CN107407888B - 扫描曝光装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种扫描曝光装置。为了改善扫描曝光装置的生产节拍时间并提高吞吐量，在进行光源的高照度化和扫描速度的高速化时，防止在基板的端部附近的曝光不均。扫描曝光装置(1)具备：载物台(2)，在与载物台表面(2A)之间设置间隙(2S)而支撑基板(W)；光源单元(3)，向沿基板(W)上的一方向延伸设置的光照射区域(3L)照射光；及扫描装置(4)，使载物台(2)与光源单元(3)的一方或双方沿与一方向交叉的扫描方向(S)相对移动，在扫描装置(4)中设置有从载物台(2)及光源单元(3)静止的位置直至被载物台(2)支撑的基板(W)进入到光照射区域(3L)的加速区间(F)，载物台(2)在其端部具备覆盖载物台表面(2A)与基板(W)之间的间隙(2S)的遮光体(20)。

Description

扫描曝光装置
技术领域
本发明涉及一种扫描曝光装置。
背景技术
一种扫描曝光装置，所述扫描曝光装置为使光源单元与支撑基板的载物台相对移动的同时对基板进行曝光的装置，并且用在掩模图案的曝光(参考下述专利文献1)和光取向用曝光(参考下述专利文献2)等。该扫描曝光装置为具备沿基板平面的一方向延伸设置的光源单元，并且将与光源单元的延伸设置方向交叉的方向设为扫描方向，通过沿扫描方向限定光源单元的光照射区域，实现在该光照射区域中的均匀曝光的同时使对于该光照射区域的基板相对移动，从而对比较大的基板进行均匀曝光。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2009-295950号公报
专利文献2：日本特开2014-174352号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
这些扫描曝光装置中，为了改善曝光处理的生产节拍时间(或提高吞吐量)而进行光源的高照度化和扫描速度的高速化。此时，为了得到均匀曝光，在基板进入到光源单元的光照射区域中直至基板脱离光照射区域的期间，需要维持一定的扫描速度，并为了实现扫描速度的高速化，需要设置从载物台或光源单元停止的状态直至达到一定的高扫描速度的加速区间(助跑区间)。并且，在基板进入到光照射区域的时刻，光源的照射光需要稳定，因此在基板进入到光照射区域之前预先点亮光源。
另一方面，被支撑于载物台上的基板，为了避免载物台表面的静电等的影响，通过销支撑等在载物台表面与基板之间设置有间隙。此时，确认到如下现象，在前述的加速区间中，由光源单元照射的高照度的光在地面等中反射而成为杂散光，并进入载物台表面与基板之间的间隙中，由此从背面侧对基板进行曝光。若发生这种现象，则在透明基板的端部附近，除了在原本的基板表面上进行的曝光以外，还有因杂散光而从基板背面进行的曝光，其中存在产生曝光不均的问题。
作为这种杂散光的措施，考虑到在光源单元中设置快门，但目前的情况是因快门的开闭而粒子产生的问题、以及因光源光(例如，UV光)的近距离照射而快门热变形的问题未得到解决，并依据快门设置采取的杂散光措施未得到实现。
本发明将应对这种问题的措施作为课题的一例。即，本发明的目的在于为了改善扫描曝光装置的生产节拍时间并提高吞吐量，在进行光源的高照度化及扫描速度的高速化时防止在基板的端部附近产生曝光不均。
用于解决技术课题的手段
为了实现这种目的，依据本发明的扫描曝光装置，具备以下构成。
一种扫描曝光装置，其特征在于，具备：载物台，在与载物台表面之间设置间隙而支撑基板；光源单元，向沿所述基板上的一方向延伸设置的光照射区域照射光；及扫描装置，使所述载物台与所述光源单元的一方或双方沿与所述一方向交叉的扫描方向相对移动，所述扫描装置中设置有从所述载物台及所述光源单元静止的位置直至被所述载物台支撑的基板进入到所述光照射区域的加速区间，所述载物台在该载物台的端部具备覆盖所述载物台表面与所述基板之间的间隙的遮光体。
发明效果
具有这种特征的本发明的扫描曝光装置，即使在加速区间从光源单元照射的光成为杂散光而欲入射于载物台表面与基板之间的间隙，由于设置于载物台的端部的遮光体会对此进行遮光，因此能够避免基板的端部从基板的背面侧被曝光的现象。由此，能够防止在基板的端部附近产生曝光不均，并能够在整个基板上实现均匀的扫描曝光。
附图说明
图1是本发明的实施方式所涉及的扫描曝光装置的说明图(图1(a)是侧视的说明图，图1(b)是俯视的说明图)。
图2是表示本发明的实施方式所涉及的扫描曝光装置的动作例的说明图。
图3是表示本发明的实施方式所涉及的扫描曝光装置的功能的说明图(图3(a)是表示本发明的功能的说明图，图3(b)是表示现有技术的问题的说明图)。
图4是表示本发明的实施方式所涉及的扫描曝光装置的光源单元的一例的说明图。
具体实施方式
以下，参考附图对本发明的实施方式进行说明。图1是表示本发明的实施方式所涉及的扫描曝光装置(图1(a)是侧视的说明图，图1(b)是俯视的说明图)。扫描曝光装置1具备载物台2、光源单元3、扫描装置4。在图中，将在沿基板W的平面内正交的方向设为X、Y方向，并将与沿基板W的平面正交的方向设为Z方向。
载物台2在与载物台表面2A之间设置间隙2S而支撑基板W。图示的例中，在被竖直设置于载物台表面2A的销2P的上端支撑基板W而形成间隙2S，但并不限定于此，例如还可通过空气支撑等而形成间隙2S。
光源单元3是向沿基板W上的一方向(图示中的X方向)延伸设置的光照射区域3L照射光。图示的例中，具备光源30、将从光源30射出的光反射的反射部件31、及线栅等偏光板32。光照射区域3L具备朝向X方向延伸设置，并被限定于Y方向上的宽度L。
扫描装置4是使载物台2与光源单元3的一方或双方沿与一方向(X方向)交叉的扫描方向S(图示中的Y方向)相对移动。在此，示出将光源单元3固定，并使载物台2沿扫描方向S移动的例子，但与其相反地也可以将载物台2固定，并使光源单元3沿扫描方向S移动。
扫描装置4中设置有从载物台2及光源单元3静止的位置直至被载物台2支撑的基板W进入到光照射区域3L的加速区间F。该加速区间F是为了在基板W的Y方向的一端进入到光照射区域3L直至基板W的Y方向另一端离开光照射区域3L的期间得到一定速度的扫描速度而所需的区间，提高加速度是有限的，因此想要较高地设定扫描速度时，不得不将加速区间F设定为较长。
并且，载物台2中，在载物台2的端部设置有覆盖载物台表面2A与基板W之间的间隙2S的遮光体20。在图示的例中，在载物台2上的与扫描方向S交叉的两端部设置有遮光体20，但也可以在与扫描方向S交叉的两端部中仅在进入到光照射区域3L的一侧的端部设置遮光体20。另外，也可以在载物台2的沿扫描方向S的端部设置遮光体20，并以遮光体20包围载物台2的整周。
图2是表示使载物台2移动(使光源单元3静止)来进行扫描曝光的情况下的扫描曝光装置1的动作例。在此，从光源单元3的光照射区域3L远离加速区间F相当量的距离向载物台2搬入基板W，并在使载物台2移动加速区间F相当量的期间使扫描速度(载物台的移动速度)上升至所设定的速度Sa。
并且，基板W进入到光源单元3的光照射区域3L时，在直至沿扫描方向S的长度为W1的基板W整体通过宽度L的光照射区域3L为止的移动距离(L+W1)期间被维持一定的扫描速度，在该期间，在基板W上进行均匀的扫描曝光。之后，若基板W整体通过光照射区域3L，则逐渐减速而在基板W从光照射区域3L远离加速区间F相当量的距离时使载物台2停止并进行基板W的搬出。
在此，在载物台2移动加速区间F的期间，由于光源单元3中已点亮光源30，因此从光源30射出的光在地面5等反射而杂散光R朝向基板W照射。此时，如图3(b)所示，若未设置如本发明的实施方式的遮光体20，则会产生杂散光R进入到载物台表面2A与基板W之间的间隙2S，并从背面侧对透明基板W进行曝光的现象。并且，从光源30射出的光在地面5等反射，通过基板W的端部附近，并通过载物台2周围的结构物等进行多重反射，而产生从基板W的上方对基板W上侧进行曝光的现象。若产生这种现象，则在基板W的端部附近或基板W的中央附近进行不必要的额外曝光，无论使正常的光照射区域3L内的曝光多么均匀，在基板W上也会产生一部分曝光不均。
相对于此，如图3(a)所示，在本发明的实施方式中，在载物台2的端部设置遮光体20，并以遮光体20覆盖载物台表面2A与基板W之间的间隙2S，因此即使在产生如图所示的杂散光R的情况下，也能够防止杂散光R进入到间隙2S。并且，能够防止通过基板W的端部附近，并通过载物台2周围的结构物等进行多重反射而从基板W的上方对基板W进行曝光的杂散光的产生。由此，能够将基板W的曝光仅限定于正常的光照射区域3L内的扫描曝光，并能够避免前述曝光不均。
这种扫描曝光装置1能够使用于由光源单元3照射紫外线，并在基板W上形成有光取向材料层的光取向处理中，并能够在基板W上有效地形成均匀的取向膜。即，通过在载物台2的端部设置遮光体20，能够抑制在基板W进入到光照射区域3L之前的光取向材料层的反应，因此无需改变光源单元3而能够适用更加高灵敏度的材料。并且，不仅在加速区间F，在将基板W搬入到载物台2上时还能够抑制局部的反应。
依据本发明的实施方式所涉及的扫描曝光装置1，能够在实现均匀曝光的同时加大加速区间F，因此能够提高光源单元3的亮度而以更高的扫描速度进行曝光，并能够改善生产节拍时间和提高生产量。
并且，连续点亮光源单元3而以稳定的出射光对多个基板W连续地进行曝光处理的情况下，也能够在各基板W上进行均匀曝光。此时，无需设置光源快门，也不会发生因快门的开闭而产生粒子的问题、光源快门自身的热变形问题等的不良情况。
关于光源单元3，其向沿基板W上的一方向(与扫描方向S交叉的方向)延伸设置的光照射区域3L照射光即可，并不限定于将光源30自身朝向与扫描方向S交叉的方向延伸设置，如图4所示，还可以将沿扫描方向S延伸设置的光源30A朝向与扫描方向S交叉的方向排列多个而形成光照射区域3L。此时，能够采用如图4(a)所示，将光源30A排列成单列的光源单元3、或如图4(b)所示，将光源30A以交错状排列成多个列的光源单元3等。
以上，参考附图对本发明的实施方式进行了详细说明，但具体结构并不限定于这些实施方式，即使有未偏离本发明的主旨范围的设计上的变更也包括于本发明。
符号说明
1-扫描曝光装置，2-载物台，2A-载物台表面，2P-销，2S-间隙，20-遮光体，3-光源单元，3L-光照射区域，30、30A-光源，31-反射部件，32-偏光板，4-扫描装置，5-地面，S-扫描方向，W-基板，R-杂散光。

