KR20230154841A - 화장료 - Google Patents

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KR20230154841A
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KR1020237030148A
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에미 아카바네
마사유키 코니시
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신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
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Abstract

본 발명은, 하기 (A)성분을 포함하는 화장료로서, (A)성분: (A1)의 오가노하이드로겐(폴리)실록산 및 (A2)의 오가노(폴리)실록산의 하이드로실릴화 반응물이며, 또한 아릴기 및 아랄킬기의 몰수의 합계와 규소원자의 몰수와의 비가 0.34 이상인 방향족기변성 가교형 오가노실록산을 포함하는 것을 특징으로 하는 화장료이다. 이에 따라 고극성유나 자외선흡수제를 안정적으로 배합할 수 있으며, 양호한 감촉, 사용감을 갖는 화장료가 제공된다.

Description

화장료
본 발명은, 방향족기변성 가교형 오가노실록산을 이용한 화장료에 관한 것이다.
실리콘유, 특히 디메틸실리콘유를 화장료나 퍼스널케어 조성물에 안정적으로 배합하는 방법으로서, 3차원 가교구조를 갖는 오가노실록산 중합물이 제안되어 있다.
예를 들어, 특허문헌 1 및 2에는, 하이드로겐폴리실록산과 디엔 화합물로 이루어지는 가교 엘라스토머와 희석제를 포함하는 엘라스토머 조성물이 제안되어 있는데, 1,4-펜타디엔, 1,5-헥사디엔으로 대표되는 바와 같은 디엔 화합물은, 불괘한 특이취를 갖고 있으며, 잔류한 경우, 화장료 용도로는 부적합하다는 문제가 있었다. 특허문헌 3에서 제안되는, 특정 실리콘 중합물과 저점도 실리콘유를 전단하에 혼합하여 얻어지는 페이스트상 조성물은, 화장료에 배합함으로써, 경시안정성뿐만 아니라, 부드럽고 산뜻한 감촉을 갖는 사용감이나 사용성을 제공하는 것이 가능하나, 실리콘유 이외의 유제, 예를 들어 탄화수소유나 에스테르유, 더 나아가 자외선흡수제를 포함하는 고극성유에 대해서는, 그 효과는 충분히 만족할 수 있는 것이라고는 말하기 어려웠다.
이 문제를 해결하기 위해, 장쇄알킬기를 도입하고, 실리콘유 및 탄화수소유나 에스테르유에 대해서도 친화성이 높은 가교형 오가노실록산 중합물의 이용도 제안되어 있다(특허문헌 4). 그러나, 자외선흡수제를 포함하는 고극성유와의 상용성에 대하여 그 효과는 불충분하였다.
한편, 페닐기를 갖는 실리콘유는, 자외선흡수제와의 상용성을 갖는 것이 알려져 있으며, 페닐기를 갖는 가교형 오가노실록산이면, 자외선흡수제와의 상용성도 기대된다. 상술한 문헌 등에도, 규소원자에 결합가능한 치환기로서, 페닐기의 이용은 기재되어 있다. 페닐기를 갖는 가교형 오가노실록산의 화장료에의 이용예로는, 페닐기를 도입함으로써 발생하는 독특한 감촉을 이용한 특허문헌 5나, 페닐변성 실리콘유의 안정배합을 목적으로 한 특허문헌 6이 있고, 페닐기의 유용성에 대해 어느 정도 인지는 되어 있으나, 자외선흡수제와의 상용성에 대해서는 개시되어 있지 않다. 특허문헌 7이나 특허문헌 8 등과 같이, 페닐기를 갖지 않고, 자외선흡수제와의 상용성도 갖지 않는 가교형 오가노실록산 중합물과 동등하게 취급되는 예도 있으며, 화장품 원료로서의 성능 및 구조에 대해서는, 아직 개선의 여지를 남기고 있었다.
미국특허 제5654362호 일본특허공표 2005-537364호 공보 일본특허공개 H1-207354호 공보 국제공개 제2003/024413호 일본특허공개 2013-103885호 공보 일본특허공개 2011-231102호 공보 일본특허공개 2015-086196호 공보 일본특허공개 2020-029409호 공보
본 발명은, 상기 문제점을 감안하여 이루어진 것으로, 고극성유나 자외선흡수제를 안정적으로 배합할 수 있으며, 양호한 감촉, 사용감과 도포성을 갖는 화장료를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명에서는,
하기 (A)성분을 포함하는 화장료로서,
(A)성분: 하기 (A1) 및 (A2)의 하이드로실릴화 반응물이며, 또한 아릴기 및 아랄킬기의 몰수의 합계와 규소원자의 몰수와의 비가 0.34 이상인 방향족기변성 가교형 오가노실록산을 포함하는 것인 화장료를 제공한다.
(A1)하기 일반식(1)
Ma1M’a2Db1D’b2Tc1T’c2Qd(1)
(식 중,
M은 R1 3SiO1/2
M’는 R1 2HSiO1/2
D는 R1 2SiO2/2
D’는 R1HSiO2/2
T는 R1SiO3/2
T’는 HSiO3/2
Q는 SiO4/2
로 표시되는 실록산단위를 나타내고, R1은 독립적으로 탄소수 1~30의 알킬기, 아릴기, 아랄킬기로부터 선택되는 기이고, a1, a2, b1, b2, c1, c2, 및 d는 각각 0≤a1, 0≤a2, 0≤b1, 0≤b2, 0≤c1, 0≤c2, 및 0≤d의 정수이고, 단, 2≤a2+b2+c2≤50이고, 2≤a1+a2+b1+b2+c1+c2+d≤100,000이다.)
로 표시되는 1분자 중에 2개 이상의 규소원자결합 수소원자를 갖는 오가노하이드로겐(폴리)실록산.
(A2)하기 일반식(2)
Me1M”e2Df1D”f2 (2)
(식 중, M, D는 상기와 동일하며,
M”는 R1 2R2SiO1/2
D”는 R1R2SiO2/2
로 표시되는 실록산단위를 나타내고, R1은 상기와 동일하며, R2는 탄소수 2~8의 알케닐기이고, e1, e2, f1, 및 f2는 각각 0≤e1≤2, 0≤e2≤2, 0≤f1, 0≤f2의 정수이고, e1+e2=2, 2≤e2+f2≤50, 2≤e1+e2+f1+f2≤100,000이다).
로 표시되는 1분자 중에 2개 이상의 탄소수 2~8의 알케닐기를 갖는 직쇄상 오가노(폴리)실록산.
이러한 (A)성분의 가교형 오가노실록산이면, 자외선흡수제나 고극성유와의 상용성이 개선된 것이므로, 화장료에 배합했을 때에, 외관을 손상시키는 일 없이, 양호한 감촉과 화장유지가 제공가능해진다.
상기 일반식(2)에 있어서, f2=0인 것이 바람직하다.
이러한 (A2)성분의 알케닐기함유 오가노실록산을 이용함으로써, (A1)성분과의 중합반응을 원활하게 진행할 수 있고, 유연하고 증점효과가 높은 중합물(하이드로실릴화 반응물)을 얻을 수 있다.
상기 (A)성분이, 추가로 하기 (A3)을 포함한 하이드로실릴화 반응물인 것이 바람직하다.
(A3)하기 일반식(3)
Mg1M’g2Dh (3)
(식 중, M, M’, D는 상술한 바와 같음. g1, g2, 및 h는 각각 g1=g2=1, 0≤h≤100의 정수이다)
로 표시되는 1분자 중에 1개의 규소원자결합 수소원자를 갖는 직쇄상 오가노하이드로겐(폴리)실록산.
상기 (A)성분이, 추가로 하기 (A4)를 포함한 하이드로실릴화 반응물인 것이 바람직하다.
(A4)하기 일반식(4)
Mi1M”i2Dj (4)
(식 중, M, M”, D는 상술한 바와 같음. i1, i2, 및 j는 각각 i1=i2=1, 0≤j≤100의 정수이다)
로 표시되는 1분자 중에 1개의 탄소수 2~8의 알케닐기를 갖는 직쇄상 오가노(폴리)실록산.
이와 같이 하면, 하이드로실릴화 반응의 가교밀도를 조절함으로써, (A)성분의 성상을 화장료의 종류에 따라 적절한 것으로 할 수 있다.
본 발명의 화장료는, 상기 (A)성분에 더하여, (B)25℃에서 액상의 유제를 포함하는 것이 바람직하다.
상기 (B)성분이, 변성 실리콘유, 탄화수소유, 불소계유, 에스테르유, 천연동식물유, 및 반합성유로부터 선택되는 1종 이상인 것이 바람직하다.
이러한 것이면, 화장료의 외관이나 사용감도 양호한 것이 되며, 취급도 용이해진다.
또한 본 발명의 화장료는, 상기 (A)성분과 상기 (B)성분의 일부가 미리 혼합되어 있는 것이 바람직하다.
상기 (A)성분의 방향족기변성 가교형 오가노실록산은, 수지상 또는 고점도의 검(ガム, gum)상물인 것이 많기 때문에, 미리 액상의 (B)성분인 유제와 혼합하여, 매끄러운(滑らかな) 페이스트상으로 함으로써, 화장료에의 배합이 용이해지므로 바람직하다.
나아가 본 발명의 화장료는, (C)성분으로서, 자외선흡수제를 포함하는 것이 바람직하다.
자외선흡수제를 배합함으로써, 자외선흡수능이 우수한 화장료를 얻을 수 있다.
본 발명의 화장료에 이용하는 (A)방향족기변성 가교형 오가노실록산은, 고극성유와의 상용성이 개선된 것이므로, 화장료에 배합했을 때의 증점성, 안정성이 우수하며, 양호한 감촉과 도포성이 얻어지는 화장료를 제공할 수 있다. 특히, 실리콘과의 상용성이 부족하다고 여겨지는 자외선흡수제를 배합해도, 안정성이 우수한 화장료를 제공할 수 있다.
본 발명자들은, 상기 목적을 달성하기 위해 예의 검토한 결과, 특정 구조의 방향족기변성 가교형 오가노실록산을 이용함으로써, 고극성유와의 상용성이 우수한 화장료를 얻을 수 있는 것을 발견하여, 본 발명을 완성시키기에 이르렀다. 이 가교형 오가노실록산은, 특수한 치환기를 사용하는 일 없이 합성가능하며, 고극성유나 자외선흡수제와의 상용성을 용이하게 향상시킬 수 있고, 나아가 복잡한 제조공정도 필요로 하지 않기 때문에, 공업적으로도 유용한 수단이다.
즉, 본 발명은, 하기 (A)성분을 포함하는 화장료로서,
(A)성분: 하기 (A1) 및 (A2)의 하이드로실릴화 반응물이며, 또한 아릴기 및 아랄킬기의 몰수의 합계와 규소원자의 몰수와의 비가 0.34 이상인 방향족기변성 가교형 오가노실록산을 포함하는 것인 화장료이다.
(A1)하기 일반식(1)
Ma1M’a2Db1D’b2Tc1T’c2Qd(1)
(식 중,
M은 R1 3SiO1/2
M’는 R1 2HSiO1/2
D는 R1 2SiO2/2
D’는 R1HSiO2/2
T는 R1SiO3/2
T’는 HSiO3/2
Q는 SiO4/2
로 표시되는 실록산단위를 나타내고, R1은 독립적으로 탄소수 1~30의 알킬기, 아릴기, 아랄킬기로부터 선택되는 기이고, a1, a2, b1, b2, c1, c2, 및 d는 각각 0≤a1, 0≤a2, 0≤b1, 0≤b2, 0≤c1, 0≤c2, 및 0≤d의 정수이고, 단, 2≤a2+b2+c2≤50이고, 2≤a1+a2+b1+b2+c1+c2+d≤100,000이다.)
로 표시되는 1분자 중에 2개 이상의 규소원자결합 수소원자를 갖는 오가노하이드로겐(폴리)실록산.
(A2)하기 일반식(2)
Me1M”e2Df1D”f2 (2)
(식 중, M, D는 상기와 동일하며,
M”는 R1 2R2SiO1/2
D”는 R1R2SiO2/2
로 표시되는 실록산단위를 나타내고, R1은 상기와 동일하며, R2는 탄소수 2~8의 알케닐기이고, e1, e2, f1, 및 f2는 각각 0≤e1≤2, 0≤e2≤2, 0≤f1, 0≤f2의 정수이고, e1+e2=2, 2≤e2+f2≤50, 2≤e1+e2+f1+f2≤100,000이다.)
로 표시되는 1분자 중에 2개 이상의 탄소수 2~8의 알케닐기를 갖는 직쇄상 오가노(폴리)실록산.
이하, 본 발명의 실시의 형태에 대해 구체적으로 설명하는데, 본 발명은 이들로 한정되는 것은 아니다.
(A)방향족기변성 가교형 오가노실록산
본 발명의 필수성분인 (A)성분의 방향족기변성 가교형 오가노실록산은, 하기 (A1)성분 및 (A2)성분의 하이드로실릴화 반응물이며, 또한 아릴기 및 아랄킬기의 몰수의 합계와 규소원자의 몰수와의 비가 0.34 이상인 방향족기변성 가교형 오가노실록산이다.
(A1)하기 일반식(1)
Ma1M’a2Db1D’b2Tc1T’c2Qd(1)
(식 중,
M은 R1 3SiO1/2
M’는 R1 2HSiO1/2
D는 R1 2SiO2/2
D’는 R1HSiO2/2
T는 R1SiO3/2
T’는 HSiO3/2
Q는 SiO4/2
로 표시되는 실록산단위를 나타내고, R1은 독립적으로 탄소수 1~30의 알킬기, 아릴기, 아랄킬기로부터 선택되는 기이고, a1, a2, b1, b2, c1, c2, 및 d는 각각 0≤a1, 0≤a2, 0≤b1, 0≤b2, 0≤c1, 0≤c2, 및 0≤d의 정수이고, 단, 2≤a2+b2+c2≤50이고, 2≤a1+a2+b1+b2+c1+c2+d≤100,000이다.)
로 표시되는 1분자 중에 2개 이상의 규소원자결합 수소원자를 갖는 오가노하이드로겐(폴리)실록산.
(A2)하기 일반식(2)
Me1M”e2Df1D”f2 (2)
(식 중, M, D는 상기와 동일하며,
M”는 R1 2R2SiO1/2
D”는 R1R2SiO2/2
로 표시되는 실록산단위를 나타내고, R1은 상기와 동일하며, R2는 탄소수 2~8의 알케닐기이고, 0≤e1≤2, 0≤e2≤2, 0≤f1, 0≤f2의 정수이고, e1, e2, f1, 및 f2는 각각 e1+e2=2, 2≤e2+f2≤50, 2≤e1+e2+f1+f2≤100,000이다).
로 표시되는 1분자 중에 2개 이상의 탄소수 2~8의 알케닐기를 갖는 직쇄상 오가노(폴리)실록산.
이러한 (A)성분이면, 자외선흡수제나 고극성유와의 상용성이 개선된 것이므로, 화장료에 배합했을 때, 상용성이 우수하며, 양호한 감촉과 화장유지를 나타낸다.
상기 (A1)성분의 일반식(1)에 있어서, R1은 독립적으로 탄소수 1~30의 알킬기, 아릴기, 아랄킬기로부터 선택되는 기이다.
상기 알킬기는, 바람직하게는 탄소수 1~10, 보다 바람직하게는 탄소수 1~6의 알킬기이다. 알킬기의 예로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 라우릴기, 미리스틸기, 팔미틸기, 스테아릴기 등의 쇄상 알킬기나 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등의 시클로알킬기를 들 수 있고, 바람직하게는 메틸기, 에틸기이다.
상기 아릴기는, 바람직하게는 탄소수 6~20, 보다 바람직하게는 탄소수 6~10의 아릴기이다. 아릴기의 예로는, 페닐기, 톨릴기, 자일릴기 등을 들 수 있고,, 바람직하게는 페닐기이다.
상기 아랄킬기는, 바람직하게는 탄소수 7~20, 보다 바람직하게는 탄소수 7~10의 아랄킬기이다. 아랄킬기의 예로는, 벤질기, 페네틸기 등을 들 수 있고, 바람직하게는 벤질기이다.
또한, 상기 일반식(1)에 있어서, a1은 0≤a1, 바람직하게는 0≤a1≤100, 보다 바람직하게는 0≤a1≤50의 정수이고, a2는 0≤a2, 바람직하게는 0≤a2≤30, 보다 바람직하게는 0≤a2≤10의 정수이고, b1은 0≤b1, 바람직하게는 0≤b1≤5,000, 보다 바람직하게는 0≤b1≤2,000의 정수이고, b2는 0≤b2, 바람직하게는 0≤b2≤50, 보다 바람직하게는 0≤b2≤30의 정수이고, c1은 0≤c1, 바람직하게는 0≤c1≤100, 보다 바람직하게는 0≤c1≤50의 정수이고, c2는 0≤c2, 바람직하게는 0≤c2≤30, 보다 바람직하게는 0≤c2≤10의 정수이고, 및 d는 0≤d, 바람직하게는 0≤d≤100, 보다 바람직하게는 0≤d≤50의 정수이다.
단, 2≤a2+b2+c2≤50이고, 바람직하게는 2≤a2+b2+c2≤10이고, 보다 바람직하게는 2≤a2+b2+c2≤5이다. a2+b2+c2가 50을 초과하면, 액상의 유제나 자외선흡수제에 대한 팽윤성이나 화장료로 했을 때의 감촉이 나빠지므로, 바람직하지 않다.
나아가, 2≤a1+a2+b1+b2+c1+c2+d≤100,000이고, 바람직하게는 2≤a1+a2+b1+b2+c1+c2+d≤10,000이고, 보다 바람직하게는 2≤a1+a2+b1+b2+c1+c2+d≤2,000이다.
상기 (A2)성분의 일반식(2)에 있어서, R1은 독립적으로 탄소수 1~30의 알킬기, 아릴기, 아랄킬기로부터 선택되는 기이다. 각각의 기의 구체예, 바람직한 태양에 대해서는, 상기 (A1)성분에서 예시된 것과 동일한 것을 선택할 수 있다.
또한, R2는, 탄소수 2~8의 알케닐기이고, 예를 들어, 말단에 불포화기를 갖는 탄소수 2~8의 1가 탄화수소기이다. R2의 예로는, 비닐기, 알릴기, 프로페닐기, 부테닐기, 펜테닐기, 헥세닐기 등을 들 수 있는데, 규소결합 수소원자와의 하이드로실릴화 반응의 용이함이나 안정성이 좋은 점에서, 비닐기인 것이 바람직하다.
또한, 상기 일반식(2)에 있어서, e1은 0≤e1≤2의 정수이고, e2는 0≤e2≤2의 정수이고, e1+e2=2이다. 또한, f1은 0≤f1, 바람직하게는 0≤f1≤5,000, 보다 바람직하게는 0≤f1≤1,000의 정수이고, f2는 0≤f2, 바람직하게는 0≤f2≤50, 보다 바람직하게는 0≤f2≤10의 정수이다. 또한, f2=0으로 하면, (A)성분은 유연하고 증점효과가 높은 것이 되므로 바람직하다.
