구동부와, 상기 X선관 및 상기 구동부를 수용하고 개구부를 가지는 케이스와, 상기 케이스에 마련되며 상기 개구부에 대응하는 위치에 개구를 가지는 판 모양의 부재를 구비하고, 상기 케이블은 해당 케이블의 일단(一端)에 마련되고, 해당 케이블의 일단과, 상기 구동부에 전기적으로 접속된 접속 단자를 착탈이 자유롭게 접속하기 위한 커넥터와, 상기 커넥터를 포위하는 통 모양의 부재를 구비하며, 상기 구동부와 상기 케이블은, 상기 접속 단자 및 상기 커넥터에 의해, 상기 케이스의 상기 개구부 및 상기 판 모양의 부재의 상기 개구를 통하여 착탈이 자유롭게 및 전기적으로 접속되는 것을 특징으로 한다. 이 때, 상기 통 모양의 부재의 일단에서는, 상기 일단에 마련된 수나사부와, 상기 판 모양의 부재의 상기 개구에 마련된 암나사부가 나사 결합되고, 상기 통 모양의 부재의 타단에는 상기 케이블을 클램프하기 위한 클램프 부재가 설치되고, 상기 타단과 상기 클램프 부재가 나사 결합되는 것이 바람직하다.
이와 같은 본 발명의 X선 조사 시스템에서는, 커넥터는 케이블과 X선 조사 장치를 착탈이 자유롭게 접속하는 것이다. 따라서, 예를 들어 클램프 부재를 통 모양의 부재로부터 느슨하게 하고 또한 통 모양의 부재를 판 모양의 부재로부터 느 슨하게 한 후에 케이블을 X선 조사 장치로부터 떼어낼 수 있으며, 이에 의해 X선 조사 시스템에 있어서 X선 조사 장치만을 교환할 수 있다. 이 결과, X선 조사 장치의 수명과 관계없이, X선 조사 장치 이외의 부분, 즉 예를 들어 케이블이나 X선 제어 장치를 X선 조사 장치의 수명이 다한 후에도 그대로 계속 사용할 수 있다. 또한, X선 조사 장치의 교환을 X선관의 관구(管球)의 수명에 따라 행해도 되며, 이 경우에는 X선 조사 시스템에 있어서 X선 조사 장치 이외의 부분을 X선관의 관구의 수명에 관계없이 계속 사용할 수 있다.
또한, 통 모양의 부재는 커넥터를 포위하고 있으며, 통 모양의 부재의 일단은 판 모양의 부재의 개구에서 나사 결합되고, 통 모양의 부재의 타단은 케이블을 클램프하는 클램프 부재와 나사 결합된다. 이상의 구성에 의해, 판 모양의 부재, 통 모양의 부재, 클램프 부재에 있어서의 밀폐성을 유지할 수 있으며, 그 결과, 판 모양의 부재, 통 모양의 부재, 클램프 부재의 주변에서 가스의 유출입이 발생하는 것을 억제할 수 있다.
본 발명의 X선 조사 시스템에 있어서는, 상기 통 모양의 부재의 일단에는, 상기 판 모양의 부재와 해당 통 모양의 부재를 밀폐하기 위한 제1 씰 부재가 구비되어 있고, 상기 통 모양의 부재의 타단에는, 상기 클램프 부재와 해당 통 모양의 부재를 밀폐하기 위한 제2 씰 부재가 구비되어 있는 것이 바람직하다.
판 모양의 부재와 통 모양의 부재 사이에 제1 씰 부재를 구비하며, 또한 클램프 부재와 통 모양의 부재 사이에 제2 씰 부재를 구비함으로써, 판 모양의 부재, 통 모양의 부재, 클램프 부재에 있어서의 밀폐성을 더욱 높일 수 있으며, 그 결과, 판 모양의 부재, 통 모양의 부재, 클램프 부재의 주변에서 가스의 유출입이 발생하는 것을 보다 확실하게 억제할 수 있다.
본 발명의 X선 조사 시스템에 있어서는, 상기 커넥터는 커넥터 본체부 및 상기 접속 단자와 접속하는 측에서 상기 커넥터 본체부의 일부를 덮고 있는 외주부를 구비하고, 작업자에 의해 상기 외주부가 상기 커넥터 본체부의 다른 부분을 향하여 소정의 부분만큼 인장된 상태에서, 상기 커넥터 본체부가 상기 접속 단자에 접속되며, 또한 해당 접속 상태에 있어서 상기 제1 씰 부재의 존재에 의해 상기 외주부의 해당 인장된 상태가 유지되는 것이 바람직하다.
커넥터 본체부와 접속 단자가 접속된 상태에 있어서 외주부의 해당 인장된 상태가 유지되면, 커넥터를 접속 단자로부터 빼낼 때에, 작업자는 커넥터의 외주부를 본체부의 상기 다른 부분을 향하여 일단 인장하지 않아도 되게 된다. 이에 의해, 커넥터를 접속 단자로부터 빼낼 때의 작업성을 높일 수 있다.
또, 본 발명의 X선 조사 장치는 X선관과, 상기 X선관을 구동시키는 구동부와, 상기 X선관 및 상기 구동부를 수용하는 케이스와, 상기 케이스에 마련되고 상기 케이스 내에 가스를 도입하기 위한 가스 도입부와, 상기 케이스에 마련되고 상기 케이스 내의 가스를 배기하기 위한 가스 배기부를 구비하는 것을 특징으로 한다.
이와 같이 가스 도입부 및 가스 배기부를 마련함으로써, X선 조사 장치 내에 가스를 도입하며, 또한 X선 조사 장치 내의 가스를 외부로 배기할 수 있다. 여기서, 가스의 유량을 적절하게 컨트롤함으로써, X선 조사 장치 내의 압력을 X선 조사 장치 밖의 압력보다 높게 컨트롤할 수 있다. 이와 같이 X선 조사 장치 내를 양압(陽壓)으로 컨트롤함으로써, X선 조사 장치 밖의 가스가 X선 조사 장치 내에 침입하는 것을 방지하여 X선 조사 장치의 밀폐성을 높일 수 있다.
또, 외부로부터의 가스가 가스 도입부를 통하여 X선 조사 장치 내에 도입되며, 또한 X선 조사 장치 내의 가스가 가스 배기부를 통하여 외부로 배기되기 때문에, 해당 가스가 X선 조사 장치 내를 냉각하는 역할을 할 수도 있다.
또, 본 발명의 X선 조사 시스템은, 제1 기판에 레지스트 도포 처리를 실시하는 레지스트 도포 처리 장치와, 제2 기판에 현상 처리를 실시하는 현상 처리 장치와, 상기 레지스트 도포 처리 장치 및 상기 현상 처리 장치 중 적어도 한쪽 내에 마련되고 또한 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판 중 적어도 한쪽에 X선을 조사함으로써 해당 적어도 한쪽의 기판을 제전하는 X선 조사 장치와, 상기 X선 조사 장치를 제어하는 X선 제어 장치와, 상기 X선 조사 장치 및 상기 X선 제어 장치를 전기적으로 접속하는 케이블을 구비하는 X선 조사 시스템으로서, 상기 X선 조사 장치는, 상기 제1 기판 또는 상기 제2 기판에 X선을 조사하기 위한 X선관과, 상기 X선관을 구동시키는 구동부와, 상기 X선관 및 상기 구동부를 수용하고 개구부를 가지는 케이스와, 상기 케이스에 마련되고 상기 개구부에 대응하는 위치에 개구를 가지는 판 모양의 부재와, 상기 케이스에 마련되고 상기 케이스 내에 가스를 도입하기 위한 가스 도입부와, 상기 케이스에 마련되고 상기 케이스 내의 가스를 배기하기 위한 가스 배기부를 구비하고, 상기 케이블은, 해당 케이블의 일단에 마련되고, 해당 케이블의 일단과, 상기 구동부에 전기적으로 접속된 접속 단자를 착탈이 자유롭게 접 속하기 위한 커넥터와, 상기 커넥터를 포위하는 통 모양의 부재를 구비하며, 상기 구동부와 상기 케이블은, 상기 접속 단자 및 상기 커넥터에 의해, 상기 케이스의 상기 개구부 및 상기 판 모양의 부재의 상기 개구를 통하여 착탈이 자유롭게 및 전기적으로 접속되는 것을 특징으로 한다.
이와 같은 본 발명의 X선 조사 시스템에 의하면, 가스 도입부 및 가스 배기부를 마련함으로써, X선 조사 장치 내에 가스를 도입하고 또한 X선 조사 장치 내의 가스를 외부로 배기할 수 있다. 여기서, 가스의 유량을 적절하게 컨트롤함으로써, X선 조사 장치 내의 압력을 X선 조사 장치 밖의 압력, 즉 예를 들어 레지스트 도포 장치나 현상 처리 장치 내의 압력보다 높게 컨트롤할 수 있다. 이와 같이 X선 조사 장치 내를 양압으로 컨트롤함으로써, 레지스트 도포 장치나 현상 처리 장치 내의 가스가 X선 조사 장치 내에 침입하는 것을 방지하여 X선 조사 장치의 밀폐성을 높일 수 있다.
또한, 커넥터는 케이블과 X선 조사 장치를 착탈이 자유롭게 접속하는 것이다. 따라서, 예를 들어 클램프 부재를 통 모양의 부재로부터 느슨하게 하고 또한 통 모양의 부재를 판 모양의 부재로부터 느슨하게 한 후에 케이블을 X선 조사 장치로부터 떼어낼 수 있으며, 이에 의해 X선 조사 시스템에 있어서 X선 조사 장치만을 교환할 수 있다. 이 결과, X선 조사 장치의 수명과 관계없이, X선 조사 장치 이외의 부분, 즉 예를 들어 케이블, X선 제어 장치, 레지스트 도포 장치, 현상 처리 장치 등을 X선 조사 장치의 수명이 다한 후에도 그대로 계속 사용할 수 있다. 또한, X선 조사 장치의 교환을 X선관의 관구(管球)의 수명에 따라 행해도 되며, 이 경우 에는 X선 조사 시스템에 있어서 X선 조사 장치 이외의 부분을 X선관의 관구의 수명에 관계없이 계속 사용할 수 있다.
