KR850002099A - 카바펜엠 공정 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (7)
- 일반식의 화합물을 제조하는 방법.여기에서 R8은 수소이고, R1은 수소; 치환된 것과 치환되지 않은 1-10개 탄소원자를 갖는 알킬, 알케닐 및 알키닐; 싸이클로알킬에 3-6개의 탄소원자를 가지며 알킬의 일부분에 1-6개의 탄소원자를 가지는 싸이클로알킬 및 싸이클로알킬알킬; 페닐; 아릴의 일부분의 페닐이고 알리파틱 부분이 1-6개의 탄소원자를 가지는 아랄킬, 아랄케닐 및 아랄키닐; 상기 언급한 헤테로싸이클릭 일부분들에 있는 이중원자나 원자들이 1-4개의 산소, 질소나 유황원소로 구성되는 그룹으로부터 선택되고 상기 헤테로싸이클릭 일부분들과 결합된 알킬 일부분들이 1-6개의 탄소원자를 가지는 헤테로아릴, 헤테로아랄킬, 헤테로싸이클릴 및 헤테로싸이클릴알킬부터 선택되며; 여기에서 상기 언급한 기(레디칼)에 관련된 치환체나 치환체들은 아미노, 할로, 하이드록시 혹은에 의하여 임의로 치환된 C1-C6알킬로 구성되는 그룹으로부터 독립적으로 선택되며;여기에서, 상기 언급한 치환체들에 관하여는 R3과 R4그룹은 수소; 1-10개의 탄소원자를 가지는 알킬, 알케닐 및 알키닐; 싸이클로알킬에 3-6개의 탄소원자를 가지며 알킬 일부분에 1-6개의 탄소원자를 가지는 싸이클로알킬, 싸이클로알킬알킬 및 알킬싸이클로알킬; 페닐; 아릴의 일부분의 페닐이고 알리파틱 부분이 1-6개의 탄소원자를 가지는 아랄킬, 아랄케닐 및 아랄키닐;과 상기 언급한 헤테로싸이클릭의 일부분들이 있는 이중원자 또는 원자들이 1-4개의 산소, 질소나 유황원소로 구성되는 그룹으로부터 선택되고, 상기 헤테로싸이클릭 일부분과 결합된 알킬 일부분들이 1-6개의 탄소원자를 가지며, 혹은 적어도 하나가 붙어있는 질소원자와 동시에 취해진 R3과 R4가 5- 혹은 6-원 질소-함유 헤테로싸이클릭환을 형성할 수도 있는 헤테로아릴, 헤테로아랄킬, 헤테로싸이클릴 및 헤테로싸이클릴알킬부터 독립적으로 선택되며; R9는 수소가 아닐 수도 있는 것을 제외하고 R2에 대하여 정의된 바와 같고; 혹은 동시에 취택된 R1과 R8는 하이드록시에 의하여 치환된 C2-C10알킬레덴을 나타내며, R5는 치환된 것과 치환되지 않은; 1-10개 탄소원자를 가지는 알킬, 알케닐 및 알키닐; 싸이클로알킬링에 3-6개 탄소원자를 가지며 알킬 일부들에 1-6개 탄소원자를 가지는 싸이클로알킬 및 싸이클로알킬알킬; 페닐; 아릴의 일부가 페닐이며 알리파틱부분이 1-6개의 탄소원자를 가지는 아랄킬, 아랄케닐 및 아랄키닐;상기 언급한 헤테로싸이클릭의 일부분들이 있는 이종원자 또는 원자들이 1-4개의 산소, 질소나 유황원자로 구성되는 그룹으로부터 선택되고, 상기 헤테로싸이클릭 일부와 결합된 알킬의 일부들이 1-6개의 탄소원자를 갖는 헤테로아릴, 헤테로아랄킬, 헤테로싸이클릴 및 헤테로싸이클릴알킬로 구성되는 그룹으로부터 선택되며; 여기에서 상기 언급된 R5기들은 아미노, 플루오로, 클로로, 카복실, 하이드록시 혹은 카바모일에 의하여 임의로 치환된 C1-C6알킬; 플루오로, 클로로 혹은 브로모;에 의하여 임의로 치환된 C1-C6알킬이나 혹은 1-3 플루오로, 클로로, 브로모, C1-C|6알킬, 그와 같은 R5치환체에 있는 R3,R4및 R9가 상기 정의된 바와 같은 -OR3, -NR3R4, -SO3R3, -CO2R4나 -CONR3R4에 의하여 임의로 치환된 페닐로부터 독립적으로 선택된 1-3 치환체들에 의하여 임의로 치환되거나; R5는 그 환이 O,S 및 N으로부터 선택된 첨가 이중원자들을 함유할 수도 있는 융합된 헤테로싸이클릭환이나 헤테로아로마틱환을 형성하도록 그 환의 다른 지점에서에 부착될 수도 있으며, R15는 수소; 치환된 것과 치환되지 않은; 1-10개 탄소원자를 가지는 알킬, 알케닐 및 알키닐; 싸이클로알킬환에 3-6개 탄소원자를 가지며 알킬의 일부분에 1-6개 탄소원자를 가지는 싸이클로알킬, 싸이클로알킬알킬 및 알킬싸이클로알킬, 3-6 탄소원자를 가지는 스피로싸이클로알킬; 페닐; 아릴일부가 페닐이며 알리파틱 부분이 1-6개의 탄소원자를 가지는 아랄킬, 아랄케닐 및 아랄키닐; 상기 언급한 헤테로싸이클릭의 일부에 있는 이중원자나 원자들이 1-4개의 산소, 질소나 유황원자로 구성되는 그룹으로부터 선택되고 상기 헤테로싸이클릭의 일부들와 결합된 알킬의 일부가 1-6개의 탄소원자를 갖는 헤테로아릴, 헤테로아랄킬, 헤테로싸이클릴 및 헤테로싸이클릴알킬로 구성되는 그룹으로부터 선택되며; 여기에서 상기 언급한 레디칼과 관련된 치환체나 치환체들은 아미노, 모노-, 디- 및 트리알킬아미노, 하이드록실, 알콕실, 메르캅토, 알킬티오, 페닐티오, 슬파모일, 아미디오, 구아니디오, 니트로, 클로로, 브로모, 플루오로시아노및 카복시로 구성되는 그룹으로부터 선택되며, 또 여기에서 상기 언급한 치환체들 중의 알킬 일부분은 1-6개 탄소원자를 가지며; A는 C1-C6직쇄나 측쇄 알킬렌이고, R2는 R2이 수소이거나 보호그룹일때 반대이온도 또한 존재한다는 조건으로, 수소나 음이온 전하, 또는 통상적으로 용이하게 제거할 수 있는 카복실-보호그룹이며;는 환에 적어도 한개의 질소를 함유하면서 환탄소원자를 거쳐 A에 부착되며, R5그룹에 의하여 4개의 원자로 이루어지는 환질소를 가지는 치환되거나 치환되지 않은 모노-, 바이 혹은 풀리-싸이클릭 아로마틱 헤테로싸이클릭 레디칼을 나타낸다.본 발명의 공정은, R1,R8및 R15가 앞에서 정의된 바와 같고, R2'가 통상적으로 용이하게 제거 가능한 카복실보호그룹이며 L이 톨루엔슬포닐옥시, p-니트로벤젠슬포닐옥시, 디페녹시포스피닐옥시 혹은 할로와 같은 통상의 이탈그롭인 일반식,의 중간체를 A와이 앞서 정의된 바와 같고가 불활성용매중에서 염기의 존재하의반대이온인 일반식이 티올 화합물과 반응시켜서 R1,R8,R15,R2',A및가 앞서 정의된 바와 같은 일반식의 카바펜엠 생성물을 생성하고, 필요하다면 카복실 보호그룹 R2'를 제거하여 일반식 Ⅰ의 상응하는 탈-차단화합물을 얻거나 이들의 약제학상 허용가능한 염을 얻는 것으로 구성된다.
- 염기가 가성소다인 청구범위 제1항에 따른 방법.
- 반응이 약 -15℃ +15℃ 범위의 온도에서 수항되는 청구범위 제1항에 따른 방법.
- 이탈그룹 L이 클로로, 브로모, 아이오도, 벤젠슬포닐옥시, p-톨루엔슬포닐옥시, p-니트로벤젠슬포닐옥시, 메탄슬포닐옥시, 트리플루오로메탄슬포닐옥시, 디페녹시포스피닐옥시 혹은 디(트리클로로에톡시)포스포닐옥시인 청구범위 제1항, 2항 혹은 3항에 따른 방법.
- 이탈그룹 L이 디페녹시포스피닐옥시인 청구범위 제1항, 2항 혹은 3항에 따른 방법.
- 일반식의 화합물을 제조하는 방법.여기에서 R2는 R2가 수소이거나 보호그룹일때, 반대이온, 혹은 약제상 허용가능한 이들의 염도 존재하는 것을 조건으로 수소, 음이온 전하이거나 통상적으로 용이하게 제거 가능한 카복실-보호그룹이다.이 공정은 L이 통상적인 이탈그룹이고, R2'가 통상적으로 용이하게 제거가능한 카복실-보호그룹인 일반식의 중간체를,가 불활성 유기용매에서 또 염기의 존재하에서 음이온인 일반식의 티올화합물과 반응시켜서 R2'와 (★스캔)가 상기 정의된 바와 같고 필요하면, 보호그룹 R2'를 제거하여 상응하는 일반식 Ⅰ의 탈-차단화합물이나 약제상 허용가능한 이들의 염을 얻는 일반식의 카바펜엠 생성물을 생산하는 것으로 구성된다.
- 일반식의 화합물을 제조하는 방법.여기에서 R2는 R2가 수소이거나 보호그룹일때, 반대이온, 혹은 약제상 허용가능한 이들의 염도 존재하는 것을 조건으로 수소, 음이온 전하이거나 통상적으로 용이하게 제거 가능한 카복실-보호그룹이다.이 공정은 L이 통상적인 이탈그룹이고, R2'가 통상적으로 용이하게 제거가능한 카복실-보호그룹인 일반식의 중간체를,가 불활성 유기용매에서 또 염기의 존재하에서 음이온인 일반식의 티올화합물과 반응시켜서 R2'와가 상기 정의된 바와 같고 필요하면, 보호그룹 R2'를 제거하여 상응하는 일반식 Ⅰ의 탈-차단화합물이나 약제한 허용가능한 이들의 염을 얻는 일반식의 카바펜엠 새성물을 생산하는 것으로 구성된다.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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