단, 2≤e2+f2≤50이고, 바람직하게는 2≤e2+f2≤10이고, 보다 바람직하게는 2≤e2+f2≤5이다. e2+f2가 50을 초과하면, 액상의 유제나 자외선흡수제에 대한 팽윤성이나 화장료로 했을 때의 감촉이 나빠지므로, 바람직하지 않다.
나아가, 2≤e1+e2+f1+f2≤100,000이고, 바람직하게는 2≤e1+e2+f1+f2≤10,000이고, 보다 바람직하게는 2≤e1+e2+f1+f2≤1,000이다.
또한, 상기 일반식(1)로 표시되는 1분자 중에 2개 이상의 규소원자결합 수소원자를 갖는 오가노하이드로겐(폴리)실록산에 더하여, (A3)성분으로서 하기 일반식(3)으로 표시되는 1분자 중에 1개의 규소원자결합 수소원자를 갖는 직쇄상 오가노하이드로겐(폴리)실록산을 첨가할 수도 있다.
(A3)하기 일반식(3)
Mg1M’g2Dh (3)
상기 식 중, M, M’, 및 D는 상기 식(1)로 표시되는 것과 동일하다. g1, g2, 및 h는 각각 g1=g2=1이고, 0≤h≤100, 바람직하게는 0≤h≤50의 정수이다.
상기 (A1)성분과, 상기 (A3)성분의 배합비(A1:A3)는 특별히 규정되지 않으나, 질량비로 0.1:99.9 내지 99:1인 것이 바람직하다.
또한, 상기 일반식(2)로 표시되는 1분자 중에 2개 이상의 알케닐기를 갖는 오가노(폴리)실록산에 더하여, (A4)성분으로서 하기 일반식(4)로 표시되는 1분자 중에 1개의 탄소수 2~8의 알케닐기를 갖는 직쇄상 오가노(폴리)실록산을 첨가할 수도 있다.
(A4)하기 식(4)
Mi1M”i2Dj (4)
상기 식 중, M, M”, 및 D는 상기 일반식(2)로 표시되는 것과 동일하다. i1, i2, 및 j는 각각 i1=i2=1이고, 0≤j≤100, 바람직하게는 0≤j≤50의 정수이다.
상기 (A2)성분과, 상기 (A4)성분과의 배합비는 특별히 규정되지 않으나, 질량비로 0.1:99.9 내지 99:1인 것이 바람직하다.
본 발명의 화장료는, 상기 (A)성분의 가교형 오가노실록산 중의 아릴기 및 아랄킬기의 몰수의 합계(X1)와 규소원자의 몰수(X2)와의 비(X1/X2)가 0.34 이상인 것을 특징으로 하며, 0.34~0.80의 범위인 것이 보다 바람직하다. 상기 몰비가 0.34 미만이면, (A)성분인 방향족기변성 가교형 오가노실록산과, 고극성의 액상인 유제와의 상용성이 저하되고, 예를 들어 상기 오가노실록산과 동량(同量) 이상의 유제를 함유할 수 없게 된다. 게다가, 화장품에 배합했을 때, 외관이 손상되거나, 안정성 저하의 요인이 되므로 바람직하지 않다.
또한, 상기 방향족기변성 가교형 오가노실록산 중의 아릴기 및 아랄킬기는, 가교물 전체로서 상기 비율을 충족시키는 양이 변성되어 있으면 되는데, 효율 좋게 액상의 유제나 자외선흡수제를 취입한다는 점에서, 상기 (A2)성분, 더 나아가 (A4)성분이 아릴기 및 아랄킬기로 변성되어 있는 것이 바람직하다.
(A)성분 중의 아릴기 및 아랄킬기로부터 선택되는 방향족기의 합계수와, 규소원자의 수와의 비는, 이하에 나타내는 계산식으로 구한 것이다. 예를 들어, 하기 일반식(1-1)과 하기 일반식(2-1)의 하이드로실릴화 반응에 의해 얻어진 가교물의 경우를 나타낸다.
[화학식 1]
페닐기: 3
규소원자: 40
반응기: 5
[화학식 2]
페닐기: 6
규소원자: 35
반응기: 2
계산식: (3×2+6×5)/(40×2+35×5)=0.14
여기서, 하이드로실릴화 반응을 완결시키기 위해 필요한 몰수는, (1-1):(2-1)=2:5로 하여 계산하였다.
본 발명에 있어서의 (A)방향족기변성 가교형 오가노실록산은, 예를 들어 상기 (A1)성분 및 (A2)성분, 경우에 따라서는 추가로 (A3)성분, 및/또는 (A4)성분을 포함하는 실리콘 조성물을 하이드로실릴화 반응용 촉매존재하에 반응시켜 얻어진 방향족기변성 가교형 오가노실록산이다.
여기서, 하이드로실릴화 반응용 촉매로는 특별히 제한은 없으나, 예를 들어, 염화백금산, 알코올변성 염화백금산, 염화백금산-비닐실록산착체 등의 백금 화합물, 또는 로듐 화합물 등을 들 수 있다. 하이드로실릴화 반응용 촉매의 존재하에 (A1)성분 및 (A3)성분의 오가노하이드로겐실록산과, (A2)성분 및 (A4)성분의 알케닐기함유 오가노실록산을 반응시키면 된다.
이때, 반응온도는 특별히 한정되지 않으나, 20~120℃인 것이 바람직하다. 하이드로실릴화 반응용 촉매의 첨가량은 주지의 유효량이면 되고, 오가노폴리실록산 혼합물의 합계량에 대하여 백금족 금속의 환산량으로, 통상, 0.1~500ppm, 바람직하게는 0.5~200ppm, 보다 바람직하게는, 1~100ppm이다.
또한, 이 하이드로실릴화 반응에 있어서, 전체 지방족 불포화기/하이드로실릴기의 몰비는, 특별히 한정되지 않으나, 바람직하게는, 1/10~10/1이고, 보다 바람직하게는, 8/10~3/1이다.
하이드로실릴화 반응을 행할 때에는, 무용제로 행할 수도 있고, 필요에 따라 유기용제나 휘발성이 있는 디메틸실리콘유를 사용할 수도 있다.
이러한 유기용제로는, 예를 들어, 메탄올, 에탄올, 2-프로판올, 부탄올 등의 지방족 알코올; 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소; n-펜탄, n-헥산, 시클로헥산 등의 지방족 또는 지환식 탄화수소; 디클로로메탄, 클로로포름, 사염화탄소 등의 할로겐화탄화수소; 아세톤, 메틸에틸케톤 등의 케톤계 용제 등을 들 수 있는데, 화장품 용도로서 이용한다는 관점에서, 무용제, 에탄올 또는 2-프로판올이 바람직하다.
휘발성이 있는 디메틸실리콘유로는, 옥타메틸시클로테트라실록산, 데카메틸시클로펜타실록산, 도데카메틸시클로헥사실록산, 동점도 5mm2/s 이하의 디메틸폴리실록산 등을 들 수 있다.
이들 유기용제, 휘발성이 있는 디메틸실리콘유는, 필요에 따라, 하이드로실릴화 반응 후에, 감압가열 등으로 제거하는 것도 가능하다. 또한, 하이드로실릴화 반응을 성분(B)의 존재하에 행할 수도 있으며, 사용성이나 제조상, 이 방법이 가장 바람직하다.
본 발명에 있어서의 방향족기변성 가교형 오가노폴리실록산은, 고극성유제나 자외선흡수제와의 상용성을 향상시킨 것으로, 그 성상은, 사용되는 목적에 따라 적당히 조정가능하다. 구체적으로는, 구상의 입자상, 부정형의 입자상, 수지상, 유동성이 없는 검상, 유동성이 있는 검상, 점조액상 등의 성상이 있으며, 이들은, 육안 또는, 광학현미경, 전자현미경으로 관찰할 수 있다. 자외선흡수제나 기타 유제에의 팽윤성의 점에서, 구상 입자상 이외의 구조인 것이 바람직하다.
성상의 차이에 따른 사용감이나 사용성에 대해서는, 일반적으로는 입자상이나 수지상의 방향족기변성 가교형 오가노폴리실록산을 화장료에 배합함으로써, 소프트포커스성이 우수하며, 촉촉하면서도 끈적이지 않고, 산뜻한 가벼운 감촉의 화장료가 되며, 검상, 액상이면, 증점효과가 우수하고, 촉촉한 감촉이나 광택이 있는 화장료를 얻기 쉬워진다.
(B)25℃에서 액상의 유제
본 발명의 화장료에는, (B)25℃에서 액상의 유제를 배합하는 것이 바람직하다. 또한, 특히 본 발명의 (A)성분인 방향족기변성 가교형 오가노폴리실록산은, (B)25℃에서 액상의 유제의 일부와 미리 균일하게 혼합되어 있는 것이 바람직하다. 본 발명에 이용하는 (A)방향족기변성 가교형 오가노폴리실록산은, 고점도의 검상이나 단단한 수지인 경우가 많고, 또한, 응집되기 쉬운 성질이기도 하므로, (B)성분과 미리 혼합해 둠으로써, 화장료에 직접 배합하는 것이 용이해진다. 또한, (A)성분을 화장료 중에 균일하게 분산시킴으로써, 외관이나 사용감이 양호해지고, 안정성도 우수하므로 바람직하다.
본 발명에서 이용하는 (B)성분으로는, 취급성이 좋은 점에서, 25℃에 있어서의 동점도가 0.65~10,000mm2/s인 액상유가 바람직하고, 후술의 (C)자외선흡수제와 상용성이 좋은 액상유인 것이 바람직하다. 한편, 본 발명에 있어서, 동점도란 JIS Z 8803:2011에 기재된 캐논-펜스케 점도계를 이용한 방법에 의해 측정한 것이다. 그 종류로는, 취급을 용이하게 하는 것이 목적이므로, 특별히 한정되지 않으나, 바람직한 유제로는, 이하의 변성 실리콘유, 탄화수소유, 불소계유, 에스테르유, 천연동식물유, 반합성유를 들 수 있다.
본 명세서에 있어서, 상기 변성 실리콘유란, 디메티콘(INCI) 이외의 실리콘유를 가리키는 것으로 하며, 구체적으로는, 에틸메티콘(INCI), 에틸트리실록산(INCI), 헥실디메티콘(INCI) 등의 알킬변성 실리콘, 카프릴릴메티콘(INCI) 등의 장쇄알킬변성 실리콘, 페닐트리메티콘(INCI), 디페닐실록시페닐트리메티콘(INCI), 디페닐디메티콘(INCI), 테트라페닐디메틸디실록산(INCI), 등의 직쇄 혹은 분지상의 오가노폴리실록산, 테트라메틸테트라페닐시클로테트라실록산 등의 환상 오가노폴리실록산 등의 방향족기변성 실리콘, 아모디메티콘(INCI), 아미노프로필디메티콘(INCI) 등의 아미노변성 오가노폴리실록산, PCA디메티콘(INCI) 등의 피롤리돈변성 오가노폴리실록산, 피롤리돈카르본산변성 오가노폴리실록산, 아미노산변성 실리콘, 불소변성 실리콘을 들 수 있다.
상기 탄화수소유로는, 쇄식 및 환식의 탄화수소유를 들 수 있다. 구체적으로는, 올레핀올리고머(INCI), (C13,14)이소파라핀(INCI) 등의 이소파라핀, 이소도데칸(INCI), 운데칸(INCI), 도데칸(INCI), 이소헥사데칸(INCI), 수첨 폴리이소부텐(INCI: Hydrogenated Polyisobutene), 스쿠알란(INCI), 미네랄오일(INCI), 야자알칸(INCI), (C13-15)알칸(INCI) 등의 알칸 등을 들 수 있다.
상기 불소계유로는, 퍼플루오로폴리에테르, 퍼플루오로데칼린, 퍼플루오로옥탄 등을 들 수 있다.
상기 에스테르유로는, 아디프산디이소부틸(INCI: Diisobutyl Adipate), 아디프산디헥실데실(표시명칭), 아디프산디헵틸운데실(INCI: Diheptylundecyl Adipate), 이소스테아르산이소스테아릴(INCI: Isostearyl Isostearate) 등의 모노이소스테아르산n-알킬글리콜, 이소스테아르산이소세틸(INCI: Isocetyl Isostearate), 트리이소스테아르산트리메틸올프로판(INCI: Trimethylolpropane Triisostearate), 디에틸헥산산글리콜(INCI: Glycol Diethylhexanoate), 에틸헥산산세틸(INCI: Cetyl Ethylhexanoate), 트리에틸헥산산트리메틸올프로판(INCI: Trimethylolpropane Triethylhexanoate), 테트라에틸헥산산펜타에리스리틸(INCI: Pentaerythrityl Tetraethylhexanoate), 옥탄산세틸(INCI: Cetyl Ethylhexanoate), 스테아로일옥시스테아르산옥틸도데실(INCI: Octyldodecyl Stearoyl Stearate) 등의 옥틸도데실에스테르, 올레산올레일(INCI: Oleyl Oleate), 올레산옥틸도데실(INCI: Octyldodecyl Oleate), 올레산데실(INCI: Decyl Oleate), 디옥탄산네오펜틸글리콜(INCI: Neopentyl Glycol Diethylhexanoate), 디카프르산네오펜틸글리콜(INCI: Neopentyl Glycol Dicaprate), 사과산디이소스테아릴(INCI: Diisostearyl Malate), 구연산트리에틸(INCI: Triethyl Citrate), 석신산디에틸헥실(INCI: Diethylhexyl Succinate), 아세트산아밀(INCI: Amyl Acetate), 아세트산에틸(INCI: Etyl Acetate), 아세트산부틸(INCI: Butyl Acetate), 스테아르산이소세틸(INCI: Isocetyl Stearate), 스테아르산부틸(INCI: Butyl Stearate), 세바스산디이소프로필(INCI: Diisopropyl Sebacate), 세바스산디에틸헥실(INCI: Diethylhexyl Sebacate), 유산세틸(INCI: Cetyl Lactate), 유산미리스틸(INCI: Myristyl Lactate), 이소노난산이소노닐(INCI: Isononyl Isononanoate), 이소노난산이소트리데실(INCI: Isotridecyl Isononanoate), 팔미트산이소프로필(INCI: Isopropyl Palmitate), 팔미트산에틸헥실(INCI: Ethylhexyl Isopalmitate), 팔미트산헥실데실(INCI: Isocetyl Palmitate, Hexyldecyl Palmitate) 등의 팔미트산에스테르, 하이드록시스테아르산콜레스테릴(INCI: Cholesteryl Hydroxystearate), 미리스트산이소프로필(INCI: Isopropyl Myristate), 미리스트산옥틸도데실(INCI: Octyldodecyl Myristate), 미리스트산미리스틸(INCI: Myristyl Myristate) 등의 미리스트산에스테르, 라우르산에틸헥실(INCI: Ethylhexyl Laurate), 라우르산헥실(INCI: Hexyl Laurate), 라우로일글루탐산디옥틸도데실(INCI: Dioctyldodecyl Lauroyl Glutamate), 라우로일사르코신이소프로필에스테르(INCI: Isopropyl Lauroyl Sarcosinate) 등을 들 수 있다.
또한, 에스테르유 중에서, 글리세라이드유로는, 트리에틸헥사노인(INCI), 트리(카프릴산/카프르산)글리세릴(INCI: Caprylic/Capric Triglyceride), 코코글리세릴(INCI), (카프릴산/카프르산/석신산)트리글리세릴(INCI: Caprylic/Capric/Succinic Triglyceride), (카프릴산/카프르산)글리세리즈(カプリル酸／カプリン酸）グリセリズ, Caprylic/Capric Glycerides) (INCI) 등을 들 수 있다.
또한, 상기 천연동식물유제 및 반합성유제로는, 아보카도유(INCI: Persea Gratissima (Avocado) Oil), 아마인유(INCI: Linum Usitatissimum (Linseed) Seed Oil), 아몬드유(INCI: Prunus Amygdalus Dulcis (Sweet Almond) Oil), 들깨유(표시명칭), 올리브유(INCI: Olea Europaea (Olive) Fruit Oil), 아메리카 비자나무유(INCI: Torreya Californica (California Nutmeg) Oil), 시트로넬라유(INCI: Cymbopogon Nardus (Citronella) Oil), 비자나무종자유(INCI: Torreya Nucifera Seed Oil), 행인유(INCI: Kyounin Yu), 소맥배아유(INCI: Triticum Vulgare (Wheat) Germ Oil), 참기름(INCI: Sesamum Indicum (Sesame) Seed Oil), 소맥배아유(INCI: Triticum Vulgare (Wheat) Germ Oil), 쌀배아유(INCI: Oryza Sativa (Rice) Germ Oil), 쌀겨유(INCI: Oryza Sativa (Rice) Bran Oil), 산다화유(INCI: Camellia Kissi Seed Oil), 새플라워유(INCI: Carthamus Tinctorius (Safflower) Seed Oil), 대두유(INCI: Glycine Soja (Soybean) Oil), 다실유(INCI: Camellia Sinensis Seed Oil), 동백유(INCI: Camellia Japonica Seed Oil), 월견초유(INCI: Oenothera Biennis (Evening Primrose) Oil), 유채씨유(INCI: RAPE SHUSHI YU), 옥수수배아유(INCI: Zea Mays (Corn) Germ Oil), 소맥배아유(INCI: Triticum Vulgare (Wheat) Germ Oil) 등의 배아유, 퍼식유(표시명칭), 팜유(INCI: Elaeis Guineensis (Palm) Oil), 팜핵유(INCI: Elaeis Guineensis (Palm) Kernel Oil), 피마자유(INCI: Ricinus Communis (Castor) Seed Oil), 해바라기유(INCI: Helianthus Annuus (Sunflower) Seed Oil), 포도종자유(INCI: Vitis Vinifera (Grape) Seed Oil)유, 호호바종자유(INCI: Simmondsia Chinensis (Jojoba) Seed Oil), 마카다미아종자유(INCI: Macadamia Ternifolia Seed Oil), 메도우폼유(INCI: Limnanthes Alba (Meadowfoam) Seed Oil), 면실유(INCI: Gossypium Herbaceum (Cotton) Seed Oil), 야자유(INCI: Cocos Nucifera (Coconut) Oil), 낙화생유 등의 천연식물유, 상어간유(INCI: Shark Liver Oil), 대구간유(INCI: Cod Liver Oil), 어간유(INCI: Fish Liver Oil), 터틀유(INCI: Turtle Oil), 밍크유(INCI: Mink Oil), 난황유(INCI: Egg Oil) 등의 천연동물유, 수첨 야자유(INCI: Hydrogenated Coconut Oil), 액상 라놀린(INCI) 등의 반합성유지 등을 들 수 있다.
상기 (B)성분 중에서는, 변성 실리콘유, 에스테르유가 바람직하고, 변성 실리콘유로는, 페닐기를 갖는 실리콘유인 페닐트리메티콘(INCI), 디페닐실록시페닐트리메티콘(INCI), 디페닐디메티콘(INCI), 디메틸실록산·메틸페닐실록산 공중합체 등의 직쇄 혹은 분지상의 오가노폴리실록산이 특히 바람직하다. 시판되고 있는 것의 예로는, 디페닐디메티콘(신에쓰화학공업(주)제: KP-54, KP-54HV 등), 디페닐실록시페닐트리메티콘(신에쓰화학공업(주)제: KP-56A)을 들 수 있다.
