KR840000982A - 과부하 보호 집적회로 - Google Patents
과부하 보호 집적회로 Download PDFInfo
- Publication number
- KR840000982A KR840000982A KR1019820002667A KR820002667A KR840000982A KR 840000982 A KR840000982 A KR 840000982A KR 1019820002667 A KR1019820002667 A KR 1019820002667A KR 820002667 A KR820002667 A KR 820002667A KR 840000982 A KR840000982 A KR 840000982A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- highly doped
- transistor
- doped region
- integrated circuit
- overload protection
- Prior art date
Links
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 4
- 230000003321 amplification Effects 0.000 claims 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims 2
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 claims 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/70—Bipolar devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/0203—Particular design considerations for integrated circuits
- H01L27/0248—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection
Landscapes
- Power Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Bipolar Integrated Circuits (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Bipolar Transistors (AREA)
- Amplifiers (AREA)
- Protection Of Static Devices (AREA)
Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명의 보호회로를 포함하는 피보호 증폭회로의 구성도. 제3도는 본 발명의 보호장치를 나타내는 적당한 실시예의 평면도.
Claims (10)
1차 도전형태의 반도체 기저와; 상기 기저위에 있는 2차 도전형태의 반도체 재질층과; 이 층을 통해 기저로 연장되며 상기층의 어떤 부분을 완전히 둘러싸며 이에 의해 재질층의 한 부분이 나머지 부분과 절연되는 1차 도전형태로 구성된 첫번째의 높게 도우프된 영역과; 표면에서 재질 층의 절연부로 부분적으로 연장되고 있는 1차 도선 형태로 된 웰(well) 영역과; 표면에서 재질층의 절연부로 연장되며 웰 영역과는 재질층부에 의해 분리되는 2차 도전형태의 2번째의 높게 도우프된 영역과; 표면에서 웰영역으로 연장되며 웰영역으로 둘러싸인 2차 도전형으로 된 3번째의 높게 도우프된 영역과; 상기 층의 절연부와 기저 사이에 절장되며 적어도 2번째 및 3번째의 도우프된 영역 밑에 위치하는 2차 도전형태의 4번째의 높게 도우프된 영역으로 구성되는 과부하 집적회로 장치로써 상기 1차 도전형의 5번째의 높게 도우프된 영역이 상기 재질층(24)과 웰영역(26)의 교차점으로 웰영역 표면으로부터 절장되고 이 웰영역(26)보다 더 높게 도우프되어 있고, 표면에서 보았을 때 2번째의 높게 도우프된 영역(28)과 5번째의 높게 도우프된 영역(30) 사이에 3번째의 높게 도우프된 영역이 있는 것을 특징으로 하는 과부하 보호 집적회로 장치.
제1항에 있어서, 내부의 반도체기저(22)는 P형 도전성이고 4번째의 높게 도우프된 영역(34)은 5번째의 높게 도우프된 영역(30) 밑까지 절장되어 있지 않고 이에 의해 2번째의 높게 도우프된 영역(28)은 NPN형 트랜지스터 Q1의 콜렉터를 구성하고 3번째의 높게 도우프된 영역(32)은 NPN형 트랜지스터(Q1)의 에미터를 구성하고 웰영역(26)은 NPN형 트랜지스터(Q1)의 베이스를 구성하고 5번째의 높게 도우프된 영역(30)은 NPN형 트랜지스터(Q1)의 베이스에 접점을 구성하는 과부하 보호 집적회로장치.
제2항에 있어서, 내부의 웰영역(26)이 위에서 보았을 때 3번째의 높게 도우프된 영역(32)와 5번째의 높게 도우프된 영역(30) 사이에 협부(36)가 있는 과부하 보호 집적회로장치.
제3항에 있어서, 내부의 4번째의 높게 도우프된 영역(34)는 2번째와 3번째의 높게 도우프된 영역(28,32) 밑에 연장되어 있고 부분적으로만 웰 영역(26)의 협부까지 연장된 4번째의 높게 도우프된 영역을 갖는 과부하 보호집적회로장치.
내부 보호 트랜지스터의 에미터는 증폭트랜지스터의 베이스에 연결되고 보호 트랜지스터의 베이스는 증폭트랜지스터의 콜렉터에 연결되는 한 형태의 도전성을 가진 바이폴라(bipolar) 보호 트랜지스터로 보호되는 반대형태의 바이폴라 증폭트랜지스터로 구성되는 과부하 보호집적회로로써; 증폭트랜지스터(Q1)의 콜렉터(28)에 연결된 부하단자(RL)는 에미터접지 증폭형태에 연결되어 있고 이와 연결된 전력공급단자(+V)와 반대의 전력공급단자에 보호트랜지스터(Q2)의 콜렉터(38)가 연결되고 보호트랜지스터(Q2)의 β값이 비교적 큰 값을 갖는 과부하 보호 집적회로.
제5항에 있어서, 비교적 큰 임피던스 값을 갖고 보호트랜지스터(Q2)의 에미터(30)와 증폭트랜지스터(Q1)의 베이스 사이에 직렬로 연결된 보호저항(RP)과 보호 트랜지스터(Q2)의 에미터에 입력신호(Vi)와를 결합하는 장치(Rs)를 더 포함하는 과부하 보호 집적회로.