또, 본 발명의 X선 조사 시스템에 있어서는, 상기 통 모양의 부재의 일단에서는, 상기 일단에 마련된 수나사부와, 상기 판 모양의 부재의 상기 개구에 마련된 암나사부가 나사 결합되고, 상기 통 모양의 부재의 타단에는 상기 케이블을 클램프하기 위한 클램프 부재가 마련되고, 상기 타단과 상기 클램프 부재가 나사 결합되는 것을 구비하는 것이 바람직하다.
이 경우에는, 통 모양의 부재는 커넥터를 포위하고 있으며, 통 모양의 부재의 일단은 판 모양의 부재의 개구에서 나사 결합되고, 통 모양의 부재의 타단은 케이블을 클램프하는 클램프 부재와 나사 결합된다. 이상의 구성에 의해, 판 모양의 부재, 통 모양의 부재, 클램프 부재에 있어서의 밀폐성을 유지할 수 있으며, 그 결과, 판 모양의 부재, 통 모양의 부재, 클램프 부재의 주변에서 가스의 유출입이 발생하는 것을 억제할 수 있다. 따라서, X선 조사 장치 내의 가스가 X선 조사 장치로부터 나와 레지스트 도포 장치나 현상 처리 장치 내에 흘러가는 것이나, 레지스트 도포 장치나 현상 처리 장치 내의 가스가 X선 조사 장치 내에 들어오는 것을 억제할 수 있다.
또, 외부로부터의 가스가 가스 도입부를 통하여 X선 조사 장치 내에 도입되며, 또한 X선 조사 장치 내의 가스가 가스 배기부를 통하여 외부로 배기되기 때문에, 해당 가스가 X선 조사 장치 내를 냉각하는 역할을 할 수도 있다.
본 발명의 X선 조사 시스템에 있어서는, 상기 통 모양의 부재의 일단에는, 상기 판 모양의 부재와 해당 통 모양의 부재를 밀폐하기 위한 제1 씰 부재가 구비되어 있고, 상기 통 모양의 부재의 타단에는, 상기 클램프 부재와 해당 통 모양의 부재를 밀폐하기 위한 제2 씰 부재가 구비되어 있는 것이 바람직하다.
판 모양의 부재와 통 모양의 부재 사이에 제1 씰 부재를 구비하고, 또한 클램프 부재와 통 모양의 부재 사이에 제2 씰 부재를 구비함으로써, 판 모양의 부재, 통 모양의 부재, 클램프 부재에 있어서의 밀폐성을 더욱 높일 수 있으며, 그 결과, 판 모양의 부재, 통 모양의 부재, 클램프 부재의 주변에서 가스의 유출입이 발생하는 것을 보다 확실히 억제할 수 있다. 따라서, X선 조사 장치 내의 가스가 X선 조사 장치로부터 나와 레지스트 도포 장치나 현상 처리 장치 내에 흘러가는 것이나, 레지스트 도포 장치나 현상 처리 장치 내의 가스가 X선 조사 장치 내에 들어오는 것을 보다 확실히 억제할 수 있다.
본 발명의 X선 조사 시스템에 있어서는, 외부의 장치로부터의 상기 가스를 상기 가스 도입부를 통하여 상기 케이스 내에 도입하기 위한 가스 도입관과, 상기 케이스 내의 상기 가스를 상기 가스 배기부를 통하여 외부로 배기하기 위한 가스 배기관을 추가로 구비하는 것이 바람직하다.
가스 도입관은 예를 들어 외부의 가스 공급 수단으로부터의 가스를 가스 도입부를 통하여 X선 조사 장치 내에 도입하기 위한 것이며, 가스 배기관은 X선 조사 장치 내의 가스를 가스 배기부를 통하여 예를 들어 외부의 가스 회수 수단으로 배기하기 위한 것이다. 이들 가스 도입관 및 가스 배기관은 가스 도입부 및 가스 배기부와 함께, 해당 가스를 이용한 공랭(空冷)을 위한 수단으로도 이용될 수 있다.
본 발명에 의하면, X선 조사 장치의 밀폐성을 높이는 것이 가능한 X선 조사 시스템 및 X선 조사 장치를 제공할 수 있다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명에 관한 X선 조사 장치 및 X선 조사 시스템의 바람직한 실시형태를 상세하게 설명한다. 또한, 도면의 설명에 있어서 동일한 요소에는 동일한 부호를 부여하고, 중복되는 설명을 생략한다.
[제1 실시형태: X선 조사 장치(1) 및 X선 조사 시스템(100)]
우선, 본 발명의 제1 실시형태에 관련된 X선 조사 장치(1) 및 X선 조사 시스템(100)에 대하여, 도면을 참조하면서 설명한다.
도 1~도 3에 나타내는 바와 같이, X선 조사 장치(1)는 박스 타입으로 이루어진 보호 케이스(2)(케이스)를 가지며, 이 보호 케이스(2)는 열전도성이 양호한 재료로 이루어져 3 분할되어 있다. 즉, 보호 케이스(2)는 스테인리스로 이루어진 사각기둥 형상의 케이스 본체부(4)와, 알루미늄으로 이루어진 평판 모양의 전면 패널(5)과, 알루미늄으로 이루어진 평판 모양의 배면 패널(6)로 이루어져 3 분할형의 박스를 구성하고 있다. 그리고, 이 보호 케이스(2)에 있어서, 그 전체 길이가 약 100㎜이며, 전면(前面) 패널(5)의 두께는 약 10㎜ 정도로 설정되어 있다. 따라서, 전면 패널(5)의 두께는 전체 길이의 약 1/10에 이르고 있어, 전면 패널(5)의 두께를 크게 함으로써 높은 방열성을 기대할 수 있다. 또한, 보호 케이스(2)에는 알루미늄으로 이루어진 장착용 베이스(7)가 나사 고정되어 있다.
이와 같은 보호 케이스(2) 내에는, 연X선을 발생시켜 정전기의 제거 등에 이용되는 X선관(8)이 배치되어 있다. 이 X선관(8)은, 도 4에 나타내는 바와 같이, 코바(kovar) 글라스제의 원통모양 밸브(9)를 가지며, 이 밸브(9)의 말단에는 배기관(10)을 가진 스템(11)이 형성되고, 밸브(9)의 개방단에는 원통모양을 이루는 코바 금속제의 출력창 유지부(12)가 융착 접속되어 있다. 또, 이 출력창 유지부(12)에는 그 중앙 개구(12a)를 막도록 원판 모양의 출력창(13)이 Ag 납땜에 의해 고정되고, 출력창(13)의 내면측에는 전자빔의 충돌에 의해 X선을 발생시키는 타깃(14)이 증착되어 있다.
또한, 스템(11)에는 2개의 스템 핀(15, 15)이 고정되고, 밸브(9) 내에는 소정의 전압으로 전자빔을 방출하는 캐소드로서의 필라멘트(16)가 마련되며, 이 필라멘트(16)는 스템 핀(15)의 선단에 고정되어 있다. 또, 한쪽의 스템 핀(15)에는, 원통모양을 이루는 스테인리스제의 포커스(17)가 고정되어 있다. 그리고, 이 출력창 유지부(12)는 코바 금속에 의해 형성되어 있기 때문에 열전도성 및 도전성이 양호한 동시에, 어스(earth)된 보호 케이스(2)에 전기적으로 접속되기 때문에 접지 전위로 되어 있어, 그 결과로서, 타깃(14)도 접지 전위로 유지되고 있다.
따라서, X선관(8)의 스템 핀(15)에, 후술하는 전압 발생부(21)로부터 -9.5kV의 고전위를 공급하고, 접지 전위의 타깃(14)을 향하여 필라멘트(16)로부터 전자빔을 조사한다. 이 때, 전자빔의 충돌에 의해 타깃(14)으로부터 연X선이 방사되고, 이 X선이 출력창(13)으로부터 외부로 방출된다. X선관(8)을 이와 같이 구성함으로써, 밸브(9)를 직경 15㎜, 길이 30㎜ 정도의 크기로 할 수 있어, 전체 길이가 40㎜ 정도인 소형의 X선관(8)을 가능하게 하고 있다. 또한, 사용시에 있어서, 소형의 X선관(8)의 타깃(14)은 고온으로 되어 있어, X선의 발생 효율의 유지나 타깃(14)의 파손 방지를 위해서 타깃(14)의 열을 외부로 적절히 내보낼 필요가 있다.
또한, 도 1 및 도 2에 나타내는 바와 같이, 보호 케이스(2) 내에는 구동부(35)가 수용되어 있다. 구동부(35)는 회로 기판(20), 회로 기판(20) 위에 탑재된 전압 발생부(21), 접속 단자(23) 등을 포함한다. 전압 발생부(21)는 -9.5kV의 고전위를 스템 핀(15)에 공급하여 X선관(8)을 구동시키기 위한 것이다. 먼저, 전압 발생부(21) 내의 저전압 발생 부위에서 -1kV까지 전위를 올리고, 다음에 고전압 발생 부위에서 -9.5kV까지 전위를 올리고 있다. 회로 기판(20)은, 나사를 통하여 강철제의 베이스 플레이트(22)에 고정되어 있다. 그리고, 전압 발생부(21)의 고전압 발생 부위로부터 연장된 배선(21a)은 X선관(8)의 스템 핀(15)에 선으로 연결되고, X선관(8)의 밸브(9)에는 스템 핀(15)을 덮는 원통모양의 캡(19)이 고정되어 있다. 또한, 캡(19) 내에는 배선(21a)과 스템 핀(15)의 결합 후, 실리콘 수지(P)가 충전된다(도 6 참조). 또한, 회로 기판(20) 위에는, CPU(61)(도 7 참조)를 내장한 헤드 회로(60)(도 7 참조)가 마련되어 있어, 헤드 회로(60)로부터의 제어 신호는 소정의 배선을 통하여 전압 발생부(21)로 출력된다.