에스테르유로는, 트리에틸헥사논(INCI), 이소노난산이소노닐(INCI: Isononyl Isononanoate), 이소노난산이소트리데실(INCI: Isotridecyl Isononanoate), 에틸헥산산세틸(INCI: Cetyl Ethylhexanoate), 트리(카프릴산/카프르산)글리세릴(INCI: Caprylic/Capric Triglyceride), 팔미트산에틸헥실(INCI: Ethylhexyl Isopalmitate)이 특히 바람직하다.
상기 (A)성분과 상기 (B)성분의 혼합비율((A)성분/(B)성분)은, 특별히 제한은 없으나, 1/30~30/1(질량비)인 것이 바람직하고, 1/20~10/1인 것이 보다 바람직하다. 혼합수법에 대해 제한은 없고, 예를 들어, 3본 롤밀, 2본 롤밀, 니더, 매스콜로이더, 샌드그라인더, 콜로이드밀, 가울린 호모지나이저, 디스퍼, 하이쉐어믹서 등 공지의 방법으로 행할 수 있으나, 매끄러운 외관의 페이스트 조성물로 하기 위해서는, 3본 롤밀 또는 디스퍼에 의한 방법이 바람직하다.
(C)자외선흡수제
본 발명의 (A)방향족기변성 가교형 오가노실록산을 이용한 화장료에는, (C)자외선흡수제를 배합하는 것이 바람직하다. (A)성분의 방향족기변성 가교형 오가노실록산이, 자외선흡수제에 대하여 높은 상용성을 나타내므로, 안정성이 우수한 화장료를 조제할 수 있다.
상기 (C)성분의 자외선흡수제로는, 호모살레이트(INCI), 옥토크릴렌(INCI), t-부틸메톡시디벤조일메탄(INCI: Butyl Methoxydibenzoylmethane), 살리실산에틸헥실(INCI: Ethylhexyl Salicylate), 디에틸아미노하이드록시벤조일안식향산헥실(INCI: Diethylamino Hydroxybenzoyl Hexyl Benzoate), 옥시벤존-6(INCI: Benzophenone-6), 옥시벤존-9(INCI: Benzophenone-9), 옥시벤존-1(INCI: Benzophenone-1), 폴리실리콘-15(INCI), 디메톡시벤질리덴디옥소이미다졸리딘프로피온산옥틸(INCI: Ethylhexyl Dimethoxybenzylidene Dioxoimidazolidine Propionate), 옥시벤존-2(INCI: Benzophenone-2), 테레프탈릴리덴디캠퍼설폰산(INCI: Terephthalylidene Dicamphor Sulfonic Acid), 에틸헥실트리아존(INCI), 트리메톡시계피산메틸비스(트리메틸실록시)실릴이소펜틸(INCI: Isopentyl Trimethoxycinnamate Trisiloxane), 드로메트리졸트리실록산(INCI), 디메틸PABA에틸헥실(INCI: Ethylhexyl Dimethyl PABA), 파라메톡시계피산이소프로필(INCI: Isopropyl Methoxycinnamate), 메톡시계피산에틸헥실(INCI: Ethylhexyl Methoxycinnamate), 비스에틸헥실옥시페놀메톡시페닐트리아진(INCI: Bis-Ethylhexyloxyphenol Methoxyphenyl Triazine), 옥시벤존-3(INCI: Benzophenone-3), 옥시벤존-4(INCI: Benzophenone-4), 옥시벤존-5(INCI: Benzophenone-5), 페닐벤즈이미다졸설폰산(INCI: Phenylbenzimidazole Sulfonic Acid), 메틸렌비스벤조트리아졸릴테트라메틸부틸페놀(INCI: Methylene Bis-Benzotriazolyl Tetramethylbutylphenol), 디메톡시계피산에틸헥산산글리세릴(INCI: Glyceryl Ethylhexanoate Dimethoxycinnamate), 글리세릴PABA(INCI: Glyceryl PABA), 디이소프로필계피산메틸(INCI: Diisopropyl Methyl Cinnamate), 시녹세이트(INCI), 디메톡시벤질리덴디옥소이미다졸리딘프로피온산에틸헥실(INCI: Ethylhexyl Dimethoxybenzylidene Dioxoimidazolidine Propionate) 등을 들 수 있다.
또한, UVA흡수제(예를 들어, 디에틸아미노하이드록시벤조일안식향산헥실(INCI: Diethylamino Hydroxybenzoyl Hexyl Benzoate) 등)와, UVB흡수제(예를 들어, 메톡시계피산에틸헥실(INCI: Ethylhexyl Methoxycinnamat) 등)를 병용하는 것이 가능하며, 각각을 임의로 조합하는 것도 가능하다.
이 중에서도, 메톡시계피산에틸헥실, 디에틸아미노하이드록시벤조일안식향산헥실, 살리실산에틸헥실, 폴리실리콘-15, t-부틸메톡시디벤조일메탄, 옥시벤존, 메틸렌비스벤조트리아졸릴테트라메틸부틸페놀, 비스에틸헥실옥시페놀메톡시페닐트리아진, 살리실산호모멘틸 및 옥토크릴렌으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 유기자외선흡수제이면, 특히, 유제와의 상용성의 관점에서 바람직하다.
(A)성분인 방향족기변성 가교형 오가노실록산은 (C)성분과의 상용성이나 증점성이 높고, (C)성분을 함유하는 화장료의 안정화나 사용감 개선이 우수하다. (C)성분의 배합량은 특별히 한정되지 않으나, 화장료 전체의 0.1질량%~35질량%가 바람직하고, 5질량%~27질량%가 보다 바람직하고, 7질량%~20질량%가 더욱 바람직하고, 10질량%~20질량%가 가장 바람직하다. 특히, 본 발명은 (C)성분을 고배합하는 계에서 불안정화하는 바와 같은 화장료에의 안정화에 바람직하다.
<기타 성분>
본 발명의 화장료에는, 기타 성분으로서, 하기 화장료에 배합할 수 있는 각종 성분을 배합할 수 있다. 이들은 1종 단독으로 또는 2종 이상을 적당히 조합하여 이용할 수 있다. 이들 성분은, 화장료의 종류 등에 따라 적당히 선택사용되며, 또한 그의 배합량도 화장료의 종류 등에 따른 공지의 배합량으로 할 수 있다.
·수성성분
수성성분은, 통상 화장료에 배합할 수 있는 수성성분이면, 특별히 한정되지 않는다. 구체적으로는, 물, 에탄올 등의 저급알코올, 에리스리톨, 말티톨, 자일리톨, 소르비톨 등의 당알코올, 1,3-BG, 글리세린, PG, DPG, 펜틸렌글리콜 등의 다가 알코올 등의 보습제 등을 들 수 있고, 1종 단독으로 또는 2종 이상을 적당히 조합하여 이용할 수 있다. 이 성분을 배합하는 경우의 배합량은, 화장료 중 0.1~90질량%가 바람직하다.
·(B)성분 이외의 유성성분
상기 (B)성분 이외의 유성성분으로는, 통상의 화장료에 이용되는 것이면 특별히 한정없고, 예를 들어, 25℃에서 페이스트상의 에스테르, 바셀린, 라놀린이나, 고형상의 납(ロウ)류, 실리콘왁스 등을 들 수 있다.
·분체
분체는 통상 화장료에 배합할 수 있는 원료이면, 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, 착색안료, 무기분체, 유기분체, 무기·유기복합분체, 금속분체 등을 들 수 있다. 분체를 배합하는 경우, 분체의 배합량은 특별히 한정되지 않으나, 화장료 전체의 0.1~90질량% 배합하는 것이 바람직하고, 1~35질량%가 보다 바람직하고, 1~18질량%가 더욱 바람직하다.
착색안료로는, 적색산화철, 황색산화철, 백색산화티탄, 흑색산화철, 벵갈라, 군청, 감청, 망간바이올렛, 코발트바이올렛, 수산화크롬, 산화크롬, 산화코발트, 티탄산코발트, 산화철도프산화티탄, 티탄산철, (티탄/산화티탄)소성물, 티탄산(Li/코발트), 티탄산코발트, 질화티탄, 수산화철, γ-산화철 등의 무기갈색계 안료, 황토 등의 무기황색계 안료, 타르계 색소를 레이크화한 것, 천연색소를 레이크화한 것 등의 유색안료 등, 어느 것이든 사용할 수 있다.
무기분체로는, 산화지르코늄, 산화아연, 산화세륨, 산화마그네슘, 황산바륨, 황산칼슘, 황산마그네슘, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 탈크, 벽개탈크, 마이카, 카올린, 세리사이트, 백운모, 합성운모, 금운모, 홍운모, 흑운모, 리티아운모, 규산, 이산화규소, 흄드실리카, 함수이산화규소, 규산알루미늄, 규산마그네슘, 규산알루미늄마그네슘, 규산칼슘, 규산바륨, 규산스트론튬, 텅스텐산금속염, 하이드록시아파타이트, 버미큘라이트, 하이드라질라이트(ハイジライト), 벤토나이트, 몬모릴로나이트, 헥토라이트, 제올라이트, 세라믹스, 제2인산칼슘, 알루미나, 수산화알루미늄, 질화붕소(チッ化ホウ素), 질화보론(チッ化ボロン), 유리 등으로 이루어지는 미립자를 들 수 있다. 또한, 무기착색 펄안료로는, 산화티탄피복 운모, 옥시염화비스무트, 산화티탄피복 옥시염화비스무트, 산화티탄피복 탈크, 어린박, 산화티탄피복 착색운모 등의 펄안료를 들 수 있다. 자외선차폐 용도로서, 미립자 산화티탄, 미립자 산화아연, 미립자 산화세륨을 들 수 있고, 미립자 산화티탄, 미립자 산화아연이 자외선차폐나 사용성의 점에서 바람직하다. 이들 자외선차폐용 무기분체는 단독이어도 병용해도 되고, 흡수파장이나 분산성 등에 따라 적당히 선택된다.
자외선차폐 용도의 무기분체의 배합량은 특별히 한정되지 않으나, 화장료 전체의 0.1~35질량% 배합하는 것이 바람직하고, 1~18질량%가 보다 바람직하고, 1~10질량%가 더욱 바람직하고, 1~5질량%가 가장 바람직하다. 본 발명의 (A)성분은 (C)성분과의 상용성이 높으므로, 화장료에 (C)성분을 고배합하는 것이 가능하다. 그 때문에, 원하는 자외선차폐효과를 얻기 위해, (C)성분을 고배합하는 한편, 자외선차폐 용도의 무기분체의 배합량을 저감하는 것이 가능하며, 무기분체 특유의 뻑뻑한 느낌(軋み感)이나 백탁(白さ)을 억제하여, 투명성이 높은 자외선차단제 화장료의 조제가 가능해진다. 혹은, 원하는 자외선차폐효과에 따라서는, (C)성분을 고배합하고, 이에 더하여, 자외선차폐 용도의 무기분체도 고배합하는 것이 가능하며, 보다 높은 자외선차폐효과를 갖는 안정적인 화장료를 조제하는 것이 가능하다.
유기분체로는, 예를 들어, 실리콘, 폴리아미드, 폴리아크릴산·아크릴산에스테르, 폴리에스테르, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 스티렌·아크릴산 공중합체, 디비닐벤젠·스티렌 공중합체, 폴리우레탄, 비닐 수지, 요소 수지, 멜라민 수지, 벤조구아나민, 폴리메틸벤조구아나민, 테트라플루오로에틸렌, 폴리메틸메타크릴레이트(예를 들어, 폴리메타크릴산메틸 등), 셀룰로오스, 실크, 나일론, 페놀 수지, 에폭시 수지, 폴리카보네이트 등으로 이루어지는 분체를 들 수 있다. 특히, 실리콘으로는, 실리콘 수지입자(구체예로는, 신에쓰화학공업(주)제: KMP-590, KMP-591, KMP-592 등)나 실리콘 고무분말(구체예로는, 신에쓰화학공업(주)제: KMP-597, KMP-598 등)이나 실리콘 수지피복 실리콘 고무분말(구체예로는, 신에쓰화학공업(주)제: KSP-100, KSP-101, KSP-102, KSP-105, KSP-300, KSP-411, KSP-441 등)을 들 수 있고, 미리 수중이나 유중에 분산되어 있을 수도 있다(구체예로는, 신에쓰화학공업(주)제: KM-9729, KSG-016F 등). 또한, 금속비누 등도 들 수 있고, 구체예로는, 스테아르산아연, 스테아르산알루미늄, 스테아르산칼슘, 스테아르산마그네슘, 미리스트산아연, 미리스트산마그네슘, 세틸인산아연, 세틸인산칼슘, 세틸인산아연나트륨 등으로 이루어지는 분체도 들 수 있다. 추가로, 유기계 색소 등도 들 수 있고, 구체예로는, 적색3호, 적색104호, 적색106호, 적색201호, 적색202호, 적색204호, 적색205호, 적색220호, 적색226호, 적색227호, 적색228호, 적색230호, 적색401호, 적색505호, 황색4호, 황색5호, 황색202호, 황색203호, 황색204호, 황색401호, 청색1호, 청색2호, 청색201호, 청색404호, 녹색3호, 녹색201호, 녹색204호, 녹색205호, 등색201호, 등색203호, 등색204호, 등색206호, 등색207호 등의 타르색소, 카르민산, 락카인산(ラッカイン酸, Laccaic acid), 카르타민(カルサミン), 브라질린, 크로신 등의 천연색소를 들 수 있다.
무기·유기복합분체로는, 예를 들어, 무기분체 표면이, 공지공용의 방법에 의해 유기분체로 피복된 복합분체를 들 수 있다.
금속분체로는, 예를 들어, 알루미늄, 구리, 스테인레스, 은 등으로 이루어지는 금속미립자를 들 수 있다.
한편, 상기 서술한 분체는, 입자표면을 처리한 것도 사용할 수 있다. 또한, 그 표면처리제는, 화장료의 내수성의 관점에서 소수성을 부여할 수 있는 것이 바람직하고, 이 소수성을 부여하는 처리제로는 특별히 한정되지 않고, 실리콘처리제, 왁스류, 파라핀류, 퍼플루오로알킬과 인산염 등의 유기불소 화합물, 계면활성제, N-아실글루탐산 등의 아미노산, 스테아르산알루미늄, 미리스트산마그네슘 등의 금속비누 등의 처리제를 들 수 있다.
보다 바람직하게는 실리콘처리제로, 카프릴실란(신에쓰화학공업(주)제: AES-3083), 또는, 트리메톡시실릴디메티콘 등의 실란류 또는 실릴화제, 디메틸실리콘(신에쓰화학공업(주)제: KF-96A 시리즈), 메틸하이드로겐형 폴리실록산(신에쓰화학공업(주)제: KF-99P, KF-9901 등), 실리콘분지형 실리콘처리제(신에쓰화학공업(주)제: KF-9908, KF-9909 등) 등의 실리콘오일, 아크릴실리콘(신에쓰화학공업(주)제: KP-574, KP-541) 등을 들 수 있다. 나아가, 상기의 표면소수화처리제는, 단독, 혹은, 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.
실리콘처리제 중에서도 트리에톡시실릴기와 폴리디메틸실록시에틸기와 헥실기를 측쇄에 갖는 디메틸폴리실록산인 트리에톡시실릴에틸폴리디메틸실록시에틸헥실디메티콘(신에쓰화학공업(주)제: KF-9909) 등이, 본 발명에 따른 고소수화도처리 착색안료를 분산시키는 분산매가 실리콘 그리고 탄화수소 등의 혼합조성이어도 높은 친화성을 발현하는 점에서 유효하게 이용된다. 나아가, 상기의 표면소수화처리제는, 단독, 혹은, 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다. 표면소수화처리를 실시한 착색안료의 구체예로는, KTP-09 시리즈, 특히, KTP-09W, KTP-09R, KTP-09Y, KTP-09B 등(신에쓰화학공업제)을 들 수 있다.
·계면활성제
계면활성제로는, 비이온성, 음이온성, 양이온성 및 양성의 활성제가 있는데, 특별히 제한되는 것은 아니며, 통상의 화장료에 사용되는 것이면, 어느 것이든 사용할 수 있다. 이들 계면활성제 중에서도, 부분가교형 폴리에테르변성 실리콘, 부분가교형 폴리글리세린변성 실리콘, 직쇄 또는 분지상 폴리옥시에틸렌변성 오가노폴리실록산, 직쇄 또는 분지상 폴리옥시에틸렌폴리옥시프로필렌변성 오가노폴리실록산, 직쇄 또는 분지상 폴리옥시에틸렌·알킬공변성 오가노폴리실록산, 직쇄 또는 분지상 폴리옥시에틸렌폴리옥시프로필렌·알킬공변성 오가노폴리실록산, 직쇄 또는 분지상 폴리글리세린변성 오가노폴리실록산, 직쇄 또는 분지상 폴리글리세린·알킬공변성 오가노폴리실록산, 직쇄 또는 분지상 피롤리돈변성 오가노폴리실록산인 것이 바람직하다.
이들 계면활성제에 있어서, 친수성의 폴리옥시에틸렌기, 폴리옥시에틸렌폴리옥시프로필렌기 또는 폴리글리세린잔기의 함유량이, 분자 중의 10~70질량%를 차지하는 것이 바람직하다.
또한, 부분가교형 폴리에테르변성 실리콘, 부분가교형 폴리글리세린변성 실리콘과 같은 가교형 오가노폴리실록산을 이용하는 경우에는, 해당 가교형 오가노폴리실록산과 실온에서 액상의 유제로 이루어지는 조성물에 있어서, 가교형 오가노폴리실록산은, 액상유에 대하여, 자중 이상의 이 액상유제를 포함하여 팽윤하는 것이 바람직하다. 해당 액상유제로는, (B)성분의 유제 중의 액상의 실리콘, 탄화수소유, 에스테르유, 천연동식물유, 반합성유 등, 불소계유를 이용할 수 있고, 예를 들어, 0.65~100mm2/s(25℃)의 저점도 실리콘, 유동파라핀, 스쿠알란, 이소도데칸, 이소헥사데칸 등의 탄화수소유나 트리옥타노인 등의 글리세라이드유, 이소노난산이소트리데실, N-아실글루탐산에스테르, 라우로일사르코신산에스테르 등의 에스테르유, 마카다미아넛츠유 등의 천연동식물유를 들 수 있다.
가교형 오가노폴리실록산이 액상유제를 포함하여 팽윤한 것의 구체예로는, 신에쓰화학공업(주)제: KSG-210, KSG-240, KSG-310, KSG-320, KSG-330, KSG-340, KSG-320Z, KSG-350Z, KSG-710, KSG-810, KSG-820, KSG-830, KSG-840, KSG-820Z, KSG-850Z 등을 들 수 있다.
가교형 오가노폴리실록산이 아닌 계면활성제의 구체예로는, 신에쓰화학공업(주)제: KF-6011, KF-6013, KF-6043, KF-6017, KF-6028, KF-6038, KF-6048, KF-6100, KF-6104, KF-6105, KF-6106 등을 들 수 있다.