제6항에 있어서, 내부의 증폭트랜지스터(Q1)는 NPN형 트랜지스터이고 보호 트랜지스터(Q2)는 PNP형 트랜지스터인 과부하 보호집적회로.
제7항에 있어서, PNP형 트랜지스터(Q2)의 콜렉터가 접지에 연결되는 과부하 보호집적회로.
제7항에 있어서, 상기회로(12)가 모노리식 집적회로로 구성된 과부하 보호 집적회로.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US273325 | 1981-06-15 | ||
US06/273,325 US4463369A (en) | 1981-06-15 | 1981-06-15 | Integrated circuit overload protection device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR840000982A true KR840000982A (ko) | 1984-03-26 |
Family
ID=23043453
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019820002667A KR840000982A (ko) | 1981-06-15 | 1982-06-15 | 과부하 보호 집적회로 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4463369A (ko) |
JP (2) | JPS57211768A (ko) |
KR (1) | KR840000982A (ko) |
AT (1) | ATA230282A (ko) |
CA (1) | CA1185379A (ko) |
DE (1) | DE3221363A1 (ko) |
ES (1) | ES512917A0 (ko) |
FI (1) | FI822030A0 (ko) |
FR (1) | FR2507819A1 (ko) |
GB (2) | GB2101402B (ko) |
IT (1) | IT1151259B (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100448312B1 (ko) * | 2002-10-25 | 2004-09-13 | 금강 쥬얼리 (주) | 악세서리용 장식띠 성형장치 및 이를 이용한 장식띠성형방법 |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5948951A (ja) * | 1982-09-14 | 1984-03-21 | Toshiba Corp | 半導体保護装置 |
JPS60142559A (ja) * | 1983-12-29 | 1985-07-27 | Fujitsu Ltd | プログラマブル・リ−ド・オンリ・メモリ |
US4595944A (en) * | 1983-12-29 | 1986-06-17 | International Business Machines Corporation | Resistor structure for transistor having polysilicon base contacts |
IT1217298B (it) * | 1985-05-30 | 1990-03-22 | Sgs Thomson Microelectronics | Dispositivo di protezione da scariche elettrostatiche,in particolare per circuiti integrati bipolari |
US4949150A (en) * | 1986-04-17 | 1990-08-14 | Exar Corporation | Programmable bonding pad with sandwiched silicon oxide and silicon nitride layers |
GB2204445B (en) * | 1987-03-06 | 1991-04-24 | Texas Instruments Ltd | Semiconductor switch |
US5066869A (en) * | 1990-04-09 | 1991-11-19 | Unitrode Corporation | Reset circuit with PNP saturation detector |
ATE142562T1 (de) | 1991-01-18 | 1996-09-15 | Canon Kk | Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und vorrichtung mit thermischer energie |
JP3053936B2 (ja) * | 1991-12-04 | 2000-06-19 | キヤノン株式会社 | 液体噴射記録ヘッド用基体、該基体の製造方法、該基体を用いた液体噴射記録ヘッド、該記録ヘッドの製造方法及び該記録ヘッドを具備する記録装置 |
DE19743230C1 (de) * | 1997-09-30 | 1999-04-15 | Siemens Ag | Integrierte Halbleiterschaltung mit Schutzstruktur zum Schutz vor elektrostatischer Entladung |
DE19917155C1 (de) | 1999-04-16 | 2000-06-21 | Bosch Gmbh Robert | Schutzvorrichtung gegen elektrostatische Entladungen |
JP3768079B2 (ja) | 2000-07-25 | 2006-04-19 | シャープ株式会社 | トランジスタ |
EP1255301B1 (en) * | 2001-04-27 | 2013-03-27 | Imec | Layout configurable electrostatic discharge device for integrated circuits |
KR101694242B1 (ko) * | 2015-12-15 | 2017-01-09 | 현대오트론 주식회사 | 보호 회로를 포함하는 전력 증폭기 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1452344A1 (de) * | 1965-12-21 | 1969-03-13 | Kress Dr Ing Herwig | Verfahren zur Berippung von Waermeaustauscherflaechen mit Wellbaendern,Vorrichtung zur Durchfuehrung des Verfahrens sowie rohr- bzw. plattenfoermige Elemente von Waermeaustauschern mit Wellbandrippen |
US3611067A (en) * | 1970-04-20 | 1971-10-05 | Fairchild Camera Instr Co | Complementary npn/pnp structure for monolithic integrated circuits |
JPS5017180A (ko) * | 1973-06-13 | 1975-02-22 | ||
GB1507299A (en) * | 1974-03-26 | 1978-04-12 | Signetics Corp | Integrated semiconductor devices |
US3971060A (en) * | 1974-07-12 | 1976-07-20 | Texas Instruments Incorporated | TTL coupling transistor |
JPS5153483A (ko) * | 1974-11-06 | 1976-05-11 | Hitachi Ltd | |
JPS5153449A (ko) * | 1974-11-06 | 1976-05-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | |
GB1490631A (en) * | 1975-01-10 | 1977-11-02 | Plessey Co Ltd | Transistor arrangement having low charge storage |
GB1558281A (en) * | 1975-07-31 | 1979-12-19 | Tokyo Shibaura Electric Co | Semiconductor device and logic circuit constituted by the semiconductor device |
