CN105652608B - 曝光机及曝光方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种曝光机及曝光方法，涉及显示技术领域，在曝光过程中使支撑针顶在显示基板的非显示区域上，从而避免了采用这种显示基板进行画面显示时出现姆拉现象。所述曝光机包括基台、设置于基台中并可从基台的上表面伸出的多个支撑针、与各支撑针相连的支撑针控制器，支撑针控制器包括：与各支撑针相连的支撑针确定单元，用于根据待曝光的显示基板的显示区域和非显示区域的具体位置，确定多个支撑针中要使用的支撑针，使要使用的支撑针对应显示基板的非显示区域；与支撑针确定单元和各支撑针均相连的伸缩控制单元，用于控制要使用的支撑针在曝光时伸出基台的上表面，以支撑显示基板。本发明提供的曝光机用于对显示基板进行曝光。

Description

曝光机及曝光方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种曝光机及曝光方法。

背景技术

在显示面板的基板制造过程中，会多次使用构图工艺，构图工艺包括涂胶、曝光、显影、刻蚀、清洗等工序。其中，曝光工序需要使用曝光机，曝光机包括用于承载待曝光的显示基板的基台10，参见图1，基台10中设置有可从基台10的上表面伸出的多个支撑针20。在曝光机未使用时，支撑针20回缩在基台10内；当使用曝光机对显示基板进行曝光时，将待曝光的显示基板移动至基台10上方，支撑针20伸出基台10的上表面，待曝光的显示基板下降，直至接触支撑针20顶部，然后支撑针20承托着待曝光的显示基板回缩，直至待曝光的显示基板到达预定位置，之后开始进行曝光。

在整个曝光过程中，支撑针20支撑显示基板，使得在显示基板对应有支撑针20支撑的部位上，受到了支撑力，从而该支撑力的作用会干扰到显示基板的曝光过程，造成显影后显示基板上留下支撑针20顶部圆圈形的痕迹。由于不同规格的显示基板上显示区域的位置各不相同，非显示区域的位置也各不相同，但是支撑针20在基台10上的位置却是固定的，因此难免会有支撑针20刚好顶在显示基板的显示区域内，导致前述圆圈形的痕迹出现在显示区域内，从而在进行画面显示时，显示区域内出现亮斑、亮线、暗斑等亮度不均一的现象，这种亮度不均一的现象称为姆拉现象。存在姆拉现象会导致显示面板的画面质量下降，降低了显示面板的良品率。

发明内容

本发明的目的在于提供一种曝光机及曝光方法，在曝光过程中使支撑针顶在显示基板的非显示区域上，从而避免了采用这种显示基板进行画面显示时出现姆拉现象。

为了达到上述目的，本发明提供如下技术方案：

一方面，本发明提供了一种曝光机，包括基台，及设置于所述基台中并可从所述基台的上表面伸出的多个支撑针，所述曝光机还包括与各支撑针相连的支撑针控制器，所述支撑针控制器包括：与各支撑针相连的支撑针确定单元，所述支撑针确定单元用于根据待曝光的显示基板的显示区域和非显示区域的具体位置，确定多个所述支撑针中要使用的支撑针，使所述要使用的支撑针对应所述显示基板的非显示区域；与所述支撑针确定单元相连的伸缩控制单元，所述伸缩控制单元还与各支撑针相连，所述伸缩控制单元用于控制所述要使用的支撑针在曝光时伸出所述基台的上表面，以支撑所述显示基板。

在本发明所提供的曝光机中，设置有与各支撑针相连的支撑针控制器，在曝光前，支撑针控制器的支撑针确定单元根据待曝光的显示基板的显示区域和非显示区域的具体位置，在基台中的多个支撑针中，选择与非显示区域对应的支撑针，确定为要使用的支撑针；在曝光时，支撑针控制器的伸缩控制单元控制所确定的要使用的支撑针伸出基台的上表面，并顶在该显示基板的非显示区域上。因此在显影后，因支撑针作用在显示基板上而形成的圆圈形的痕迹只会出现在显示基板的非显示区域上，从而在显示面板进行画面显示时不会出现姆拉现象，提高了显示面板的画面质量，也就提高了显示面板的良品率。

另一方面，本发明提供了一种曝光方法，所述曝光方法适用于上述曝光机，所述曝光方法包括：根据待曝光的显示基板的显示区域和非显示区域的具体位置，确定所述曝光机的多个支撑针中要使用的支撑针，使所述要使用的支撑针对应所述显示基板的非显示区域；控制所述要使用的支撑针伸出所述曝光机的基台的上表面，支撑所述显示基板，开始对所述显示基板进行曝光。

本发明所提供的曝光方法的有益效果与上述曝光机的有益效果相同，在此不再赘述。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1现有技术中的曝光机的基台的结构示意图；

图2为本发明实施例所提供的曝光机的基台的结构示意图；

图3为本发明实施例所提供的支撑针的结构示意图。

附图标记：

10-基台；20-支撑针；21-第一支撑针；

22-第二支撑针；30-安装孔；40-上盖。

具体实施方式

为使本发明所提出的技术方案的目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面将结合附图，对本发明所提出的技术方案的实施例进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是所提出的技术方案的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，均属于本发明保护的范围。

需要说明的是，本发明中所述的“显示区域”是指显示面板中各像素的开口区域，即能够透光的区域；“非显示区域”是指显示面板中除各像素的开口区域以外的区域，即遮光的区域，这些区域包括相邻像素之间的缝隙区域及边框区域等。

实施例一

本实施例提供了一种曝光机，参见图2，该曝光机包括用于承载待曝光的显示基板的基台10和支撑针控制器，基台10中设置有多个支撑针20，多个支撑针20可从基台10的上表面伸出，且多个可伸缩的支撑针20均与支撑针控制器相连。支撑针控制器包括相连的支撑针确定单元和伸缩控制单元，且支撑针确定单元与各支撑针20相连，伸缩控制单元也与各支撑针相连；其中，支撑针确定单元用于根据待曝光的显示基板的显示区域和非显示区域的具体位置，确定多个支撑针20中要使用的支撑针20，使要使用的支撑针20对应显示基板的非显示区域，伸缩控制单元用于控制要使用的支撑针20在曝光时伸出基台10的上表面，以支撑该显示基板。

使用上述曝光机对显示基板进行曝光之前，支撑针控制器的支撑针确定单元根据待曝光的显示基板的显示区域和非显示区域的具体位置，从多个支撑针20中，选择与待曝光的显示基板的非显示区域所在位置相对应的支撑针20，确定为要使用的支撑针；在曝光时，支撑针控制器的伸缩控制单元控制要使用的支撑针20伸出基台10的上表面，以使支撑针20的顶部顶在显示基板的非显示区域上，从而将显示基板支撑在基台10上。因此在该显示基板进行显影后，因支撑针20作用在显示基板上而留下的痕迹只会出现在显示基板的非显示区域上，当由该显示基板制成的显示面板进行画面显示时，显示区域上并不会出现姆拉现象，不会影响到显示面板的画面质量，从而提高了显示面板的良品率。

基台10上的支撑针20可对显示基板起到支撑的作用，以方便显示基板起降，从而完成曝光动作，进一步的，为了将显示基板固定于基台10上进行曝光，可通过使部分支撑针20吸附在显示基板上来实现。因此，参见图2，本实施例中的多个支撑针20可包括多个同时具有支撑和吸附功能的第一支撑针21和多个具有支撑功能的第二支撑针22。其中，第一支撑针21的结构可为：包括针体和设置于针体内部的吸附管道，各第一支撑针21的吸附管道远离显示基板的一端与抽真空装置相连，在第一支撑针21支撑显示基板时，抽真空装置能够为吸附管道内提供气流，从而吸附管道靠近显示基板的一端能够产生负压，以吸附显示基板。优选的，抽真空装置可为气缸。

在实际生产中，各显示面板的显示区域和非显示区域的位置各不相同，因而对应的显示基板上的显示区域和非显示区域的位置也各不相同，为了使曝光机的基台10适用于各种显示基板，可在基台10中紧密布置多个支撑针20，从而形成具有高密度支撑针20的基台10，使得针对不同的显示基板，在确定要使用的支撑针20时，均能够有对应的选择方案，同时，还能够从高密度支撑针20中确定足够数量的支撑针20，以提供足够大的支撑力和/或吸附力作用于显示基板上。可参考的，支撑针20在基台10上的分布如下：

对于第一支撑针21而言，因第一支撑针21内设有吸附管道，且第一支撑针21的顶部需要吸附在显示基板上，因此，可将第一支撑针21的尺寸设计得稍大些，对应的，第一支撑针21在基台10上表面上的分布密度应稍小一些，优选的，多个第一支撑针21的分布密度为1/3.5²～1/2.5²个/cm²，即相邻两个第一支撑针21之间的距离要稍远些，可设置相邻两个第一支撑针21之间的距离为2.5cm～3.5cm。其中，可取第一支撑针21的分布密度范围的一个中间值作为最佳方案，即第一支撑针21在基台10上表面上的分布密度可为1/3²个/cm²，也就是设置相邻两个第一支撑针21之间的距离为3cm。

相比于第一支撑针21，第二支撑针22的尺寸较小，因此第二支撑针22在基台10上表面上的分布密度可大一些，优选的，多个第二支撑针22的分布密度为1/2.5²～1/1.5²个/cm²，即相邻两个第二支撑针22之间的距离可更近些，可设置相邻两个第二支撑针22之间的距离为1.5cm～2.5cm。其中，可取第二支撑针22的密度分布范围的一个中间值作为最佳方案，即第二支撑针22在基台10上表面上的分布密度可为1/2²个/cm²，也就是设置相邻两个第二支撑针22之间的距离为2cm。

参见图1，而现有技术中曝光机的基台10上，相邻支撑针20之间的距离大约为10cm左右，结合本实施例中提供的对相邻支撑针20之间的距离设定的方案，本实施例所提供的曝光机大大提高了支撑针20在基台10上的分布密度，从而能够实现在显示基板曝光时，根据显示基板的显示区域和非显示区域的位置有针对性的选择和确定要使用的支撑针20。

需要说明的是，在图1和图2中，支撑针20的大小、各支撑针20间的距离、支撑针20的数量及支撑针20在基台10上的具体分布规律均为示意性的表示，并不能构成对本发明所提供的装置的具体结构的限定。

在本实施例中，当显示基板进行曝光时，为了避免不使用的支撑针20在基台10的上表面与显示基板接触而影响曝光，参见图3，可在基台10的上表面内设置有多个安装孔30，以将支撑针20安装在对应的安装孔30内；进一步地，可在安装孔30内靠近基台10上表面的一侧设置开合结构，在开合结构打开时，相应的支撑针20能够伸出基台10的上表面，在开合结构闭合时，相应的支撑针20被封闭在安装孔30内。

具体的，可设置多个第一安装孔，以使多个第一支撑针21一一对应的安装在多个第一安装孔内，同时在第一安装孔内接近基台10上表面的一侧设置第一开合结构。第一开合结构能够在闭合时，将第一支撑针21遮挡在第一安装孔内，且若抽真空装置是统一为各第一支撑针21提供气流的，第一开合结构能够阻挡不使用的第一支撑针21产生的负压作用到显示基板上，从而避免了因不使用的第一支撑针21与显示基板接触或者第一支撑针21内的负压作用在显示基板上，而导致显示基板产生变形和翘曲等现象。在第一开合结构打开时，确定要使用的第一支撑针21能够从第一安装孔内伸出基台10的上表面，以支撑和吸附显示基板。

相应的，可设置多个第二安装孔，多个第二支撑针22一一对应的安装在多个第二安装孔内，同时在第二安装孔内接近基台10上表面的一侧设置第二开合结构。第二开合结构能够在闭合时，将第二支撑针22遮挡在第二安装孔内，从而避免了因不使用的第二支撑针22与显示基板接触，而导致显示基板产生变形和翘曲等现象。在第二开合结构打开时，确定要使用的第二支撑针22能够从第二安装孔内伸出基台10的上表面，以支撑显示基板。

优选的，可使第一开合结构和第二开合结构均与支撑针控制器相连，因而支撑针控制器还包括开合控制单元，开合控制单元用于控制第一开合结构和第二开合结构闭合或者打开。具体的过程可为：当支撑针确定单元已确定好要使用的第一支撑针21和第二支撑针22时，开合控制单元控制与要使用的第一支撑针21和第二支撑针22相对应的第一开合结构和第二开合结构打开，同时开合控制单元控制与不使用的第一支撑针21和第二支撑针22相对应的第一开合结构和第二开合结构闭合，进而伸缩控制单元再控制要使用的第一支撑针21和第二支撑针22伸出基台10的上表面；相应的，伸缩控制单元也可控制使用完的第一支撑针21和第二支撑针22回缩至对应的安装孔30内，开合控制单元再控制与回缩的第一支撑针21和第二支撑针22相对应的第一开合结构和第二开合结构闭合。

进一步的，为了避免开合结构过多的暴露在基台10的上表面，导致开合结构与显示基板接触以至影响曝光过程，可使开合结构在闭合时均与基台10的上表面处于同一平面内。

基于上述对开合结构的作用和安装位置的说明，示例性的，开合结构的具体结构可为：包括两个对称设置的半圆形上盖40，在开合结构闭合时，两个半圆形上盖40的直边拼接在一起，构成一个密闭的圆形，从而将支撑针20封闭在安装孔30内；在开合结构打开时，两个上盖40分开，并运动收缩至基台10的主体的内部，从而使支撑针20能够伸出。

具体到第一支撑针21所对应的第一开合结构及第二支撑针22所对应的第二开合结构，第一开合结构的上盖40的直径可根据第一支撑针21的大小来设定，较佳的，第一开合结构的上盖40的直径要大于第一支撑针21的直径，以将第一支撑针21进行全面的遮挡，例如，当第一支撑针21的顶部为圆形，且第一支撑针21的顶部的直径为8mm时，第一开合结构的两个上盖40闭合时构成的圆形的直径可为10mm。第二开合结构的上盖40的直径可根据第二支撑针22的大小来设定，较佳的，第二开合结构的上盖40的直径要大于第二支撑针22的直径，以将第二支撑针22进行全面的遮挡，例如，当第二支撑针22的顶部为圆形，且第二支撑针22的顶部的直径可为4mm时，第二开合结构的两个上盖40闭合时构成的圆形的直径可为6mm。

在开合结构能够对相应的支撑针20实现遮挡效果的前提下，可将开合结构的厚度设计得较薄，优选的，开合结构的厚度可为0.5mm，以使开合结构在闭合时几乎与基台10的上表面相持平，进一步避免不使用的开合结构作用在显示基板上，影响显示基板的曝光。

为了完善上述曝光机，应尽可能排除会对显示基板的曝光造成影响的因素，例如，为了防止不使用的第一支撑针21的顶部通过第一开合结构作用在显示基板上，以及不使用的第一支撑针21的负压作用在显示基板上，可使第一支撑针21与对应的第一开合结构有一定间距。因第一支撑针21内部有吸附管道，其尺寸略大，其长度可为10mm左右，且因负压的作用力较大，因而可使第一支撑针21与对应的第一开合结构的间距适当的大些，可选的，当第一开合结构闭合时，第一支撑针21与对应的第一开合结构之间的间距可为10mm。

同样的道理，为了防止第二支撑针22的顶部通过第二开合结构作用在显示基板上，可使第二支撑针22与对应的第二开合结构有一定间距。第二支撑针22的尺寸较小，其长度可为5mm左右，因而可使第二支撑针22与对应的第二开合结构的间距适当的小些，可选的，当第二开合结构闭合时，第二支撑针22与对应的第二开合结构之间的间距可为6mm。

需要说明的是，本实施例中，操作人员可通过在曝光机的控制面板上进行操作，从而对曝光机的支撑针及支撑针控制器等部件进行控制，并对曝光机的工作状态进行监控等。

实施例二

本实施例提供了一种曝光方法，该曝光方法适用于实施例一提供的曝光机，该曝光方法包括以下步骤：

根据待曝光的显示基板的显示区域和非显示区域的具体位置，确定上述曝光机的多个支撑针中要使用的支撑针，使要使用的支撑针对应该显示基板的非显示区域；

控制要使用的支撑针伸出上述曝光机的基台的上表面，支撑该显示基板，开始对该显示基板进行曝光。

上述曝光方法中，根据不同显示基板中显示区域和非显示区域的位置等的不同，从曝光机的多个支撑针选择部分支撑针，使这些支撑针与显示基板的非显示区域所在的位置相对应，确定所选择的支撑针为要使用的支撑针。

曝光时，控制要使用的支撑针伸出曝光机的基台的上表面，并顶在待曝光的显示基板的非显示区域上，以支撑该显示基板，之后可控制处于使用状态的支撑针回缩至基台上表面的一定位置处，开始对显示基板进行曝光。

上述曝光方法可在曝光时，使支撑针仅作用在非显示区域上，因此在该显示基板进行显影后，因支撑针的作用导致显示基板上形成的痕迹只是出现在了显示基板的非显示区域上，从而在显示面板进行画面显示时不会出现姆拉现象，提高了显示面板的画面质量，也就提高了显示面板的良品率。

本发明的实施例一和实施例二中所提供的曝光机和曝光方法适用于各种显示面板，下面简单介绍其中一种显示面板的结构，仅以此例使本发明所适用的范围具体化，以便于理解本发明所提供的技术方案。

所述显示面板主要包括对盒的彩膜基板和阵列基板，其中，彩膜基板主要包括玻璃基板、用于区别各像素的黑矩阵、用于滤光的彩色光阻、用于保护彩色光阻的保护层和用于与阵列基板电连接的透明导电薄膜，彩膜基板还包括彩膜基板和阵列基板对盒时用于支撑盒厚的隔垫物。在上述结构的制备过程中，所需要曝光的环节均可采用本发明所提供的曝光机和曝光方法。

值得一提的是，随着显示装置轻薄化的发展趋势，制备显示面板时所使用的玻璃基板也越来越薄，若使用现有的支撑针为固定设置的曝光机，在曝光时因支撑针作用在显示基板上而导致形成姆拉现象更为严重，因此本发明所提供的曝光机和曝光方法显得尤为重要。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (14)

1.一种曝光机，包括基台，及设置于所述基台中并可从所述基台的上表面伸出的多个支撑针，其特征在于，所述曝光机还包括与各支撑针相连的支撑针控制器，所述支撑针控制器包括：

与各支撑针相连的支撑针确定单元，所述支撑针确定单元用于根据待曝光的显示基板的显示区域和非显示区域的具体位置，确定多个所述支撑针中要使用的支撑针，使所述要使用的支撑针对应所述显示基板的非显示区域；

与所述支撑针确定单元相连的伸缩控制单元，所述伸缩控制单元还与各支撑针相连，所述伸缩控制单元用于控制所述要使用的支撑针在曝光时伸出所述基台的上表面，以支撑所述显示基板。

2.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，多个所述支撑针包括多个第一支撑针和多个第二支撑针，所述第一支撑针包括针体和设置于所述针体内部的吸附管道；

所述曝光机还包括抽真空装置，所述抽真空装置与各所述第一支撑针内的吸附管道相连，在所述第一支撑针支撑所述显示基板时，所述吸附管道靠近所述显示基板的一端在所述抽真空装置的作用下产生负压，以吸附所述显示基板。

3.根据权利要求2所述的曝光机，其特征在于，多个所述第一支撑针在所述基台上表面上的分布密度为1/3.5²～1/2.5²个/cm²。

4.根据权利要求3所述的曝光机，其特征在于，多个所述第一支撑针在所述基台上表面上的分布密度为1/3²个/cm²。

5.根据权利要求2所述的曝光机，其特征在于，多个所述第二支撑针在所述基台上表面上的分布密度为1/2.5²～1/1.5²个/cm²。

6.根据权利要求5所述的曝光机，其特征在于，多个所述第二支撑针在所述基台上表面上的分布密度为1/4²个/cm²。

7.根据权利要求2所述的曝光机，其特征在于，所述基台的上表面内设置有多个安装孔，多个所述支撑针一一对应的安装在多个所述安装孔内，所述安装孔内靠近所述基台上表面的一侧设置有开合结构。

8.根据权利要求7所述的曝光机，其特征在于，所述开合结构包括两个对称设置的半圆形上盖，在所述开合结构闭合时，两个所述上盖拼接构成一圆形，在所述开合结构打开时，两个所述上盖能够收缩进所述基台的主体的内部。

9.根据权利要求8所述的曝光机，其特征在于，所述第一支撑针的顶部为圆形，所述第一支撑针的顶部的直径为8mm，与所述第一支撑针对应的开合结构闭合时的直径为10mm；

所述第二支撑针的顶部为圆形，所述第二支撑针的顶部的直径为4mm，与所述第二支撑针对应的开合结构闭合时的直径为6mm。

10.根据权利要求8所述的曝光机，其特征在于，所述开合结构的厚度为0.5mm。

11.根据权利要求8所述的曝光机，其特征在于，所述开合结构闭合时与所述基台的上表面处于同一平面内。

12.根据权利要求7所述的曝光机，其特征在于，在所述开合结构闭合时，所述第一支撑针与对应的开合结构之间的间距为10mm，所述第二支撑针与对应的开合结构之间的间距为6mm。

13.根据权利要求7所述的曝光机，其特征在于，所述支撑针控制器还包括与所述开合结构相连的开合控制单元，所述开合控制单元用于控制所述开合结构闭合或者打开。

14.一种曝光方法，其特征在于，所述曝光方法适用于权利要求1～13任一项所述的曝光机，所述曝光方法包括：

根据待曝光的显示基板的显示区域和非显示区域的具体位置，确定所述曝光机的多个支撑针中要使用的支撑针，使所述要使用的支撑针对应所述显示基板的非显示区域；

控制所述要使用的支撑针伸出所述曝光机的基台的上表面，支撑所述显示基板，开始对所述显示基板进行曝光。