어느 경우에 있어서도 계면활성제의 배합량으로는, 화장료 전체의 0.1~20질량%가 바람직하다. 0.1질량% 이상이면, 분산이나 유화의 기능을 충분히 할 수 있고, 20질량% 이하이면 화장료가 끈적이는 사용감이 될 우려가 없으므로 바람직하다. 계면활성제의 HLB는, 한정되지 않으나 화장료의 내수성을 유지한다는 목적에서 2~14.5가 바람직하다.
·(A)성분 이외의 가교형 오가노폴리실록산
본 발명에 있어서는, 상기 (A)성분 이외의 가교형 오가노폴리실록산을 배합할 수도 있다. 이러한 가교형 오가노폴리실록산으로는, 통상 화장품에 사용되는 것이면 특별히 한정되지 않고, 1종 단독으로 또는 2종 이상을 적당히 조합하여 이용할 수 있다. 이 가교형 오가노폴리실록산은, 상기의 분체와 달리, 구상의 형상을 갖고 있지 않다. 또한, 상기의 계면활성제와는 달리, 분자구조 중, 폴리에테르 또는 폴리글리세린구조를 갖지 않는 화합물이다. 상기 (B)성분으로 팽윤함으로써, 구조점성을 갖는 엘라스토머이다.
구체예로는, 화장품 표시명칭으로 정의되는, (디메티콘/비닐디메티콘)크로스폴리머, (디메티콘/페닐비닐디메티콘)크로스폴리머, (비닐디메티콘/라우릴디메티콘)크로스폴리머, (라우릴폴리디메틸실록시에틸디메티콘/비스비닐디메티콘)크로스폴리머 등을 들 수 있다. 이들은 실온에서 액상의 오일을 포함하는 팽윤물로서 시판되며, 구체예로는, 신에쓰화학공업(주)제의 KSG-15, KSG-1510, KSG-16, KSG-1610, KSG-18A, KSG-19, KSG-41A, KSG-42A, KSG-43, KSG-44, KSG-042Z, KSG-045Z, KSG-048Z 등을 들 수 있다. 이 성분을 배합하는 경우의 배합량은, 고형분으로서 화장료 중 0.01~30질량%가 바람직하다.
·피막제
피막제로는, 통상 화장료에 배합할 수 있는 원료이면 특별히 한정되지 않으나, 구체적으로는, 폴리비닐알코올, 폴리비닐피롤리돈, 폴리아세트산비닐, 폴리아크릴산알킬 등의 라텍스류, 덱스트린, 알킬셀룰로오스나 니트로셀룰로오스 등의 셀룰로오스유도체, 트리(트리메틸실록시)실릴프로필카르바미드산풀루란(トリ（トリメチルシロキシ）シリルプロピルカルバミド酸プルラン) 등의 실리콘화 다당 화합물, (아크릴산알킬/디메티콘)코폴리머 등의 아크릴-실리콘계 그래프트 공중합체, 트리메틸실록시규산 등의 실리콘 수지, 실리콘변성 폴리노보넨, 불소변성 실리콘 수지 등의 실리콘계 수지, 불소 수지, 방향족계 탄화수소 수지, 폴리머에멀전 수지, 테르펜계 수지, 폴리부텐, 폴리이소프렌, 알키드 수지, 폴리비닐피롤리돈변성 폴리머, 로진변성 수지, 폴리우레탄 등이 이용된다.
이들 중에서도 특히, 실리콘계의 피막제가 바람직하고, 그 중에서도 트리(트리메틸실록시)실릴프로필카르바미드산풀루란〔시판품으로는, 용제에 용해한 것으로서, 신에쓰화학공업(주)제: TSPL-30-D5, ID〕이나, (아크릴산알킬/디메티콘)코폴리머〔시판품으로는, 용제에 용해한 것으로서, 신에쓰화학공업(주)제: KP-543, KP-545, KP-549, KP-550, KP-545L 등〕나, 트리메틸실록시규산〔시판품으로는, 용제에 용해한 것으로서, 신에쓰화학공업(주)제: KF-7312J, X-21-5250 등〕이나 실리콘변성 폴리노보넨〔시판품으로는, 용제에 용해한 것으로서, 신에쓰화학공업(주)제: NBN-30-ID 등〕, 오가노실록산그래프트폴리비닐알코올계 중합체를 이용할 수 있으나, 이들로 한정되는 것은 아니다. 피막제로는 1종 또는 2종 이상을 이용할 수 있다. 이 성분을 배합하는 경우의 배합량은, 화장료 중 0.1~20질량%가 바람직하다.
·기타 첨가제
기타 첨가제로는, 유용성 겔화제, 수용성 증점제, 제한제, 방부제·살균제, 향료, 염류, 산화방지제, pH조정제, 킬레이트제, 청량제, 항염증제, 피부미용성분(미백제, 세포부활제, 피부거칠음개선제, 혈행촉진제, 피부수렴제, 항지루제 등), 비타민류, 아미노산류, 핵산, 호르몬, 포접 화합물 등을 들 수 있다.
·유용성 겔화제
유용성 겔화제로는, 알루미늄스테아레이트, 마그네슘스테아레이트, 징크미리스테이트 등의 금속비누; N-라우로일-L-글루탐산, α,γ-디-n-부틸아민 등의 아미노산유도체; 덱스트린팔미트산에스테르, 덱스트린스테아르산에스테르, 덱스트린2-에틸헥산산팔미트산에스테르 등의 덱스트린지방산에스테르; 자당 팔미트산에스테르, 자당 스테아르산에스테르 등의 자당 지방산에스테르; 프락토올리고당 스테아르산에스테르, 프락토올리고당 2-에틸헥산산에스테르 등의 프락토올리고당 지방산에스테르; 모노벤질리덴소르비톨, 디벤질리덴소르비톨 등의 소르비톨의 벤질리덴유도체; 디스테아르디모늄헥토라이트, 스테아랄코늄토라이트, 헥토라이트의 유기변성 점토광물 등을 들 수 있다.
·수용성 증점제
수용성 증점제로서, 아라비아 고무, 트래거캔스, 갈락탄, 캐럽 검, 구아 검, 카라야 검, 카라기난, 펙틴, 한천, 퀸스시드(마르멜로), 전분(쌀, 옥수수, 감자, 밀 등), 알게콜로이드, 트랜트 검, 로커스트빈 검 등의 식물계 고분자, 크산탄검, 덱스트란, 석시노글루칸, 풀루란 등의 미생물계 고분자, 콜라겐, 카제인, 알부민, 젤라틴 등의 동물계 고분자, 카르복시메틸 전분, 메틸하이드록시프로필 전분 등의 전분계 고분자, 메틸셀룰로오스, 에틸셀룰로오스, 메틸하이드록시프로필셀룰로오스, 카르복시메틸셀룰로오스, 하이드록시메틸셀룰로오스, 하이드록시프로필셀룰로오스, 니트로셀룰로오스, 셀룰로오스황산나트륨, 카르복시메틸셀룰로오스나트륨, 결정 셀룰로오스, 양이온화 셀룰로오스, 셀룰로오스 분말 등의 셀룰로오스계 고분자, 알긴산나트륨, 알긴산프로필렌글리콜에스테르 등의 알긴산계 고분자, 폴리비닐메틸에테르, 카르복시비닐폴리머 등의 비닐계 고분자, 폴리옥시에틸렌계 고분자, 폴리옥시에틸렌폴리옥시프로필렌 공중합체계 고분자, 폴리아크릴산나트륨, 폴리에틸아크릴레이트, 폴리아크릴아미드, 아크릴로일디메틸타우린염 코폴리머 등의 아크릴계 고분자, 폴리에틸렌이민, 양이온 폴리머 등 다른 합성수용성 고분자, 벤토나이트, 규산알루미늄마그네슘, 몬모릴로나이트, 바이델라이트, 논트로나이트, 사포나이트, 헥토라이트, 무수규산 등의 무기계 수용성 고분자 등이 있다.
그 중에서도, 식물계 고분자, 미생물계 고분자, 동물계 고분자, 전분계 고분자, 셀룰로오스계 고분자, 알긴산계 고분자, 폴리옥시에틸렌폴리옥시프로필렌 공중합체계 고분자, 아크릴계 고분자, 및 무기계 수용성 고분자로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 수용성 증점제가 바람직하게 사용된다.
·제한제
제한제로서, 클로르하이드록시알루미늄, 알란토인클로르하이드록시알루미늄 등의 하이드록시할로겐화알루미늄, 염화알루미늄 등의 할로겐화알루미늄, 알란토인알루미늄염, 탄닌산, 감탄닌(カキタンニン), 황산알루미늄칼륨, 산화아연, 파라페놀설폰산아연, 소명반(), 테트라클로로(Al/지르코늄)수화물, 트리클로로하이드렉스글리신(Al/지르코늄) 등을 들 수 있다. 특히, 높은 효과를 발현하는 성분으로서, 하이드록시할로겐화알루미늄, 할로겐화알루미늄, 그리고 이들의 옥시할로겐화지르코닐 및 하이드록시할로겐화지르코닐과의 착체 또는 혼합물(예를 들어, 테트라클로로(Al/지르코늄)수화물, 트리클로로하이드렉스글리신(Al/지르코늄)) 등이 바람직하다.
·방부제·살균제
방부제·살균제로는, 파라옥시안식향산알킬에스테르, 안식향산, 안식향산나트륨, 소르브산, 소르브산칼륨, 페녹시에탄올, 이미다졸리디닐우레아, 살리실산, 이소프로필메틸페놀, 석탄산, 파라클로르메타크레졸, 헥사클로로펜, 염화벤잘코늄, 염화클로르헥시딘, 트리클로로카르바닐리드, 부틸카르밤산요오드화프로피닐(ブチルカルバミン酸ヨウ化プロピニル), 폴리라이신, 감광소, 은, 식물엑기스 등을 들 수 있다.
·향료
향료로는, 천연향료 및 합성향료가 있다. 천연향료로는 꽃, 잎, 목재(材), 과피 등으로부터 분리한 식물성 향료, 머스크, 시빗(シベット) 등의 동물성 향료가 있다. 합성향료로는 모노테르펜 등의 탄화수소류, 지방족 알코올, 방향족 알코올 등의 알코올류, 테르펜알데히드, 방향족 알데히드 등의 알데히드류, 지환식 케톤 등의 케톤류, 테르펜계 에스테르 등의 에스테르류, 락톤류, 페놀류, 옥사이드류, 함질소 화합물류, 아세탈류 등을 들 수 있다.
·염류
염류로는, 무기염, 유기산염, 아민염 및 아미노산염을 들 수 있다. 무기염으로는, 예를 들어, 염산, 황산, 탄산, 질산 등의 무기산의 나트륨염, 칼륨염, 마그네슘염, 칼슘염, 알루미늄염, 지르코늄염, 아연염 등을 들 수 있다. 유기산염으로는, 예를 들어, 아세트산, 디하이드로아세트산, 구연산, 사과산, 석신산, 아스코르브산, 스테아르산 등의 유기산류의 염을 들 수 있다. 아민염 및 아미노산염으로는, 예를 들어, 트리에탄올아민 등의 아민류의 염, 글루탐산 등의 아미노산류의 염 등을 들 수 있다. 또한, 기타, 히알루론산, 콘드로이틴황산 등의 염 등이나, 더 나아가, 제제 처방 중에서 사용되는 산-알칼리의 중화염 등도 사용할 수 있다.
·산화방지제
산화방지제로는, 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, 카로티노이드, 아스코르브산 및 그의 염, 스테아르산아스코르빌, 토코페놀, 아세트산토코페놀, 토코페롤, p-t-부틸페놀, 부틸하이드록시아니솔, 디부틸하이드록시톨루엔, 피트산, 페룰산, 티오타우린, 히포타우린, 아황산염, 에리소르브산 및 그의 염, 클로로겐산, 에피카테킨, 에피갈로카테킨, 에피갈로카테킨갈레이트, 아피게닌, 캄페롤, 미리세틴, 케르세틴 등을 들 수 있다.
·pH조정제
pH조정제로는, 유산, 구연산, 글리콜산, 석신산, 주석산, dl-사과산, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소암모늄 등을 들 수 있다.
·킬레이트제
킬레이트제로는, 알라닌, 에데트산나트륨염, 폴리인산나트륨, 메타인산나트륨, 인산 등을 들 수 있다.
·청량제
청량제로는, L-멘톨, 캠퍼, 유산멘틸 등을 들 수 있다.
·항염증제
항염증제로는, 알란토인, 글리시리진산(グリチルリチン酸) 및 그의 염, 글리시레트산(グリチルレチン酸) 및 글리시레트산스테아릴, 트라넥삼산, 아줄렌 등을 들 수 있다.
·피부미용성분
피부미용성분으로는, 태반 추출액, 알부틴, 글루타티온, 트라넥삼산, 아스코르브산유도체, 바위취 추출물 등의 미백제, 로얄젤리, 감광소, 콜레스테롤유도체, 유우(幼牛)혈액 추출액 등의 세포부활제, 피부거칠음개선제, 노닐산바닐릴아미드(ノニル酸ワレニルアミド), 니코틴산벤질에스테르, 니코틴산β-부톡시에틸에스테르, 캡사이신, 진저론, 칸타리스틴크(カンタリスチンキ), 익타몰, 카페인, 탄닌산, α-보르네올, 니코틴산토코페롤, 이노시톨헥사니코티네이트, 시클란델레이트, 신나리진, 톨라졸린, 아세틸콜린, 벨라파밀, 세파란틴, γ-오리자놀 등의 혈행촉진제, 피부수렴제, 황, 티안트롤 등의 항지루제 등을 들 수 있다.
·비타민류
비타민류로는, 비타민A유, 레티놀, 아세트산레티놀, 팔미트산레티놀 등의 비타민A류, 리보플라빈, 부티르산리보플라빈, 플라빈아데닌누클레오타이드 등의 비타민B2류, 피리독신염산염, 피리독신디옥타노에이트, 피리독신트리팔미테이트 등의 비타민B6류, 비타민B12 및 그의 유도체, 비타민B15 및 그의 유도체 등의 비타민B류, L-아스코르브산, L-아스코르브산디팔미트산에스테르, L-아스코르브산-2-황산나트륨, L-아스코르브산인산디에스테르디칼륨 등의 비타민C류, 에르고칼시페롤, 콜레칼시페롤 등의 비타민D류, α-토코페롤, β-토코페롤, γ-토코페롤, 아세트산dl-α-토코페롤, 니코틴산dl-α-토코페롤, 석신산dl-α-토코페롤 등의 비타민E류; 니코틴산, 니코틴산벤질, 니코틴산아미드 등의 니코틴산류, 비타민H, 비타민P, 판토텐산칼슘, D-판토테닐알코올, 판토테닐에틸에테르, 아세틸판토테닐에틸에테르 등의 판토텐산류, 비오틴 등을 들 수 있다.
·아미노산류
아미노산류로는, 글리신, 발린, 류신, 이소류신, 세린, 트레오닌, 페닐알라닌, 아르기닌, 라이신, 아스파라긴산, 글루탐산, 시스틴, 시스테인, 메티오닌, 트립토판 등을 들 수 있다.
·핵산
핵산으로는, 디옥시리보핵산 등을 들 수 있다.
·호르몬
호르몬으로는, 에스트라디올, 에테닐에스트라디올 등을 들 수 있다.
·포접 화합물
포접 화합물로는, 시클로덱스트린 등을 들 수 있다.
<화장료>
본 발명에 있어서의 (A)방향족기변성 가교형 오가노실록산은, 각종 용도의 화장료에 사용할 수 있는데, 특히 피부나 모발에 외용되는 모든 화장료의 원료로서 적용가능하다. 이 경우, 상기 (A)성분의 배합량은, 화장료 전체의 0.01~10질량%의 범위가 바람직하고, 0.05~2질량%의 범위가 더욱 바람직하다. 0.01질량% 이상이면 충분한 증점성이 얻어지고, 10질량% 이하이면 사용감이 양호하다.
상기한 화장료의 형태는, 유화계, 비수계, 수계 중 어느 것이어도 된다. 생기 있는 사용감을 부여하고 싶을 때는 유화형태를 선택하고, 유화형태로는, O/W형 에멀전, W/O형 에멀전, O/W/O형 에멀전, W/O/W형 에멀전 중 어느 형태여도 되고, 유성감이나 내수성을 얻고 싶을 때는 비수계 조성물, 또는, 분체 조성물을 선택할 수 있으며, 산뜻한 사용감을 얻고 싶은 경우는 수계 조성물을 선택할 수 있고, 어느 경우든 양호한 화장료가 얻어진다. 한편, 본 발명에 있어서 「비수계 조성물」이란, 물을 의도적으로 배합하지 않는 조성물을 말하며, 「수계 조성물」이란, 유성성분을 의도적으로 배합하지 않는 조성물을 말한다. 이들 중에서도 특히 높은 증점성을 기대할 수 있는 W/O형 에멀전이나 비수계 조성물이 바람직하다. W/O형 에멀전으로는, 사용 전에 잘 진탕하는 2층 분리형이나 진탕하지 않고 그대로 사용할 수 있는 비분리형을 들 수 있다. 2층 분리형에는, 몇가지 종류가 있는데, 넓은 의미로는, 정치시에 유화 조성물이나 분산액이 복수의 상으로 분리되는 것을 가리킨다. 예를 들어, 정치시, 분체를 포함하는 층과 에멀전층의 2층으로 나누어지는 것, 분체를 포함하는 층과 유층이 2층으로 나누어지는 것, 수층과 유층이 2층으로 나누어지는 것, 에멀전층과 수층의 일부가 나누어지는 것, 분체를 포함하는 에멀전층과 수층의 일부가 나누어지는 것, 분체와 유층성분으로 이루어지는 층과 수층이 나누어지는 등이 있고, 모두 진탕 직후는 유화분산, 혹은, 분산된 1층이 되는 것을 특징으로 한다. 또한, 진탕시에 용이하게 혼합하기 위해, 스테인레스볼을 용기 중에 넣은 제제가 있다. 또한, 이들 2층 분리형은, 2층식, 쉐이킹타입, 샤카샤카타입(シャカシャカタイプ)(구어로 이용되는 경우가 있다) 등으로 불린다. 본 발명에 따른 W/O형 에멀전으로는, 이들 사용 전에 잘 진탕하는 2층 분리형, 또는, 진탕하지 않고 그대로 사용할 수 있는 비분리형에 있어서, 본 발명의 효과를 발현하는데, 사용성의 점에서 진탕을 필요로 하지 않는 비분리형이 바람직하다.
본 발명의 방향족기변성 가교형 오가노실록산을 이용한 화장료는, 여러가지 방법으로 배합할 수 있다. 예를 들어, 유제나 자외선흡수제, 분체에 혼합하거나, 유화 조성물의 경우는 유화 전의 유상, 또는 유화 후의 유화물, 또는 그의 양방에 혼합할 수도 있고, 실온공정이어도 가열공정이어도 된다. 혼합방법은 특별히 한정되지 않고, 펄세이터, 프로펠러믹서, 패들믹서, 디스퍼, 호모믹서, 롤, 헨셀, 애터마이저, 핀밀, 자전·공전형 믹서 등을 이용할 수도 있다.