이 베이스 플레이트(22)의 전단에는 L자 모양으로 만들어진 제1 장착편(22a)이 일체적으로 마련되고, 베이스 플레이트(22)의 후단에도 L자 모양으로 만들어진 제2 장착편(22b)이 일체적으로 마련되어 있다. 그리고, 제1 장착편(22a)은 전압 발생부(21)를 보호 케이스(2)에 고정하기 위해서 이용되며, 제2 장착편(22b)은 회 로 기판(20) 위의 저전압 발생 부위에 선으로 연결된 접속 단자(23)의 장착에 이용된다. 예를 들어, 제1 장착편(22a)은, 멈춤 나사(25)를 통하여 전면 패널(5)에 압착시키도록 고정되고, 접속 단자(23)는 조임 너트(24)를 통하여 제2 장착편(22b)에 고정되며, 배면 패널(6)은 나사(28)를 통하여 제2 장착편(22b)에 압착시키도록 고정되어 있다. 이와 같이, 열전도성이 양호한 알루미늄으로 이루어진 평판 모양의 전면 패널(5)과 배면 패널(6)은 강철제의 베이스 플레이트(22)를 통하여 연결되어 있기 때문에, 배면 패널(6)에서도 방열을 가능하게 하여 보호 케이스(2)에 의한 높은 방열성을 실현하고 있다.
또한, 전술한 X선관(8)을 보호 케이스(2)에 고정할 때에, X선관(8)은 알루미늄으로 이루어진 전면 패널(5)에 고정된다. 도 1 및 도 5에 나타내는 바와 같이, 이 전면 패널(5)에는 X선관(8)의 출력창 유지부(12)가 삽입되는 원주모양의 개구부(26)가 형성되고, 이 개구부(26)를 만들어 내는 벽면(26a)에는 안쪽을 향하여 환상(環狀)의 돌기부(27)가 형성되어 있다. 그리고, 이 돌기부(27)에는, 출력창 유지부(12)의 선단에 일체적으로 마련된 환상의 플랜지부(18)가 맞부딪힌다.
또한, 개구부(26)의 벽면(26a)에 암나사부(29)가 형성되고, 이 암나사부(29)에는 외(外)나사(30a)를 가진 고정 너트(30)가 나사 결합된다. 이 고정 너트(30)는 열전도성이 양호한 황동으로 이루어진 동시에, 개구부(26) 내에 삽입되는 대략 원통 형상의 동부(31)와, 육각 너트를 형성하는 육각 헤드부(32)로 이루어진다.
따라서, 전면 패널(5)의 개구부(26) 내에 X선관(8)의 출력창 유지부(12)를 삽입한 상태에서, 암나사부(29)에 고정 너트(30)의 외나사부(30a)를 나사 결합시키 도록 고정 너트(30)를 단단히 조여 간다. 그리고, 고정 너트(30)를 충분히 조임으로써, X선관(8)의 출력창 유지부(12)에 마련된 환상의 플랜지부(18)가, 전면 패널(5)의 돌기부(27)에 맞부딪힌다. 그 결과로서, 고정 너트(30)의 선단(30b)에 의해 플랜지부(18)가 돌기부(27)를 향하여 압압되어 전면 패널(5)에 X선관(8)이 고정되게 된다(도 6 참조). 따라서, 이와 같은 고정 너트(30)를 이용함으로써, X선관(8)을 보호 케이스(2) 내에서 간단하고 또한 확실하게 고정시킬 수 있다. 게다가, 고정 너트(30)는 열전도성이 좋은 재질로 형성되어 있기 때문에, X선관(8)의 출력창 유지부(12)로부터 전면 패널(5)로의 열의 전달성을 높일 수 있어, 섭씨 100도 가까워진 출력창 유지부(12)의 열을 내보내기 쉽게 함으로써 X선의 발생 효율의 유지나 타깃(14)의 파손이 방지된다.
또, 고정 너트(30)의 내벽면에는 안쪽을 향하여 돌출하는 위치 결정면(30c)이 형성되고, 이 위치 결정면(30c)이 출력창 유지부(12)의 외면(外面)(12a)에 접촉한다. 이에 의해, 고정 너트(30)에 의한 X선관(8)의 위치 결정이 간단하고 또한 확실하게 달성되며, 게다가 X선관(8)에 마련한 출력창 유지부(12)로부터 전면 패널(5)로의 열의 전달성을 더욱 높일 수 있다. 따라서, X선의 발생 효율의 유지나 X선관(8)에 있어서의 타깃(14)의 파손 방지를 더욱 높일 수 있게 된다.
또, 고정 너트(30)의 선단(30b)과 출력창 유지부(12)의 플랜지부(18)에서 고무 링(34)을 끼워 넣으면, 고정 너트(30)의 조임에 의해 플랜지부(18)는 돌기부(27)에 대하여 적절한 압압력(押壓力)을 가지고 확실하게 고정된다. 또, 전술한 고정 너트(30)를 채용하면, 전면 패널(5)의 두께는 필연적으로 커지지만, 그에 따 라, 전면 패널(5)에서의 높은 방열성을 기대할 수 있다. 또한, 강철제의 베이스 플레이트(22)를 중개로 하여, 열전도성이 양호한 알루미늄으로 이루어진 전면 패널(5)과 배면 패널(6)을 열적으로 연결시키고 있기 때문에, 배면 패널(6)에서도 방열을 가능하게 하여 보호 케이스(2)에 의한 높은 방열성이 실현된다.
도 1~도 3을 다시 참조하면, 알루미늄제의 판 모양의 부재(36)가 배면 패널(6)에 복수의 나사(37)로 나사 고정되어 있다. 배면 패널(6) 및 판 모양의 부재(36)는 각각 대응하는 위치에 개구부(6a) 및 개구(36a)를 가지고 있으며, 접속 단자(23)가 이들 개구부(6a) 및 개구(36a)에 임하는 위치에서 고정되어 있다.
배면 패널(6)은 개구부(6b)를 추가로 가지고 있으며, 가스 도입부(38)가 이 개구부(6b)에 위치된다. 가스 도입부(38)는 대략 통 모양의 형상을 하고 있으며, 보호 케이스(2) 내에 가스를 도입하기 위한 것이다. 또, 배면 패널(6)은 개구부(6c)를 추가로 가지고 있으며, 가스 배기부(39)가 이 개구부(6c)에 위치된다. 가스 배기부(39)는 대략 통 모양의 형상을 하고 있으며, 보호 케이스(2) 내의 가스를 외부로 배기하기 위한 것이다. 본 실시형태에서는, 개구부(6b, 6c)에 각각 암나사부(6d, 6e)가 형성되어 있으며, 가스 도입부(38) 및 가스 배기부(39)의 각각의 외주면의 일단에 형성된 수나사부(38a, 39a)가 각각 암나사부(6d, 6e)에 나사 결합된다. 이에 의해, 가스 도입부(38) 및 가스 배기부(39)가 개구부(6b, 6c)에서 각각 배면 패널(6)에 고정된다. 또, 가스 도입 튜브(40)로부터의 예를 들어 질소 가스는 가스 도입부(38)를 통하여 보호 케이스(2) 내에 도입되고, 또한 보호 케이스(2) 내의 해당 질소 가스는 가스 배기부(39) 및 가스 배기 튜브(41)를 통하여 외 부로 배기된다.
도 1~도 3을 다시 참조하면, 케이블(42)은 케이블 본체(43), 커넥터(44), 통 모양의 부재(45), 제1 개스킷(46)(제1 씰 부재), 제2 개스킷(47)(제2 씰 부재), 캡 콘(48)(클램프 부재)을 구비한다. 커넥터(44)는 케이블 본체(43)의 X선 조사 장치(1)측의 일단에 마련되어, 케이블 본체(43)의 일단과 접속 단자(23)를 개구부(6a) 및 개구 (36a)의 위치에서 착탈이 자유롭게 접속하기 위한 것이다. 커넥터(44)를 통하여 케이블 본체(43)와 접속 단자(23)가 접속됨으로써, X선 조사 장치(1)와 후술하는 제어부(70)(도 7 참조)가 전기적으로 접속되게 된다.
알루미늄제의 통 모양의 부재(45)는 통 모양의 형상을 함으로써 커넥터(44)를 포위하고 있다. 이 때문에, 통 모양의 부재(45)는 커넥터(44)를 보호하기 위한 부재로서의 역할을 다할 수 있다. 통 모양의 부재(45)의 일단에는 수나사부(45a)가 마련되어 있으며, 이 수나사부(45a)는 판 모양의 부재(36)의 개구(36a)를 만들어 내는 벽면(36b)에 형성된 암나사부(36c)와 나사 결합된다. 또, 이 벽면(36b)에는 안쪽을 향하여 돌기부(36d)가 마련되어 있으며, 통 모양의 부재(45)의 단부(端部)(45b)가 후술하는 제1 개스킷(46)을 통하여 이 돌기부(36d)에 맞부딪히게 될 때까지, 수나사부(45a)와 암나사부(36c)가 나사 결합되는 것에 의해, 판 모양의 부재(36)와 통 모양의 부재(45) 사이에 있어서의 밀폐성을 유지할 수 있다.
여기서, 제1 개스킷(46)을 판 모양의 부재(36)와 통 모양의 부재(45) 사이, 즉 판 모양의 부재(36)의 돌기부(36d)와 통 모양의 부재(45)의 단부(45b) 사이에 추가로 마련함으로써, 판 모양의 부재(36)와 통 모양의 부재(45) 사이에 있어서의 밀폐성을 더욱 높일 수 있다. 이 제1 개스킷(46)은 예를 들어 합성고무로 이루어진 것이다.
또, 커넥터(44)로서, 도 1에 나타내는 바와 같이, 커넥터 본체부(44b) 및 접속 단자(23)와 접속하는 측에서 커넥터 본체부(44b)의 일부를 덮고 있는 외주부(44a)를 구비하고 있는 것을 이용할 수 있다. 이와 같은 커넥터(44)를 이용하여, 작업자는 외주부(44a)를 손가락으로 집고 커넥터 본체부(44b)의 다른 부분(외주부(44a)로 덮여있지 않은 부분)을 향하여 예를 들어 거리 d1만큼 조금 인장하고 나서 접속 단자(23)에 대한 착탈을 실시할 수 있다. 이 경우에는, 도 2, 도 3, 도 6에 나타내는 바와 같이, 커넥터(44)가 접속 단자(23)에 접속된 상태에 있어서, 제1 개스킷(46)의 존재에 의해, 커넥터(44)의 외주부(44a)가 항상 커넥터 본체부(44b)의 다른 부분을 향하여 해당 거리 d1만큼 인장되어 있는 상태로 되어 있다. 이것은, 커넥터(44)가 접속 단자(23)에 접속할 때에, 예를 들어, 외주부(44a)의 선단 부분(44c)이 제1 개스킷(46)에 맞닿지만, 외주부(44a)가 인장된 정도(상기 거리 d1)와 제1 개스킷(46)의 두께의 정도(도 1에 나타내는 d2)가 예를 들어 거의 일치할 경우에는, 선단 부분(44c)이 제1 개스킷(46)에 맞닿은 후에, 상기 인장된 외주부(44a)가 작업자의 손으로부터 떨어진 후에도 해당 제 1 개스킷(46)의 존재에 의해 원래대로 돌아가지 않게 되기 때문이다. 이 때문에, 커넥터(44)를 접속 단자(23)로부터 빼낼 때에, 작업자는 커넥터(44)의 외주부(44a)를 커넥터 본체부(44b)의 다른 부분을 향하여 일단 인장시키지 않아도 되게 된다. 이에 의해, 커넥터(44)를 접속 단자(23)로부터 빼낼 때의 작업성을 높일 수 있다.