Claims (4)

1.一种扫描曝光装置，其特征在于，具备：
载物台，在与载物台表面之间设置间隙而支撑基板；
光源单元，向沿所述基板上的一方向延伸设置的光照射区域照射光；及
扫描装置，使所述载物台与所述光源单元的一方或双方沿与所述一方向交叉的扫描方向相对移动，
所述扫描装置中设置有从所述载物台及所述光源单元静止的位置直至被所述载物台支撑的基板进入到所述光照射区域的加速区间，
所述基板为透明，
所述载物台在该载物台的端部具备覆盖所述载物台表面与所述基板之间的间隙的遮光体。
2.根据权利要求1所述的扫描曝光装置,其特征在于，
所述载物台在竖直设置于所述载物台表面的多个销的上端支撑所述基板。
3.根据权利要求1或2所述的扫描曝光装置,其特征在于，
所述光源单元照射紫外线。
4.根据权利要求3所述的扫描曝光装置,其特征在于，
在所述基板上形成有光取向材料层。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201921131A (zh) * 2017-08-09 2019-06-01 日商Ｖ科技股份有限公司 光配向用曝光裝置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103365123A (zh) * 2012-04-06 2013-10-23 上海微电子装备有限公司 一种对准系统光阑板的调整机构

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0758423A (ja) * 1993-08-19 1995-03-03 Sony Corp バックアップピン受け部を設けたプリント基板
JP2002151400A (ja) * 2000-11-15 2002-05-24 Canon Inc 露光装置、その保守方法並びに同装置を用いた半導体デバイス製造方法及び半導体製造工場
JP2005150708A (ja) 2003-10-24 2005-06-09 Nikon Corp 静電チャック、ステージ装置及び露光装置
JP2008010643A (ja) 2006-06-29 2008-01-17 Canon Inc ステージ装置
JP2009075303A (ja) * 2007-09-20 2009-04-09 Seiko Epson Corp 電気光学装置の製造装置及び製造方法
JP2009295950A (ja) 2008-05-09 2009-12-17 Nsk Ltd スキャン露光装置およびスキャン露光方法
JP5294488B2 (ja) * 2009-12-03 2013-09-18 株式会社ブイ・テクノロジー 露光装置
JP6239813B2 (ja) * 2012-07-18 2017-11-29 株式会社Ｓｃｒｅｅｎセミコンダクターソリューションズ 基板処理装置および基板処理方法
JP6206945B2 (ja) 2013-03-07 2017-10-04 株式会社ブイ・テクノロジー 走査露光装置及び走査露光方法
JP5344105B1 (ja) * 2013-03-08 2013-11-20 ウシオ電機株式会社 光配向用偏光光照射装置及び光配向用偏光光照射方法
US20190086697A1 (en) * 2016-05-27 2019-03-21 Sharp Kabushiki Kaisha Method for manufacturing liquid crystal display device
JP6985803B2 (ja) * 2017-03-01 2021-12-22 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103365123A (zh) * 2012-04-06 2013-10-23 上海微电子装备有限公司 一种对准系统光阑板的调整机构

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