본 발명에 있어서의 화장료는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어, 미용액, 유액, 크림, 헤어케어, 파운데이션, 메이크업베이스, 자외선차단제, 컨실러, 치크컬러, 립스틱, 글로스, 밤, 마스카라, 아이섀도우, 아이라이너, 보디 메이크업, 데오드란트제, 손톱용 화장료 등, 다양한 제품에 응용하는 것이 가능하다. 이들 중에서도 특히, 유액, 크림, 헤어케어, 파운데이션 등의 메이크업 화장료나 자외선차단제 효과를 부여한 화장료가 바람직하다. 본 발명의 화장료의 성상으로는, 액상, 크림상, 고형상, 페이스트상, 겔상, 무스상, 스프레이상, 점토상, 파우더상, 스틱상 등의 다양한 성상을 선택할 수 있다.
실시예
이하, 실시예 및 비교예를 나타내어 본 발명을 보다 구체적으로 설명하는데, 본 발명은 하기의 실시예로 한정되는 것은 아니다.
〔실시예 1〕
반응기 중에, 하기 평균조성식(1-2)로 표시되는 오가노실록산 12.96질량부, 및 하기 평균조성식(2-2)로 표시되는 오가노실록산 66.04질량부, 이소프로필알코올 79.00질량부, 및 하이드로실릴화 반응용 촉매로서, 1질량% 염화백금산에탄올용액 0.04질량부를 투입하고, 내온을 70~80℃로 유지하여 3시간 반응시킨 후, 감압하에서 내온을 100℃로 가열하여, 휘발성분을 제거함으로써, 무색 반투명하고 탄력이 있으며 유연한 수지상의 페닐변성 가교형 오가노실록산을 얻었다. 이때, 페닐기와 규소원자의 비는, 0.34였다.
[화학식 3]
[화학식 4]
〔실시예 2〕
실시예 1에서 얻어진 수지 20.00g과 디페닐실록시페닐트리메티콘(표시명칭)(신에쓰화학공업(주)사제 KF-56A)을 3본 롤을 이용해 혼합하여, 농도 12%의 페이스트상 조성물을 얻었다. 이때, 굴절률은 1.496, 점도는 8295mPa·s였다.
한편 본 실시예에 있어서는, 점도는, Anton Paar사제 MCR102를 이용하고, 전단속도 20(1/s)에서의 측정값을 기재하였다. 측정조건은, 25℃, 50mm 패럴렐플레이트, 갭 0.5mm로 하였다.
〔실시예 3〕
반응기 중에, 하기 평균조성식(1-3)으로 표시되는 오가노실록산 7.46질량부, 상기 평균조성식(2-2)로 표시되는 오가노실록산 51.89질량부, 이소프로필알코올 59.35질량부 및 1질량% 염화백금산에탄올용액 0.03질량부를 투입하고, 내온을 70~80℃로 유지하여 3시간 반응시킨 후, 감압하에서 내온을 100℃로 가열하여, 휘발성분을 제거함으로써, 무색 반투명하고 탄력이 있으며 유연한 수지상의 페닐변성 가교형 오가노실록산을 얻었다. 이때, 페닐기와 규소원자의 비는, 0.36이었다.
[화학식 5]
〔실시예 4〕
실시예 3에서 얻어진 수지 20.00g과 디페닐실록시페닐트리메티콘(표시명칭)(신에쓰화학공업(주)사제 KF-56A)을 3본 롤을 이용해 혼합하여, 농도 12%의 페이스트상 조성물을 얻었다. 이때, 굴절률은 1.496, 점도는 13382mPa·s였다.
〔실시예 5〕
반응기 중에, 하기 평균조성식(1-4)로 표시되는 오가노실록산 48.70질량부, 하기 평균조성식(2-3)으로 표시되는 오가노실록산 12.68질량부, 이소프로필알코올 61.38질량부 및 1질량% 염화백금산에탄올용액 0.03질량부를 투입하고, 내온을 70~80℃로 유지하여 3시간 반응시킨 후, 감압하에서 내온을 100℃로 가열하여, 휘발성분을 제거함으로써, 무색 반투명하고 탄력이 있으며 유연한 수지상의 페닐변성 가교형 오가노실록산을 얻었다. 이때, 페닐기와 규소원자의 비는, 0.37이었다.
[화학식 6]
[화학식 7]
〔실시예 6〕
실시예 5에서 얻어진 수지 20.00g과 디페닐실록시페닐트리메티콘(표시명칭)(신에쓰화학공업(주)사제 KF-56A)을 3본 롤을 이용해 혼합하여, 농도 25%의 페이스트상 조성물을 얻었다. 이때, 굴절률은 1.493, 점도는 36672mPa·s였다.
〔실시예 7〕
반응기 중에, 하기 평균조성식(1-5)로 표시되는 오가노실록산 1.66질량부, 하기 평균조성식(1-6)으로 표시되는 오가노실록산 3.89질량부, 및 하기 평균조성식(2-4)로 표시되는 오가노실록산 55.94질량부, 이소프로필알코올 62.01질량부, 및 1질량% 염화백금산에탄올용액 0.03질량부를 투입하고, 내온을 70~80℃로 유지하여 3시간 반응시킨 후, 감압하에서 내온을 100℃로 가열하여, 휘발성분을 제거함으로써, 무색 반투명하며 탄력이 있는 수지상의 페닐변성 가교형 오가노실록산을 얻었다. 이때, 페닐기와 규소원자의 비는, 0.44였다.
[화학식 8]
[화학식 9]
〔실시예 8〕
실시예 7에서 얻어진 수지 20.00g과 디에틸헥산산네오펜틸글리콜(표시명칭)(닛신오일리오그룹(주)사제 코스몰 525)을 3본 롤을 이용해 혼합하여, 농도 14%의 페이스트상 조성물을 얻었다. 이때, 굴절률은 1.444, 점도는 25253mPa·s였다.
〔실시예 9〕
반응기 중에, 하기 평균조성식(1-7)로 표시되는 오가노실록산 5.11질량부, 및 하기 평균조성식(2-5)로 표시되는 오가노실록산 58.51질량부, 이소프로필알코올 63.61질량부, 및 1질량% 염화백금산에탄올용액 0.03질량부를 투입하고, 내온을 70~80℃로 유지하여 3시간 반응시킨 후, 감압하에서 내온을 100℃로 가열하여, 휘발성분을 제거함으로써, 무색 반투명하며 탄력이 있는 수지상의 페닐변성 가교형 오가노실록산을 얻었다. 이때, 페닐기와 규소원자의 비는, 0.63이었다.
[화학식 10]
[화학식 11]
〔실시예 10〕
실시예 9에서 얻어진 수지 20.00g과 디페닐실록시페닐트리메티콘(표시명칭)(신에쓰화학공업(주)사제 KF-56A)을 3본 롤을 이용해 혼합하여, 농도 22%의 페이스트상 조성물을 얻었다. 이때, 굴절률은 1.502, 점도는 5612mPa·s였다.
〔실시예 11〕
반응기 중에, 하기 평균조성식(1-8)로 표시되는 오가노실록산 8.18질량부, 및 하기 평균조성식(2-6)으로 표시되는 오가노실록산 51.91질량부, 이소프로필알코올 61.38질량부, 및 1질량% 염화백금산에탄올용액 0.03질량부를 투입하고, 내온을 70~80℃로 유지하여 3시간 반응시킨 후, 감압하에서 내온을 100℃로 가열하여, 휘발성분을 제거함으로써, 무색 반투명하며 탄력이 있는 수지상의 페닐변성 가교형 오가노실록산을 얻었다. 이때, 페닐기와 규소원자의 비는, 0.80이었다.
[화학식 12]
[화학식 13]
〔실시예 12〕
실시예 11에서 얻어진 수지 20.00g과 디페닐실록시페닐트리메티콘(표시명칭)(신에쓰화학공업(주)사제 KF-56A)을 3본 롤을 이용해 혼합하여, 농도 30%의 페이스트상 조성물을 얻었다. 이때, 굴절률은 1.508, 점도는 9797mPa·s였다.
〔실시예 13〕
반응기 중에, 하기 평균조성식(1-9)로 표시되는 오가노실록산 54.33질량부, 및 상기 평균조성식(2-2)로 표시되는 오가노실록산 61.32질량부, 및 1질량% 염화백금산에탄올용액 0.06질량부를 투입하고, 내온을 70~80℃로 유지하여 3시간 반응시킨 후, 백색점조의 페닐변성 가교형 오가노실록산을 얻었다. 이때, 페닐기와 규소원자의 비는, 0.37이었다.
[화학식 14]
〔실시예 14〕
실시예 13에서 얻어진 수지 20.00g과 이소도데칸(표시명칭)(마루젠석유(주)사제 마루카졸R)을 디스퍼를 이용해 혼합하여, 농도 90%의 페이스트상 조성물을 얻었다. 이때, 굴절률은 1.473, 점도는 15427mPa·s였다.
〔실시예 15〕
반응기 중에, 상기 평균조성식(1-5)로 표시되는 오가노실록산 3.75질량부, 및 하기 평균조성식(2-7)로 표시되는 오가노실록산 1.46질량부, 상기 평균조성식(2-2)로 표시되는 오가노실록산 49.53질량부, 이소프로필알코올 55.78질량부, 및 1질량% 염화백금산에탄올용액 0.02질량부를 투입하고, 내온을 70~80℃로 유지하여 3시간 반응시킨 후, 감압하에서 내온을 100℃로 가열하여, 휘발성분을 제거함으로써, 무색 반투명하며 탄력이 있는 수지상의 페닐변성 가교형 오가노실록산을 얻었다. 이때, 페닐기와 규소원자의 비는, 0.39였다.
[화학식 15]
〔실시예 16〕
실시예 15에서 얻어진 수지 20.00g과 디페닐실록시페닐트리메티콘(표시명칭)(신에쓰화학공업(주)사제 KF-56A)을 3본 롤을 이용해 혼합하여, 농도 16%의 페이스트상 조성물을 얻었다. 이때, 굴절률은 1.495, 점도는 19609mPa·s였다.
〔실시예 17〕
반응기 중에, 하기 평균조성식(1-10)으로 표시되는 오가노실록산 8.03질량부, 및 하기 평균조성식(2-8)로 표시되는 오가노실록산 38.20질량부, 이소프로필알코올 46.23질량부, 및 1질량% 염화백금산에탄올용액 0.03질량부를 투입하고, 내온을 70~80℃로 유지하여 3시간 반응시킨 후, 감압하에서 내온을 100℃로 가열하여, 휘발성분을 제거함으로써, 백색이며 부드러운 부정형 수지상의 페닐변성 가교형 오가노실록산을 얻었다. 이때, 페닐기와 규소원자의 비는, 0.36이었다.
[화학식 16]
[화학식 17]
〔실시예 18〕
실시예 17에서 얻어진 수지 20.00g과 디페닐실록시페닐트리메티콘(표시명칭)(신에쓰화학공업(주)사제 KF-56A)을 3본 롤을 이용해 혼합하여, 농도 15%의 페이스트상 조성물을 얻었다. 이때, 굴절률은 1.495, 점도는 16437mPa·s였다.
〔실시예 19〕
반응기 중에, 상기 평균조성식(1-7)로 표시되는 오가노실록산 4.09질량부, 및 상기 평균조성식(2-2)로 표시되는 오가노실록산 32.77질량부, 디페닐실록시페닐트리메티콘(표시명칭)(신에쓰화학공업(주)사제 KF-56A) 84.00질량부, 및 1질량% 염화백금산디비닐테트라메틸디실록산용액 0.03질량부를 투입하고, 내온을 70~80℃로 유지하여 3시간 반응시킨 후, 디페닐실록시페닐트리메티콘(표시명칭)(신에쓰화학공업(주)사제 KF-56A) 304.9질량부와 균일해지도록 혼합하여, 농도 8.5%의 페이스트상 조성물을 얻었다. 이때, 굴절률은 1.497, 점도는 116640mPa·s였다. 또한, 페닐기와 규소원자의 비는, 0.37이었다.
〔실시예 20〕
반응기 중에, 상기 평균조성식(1-7)로 표시되는 오가노실록산 2.56질량부, 및 하기 평균조성식(2-9)로 표시되는 오가노실록산 27.92질량부, 디페닐실록시페닐트리메티콘(표시명칭)(신에쓰화학공업(주)사제 KF-56A) 71.11질량부, 및 1질량% 염화백금산디비닐테트라메틸디실록산용액 0.02질량부를 투입하고, 내온을 70~80℃로 유지하여 3시간 반응시킨 후, 디페닐실록시페닐트리메티콘(표시명칭)(신에쓰화학공업(주)사제 KF-56A) 256.90질량부와 균일해지도록 혼합하여, 농도 8.5%의 페이스트상 조성물을 얻었다. 이때, 굴절률은 1.499, 점도는 6370mPa·s였다. 또한, 페닐기와 규소원자의 비는, 0.50이었다.
[화학식 18]
〔실시예 21〕
반응기 중에, 하기 평균조성식(1-11)로 표시되는 오가노실록산 2.37질량부, 및 상기 평균조성식(2-9)로 표시되는 오가노실록산 30.58질량부, 디페닐실록시페닐트리메티콘(표시명칭)(신에쓰화학공업(주)사제 KF-56A) 76.88질량부, 및 1질량% 염화백금산디비닐테트라메틸디실록산용액 0.02질량부를 투입하고, 내온을 70~80℃로 유지하여 3시간 반응시킨 후, 디페닐실록시페닐트리메티콘(표시명칭)(신에쓰화학공업(주)사제 KF-56A) 462.15질량부와 균일해지도록 혼합하여, 농도 8.5%의 페이스트상 조성물을 얻었다. 이때, 굴절률은 1.499, 점도는 12500mPa·s였다. 또한, 페닐기와 규소원자의 비는, 0.51이었다.
[화학식 19]
〔실시예 22〕
반응기 중에, 상기 평균조성식(1-7)로 표시되는 오가노실록산 2.86질량부, 및 상기 평균조성식(2-5)로 표시되는 오가노실록산 32.77질량부, 디페닐실록시페닐트리메티콘(표시명칭)(신에쓰화학공업(주)사제 KF-56A)을 84.00질량부, 및 1질량% 염화백금산에탄올용액 0.02질량부를 투입하고, 내온을 70~80℃로 유지하여 3시간 반응시킨 후, 디페닐실록시페닐트리메티콘(표시명칭)(신에쓰화학공업(주)사제 KF-56A) 299.5질량부와 균일해지도록 혼합하여, 농도 8.5%의 페이스트상 조성물을 얻었다. 이때, 굴절률은 1.499, 점도는 3990mPa·s였다. 또한, 페닐기와 규소원자의 비는, 0.63이었다.
〔실시예 23〕
반응기 중에, 하기 평균조성식(1-12)로 표시되는 오가노실록산 4.00질량부, 및 상기 평균조성식(2-2)로 표시되는 오가노실록산 40.09질량부, 디페닐실록시페닐트리메티콘(표시명칭)(신에쓰화학공업(주)사제 KF-56A)을 66.14질량부, 및 1질량% 염화백금산에탄올용액 0.02질량부를 투입하고, 내온을 70~80℃로 유지하여 3시간 반응시킨 후, 3본 롤을 이용하여, 디페닐실록시페닐트리메티콘(표시명칭)(신에쓰화학공업(주)사제 KF-56A) 408.5질량부와 균일해지도록 혼합하여, 농도 11%의 페이스트상 조성물을 얻었다. 이때, 굴절률은 1.497, 점도는 22430mPa·s였다. 또한, 페닐기와 규소원자의 비는, 0.39였다.
[화학식 20]
〔실시예 24〕
반응기 중에, 하기 평균조성식(1-13)으로 표시되는 오가노실록산 4.36질량부, 및 상기 평균조성식(2-9)로 표시되는 오가노실록산 29.40질량부, 디페닐실록시페닐트리메티콘(표시명칭)(신에쓰화학공업(주)사제 KF-56A)을 78.76질량부, 및 1질량% 염화백금산에탄올용액 0.02질량부를 투입하고, 내온을 70~80℃로 유지하여 3시간 반응시킨 후, 디페닐실록시페닐트리메티콘(표시명칭)(신에쓰화학공업(주)사제 KF-56A) 284.66질량부와 균일해지도록 혼합하여, 농도 8.5%의 페이스트상 조성물을 얻었다. 이때, 굴절률은 1.498, 점도는 10170mPa·s였다. 또한, 페닐기와 규소원자의 비는, 0.46이었다.
[화학식 21]
〔비교예 1〕
반응기 중에, 상기 평균조성식(1-9)로 표시되는 오가노실록산 49.73질량부, 및 하기 평균조성식(2-10)으로 표시되는 오가노실록산 54.09질량부, 이소프로필알코올 44.50량부, 및 1질량% 염화백금산에탄올용액 0.05질량부를 투입하고, 내온을 70~80℃로 유지하여 3시간 반응시킨 후, 감압하에서 내온을 100℃로 가열하여, 휘발성분을 제거함으로써, 갈색 반투명하며 점조의 페닐변성 가교형 오가노실록산을 얻었다. 이때, 페닐기와 규소원자의 비는, 0.18이었다.
[화학식 22]
〔비교예 2〕
비교예 1에서 얻어진 수지 20.00g과 이소도데칸(표시명칭)(마루젠석유(주)사제 마루카졸R)을 디스퍼를 이용해 균일하게 혼합하여, 농도 70%의 페이스트상 조성물을 얻었다. 이때, 굴절률은 1.49, 점도는 8828mPa·s였다.
〔비교예 3〕
반응기 중에, 하기 평균조성식(1-14)로 표시되는 오가노실록산 13.55질량부, 및 상기 평균조성식(2-2)로 표시되는 오가노실록산 45.28질량부, 이소프로필알코올 59.23량부, 및 1질량% 염화백금산에탄올용액 0.03질량부를 투입하고, 내온을 70~80℃로 유지하여 3시간 반응시킨 후, 감압하에서 내온을 100℃로 가열하여, 휘발성분을 제거함으로써, 갈색 반투명하며 점조의 페닐변성 가교형 오가노실록산을 얻었다. 이때, 페닐기와 규소원자의 비는, 0.29였다.
[화학식 23]
〔비교예 4〕
비교예 3에서 얻어진 수지 20.00g과 디페닐실록시페닐트리메티콘(표시명칭)(신에쓰화학공업(주)사제 KF-56A)을 3본 롤을 이용해 혼합하여, 농도 16%의 페이스트상 조성물을 얻었다. 이때, 굴절률은 1.49, 점도는 38013mPa·s였다.
〔비교예 5〕
반응기 중에, 상기 평균조성식(1-14)로 표시되는 오가노실록산 3.61질량부, 및 상기 평균조성식(2-2)로 표시되는 오가노실록산 12.08질량부, 디페닐실록시페닐트리메티콘(표시명칭)(신에쓰화학공업(주)사제 KF-56A)을 88.90질량부, 및 1질량% 염화백금산에탄올용액 0.01질량부를 투입하고, 내온을 70~80℃로 유지하여 3시간 반응시킨 후, 디페닐실록시페닐트리메티콘(표시명칭)(신에쓰화학공업(주)사제 KF-56A) 80.00질량부와 균일해지도록 혼합하여, 농도 8.5%의 페이스트상 조성물을 얻었다. 이때, 굴절률은 1.46, 점도는 5420mPa·s였다. 또한, 페닐기와 규소원자의 비는, 0.29였다.