통 모양의 부재(45)의 타단측에는, 케이블 본체(43)를 클램프하기 위한 캡 콘(48)이 구비되어 있다. 캡 콘(48)은 본체 부재(49), 슬리브(부시)(50), 조임부(51)의 3개의 부재로 이루어진다. 캡 콘(48)의 일례로서, 예를 들어 일본 에이브이시 주식회사의 「단족형(短足型) 나일론 슈퍼 그랜드(A형) 70-015」를 사용할 수 있다.
캡 콘(48)의 본체 부재(49)는 양단에 수나사(49a, 49b)가 각각 형성되어 있으며, 이 중 수나사(49a)가 통 모양의 부재(45)의 타단에 마련된 암나사(45c)와 나사 결합된다. 이에 의해, 캡 콘(48)과 통 모양의 부재(45) 사이에 있어서의 밀폐성을 유지할 수 있다. 여기서, 제2 개스킷(47)을 캡 콘(48)의 본체 부재(49)와 통 모양의 부재(45) 사이에 추가로 마련함으로써, 캡 콘(48)과 통 모양의 부재(45) 사이에 있어서의 밀폐성을 더욱 높일 수 있다. 이 제2 개스킷(47)은 예를 들어 합성고무로 이루어진 것이다.
또, 슬리브(50)는 내부에 마련된 공동(空洞)에 케이블 본체(43)를 통과시킨 상태에서 본체 부재(49)의 공동에 넣어진다. 그리고, 조임부(51)가 슬리브(50)를 통하여 본체 부재(49)와 나사 결합되고, 슬리브(50)는 케이블(42)에 껴들어가서 고정된다. 또한, 조임부(51)에는 암나사(51a)가 형성되어 있으며, 이 암나사(51a)가 본체 부재(49)의 수나사(49b)와 나사 결합된다.
이상에서 설명한 바와 같이, 커넥터(44)를 포위하고 있는 통 모양의 부재(45)가 판 모양의 부재(36)와 제1 개스킷(46)을 통하여 나사 결합되고, 또한 통 모양의 부재(45)가 캡 콘(48)과 제2 개스킷(47)을 통하여 나사 결합되며, 또한 슬 리브(50)가 케이블 본체(43)에 반경 방향으로 껴들어가서, 판 모양의 부재(36), 통 모양의 부재(45), 캡 콘(48)에 있어서의 밀봉 상태를 만들어 내고 있어, X선 조사 장치(1)의 내부에 도입한 가스(예를 들어 질소 가스)가 커넥터 부분으로부터 외부로 누출되기 어려워진다.
또, 캡 콘(48)을 느슨하게 하고 나서 통 모양의 부재(45)를 판 모양의 부재(36)로부터 때어냄으로써, 커넥터(44)를 접속 단자(23)로부터 뺄 수 있다. 이에 의해, X선 조사 장치(1)를 포함하는 장치(예를 들어 도 7을 참조하면서 후술하는 X선 조사 시스템(100)이나, 도 8 및 도 9를 참조하면서 후술하는 코터/디벨로퍼 장치(200))에 있어서, X선 조사 장치(1)만을 교환할 수 있다. 이 결과, X선 조사 장치(1)의 수명과 관계없이 X선 조사 장치(1) 이외의 부분을 그대로 계속 사용할 수 있다. 또한, X선 조사 장치(1)의 교환을 X선관(8)의 관구의 수명에 따라 행해도 되며, 이 경우에는 X선관(8)의 관구의 수명에 관계없이 X선 조사 장치(1) 이외의 부분을 그대로 계속 사용할 수 있다.
또, 본 실시형태에 있어서는, 전면 패널(5)과 케이스 본체(4) 사이, 배면 패널(6)과 케이스 본체(4) 사이, 배면 패널(6)과 판 모양의 부재(36) 사이, 케이스 본체(4)에 전원부를 고정하기 위한 나사부(52)와 케이스 본체(4) 사이에는, 코킹재를 도포함으로써 밀봉성을 유지하고 있다. 또한, 도 2에서는, 코킹재를 도포하는 부분을 부분 A라고 표시하고 있다.
도 7에는, X선 조사 장치(1) 및 그 주변 장치의 구성을 나타낸다. 이 도 7에 나타내는 바와 같이, X선 조사 장치(1)는 접속 단자(23)(도 1~도 3 참조) 및 케 이블(42)(도 1~도 3 참조)을 통하여 제어부(70)(X선 제어 장치)에 접속되고, 제어부(70)는 액세서리(80)에 접속된다. 제어부(70)는, X선 조사 장치(1)의 제어를 위해서 X선 조사 장치(1)의 유저에 의해 사용되는 것이다. 또, 액세서리(80)는 X선 조사 장치(1) 및 제어부(70)의 관리회사에 의해 사용된다. 이들 X선 조사 장치(1), 케이블(42), 제어부(70), 액세서리(80)는 X선 조사 시스템(100)을 구성한다.
X선 조사 장치(1)에서는 전압 발생부(21)를 통하여(도 2 참조) X선관(8)에 헤드 회로(60)의 CPU(61)가 접속되어 있고, 이 CPU(61)는 전압 발생부(21)에 의한 X선관(8)에 대한 통전 시간을 감시하는 것으로, X선관(8)에 있어서의 X선의 조사 시간(즉, X선관(8)의 동작시간)을 계측하는 적산(積算)한다. 적산된 X선관 동작 적산 시간은 X선 조사 장치(1)의 제조번호, 제조연월일, 검사자명, X선 조사 장치(1)에 고유의 코드 등의 정보와 함께, CPU(61)에 의해서 헤드 회로(60) 내의 도시하지 않는 EEPROM(Electrically Erasable and Progra㎜able ROM)에 기억된다.
제어부(70)에는 CPU(71)와 X선관(8)의 동작 상태를 나타내는 모니터 등(72)이 설치되어 있다. CPU(71)는 제어부(70)의 동작 시간을 계측하여 적산한다. 적산된 제어부 동작 적산 시간은, X선 조사 장치(1)의 제조번호, 제조연월일, 검사자명, X선 조사 장치(1)에 고유의 코드 등의 정보와 함께, CPU(71)에 의해서 제어부(70) 내의 도시하지 않는 EEPROM에 기억된다.
액세서리(80)에는, 헤드 회로(60)의 CPU(61) 및 제어부(70)의 CPU(71)를 일괄 관리하는 CPU(81)와, 정보를 표시하는 표시부(82)와, 정보를 입력하기 위한 키 보드 등으로 구성된 입력부(83)가 마련되어 있다. 도 7과 같이, X선 조사 장치(1), 제어부(70) 및 액세서리(80)를 접속함으로써, 관리회사의 작업원은, X선 조사 장치(1)의 EEPROM에 기억된 정보 및 제어부(70)의 EEPROM에 기억된 정보를 표시부(82)에 표시시킬 수 있으며, 이들 정보를 입력부(83)로부터 입력한 정보에 의해 고쳐 쓸 수 있다.
예를 들어, X선 조사 장치(1) 만을 교환하는 경우, 관리회사의 작업원은 제어부(70)의 EEPROM에 기억된 교환 전의 X선 조사 장치(1)의 제조번호, 제조연월일, 검사자명 및 교환 전의 X선 조사 장치(1)의 고유 코드의 정보를 새로운 X선 조사 장치(1)의 제조번호, 제조연월일, 검사자명 및 새로운 X선 조사 장치(1)의 고유 코드의 정보로 고쳐 쓸 수 있다.
또, 관리회사의 작업원은, 헤드 회로(60)의 CPU(61)에 의해 적산된 X선관(8)의 동작 적산 시간 및 제어부(70)의 CPU(71)에 의해 적산된 제어부(70)의 동작 적산 시간을 표시부(82)에 표시시킬 수 있어 X선관(8) 및 제어부(70)의 동작 적산 시간을 정확하게 파악할 수 있다. 특히, X선관(8)은 수명을 가지는 제품이기 때문에, X선관(8)의 동작 적산 시간을 정확하게 파악함으로써, X선 조사 장치(1)의 제품 관리를 적절하게 할 수 있다고 하는 이점이 있다.
[제2 실시형태: 코터/디벨로퍼 장치(200)]
계속해서, 본 발명의 제2 실시형태에 관련되는 코터/디벨로퍼 장치(200)(X선 조사 시스템)에 대하여 설명한다.
<코터/디벨로퍼 장치(200)의 구성>
본 발명의 제2 실시형태에 관련된 코터/디벨로퍼 장치(200)를 도 8에 나타낸다. 코터/디벨로퍼 장치(200)는 복수의 처리 유니트를 접속하여 일관된 처리를 가능하게 한 장치로서, 노광기(250), 타이틀러(260) 및 엣지 노광기(270)와 접속하고, 포토리소그래피 공정에 있어서 레지스트 도포전 세정으로부터 레지스트 도포· 노광· 현상까지를 연속하여 실시할 수 있도록 하는 것이다. 또한, 여기서는 복수의 처리 유니트를 접속한 전체의 시스템을 본 발명의 X선 조사 시스템과 관련된 코터/디벨로퍼 장치(200)로 하고 있으나, 각 처리 유니트를 각각 본 발명의 X선 조사 시스템이라고 인식해도 되며, 또, 각 처리 유니트의 주요한 처리부를 각각 본 발명의 X선 조사 시스템이라고 인식할 수도 있다. 또, 노광기(250) 등도 각각 본 발명의 X선 조사 시스템이다.
