CN109388035B - 曝边机及曝光方法 - Google Patents

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Abstract

本申请公开了一种曝边机及曝光方法，包括：支撑面，以及在所述支撑面两侧相对设置的第一侧壁以及第二侧壁，在所述第一侧壁的第一表面以及第二侧壁的第二表面上设置有多个照射源，所述多个照射源用于在曝光基板时对所述支撑面进行照射，以消除所述基板与所述支撑面接触而产生的静电。

Description

曝边机及曝光方法
技术领域
本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种曝边机及曝光方法。
背景技术
近年来，中小尺寸液晶显示器发展迅猛，制备过程中在使用到精密光学仪器曝光机的基础上，还需要使用到曝边机，对基板长短边进行洗边，取出金属等边缘导电物质。
现有技术中，传统的曝边机易出现静电放电(electro static discharge，ESD)炸伤，导致产品在固定点位出现群亮暗点，目前为了解决机台内ESD炸伤，在曝边机出口连接去离子棒，但是效果不佳。
因此，现有技术存在缺陷，急需改进。
发明内容
本申请实施例提供一种曝边机及曝光方法，可以消除在曝边机内部曝光过程中基板与曝光机接触产生的静电。
本申请实施例提供一种曝边机，包括：
支撑面，以及在所述支撑面两侧相对设置的第一侧壁以及第二侧壁，其中，
在所述第一侧壁的第一表面以及第二侧壁的第二表面上设置有多个照射源，所述多个照射源用于在曝光基板时对所述支撑面进行照射，以消除所述基板与所述支撑面接触而产生的静电。
在本申请所述的曝边机中，所述支撑面由多个支撑针组成，所述多个支撑针的顶部连线形成所述支撑面，所述多个支撑针用于在曝光基板时减少所述支撑面与所述基板的接触面积。
在本申请所述的曝边机中，所述第一侧壁以及所述第二侧壁上的所述多个照射源与所述多个支撑针的顶部处于同一竖直高度。
在本申请所述的曝边机中，所述支撑面为方形的支撑面，所述多个照射源相对于所述方形的支撑面的拐角设置。
在本申请所述的曝边机中，所述多个照射源照射出的光线形成一照射面，所述照射面用于在曝光基板时对所述支撑面进行照射。
在本申请所述的曝边机中，所述照射面的照射面积大于所述支撑面的面积，以使在曝光基板时所述多个照射源照射出的光线可以覆盖所述支撑面。
本申请实施例还提供一种曝光方法，包括：
在支撑面两侧相对设置的第一侧壁的第一表面以及第二侧壁的第二表面上设置多个照射源；
在曝光基板时通过所述多个照射源对所述支撑面进行照射，以消除所述基板与所述支撑面接触产生的静电。
在本申请所述的曝光方法中，所述支撑面由多个支撑针组成，所述多个支撑针的顶部连线形成所述支撑面，所述多个支撑针用于在曝光基板时减少所述支撑面与所述基板的接触面积。
在本申请所述的曝光方法中，所述多个照射源照射出的光线形成一照射面，所述在曝光基板时通过所述多个照射源对所述支撑面进行照射，包括：
在曝光基板时通过所述照射面对所述支撑面进行照射。
在本申请所述的曝光方法中，所述照射面的照射面积大于所述支撑面的面积，以使在曝光基板时所述多个照射源照射出的光线可以覆盖所述支撑面。
本申请实施例提供的曝边机包括，支撑面，以及在所述支撑面两侧相对设置的第一侧壁以及第二侧壁，其中，在所述第一侧壁的第一表面以及第二侧壁的第二表面上设置有多个照射源，所述多个照射源用于在曝光基板时对所述支撑面进行照射，以消除所述基板与所述支撑面接触而产生的静电。本申请实施例提供的曝边机通过在侧壁设置多个照射源对支撑面进行覆盖式照射，以消除后续加工时基板放置在支撑面上产生的静电。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的曝边机的结构示意图。
图2为本申请实施例提供的曝光过程中基板与支撑针接触的示意图。
图3为本申请实施例提供的曝边机的另一结构示意图。
图4为本申请实施例提供的曝边机内部光线照射示意图。
图5为本申请实施例提供的曝边机内部光线照射的另一示意图。
具体实施方式
近年来，中小尺寸液晶显示器发展迅猛，制备过程中在使用到精密光学仪器曝光机的基础上，还需要使用到曝边机，但是传统的曝边机易出现静电放电(electro staticdischarge，ESD)炸伤，导致产品在固定点位出现群亮暗点，目前为解决机台内ESD问题，在曝边机出口连接去离子棒，但是无法解决基板在进入机台后导致的ESD炸伤。因而，本申请实施例提供一种曝边机及曝光方法，可以消除在曝边机内部曝光过程中基板与曝光机接触产生的静电。
请参阅图1，图1为本申请实施例提供的曝边机的结构示意图。
本申请实施例提供一种曝边机100，包括：
支撑面10，以及在所述支撑面10两侧相对设置的第一侧壁20以及第二侧壁30，其中，
在所述第一侧壁20的第一表面201以及第二侧壁30的第二表面301上设置有多个照射源40，所述多个照射源40用于在曝光基板200时对所述支撑面10进行照射，以消除所述基板200与所述支撑面10接触而产生的静电。
具体的，曝光机100可以为图1所示的长方体，但不仅限于长方体，第一侧壁20以及第二侧壁30为该长方体的两个相对面。支撑面10垂直于该第一侧壁20以及第二侧壁30。在该第一侧壁20的第一表面201以及该第二侧壁30的第二表面301上设置有多个照射源40，其中，第一表面201以及第二表面301为朝向长方体中心的表面。照射源40可以为射出X光线(X-ray)或者其他可以消除静电光线的照射器，在此不做赘述。
其中，在所述曝边机100中垂直所述第一侧壁20的第三侧壁60及第四侧壁70上设置有开口处，以用于在实际生产中可通过所述开口处进行基板200的运放工作。
其中，在所述开口处设置有离子棒，所述离子棒用于清除所述基板200的静电。
本申请实施例提供的曝边机100包括，支撑面10，以及在所述支撑面10两侧相对设置的第一侧壁20以及第二侧壁30，其中，在所述第一侧壁20的第一表面201以及第二侧壁30的第二表面301上设置有多个照射源40，所述多个照射源40用于在曝光基板200时对所述支撑面10进行照射，以消除所述基板200与所述支撑面10接触而产生的静电。本申请实施例提供的曝边机100通过在侧壁设置多个照射源40对支撑面10进行覆盖式照射，以消除后续加工时基板200放置在支撑面10上产生的静电。
在一些实施例中，请参阅，图1，图2及图3，图2为本申请实施例提供的曝光过程中基板与支撑针接触的示意图，图3为本申请实施例提供的曝边机的另一结构示意图。所述支撑10面由多个支撑针50组成，所述多个支撑针50的顶部501连线形成所述支撑面10，所述多个支撑针50用于在曝光基板200时减少所述支撑面10与所述基板200的接触面积。
在一些实施例中，所述第一侧壁20以及所述第二侧壁30上的所述多个照射源40与所述多个支撑针50的顶部501处于同一竖直高度。
具体的，支撑面10是由多个支撑针50形成的一假想面，该支撑面10是由多个支撑针50的顶部501连线形成的一个可以承载基板200的假想面，每一支撑针50的顶部501的高度处于同一竖直高度，以使得形成的假想面可以稳定的承载基板200。在曝光基板200时，基板200与曝边机100的接触面积为基板200与多个支撑针50的接触面积，可以有效的减少支撑面10与基板200的接触面积。
并且，为了消除基板200与支撑针50的顶部501接触时产生静电的现象，照射源40的设置高度应与该支撑针50的顶部501处于同一竖直高度。以使照射源40发出的光线可以照射到顶部501，从而在基板200与顶部501接触时不会产生静电。
请参阅图4以及图5，图4为本申请实施例提供的曝边机内部光线照射示意图，图5为本申请实施例提供的曝边机内部光线照射的另一示意图。在一些实施例中，所述支撑面10为方形的支撑面10，所述多个照射源40相对于所述方形的支撑面10的拐角设置。
在一些实施例中，所述多个照射源40照射出的光线形成一照射面401，所述照射面401用于在曝光基板200时对所述支撑面10进行照射。
在一些实施例中，所述照射面401的照射面积大于所述支撑面10的面积，以使在曝光基板200时所述多个照射源40照射出的光线可以覆盖所述支撑面10。
具体的，由多个支撑针50形成的支撑面10由支撑针50的摆放位置确定，如正方形。长方形，圆形等。这里不作限定。以支撑面10为方形的支撑面10为例，在曝边机100侧壁设置的多个照射源为了照射支撑面10，应照射到所有的支撑针50的顶部501。因此该多个照射源40需形成一照射面401，以使照射面401可以覆盖整个支撑面10。并且因为多个照射源40设置在曝边机100的侧壁上，因此，形成的照射面401的面积也应大于支撑面10的面积。这里照射源40相对于方形的支撑面10的拐角设定，只要保证多个照射源40形成的照射面401可以覆盖支撑面10即可。
本申请实施例提供的曝边机100包括，支撑面10，以及在所述支撑面10两侧相对设置的第一侧壁20以及第二侧壁30，其中，在所述第一侧壁20的第一表面201以及第二侧壁30的第二表面301上设置有多个照射源40，所述多个照射源40用于在曝光基板200时对所述支撑面10进行照射，以消除所述基板200与所述支撑面10接触而产生的静电。本申请实施例提供的曝边机100通过在侧壁设置多个照射源40对支撑针50形成的支撑面10进行覆盖式照射，以消除后续加工时基板200放置在支撑面10上产生的静电。
为了进一步描述本申请，下面从曝光方法的方向进行描述。
本申请实施例还提供一种曝光方法，包括：
在支撑面两侧相对设置的第一侧壁的第一表面以及第二侧壁的第二表面上设置多个照射源；
在曝光基板时通过所述多个照射源对所述支撑面进行照射，以消除所述基板与所述支撑面接触产生的静电。
本申请实施例提供的曝边机通过在侧壁设置多个照射源对支撑面进行覆盖式照射，以消除后续加工时基板放置在支撑面上产生的静电。
在一些实施例中，所述支撑面由多个支撑针组成，所述多个支撑针的顶部连线形成所述支撑面，所述多个支撑针用于在曝光基板时减少所述支撑面与所述基板的接触面积。
在一些实施例中，所述多个照射源照射出的光线形成一照射面，所述在曝光基板时通过所述多个照射源对所述支撑面进行照射，包括：
在曝光基板时通过所述照射面对所述支撑面进行照射。
在一些实施例中，所述照射面的照射面积大于所述支撑面的面积，以使在曝光基板时所述多个照射源照射出的光线可以覆盖所述支撑面。
本申请实施例提供的曝光方法，应用于曝边机中，该曝边机包括，支撑面，以及在所述支撑面两侧相对设置的第一侧壁以及第二侧壁，其中，在所述第一侧壁的第一表面以及第二侧壁的第二表面上设置有多个照射源，所述多个照射源用于在曝光基板时对所述支撑面进行照射，以消除所述基板与所述支撑面接触而产生的静电。本申请实施例提供的曝边机通过在侧壁设置多个照射源对支撑针形成的支撑面进行覆盖式照射，以消除后续加工时基板放置在支撑面上产生的静电。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (9)

1.一种曝边机，其特征在于，包括：
支撑面，以及在所述支撑面两侧相对设置的第一侧壁以及第二侧壁，其中，
在所述第一侧壁的第一表面以及第二侧壁的第二表面上设置有多个照射源，所述多个照射源用于在曝光基板时对所述支撑面进行照射，以消除所述基板与所述支撑面接触而产生的静电，其中，在所述曝边机中垂直所述第一侧壁的第三侧壁以及垂直所述第二侧壁的第四侧壁上设置开口，在所述开口处设置有离子棒，所述离子棒用于清除所述基板的静电，所述多个照射源照射出的光线形成一照射面，所述照射面用于在曝光基板时对所述支撑面进行照射。
2.如权利要求1所述的曝边机，其特征在于，所述支撑面由多个支撑针组成，所述多个支撑针的顶部连线形成所述支撑面，所述多个支撑针用于在曝光基板时减少所述支撑面与所述基板的接触面积。
3.如权利要求2所述的曝边机，其特征在于，所述第一侧壁以及所述第二侧壁上的所述多个照射源与所述多个支撑针的顶部处于同一竖直高度。
4.如权利要求2所述的曝边机，其特征在于，所述支撑面为方形的支撑面，所述多个照射源相对于所述方形的支撑面的拐角设置。
5.如权利要求1所述的曝边机，其特征在于，所述照射面的照射面积大于所述支撑面的面积，以使在曝光基板时所述多个照射源照射出的光线可以覆盖所述支撑面。
6.一种曝光方法，其特征在于，包括：
在支撑面两侧相对设置的第一侧壁的第一表面以及第二侧壁的第二表面上设置多个照射源，在垂直所述第一侧壁的第三侧壁以及垂直所述第二侧壁的第四侧壁上设置开口，在所述开口处设置有离子棒，所述离子棒用于清除基板的静电；
在曝光基板时通过所述多个照射源对所述支撑面进行照射，所述多个照射源照射出的光线形成一照射面，所述照射面用于在曝光基板时对所述支撑面进行照射，以消除所述基板与所述支撑面接触产生的静电。
7.如权利要求6所述的曝光方法，其特征在于，所述支撑面由多个支撑针组成，所述多个支撑针的顶部连线形成所述支撑面，所述多个支撑针用于在曝光基板时减少所述支撑面与所述基板的接触面积。
8.如权利要求6所述的曝光方法，其特征在于，所述多个照射源照射出的光线形成一照射面，所述在曝光基板时通过所述多个照射源对所述支撑面进行照射，包括：
在曝光基板时通过所述照射面对所述支撑面进行照射。
9.如权利要求8所述的曝光方法，其特征在于，所述照射面的照射面积大于所述支撑面的面积，以使在曝光基板时所述多个照射源照射出的光线可以覆盖所述支撑面。
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