표 1에 실시예 1, 3, 5, 7, 9, 11, 13, 15, 17 및 비교예 1, 3에서 얻어진 페닐변성 가교형 오가노실록산의 평균조성식으로부터 계산하여 구한 페닐기와 규소원자의 비율(이하 페닐량이라고 기재), 그리고 각종 유제에의 흡수성을 나타낸다.
흡수성에 대해서는, 페닐변성 가교형 오가노실록산과 동량의 유제를 섞어, 진탕기로 12시간 진탕시킨 후, 외관을 육안으로 관찰하고, 결과를 하기와 같이 평가하였다.
◎: 매우 양호한 흡수를 확인
○: 흡수를 확인
△: 근소하게 흡수되어 있지 않은 유제를 확인
×: 거의 흡수되어 있지 않음
[표 1]
(주1)신에쓰화학공업(주)사제: KF-56A
(주2)신에쓰화학공업(주)사제: KF-96A-6CS
(주3)신에쓰화학공업(주)사제: KF-96L-2CS
(주4)신에쓰화학공업(주)사제: KF-995
표 1로부터, 페닐량이 0.29 이상인 경우, 극성유인 메톡시계피산에틸헥실이나 페닐메틸실리콘오일에 대하여, 양호한 흡수성을 나타냈다. 한편, 비교예 1은, 페닐량이 0.34 미만이며, 메톡시계피산에틸헥실을 거의 흡수하지 않았다. 비교예 3은, 모두 유제에 대하여 양호한 흡수성을 나타냈는데, 디메티콘의 흡수성이 매우 우수하고, 실리콘유와의 상용성이 좋은 것이 나타났다.
표 2에, 실시예 2, 4, 6, 8, 10, 12, 14, 16, 18, 19~24, 및 비교예 2, 4, 5에서 얻어진, 페닐변성 가교형 오가노실록산과 유제를 혼합한 페이스트상 조성물 5g과, 메톡시계피산에틸헥실 2g을 혼합했을 때의 HAZE값으로부터, 페이스트상 조성물 5g과 이 조성물의 제작시의 희석에 사용한 유제 2g을 혼합했을 때의 HAZE값을 뺀 결과를 나타낸다. 또한, 시판품으로서 입수가능한 페닐변성 가교형 실리콘인, KSG-18A(신에쓰화학공업(주)사제의 디페닐실록시페닐트리메티콘(표시명칭)) 15%와 디페닐실록시페닐트리메티콘 85%의 페이스트상 조성물)을 이용하여, 동일한 평가를 실시한 결과도 기재하였다.
HAZE값은, 76mm×52mm의 유리플레이트에, 두께 1.1mm로 끼워 넣어 측정하였다. 측정에는, 일본전색공업(주)사제, HAZE METER NDH 5000SP를 사용하였다.
메톡시계피산에틸헥실과 혼합했을 때의 HAZE값으로부터, 상기 희석시의 유제를 혼합했을 때의 HAZE값을 뺀 값은, 하기 기준으로 기재하였다.
◎: 0 미만
○: 0~10 미만
△: 10~40 미만
×: 40 이상
[표 2]
표 2로부터, 실시예에서는, 메톡시계피산에틸헥실과 혼합한 경우와, 상기 희석유제와 혼합한 경우에서, HAZE값에 큰 차이는 확인되지 않고, 외관이 손상되는 일은 없었다. 비교예 2는, 메톡시계피산에틸헥실을 거의 흡수하지 않은 수지(비교예 1)를 이용한 것인데, HAZE값의 평가결과로부터, 외관도 현저하게 손상되어 있었다. 비교예 4는, 수지 그 자체(비교예 3)로는, 메톡시계피산에틸헥실에의 흡유성을 나타내었으나, HAZE값이 크게 변화하고, 외관이 현저하게 손상되었다. 또한, 비교예 4보다 농도가 낮은 비교예 5에서는, HAZE값에 큰 차이는 보이지 않았으나, 이것은 농도가 낮기 때문으로 생각된다. 시판되고 있는 KSG-18A에 대해서도 마찬가지로, 외관이 손상되는 것이 확인되었다. 또한, KSG-18A를 헥산으로 추출하여 얻은 수지는, 동량의 메톡시계피산에틸헥실을 흡수할 수 없었으나, 동량의 디메틸실리콘(6cS, 2cS) 및 시클로펜타실록산을 흡수한 점에서, 페닐량은 0.29 미만이라고 판단하였다.
[실시예 25~28, 비교예 6]
표 3에 나타내는 처방으로 W/O형 크림을 제작하였다.
[표 3]
(주1)신에쓰화학공업(주)제: (디페닐실록시페닐트리메티콘(: 표시명칭) 85%+(디메티콘/페닐비닐디메티콘)크로스폴리머(: 표시명칭) 15%의 혼합물)
(주2)신에쓰화학공업(주)제: 세틸PEG/PPG-10/1디메티콘(: 표시명칭)
(주3)신에쓰화학공업(주)제: 디페닐실록시페닐트리메티콘(: 표시명칭)
(제조방법)
성분 1~3을 균일해지도록 혼합하였다. 이것에, 성분 4~6을 균일혼합 후에 천천히 첨가하여, 유화하였다. 이것을 소정의 용기에 충전하여, 유액을 얻었다.
얻어진 W/O형 유액에 대해, (1)사용감(끈적임 없음), (2)도포성(화장료의 퍼짐성()의 양호함이나 마무리감), (3)증점성에 대해, 하기의 평가기준으로 평가하였다. 실시예 25~28 및 비교예 6의 평가결과를 표 4에 나타낸다.
〔특성평가〕
화장료에 대해, 사용감, 도포성의 항목을, 하기에 나타내는 평가기준에 의해 10명의 전문패널이 평가하였다. 결과를 10명의 평균값에 기초하여, 하기 판단기준에 따라 판정하였다.
〔평가기준〕
5점: 매우 양호
4점: 양호
3점: 보통
2점: 다소 불량
1점: 불량
으로 하고, 얻어진 평균점에 대해, 하기의 기준에 따라 ○×로 판정하였다.
평균점의 판정:
얻어진 평균점이 4.5점 이상 ◎
얻어진 평균점이 3.5점 이상 4.5점 미만 ○
얻어진 평균점이 2.5점 이상 3.5점 미만 △
얻어진 평균점이 1.5점 이상 2.5점 미만 ×
얻어진 평균점이 1.5점 미만 ××
「○」 이상을 합격으로 하였다.
〔증점성〕
가교형 페닐변성 실리콘 혼합물을 배합하지 않은 블랭크와 비교한 증점률로 평가하였다. 한편, 점도의 측정은 B형 점도계(TVB-10형, 토키산업제)를 사용하여, 스핀들 No.4, 매분 6회전, 측정시간 60초로 측정을 행하였다.
◎: 200% 이상
○: 150% 이상~175% 미만
△: 125% 이상~150% 미만
×: 100% 이상~125% 미만
××: 100% 미만
「○」 이상을 합격으로 하였다.
[표 4]
표 4로부터 분명한 바와 같이, 실시예 25~28의 W/O형 유액은 비교예 6과 비교하여, 사용감, 도포성, 증점성이 양호한 것이 실증되었다.
[실시예 29~32, 비교예 7~9]
표 5에 나타내는 처방으로 W/O형 크림을 제작하였다.
[표 5]
(주1)신에쓰화학공업(주)제: (디페닐실록시페닐트리메티콘(: 표시명칭) 85%+(디메티콘/페닐비닐디메티콘)크로스폴리머(: 표시명칭) 15%의 혼합물)
(주2)(디메티콘/(PEG-10/15))크로스폴리머(: 표시명칭) 20%와 시클로펜타실록산(: 표시명칭) 80%의 혼합물
(주3)신에쓰화학공업(주)제: 세틸PEG/PPG-10/1디메티콘(: 표시명칭)
(주4)신에쓰화학공업(주)제: 시클로펜타실록산(: 표시명칭)
(주5)신에쓰화학공업(주)제: 디페닐실록시페닐트리메티콘(: 표시명칭)
(제조방법)
성분 1~9를 균일해지도록 혼합하였다. 이것에, 성분 10~13을 균일혼합 후에 천천히 첨가하여, 유화하였다. 이것을 소정의 용기에 충전하여, 자외선차단제 크림유액을 얻었다.
얻어진 W/O형 자외선차단제 크림에 대해, (1)사용감(끈적임 없음), (2)도포성(화장료의 퍼짐성의 양호함), (3)증점성, (4)안정성에 대해, 하기의 평가기준으로 평가하였다. 실시예 29~32 및 비교예 7~9의 평가결과를 표 6에 나타낸다.
〔특성평가〕
화장료에 대해, 사용감, 도포성의 항목을, 하기에 나타나는 평가기준에 의해 10명의 전문패널이 평가하였다. 결과를 10명의 평균값에 기초하여, 하기 판단기준에 따라 판정하였다.
〔평가기준〕
5점: 매우 양호
4점: 양호
3점: 보통
2점: 다소 불량
1점: 불량
으로 하고, 얻어진 평균점에 대해, 하기의 기준에 따라 ○×로 판정하였다.
평균점의 판정:
얻어진 평균점이 4.5점 이상 ◎
얻어진 평균점이 3.5점 이상 4.5점 미만 ○
얻어진 평균점이 2.5점 이상 3.5점 미만 △
얻어진 평균점이 1.5점 이상 2.5점 미만 ×
얻어진 평균점이 1.5점 미만 ××
「○」 이상을 합격으로 하였다.
〔증점성〕
가교형 페닐변성 실리콘 혼합물을 배합하지 않은 블랭크와 비교한 증점률로 평가하였다. 한편, 점도의 측정은 B형 점도계(TVB-10형, 토키산업제)를 사용하여, 스핀들 No.4, 매분 6회전, 측정시간 60초로 측정을 행하였다.
◎: 120% 이상
○: 100% 이상~120% 미만
△: 80% 이상~100% 미만
×: 60% 이상~80% 미만
××: 60% 미만
「○」 이상을 합격으로 하였다.
〔안정성〕
50℃, -5℃의 항온조하에 정치하여, 외관에 유부(油浮) 등의 문제가 없는지 확인하였다.
◎: 1개월 후에 50℃, -5℃ 모두 문제가 없었다
○: 1개월 후에 50℃, -5℃ 중 어느 하나에서 문제가 발생하였다
△: 3주간 후에 50℃, -5℃ 중 어느 하나에서 문제가 발생하였다
×: 2주간 후에 50℃, -5℃ 중 어느 하나에서 문제가 발생하였다
××: 1주간 후에 50℃, -5℃ 중 어느 하나에서 문제가 발생하였다
「○」 이상을 합격으로 하였다.
[표 6]
표 6으로부터 분명한 바와 같이, 실시예 29~32의 W/O형 유액은 비교예 7~9와 비교하여, 사용감, 도포성, 증점성, 안정성이 양호한 것이 실증되었다. 나아가, 비교예 7, 8의 결과로부터도 알 수 있는 바와 같이, 본 발명에서는, 단순한 가교형 페닐변성 실리콘량의 배합량 증가에 의한 증점으로는 얻어지지 않는 안정화가 가능한 것을 알 수 있었다. 비교예 9는 비교예 5와 같이 HAZE값의 변화는 작았으나, 페닐기와 규소원자의 비가 0.34보다 작으므로, 사용감, 도포성, 증점성, 안정성은 나빴다.
[실시예 33]
W/O 선스크린 크림
<화장료의 조제>
A: 성분 9~11을 디스퍼로 균일분산 후, 성분 1~8을 첨가하여 균일하게 혼합하였다.
B: 성분 12~17을 균일하게 혼합하였다.
C: B를 A에 첨가하여 유화하고, W/O 선스크린 크림을 얻었다.
성분 질량%
1. KSG-320(주1) 3
2. 실시예 23의 조성물(11%) 2
3. KF-6048(주2) 2.5
4. 디스테아르디모늄헥토라이트 0.3
5. 메톡시계피산에틸헥실 7.5
6. 옥토크릴렌 3
7. 호모살레이트 5
8. 탄산디카프릴릴 7
9. TMF-1.5(주3) 10.5
10. KF-6105(주4) 1.5
11. 알킬실란처리 미립자 산화아연(주5) 18
12. BG 3
13. 에탄올 5
14. 구연산Na 0.2
15. 염화Na 1
16. 알란토인 0.2
17. 정제수 잔량
합계 100
(주1)신에쓰화학공업(주)제: (PEG-15/라우릴디메티콘)크로스폴리머(: 표시명칭) 25%와 이소도데칸(: 표시명칭) 75%의 혼합물
(주2)신에쓰화학공업(주)제: 세틸PEG/PPG-10/1디메티콘(: 표시명칭)
(주3)신에쓰화학공업(주)제: 메틸트리메티콘(표시명칭)
(주4)신에쓰화학공업(주)제: 라우릴폴리글리세릴-3폴리디메틸실록시에틸디메티콘(: 표시명칭)
(주5)신에쓰화학공업(주)제: AES-3083처리
얻어진 W/O 선스크린 크림은, 사용감, 도포성이 양호하며, 보존안정성이 우수하였다.
[실시예 34]
W/O 쉐이킹 선스크린
<화장료의 조제>
A: 성분 5~10, 11~14를 가열용해 후, 성분 1~4와 균일하게 혼합하였다.
B: 성분 15~19를 균일하게 혼합하였다.
C: B를 A에 첨가해 유화하여, W/O 쉐이킹 선스크린을 얻었다.
성분 질량%
1. 실시예 22의 조성물(8.5%) 2
2. KF-6048(주1) 2.5
3. 디스테아르디모늄헥토라이트 0.2
4. KMP-590(주2) 2
5. 메톡시계피산에틸헥실 7.5
6. 옥토크릴렌 5
7. 호모살레이트 5
8. 디에틸아미노하이드록시벤조일안식향산헥실 2.5
9. 비스에틸헥실옥시페놀
메톡시페닐트리아진 2
10. 살리실산에틸헥실 5
11. (카프릴산/카프르산)야자알킬 12
12. 이소스테아르산에틸 10
13. 라우르산헥실 8
14. 글리시리진산스테아릴 0.2
15. BG 3
16. 에탄올 6
17. 구연산Na 0.2
18. 염화Na 1
19. 정제수 잔량
합계 100
(주1)신에쓰화학공업(주)제: 세틸PEG/PPG-10/1디메티콘(: 표시명칭)
(주2)신에쓰화학공업(주)제: 폴리메틸실세스퀴옥산(: 표시명칭)
얻어진 W/O 쉐이킹 선스크린은, 사용감, 도포성이 양호하며, 보존안정성이 우수하였다.
[실시예 35]
W/O 아이크림
<화장료의 조제>
A: 성분 1~8을 균일하게 혼합하였다.
B: 성분 9~15를 균일하게 혼합하였다.
C: B를 A에 첨가해 유화하여, 아이크림을 얻었다.
성분 질량%
1. KSG-840(주1) 3
2. 실시예 20의 조성물(8.5%) 3
3. KSG-19(주2) 3
4. KF-6105(주3) 1.5
5. 호호바종자유 6
6. 메도우폼유 12
7. 시어지(シア脂) 1
8. KSP-300(주4) 2
9. 히알루론산Na 0.1
10. 에리스리톨 5
11. 메틸글루세스-10 3
12. 페녹시에탄올 0.3
13. 펜틸렌글리콜 3
14. 염화나트륨 0.5
15. 물 잔량
합계 100
(주1)신에쓰화학공업(주)제: (라우릴디메티콘/폴리글리세린-3)크로스폴리머(: 표시명칭) 30%와 스쿠알란(: 표시명칭) 70%의 혼합물
(주2)신에쓰화학공업(주)제: (디메티콘/비닐디메티콘)크로스폴리머(표시명칭) 15%와 디메티콘(: 표시명칭) 85%의 혼합물
(주3)신에쓰화학공업(주)제: 라우릴폴리글리세릴-3폴리디메틸실록시에틸디메티콘(: 표시명칭)
(주4)신에쓰화학공업(주)제: (디페닐디메티콘/비닐디페닐디메티콘/실세스퀴옥산)크로스폴리머(: 표시명칭)
얻어진 W/O 아이크림은, 사용감, 도포성이 양호하며, 보존안정성이 우수하였다.
[실시예 36]
O/W 유액
<화장료의 조제>
A: 성분 1~6을 90℃에서 균일하게 혼합하였다.
B: 성분 7~12를 85℃에서 균일하게 혼합하였다.
C: B를 A에 첨가하여 유화하고 냉각 후, 성분 13을 첨가해 균일하게 혼합하여, 유액을 얻었다.
성분 질량%
1. BG 6
2. 이소스테아르산PEG-20글리세릴 1.2
3. 팔미트산에틸헥실 4
4. 실시예 23의 조성물(11%) 2
5. 폴리쿼터늄-51 0.1
6. 토코페롤 0.05
7. 디글리세린 2
8. 에틸헥실글리세린 0.1
9. 글리세린 8
10. 소르비톨 3
11. 알킬변성 카르보머 0.2
12. 물 잔량
13. 수산화K(10% 수용액) 0.5
합계 100
얻어진 O/W 유액은, 사용감, 도포성이 양호하며, 보존안정성이 우수하였다.
[실시예 37]
밤
<화장료의 조제>
A: 성분 1~11을 90℃에서 균일하게 혼합하여 냉각 후, 밤을 얻었다.
성분 질량%
1. 바셀린 27
2. 스쿠알란 잔량
3. KSP-101(주1) 10
4. KMP-590(주2) 6
5. 실시예 19의 조성물(8.5%) 5
6. 실시예 23의 조성물(11%) 3
7. 디메티콘(6cs) 7
8. KF-56A(주3) 4
9. KP-561P(주4) 2
10. KF-6038(주5) 0.2
11. 팔미트산덱스트린 10
합계 100
(주1)신에쓰화학공업(주)제: (비닐디메티콘/메티콘실세스퀴옥산)크로스폴리머(: 표시명칭)
(주2)신에쓰화학공업(주)제: 폴리메틸실세스퀴옥산(: 표시명칭)
(주3)신에쓰화학공업(주)제: 디페닐실록시페닐트리메티콘(: 표시명칭)
(주4)신에쓰화학공업(주)제: (아크릴레이트/아크릴산스테아릴/메타크릴산디메티콘)코폴리머(: 표시명칭)
(주5)신에쓰화학공업(주)제: 라우릴PEG-9폴리디메틸실록시에틸디메티콘(: 표시명칭)
얻어진 밤은, 사용감, 도포성이 양호하며, 보존안정성이 우수하였다.
[실시예 38]
W/O 선스크린 밀크
<화장료의 조제>
A: 성분 1~7을 균일하게 혼합하였다.
B: 성분 10~16을 균일하게 혼합하였다.
C: B를 A에 첨가하여 유화하고, 8, 9를 첨가해 균일하게 혼합하여, W/O 선스크린 밀크를 얻었다.
성분 질량%
1. KSG-210(주1) 3
2. 실시예 24의 조성물(8.5%) 2
3. KF-6028(주2) 1
4. 호호바종자유 2
5. 디메틸폴리실록산(6cs) 5
6. KF-9021L(주3) 2
7. 이소노난산이소트리데실 5
8. SPD-T5L(주4) 20
9. SPD-Z5L(주5) 28
10. 디프로필렌글리콜 2
11. 구연산Na 0.2
12. 염화Na 1
13. 알부틴 2
14. 글리시리진산2K 0.2
15. 피로아황산Na 0.05
16. 정제수 잔량
합계 100
(주1)신에쓰화학공업(주)제: (디메티콘/(PEG-10/15))크로스폴리머(: 표시명칭) 25%와 디메티콘 75%의 혼합물
(주2)신에쓰화학공업(주)제: PEG-9폴리디메틸실록시에틸디메티콘(표시명칭)
(주3)신에쓰화학공업(주)제: 트리메틸실록시규산(: 표시명칭(INCI: Trimethylsiloxysilicater)
(주4)신에쓰화학공업(주)제: 산화티탄 40% 분산물
(주5)신에쓰화학공업(주)제: 산화아연 60%의 분산물
얻어진 W/O 선스크린 밀크는, 사용감, 도포성이 양호하며, 보존안정성이 우수하였다.
[실시예 39]
O/W 선스크린 크림
<화장료의 조제>
A: 성분 1~6을 85℃까지 가열하고, 균일하게 혼합하였다.
B: 성분 7~15를 85℃까지 가열하고, 균일하게 혼합하였다.
C: B를 A에 첨가하여 85℃에서 유화 후, 교반하면서 서랭하여 선스크린 크림을 얻었다.
성분 질량%
1. 하이드록시에틸셀룰로오스 0.1
2. 에탄올 10
3. BG 6
4. 알란토인 0.1
5. SIMULGEL EG(주1) 2.5
6. 물 잔량
7. KF-56A(주2) 3
8. 실시예 20의 조성물(8.5%) 1
9. 세탄올(セタノ-ル) 2
10. 메톡시계피산에틸헥실 7.5
11. 디에틸아미노하이드록시벤조일안식향산헥실 2
12. 살리실산에틸헥실 5
13. 폴리옥시에틸렌(60)경화피마자유 1
14. KF-6011(주3) 0.5
15. 토코페롤 0.05
합계 100
(주1)SEPPIC사제: 아크릴산나트륨·아크릴로일디메틸타우르산나트륨 공중합체 조성물
(주2)신에쓰화학공업(주)제: 디페닐실록시페닐트리메티콘(: 표시명칭)
(주3)신에쓰화학공업(주)제: PEG-11메틸에테르디메티콘(: 표시명칭)
얻어진 O/W 선스크린 크림은, 사용감, 도포성이 양호하며, 보존안정성이 우수하였다.
[실시예 40]
선스크린 젤
<화장료의 조제>
A: 성분 1~10을 균일하게 혼합하여, 선스크린 젤을 얻었다.
성분 질량%
1. KSG-42A(주1) 10
2. 실시예 4의 조성물(8.5%) 25
3. KSG-042Z(주2) 잔량
4. KF-56A(주3) 7.5
5. 옥토크릴렌 2
6. 호모살레이트 10
7. 살리실산에틸헥실 5
8. 비스에틸헥실옥시페놀
메톡시페닐트리아진 3
9. KSP-441(주4) 10
10. KMP-592(주5) 2
합계 100
(주1)신에쓰화학공업(주)제: (비닐디메티콘/라우릴디메티콘)크로스폴리머(표시명칭) 20%와 이소도데칸(: 표시명칭) 80%의 혼합물
(주2)신에쓰화학공업(주)제: ((라우릴폴리디메틸실록시에틸디메티콘/비스비닐디메티콘)크로스폴리머(: 표시명칭) 20%와 이소도데칸(: 표시명칭) 80%의 혼합물
(주3)신에쓰화학공업(주)제: 디페닐실록시페닐트리메티콘(: 표시명칭)
(주4)신에쓰화학공업(주)제: 폴리실리콘-22(: 표시명칭)
(주5)신에쓰화학공업(주)제: (메틸/페닐)폴리실세스퀴옥산(: 표시명칭)
얻어진 선스크린 젤은 사용감, 도포성이 양호하며, 보존안정성, 투명성이 우수하였다.
[실시예 41]
비수계 선스크린
<화장료의 조제>
A: 성분 1~6을 균일하게 혼합용해하였다.
B: 성분 7~10을 균일하게 혼합하였다.
C: A와 B를 균일하게 혼합하여, 비수계 선스크린을 얻었다.
성분 질량%
1. 디메티콘(2cs) 잔량
2. 옥토크릴렌 5
3. 디에틸아미노하이드록시벤조일안식향산헥실 2
4. 살리실산에틸헥실 5
5. 글리시레트산스테아릴 0.2
6. BHT 0.1
7. KSG-380Z(주1) 5
8. 실시예 20의 조성물(8.5%) 15
9. SPD-Z5L(주2) 58
10. KSP-105(주3) 4
합계 100
(주1)신에쓰화학공업(주)제: (PEG-15/라우릴폴리디메틸실록시에틸디메티콘)크로스폴리머(: 표시명칭) 30%와 디메티콘의 혼합물
(주2)신에쓰화학공업(주)제: 산화아연 60%의 분산물
(주3)신에쓰화학공업(주)제: (비닐디메티콘/메티콘실세스퀴옥산)크로스폴리머(: 표시명칭)
얻어진 비수계 선스크린은, 사용감, 도포성이 양호하며, 보존안정성이 우수하였다.
[실시예 42]
W/O 리퀴드파운데이션
<화장료의 조제>
A: 성분 9~14를 3본 롤밀로 분산하였다.
B: 성분 1~8을 균일하게 혼합하였다.
C: 성분 15~18을 균일하게 혼합하였다.
D: C를 B에 첨가하여 유화하고, A를 첨가하여, W/O 리퀴드파운데이션을 얻었다.
성분 질량%
1. KSG-210(주1) 3.5
2. 실시예 20의 조성물(8.5%) 5
3. KF-6038(주2) 2.5
4. 유기변성 점토광물 1
5. 디메티콘(2cs) 21
6. 옥토크릴렌 5
7. 폴리실리콘-15 2
8. KSP-101(주3) 2
9. 이소노난산이소노닐 3.7
10. KP-578(주4) 0.3
11. KTP-09W(주5) 14
12. KTP-09R(주5) 0.2
13. KTP-09Y(주5) 0.5
14. KTP-09B(주5) 1
15. BG 5
16. 구연산Na 0.2
17. 염화Na 1
18. 물 잔량
합계 100
(주1)신에쓰화학공업(주)제: (디메티콘/(PEG-10/15))크로스폴리머(: 표시명칭) 25%와 디메티콘 75%의 혼합물
(주2)신에쓰화학공업(주)제: 라우릴PEG-9폴리디메틸실록시에틸디메티콘(: 표시명칭)
(주3)신에쓰화학공업(주)제: (비닐디메티콘/메티콘실세스퀴옥산)크로스폴리머(: 표시명칭)
(주4)신에쓰화학공업(주)제: (아크릴레이트/아크릴산에틸헥실/메타크릴산디메티콘)코폴리머(: 표시명칭)
(주5)신에쓰화학공업(주)제: KF-9909처리 착색무기안료, W: 백·R: 적·Y: 황·B: 흑
얻어진 W/O 리퀴드파운데이션은, 사용감, 도포성이 양호하며, 보존안정성이 우수하였다.
[실시예 43]
W/O 고형파운데이션
<화장료의 조제>
A: 성분 7~12를 3본 롤밀로 분산하였다.
B: 성분 1~6을 90℃에서 용해 후, A를 첨가하여 균일하게 혼합하였다.
C: 성분 13~17을 균일하게 혼합하였다.
D: C를 B에 첨가해 유화하여, W/O 고형파운데이션을 얻었다.
성분 질량%
1. KSG-710(주1) 5
2. 실시예 20의 조성물(8.5%) 3
3. KF-6038(주2) 2
4. SPD-T7(주3) 10
5. KF-56A(주4) 7.35
6. 세레신 5
7. 이소노난산이소트리데실 2
8. 실리콘처리 산화티탄(주5) 7
9. 실리콘처리 흑산화철(주5) 0.1
10. 실리콘처리 벵갈라(주5) 0.3
11. 실리콘처리 황산화철(주5) 0.6
12. KP-545(주6) 0.3
13. BG 7
14. 글리세린 5
15. 구연산Na 0.2
16. 염화Na 1
17. 물 잔량
합계 100
(주1)신에쓰화학공업(주)제: (디메티콘/폴리글리세린-3)크로스폴리머(: 표시명칭) 25%와 디메티콘 75%의 혼합물
(주2)신에쓰화학공업(주)제: 라우릴PEG-9폴리디메틸실록시에틸디메티콘(표시명칭)
(주3)신에쓰화학공업(주)제: 산화티탄_45% 분산물
(주4)신에쓰화학공업(주)제: 디페닐실록시페닐트리메티콘(: 표시명칭)
(주5)신에쓰화학공업(주)제: KF-9909처리
(주6)신에쓰화학공업(주)제: (아크릴레이트/디메티콘)코폴리머(: 표시명칭)
얻어진 W/O 고형파운데이션은, 사용감, 도포성이 양호하며, 보존안정성이 우수하였다.
[실시예 44]
스틱컨실러
<화장료의 조제>
A: 성분 1~7을 95℃에서 균일하게 혼합하고, 스틱용기에 충전하여 스틱컨실러를 얻었다.
성분 질량%
1. 실시예 22의 조성물(8.5%) 6
2. KSP-411(주1) 10
3. KMP-592(주2) 16
4. 디메티콘(6cs) 22
5. 트리에틸헥사노인 30
6. 마이크로크리스탈린 왁스 6
7. 세레신 10
합계 100
(주1)신에쓰화학공업(주)제: 폴리실리콘-1크로스폴리머(: 표시명칭)
(주2)신에쓰화학공업(주)제: (메틸/페닐)폴리실세스퀴옥산(: 표시명칭)
얻어진 스틱컨실러는, 사용감, 도포성이 양호하며, 보존안정성이 우수하였다.
[실시예 45]
립스틱
<화장료의 조제>
A: 성분 11~18을 롤로 분산하였다.
B: 성분 1~9를 95℃에서 균일하게 혼합하였다.
C: B에 A, 10을 첨가해 냉각하여, 립스틱을 얻었다.
성분 질량%
1. 실시예 21의 조성물(8.5%) 5
2. 폴리에틸렌 7
3. 마이크로크리스탈린 왁스 3
4. KP-561P(주1) 10
5. 트리에틸헥사노인 13
6. 디에틸헥산산네오펜틸글리콜 15
7. 디카프르산네오펜틸글리콜 7
8. 수첨 폴리이소부텐 잔량
9. KF-54HV(주2) 8
10. 펄안료 5
11. 마이카 0.3
12. 적202 0.1
13. 황4 0.3
14. KP-574(주3)처리 산화티탄 0.8
15. KP-574(주3)처리 흑산화철 0.06
16. 적201 0.04
17. KP-574(주3)처리 벵갈라 0.2
18. 트리이소스테아르산폴리글리세릴-2 1.2
합계 100
(주1)신에쓰화학공업(주)제: (아크릴레이트/아크릴산스테아릴/메타크릴산디메티콘)코폴리머(: 표시명칭)
(주2)신에쓰화학공업(주)제: 디페닐디메티콘(: 표시명칭)
(주3)신에쓰화학공업(주)제: (아크릴레이트/아크릴산트리데실/메타크릴산트리에톡시실릴프로필/메타크릴산디메티콘)코폴리머(: 표시명칭)
얻어진 립스틱은, 사용감, 도포성이 양호하며, 보존안정성이 우수하였다.
[실시예 46]
마스카라
<화장료의 조제>
A: 성분 1~7을 90℃에서 균일하게 혼합하였다.
B: A에 성분 8~13을 첨가하고 균일하게 혼합하여, 마스카라를 얻었다.
성분 질량%
1. 실시예 24의 조성물(8.5%) 5
2. TSPL-30-ID(주1) 10
3. 이소도데칸 잔량
4. 팔미트산덱스트린 2
5. 세레신 7
6. 마이크로크리스탈린 왁스 5
7. 디스테아르디모늄헥토라이트 5
8. 알킬실란처리 흑산화철(주2) 5
9. 알킬실란처리 탈크(주2) 5
10. KMP-590(주3) 5
11. 실리콘분지형 폴리에테르변성 실리콘(주4) 1.2
12. 탄산프로필렌 1.6
13. 페녹시에탄올 0.2
합계 100
(주1)신에쓰화학공업(주)제: 트리(트리메틸실록시)실릴프로필카르바미드산풀루란(: 표시명칭)
(주2)신에쓰화학공업(주)제: AES-3083처리
(주3)신에쓰화학공업(주)제: 폴리메틸실세스퀴옥산(: 표시명칭)
(주4)신에쓰화학공업(주)제: PEG-9폴리디메틸실록시에틸디메티콘(: 표시명칭)
얻어진 마스카라는, 사용감, 도포성이 양호하며, 보존안정성이 우수하였다.
[실시예 47]
파우더파운데이션
<화장료의 조제>
A: 성분 1~5를 50℃까지 가열하여 균일하게 혼합하고, 실온까지 냉각하였다.
B: 성분 6~14를 균일하게 혼합하였다.
C: A를 B에 첨가하고, 헨셀믹서로 균일하게 혼합하였다. 얻어진 분말을, 메쉬를 통과시킨 후, 금형을 이용하여 금속접시(金皿)에 타형(打型)하여 파우더파운데이션을 얻었다.
성분 질량%
1. 메톡시계피산에틸헥실 4
2. KF-56A(주1) 4.5
3. 트리에틸헥사노인 1.5
4. KP-561P(주2) 1
5. 실시예 19의 조성물(8.5%) 1
6. 실리콘처리 마이카(주3) 30
7. 황산Ba 10
8. KSP-300(주4) 5
9. KSP-100(주5) 4
10. 실리콘처리 탈크(주3) 잔량
11. 실리콘처리 산화티탄(주3) 6
12. 실리콘처리 황산화철(주3) 0.5
13. 실리콘처리 적산화철(주3) 0.2
14. 실리콘처리 흑산화철(주3) 0.1
합계 100
(주1)신에쓰화학공업(주)제: 디페닐실록시페닐트리메티콘(: 표시명칭)
(주2)신에쓰화학공업(주)제: (아크릴레이트/아크릴산스테아릴/메타크릴산디메티콘)코폴리머(: 표시명칭)
(주3)신에쓰화학공업(주)제: KF-9909처리
(주4)신에쓰화학공업(주)제: (디페닐디메티콘/비닐디페닐디메티콘/실세스퀴옥산)크로스폴리머(: 표시명칭)
(주5)신에쓰화학공업(주)제: (비닐디메티콘/메티콘실세스퀴옥산)크로스폴리머(: 표시명칭)
얻어진 파우더파운데이션은, 사용감, 도포성이 양호하며, 보존안정성이 우수하였다.
[실시예 48]
헤어오일
<화장료의 조제>
A: 성분 1~7을 균일하게 혼합하여, 헤어오일을 얻었다.
성분 질량%
1. 실시예 22의 조성물(8.5%) 3
2. KF-56A(주1) 7
3. 석신산디에틸헥실 10
4. X-21-5613(주2) 1.5
5. 토코페롤 0.1
6. 향료 0.1
7. 경질유동 이소파라핀 잔량
합계 100
(주1)신에쓰화학공업(주)제: 디페닐실록시페닐디메티콘(: 표시명칭)
(주2)신에쓰화학공업(주)제: 디메티콘올(: 표시명칭)
얻어진 헤어오일은, 사용감, 도포성이 양호하며, 보존안정성이 우수하였다.
[실시예 49]
헤어트리트먼트
<화장료의 조제>
A: 성분 6~9를 70℃까지 가열하고, 균일하게 혼합하였다.
B: 성분 1~5를 70℃까지 가열하고, 균일하게 혼합하였다.
C: B를 A에 첨가하여 유화하고, 서랭 후, 성분 10, 11을 첨가하여 헤어트리트먼트를 얻었다.
성분 질량%
1. 실시예 20의 조성물(8.5%) 1
2. 세탄올 2
3. 옥탄산세틸 3
4. 파라옥시안식향산부틸 0.1
5. KF-56A(주1) 1
6. 베헨트리모늄클로라이드 1
7. 프로필렌글리콜 5
8. 하이드록시에틸셀룰로오스 0.1
9. 물 잔량
10. X-52-2328(주2) 4
11. 향료 적량
합계 100
(주1)신에쓰화학공업(주)제: 디페닐실록시페닐디메티콘(: 표시명칭)
(주2)신에쓰화학공업(주)제: 아미노프로필디메티콘(: 표시명칭)
얻어진 헤어트리트먼트는, 사용감, 도포성이 양호하며, 보존안정성이 우수하였다.
[실시예 50]
W/O 선스크린
<화장료의 조제>
A: 성분 1~9를 가열하고, 균일하게 혼합하였다.
B: 성분 11~14를 균일하게 혼합하였다.
C: B를 A에 첨가하여 유화 후, 성분 10을 첨가해 균일혼합하여, W/O 선스크린을 얻었다.
성분 질량%
1. 실시예 20의 조성물(8.5%) 1
2. KSG-240(주1) 3.5
3. KF-6048(주2) 2
4. 메톡시계피산에틸헥실 7.5
5. 옥토크릴렌 2.5
6. 디에틸아미노하이드록시벤조일안식향산헥실 3
7. 살리실산에틸헥실 3
8. 호모살레이트 4
9. KF-56A(주3) 2
10. SPD-T5(주4) 12
11. 에탄올 6
12. 구연산Na 0.5
13. 염화Na 0.5
14. 물 잔량
합계 100
(주1)신에쓰화학공업(주)제: (디메티콘/(PEG-10/15))크로스폴리머(: 표시명칭) 20%와 시클로펜타실록산(: 표시명칭) 80%의 혼합물
(주2)신에쓰화학공업(주)제: 세틸PEG/PPG-10/1디메티콘(: 표시명칭)
(주3)신에쓰화학공업(주)제: 디페닐실록시페닐디메티콘(: 표시명칭)
(주4)신에쓰화학공업(주)제: 산화티탄 40% 분산물
얻어진 W/O 선스크린은, 사용감, 도포성, 투명성이 양호하며, 보존안정성이 우수하였다.
[실시예 51]
W/O 리퀴드파운데이션
<화장료의 조제>
A: 성분 9~15를 3본 롤밀로 분산하였다.
B: 성분 1~8을 균일하게 혼합하였다.
C: 성분 16~19를 균일하게 혼합하였다.
D: C를 B에 첨가하여 유화하고, A를 첨가하여, W/O 리퀴드파운데이션을 얻었다.
성분 질량%
1. KSG-210(주1) 3.5
2. 실시예 14의 조성물(90%) 5
3. KF-6038(주2) 2.5
4. 유기변성 점토광물 0.8
5. 디메티콘(2cs) 21
6. 메톡시계피산에틸헥실 7.5
7. 디에틸아미노하이드록시벤조일안식향산헥실 2.5
8. KSP-101(주3) 2
9. TMF-1.5(주4) 6
10. KF-6105(주5) 0.5
11. KTP-09W(주6) 10
12. KTP-09R(주6) 0.2
13. KTP-09Y(주6) 0.5
14. KTP-09B(주6) 0.1
15. 알킬실란처리 미립자 산화아연 10
16. BG 5
17. 구연산Na 0.2
18. 염화Na 1
19. 물 잔량
합계 100
(주1)신에쓰화학공업(주)제: (디메티콘/(PEG-10/15))크로스폴리머(: 표시명칭) 25%와 디메티콘 75%의 혼합물
(주2)신에쓰화학공업(주)제: 세틸PEG/PPG-10/1디메티콘(: 표시명칭)
(주3)신에쓰화학공업(주)제: (비닐디메티콘/메티콘실세스퀴옥산)크로스폴리머(: 표시명칭)
(주4)신에쓰화학공업(주)제: 메틸트리메티콘(: 표시명칭)
(주5)신에쓰화학공업(주)제: 라우릴폴리글리세릴-3폴리디메틸실록시에틸디메티콘(: 표시명칭)
(주6)신에쓰화학공업(주)제: KF-9909처리 착색무기안료, W: 백·R: 적·Y: 황·B: 흑
얻어진 W/O 리퀴드파운데이션은, 사용감, 도포성이 양호하며, 보존안정성이 우수하였다.
[실시예 52]
W/O 리퀴드파운데이션
<화장료의 조제>
A: 성분 9~15를 3본 롤밀로 분산하였다.
B: 성분 1~8을 균일하게 혼합하였다.
C: 성분 16~19를 균일하게 혼합하였다.
D: C를 B에 첨가하여 유화하고, A를 첨가하여, W/O 리퀴드파운데이션을 얻었다.
성분 질량%
1. KSG-210(주1) 3.5
2. 실시예 20의 조성물(8.5%) 5
3. KF-6028(주2) 2.5
4. 유기변성 점토광물 0.8
5. 디메티콘(2cs) 21
6. 팔미트산에틸헥실 7
7. 트리(카프릴산/카프르산)글리세릴 5
8. KSP-101(주3) 2
9. KF-56A(주4) 7
10. KF-6106(주5) 1
11. KTP-09W(주6) 10
12. KTP-09R(주6) 0.2
13. KTP-09Y(주6) 0.5
14. KTP-09B(주6) 0.1
15. 금속비누처리 미립자 산화티탄 10
16. BG 5
17. 구연산Na 0.2
18. 염화Na 1
19. 물 잔량
합계 100
(주1)신에쓰화학공업(주)제: (디메티콘/(PEG-10/15))크로스폴리머(: 표시명칭) 25%와 디메티콘 75%의 혼합물
(주2)신에쓰화학공업(주)제: PEG-9폴리디메틸실록시에틸디메티콘(: 표시명칭)
(주3)신에쓰화학공업(주)제: (비닐디메티콘/메티콘실세스퀴옥산)크로스폴리머(: 표시명칭)
(주4)신에쓰화학공업(주)제: 디페닐실록시페닐디메티콘(: 표시명칭)
(주5)신에쓰화학공업(주)제: 라우릴폴리글리세릴-3폴리디메틸실록시에틸디메티콘(: 표시명칭)
(주6)신에쓰화학공업(주)제: KF-9909처리 착색무기안료, W: 백·R: 적·Y: 황·B: 흑
얻어진 W/O 리퀴드파운데이션은, 사용감, 도포성이 양호하며, 보존안정성이 우수하였다.
[실시예 53]
선케어스틱
<화장료의 조제>
A: 성분 1~14를 110℃에서 균일하게 혼합하고, 스틱용기에 충전하여 선케어스틱을 얻었다.
성분 질량%
1. 실시예 20의 조성물(8.5%) 6
2. KF-56A(주1) 잔량
3. KMP-592(주2) 0.5
4. 세바스산디이소프로필 10
5. 메톡시계피산에틸헥실 7.5
6. 옥토크릴렌 2.5
7. 디에틸아미노하이드록시벤조일안식향산헥실 5
8. 살리실산에틸헥실 5
9. 비스에틸헥실옥시페놀
메톡시페닐트리아진 3
10. 폴리실리콘-15 2
11. 호모살레이트 10
12. 디부틸라우로일글루타미드 3.5
13. 옥틸도데칸올 10
14. 미네랄오일 2
합계 100
(주1)신에쓰화학공업(주)제: 디페닐실록시페닐디메티콘(: 표시명칭)
(주2)신에쓰화학공업(주)제: (메틸/페닐)폴리실세스퀴옥산(: 표시명칭)
얻어진 선케어스틱은, 사용감, 도포성, 투명감이 양호하며, 보존안정성이 우수하였다.
[실시예 54]
W/O 미용스틱
<화장료의 조제>
A: 성분 1~6을 90℃에서 균일하게 혼합하였다.
B: 성분 7~12를 85℃에서 균일하게 혼합하였다.
C: B를 A에 첨가하여 유화하고, 스틱용기에 충전하여 W/O 미용스틱을 얻었다.
성분 질량%
1. KSG-830(주1) 5
2. 실시예 23의 조성물(11%) 5
3. KF-6105(주2) 0.5
4. 메도우폼유 2
5. KF-56A(주3) 8
6. 세레신 10
7. BG 7
8. PCA-Na 2
9. 디글리세린 3
10. 구연산Na 0.2
11. 황산Mg 1
12. 물 잔량
합계 100
(주1)신에쓰화학공업(주)제: (라우릴디메티콘/폴리글리세린-3)크로스폴리머(: 표시명칭) 20%와 트리에틸헥사노인(: 표시명칭) 80%의 혼합물
(주2)신에쓰화학공업(주)제: 라우릴PEG-9폴리디메틸실록시에틸디메티콘(표시명칭)
(주3)신에쓰화학공업(주)제: 디페닐실록시페닐트리메티콘(: 표시명칭)
얻어진 W/O 미용스틱은, 사용감, 도포성이 양호하며, 보존안정성이 우수하였다.
[실시예 55]
W/O 스틱파운데이션
<화장료의 조제>
A: 성분 12~17을 3본 롤밀로 분산하였다.
B: 성분 1~11을 90℃에서 용해 후, A를 첨가하여 균일하게 혼합하였다.
C: 성분 18~23을 균일하게 혼합하였다.
D: C를 B에 첨가하여 유화하고, 스틱용기에 충전하여 W/O 스틱파운데이션을 얻었다.
성분 질량%
1. KSG-710(주1) 5
2. 실시예 19의 조성물(8.5%) 3
3. KF-6038(주2) 2
4. KF-995(주3) 10
5. 스테아르산이눌린 3
6. 합성왁스 7
7. t-부틸메톡시디벤조일메탄 2
8. 살리실산에틸헥실 4
9. 비스에틸헥실옥시페놀
메톡시페닐트리아진 2
10. 폴리실리콘-15 2
11. 호모살레이트 5
12. 이소노난산이소트리데실 2
13. KP-578(주4) 0.3
14. 실리콘처리 산화티탄(주5) 7
15. 실리콘처리 흑산화철(주5) 0.1
16. 실리콘처리 벵갈라(주5) 0.3
17. 실리콘처리 황산화철(주5) 0.6
18. BG 7
19. 글리세린 5
20. 구연산Na 0.2
21. 염화Na 1
22. 에데트산2Na 0.1
23. 물 잔량
합계 100
(주1)신에쓰화학공업(주)제: (디메티콘/폴리글리세린-3)크로스폴리머(: 표시명칭) 25%와 디메티콘 75%의 혼합물
(주2)신에쓰화학공업(주)제: 라우릴PEG-9폴리디메틸실록시에틸디메티콘(표시명칭)
(주3)신에쓰화학공업(주)제: 시클로펜타실록산(: 표시명칭)
(주4)신에쓰화학공업(주)제: (아크릴레이트/아크릴산에틸헥실/메타크릴산디메티콘)코폴리머(: 표시명칭)
(주5)신에쓰화학공업(주)제: KF-9901처리
얻어진 W/O 스틱파운데이션은, 사용감, 도포성이 양호하며, 보존안정성이 우수하였다.
[실시예 56]
무스파운데이션
<화장료의 조제>
A: 성분 9~16을 3본 롤밀로 분산하였다.
B: 성분 1~8을 균일하게 혼합하였다.
C: A를 B에 첨가해 균일하게 혼합하여, 무스파운데이션을 얻었다.
성분 질량%
1. KSG-16(주1) 20
2. 실시예 8의 조성물(14%) 12
3. KF-7312T(주2) 8
4. 디에틸헥산산네오펜틸글리콜 4
5. 디메티콘(2cs) 잔량
6. 호호바유 0.5
7. KSP-105(주3) 2
8. 폴리메타크릴산메틸 6
9. 디메티콘(6cs) 10
10. 실리콘처리 산화티탄(주4) 5
11. 금속비누처리 미립자 산화티탄 10
12. 실리콘처리 적산화철(주4) 0.2
13. 실리콘처리 황산화철(주4) 0.5
14. 실리콘처리 흑산화철(주4) 0.1
15. 실리콘처리 탈크(주4) 3
16. 실리콘처리 흑마이카(주4) 5
합계 100
(주1)신에쓰화학공업(주)제: (디메티콘/비닐디메티콘)크로스폴리머(표시명칭) 25%와 디메티콘(: 표시명칭) 75%의 혼합물
(주2)신에쓰화학공업(주)제: 트리메틸실록시규산(: 표시명칭(INCI: Trimethylsiloxysilicater)
(주3)신에쓰화학공업(주)제: (비닐디메티콘/메티콘실세스퀴옥산)크로스폴리머(: 표시명칭)
(주4)신에쓰화학공업(주)제: KF-9908처리
얻어진 무스파운데이션은, 사용감, 도포성이 양호하며, 보존안정성이 우수하였다.
[실시예 57]
무스파운데이션
<화장료의 조제>
A: 성분 12~19를 3본 롤밀로 분산하였다.
B: 성분 1~11을 균일하게 혼합하였다.
C: A를 B에 첨가해 균일하게 혼합하여, 무스파운데이션을 얻었다.
성분 질량%
1. KSG-18A(주1) 8
2. 실시예 24의 조성물(8.5%) 25
3. KF-7312J(주2) 8
4. 시클로펜타실록산 잔량
5. 디메틸실릴화 실리카 0.5
6. 메톡시계피산에틸헥실 7
7. 디에틸아미노하이드록시벤조일안식향산헥실 2
8. 비스에틸헥실옥시페놀
메톡시페닐트리아진 1
9. 호모살레이트 5
10. KSP-105(주3) 2
11. 폴리메타크릴산메틸 6
12. KF-56A(주4) 10
13. 알킬실란처리 산화티탄(주5) 5
14. 금속비누처리 미립자 산화티탄 8
15. 알킬실란처리 적산화철(주5) 0.2
16. 알킬실란처리 황산화철(주5) 0.5
17. 알킬실란처리 흑산화철(주5) 0.1
18. 알킬실란처리 탈크(주5) 3
19. 알킬실란처리 흑마이카(주5) 4
합계 100
(주1)신에쓰화학공업(주)제: (디메티콘/페닐비닐디메티콘)크로스폴리머(표시명칭) 15%와 디메티콘(: 표시명칭) 85%의 혼합물
(주2)신에쓰화학공업(주)제: 트리메틸실록시규산(: 표시명칭(INCI: Trimethylsiloxysilicater)
(주3)신에쓰화학공업(주)제: (비닐디메티콘/메티콘실세스퀴옥산)크로스폴리머(: 표시명칭)
(주4)신에쓰화학공업(주)제: 디페닐실록시페닐트리메티콘(: 표시명칭)
(주5)신에쓰화학공업(주)제: AES-3083처리
얻어진 무스파운데이션은, 사용감, 도포성이 양호하며, 보존안정성이 우수하였다.
[실시예 58]
겔아이컬러
<화장료의 조제>
A: 성분 1~3을 80℃에서 균일하게 혼합하였다.
B: A와 성분 4~5를 60℃에서 균일하게 혼합하였다.
C: B와 성분 6~11을 균일하게 혼합하여 겔아이컬러를 얻었다.
성분 질량%
1. 이소노난산이소트리데실 24
2. 스쿠알란 잔량
3. 팔미트산덱스트린 10
4. 실시예 21의 조성물(8.5%) 12
5. 디메틸실릴화 실리카 0.1
6. KSP-100(주1) 8
7. KMP-590(주2) 2
8. 황산Ba 5
9. 실리콘처리 합성마이카(주3) 13
10. 유리분말 7
11. (PET/Al)라미네이트 4.5
합계 100
(주1)신에쓰화학공업(주)제: (비닐디메티콘/메티콘실세스퀴옥산)크로스폴리머(: 표시명칭)
(주2)신에쓰화학공업(주)제: 폴리메틸실세스퀴옥산(: 표시명칭)
(주3)신에쓰화학공업(주)제: KP-574처리
얻어진 겔아이컬러는, 사용감, 도포성이 양호하며, 보존안정성이 우수하였다.
[실시예 59]
아이컬러
<화장료의 조제>
A: 성분 1~5를 균일하게 혼합하였다.
B: 성분 6~15를 균일하게 혼합하였다.
C: A를 B에 첨가하고, 헨셀믹서로 균일하게 혼합하였다. 얻어진 분말을, 메쉬를 통과시킨 후, 금형을 이용하여 금속접시에 타형하여 아이컬러를 얻었다.
성분 질량%
1. 사과산디이소스테아릴 3
2. KF-56A(주1) 2
3. 트리에틸헥사노인 1.5
4. 실시예 22의 조성물(8.5%) 3
5. 바셀린 2
6. KMP-590(주2) 2
7. 실리콘처리 마이카(주3) 잔량
8. 실리콘처리 탈크(주3) 25
9. 황산Ba 3
10. 합성플루오로플로고파이트 10
11. 질화붕소 2
12. KSP-300(주4) 4
13. 미리스트산아연 0.5
14. 세스퀴이소스테아르산소르비탄 0.2
15. 유리베이스 펄안료 12
합계 100
(주1)신에쓰화학공업(주)제: 디페닐실록시페닐트리메티콘(: 표시명칭)
(주2)신에쓰화학공업(주)제: 폴리메틸실세스퀴옥산(: 표시명칭)
(주3)신에쓰화학공업(주)제: KF-9909처리
(주4)신에쓰화학공업(주)제: (디페닐디메티콘/비닐디페닐디메티콘/실세스퀴옥산)크로스폴리머(: 표시명칭)
얻어진 아이컬러는, 사용감, 도포성이 양호하며, 보존안정성이 우수하였다.
한편, 본 발명은, 상기 실시형태로 한정되는 것은 아니다. 상기 실시형태는 예시이며, 본 발명의 특허청구의 범위에 기재된 기술적 사상과 실질적으로 동일한 구성을 가지며, 동일한 작용효과를 나타내는 것은, 어떠한 것이어도 본 발명의 기술적 범위에 포함된다.

Claims (8)

  1. 하기 (A)성분을 포함하는 화장료로서,
    (A)성분: 하기 (A1) 및 (A2)의 하이드로실릴화 반응물이며, 또한 아릴기 및 아랄킬기의 몰수의 합계와 규소원자의 몰수와의 비가 0.34 이상인 방향족기변성 가교형 오가노실록산을 포함하는 것을 특징으로 하는 화장료.
    (A1)하기 일반식(1)
    Ma1M’a2Db1D’b2Tc1T’c2Qd(1)
    (식 중,
    M은 R1 3SiO1/2
    M’는 R1 2HSiO1/2
    D는 R1 2SiO2/2
    D’는 R1HSiO2/2
    T는 R1SiO3/2
    T’는 HSiO3/2
    Q는 SiO4/2
    로 표시되는 실록산단위를 나타내고, R1은 독립적으로 탄소수 1~30의 알킬기, 아릴기, 아랄킬기로부터 선택되는 기이고, a1, a2, b1, b2, c1, c2, 및 d는 각각 0≤a1, 0≤a2, 0≤b1, 0≤b2, 0≤c1, 0≤c2, 및 0≤d의 정수이고, 단, 2≤a2+b2+c2≤50이고, 2≤a1+a2+b1+b2+c1+c2+d≤100,000이다.)
    로 표시되는 1분자 중에 2개 이상의 규소원자결합 수소원자를 갖는 오가노하이드로겐(폴리)실록산.
    (A2)하기 일반식(2)
    Me1M”e2Df1D”f2 (2)
    (식 중, M, D는 상기와 동일하며,
    M”는 R1 2R2SiO1/2
    D”는 R1R2SiO2/2
    로 표시되는 실록산단위를 나타내고, R1은 상기와 동일하며, R2는 탄소수 2~8의 알케닐기이고, e1, e2, f1, 및 f2는 각각 0≤e1≤2, 0≤e2≤2, 0≤f1, 0≤f2의 정수이고, e1+e2=2, 2≤e2+f2≤50, 2≤e1+e2+f1+f2≤100,000이다).
    로 표시되는 1분자 중에 2개 이상의 탄소수 2~8의 알케닐기를 갖는 직쇄상 오가노(폴리)실록산.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 일반식(2)에 있어서, f2=0인 것을 특징으로 하는 화장료.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 (A)성분이, 하기 (A3)을 추가로 포함한 하이드로실릴화 반응물인 것을 특징으로 하는 화장료.
    (A3)하기 일반식(3)
    Mg1M’g2Dh (3)
    (식 중, M, M’, D는 상술한 바와 같음. g1, g2, 및 h는 각각 g1=g2=1, 0≤h≤100의 정수이다)
    으로 표시되는 1분자 중에 1개의 규소원자결합 수소원자를 갖는 직쇄상 오가노하이드로겐(폴리)실록산.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 (A)성분이, 하기 (A4)를 추가로 포함한 하이드로실릴화 반응물인 것을 특징으로 하는 화장료.
    (A4)하기 일반식(4)
    Mi1M”i2Dj (4)
    (식 중, M, M”, D는 상술한 바와 같음. i1, i2, 및 j는 각각 i1=i2=1, 0≤j≤100의 정수이다)
    로 표시되는 1분자 중에 1개의 탄소수 2~8의 알케닐기를 갖는 직쇄상 오가노(폴리)실록산.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 (A)성분에 더하여, (B)25℃에서 액상의 유제를 포함하는 것을 특징으로 하는 화장료.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 (B)성분이, 변성 실리콘유, 탄화수소유, 불소계유, 에스테르유, 천연동식물유, 및 반합성유로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 화장료.
  7. 제5항 또는 제6항에 있어서,
    상기 (A)성분과 상기 (B)성분의 일부가 미리 혼합되어 있는 것을 특징으로 하는 화장료.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    (C)성분으로서, 자외선흡수제를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 화장료.

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