코터/디벨로퍼 장치(200)는 주로 인덱서부(202), 세정 유니트(210), 탈수 베이크 유니트(220a, 220b), 레지스트 도포 유니트(230), 프리베이크 유니트(240a, 240b), 현상 유니트(280) 및 포스트베이크 유니트(290a, 290b), 공랭 유니트(299)의 각 처리부와, 선회 로봇(204a~204e)을 구비하고 있다. 인덱서부(202)로부터 노광기(250)까지의 가는 라인에는, 세정 유니트(210), 포스트베이크 유니트(290b), 탈수 베이크 유니트(220a), 레지스트 도포 유니트(230), 프리베이크 유니트(240a) 등이 배치된다. 노광기(250)로부터의 돌아오는 라인에는, 프리베이크 유니트(240b), 현상 유니트(280), 탈수 베이크 유니트(220b), 포스트베이크 유니트(290a), 공랭 유니트(299) 등이 배치된다. 또, 선회 로봇(204e)의 근방에는, 노광기(250)에 대하여 기판을 주고받을 때의 수수(授受) 장소 혹은 일시적인 대피 장 소가 되는 버퍼부(208a~208c)가 마련되어 있다. 이 코터/디벨로퍼 장치(200)는 유니 카세트 방식이며, 인덱서부(202)에 얹어 놓여진 카세트(203)로부터 유리 기판(이하, 「기판」이라고 한다.)을 꺼내 각 처리부로 보내고, 각 처리 공정을 끝낸 기판을 같은 카세트(203)에 수납한다. 카세트(203)로부터의 꺼냄 및 카세트(203)에 대한 수납은, 기판을 유지하여 선회 가능한 암을 구비하여 카세트(203)의 열을 따라서 이동 가능한 인덱서 로봇(202a)에 의해서 실시한다.
세정 유니트(210)는 연속매엽식의 처리부으로서, 반입부(212), 세정부(213), 물방울 제거부(214) 및 반출부(215)로 이루어진다. 또, 반입부(212)의 상부에는 UV 오존 세정실(211)이 마련되어 있다. 즉, 세정 유니트(210)의 위에 UV 오존 세정실(211)이 겹쳐져 있다. UV 오존 세정실(211)로부터 반입부(212)까지는 인덱서 로봇(202a)에 의해 기판을 반송한다. 반입부(212)로부터 반출부(215)까지는, 컨베이어에 의해서 기판을 반송하면서, 세정이나 물방울 제거 등의 처리를 실시한다. 세정부(213)에서는, 순수한 물 혹은 약액을 이용한 브러시, 초음파, 고압 스프레이 등에 의한 세정이 이루어진다. 또한, 컨베이어는 클린 룸 내에 대응한 발진성이 적은 롤러 컨베이어를 채용하고 있다.
탈수 베이크 유니트(220a, 20b)는, 정지식의 가열 처리실 및 냉각 처리실, 밀착 강화실, 컨베이어실, 버퍼실, 통과실이 다단으로 쌓아 올려진 유니트이다. 레지스트 도포 유니트(230)는 매엽식의 처리부로서, 반입부(231), 스핀 코터부(232), 레벨링 처리부(233), 엣지 린스부(234) 및 반출부(235)로 구성된다. 반입부(231)로부터 반출부(235)까지는, 기판을 인접하는 처리부에 차례차례로 보내 가는 슬라이더(205a~205d)에 의해서 기판을 반송한다.
프리베이크 유니트(240a, 240b)는 정지식의 가열 처리실 및 냉각 처리실, 컨베이어실, 통과실이 다단으로 쌓아 올려진 것이다. 현상 유니트(280)는 연속매엽식의 처리부이며, 반입부(281), 현상부(282), 수세부(水洗部)(283), 건조부(284) 및 반출부(285)로 이루어진다. 반입부(281)로부터 반출부(285)까지는, 컨베이어에 의해서 기판을 수평 방향으로 반송한다. 포스트베이크 유니트(290a, 290b)는, 정지식의 가열 처리실 및 냉각 처리실, 컨베이어실, 버퍼실, 통과실이 다단으로 쌓아 올려진 유니트이다.
선회 로봇(204a~204e)은 선회할 수는 있으나 수평 방향으로 이동하는 기구는 가지고 있지 않는, 이른바 클러스터 타입의 로봇이다. 슬라이더(205a~205d)는 직사각형 운동에 의해 기판의 위치를 한 방향에 대하여 소정 거리만큼 슬라이드시키는 것이며, 레지스트 도포 유니트(230)의 각부 사이에 마련되어 있다.
<코터/디벨로퍼 장치(200)의 기판 처리>
다음에, 코터/디벨로퍼 장치(200)에 의한 기판의 처리에 대하여, 순서대로 설명한다. 인덱서부(202)에 있어서 인덱서 로봇(202a)에 의해 카세트(203)로부터 꺼내진 기판은, 우선, UV 오존 세정실(211)에 옮겨져서 자외선의 조사에 의해서 표면의 유기 오염물이 산화 분해된다. 이 처리를 끝낸 기판은, 인덱서 로봇(202a)에 의해서 반입부(212)로 옮겨진다. 기판은 반입부(212)로부터 세정부(213)로 옮겨져 롤 브러시에 의한 스크러브 세정, 초음파 스프레이 세정 및 고압 제트 스프레이에 의한 순수한 물로의 세정이 이루어진다. 여기서의 세정은, 예를 들어 알칼리 세정 액 등을 이용하여 처리하는 것이어도 된다. 이 후, 기판은, 물방울 제거부(214)에 있어서, 에어 나이프에 의해 표면에 잔류하는 순수한 물의 물방울이 제거된다.
세정 유니트(210)에서의 처리를 끝내 반출부(215)로 옮겨진 기판은, 도시하지 않는 컨베이어에 의해 포스트베이크 유니트(290b) 중을 통과하여 탈수 베이크 유니트(220a)에 들어간다. 탈수 베이크 유니트(220a, 220b)에 있어서는, 기판은 선회 로봇(204a)에 의해서 각 처리실로 옮겨진다. 탈수 베이크 유니트(220a)의 컨베이어실로 반송되어 온 기판은 가열실로 옮겨진다. 여기서 기판은, 핫 플레이트에 의해서 가열되어 수분이 제거된다. 또한, 이 때, 후단의 노광기(250)에 있어서의 마스크 체인지나 스핀 코터부(232)의 장치 세정 등을 실시할 때 등에 있어서는, 기판은 적절히 버퍼실에서 일시 보관된 후, 가열실로 옮겨진다. 다음에 기판은 밀착 강화실로 옮겨진다. 밀착 강화실에서는, 레지스트막과 기판의 밀착성 향상을 목적으로 하여, 기판에 대하여 가열을 실시하면서 HMDS를 증기상으로 하여 도포한다. 이 후, 기판은, 다시 냉각실에 옮겨져서 쿨 플레이트에 의해서 냉각된다. 이와 같이 레지스트 도포 처리의 사전 처리로서 탈수 베이크를 한 기판은, 레지스트 도포 유니트(230)의 반입부(231)로 옮겨진다.
레지스트 도포 유니트(230)에서는, 우선 슬라이더(205a)에 의해서 기판이 스핀 코터부(232)로 옮겨져 기판에 대하여 레지스트의 도포를 한다. 스핀 코터부(232)는 레지스트 공급계, 스핀 모터, 컵 등에 의해 구성되어 있으며, 수평으로 한 기판 위에 레지스트를 적하하여 기판을 회전시킴으로써 기판 위에 균일한 레지스트막을 형성시킨다. 레지스트막이 형성된 기판은, 슬라이더(205b)에 의해 레벨 링 처리부(233)로 옮겨져서 레지스트막의 레벨링 및 건조 처리가 이루어진다. 이 후, 기판은 슬라이더(205c)에 의해서 엣지 린스부(234)로 옮겨진다. 엣지 린스부(234)에서는, 기판 단면의 레지스트막이 벗겨져 발진(發塵)해 버리는 것을 방지하기 위해서, 기판 표면의 주변이나 단면 부분의 레지스트를 용제에 의해 제거하는 처리가 이루어진다. 이러한 레지스트 도포에 관한 각 처리를 끝낸 기판은, 슬라이더(205d)에 의해서 반출부(235)로 옮겨진다.
반출부(235)로부터 반출부(235)에 인접하는 프리베이크 유니트(240a)로 옮겨진 기판은, 선회 로봇(204c)에 의해서 가열실로 옮겨진다. 여기서는, 기판 위의 레지스트막 중의 잔류 용제의 증발과 기판의 밀착성 강화를 목적으로 하여 가열 처리가 이루어진다. 그 후 기판은 냉각실에서 냉각되어 선회 로봇(204c)에 의해 다단 인도부(209)로 옮겨진다.
또한 기판은, 선회 로봇(204d, 204e)에 의해 노광기(250)로 옮겨져 노광 처리가 실시된다. 구체적으로는, 기판 위의 레지스트에 대하여 원화(原畵) 위에 있는 패턴을 감광시키는 처리가 실시된다. 노광된 기판은, 노광기(250)로부터 선회 로봇(204e)에 의해 꺼내져서 버퍼부(208c)를 통하여 선회 로봇(204d)에 유지된다. 또한, 노광기(250)로의 반입, 반출시에는, 기판은 만일 필요가 있으면 버퍼부(208a, 208b, 208c)에 있어서 일시적으로 보관된다.
다음에 기판은, 선회 로봇(204d)으로부터 타이틀러(260) 및 엣지 노광기(270)로 옮겨져서, 각각 인자(印字)를 새기고 엣지 노광이 이루어진다. 엣지 노광에서는, 기판 위의 디스플레이부를 제외한 기판 주변의 레지스트를 제거하기 위 하여 노광 처리된다. 여기서는, 엣지 노광기(270)를 이 위치에 배치하고 있지만, 필요에 따라서, 여기에 이면 노광 유니트를 배치해도 된다. 또, 타이틀러(260) 대신에 이면 노광 유니트를 배치해도 된다. 이들 처리를 끝낸 기판은, 선회 로봇(204d)에 의해서 다단 인도부(209)로 옮겨져서, 도시하지 않은 슬라이더에 의해서 컨베이어부(279)에 실린다. 그리고, 기판은 컨베이어부(279)로부터 프리베이크 유니트(240b)를 통과하여 현상 유니트(280)의 반입부(281)로 반송된다.
