CN105204287A - 一种用于光刻掩膜板制作过程的夹具 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种用于光刻掩膜板制作过程的夹具,包括主体部分,所述主体部分呈矩形框架结构;所述主体部分的四个角的内侧设有支撑柱体,所述主体部分的周边设有多个槽口;所述主体部分的四个角上还设有用于安装提杆的螺纹孔。本发明可以使得掩膜板制作过程中的显影、刻蚀和去胶和掩膜板清洗更为方便。
Description
技术领域
本发明涉及半导体工艺技术领域,特别是涉及一种用于光刻掩膜板制作过程的夹具,适合用于光刻掩膜板显影、刻蚀、去胶和清洗。
背景技术
光刻工艺是半导体工艺过程中非常重要的一道工序,它是用来在不同的器件和电路表面上建立图形的工艺过程。光刻确定了器件的关键尺寸和相对位置。光刻过程中的错误可造成图形歪曲或套准不好,最终可转化为对器件的电特性产生影响。事实上由于光刻在晶圆生产过程中要完成5层至20层或更多,所以光刻工艺的精确性在半导体工艺中尤为重要。
光刻掩膜板在半导体加工中常用的一种工具,光学光刻需要用到光刻掩膜板作为图形和位置的基准,所以光刻掩膜板的制作尤为重要,其偏差将会直接导致器件和电路的偏差,影响产品的良品率。常见的光刻掩膜板是通过以下图1的流程制作而成的。
图案产生器由一个光源和一系列的马达驱动的快门。带有光刻胶的镀铬光刻板在光源下随着快门的打开而移动,来使光形成的精确图案照射到光刻胶上产生预期的图案。光刻板图案以一种步进-重复的工艺被转移到涂有光刻胶的空白掩膜板来形成一个母版。母版用来在一个接触复印机上制作多重工作掩膜板。这种设备将母版与涂有光刻胶的空白掩膜板接触并有一个用于图案复制的UV光源。每个曝光步骤完成后,掩膜板通过显影,目检,刻蚀,去光刻胶和目检而最终把图案永久地复制到铬镀层上。
在后三步中,光刻掩膜版的显影、刻蚀和去胶都是浸没在特定的溶液中,并且需要保持特定的时间。过去常用的方法是用镊子夹住光刻板,手工浸没在溶液中。这种方式有以下的缺陷:
1.具有不易操作,特别在现在大尺寸的光刻板制作中尤为明显。
2.进入和拿出溶液时,光刻板各角落有先后的时间差,容易造成光刻板显影、刻蚀和去胶的不均衡。
而在光刻板的使用中,会有灰尘、光刻胶等污染物沾染在上面,造成光刻板上图形的偏差,所以需要定期清洗光刻板,清洗的过程是将光刻板浸没在清洗溶液。和制作一样,手工浸没也存在以上的缺陷。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种用于光刻掩膜板制作过程的夹具,使得掩膜板制作过程中的显影、刻蚀和去胶和掩膜板清洗更为方便。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:提供一种用于光刻掩膜板制作过程的夹具,包括主体部分,所述主体部分呈矩形框架结构;所述主体部分的四个角的内侧设有支撑柱体,所述主体部分的周边设有多个槽口;所述主体部分的四个角上还设有用于安装提杆的螺纹孔。
所述主体部分各边的中心内侧设有三角柱。
所述主体部分采用聚四氟乙烯制作而成。
所述槽口共有八个,等间距的分布在所述主体部分的周边。
所述螺纹孔为M5螺纹孔。
有益效果
由于采用了上述的技术方案,本发明与现有技术相比,具有以下的优点和积极效果:本发明通过在主体的四个角的内侧设置有支撑柱体保证了光刻板能够平稳安放,通过在周围开设八个槽口,从而方便了使用镊子进行放置和拿取光刻板。在四个角上各有一个用于安装提杆螺纹孔,通过提杆能够保持光刻板浸没和拿出溶液时光刻板各部分的同时性,从而避免不均衡。同时通过在四边中间开槽,可以适用于两种不同尺寸的光刻板。
附图说明
图1是现有技术中光刻掩膜版的制作流程图;
图2是本发明的结构示意图。
具体实施方式
下面结合具体实施例,进一步阐述本发明。应理解,这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。此外应理解,在阅读了本发明讲授的内容之后,本领域技术人员可以对本发明作各种改动或修改,这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定的范围。
本发明的实施方式涉及一种用于光刻掩膜板制作过程的夹具,如图2所示,包括主体部分1,所述主体部分1呈矩形框架结构;所述主体部分1的四个角的内侧设有支撑柱体2,所述主体部分1的周边设有八个槽口3,八个槽口3等间距的分布在主体部分1的周边;所述主体部分1的四个角上还设有用于安装提杆6的螺纹孔4。所述主体部分1各边的中心内侧设有三角柱5。
其中,主体部分和提杆使用聚四氟乙烯制作而成。本发明的主体部分在四个角的内侧设有支撑柱体,并且柱体尺寸上保有一定的余量,能够保持五寸大小的光刻板安稳平放。在周围有八个槽口,用于镊子放置和拿取光刻板。在各边中心四点的内侧均放置有四寸光刻板的三角柱,能够保持四寸大小的光刻板安稳平放,也可以通过槽口来放置和拿取。在四个角上各有一个螺纹孔,螺纹孔可以是M5螺纹孔,一般使用时,旋进两个对角的提杆即可,提杆能够保持光刻板浸没和拿出溶液时,光刻板各部分的同时性,避免不均衡。
在进行光刻掩膜板显影、刻蚀、去胶和清洗时,分以下几步进行:1.用镊子从槽口将光刻板放入夹具中,五寸的光刻板放置在四角的支撑柱体上,四寸的光刻板放置在四边中心处的三角柱上,确认放置安稳。2.用提杆将夹具浸没在溶液中,开始计时,时间到后,用提杆将夹具拿出溶液,用镊子将光刻板取出,吹干。
Claims (5)
1.一种用于光刻掩膜板制作过程的夹具,包括主体部分(1),其特征在于,所述主体部分(1)呈矩形框架结构;所述主体部分(1)的四个角的内侧设有支撑柱体(2),所述主体部分(1)的周边设有多个槽口(3);所述主体部分(1)的四个角上还设有用于安装提杆(6)的螺纹孔(4)。
2.根据权利要求1所述的用于光刻掩膜板制作过程的夹具,其特征在于,所述主体部分(1)各边的中心内侧设有三角柱(5)。
3.根据权利要求1所述的用于光刻掩膜板制作过程的夹具,其特征在于,所述主体部分(1)采用聚四氟乙烯制作而成。
4.根据权利要求1所述的用于光刻掩膜板制作过程的夹具,其特征在于,所述槽口(3)共有八个,等间距的分布在所述主体部分(1)的周边。
5.根据权利要求1所述的用于光刻掩膜板制作过程的夹具,其特征在于,所述螺纹孔(5)为M5螺纹孔。
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