KR840007319A - 글로방전 침착장치 - Google Patents

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Abstract

내용 없음

Description

글로방전 침착장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 각 셀이 반도체합금으로부터 형성된 다수의 p―i―n형 셀을 구비하는 탄뎀광전지장치에 대한 부분단면도.
제2도는 제1도에 도시한 셀과 같은 광전지장치를 연속적으로 제조하기 위해 적용된 다중 글로방전연소실 침착시스템에 대한 개략적 도면.
제3도는 배치방식 글로우방전 침착장치를 사용하기에 적합한 본 발명인 역행캐소드장치의 한 실시예에 대한 확대투시도.

Claims (23)

  1. 침착연소실과, 상기 침착연소실내에 배치된 대영역기판과 상기 기판의 표면을 거쳐 상기 침착연소실내로 공정가스를 유입시키기 위한 수단과, 기판 및 글로우방전수단 사이에 침착플라즈마 영역을 형성시키기 위한 하향글로우방전 수단을 구비한 글로우방전 침착장치에 있어서, 침착플라즈마 영역을 통해 흐르는 공정가스를 기판의 표면상에 반도체 박막으로 침착시키기 위해 침착플라즈마 영역의 상향으로 배치된 하향글로우 방전수단과, 상향플라즈마 영역을 형성시키는 상기 상향글로우 방전수단을 포함하여 상기 기판의 표면상에 침착된 반도체 박막이 대영역기판의 전표면에 걸쳐 순수하고 균일한 화학성분으로 이루어진 것을 특징으로 하는 글로우방전 침착장치.
  2. 제1항에 의한 장치에 있어서, 상향글로우 방전수단은 공정가스 및 침착연소실의 내벽내의 불순물을 제거하여, 공정가스를 해리하고 재결합시키는 것을 특징으로 하는 글로우방전 침착장치.
  3. 제2항에 의한 장치에 있어서, 공정가스 및 실내벽으로부터 제거된 불순물을 수집하여, 공정가스를 분리시키고 재결합시키는 수단을 구비한 글로우방전 침착장치.
  4. 제3항에 의한 장치에 있어서, 상향글로우 방전수단은 침착플라즈마 영역과 접촉하기에 앞서 공정가스가 흐르는 r.f 분무된 프리캐소드이라는 것을 특징으로 하는 글로우방전 침착장치.
  5. 제3항에 의한 장치에 있어서, 상향글로우 방전수단은 공정가스가 기판상에 배치되기에 앞서 먼저 흐르는 침착캐소드의 확장된 형태이라는 것을 특징으로 하는 글로우방전 침착장치.
  6. 제3항에 의한 장치에 있어서, 상향글로우 방전수단은 공정가스가 기판상에 배치되기에 앞서 먼저 흐르는 이산프리캐소드라는 것을 특징으로 하는 글로우방전 침착장치.
  7. 제3항에 의한 장치에 있어서, 수집수단은 침착영역의 상향으로 배치된 수집판금(plate)으로 공정가스 및 실내벽으로부터 제거된 불순물과 분리되고 재결합된 공정가스가 수집판금의 표면상에 배치되는 것을 특징으로 하는 글로우방전 침착장치.
  8. 제3항에 의한 장치에 있어서, 하향글로우 방전수단은 프리캐소드의 하향으로 배치된 분무된 침착캐소드라는 것을 특징으로 하는 글로우방전 침착장치.
  9. 제3항에 의한 장치에 있어서, 하향글로우 방전수단은 프리캐소드의 하향으로 배치된 마이크로파 생성수단이라는 것을 특징으로 하는 글로우방전 침착장치.
  10. 제3항에 의한 장치에 있어서, 상향글로우 방전수단은 하향글로우 방전수단과 이간되어 있는 것을 특징으로 하는 글로우방전 침착장치.
  11. 대영역기판을 통해 최소한 한 개의 침착연소실과, 연속적으로 이동하는 기판의 표면을 거쳐 최소한 한개의 실내로 공정가스를 유입시키기 위한 수단과, 기판과 글로우방전수단 사이의 침착플라즈마 영역을 형성시키기 위한 하향글로우 방전수단을 구비한 글로우방전 침착장치에 있어서, 반도체 막박막을 기판 표면상에 배치시키기 위해 침착플라즈마 영역의 상향으로 배치되어 상향플라즈마 영역을 형성시키기 위한 상향글로우 방전수단을 구비하며 상기 기판 표면상에 배치된 반도체 박막은 대영역기판의 전표면에 걸쳐 순수하고 균일한 화학성분으로 이루어진 것을 특징으로 하는 글로우방전 침착장치.
  12. 제10항에 의한 장치에 있어서, 상향글로우방전 침착수단은 공정가스와 침착연소실의 내벽으로부터 불순물을 제거하여 공정가스의 분리 및 재결합을 시작하는 것을 특징으로 하는 글로우방전 침착장치.
  13. 제12항에 의한 장치에 있어서, 공정가스 및 실벽으로부터 제거된 불순물 및 분리되고 재결합된 공정가스를 수집하기 위한 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 글로우방전 침착장치.
  14. 제13항에 의한 장치에 있어서, 상향글로우 방전수단 공정가스가 침착플라즈마 영역에 접촉되기에 앞서 흐르는 r.f 분무된 프리캐소드라는 것을 특징으로 하는 글로우방전 침착장치.
  15. 제13항에 의한 장치에 있어서, 상향글로우 방전수단은 공정가스가 기판상에 배치되기에 앞서 먼저 흐르는 침착캐소드의 확장된 형태라는 것을 특징으로 하는 글로우방전 침착장치.
  16. 제13항에 의한 장치에 있어서, 상향글로우 방전수단은 공정가스가 기판상에 배치되기에 앞서 흐르는 이산프리캐소드이라는 것을 특징으로 하는 글로우방전 침착장치.
  17. 제13항에 의한 장치에 있어서, 수집수단이 침착플라즈마 영역의 상향으로 배치된 수집판금이며, 공정가스 및 실내벽으로부터 제거된 불순물과 분리되고 재결합된 공정가스가 수집판금의 표면상에 배치되는 것을 특징으로 하는 글로우방전 침착장치.
  18. 제14항에 의한 장치에 있어서, 하향글로우 방전수단은 프리캐소드의 하향으로 배치된 r.f 분무된 침착캐소드라는 것을 특징으로 하는 글로우방전 침착장치.
  19. 제14항에 의한 장치에 있어서, 하향글로우 방전수단은 프리캐소드의 하향으로 배치된 마이크로파 발생수단이라는 것을 특징으로 하는 글로우방전 침착장치.
  20. 제12항에 의한 장치에 있어서, 수집수단은 기판의 상향부를 마스킹한 수집판금이라는 것을 특징으로 하는 글로우방전 침착장치.
  21. 제20항에 의한 장치에 있어서, 수집수단은 상향캐소드의 길이방향 및 폭방향으로 같은 공간에 걸치는 것을 특징으로 하는 글로우방전 침착장치.
  22. 제21항에 의한 장치에 있어서, 상향글로우 방전수단은 하향글로우 방전수단과 이간되어 있는 것을 특징으로 하는 글로우방전 침착장치.
  23. ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019830006055A 1982-12-22 1983-12-21 글로방전 침착장치 KR920006893B1 (ko)

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