현상 유니트(280)에 있어서, 기판은 반입부(281)로부터 반출부(285)로 컨베이어에 의해서 반송된다. 그리고, 현상부(282)에 있어서는, 노즐로부터 분무상(噴霧狀)의 현상액을 기판 표면에 샤워상으로 뿌리는 스프레이 현상, 또는 기판 위에 현상액 집합소를 형성하는 패들 현상이 행해진다. 수세부(283), 건조부(284)에 있어서는, 현상 후의 기판에 대하여 순수한 물 등의 린스액에 의한 세정 및 건조가 행해진다. 이들 처리를 끝낸 기판은, 반출부(285)로부터 프리베이크 유니트(220b)를 통과하는 도시하지 않는 컨베이어에 의해 포스트베이크 유니트(290a)로 옮겨진다.
포스트베이크 유니트(290a, 290b)에서는, 기판 위의 레지스트막 중 또는 표면에 잔류한 린스액을 증발 제거하여, 레지스트의 경화 및 기판과의 밀착성 강화를 목적으로 한 열처리를 실시한다. 구체적으로는, 가열실의 핫 플레이트에 의해서 기판을 가열하고, 냉각실의 쿨 플레이트에 의해서 기판을 냉각한다. 또, 적절히 버퍼실에 기판이 일시적으로 보관된다. 이들 처리가 실시된 기판은 공랭 유니트(299)로 옮겨진다. 그리고, 공랭 유니트(299)에서 공랭된 기판은, 인덱서 로 봇(202a)에 의해서 원래의 카세트(203)에 수용된다.
<코터/디벨로퍼 장치(200)에 있어서의 X선 조사 장치(1)>
상기의 각 처리 유니트의 각 처리부 혹은 각 실, 노광기(250), 타이틀러(260), 엣지 노광기(270), 버퍼부(208a, 208b, 208c)에는, 각각 제1 실시형태에서 설명한 X선 조사 장치(1)가 배치되어 있다. 이들 X선 조사 장치(1)는 연X선을 이용한 정전기 제거 장치이며, 연X선이 가지는 전리(電離) 작용에 의해 조사 범위의 공간에 고농도의 이온을 생성하여 순식간에 대전 물체의 정전기를 제거하는 것이 가능한 것이다. 또, 광조사 방식의 장치로서, 미립자, 오존, 유전 전압 등의 발생이 없는 것이다.
도 9는 코터/디벨로퍼 장치(200)의 각 처리 유니트에 제1 실시형태의 X선 조사 장치(1)를 적용한 예를 나타내는 도면이다. 제1 실시형태의 X선 조사 장치(1)가 적용되는 장소로는, 레지스트 도포 유니트(230)(레지스트 도포 처리 장치)나 현상 유니트(280)(현상 처리 장치) 등의 각 처리 유니트의 각 처리부 혹은 각 실, 노광기(250), 타이틀러(260), 엣지 노광기(270), 버퍼부(208a, 208b, 208c) 등을 들 수 있다. 이하, X선 조사 장치(1)가 적용되는 부분을 총칭하여 「각 처리 유니트(300)」라고 한다.
도 9에 나타내는 바와 같이, 가대(301) 위에 스테이지(302)가 배치되고, 이 스테이지(302) 위에 기판(303)(제1 기판, 제2 기판)이 위치하고 있다. 기판(303)은 도시하지 않는 자동 반송 장치에 의해 각 처리 유니트(300) 내에 반입된다. 기판으로의 레지스트의 공급은 디스펜서(304)에 의해 행해진다. 또, X선 조사 장 치(1)가 각 처리 유니트(300) 내에 있어서 기판(303)에 연X선을 조사 가능한 위치에 배치되어 있다. X선 조사 장치(1)는, X선 조사 장치(1)에 장착된 지지봉(305)과, 가대(301) 위에 장착된 지주(支柱)(306)를 연결 지그(307)를 이용하여 고정시킴으로써 소정의 위치에 배치시킬 수 있다. 이상과 같은 구성에 의해, X선 조사 장치(1)는, 예를 들어 레지스트 도포 처리 전후나 레지스트 도포 처리 중에 있어서, 연X선 조사에 의해 기판(303)의 제전을 실시할 수 있다. 또한, 도 9에서는 X선 조사 장치(1)로부터 기판(303)에 조사되는 연X선을 X로 표시하고 있다.
또, X선 조사 장치(1)는 케이블(42)을 통하여 제어부(70)와 전기적으로 접속되고 있다. X선 조사 장치(1)와 케이블(42) 사이의 접속 구조는 제1 실시 형태에 있어서 도 1~도 3을 참조하면서 설명한 대로이다. 이에 의해, X선 조사 장치(1)와 케이블(42) 사이에 있어서의 밀봉성이 유지되어, X선 조사 장치(1) 내의 가스(예를 들어 질소 가스)가 X선 조사 장치(1)의 외부, 즉 예를 들어 레지스트 도포 유니트(230)나 현상 유니트(280) 등의 각 처리 유니트(300) 내로 새지 않는다.
또, 캡 콘(48)(도 1~도 3 참조)을 느슨하게 하고 나서 통 모양의 부재(45)(도 1~도 3 참조)를 판 모양의 부재(36)로부터 떼어냄으로써 커넥터(44)를 접속 단자(23)로부터 뺄 수 있다. 이에 의해, 예를 들어 레지스트 도포 유니트(230)나 현상 유니트(280) 등의 각 처리 유니트(300)에 있어서, X선 조사 장치(1)만을 바꿀 수 있다. 이 결과, X선 조사 장치(1)의 수명과 관계없이 X선 조사 장치(1) 이외의 부분을 그대로 계속 사용할 수 있다. 또한, X선 조사 장치(1)의 교체를 X선관(8)의 관구의 수명에 따라 행해도 되며, 이 경우에는 X선관(8)의 관구의 수명 에 관계없이 X선 조사 장치(1) 이외의 부분을 그대로 계속 사용할 수 있다.
또, X선 조사 장치(1)는 가스 도입 튜브(40)(가스 도입관)을 통하여 가스 도입 수단(308)과 접속되어 있다. 가스 도입 수단(309)은 예를 들어 질소 가스를 공급하는 수단이다. 또, X선 조사 장치(1)는 가스 배기 튜브(41)(가스 배기관)를 통하여 가스 배기 수단(309)과 접속되어 있다. 가스 배기 수단(309)은 가스 배기 튜브(41)로부터의 질소 가스를 회수하는 장치로서, 예를 들어 배기 펌프이다. 또, 가스 도입 튜브(40) 및 가스 배기 튜브(41)는 각각 X선 조사 장치(1)의 가스 도입부(38) 및 가스 배기부(39)에 착탈이 가능하게 장착되어 있다. 가스 도입 튜브(40) 및 가스 배기 튜브(41)로는 예를 들어 테플론제의 튜브가 사용된다. 이상의 구성에 의해, 질소 가스가 가스 도입 수단(309)으로부터 X선 조사 장치(1)내에 도입되고, 또한 X선 조사 장치(1) 내의 질소 가스가 가스 배기 수단(309)으로 배기된다. 이 구성은, X선 조사 장치(1) 내의 압력을 X선 조사 장치(1) 밖의 압력, 즉 각 처리 유니트(300) 내의 압력보다 높게 유지하기 위한 구성이다.
이상과 같이, X선 조사 장치(1) 내의 압력을 예를 들어 레지스트 도포 유니트(230) 내의 압력이나 현상 유니트(280) 내의 압력보다 조금이라도 높게 함으로써, 레지스트 도포 유니트(230)나 현상 유니트(280) 내의 분위기 가스가 X선 조사 장치(1) 내에 침입하는 것을 방지할 수 있다. 레지스트 도포 유니트(230)나 현상 유니트(280) 등으로는 예를 들어 유기용제가 사용되고 있으며, 레지스트 도포 유니트(230)나 현상 유니트(280) 등에 있어서의 각 공정의 분위기 중에는 이 유기계의 가스가 충만해 있다. X선 조사 장치(1)는 이와 같은 분위기 중에 배치되어서 사용 되는 것이며, 레지스트를 도포하는 공정 중 등에 분위기 중에 존재하는 라디칼의 가스가 X선 조사 장치 내에 침입하면 라디칼의 가스에 의해 X선 조사 장치 내의 부품 등이 손상을 받게 된다. 또, 가스가 가연성인 경우, X선 조사 장치(1) 내에 들어 왔을 경우에는, X선 조사 장치는 고전압을 사용하고 있기 때문에 X선 조사 장치(1) 내에서 인화나 폭발의 위험성이 있다. 이것은, X선 조사 장치의 밀봉성을 높임으로써 위험도를 저감하는 것은 가능해지지만, X선 조사 장치를 완전하게 밀봉하는 것은 구조상 곤란하다. 따라서, 본 실시형태에서는, 레지스트 도포 유니트(230) 내의 가스나 현상 유니트(280) 내의 가스가 X선 조사 장치(1) 내에 들어오는 것을 방지함으로써, X선 조사 장치(1) 내의 부품의 손상이나 X선 조사 장치 내에서의 인화나 폭발의 위험성을 줄일 수 있다. 또, 완전한 밀봉으로 할 필요가 없어지므로, X선 조사 장치의 구조를 복잡하게 하지 않고 간략화할 수 있어 소형의 X선 조사 장치로 할 수 있다.
또, X선 조사 장치(1) 내를 양압으로 유지하기 위해서 큰 개구를 갖는 커넥터(44) 부분의 밀봉성은 중요하며, 본 발명의 커넥터 부분의 구조에 의해 X선 조사 장치(1) 내를 바람직하게 유지하는 것이 가능하게 되어 있다. 이 커넥터 부분의 밀봉성이 높으면, 다른 부분에 존재하는 틈새는 작기 때문에, X선 조사 장치 내로부터 새어 나오는 가스에 의한 각 처리 유니트에 대한 영향을 작게 할 수 있다. 또, 작은 틈새에 대해서는 가스 방출이 적으며, 분위기 가스에 내성을 갖는 수지 재료 등으로 틈새를 막아도 된다.
