KR840008383A - 감광성 고분자 조성물(感光性高分子組成物) - Google Patents

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Abstract

내용 없음.

Description

감광성 고분자 조성물(感刑生高分子組成物)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (10)

  1. 다음으로 조성되는 감광성 고분자 조성물. (A). 폴리(아믹 아씨드) (B). 다음의 (i)과 (ii)의 화합물들 중에서 선택되고 빛의 조사에 의하여 분자내에 2개 또는 그 이상의 아미노기를 갖는 화합물을 형성 할 수 있는 화합물이나 또는 화합물들의 혼합물. (i). 최소한 한가지의 비스 아지드와 분자내에 화학식로 표시되는 기를 최소한 하나를 갖는 최소한 한가지의 아민과의 혼합물. (ii). 분자내에 방향족아지도기이든가 또는 설포닐 아지도기를 갖는 최소한 한가지의 아민화합물.(C). 대기압하에서의 비검이 150℃ 또는 그 이상이고 다음의 화학식의 화합물들로 조성되는 그룹중에서 선택된 최소한 한가지의 화합물.
    Rb와 Rc는 독립적인 수소이거나 저급 알킬기 또는 아세틸기이고, m는 1 내지 10까지의 정수 그리고 화학식.
    으로 표시되는 화합물들, 여기서 Rb와 Rc는 위에서 정의한 것과 같다.
  2. 특허청구범위 1에 따르는 조성물에 있어서 폴리(아믹아씨드)는 중량비로 100부를 사용하고, 성분(B)로서는 중량비로 0.1 내지 100부의 최소한 한가지의 비스아지드와 또 중량비로 1 내지 400부의 분자내에 화학식의 기를 최소한 한가지를 갖는 최소한 한가지의 아민과의 혼합물을 사용하며, 성분(C) 중량비로 1 내지 50부를 사용하는 것.
  3. 특허청구범위 2에 따르는 조성물에 있어서, 성분(C)는 다음의 화합물들 중에서 선택된 최소한 한가지의 화합물들이다. 트라이에틸렌 글러콜[HO-(-CH2CH2O-)3-H] 테트라에틸렌 글리콜 [HO-(-CH2CH2O-)4-H] 글리세린[] 그리고, 데트라에틸렌 글리콜 디메틸에텔 [CH3O-(CH2CH2O)-CH3].
  4. 특허청구범위 2에 따르는 조성물에 있어서, 폴리(아믹아씨드)는 다음의 화학식의 반복 단위를 갖는다.
    그리고 n는 1 또는 2의 정수이다.
  5. 특허청구범위 2에 따르는 조성물에 있어서, 비스아지드는 다음에 있는 그룹중에서 선택된 최소한 한가지의 화합물이다.
  6. 특허청구범위 2이 따르는 조성물에 있어서 아민은 다음에 있는 그룹중에서 선택된 최소한 한가지이다.
  7. 특허청구범위 1에 따르는 조성물에 있어서 성분 (A)는 중량비로 100부의 분량을 사용하고 성분(B)로서는 분자내에 방향족 아지도기 이거나 또는 실포닐아지도기를 갖는 최소한 한가지의 아민 화합물을 중량비로 1내지 100부를 사용하며 또 성분 (C)는 중량비로 1내지 50부의 분량을 사용하는 것.
  8. 특허청구범위 7에 따르는 조성물에 있어서 성분 (C)는 다음에 있는 그룹중에서 선택된 최소한 한가지의 화합물이다. 트라이에틸렌 글리콜 [HO-(-CH2CH2O-)3-H], 테트라에틸렌 글리콜 [HO-(-CH2CH2O-)4-H] 글리세린 [] 그리고 테트라에틸렌 글리콜 디메틸에텔 [CH3O-(CH2CH2O)-CH3].
  9. 특허청구범위 7에 따르는 조성물에 있어서 폴리(아믹 아씨드)는 다음 화학식의 반복 단위를 갖고 있는것.
    n는 1또는 2의 정수이다.
  10. 특허청구범위 7에 따르는 조성물에서 아민화합물은 다음이 있는 그룹중에서 선택된 한가지이다.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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