JPS52156580A (en) * | 1976-06-23 | 1977-12-27 | Hitachi Ltd | Semiconductor integrated circuit device and its production |
US4118640A (en) * | 1976-10-22 | 1978-10-03 | National Semiconductor Corporation | JFET base junction transistor clamp |
JPS5568708A (en) * | 1978-11-17 | 1980-05-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Signal amplifier circuit |
JPS5674958A (en) * | 1979-11-26 | 1981-06-20 | Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Manufacture of semiconductor device |
DE2947599A1 (de) * | 1979-11-26 | 1981-05-27 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Monolithisch integrierbare halbleiterschaltung |
US4390890A (en) * | 1980-06-26 | 1983-06-28 | International Business Machines Corporation | Saturation-limited bipolar transistor device |
-
1981
- 1981-06-15 US US06/273,325 patent/US4463369A/en not_active Expired - Fee Related
-
1982
- 1982-05-31 CA CA000404102A patent/CA1185379A/en not_active Expired
- 1982-06-01 IT IT21625/82A patent/IT1151259B/it active
- 1982-06-05 DE DE19823221363 patent/DE3221363A1/de not_active Withdrawn
- 1982-06-07 GB GB08216512A patent/GB2101402B/en not_active Expired
- 1982-06-08 FI FI822030A patent/FI822030A0/fi not_active Application Discontinuation
- 1982-06-08 ES ES512917A patent/ES512917A0/es active Granted
- 1982-06-10 JP JP57100553A patent/JPS57211768A/ja active Pending
- 1982-06-14 AT AT822302A patent/ATA230282A/de not_active Application Discontinuation
- 1982-06-14 FR FR8210348A patent/FR2507819A1/fr active Granted
- 1982-06-15 KR KR1019820002667A patent/KR840000982A/ko unknown
-
1984
- 1984-04-19 JP JP59080007A patent/JPS6035569A/ja active Pending
- 1984-08-02 GB GB08419706A patent/GB2142778B/en not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100448312B1 (ko) * | 2002-10-25 | 2004-09-13 | 금강 쥬얼리 (주) | 악세서리용 장식띠 성형장치 및 이를 이용한 장식띠성형방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
IT8221625A0 (it) | 1982-06-01 |
ES8304384A1 (es) | 1983-02-16 |
GB2101402B (en) | 1985-07-17 |
IT1151259B (it) | 1986-12-17 |
CA1185379A (en) | 1985-04-09 |
US4463369A (en) | 1984-07-31 |
GB8419706D0 (en) | 1984-09-05 |
GB2101402A (en) | 1983-01-12 |
GB2142778A (en) | 1985-01-23 |
JPS57211768A (en) | 1982-12-25 |
FR2507819B1 (ko) | 1985-04-05 |
ATA230282A (de) | 1989-07-15 |
ES512917A0 (es) | 1983-02-16 |
FI822030A0 (fi) | 1982-06-08 |
FR2507819A1 (fr) | 1982-12-17 |
DE3221363A1 (de) | 1983-01-05 |
JPS6035569A (ja) | 1985-02-23 |
GB2142778B (en) | 1985-07-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4595941A (en) | Protection circuit for integrated circuit devices | |
KR840000982A (ko) | 과부하 보호 집적회로 | |
JP3342918B2 (ja) | 集積回路における静電的放電に対してパッドを保護するためのダイオード構造 | |
US5959332A (en) | Electrostatic-discharge protection device and method for making the same | |
KR830009653A (ko) | 집적회로의 보호장치 | |
KR970705836A (ko) | 정전기 방전 보호회로(electrostatic discharge protection circult) | |
JPS625345B2 (ko) | ||
KR850000804A (ko) | 반도체 장치 | |
US4486770A (en) | Isolated integrated circuit transistor with transient protection | |
US4641171A (en) | Monolithically integrated semiconductor power device | |
US4103181A (en) | Monolithic integrated transistor and protective circuit therefor | |
US4267557A (en) | Semiconductor device | |
KR830006987A (ko) | 트랜지스터 보호회로 | |
EP0472654B1 (en) | Low voltage triggered snap-back device | |
KR880002270A (ko) | 대규모 집적회로용 보호회로 | |
KR830009654A (ko) | 집적회로장치의 보호회로 | |
US4684970A (en) | High current lateral transistor structure | |
JP3131525B2 (ja) | Mosパワー・トランジスタ・デバイス | |
US6320229B1 (en) | Semiconductor device | |
JPS62183184A (ja) | Mos型集積回路 | |
US3821780A (en) | Double mesa transistor with integral bleeder resistors | |
KR890008979A (ko) | 모놀리식 과전압 보호용 어셈블리 | |
KR900015308A (ko) | 정전 보호회로 | |
KR850001643A (ko) | 증폭기 회로 | |
CA1161968A (en) | Protection circuit for integrated circuit devices |