또한, 본 실시형태에서는, X선 조사 장치(1) 내를 양압으로 유지하기 위해서 질소 가스를 이용하고 있으나, 이에 한정되지 않고, 불활성인 가스이면 질소에 한하지 않고, 예를 들어 아르곤이나 헬륨 등의 희가스를 사용해도 된다.
또, 본 실시형태에서는 가스 도입 수단(309)에 있어서의 질소 가스의 유량 및 가스 배기 수단(309)에 있어서의 질소 가스의 유량의 양쪽 모두를 조절하여 X선 조사 장치(1) 내의 압력을 양압으로 컨트롤하고 있지만, 이에 한정되지 않고, 가스 도입 수단(309) 및 가스 배기 수단(309) 중 어느 한쪽인가를 조절하여 X선 조사 장치(1) 내부의 압력을 양압으로 컨트롤해도 된다. 이 때, 예를 들어 환경적으로 문제가 되지 않는 경우에는, 가스 배기 튜브(41)로부터의 가스를 가스 배기 수단(309)을 이용하지 않고 그대로 외부로 방출시켜도 된다.
[제1 실시형태 및 제2 실시형태의 작용 및 효과]
계속해서, 본 발명의 제1 실시형태에 관련된 X선 조사 장치(1) 및 X선 조사 시스템(100), 제2 실시형태와 관련된 코터/디벨로퍼 장치(200)의 작용 및 효과에 대하여 설명한다.
본 발명의 상기 실시형태에 의하면, 통 모양의 부재(45)는 커넥터(44)를 포위하고 있으며, 통 모양의 부재(45)의 일단은 판 모양의 부재(36)의 개구 (36a)에서 나사 결합되고, 통 모양의 부재(45)의 타단은 케이블 본체(43)를 클램프하는 캡 콘(48)으로 나사 결합된다. 이상의 구성에 의해, 판 모양의 부재(36), 통 모양의 부재(45), 캡 콘(48)에 있어서의 밀폐성을 유지할 수 있으며, 그 결과, 판 모양의 부재(36), 통 모양의 부재(45), 캡 콘(48)의 주변에서 가스의 유출입이 발생하는 것을 억제할 수 있다. 따라서, X선 조사 장치(1) 내의 가스가 X선 조사 장치(1)로 부터 나와 레지스트 도포 유니트(230)나 현상 유니트(280) 내에 흘러가는 것이나, 레지스트 도포 유니트(230)나 현상 유니트(280) 내의 가스가 X선 조사 장치(1)내에 들어오는 것을 억제할 수 있다.
또한, 커넥터(44)는 케이블(42)과 X선 조사 장치(1)를 착탈이 자유롭게 접속하는 것이다. 따라서, 예를 들어 캡 콘(48)을 통 모양의 부재(45)로부터 느슨하게 또한 통 모양의 부재(45)를 판 모양의 부재(36)로부터 느슨하게 한 후에 케이블(42)을 X선 조사 장치(1)로부터 떼어낼 수 있어, 이에 의해 X선 조사 시스템에 있어서 X선 조사 장치(1)만을 바꿀 수 있다. 이 결과, X선 조사 장치(1)의 수명과 관계없이, X선 조사 장치(1) 이외의 부분, 즉 예를 들어 케이블(42), 제어부(70), 레지스트 도포 유니트(23), 현상 유니트(280) 등을 X선 조사 장치(1)의 수명이 다한 다음에도 그대로 계속 사용할 수 있다. 또한, X선 조사 장치(1)의 교체를 X선관(8)의 관구의 수명에 따라 행해도 되며, 이 경우에는 코터/디벨로퍼 장치(200)에 있어서 X선 조사 장치(1) 이외의 부분을 X선관(8)의 관구의 수명에 관계없이 계속 사용할 수 있다. 이상에 의해, 코터/디벨로퍼 장치(200)의 메인터넌스가 용이해진다.
또, 가스 도입부(38) 및 가스 배기부(39)를 마련함으로써, X선 조사 장치(1) 내에 가스를 도입하고 또한 X선 조사 장치(1) 내의 가스를 외부로 배기할 수 있다. 여기서, 가스의 유량을 적절하게 컨트롤함으로써, X선 조사 장치(1) 내의 압력을 X선 조사 장치(1) 밖의 압력, 즉 예를 들어 레지스트 도포 유니트(230)나 현상 유니트(280) 내의 압력보다 높게 컨트롤 할 수 있다. 이와 같이 X선 조사 장치(1) 내 를 양압으로 컨트롤함으로써, 레지스트 도포 유니트(230)나 현상 유니트(280) 내의 가스가 X선 조사 장치(1) 내에 침입하는 것을 방지하여 X선 조사 장치(1)의 밀폐성을 높일 수 있다.
또, 외부로부터의 가스가 가스 도입부(38)를 통하여 X선 조사 장치(1) 내에 도입되고, 또한 X선 조사 장치(1) 내의 가스가 가스 배기부(39)를 통하여 외부로 배기되기 되는 것으로 인하여, 해당 가스가 X선 조사 장치(1) 내를 냉각하는 역할을 달성할 수도 있다.
또, 판 모양의 부재(36)와 통 모양의 부재(45) 사이에 제1 개스킷(46)을 구비하고, 또한 캡 콘(48)과 통 모양의 부재(45) 사이에 제2 개스킷(47)을 구비함으로써, 판 모양의 부재(36), 통 모양의 부재(45), 캡 콘(48)에 있어서의 밀폐성을 더욱 높일 수 있으며, 그 결과, 판 모양의 부재(36), 통 모양의 부재(45), 캡 콘(48)의 주변에서 가스의 유출입이 발생하는 것을 보다 확실히 억제할 수 있다. 따라서, X선 조사 장치(1) 내의 가스가 X선 조사 장치(1)로부터 나와 레지스트 도포 유니트(230)나 현상 유니트(280) 내에 흘러가는 것이나, 레지스트 도포 유니트(230)나 현상 유니트(280) 내의 가스가 X선 조사 장치(1) 내에 들어오는 것을 보다 확실하게 억제할 수 있다.
도 1은 제1 실시형태의 X선 조사 장치(1)를 나타내는 분해 사시도이다.
도 2는 도 1에 나타낸 X선 조사 장치(1)의 단면도이다.
도 3은 도 2의 III-III선에 따르는 단면도이다.
도 4는 X선관(8)을 나타내는 단면도이다.
도 5는 도 2에 나타낸 X선 조사 장치(1)의 주요부 확대 단면도이다.
도 6은 전면 패널(5)에 X선관(8)을 조립한 상태를 나타내는 사시도이다.
도 7은 제1 실시형태의 X선 조사 시스템(100)의 구성을 나타내는 블록도이다.
도 8은 제2 실시형태의 코터/디벨로퍼 장치(200)를 나타내는 평면 개략도이다.
도 9는 코터/디벨로퍼 장치(200)의 각 처리 유니트(300)에 X선 조사 장치(1)가 설치된 것을 나타내는 도면이다.
(부호의 설명)
1…X선 조사 장치, 2…보호 케이스, 6…배면 패널, 8…X선관, 23…접속 단자, 35…구동부, 36…판 모양의 부재, 38…가스 도입부, 39…가스 배기부, 40…가스 도입 튜브, 41…가스 배기 튜브, 42…케이블, 43…케이블 본체, 44…커넥터, 45…통 모양의 부재, 46…제1 개스킷, 47…제2 개스킷, 48…캡콘, 70…제어부, 80…액세서리, 100…X선 조사 시스템, 200…코터/디벨로퍼 장치, 230…레지스트 도포 유니트, 280…현상 유니트, 308…가스 도입 수단, 309…가스 배기 수단.
Claims (10)
- X선을 조사하는 X선 조사 장치와, 상기 X선 조사 장치를 제어하는 X선 제어장치와, 상기 X선 조사 장치 및 상기 X선 제어 장치를 전기적으로 접속하는 케이블을 구비하는 X선 조사 시스템으로서,상기 X선 조사 장치는,X선관과,상기 X선관을 구동시키는 구동부와,상기 X선관 및 상기 구동부를 수용하며 개구부를 가지는 케이스와,상기 케이스에 마련되고, 상기 개구부에 대응하는 위치에 개구를 가지는 판 모양의 부재를 구비하고,상기 케이블은,해당 케이블의 일단(一端)에 마련되고, 해당 케이블의 일단과, 상기 구동부에 전기적으로 접속된 접속 단자를 착탈이 자유롭게 접속하기 위한 커넥터와,상기 커넥터를 포위하는 통 모양의 부재를 구비하며,상기 구동부와 상기 케이블은, 상기 접속 단자 및 상기 커넥터에 의해, 상기 케이스의 상기 개구부 및 상기 판 모양의 부재의 상기 개구를 통하여, 착탈이 자유롭게 및 전기적으로 접속되며,상기 통 모양의 부재의 일단에서는, 상기 일단에 마련된 수나사부와, 상기 판 모양의 부재의 상기 개구에 마련된 암나사부가 나사 결합되고,상기 통 모양의 부재의 타단에는 상기 케이블을 클램프하기 위한 클램프 부재가 마련되며, 상기 타단과 상기 클램프 부재가 나사 결합되며,상기 판 모양의 부재, 상기 통 모양의 부재 및 상기 클램프 부재에 의해서 상기 커넥터가 밀봉되고,상기 케이스는, 배면 패널을 가지고,상기 판 모양의 부재는 상기 배면 패널에 고정되며,상기 배면 패널은 상기 판 모양의 부재의 상기 개구에 대응하는 상기 개구부와, 다른 2개의 개구부를 구비하고,상기 배면 패널의 상기 다른 2개의 개구부에 대해서, 상기 케이스 내에 가스를 도입하기 위한 가스 도입부 및 상기 케이스 내의 가스를 외부로 배기하기 위한 가스 배기부가 마련되는 것을 특징으로 하는 X선 조사 시스템.
- 청구항 1에 있어서,상기 통 모양의 부재의 일단에는, 상기 판 모양의 부재와 해당 통 모양의 부재를 밀폐하기 위한 제1 씰 부재가 구비되어 있고,상기 통 모양의 부재의 타단에는, 상기 클램프 부재와 해당 통 모양의 부재를 밀폐하기 위한 제2 씰 부재가 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 X선 조사 시스템.
- 청구항 2에 있어서,상기 커넥터는 커넥터 본체부 및 상기 접속 단자와 접속하는 측에서 상기 커넥터 본체부의 일부를 덮고 있는 외주부를 구비하고,작업자에 의해 상기 외주부가 상기 커넥터 본체부의 다른 부분을 향하여 소정의 부분만큼 인장된 상태에서, 상기 커넥터 본체부가 상기 접속 단자에 접속되고, 또한 해당 접속 상태에 있어서 상기 제1 씰 부재의 존재에 의해 상기 외주부의 해당 인장된 상태가 유지되는 것을 특징으로 하는 X선 조사 시스템.
- 제1 기판에 레지스트 도포 처리를 실시하는 레지스트 도포 처리 장치와, 제2 기판에 현상 처리를 실시하는 현상 처리 장치와, 상기 레지스트 도포 처리 장치 및 상기 현상 처리 장치 중 적어도 한쪽 내에 마련되고 또한 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판 중 적어도 한쪽에 X선을 조사함으로써 해당 적어도 한쪽의 기판을 제전(除電)하는 X선 조사 장치와, 상기 X선 조사 장치를 제어하는 X선 제어 장치와, 상기 X선 조사 장치 및 상기 X선 제어 장치를 전기적으로 접속하는 케이블을 구비하는 X선 조사 시스템으로서,상기 X선 조사 장치는,상기 제1 기판 또는 상기 제2 기판에 X선을 조사하기 위한 X선관과,상기 X선관을 구동시키는 구동부와,상기 X선관 및 상기 구동부를 수용하며 개구부를 가지는 케이스와,상기 케이스에 마련되고 상기 개구부에 대응하는 위치에 개구를 가지는 판 모양의 부재와,상기 케이스에 마련되고 상기 케이스 내에 가스를 도입하기 위한 가스 도입부와,상기 케이스에 마련되고 상기 케이스 내의 가스를 배기하기 위한 가스 배기부를 구비하고,상기 케이블은,해당 케이블의 일단에 마련되고, 해당 케이블의 일단과, 상기 구동부에 전기적으로 접속된 접속 단자를 착탈이 자유롭게 접속하기 위한 커넥터와,상기 커넥터를 포위하는 통 모양의 부재를 구비하며,상기 구동부와 상기 케이블은, 상기 접속 단자 및 상기 커넥터에 의해, 상기 케이스의 상기 개구부 및 상기 판 모양의 부재의 상기 개구를 통하여 착탈이 자유롭게 및 전기적으로 접속되며,상기 통 모양의 부재의 일단에서는, 상기 일단에 마련된 수나사부와, 상기 판 모양의 부재의 상기 개구에 마련된 암나사부가 나사 결합되고,상기 통 모양의 부재의 타단에는 상기 케이블을 클램프하기 위한 클램프 부재가 마련되며, 상기 타단과 상기 클램프 부재가 나사 결합되며,상기 판 모양의 부재, 상기 통 모양의 부재 및 상기 클램프 부재에 의해서 상기 커넥터가 밀봉되고,상기 케이스는, 배면 패널을 가지고,상기 판 모양의 부재는 상기 배면 패널에 고정되며,상기 배면 패널은 상기 판 모양의 부재의 상기 개구에 대응하는 상기 개구부와, 다른 2개의 개구부를 구비하고,상기 배면 패널의 상기 다른 2개의 개구부에 대해서, 상기 케이스 내에 가스를 도입하기 위한 가스 도입부 및 상기 케이스 내의 가스를 외부로 배기하기 위한 가스 배기부가 마련되는 것을 특징으로 하는 X선 조사 시스템.
- 청구항 4에 있어서,상기 통 모양의 부재의 일단에서는, 상기 일단에 마련된 수나사부와, 상기 판 모양의 부재의 상기 개구에 마련된 암나사부가 나사 결합되고,상기 통 모양의 부재의 타단에는 상기 케이블을 클램프하기 위한 클램프 부재가 마련되어, 상기 타단과 상기 클램프 부재가 나사 결합되는 것을 특징으로 하는 X선 조사 시스템.
- 청구항 4 또는 5에 있어서,외부의 장치로부터의 상기 가스를 상기 가스 도입부를 통하여 상기 케이스 내에 도입하기 위한 가스 도입관과,상기 케이스 내의 상기 가스를 상기 가스 배기부를 통하여 외부로 배기하기 위한 가스 배기관을 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 X선 조사 시스템.
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080060324A KR101522426B1 (ko) | 2008-06-25 | 2008-06-25 | X선 조사 시스템 및 x선 조사 장치 |
TW097132964A TWI476785B (zh) | 2008-06-25 | 2008-08-28 | X-ray irradiation system and X-ray irradiation device |
CN200810146779.2A CN101616532B (zh) | 2008-06-25 | 2008-08-29 | X射线照射系统以及x射线照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080060324A KR101522426B1 (ko) | 2008-06-25 | 2008-06-25 | X선 조사 시스템 및 x선 조사 장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20100000719A KR20100000719A (ko) | 2010-01-06 |
KR101522426B1 true KR101522426B1 (ko) | 2015-05-21 |
Family
ID=41495828
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020080060324A KR101522426B1 (ko) | 2008-06-25 | 2008-06-25 | X선 조사 시스템 및 x선 조사 장치 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101522426B1 (ko) |
CN (1) | CN101616532B (ko) |
TW (1) | TWI476785B (ko) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5824860B2 (ja) * | 2011-05-10 | 2015-12-02 | 株式会社島津製作所 | X線制御装置 |
CN102510003B (zh) * | 2011-12-21 | 2013-05-22 | 上海激光等离子体研究所 | 反射镜双程放大软x射线激光出光靶装置及调节方法 |
KR101687363B1 (ko) * | 2015-08-24 | 2016-12-16 | (주)선재하이테크 | X선관에서 방사되는 x선 차폐를 위한 방호 장치 |
CN109388035B (zh) * | 2018-10-31 | 2020-11-24 | 武汉华星光电技术有限公司 | 曝边机及曝光方法 |
KR20210145471A (ko) * | 2020-05-25 | 2021-12-02 | (주)선재하이테크 | 회전형 모듈 결합형 이오나이저 |
KR102331442B1 (ko) | 2020-08-07 | 2021-12-01 | 안운기 | 다방향 수음을 위한 마이크 장치 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR930001322B1 (ko) * | 1985-02-27 | 1993-02-25 | 맥스웰 라보라토리이즈 인코포레이팃드 | 연성 x-선 발생장치 |
JPH11204167A (ja) * | 1997-10-09 | 1999-07-30 | Ge Medical Syst Sa | 高電圧コネクタ用のブート/リングと得られる高電圧コネクタ |
KR20040104365A (ko) * | 2003-05-30 | 2004-12-10 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | 엑스선 발생장치 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4149568B2 (ja) * | 1998-07-01 | 2008-09-10 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
CN1529540A (zh) * | 2003-10-15 | 2004-09-15 | 沈阳东软数字医疗系统股份有限公司 | X线机高压发生器的控制装置及方法 |
KR101237545B1 (ko) * | 2005-10-07 | 2013-02-26 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | X선관 및 이를 포함하는 x선원 |
TWM315444U (en) * | 2007-02-07 | 2007-07-11 | Guo-An Guo | Improved structure of cable connector |
CN201052145Y (zh) * | 2007-06-08 | 2008-04-30 | 东莞市日新电线实业有限公司 | 一种医用诊断透视x线机内部连接用线 |
-
2008
- 2008-06-25 KR KR1020080060324A patent/KR101522426B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2008-08-28 TW TW097132964A patent/TWI476785B/zh not_active IP Right Cessation
- 2008-08-29 CN CN200810146779.2A patent/CN101616532B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR930001322B1 (ko) * | 1985-02-27 | 1993-02-25 | 맥스웰 라보라토리이즈 인코포레이팃드 | 연성 x-선 발생장치 |
JPH11204167A (ja) * | 1997-10-09 | 1999-07-30 | Ge Medical Syst Sa | 高電圧コネクタ用のブート/リングと得られる高電圧コネクタ |
KR20040104365A (ko) * | 2003-05-30 | 2004-12-10 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | 엑스선 발생장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20100000719A (ko) | 2010-01-06 |
TWI476785B (zh) | 2015-03-11 |
TW201001442A (en) | 2010-01-01 |
CN101616532A (zh) | 2009-12-30 |
CN101616532B (zh) | 2014-12-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101522426B1 (ko) | X선 조사 시스템 및 x선 조사 장치 | |
TWI270926B (en) | Systems and methods for remote plasma clean | |
US6620251B2 (en) | Substrate processing method and substrate processing apparatus | |
US6254689B1 (en) | System and method for flash photolysis cleaning of a semiconductor processing chamber | |
JP4519186B2 (ja) | ウェーハトラック環境内のプラズマ処理チャンバを用いて半導体ウェーハを処理する方法及び装置 | |
US20140116335A1 (en) | UV Irradiation Apparatus with Cleaning Mechanism and Method for Cleaning UV Irradiation Apparatus | |
US20130019797A1 (en) | Impurity-doped layer formation apparatus and electrostatic chuck protection method | |
US11400480B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
US20030143845A1 (en) | Mask forming and removing method, and a semiconductor device, an electric circuit, a display module, a color filter and an emissive device manufactured by the same method | |
US20050028928A1 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
US20150323862A1 (en) | Particle removal system and method thereof | |
JP6197641B2 (ja) | 真空紫外光照射処理装置 | |
TWI695237B (zh) | 微粒射束設備及操作微粒射束設備的方法 | |
WO2022114721A1 (ko) | 엑시머 램프를 이용한 정전기 제거 장치 | |
TWI659493B (zh) | 基板處理裝置、基板處理系統以及基板處理方法 | |
JP2005072374A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2001077011A (ja) | 半導体製造装置、その洗浄方法、および光源ユニット | |
US7973907B2 (en) | Method for treating substrate, method for conveying substrate, and apparatus for conveying substrate | |
JP2005044975A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
US9895645B2 (en) | Apparatus for treating substrate | |
KR100208769B1 (ko) | 플라즈마 장치 | |
JP6315452B2 (ja) | 処理液供給装置、基板処理装置、処理液供給方法および基板処理方法 | |
JP2001015057A (ja) | 荷電粒子線装置および荷電粒子線装置用試料供給方法 | |
KR20090129557A (ko) | 기판처리장치 | |
JP2004218047A (ja) | 光学素子の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |