KR20230152713A - 투명 전극 필름 - Google Patents
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- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 185
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 127
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 126
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 106
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 65
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 56
- 238000009736 wetting Methods 0.000 claims abstract description 44
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims abstract description 31
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims abstract description 21
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 14
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims abstract description 13
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 92
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 claims description 60
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 51
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 claims description 37
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 20
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 claims description 12
- 239000012508 resin bead Substances 0.000 claims description 12
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 8
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 claims description 2
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 abstract description 10
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 abstract description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 111
- 239000010408 film Substances 0.000 description 62
- 238000000034 method Methods 0.000 description 31
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 21
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 19
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 16
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 13
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 12
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 11
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 11
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 10
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 10
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 9
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 9
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 8
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 8
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 8
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 7
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 7
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 7
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 7
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 6
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 229940059574 pentaerithrityl Drugs 0.000 description 6
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 6
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 229940105570 ornex Drugs 0.000 description 5
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910002016 Aerosil® 200 Inorganic materials 0.000 description 4
- SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N DEAEMA Natural products CCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 4
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- OWBTYPJTUOEWEK-UHFFFAOYSA-N butane-2,3-diol Chemical compound CC(O)C(C)O OWBTYPJTUOEWEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 239000012847 fine chemical Substances 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 4
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-1-butanol Chemical compound COC(C)CCO JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical compound C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 3
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- PJUIMOJAAPLTRJ-UHFFFAOYSA-N monothioglycerol Chemical compound OCC(O)CS PJUIMOJAAPLTRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 3
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 description 3
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 1,7,7-trimethylbicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dione Chemical class C1CC2(C)C(=O)C(=O)C1C2(C)C VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJPGAMCQJNLTJC-UHFFFAOYSA-N 2,3-Heptanedione Chemical compound CCCCC(=O)C(C)=O FJPGAMCQJNLTJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DPNXHTDWGGVXID-UHFFFAOYSA-N 2-isocyanatoethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCN=C=O DPNXHTDWGGVXID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 9,10-phenanthroquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BWPYBAJTDILQPY-UHFFFAOYSA-N Methoxyphenone Chemical compound C1=C(C)C(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC(C)=C1 BWPYBAJTDILQPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N [1-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1(CO)CCCCC1 ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 229930006711 bornane-2,3-dione Chemical class 0.000 description 2
- GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N bromomethane Chemical compound BrC GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 229920006317 cationic polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 2
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004989 dicarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N isoamyl acetate Chemical compound CC(C)CCOC(C)=O MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- CRSOQBOWXPBRES-UHFFFAOYSA-N neopentane Chemical compound CC(C)(C)C CRSOQBOWXPBRES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010450 olivine Substances 0.000 description 2
- 229910052609 olivine Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N suberic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCC(O)=O TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- LRSLDYIFOCTRHR-UHFFFAOYSA-N (3-benzoyl-4-ethylphenyl)-(4-ethylphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(CC)C(C(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1 LRSLDYIFOCTRHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXPWZZHELZEVPO-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 WXPWZZHELZEVPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical class [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHLKMGYGBHFODF-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=C(CN=C=O)C=C1 OHLKMGYGBHFODF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKQJCUYEEABXNK-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-propoxythioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(OCCC)=CC=C2Cl VKQJCUYEEABXNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAYNEUUHHLGGAH-UHFFFAOYSA-N 1-chlorododecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCl YAYNEUUHHLGGAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSKPJQYAHCKJQC-UHFFFAOYSA-N 1-ethylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2CC HSKPJQYAHCKJQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CCOCC1 XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXGACIKXINYLAR-UHFFFAOYSA-N 2,2-dibutoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCCCOC(OCCCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 GXGACIKXINYLAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIMQKKFOOYOQGB-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 GIMQKKFOOYOQGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXCIJKOCUAQMKD-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC(Cl)=C3SC2=C1 UXCIJKOCUAQMKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKSLIQRKLWDOPD-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)ethanol;2-(2-hydroxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound OCCOCCO.CC(O)COC(C)CO AKSLIQRKLWDOPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBXWTSGRLITCMK-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)ethanol;propane-1,2-diol Chemical compound CC(O)CO.OCCOCCO HBXWTSGRLITCMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJSGODDTWRXQRH-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl benzoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 KJSGODDTWRXQRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFUUAJVRMXKBBI-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(2-hydroxyethyl)cyclohexyl]ethanol Chemical compound OCCC1(CCO)CCCCC1 WFUUAJVRMXKBBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 2-butoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCCCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAAVDLDRAZEFGW-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl 4-(dimethylamino)benzoate Chemical compound CCCCOCCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 PAAVDLDRAZEFGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTELLNMUWNJXMQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.CCC(CO)(CO)CO GTELLNMUWNJXMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-yl)-2-phenylethanone Chemical class OC(C(=O)c1cccc2Oc12)c1ccccc1 NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNZNJOQNLFEAKG-UHFFFAOYSA-N 2-morpholin-4-ylethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN1CCOCC1 MNZNJOQNLFEAKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMTJKMKNOIUGPG-UHFFFAOYSA-N 2-piperidin-1-ylethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN1CCCCC1 GMTJKMKNOIUGPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- BRRVXFOKWJKTGG-UHFFFAOYSA-N 3,3,5-trimethylcyclohexanol Chemical compound CC1CC(O)CC(C)(C)C1 BRRVXFOKWJKTGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXFNNYRXYTZKZ-UHFFFAOYSA-N 3-(2-hydroxyethyl)phthalic acid Chemical compound OCCC1=CC=CC(C(O)=O)=C1C(O)=O ZOXFNNYRXYTZKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJHFJCUIVDTESF-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybutan-2-ol Chemical compound COC(C)C(C)O HJHFJCUIVDTESF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSSYVKMJJLDTKZ-UHFFFAOYSA-N 3-phenylphthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C(O)=O HSSYVKMJJLDTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZEFZLXJPGMRSP-UHFFFAOYSA-N 37,38,39,40-tetrazanonacyclo[28.6.1.13,10.112,19.121,28.04,9.013,18.022,27.031,36]tetraconta-1(37),2,4,6,8,10,12(39),13,15,17,19,21,23,25,27,29,31,33,35-nonadecaene Chemical class c1ccc2c3cc4[nH]c(cc5nc(cc6[nH]c(cc(n3)c2c1)c1ccccc61)c1ccccc51)c1ccccc41 GZEFZLXJPGMRSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDIYEOMDOWUDTJ-UHFFFAOYSA-M 4-(dimethylamino)benzoate Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 YDIYEOMDOWUDTJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZIKGYKMUSIDTHK-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-4-methyl-1-phenylpent-1-en-3-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C=CC1=CC=CC=C1 ZIKGYKMUSIDTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006189 4-phenyl benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- IKVYHNPVKUNCJM-UHFFFAOYSA-N 4-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(C(C)C)=CC=C2 IKVYHNPVKUNCJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 4h-chromene-2,3-dione Chemical class C1=CC=C2OC(=O)C(=O)CC2=C1 CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N Butyl lactate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)O MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXTCYNMXASGBHR-UHFFFAOYSA-N C(C1=CC=CC=C1)(=O)C=S1(C=NC2=C1C=CC1=CC=CC=C12)C Chemical compound C(C1=CC=CC=C1)(=O)C=S1(C=NC2=C1C=CC1=CC=CC=C12)C QXTCYNMXASGBHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZRPIZSSEMKEEW-UHFFFAOYSA-N C1CO1.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 Chemical compound C1CO1.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 HZRPIZSSEMKEEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDSFAEKRVUSQDD-UHFFFAOYSA-N Dimethyl adipate Chemical compound COC(=O)CCCCC(=O)OC UDSFAEKRVUSQDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUXOBHXGJLMRAB-UHFFFAOYSA-N Dimethyl succinate Chemical compound COC(=O)CCC(=O)OC MUXOBHXGJLMRAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N Methyl 2-benzoylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Chemical class 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFSAUHSCHWRZKM-UHFFFAOYSA-N Padimate A Chemical compound CC(C)CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 OFSAUHSCHWRZKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004792 Prolene Substances 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical class C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical class OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical group CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- ZEDSKTISNTXEQI-UHFFFAOYSA-N [(2,6-dichlorobenzoyl)-(4-propylphenyl)phosphoryl]-(2,6-dichlorophenyl)methanone Chemical compound C1=CC(CCC)=CC=C1P(=O)(C(=O)C=1C(=CC=CC=1Cl)Cl)C(=O)C1=C(Cl)C=CC=C1Cl ZEDSKTISNTXEQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N [2-[[4-methyl-3-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]carbonylamino]phenyl]carbamoyloxymethyl]-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound CC1=CC=C(NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C)C=C1NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZTQQYMRXDUHDO-UHFFFAOYSA-N [2-hydroxy-3-[4-[2-[4-(2-hydroxy-3-prop-2-enoyloxypropoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=1C=C(OCC(O)COC(=O)C=C)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OCC(O)COC(=O)C=C)C=C1 VZTQQYMRXDUHDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N [dimethoxy(propyl)silyl]oxymethyl prop-2-enoate Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OCOC(=O)C=C RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000000641 acridinyl group Chemical class C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 229920003232 aliphatic polyester Polymers 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 230000003712 anti-aging effect Effects 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 235000006708 antioxidants Nutrition 0.000 description 1
- 229940054058 antipsychotic thioxanthene derivative Drugs 0.000 description 1
- 229940027998 antiseptic and disinfectant acridine derivative Drugs 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000004949 azulene Chemical class 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N benzyl bromide Chemical compound BrCC1=CC=CC=C1 AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940073608 benzyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDVNNDYBCWZVTI-UHFFFAOYSA-N bis[4-(ethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(NCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(NCC)C=C1 QDVNNDYBCWZVTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 239000001191 butyl (2R)-2-hydroxypropanoate Substances 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 150000004770 chalcogenides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001788 chalcone derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N chloro(114C)methane Chemical compound [14CH3]Cl NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N chloroethane Chemical compound CCCl HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 150000001893 coumarin derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-dicarboxylate;hydron Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCCCC1 QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- WMKGGPCROCCUDY-PHEQNACWSA-N dibenzylideneacetone Chemical compound C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WMKGGPCROCCUDY-PHEQNACWSA-N 0.000 description 1
- 125000004915 dibutylamino group Chemical group C(CCC)N(CCCC)* 0.000 description 1
- GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N diethoxy(methyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)OCC GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DENRZWYUOJLTMF-UHFFFAOYSA-N diethyl sulfate Chemical compound CCOS(=O)(=O)OCC DENRZWYUOJLTMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- XTDYIOOONNVFMA-UHFFFAOYSA-N dimethyl pentanedioate Chemical compound COC(=O)CCCC(=O)OC XTDYIOOONNVFMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N dimethyl sulfate Chemical compound COS(=O)(=O)OC VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N dipropylamine Chemical compound CCCNCCC WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- KGGOIDKBHYYNIC-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl 4-[3,4-bis(tert-butylperoxycarbonyl)benzoyl]benzene-1,2-dicarboperoxoate Chemical compound C1=C(C(=O)OOC(C)(C)C)C(C(=O)OOC(C)(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C(=O)OOC(C)(C)C)C(C(=O)OOC(C)(C)C)=C1 KGGOIDKBHYYNIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- HQPMKSGTIOYHJT-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diol;propane-1,2-diol Chemical compound OCCO.CC(O)CO HQPMKSGTIOYHJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003750 ethyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical class C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- MHIBEGOZTWERHF-UHFFFAOYSA-N heptane-1,1-diol Chemical compound CCCCCCC(O)O MHIBEGOZTWERHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N hexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C=C LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 125000003387 indolinyl group Chemical class N1(CCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- XJTQJERLRPWUGL-UHFFFAOYSA-N iodomethylbenzene Chemical compound ICC1=CC=CC=C1 XJTQJERLRPWUGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 239000002608 ionic liquid Substances 0.000 description 1
- 229940117955 isoamyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N methacryloyloxyethyl isocyanate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN=C=O RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSSLYACEWZYNMX-UHFFFAOYSA-N methyl 4-(dimethoxyamino)benzoate Chemical compound CON(OC)C1=CC=C(C(=O)OC)C=C1 DSSLYACEWZYNMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUQUOGPMUUJORT-UHFFFAOYSA-N methyl 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound COS(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 VUQUOGPMUUJORT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940102396 methyl bromide Drugs 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- MBABOKRGFJTBAE-UHFFFAOYSA-N methyl methanesulfonate Chemical compound COS(C)(=O)=O MBABOKRGFJTBAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLHXLHGIAMFFBU-UHFFFAOYSA-N methyl phenylglyoxalate Chemical compound COC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 YLHXLHGIAMFFBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIRDBPQYVWXNSJ-UHFFFAOYSA-N methyl trifluoromethansulfonate Chemical compound COS(=O)(=O)C(F)(F)F OIRDBPQYVWXNSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- SORARJZLMNRBAQ-UHFFFAOYSA-N n,n',n'-trimethylpropane-1,3-diamine Chemical group CNCCCN(C)C SORARJZLMNRBAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNMVRZFUUCLYTO-UHFFFAOYSA-N n-propyl chloride Chemical compound CCCCl SNMVRZFUUCLYTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002070 nanowire Substances 0.000 description 1
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- FVXBCDWMKCEPCL-UHFFFAOYSA-N nonane-1,1-diol Chemical compound CCCCCCCCC(O)O FVXBCDWMKCEPCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N octahydro-1h-4,7-methanoindene-1,5-diyldimethanol Chemical compound C1C2C3C(CO)CCC3C1C(CO)C2 OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000004893 oxazines Chemical class 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N parbenate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWJJYHHHVWZFEP-UHFFFAOYSA-N pentane-1,1-diol Chemical compound CCCCC(O)O UWJJYHHHVWZFEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPAFOABSQZMTHE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HPAFOABSQZMTHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(4-phenylphenyl)methanone Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 150000004033 porphyrin derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical class C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003303 ruthenium Chemical class 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- BAZAXWOYCMUHIX-UHFFFAOYSA-M sodium perchlorate Chemical compound [Na+].[O-]Cl(=O)(=O)=O BAZAXWOYCMUHIX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001488 sodium perchlorate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001495 sodium tetrafluoroborate Inorganic materials 0.000 description 1
- BVZSCTHELIHSMP-UHFFFAOYSA-M sodium;trifluoromethyl sulfate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)OC(F)(F)F BVZSCTHELIHSMP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000010421 standard material Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- PMJMHCXAGMRGBZ-UHFFFAOYSA-N subphthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(=N3)N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C3=N1 PMJMHCXAGMRGBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- YNHJECZULSZAQK-UHFFFAOYSA-N tetraphenylporphyrin Chemical class C1=CC(C(=C2C=CC(N2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3N2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 YNHJECZULSZAQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 150000004897 thiazines Chemical class 0.000 description 1
- 229940035024 thioglycerol Drugs 0.000 description 1
- OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N thiopyrylium Chemical class C1=CC=[S+]C=C1 OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005075 thioxanthenes Chemical class 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005208 trialkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical group CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001889 triflyl group Chemical group FC(F)(F)S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical group CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
- 125000001834 xanthenyl group Chemical class C1=CC=CC=2OC3=CC=CC=C3C(C12)* 0.000 description 1
- 150000007964 xanthones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
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Abstract
광학 특성 및 내찰상성이 우수하고, 또한 롤·투·롤법으로 제조한 경우에도 수율이 높고, 어닐링 처리의 유무에 관계없이 OCA 밀착성이 우수한 적층체를 제공한다. 이러한 적층체는, 광 투과성 기재층(A)과, 입자(R) 및 경화성 화합물(Q)을 함유하는 경화성 조성물(S)의 경화층인 수지층(B)을 갖는다. 1㎛의 수지층(B)과 50㎛의 PET의 적층 구성에 있어서, 수지층(B)의 표층측에서 측정한 경우에 헤이즈 값을 2.0% 이하로 한다. 광 투과성 기재층(A)측과는 반대의 수지층(B)의 주면(F)은, 어닐링 처리 전의 초기 젖음 장력이 38~60mN/m이며, 또한 주면(F)에 내열 보호 PET 필름을 붙여, 3시간 어닐링 처리를 행하고, 상기 내열 보호 PET 필름을 박리한 후의 수지층(B)의 주면(F)의 젖음 장력을 30~54mN/m로 한다.
Description
본 발명은, 활성 에너지선에 의해 경화성을 나타내는 경화성 조성물의 경화층인 수지층을 갖는 적층체 및 투명 전극 필름에 관한 것이다.
터치 패널 등의 표시 장치의 전극 재료로서 폴리에틸렌테레프탈레이트(이하, PET라고도 함) 필름 등의 광 투과성 기재층 상에, ITO(산화인듐주석) 등의 원하는 패턴을 갖는 투명 도전층이 적층된 투명 전극 필름이 사용되고 있다. 투명 전극 필름 위에는 광학 투명 점착제(Optical Clear Adhesive: OCA) 필름이 첩부(貼付)되어 터치 패널의 모듈에 조립된다.
특허문헌 1에는, OCA 필름이 첩부된 광 투과성 투명 도전성 필름의 베이크 공정시에 기포 보이드가 발생되어 버리는 문제, 및 OCA를 첩부하고 나서 롤 반송을 행하면, OCA 필름이 부분적으로 박리하여 광 투과성 도전성 필름과의 접착면에 어긋남이 생기는 것으로 인해, 광 투과성 도전성 필름의 단부로부터 돌출되어 버리는 과제를 해결하는 구성으로서, PET 필름 상에 ITO 층을 형성하고, PET 필름의 표면에 플라즈마 처리에 의해 젖음 장력을 34dyn/cm 이상으로 조정하는 광 투과성 도전성 필름이 제안되어 있다.
특허문헌 2에는, 필름 표면에 높은 안티블로킹성을 부여할 수 있고, 높은 투명성과 OCA 등에 대한 높은 접착 밀착성을 갖는 하드 코트층을 형성하는 것을 과제로서, 활성 에너지선 경화성 화합물 및 실리카 입자를 함유하고, 경화된 도막의 표면의 젖음 장력이 35∼60mN/m인 경화성 조성물이 제안되어 있다.
터치 패널 등의 표시 장치의 전극 재료인 투명 전극 필름 용도에 적합하게 사용할 수 있는 적층체는, 광학 특성이 우수하고, 내찰상성이 우수할 뿐만 아니라, 롤·투·롤법으로 제조한 경우에도 수율이 높고, 어닐링 프로세스의 유무에 관계없이, OCA 필름에 대하여 우수한 밀착성을 겸비한 범용성이 높은 적층체가 시장에서 갈망되고 있다. 또한, 상기에 있어서는 투명 전극 필름에 사용하는 적층체의 과제에 대해서 설명했는데, 상기 특성이 요구되는 용도 전반에 있어서 같은 과제가 발생할 수 있다.
본 발명은 상기 배경을 감안하여 이루어진 것이며, 광학 특성 및 내찰상성이 우수하며, 또한 롤·투·롤법으로 제조한 경우에도 수율이 높고, 어닐링 처리의 유무에 관계없이 OCA 밀착성이 우수한 적층체 및 투명 전극 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들이 예의 검토를 거듭한 바, 이하의 양태에 있어서, 본 발명의 과제를 해결할 수 있음을 알아내고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
[1]: 광 투과성 기재층(A)의 적어도 한쪽 면에, 수지층(B)이 직접 또는 하나 이상의 다른 층을 통하여 적층된 적층 구성을 갖고,
수지층(B)은, 입자(R)와, 활성 에너지선에 의해 경화성을 나타내는 경화성 화합물(Q)(단, 입자(R)을 제외한다)을 함유하는 경화성 조성물(S)을 경화시킨 층이며,
입자(R)가, 무기 입자, 및 메틸에틸케톤에 대한 겔 분율이 80질량% 이상인 수지 비즈로부터 선택되는 적어도 1종이며,
1㎛ 두께의 수지층(B)과 50㎛ 두께의 폴리에틸렌테레프탈레이트의 적층 구성에 있어서, 수지층(B)의 표층측에서 측정한 경우에, 헤이즈 값이 2.0% 이하이며,
광 투과성 기재층(A)측과는 반대의 수지층(B)의 주면(主面)(F)은, 어닐링 처리가 행해지기 전의 초기 젖음 장력이 38~60mN/m이며,
또한 수지층(B)의 주면(F)에 내열 보호 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 붙이고, 150℃에서 3시간 어닐링 처리를 행하며, 상기 내열 보호 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 박리한 후의 수지층(B)의 주면(F)의 젖음 장력이 30~54mN/m이며,
경화성 조성물(S)은,
(i)경화성 화합물(Q)로서, 3급 아미노기 및 4급 암모늄염기 중 적어도 한쪽을 갖는 경화성 화합물(QN)을 함유하고, 및
(ii)활성 에너지선에 의한 경화성을 나타내지 않는, 친수화제(T)(단, 입자(R)를 제외한다)를 함유하고, 친수화제(T)는, 3급 아미노기 및 4급 암모늄염기 중 적어도 한쪽을 갖는 친수화제(TN)를 함유하는,
것 중 적어도 어느 하나를 만족하는 적층체.
[2]: 3급 아미노기 및 4급 암모늄염기 중 적어도 한쪽을 갖는 경화성 화합물 (QN)은 (메타)아크릴로일기를 갖는 [1]에 기재된 적층체.
[3]: 3급 아미노기 및 4급 암모늄염기 중 적어도 한쪽을 갖는 경화성 화합물(QN), 및 3급 아미노기 및 4급 암모늄염기 중 적어도 한쪽을 갖는 친수화제(TN)의 합계 함유율이, 경화성 조성물(S)의 불휘발 성분 100질량%에 대하여, 3~40질량%인 [1] 또는 [2]에 기재된 적층체.
[4]: 입자(R)의 함유율이, 경화성 조성물(S)의 불휘발 성분 100질량%에 대하여, 0.01∼40질량%인 [1]∼[3] 중 어느 하나에 기재된 적층체.
[5]: 투명 도전층과, [1]~[4] 중 어느 하나에 기재된 적층체를 구비하고,
적어도 상기 투명 도전층, 상기 적층체를 구성하는 광 투과성 기재층(A), 및 상기 적층체를 구성하는 수지층(B)이, 직접 또는 하나 이상의 층을 통해서 이 순서로 적층되어 있는 투명 전극 필름.
[6]: 수지층(B)의 광 투과성 기재층(A) 측과는 반대의 주면에, 또한 광학 투명 점착제 필름이 적층되어 있는 [5]에 기재된 투명 전극 필름.
본 발명에 의하면, 광학 특성 및 내찰상성이 우수하고, 또한, 롤·투·롤법으로 제조한 경우에도 수율이 높고, 어닐링 처리의 유무에 관계없이 OCA 밀착성이 우수한 적층체 및 투명 전극 필름을 제공할 수 있다는 우수한 효과를 발휘한다.
도 1은 본 실시형태에 따른 투명 전극 필름의 일례를 나타내는 모식적 단면도이다.
이하, 본 발명에 관해서 상세히 설명한다. 본 발명의 취지에 부합하는 한, 다른 실시형태도 본 발명의 범주에 포함되는 것은 말할 필요도 없다. 또한, 본 명세서에 있어서 「~」를 사용하여 특정되는 수치 범위는, 「~」의 전후에 기재되는 수치를 포함한다. 본 명세서에 있어서 「필름」이나 「시트」는, 두께에 의해 구별되지 않는 것으로 한다. 또한, 본 명세서 중에 나오는 각종 성분은 특별히 주석하지 않는 한, 각각 독립적으로 1종 단독으로도 2종 이상을 병용해도 좋다.
[적층체]
본 실시형태에 따른 적층체는, 광 투과성 기재층(A)과, 이 광 투과성 기재층(A)의 적어도 한쪽의 면에 직접 또는 하나 이상의 다른 층을 개재하여 형성된 수지층(B)이 적층된 적층 구성을 갖는다. 수지층(B)은, 입자(R)와, 활성 에너지선에 의해 경화성을 나타내는 경화성 화합물(Q)(단, 입자(R)을 제외한다)을 함유하는 경화성 조성물(S)을 경화시킨 층이다. 여기서, 입자(R)는, 무기 입자 및 수지 비즈 중 어느 것이다. 입자(R)는 결정성, 비결정성을 불문한다. 무기 입자란, 유기 화합물 이외의 물질로 된 입자(필러)이며, 예를 들면, 금속, 비금속 원소의 수소화물, 붕소화물, 질화물, 탄화물, 산화물, 할로겐화물, 칼코겐화물 및 이들의 화합물로 이루어진 입자를 예시할 수 있다. 수지 비즈란, 상온 상압에서 고체이며, 메틸에틸케톤에 대한 겔 분율이 80질량% 이상인 수지제의 입자(필러)를 말한다. 본 명세서에 있어서 겔 분율은, 측정 시료인 폴리머 입자 1.00g을 칭량하고, 메틸에틸케톤(MEK) 100mL를 사용하여 속슬레 추출기로 가열 추출하고, 추출된 가용분을 칭량해서, 하기 식(1)에 의해 산출되는 것이다.
식(1): MEK에 대한 겔 분율(%)={(1-가용분의 질량(g))/1}×100
상기 겔 분율은 90질량% 이상인 것이 보다 바람직하다.
수지층(B)의 광 투과성 기재층(A) 측과는 반대의 주면(F)은, 어닐링 처리가 행해지기 전의 초기 젖음 장력(이하,「초기 젖음 장력」이라고도 한다)이 38~60mN/m이다. 그리고, 수지층(B)의 주면(F)에 내열 보호 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(이하, 「내열 보호 PET 필름」이라고도 함)을 첩부하여, 150℃에서 3시간 어닐링 처리를 행하고, 상기 내열 보호 PET 필름을 박리한 후의 수지층(B)의 주면(F)의 젖음 장력(이하, 「어닐링 처리 후의 젖음 장력」이라고도 한다)이 30~54mN/m이다. 또한, 수지층(B)은, 1㎛ 두께의 수지층(B)과 50㎛ 두께의 폴리에틸렌테레프탈레이트의 적층 구성에 있어서, 수지층(B)의 표층측에서 측정한 경우에, 헤이즈 값이 2.0% 이하가 되는 것을 사용한다. 그리고 또한, 경화성 조성물(S)은, 이하의 (i) 및 (ii) 중 적어도 어느 하나를 만족한다.
(i)경화성 화합물(Q)로서, 3급 아미노기 및 4급 암모늄염기 중 적어도 한쪽을 갖는 경화성 화합물(QN)을 함유한다.
(ii)활성 에너지선에 의한 경화성을 나타내지 않는, 친수화제(T)(단, 입자(R)를 제외함)를 함유하고, 친수화제(T)는, 3급 아미노기 및 4급 암모늄염기 중 적어도 한쪽을 갖는 친수화제(TN)를 함유한다.
또한, 본 명세서에 개시하는 초기 젖음 장력, 어닐링 처리 후의 젖음 장력 및 헤이즈의 각 값은, 후술하는 실시 예에서 설명하는 방법으로 행했을 때의 값을 말한다.
여기서, 「활성 에너지선에 의해 경화성을 나타내는 경화성 화합물(Q)」이란, 활성 에너지선의 조사에 의해, 경화성 화합물(Q)이 중합 또는/및 가교에 의해 경화하는 화합물을 말한다. 단, 입자(R)에 해당하는 경우를 제외한다. 활성 에너지선이란, 자외선, 가시광선, 적외선, 일렉트론 빔(EB), 및 방사선을 포함하는, 화학 반응을 일으키기 위한 활성화에 필요한 에너지를 제공할 수 있는 넓은 의미의 에너지선을 의미한다. 또한, 「경화시킨 층」이란, 더욱 활성 에너지선을 조사해도 실질적으로 경화 반응이 진행되지 않는 정도로 경화된 층을 말한다. 본 실시형태의 경화성 조성물(S)의 층을 형성할 때에, 경화성 화합물(Q)의 일부가 경화 반응하고 있어도, 더욱 경화할 수 있는 상태는 여기에서 말하는 경화된 층에는 포함하지 않는다.
광 투과성 기재층(A)과 수지층(B)은 직접 적층되어 있는 양태 외에, 앵커층, 이(易)접착층, 접착층 등의 다른 층을 통하여 적층할 수 있다. 또한, 본 실시형태의 적층체는, 수지층(B) 상에 OCA 필름을 더 적층시켜도 좋다.
롤·투·롤법에 의해 적층체를 제조하는 경우, 전술한 바와 같이 필름끼리의 첩부에 의한 수율의 저하가 문제가 되고 있다. 본 실시형태에 관련한 적층체에 의하면, 경화성 화합물(Q) 및 입자(R)를 함유하는 경화성 조성물(S)의 경화층을 수지층(B)으로서 사용하고, 초기 젖음 장력 및 어닐링 후의 젖음 장력을 상기 특정 범위로 하는 상기 적층체를 사용함에 따라, 안티블로킹성 및 내찰상성이 우수하다. 또한, 롤·투·롤법에 의해 제조한 경우에 있어서도 필름끼리의 블로킹을 효과적으로 억제할 수 있다. 이 때문에 수율을 각별하게 높일 수 있다. 그리고 또한, 우수한 투명성 및 내찰상성에 더하여, 어닐링 처리의 유무에 관계없이 OCA 밀착성이 우수한 적층체를 제공할 수 있다. 이하, 각 층에 대하여 상세히 설명한다.
[광 투과성 기재층(A)]
광 투과성 기재층(A)은, 수지층(B)의 지지층으로서 기능한다. 여기서, 광 투과성이란, 적층체에 있어서의 광 투과성 기재층(A)의 두께로 측정했을 때에, 필요한 파장의 광의 투과율이 80% 이상인 것을 말한다. 보다 바람직하게는 85% 이상이고, 더욱 바람직하게는 90% 이상이다. 필요한 파장의 광이란, 투명성이 필요한 용도에 적층체를 사용하는 경우에는 가시광선 영역(380~780nm)의 광이 해당한다.
광 투과성 기재층(A)의 소재는, 우수한 투과성을 가지고 있으면 특별히 한정되지 않는다. 적합한 예로서, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)나 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN) 등의 폴리에스테르계 수지, 시클로올레핀계 수지(COP)의 환상(環狀) 폴리올레핀계 수지, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌-α올레핀 공중합체의 쇄상(鎖狀) 폴리올레핀계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리아크릴계 수지, 폴리메타크릴계 수지, 폴리올레핀계 수지, 폴리에테르계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리아세탈계 수지, 폴리염화비닐리덴계 수지, 폴리페닐렌설파이드계 수지 및 아세테이트계 수지를 들 수 있다.
이들 중에서도, 범용성이 높은 폴리에틸렌테레프탈레이트나, 저(低) 복굴절, 저 흡습, 고(高) 투명성 및 고 내열성이 우수한 시클로올레핀계 수지가 적합하다.
광 투과성 기재층(A)의 두께는, 수지층(B)의 지지체로서의 기능을 갖는 두께를 갖고 있으면 되고 임의로 선정할 수 있다. 통상은, 25~188㎛ 정도로 할 수 있다. 투명성의 관점에서는 25~125㎛인 것이 바람직하고, 25~100㎛의 범위가 보다 바람직하다.
[수지층(B)]
수지층(B)은, 경화성 조성물(S)에 활성 에너지선을 조사하여 경화시킨 층이며, 내찰상성, 안티블로킹성이 우수하므로, 롤·투·롤법에 의한 적층체의 제조에 적합하다.
예를 들면, 롤 형상으로 감은 광 투과성 기재층(A)을 풀어내어(卷出) 경화성 조성물(S)을 도공하고, 활성 에너지선을 조사하여 경화막인 수지층(B)을 얻은 후, 다시 롤에 감는(卷取) 공정을 거쳐 적층체를 제조할 수 있다. 또한, 롤 형상으로 감은 광 투과성 기재층(A)과, 롤 형상으로 감은 수지층(B)을 붙여 맞춘 후, 다시 롤에 감는 공정을 거쳐 제조해도 된다. 매엽(枚葉)의 광 투과성 기재층(A)에 수지층(B)을 적층하는 방법에 비하여, 생산성을 현격히 향상시킬 수 있다.
수지층(B)의 막 두께는 용도에 따라 설계할 수 있지만, 우수한 안티블로킹성을 부여하는 관점에서는 1~10㎛인 것이 바람직하고, 1~5㎛인 것이 보다 바람직하며, 1~3㎛인 것이 더욱 바람직하다.
본 발명자들이 예의 검토를 거듭한 바, 어닐링 처리 전의 초기 젖음 장력의 범위가 비록 38~60mN/m이어도, 어닐링 처리를 행하면 수지층의 주면의 젖음 장력이 현저하게 저하하는 경우가 있다는 것을 알았다. 그리고, 초기 젖음 장력이 38∼60mN/m이며, 또한 어닐링(150℃×3시간) 후의 젖음 장력이 30∼54mN/m인 수지층(B)을 사용함으로써, 어닐링 처리의 유무에 관계없이, OCA 밀착성이 우수한 것을 알 수 있었다.
수지층(B)의 주면(F)의 초기 젖음 장력은 38~60mN/m이며, 더욱 적합한 범위는 40~60mN/m이며, 특히 적합한 범위는 42~60mN/m이다. 또한, 어닐링 처리 후의 젖음 장력은 30~54mN/m이고, 더욱 적합한 범위는 32~54mN/m이고, 특히 적합한 범위는 36~54mN/m이다.
수지층(B) 표층의 초기 젖음 장력을 38~60mN/m로 하고, 또한 어닐 후(150℃×3시간)의 젖음 장력을 30~54mN/m로 하는 방법은, 경화성 조성물(S)의 조성에 의해 조정할 수 있다. 또한, 상기 조정 방법과 병용하여, 표면 처리를 행함으로써, 수지층(B) 표층의 초기 젖음 장력 및 어닐 후의 젖음 장력이 상기가 되도록 조정해도 좋다.
경화성 조성물(S)의 조성에 의한 조정은,
(1)경화성 화합물(Q)로서, 3급 아미노기 및 4급 암모늄염기 중 적어도 한쪽을 갖는 경화성 화합물(QN)을 함유시키는 방법,
(2)경화성 조성물(S)에, 또한, 활성 에너지선 경화성을 나타내지 않는 친수화제(T)를 함유시키고, 친수화제(T)로서, 3급 아미노기 및 4급 암모늄염기 중 적어도 한쪽을 갖는 친수화제(TN)를 함유시키는 방법, 및
(3)상기 (1) 및 (2)를 병용하는 방법, 중 어느 것으로 하는 방법이 있다.
표면 처리에 의해 젖음 장력을 조정하는 방법으로서는, 수지층(B)의 표층에, 코로나 방전 처리, 오존 처리, 플라즈마 처리, 자외선 조사 처리로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 처리를 실시하는 방법을 예시할 수 있다.
1㎛ 두께의 수지층(B)과 50㎛ 두께의 폴리에틸렌테레프탈레이트의 적층 구성에 있어서, 수지층(B)의 표층으로부터 측정했을 때의 헤이즈 값이 2.0% 이하의 층을 사용함으로써 우수한 투명성이 얻어진다. 상기 헤이즈 값은 1.0% 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.5% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 헤이즈 값의 하한은 0%이다.
상기 헤이즈 값을 만족시키기 위한 수지층(B)의 조정 방법은, 경화성 조성물(S)의 조성에 의해 조정하는 방법이 있다. 예를 들면, 후술하는 바와 같이, 수산기 함유 경화성 화합물(QO)을, 입자(R) 및 3급 아미노기 또는/및 4급 암모늄염기와 병용함으로써 헤이즈 값을 저하시킬 수 있다. 이 방법에 의하면, 코로나 처리나 오존 처리의 공정을 생략할 수 있는 이점을 갖는다.
[경화성 조성물(S)]
본 실시형태의 경화성 조성물(S)은, 활성 에너지선의 조사에 의해 중합 반응 또는/및 가교 반응이 진행하여 경화층인 수지층(B)을 형성할 수 있는 조성물을 말한다. 경화성 조성물(S)은, 적어도 활성 에너지선에 의해 경화성을 나타내는 경화성 화합물(Q)과 입자(R)를 함유한다. 이하, 각 성분에 대하여 상세히 설명한다.
<경화성 화합물(Q)>
경화성 화합물(Q)은, 활성 에너지선의 조사에 의해 중합 반응 또는/및 가교 반응이 진행하여 경화하는 화합물이면 좋고, 저분자 화합물, 고분자 화합물 등, 분자량을 불문하고 선정할 수 있다. 단, 입자(R)에 해당하는 화합물을 제외한다. 경화성 화합물(Q)은, 1종 단독 또는 2종 이상 병용으로 사용된다.
경화성 화합물(Q)의 경화성을 나타내는 기(基)는, 예를 들면, 비닐기, (메타)아크릴로일기, 알릴기 등의 라디칼 중합성 기를 예시할 수 있다. 이들 중에서도 (메타)아크릴로일기를 갖는 경화성 화합물(Q)이 바람직하다. 경화성 화합물(Q)은 1종 단독 또는 2종 이상을 병용하여 사용할 수 있다. 또한, 「(메타)아크릴레이트」는 「아크릴레이트」, 「메타크릴레이트」 및 이들의 혼합물 양쪽을 포함한다.
수지층(B)의 표면 경도를 높이는 관점에서는, 경화성 화합물(Q) 100질량%에 대하여, 3관능 이상의 (메타)아크릴레이트를 30~100질량% 이상 사용하는 것이 바람직하고, 50~100질량% 이상 사용하는 것이 보다 바람직하고, 80~100질량% 이상 사용하는 것이 더욱 바람직하다.
4관능 이상의 (메타)아크릴레이트로서는, 예를 들면, 디메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 디메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트, 프롤렌옥사이드 변성 디메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트, 테트라메틸렌옥사이드 변성 디메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 알킬 변성 디펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 및 폴리펜타에리트리톨 폴리아크릴레이트를 들 수 있다.
3관능의 트리(메타)아크릴레이트로서는, 예를 들면 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로필렌옥사이드 변성 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 테트라메틸렌옥사이드 변성 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리스(아크릴옥시에틸)이소시아누레이트, 카프로락톤 변성 트리스(아크릴옥시에틸)이소시아누레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 알킬 변성 디펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 테트라메틸올메탄트리(메타)아크릴레이트, 에틸렌 옥사이드 변성 글리세롤 트리아크릴레이트, 프로필렌 옥사이드 변성 글리세롤트리아크릴레이트, ε카프로락톤 변성 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 및 펜타에리트리톨트리아크릴레이트 등을 들 수 있다.
2관능의 (메타)아크릴레이트로서는, 펜탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 2,2-디메틸프로판-1,3-디올디(메타)아크릴레이트, 헥산디올디(메타)아크릴레이트, 헵탄디올디(메타)아크릴레이트, 노난디올디(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올디(메타)아크릴레이트 등의 디(메타)아크릴레이트;
에틸렌옥사이드 변성 펜탄디올디(메타)아크릴레이트, 프로필렌옥사이드 변성 펜탄디올디(메타)아크릴레이트, 테트라메틸렌옥사이드 변성 펜탄디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 2,2-디메틸프로판-1,3-디올디(메타)아크릴레이트, 프로필렌옥사이드 변성 2,2-디메틸프로판-1,3-디올디(메타)아크릴레이트, 테트라메틸렌옥사이드 변성 2,2-디메틸프로판-1,3-디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 헥산디올디(메타)아크릴레이트, 프로필렌옥사이드 변성 헥산디올디(메타)아크릴레이트, 테트라메틸렌옥사이드 변성 헥산디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 헵탄디올디(메타)아크릴레이트, 프로필렌옥사이드 변성 헵탄디올 디(메타)아크릴레이트, 테트라메틸렌옥사이드 변성 헵탄디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜-프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜-프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜-디프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리(에틸렌글리콜-테트라메틸렌글리콜)디(메타)아크릴레이트, 이소시아누르산에틸렌옥사이드 변성 디(메타)아크릴레이트, 이소시아누르산 프로필렌옥사이드 변성 디(메타)아크릴레이트, 이소시아누르산부틸옥사이드 변성 디(메타)아크릴레이트 및 이소시아누르산부틸옥사이드 변성 디(메타)아크릴레이트 등의 알킬렌옥시기 함유 디(메타)아크릴레이트;
네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 테트라메틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리테트라메틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트 등의 폴리올에스테르계 디(메타)아크릴레이트를 예시할 수 있다.
단관능의 (메타)아크릴레이트로서는, 예를 들면, (메타)아크릴산메틸, (메타)아크릴산에틸, (메타)아크릴산부틸, 아크릴산n-헥실, 아크릴산라우릴, 및 (아크릴산스테아릴 등의 (메타)아크릴산알킬에스테르;
(메타)아크릴산퍼플루오로메틸, (메타)아크릴산 2-퍼플루오로에틸-에틸, 및 (메타)아크릴산 2-퍼플루오로헥사데실에틸- 등의 (메타)아크릴산퍼플루오로알킬에스테르;
(메타)아크릴산(메톡시카르보닐)메틸, (메타)아크릴산 2-(에톡시카르보닐옥시)헥실, (메타)아크릴산 2-(프로폭시카르보닐옥시)에틸-, 및 (메타)아크릴산 2-(옥틸옥시카르보닐옥시)부틸 등의 카르보닐기를 1개 갖는 지방족 (메타)아크릴산에스테르;
(메타)아크릴산 2-옥소부타노일에틸, (메타)아크릴산 3-옥소부타노일프로필, (메타)아크릴산 2,3-디(옥소부타노일)부틸, (메타)아크릴산 2,3-디(옥소부타노일)헥실 등의 카르보닐기를 2개 갖는 지방족 (메타)아크릴산에스테르;
(메타)아크릴산 2-메톡시에틸, (메타)아크릴산 2-에톡시에틸, (메타)아크릴산 2-프로폭시에틸, (메타)아크릴산 3-프로폭시에틸, (메타)아크릴산 2-부톡시에틸, (메타)아크릴산 3-부톡시에틸, 및 (메타)아크릴산 4-부톡시에틸 등의 알콕시기 함유 (메타)아크릴산에스테르;
(메타)아크릴산의 알킬렌옥사이드 부가물 등의 알킬렌옥사이드 함유 (메타)아크릴산 유도체;
시클로헥실(메타)아크릴레이트, 3,3,5-트리메틸시클로헥산올(메타)아크릴레이트, 4-타샤리부틸-시클로헥실(메타)아크릴레이트, 3,3-디시클로프로필(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸-(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 2-메틸-2-아다만틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸-2-아다만틸(메타)아크릴레이트, 2-프로필-2-아다만틸(메타)아크릴레이트 등의 지환 구조를 갖는 (메타)아크릴레이트;
(메타)아크릴산 2-히드록시에틸, (메타)아크릴산 2-히드록시프로필, (메타)아크릴산 3-히드록시프로필, (메타)아크릴산 4-히드록시부틸, (메타)아크릴산 6-히드록시헥실, (메타)아크릴산 8-히드록시옥틸, 시클로헥산디메탄올 모노(메타)아크릴산에스테르, (메타)아크릴산 12-히드록실라우릴, (메타)아크릴산에틸-α-(히드록시메틸) 등의 단관능 (메타)아크릴산 글리세롤;
(메타)아크릴산글리시딜라우르산에스테르 등의 지방산 에스테르계 (메타)아크릴산에스테르;
시클로헥산디메탄올모노(메타)아크릴레이트, 시클로헥산디에탄올모노(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트, 2-아(메타)아크릴로일옥시에틸-2-히드록시에틸-프탈산 등의 환상 (메타)아크릴산 에스테르;
수산기를 갖는 모노(메타)아크릴레이트에 ε-카프로락톤을 개환(開環) 부가시켜서 합성한 분자 말단에 수산기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르;
수산기를 갖는 모노(메타)아크릴레이트에 에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드, 부틸렌옥사이드 등의 알킬렌옥사이드를 반복 부가한 알킬렌옥사이드 부가(메타)아크릴산에스테르;
N,N-디메틸(메타)아크릴아미드, (메타)아크릴로일모르폴린, 히드록시에틸(메타)아크릴아미드, N,N-디에틸(메타)아크릴아미드, (메타)아크릴아미드, N-메틸(메타)아크릴아미드, N-에틸(메타)아크릴아미드, N-프로필(메타)아크릴아미드, N-n-부틸(메타)아크릴아미드, N-t-부틸(메타)아크릴아미드, N-부톡시메틸(메타)아크릴아미드, N-이소프로필(메타)아크릴아미드, N-메틸올(메타)아크릴아미드 등의 단관능(메타)아크릴아미드를 예시할 수 있다.
경화성 화합물(Q)은, 올리고머 또는 폴리머일 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서 올리고머 및 폴리머란 유한개의 모노머가 결합한 중합체이며, 올리고머는 중량 평균 분자량이 10000 이하인 화합물을 말하고, 폴리머란 중량 평균 분자량이 10000 초과인 화합물을 말한다. 올리고머, 폴리머는 단독 중합체여도 공중합체여도 좋다. (메타)아크릴레이트 올리고머의 구체 예로서, 폴리우레탄계 (메타)아크릴레이트 올리고머, 폴리에스테르계 (메타)아크릴레이트 올리고머, 에폭시계 (메타)아크릴레이트 올리고머를 예시할 수 있다. 본 명세서에 있어서의 중량 평균 분자량은, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)에 의해, 중량 평균 분자량이 공지된 폴리스티렌을 표준 물질로서 측정한 값이다.
폴리우레탄계 (메타)아크릴레이트 올리고머는, 우레탄 결합과 라디칼 중합성 관능기를 갖는 화합물이다. 폴리우레탄계 (메타)아크릴레이트 올리고머는, 예를 들면, 2개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 화합물과 수산기를 갖는 화합물을 반응시켜 얻어지는, 말단에 이소시아네이트기를 갖는 화합물에, 수산기를 갖는 (메타)아크릴로일기를 반응시켜서 얻을 수 있다. 또는, 수산기를 갖는 화합물과, 이소시아네이트기 및 (메타)아크릴레이트기를 갖는 화합물을 반응시켜서 합성할 수 있다. 폴리우레탄계 (메타)아크릴레이트 올리고머(A1)로서는, 폴리에테르 골격을 갖는 것, 폴리에스테르 골격을 갖는 것 등이 있다.
2개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 화합물은, 예를 들면 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 1,4-페닐렌비스메틸렌디이소시아네이트 등의 방향족 이소시아네이트; 3-이소시아네이트메틸-3,5,5-트리메틸시클로헥실이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 지방족 이소시아네이트 등을 들 수 있다.
폴리우레탄계 (메타)아크릴레이트 올리고머의 상품으로서, EBECRYL210, EBECRYL220(이상, 다이셀·오르넥스사 제조), CN9782, CN9783(이상, SARTOMER사 제조) 등의 방향족 폴리우레탄 올리고머; 자광(紫光) UV3000B, 자광 UV3300B(이상, 니혼코세이카가쿠코교사 제조), EBECRYL230, EBECRYL270, EBECRYL8402, EBECRYL8701(이상, 다이셀·오르넥스사 제조) 등의 지방족 폴리우레탄 올리고머를 예시할 수 있다.
폴리에스테르계 (메타)아크릴레이트 올리고머는, 에스테르 결합과 라디칼 중합성 관능기를 갖는 화합물이며, 예를 들면, 다염기산과 다가 알코올을 중축합하여 합성한 폴리에스테르가 갖는 수산기와, 카르복실기를 갖는 (메타)아크릴레이트(예를 들면, (메타)아크릴산 등)를 에스테르화 반응에 의해 합성할 수 있다.
다염기산은, 예를 들면 옥살산, 말론산, 숙신산, 아디프산, 세바틴산, 아젤라산, 수베르산, 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 무수 숙신산, 무수 말레산 등의 지방족계 다염기산; 다이머산, 시클로헥산디카르복시산 등의 지환족계, 이소프탈산, 테레프탈산, 비페닐디카르복시산 등의 방향족계를 들 수 있다.
다가 알코올은, 예를 들면 폴리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등으로 수평균 분자량(Mn) 50~500의 폴리올, 및 그 수평균 분자량(Mn) 500~30,000의 폴리올, 그리고 트리메틸올프로판, 글리세린, 펜타에리트리톨 등을 들 수 있다.
폴리에스테르계 (메타)아크릴레이트 올리고머의 상품으로서, CN296, CN2203, CN2259, CN2261(이상, SARTOMER사 제조) 등의 방향족 폴리에스테르 올리고머; CN294, CN2270, CN2271(이상, SARTOMER사 제조)등의 지방족 폴리에스테르 올리고머를 예시할 수 있다.
에폭시계 (메타)아크릴레이트 올리고머는, 에폭시기를 갖는 화합물의 에폭시기와, 카르복실기나 수산기를 갖는 화합물을 반응시킨, 라디칼 중합성 관능기를 갖는 화합물이다. 또한, 에폭시계 (메타)아크릴레이트 올리고머는, 에폭시기가 소량 잔류해도 상관없다.
에폭시계 (메타)아크릴레이트 올리고머의 상품으로서, CN104, CN110(이상, SARTOMER사 제조), EBECRYL600, EBECRYL3701(이상, 다이셀·오르넥스사 제조) 등의 방향족 에폭시 올리고머, CN111, CN113(이상, SARTOMER사 제조), EBECRYL 860(다이셀·오르넥스사 제조) 등의 지방족 에폭시 올리고머를 예시할 수 있다.
(메타)아크릴레이트 폴리머의 구체 예로서, 상기 올리고머의 구체 예를 폴리머로 바꿔 읽은 화합물을 예시할 수 있다.
수지층(B)의 광 투과성 기재층(A) 측과는 반대측의 주면(F)의 초기 젖음 장력을 38~60mN/m로 하고, 또한 어닐링 후의 젖음 장력을 30~54mN/m 하는 방법으로서, 전술한 (1)의 방법, 즉, 경화성 화합물(Q)로서, 3급 아미노기 및 4급 암모늄염기 중 적어도 한쪽을 갖는 경화성 화합물(QN)을 함유시키는 방법이 있다. 젖음 장력을 용이하게 조정시키는 관점에서는, 아민가가 140~370mgKOH/g인 것이 바람직하다. 또한, 아민가는, 후술하는 실시 예의 방법에 의해 얻어지는 값이다.
3급 아미노기로서는, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디부틸아미노기 등의 디알킬아미노기를 들 수 있다. 4급 암모늄기로서는, 트리메틸암모늄기, 트리에틸암모늄기, 트리부틸암모늄기 등의 트리알킬암모늄기를 들 수 있다. 4급 암모늄기를 구성하는 질소 원자에 대한 대(對)이온으로서는, 염화물 이온, 브롬화물 이온, 수산화물 이온 등을 들 수 있다.
3급 아미노기를 갖는 경화성 화합물(QN)로서, 3급 아미노기를 갖는 (메타)아크릴레이트가 적합하다. 바람직한 예로서, N,N-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, N,N-디에틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노프로필(메타)아크릴레이트, 및 N,N-디에틸아미노프로필(메타)아크릴레이트 등의 N,N-디알킬아미노알킬(메타)아크릴레이트, N-[2-메타크릴로일옥시에틸]피페리딘, N-[2-메타크릴로일옥시에틸]피롤리딘, N-[2-메타크릴로일옥시에틸]모르폴린, 및 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜(메타)아크릴레이트를 예시할 수 있다.
또한, 글리시딜(메타)아크릴레이트와, 예를 들면 디메틸아민, 디에틸아민, 및 디프로필아민 등의 제2급 아미노 화합물, 또는 예를 들면 디메틸아미노프로필메틸아민 등의 제3급 아미노기 및 제2급 아미노기를 갖는 화합물을 반응시켜 얻어지는, 에폭시기가 개환하여 히드록시기를 갖는 메타크릴레이트; 메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트 등의 이소시아네이트기를 갖는 (메타)아크릴레이트에, 히드록시기, 또는 1급 혹은 2급 아미노기를 갖고, 또한 제3급 아미노기를 갖는 화합물을 반응시켜 얻어지는, 우레탄 결합이나 우레아 결합을 갖는 (메타)아크릴레이트 등도 들 수 있다. 이들 중에서도, N,N-디알킬아미노알킬(메타)아크릴레이트가 보다 바람직하다.
4급 암모늄염기를 갖는 경화성 화합물(QN)로서, 4급 암모늄염기를 갖는 (메타)아크릴레이트가 적합하다. 적합한 예로서, 제3급 아미노기를 갖는 (메타)아크릴레이트에, 4급화제를 반응시킨 (메타)아크릴레이트를 들 수 있다. 4급화제로서는, 예를 들면, 메틸클로라이드, 에틸클로라이드, 메틸브로마이드, 메틸아이오다이드, 프로필클로라이드, 도데실클로라이드, 벤질클로라이드, 벤질브로마이드, 요오드화메틸, 및 벤질아이오다이드 등의 유기 할로겐화물; 메탄술폰산메틸, p-톨루엔술폰산메틸, 및 트리플루오로메탄술폰산메틸 등의 술폰산 에스테르; 디메틸황산 및 디에틸황산 등의 황산 에스테르 등을 들 수 있다. 4급화제를 3급 아미노기와 반응시켜서, 4급 암모늄염으로 할 수 있다. 또한, 4급화제로서, 유기 할로겐화물을 사용한 경우, 질소 원자는 양이온이고, 대이온의 할로겐은 음이온으로서 4급 암모늄염이 되는데, 그 음이온을 다른 음이온으로 교환하여 할 수 있는 모노머를 사용해도 좋다. 그 음이온을 갖는 화합물로서는, 종래 공지의 화합물을 사용할 수 있고, 예를 들면, 테트라플루오로붕산나트륨, 트리플루오로메틸황산나트륨, 과염소산나트륨, 헥사플루오로인산나트륨, 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드나트륨 등의 무기염의 화합물을 들 수 있다.
시판품으로서는, 아크리트 8WX-018(타이세이파인케미컬사 제조), 아미노 이온 RE3000MF(닛폰뉴카자이사 제조, 아크릴기 함유 반응성 이온) 등을 예시할 수 있다.
3급 아미노기 또는/및 4급 암모늄염기를 갖는 경화성 화합물(QN)의 합계 함유율은 적절히 설계하면 좋으며 특별히 한정되지 않지만, 경화성 화합물(Q) 100질량% 중, 3~40질량%인 것이 바람직하고, 3~30질량%인 것이 보다 바람직하고, 3~20질량%인 것이 더욱 바람직하다. 3~40질량%의 범위로 함으로써, 우수한 안티블로킹성과, OCA에 대한 우수한 밀착성을 겸비할 수 있다. 또한, 경화성 화합물(QN) 중에 3급 아미노기와 4급 암모늄염기를 양쪽 갖고 있어도 되고, 이 경우에 있어서 합계 함유율의 계산에 있어서는, 1화합물로서 함유량을 산출하는 것은 말할 필요도 없다.
경화성 화합물(Q)로서, 3급 아미노기 및 4급 암모늄염기 중 적어도 한쪽을 갖는 경화성 화합물(QN)을 사용함으로써, 3급 아미노기 및 4급 암모늄염기 중 적어도 한쪽이 경화층 중의 바인더 수지에 포함된다. 3급 아미노기 및 4급 암모늄염기는 친수성이 높고, 친수성기 이외의 바인더 수지 및 입자(R)와의 친화성이 낮다. 이 때문에, 수지층(B)의 표층 측에 3급 아미노기 및/또는 4급 암모늄염기가 노출되기 쉬워진다. 또한, 이들 기는 경화 반응에 의해 수지로서 고정화되어 있기 때문에, 블리드 아웃도 없고, 경시적 안정성이 우수하다.
경화성 조성물(S)에는, 또한, 수산기 함유 경화성 화합물(QO)을 함유시켜도 된다. 수산기 함유 경화성 화합물(QO)을 함유시킴으로써, 입자(R)와 3급 아미노기 또는/및 4급 암모늄염기와의 상용성·분산성을 개선하여, 우수한 도액 안정성이 얻어진다. 또한, 수지층(B)의 도막의 헤이즈값을 저하시킬 수 있다. 그리고 또한, 초기 젖음 장력의 향상 및 어닐링 처리 후의 젖음 장력의 저하를 억제하여, OCA 밀착성의 밸런스를 보다 효과적으로 높일 수 있다. 그 결과, 수지층(B)에 있어서의 입자(R)의 분산성을 보다 효과적으로 높일 수 있고, 투명성을 현저하게 높일 수 있다.
수산기 함유 경화성 화합물(QO)의 함유율은, 경화성 화합물(Q) 100질량%에 대하여, 3~40질량%가 바람직하고, 5~30질량%가 보다 바람직하고, 5~20질량%가 더욱 바람직하다.
수산기 함유 경화성 화합물(QO)의 적합한 예는, 상술한 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트가 예시될 수 있다. 그 중에서도 특히 바람직한 예로서, (메타)아크릴산 2-히드록시에틸, (메타)아크릴산 2-히드록시프로필, (메타)아크릴산 3-히드록시프로필, (메타)아크릴산 4-히드록시부틸을 예시할 수 있다.
<친수화제(T)>
본 실시형태의 경화성 조성물(S)은, 전술한 바와 같이, 임의 성분으로서 친수화제(T)를 함유시킬 수 있다. 여기서 친수화제(T)란, 활성 에너지선에 의한 경화성을 나타내지 않는 화합물이며, 첨가함으로써 경화성 조성물(S)의 도공층의 경화물인 수지층(B)의 표층(광 투과성 기재층(A)이 적층되어 있는 측과는 반대측의 표층)의 물 접촉각을 저하할 수 있는 화합물을 말한다. 물 접촉각을 60°이하로 저하시키는 화합물이 바람직하고, 55°이하가 보다 바람직하다. 단, 입자(R)에 해당하는 화합물을 제외한다.
친수화제(T)의 바람직한 예로서, 3급 아미노기 및 4급 암모늄염기 중 적어도 한쪽을 갖는 친수화제(TN), 즉, 4급 암모늄염기를 갖는 이온계 친수화제, 및 3급 아미노기를 갖는 비이온계 친수화제를 예시할 수 있다. 젖음 장력을 용이하게 조정시키는 관점에서는, 아민가가 140~370mgKOH/g인 것이 바람직하다. 친수화제(T)가 폴리머인 경우, 폴리머의 중합에 사용하는 단량체 유래의 구성 단위 100질량% 중, 100~50질량%가 3급 아미노기 또는/및 4급 암모늄염을 갖는 단량체 유래의 구성 단위인 것이 바람직하다.
4급 암모늄염기를 갖는 이온계 친수화제의 상품명으로서, 아크리트 8WX-030(타이세이파인케미컬사 제조), 아미노 이온 RE3000MF(닛폰뉴카자이사 제조)를 예시할 수 있다.
3급 아미노기를 갖는 비이온계 친수화제의 적합한 예로서, 3급 아미노기를 갖는 비닐계 수지, 3급 아미노기를 갖는 (메타)아크릴 수지 등을 예시할 수 있다. 이들 중에서도, 디알킬아미노기 함유의 (메타)아크릴 수지가 적합하다.
또한, 상기 이온계 친수화제 및 비이온계 친수화제의 바람직한 예로서, 경화성 화합물(QN)의 모노머 혹은 올리고머를 단독 중합한 중합체 혹은 모노머 성분의 일부 또는 전부에 포함하는 공중합체를 예시할 수 있다. 또한, 전술한 경화성 화합물(QN)의 모노머 혹은 올리고머를 가교한 화합물을 예시할 수 있다. 이들은 단일 종류이어도 혼합물이어도 된다.
친수화제(T)의 경화성 조성물(S) 100질량%에 대한 함유율은 특별히 한정되지 않지만, 안티블로킹성을 우수한 것으로 하는 관점에서 3~40질량%로 하는 것이 바람직하다. 상기 함유율은 5~30질량%가 보다 바람직하고, 5~20질량%가 더욱 바람직하다.
친수화제(T)의 분자량은 한정되지 않고, 저분자 화합물이어도 고분자 화합물이어도 되지만, 고온 고습 환경에 있어서의 블리드 아웃을 효과적으로 억제하는 관점에서는 중량 평균 분자량이 10,000 이상의 고분자 화합물인 것이 바람직하다. 중량 평균 분자량의 상한은 특별히 한정되지 않지만, 경화성 조성물(S) 등과의 상용성의 관점에서, 예를 들면 50,000 이하로 할 수 있다.
3급 아미노기 또는/및 4급 암모늄염기를 갖는 경화성 화합물(QN), 및 3급 아미노기 또는/및 4급 암모늄 염기를 갖는 친수화제(TN)의 합계 함유율(경화성 화합물 (QN) 및 친수화제(TN) 어느 한쪽의 경우를 포함한다)은, 경화성 조성물(S)의 불휘발 성분 100질량% 중, 3~50질량%인 것이 바람직하고, 5~40질량%인 것이 보다 바람직하고, 5~30질량%인 것이 더욱 바람직하다. 3~50질량%의 범위로 함으로써, 어닐링 처리의 유무에 관계없이, 수지층(B)의 주면(F)의 젖음 장력을 원하는 범위로 하고, OCA에 대한 우수한 밀착성을 우수한 것으로 할 수 있다.
<입자(R)>
본 조성물은 입자(R)를 함유시킨다. 입자(R)는, 전술한 바와 같이 수지 비즈 및 무기 입자로부터 선택되는 적어도 1종이다. 입자(R)는 주로 안티블로킹성을 부여하는 역할을 담당한다. 입자(R)는 1종 단독 또는 2종 이상을 병용하여 사용된다. 입자(R)는, 친수 처리, 소수 처리 등의 표면 처리를 행해도 되고, 미처리여도 된다.
수지 비즈로서는, 아크릴 수지, 우레탄 수지, 우레탄 아크릴 수지, 우레아 수지, 폴리염화비닐, 폴리스티렌, 폴리아크릴로니트릴, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리카보네이트 등을 예시할 수 있다. 이들 중에서도, 내찰상성의 관점에서는 가교에 의해 경도의 조정이 가능한 아크릴 수지나 우레탄 아크릴 수지가 적합하다. 수지 비즈는 반응성 수지 비즈일 수 있다. 반응성 수지 비즈는 가열이나 활성 에너지선 조사에 의해 반응하는 기를 갖는 것이며, 생산성의 관점에서 활성 에너지선 조사에 의해 반응하는 수지 비즈가 적합하다. 반응성기는 경화성 화합물(Q)과 반응하여 화학적으로 결합하는 관능기일 수 있다. 반응성 관능기로서, 중합성 비닐기, (메타)아크릴로일기 등의 에틸렌성 불포화기를 예시할 수 있다. 수지 비즈의 굴절률은 적절히 조정할 수 있지만, 투명성을 향상시키는 관점에서는 1.3~1.8이 바람직하고, 1.4~1.6이 보다 바람직하다. 아크릴 수지 비즈의 시판품으로서는, 케미스노(등록상표, 소켄카가쿠사 제조), 테크폴리머(등록상표, 세키스이 카세이힌 코교사 제조), 에포스터(등록상표, 닛폰쇼쿠바이사 제조), 아트펄(네가미코교사 제조), 건츠펄(아이카코교사 제조)을 예시할 수 있다.
무기 입자로서는 실리카 입자, 알루미나, 수산화알루미늄, 산화크롬, 산화철, 산화지르코늄, 산화아연, 산화티탄, 황산바륨, 산화마그네슘, 유리 비즈, 티타늄, 카본블랙, 그래핀, 그라파이트, 다이아몬드를 예시할 수 있다. 무기 입자의 적합한 예로서는, 안티 블로킹성의 관점에서 실리카 입자, 알루미나가 특히 적합하다.
입자(R)를 첨가함으로써 안티블로킹성을 높일 수 있다. 입자(R)로서, 미처리 입자 이외에, 친수성 입자, 소수성 입자를 사용할 수 있다. 입자(R)의 형상은 한정되지 않지만, 예를 들면 구상, 파쇄 등을 사용할 수 있다.
입자(R)의 1차 입자 지름은, 바람직하게는 10~100nm, 보다 바람직하게는 10~50nm이다. 평균 입자 지름(메디안 지름)은 1000nm 이하, 보다 바람직하게는 500nm 이하, 더욱 바람직하게는 100nm 이하이다.
상기 평균 입자 지름은, 입도 분포 측정 장치, 그 중에서도 동적 광 산란식을 이용한 입도 분포 측정 장치(마이크로트랙·벨사 제조「NANOTRAC WAVE II UZ152」 등)에 의해 측정할 수 있다. 본 발명에 있어서는, 용매에 메틸에틸케톤을 사용하고, 로딩 인덱스가 1.0±0.2의 범위가 되는 농도로 60초간의 측정을 3회 행했을 때의 평균 값을 사용하였다.
입자(R)의 함유율은, 1㎛ 두께의 수지층(B)과 50㎛ 두께의 폴리에틸렌테레프탈레이트의 적층 구성에 있어서, 수지층(B)의 표층측에서 측정한 경우에, 헤이즈 값이 2.0% 이하가 되도록, 입자(R)의 입자 지름, 수지층(B)의 두께에 따라 적절히 조정하면 된다. 높은 투명성과 안티블로킹제를 양립하는 관점에서 경화성 조성물(S)의 불휘발 성분 100질량%에 대하여 0.01∼40질량%로 하는 것이 바람직하다. 안티블로킹성을 보다 우수한 것으로 하는 관점에서는, 3~40질량%로 하는 것이 보다 바람직하고, 더욱 바람직하게는 5~40질량%이며, 특히 바람직하게는 5~30질량%이다. 또한, 수지층(B)의 두께에 대해 평균 입자 지름이 큰 입자를 사용하는 경우에는, 입자 함유율을 적게 함으로써(예를 들면, 0.01∼0.5질량%) 헤이즈 값을 용이하게 조정할 수 있다. 여기서, 불휘발성 성분이란, 용매 이외의 조성물을 구성하는 성분을 말한다.
무기 입자 표면에는, 유기 화합물을 포함하여 표면 처리가 실시되어 있어도 된다. 또한, 반응성 무기 입자를 사용할 수도 있다. 반응성 무기 입자는, 가열이나 활성 에너지선 조사에 의해 반응하는 무기 입자이며, 예를 들면 입자 표면에 중합성 비닐기, (메타)아크릴로일기 등의 에틸렌성 불포화기, 에폭시기 등의 반응성기 을 갖는 입자를 예시할 수 있다. 반응성기는 반응성기를 갖는 화합물로 표면 수식함으로써 얻어진다. 예를 들면, 에틸렌성 불포화기를 갖는 실란 커플링제를 예시할 수 있다.
무기 입자에 대한 표면 처리제로서는, 예를 들면, 3-(메타)아크릴옥시프로필트리메톡시실란, β-에틸트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 헥사메틸디실라잔, 디메틸디클로로실란 등의 실란 커플링제나, 실리콘 오일 등의 공지의 처리제를 사용할 수 있다.
실리카 입자를 사용하는 경우에는 소수성 실리카 입자가 적합하다. 소수성 실리카 입자를 사용함으로써, 고온 또는 고습 환경 하에서도 흡습하기 어려워지는 효과가 얻어진다. 소수성 실리카 입자는, 실리카 입자에 표면 처리함으로써 얻어진다. 표면 처리가 실시된 시판품의 소수성 실리카 입자로서는, 시베르코·재팬사 제조의 「Megasil 525RCS」를 예시할 수 있다.
3급 아미노기 또는/및 4급 암모늄염기를 갖는 경화성 화합물(QN) 또는/및 친수화제(TN)와, 표면 처리한 입자(R)와의 병용에 의해, 경화성 화합물(QN) 또는/및 친수화제(TN)와 입자(R)의 응집을 보다 효과적으로 방지할 수 있다. 우수한 안티 블로킹성에 더하여, 수지층(B)에 있어서의 입자(R)의 분산성을 현저하게 높여, 우수한 도공 안정성 및 양호한 헤이즈 값을 실현하는 관점에서, 상기 조합에 더하여, 수산기 함유 경화성 화합물(QO)을 배합하는 것이 바람직하다.
특히 입자(R)로서 실리카를 사용하는 경우에는, 3급 아미노기 또는/및 4급 암모늄염기를 갖는 경화성 화합물(QN) 또는/및 친수화제(TN)와, 소수성 실리카(RH)를 조합함으로써, 경화성 화합물(QN) 또는/및 친수화제(TN)와 실리카의 응집을 보다 효과적으로 방지할 수 있다. 우수한 안티블로킹성에 더하여, 수지층(B)에 있어서의 실리카 입자의 분산성을 현저하게 높이고, 우수한 도공 안정성 및 양호한 헤이즈 값을 실현하는 관점에서, 상기 조합에 더하여, 수산기 함유 경화성 화합물(QO)을 배합하는 것이 바람직하다.
<광중합 개시제 및 광증감제>
경화성 조성물(S)은, 임의 성분으로서 광중합 개시제를 포함할 수 있다. 활성 에너지선이 자외선인 경우에는 광중합 개시제를 첨가하는 것이 바람직하다.
광중합 개시제로서는, 광 여기(勵起)에 의해 경화성 화합물(Q)의 중합 또는/및 가교를 개시할 수 있는 기능을 갖는 것이면 되고, 특별히 한정되지 않는다. 적합한 예로서, 모노카르보닐 화합물, 디카르보닐 화합물, 아세토페논 화합물, 벤조인에테르 화합물, 아실포스핀옥사이드 화합물, 아미노카르보닐 화합물 등을 들 수 있다.
상기 모노카르보닐 화합물로서는, 벤조페논, 4-메틸-벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논, 메틸-o-벤조일벤조에이트, 4-페닐벤조페논, 4-(4-메틸페닐티오)페닐-에타논, 3,3'-디메틸-4-메톡시벤조페논, 4-(1,3-아크릴로일-1,3,3'-디메틸-4-메톡시벤조페논, 4-(1,3-아크릴로일-1,4,7,10,13-펜타옥소트리데실)벤조페논, 3,3',4,4'-테트라(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 4-벤조일-N,N,N-트리메틸-1-프로판아민염산염, 4-벤조일-N,N-디메틸-N-2-(1-옥소-2-프로페닐옥시에틸)메타암모늄 수산염, 2-/4-이소-프로필티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2,4-디클로로티옥산톤, 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤, 2-히드록시-3-(3,4-디메틸-9-옥소-9H티옥산톤-2-일옥시-N,N,N-트리메틸-1-프로판아민염산염, 벤조일메틸렌-3-메틸나프토(1,2-d)티아졸린을 예시할 수 있다.
상기 디카르보닐 화합물로서는, 1,2,2-트리메틸-비시클로[2.1.1]헵탄-2,3-디온, 벤자일, 2-에틸안트라퀴논, 9,10-페난트렌퀴논, 메틸-α-옥소벤젠아세테이트, 4-페닐벤자일을 예시할 수 있다.
상기 아세토페논 화합물로서는, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-디-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-히드록시-시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-스티릴프로판-1-온중합물, 디에톡시아세토페논, 디부톡시아세토페논, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 2,2-디에톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 1-페닐-1,2-프로판디온-2-(o-에톡시카르보닐)옥심, 3,6-비스(2-메틸-2-모르폴리노-프로판노닐)-9-부틸카르바졸을 예시할 수 있다.
상기 벤조인에테르 화합물로서는, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인n-부틸에테르를 예시할 수 있다.
상기 아실포스핀옥사이드 화합물로서는, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 4-n-프로필페닐-디(2,6-디클로로벤조일)포스핀옥사이드를 예시할 수 있다.
상기 아미노카르보닐 화합물로서는, 메틸-4-(디메톡시아미노)벤조에이트, 에틸-4-(디메틸아미노)벤조에이트, 2-n-부톡시에틸-4-(디메틸아미노)벤조에이트, 이소아밀-4-(디메틸아미노)벤조에이트, 2-(디메틸아미노)에틸벤조에이트, 4,4'-비스-4-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-비스-4-디에틸아미노벤조페논, 2,5'-비스(4-디에틸아미노벤잘)시클로 펜타논을 예시할 수 있다.
광중합 개시제의 시판품으로서는, IGM-Resins B. V.사 제조의 Omnirad 184, 651, 500, 907, 127, 369, 784, 2959, IGM-Resins B. V.사 제조 루실린 TPO, DKSH 재팬사 제조 에사큐어원 등을 들 수 있다.
특히, 활성 에너지선 경화 후의 내(耐)황변의 관점에서, Omnirad 184나 에사큐어원이 바람직하다.
광중합 개시제는, 상기 화합물에 한정되지 않고, 중합을 개시시키는 능력이 있으면, 어떠한 것이어도 상관없다. 광중합 개시제는, 1종류로 사용되는 것 외에, 2종류 이상을 혼합하여 사용해도 된다.
광중합 개시제의 사용량에 관해서는, 특별히 제한은 없지만, 경화성 화합물(Q) 100질량%에 대하여, 1∼20질량%의 범위 내에서 사용하는 것이 바람직하다.
증감제로서는, 칼콘 유도체, 디벤잘아세톤 등으로 대표되는 불포화 케톤류, 벤질이나 캄파퀴논 등으로 대표되는 1,2-디케톤 유도체, 벤조인 유도체, 플루오렌 유도체, 나프토퀴논 유도체, 안트라퀴논 유도체, 크산텐 유도체, 티옥산텐 유도체, 크산톤 유도체, 티옥산톤 유도체, 쿠마린 유도체, 케토쿠마린 유도체, 시아닌 유도체, 멜로시아닌 유도체, 옥소놀 유도체 등의 폴리메틴 색소, 아크리딘 유도체, 아진 유도체, 티아진 유도체, 옥사진 유도체, 인돌린 유도체, 아즐렌 유도체, 아즐레늄 유도체, 스쿠아릴륨 유도체, 포르피린 유도체, 테트라페닐포르피린 유도체, 트리아릴메탄 유도체, 테트라벤조포르피린 유도체, 테트라피라지노포르피라진 유도체, 프탈로시아닌 유도체, 테트라아자포르피라진 유도체, 테트라퀴녹살릴로포르피라진 유도체, 나프탈로시아닌 유도체, 서브프탈로시아닌 유도체, 피릴륨 유도체, 티오피릴륨 유도체, 테트라피린 유도체, 아누렌 유도체, 스피로피란 유도체, 스피로옥사진 유도체, 티오스피로피란 유도체, 금속 아렌 착체, 유기 루테늄 착체, 또는 미힐라케톤 유도체, α-아실옥시에스테르, 아실포스핀옥사이드, 메틸페닐글리옥실레이트, 벤질, 9,10-페난스렌퀴논, 캄파퀴논, 에틸안스라퀴논, 4,4'-디에틸이소프탈로페논, 3,3' 또는 4,4'- 테트라(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 4,4'-디에틸아미노벤조페논 등을 들 수 있다. 증감제는, 1종 단독 또는 2종 이상을 병용하여 사용된다.
<기타 성분>
본 실시형태의 경화성 조성물(S)은, 필요에 따라 용제를 함유할 수 있다. 용제를 첨가하는 경우는, 용제를 휘발시킨 후에 활성 에너지선에 의한 경화 처리를 행하는 것이 바람직하다.
용제로서는 특별히 제한되는 것은 아니며, 다양한 공지의 유기 용제를 사용할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들면, 시클로헥사논, 메틸이소부틸케톤, 메틸에틸케톤, 아세톤, 아세틸아세톤, 톨루엔, 크실렌, n-부탄올, 이소부탄올, tert-부탄올, n-프로판올, 이소프로판올, 에탄올, 메탄올, 3-메톡시-1-부탄올, 3-메톡시-2-부탄올, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노n-부틸에테르, 2-에톡시에탄올, 1-메톡시-2-프로판올, 디아세톤알코올, 락트산에틸, 락트산부틸, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 2-에톡시에틸아세테이트, 부틸아세테이트, 이소아밀아세테이트, 아디프산디메틸, 숙신산디메틸, 글루타르산디메틸, 테트라히드로푸란, 메틸피롤리돈 등을 들 수 있다. 이들 유기 용제는, 2종류 이상을 병용해도 지장이 없다.
또한, 본 발명의 목적이나 효과를 손상시키지 않는 범위에서 상기에 해당하지 않는 그 밖의 성분을 함유할 수 있다. 예를 들면, 계면활성제, 착색제, 안정화제, 수지, 표면처리제, 점도 조정제, 접착성 부여제, 산화 방지제, 노화 방지제, 가교 촉진제, 자외선 흡수제, 가소제, 방부제, 분산제, 소포제, 실란 커플링제, 무기 충전제 등을 들 수 있다.
[경화성 조성물(S)의 제조 방법]
경화성 조성물(S)의 제조 방법으로서는 공지된 방법으로 얻을 수 있고, 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 경화성 화합물(Q)과 입자(R)를 혼합 분산시키고, 필요에 따라서 용매, 광중합 개시제 및 다른 다양한 배합 성분을 첨가 및 조정하는 방법을 들 수 있다.
[적층체의 제조 방법]
본 실시형태의 적층체의 제조 방법에 대하여 설명한다. 본 실시형태의 적층체는, 광 투과성 기재층(A)의 적어도 편면(片面)에, 수지층(B)을 적층하여 이루어지는 것이다. 수지층(B)은, 활성 에너지선에 의해 경화성을 나타내는 경화성 화합물(Q)과, 입자(R)를 함유하는 경화성 조성물(S)을 경화시킨 층이다.
광 투과성 기재층(A) 상에 경화성 조성물(S)을 도공하는 방법으로서는, 공지의 방법을 사용할 수 있다. 예를 들면, 로트, 와이어 바를 이용하는 방법, 마이크로 그라비아, 그라비아, 다이, 커튼, 립, 슬롯 또는 스핀 등의 각종 코팅 방법을 사용할 수 있다.
경화성 조성물(S)의 도막을 형성한 후, 자연 또는 강제 건조시킨다. 이어서, 활성 에너지선을 조사하여 경화시켜 수지층(B)을 얻는다. 자외선, 파장 400~500nm의 가시광선의 광원으로서, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 메탈 할라이드 램프, 갈륨 램프, 크세논 램프, 카본 아크 램프 등을 사용할 수 있다. 전자선원에는 열전자방사총, 전해방사총 등을 사용할 수 있다. 조사하는 활성 에너지선량은 충분한 경화성이 얻어지면 좋고, 예를 들면 50~2000mJ/㎠ 정도로 할 수 있다.
[투명 전극 필름]
본 실시형태의 투명 전극 필름은, 본 적층체와 투명 도전층을 적어도 갖는다. 도 1에, 본 실시형태의 투명 전극 필름의 일례를 나타낸다. 동 도면에 나타내는 바와 같이, 투명 전극 필름(1)은, 적층체(2), 인덱스 매칭층(이하, IM층이라고도 함)(3), 투명 도전층(4)이 이 순서로 적층되어 있다. 적층체(2)는, 본 실시형태의 예에서는 수지층(B) 및 광 투과성 기재층(A)에 의해 구성되고, 광 투과성 기재층(A) 위에 IM층(3)이 적층되어 있다. 수지층(B)의 표층에 OCA 필름이 더 적층되어 있어도 된다. 또한, IM층(3)을 설치하지 않고, 적층체(2)의 광 투과성 기재층(A) 바로 위에 투명 도전층(4)을 적층해도 된다. 각 층은 각각 독립적으로 단층일 수도 있고 복층일 수도 있다.
IM층(3)은, 패턴 형성된 투명 도전층(4)의 형상을 시인하기 어렵게 하는 목적으로 적층되는, 굴절률이 높은 층이며, 예를 들면, 굴절률이 높은 금속 산화물 입자와 활성 에너지선 경화성 성분을 포함하는 조성물의 경화물층에 의해 형성할 수 있다. IM층(3)의 굴절률은 가능한 한 투명 도전층(4)의 굴절률에 가까운 것이 바람직하다. 굴절률이 높은 금속 산화물 입자 및 활성 에너지선 경화성 성분은 공지의 재료를 사용하여 얻을 수 있다. 예를 들면, 굴절률이 높은 금속 산화물 입자로서는, 산화티탄(nD=2.72), 산화지르코늄(nD=2.22), 산화알루미늄(nD=1.77) 등을 들 수 있다. 또한, 활성 에너지선 경화성 성분으로서는, 전술한 수지층(B)에 포함되는 경화성 화합물(Q)을 예시할 수 있다. IM층(3)의 두께는, 예를 들면 0.03㎛~30㎛ 정도이다. IM층으로서 저(低) 굴절률층과 고(高) 굴절률층을 적층해도 된다.
투명 도전층(4)은 도전성을 갖는 투명층이며, 산화 인듐 주석(ITO), 산화 주석, 산화 아연, 은 또는 구리 나노 와이어 등으로 형성할 수 있다. 투명 도전층(4)은, 예를 들면 진공 증착법 (물리적 증착법 또는 화학적 증착법), 스퍼터링법, 이온 플레이팅법 등에 의해 성막할 수 있다. 투명 도전층(4)을 IM층(3) 상에 설치한 후, 에칭 등의 방법에 의해 회로나 전극 패턴을 형성할 수 있다. 투명 도전층(4)의 두께는, 도전성 향상 및 IM층(3)과의 밀착성 향상의 점에서, 예를 들면, 1nm∼수십㎛로 할 수 있다.
IM층(3)과 투명 도전층(4) 사이에 앵커층(도시하지 않음)을 배치해도 좋다. 앵커층은, 예를 들면, 투명 도전층(4)의 경우와 마찬가지로 진공을 이용한 성막법에 의해 형성할 수 있다. 앵커층의 형성에 사용되는 금속 산화물로서는, 산화규소를 들 수 있고, 견고한 밀착성을 부여할 수 있기 때문에 바람직하다.
투명 전극 필름(1)의 적층체(2)의 수지층(B)의 주면(F) 위에, 또한, OCA 필름을 적층할 수 있다. 그리고, 이 OCA 필름을 통해서, 예를 들면 터치 패널의 모듈에 투명 전극 필름을 끼워 넣을 수 있다. 본 실시형태의 투명 전극 필름은, 예를 들면, 스마트폰, 태블릿, PC, 텔레비전, 카 내비게이션이나, 그 외 상업 시설 등의 안내판이나 교통권발매기 등의 전자 기기에 탑재하여 바람직하게 사용할 수 있다.
<<실시 예>>
본 발명을 한층 더 구체적으로 설명하겠는데, 이하의 실시 예는 본 발명의 권리 범위를 전혀 제한하지 않는다. 또한, 실시 예에 있어서의 「부」 및 「%」는, 「질량부」 및 「질량%」를 각각 나타낸다.
Mw는 중량 평균 분자량을 의미하고, TSKgel 컬럼(도소사 제조)을 사용하고, RI 검출기를 장비한 GPC(도소사 제조, HLC-8320GPC)로, 전개(展開) 용매에 DMF를 사용했을 때의 폴리스티렌 환산 분자량이다.
또한, 3급 아미노기 함유 경화성 화합물의 아민가는, ASTM D 2074의 방법에 준거하여, 측정한 전체 아민가(mgKOH/g)를 고형분 환산한 값이다. 또한, 본 명세서에 있어서, 불휘발분은, 샘플 1g을 180℃에서 20분 가열시킨 경우의 가열 후 샘플 질량/가열 전 샘플 질량으로부터 산출되는 값을 의미한다.
본 실시 예에서 사용한 경화성 조성물(S)의 각 성분의 약호는 이하와 같다.
[경화성 화합물(Q)]
·q-1(PET-30): 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 닛폰카야쿠사 제조.
·q-2(KAYARAD DPHA): 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트, 닛폰카야쿠사 제조.
·q-3 (Miramer PU610): 우레탄 아크릴레이트, MIWON사 제조.
·q-4(4HBA): 4-히드록시부틸아크릴레이트, 미츠비시케미컬사 제조.
·q-5(아크리트 8WX-030): 양이온 폴리머, 타이세이파인케미컬사 제조, 4급 암모늄염기 함유.
·q-6(아미노이온 RE3000MF): 양이온 폴리머, 닛폰뉴카자이사 제조, 4급 암모늄염기 함유.
·q-7: 3급 아미노기 함유 경화성 비닐계 수지.
또한, 상기 q-1 및 q-4가, 수산기 함유 경화성 화합물(QO)에 해당한다.
[입자(R)]
·r-1(MSD-57): 사카이카가쿠사 제조, D50:200nm, 3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란으로 표면 처리. 실리카 입자.
·r-2(MEK-ST-2040):닛산카가쿠사 제조, D50:100nm, 실란 커플링제에 의해 표면 처리. 실리카 입자.
·r-3(아에로질200 분산체): 일본 아에로질(AEROSIL)사 제조, D50:42.2nm, 표면 처리 없음. 실리카 입자.
·r-4(아에록사이드 AluC 분산체): D50:62nm, 알루미나.
·r-5(테크폴리머 NH): 세키스이카세이힌코교사 제조, D50:80nm, 수지 비즈(겔 분율: 80질량% 이상).
[친수화제(T)]
·t-1: 3급 아미노기 함유 친수화제, 3급 아미노기 함유.
·t-2: 3급 아미노기 함유 친수화제, 3급 아미노기 함유.
·t-3: 3급 아미노기 함유 친수화제, 3급 아미노기 함유.
·t-4(FC-4400):이온 액체, 쓰리엠사 제조, 4급 암모늄염기 함유.
<3급 아미노기 함유 경화성 화합물(q-7)의 제조 예>
가스 도입관, 콘덴서, 교반 날개, 및 온도계를 구비한 반응조에, 초산에틸 50.6부 및 N,N-디에틸아미노에틸메타크릴레이트 180질량부, 및 2-히드록시에틸메타크릴레이트 20질량부를 투입하여 질소 치환하면서 50℃로 승온한 후, 1-티오글리세롤 2.3부를 첨가하고, 70℃로 승온하였다. 적하조(滴下槽)에 초산에틸 16.8질량부 및 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴)를 0.6질량부 투입하고, 균일해질 때까지 교반한 후, 반응조로 7시간에 걸쳐 적하하고, 그 후, 동 온도에서 1시간 반응을 계속하고, 고형분 측정에 의해 95% 이상 반응한 것을 확인했다. 이어서, 플라스크 내를 공기 치환하고, 2-아크릴로일옥시에틸이소시아네이트(AOI) 32.8질량부, 히드로퀴논 0.1질량부를 투입하고, 70℃에서 4시간 반응을 행했다. FT-IR로 이소시아네이트기에 기초한 2270cm-1의 피크의 소실을 확인 후, 반응 용액을 냉각하여, 3급 아미노기 및 아크릴로일기를 갖는 비닐계 수지의 용액을 얻었다. 실온까지 냉각한 후, 수지 용액 약 2g을 샘플링하여 180℃, 20분 가열 건조하여 불휘발분을 측정하고, 먼저 합성한 수지 용액에 불휘발분이 45중량%가 되도록 초산에틸을 첨가하여, 고형분당 아민가가 234mgKOH/g, 수평균 분자량 22,000의 3급 아미노기를 갖는 비닐계 수지인 경화성 화합물(q-7) 용액을 얻었다.
<아에로질 200 분산체(r-3)의 제조 예>
실리카 입자(일본 아에로질사 제조 「아에로질 200」) 15.0부와 분산제(「DYSPERBYK142」) 1.5부, 메틸에틸케톤/메톡시부탄올=1/1 혼합 용제 83.5부를 혼합하고, 전(前)분산(지르코니아 비즈(0.5mm)를 미디어로서 사용하고, 페인트 셰이커로 1시간 분산)와, 본(本)분산(지르코니아 비즈(0.1mm)을 미디어로서 사용, 코토부키코교사 제조 분산기 UAM-015로 분산)의 2단계로 행하여, 아에로질 200 분산체를 얻었다.
<아에록사이드 AluC 분산체)(r-4)의 제조 예>
알루미나(일본 아에로질사 제조 「아에록사이드 AluC」) 15.0부와, 분산제(「DYSPERBYK142」) 1.5부와, 메틸에틸케톤/메톡시부탄올=1/1 혼합 용제 83.5부를 혼합하고, 전(前)분산(지르코니아 비즈(0.5mm)을 미디어로서 사용, 페인트 셰이커로 1시간 분산), 및 본(本)분산(지르코니아 비즈(0.1mm)을 미디어로서 사용, 코토부키코교사 제조 분산기 UAM-015로 분산)의 2단계로 분산하여, 아에록사이드 AluC 분산체를 얻었다.
<3급 아미노기 함유 친수화제(t-1)의 제조 예>
가스 도입관, 콘덴서, 교반 날개, 및 온도계를 구비한 반응조에, 이소프로필 알코올 50.6부 및 N,N-디메틸아미노에틸메타크릴레이트 200부를 넣고, 질소 치환하면서 50℃로 승온한 후, 1-티오글리세롤 2.3부를 첨가하고, 70℃로 승온하였다. 적하조에 이소프로필알코올 16.8부 및 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴)를 0.6부 투입하고, 균일해질 때까지 교반한 후, 반응조로 7시간에 걸쳐 적하하고, 그 후, 동온도에서 1시간 반응을 계속하여, 3급 아미노기를 갖는 비닐계 수지의 용액을 얻었다. 실온까지 냉각한 후, 수지 용액 약 2g을 샘플링하여 180℃, 20분 가열 건조하여 불휘발분을 측정하였다. 먼저 합성한 수지 용액에 불휘발분이 45%가 되도록 이소프로필알코올을 첨가하여, 고형분당의 아민가가 357mgKOH/g, 수평균 분자량 21,000의 3급 아미노기를 갖는 비닐계 수지인 친수화제(t-1) 용액을 얻었다.
<3급 아미노기 함유 친수화제(t-2)의 제조 예>
가스 도입관, 콘덴서, 교반 날개, 및 온도계를 구비한 반응조에, 이소프로필 알코올 50.6부 및 N,N-디에틸아미노에틸 메타크릴레이트 200부를 투입하고, 질소 치환하면서 50℃로 승온한 후, 1-티오글리세롤 2.3부를 첨가하고, 70℃로 승온하였다. 적하조에 이소프로필알코올 16.8부 및 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴)를 0.6부 투입하고, 균일해질 때까지 교반한 후, 반응조로 7시간에 걸쳐 적하하고, 그 후, 동 온도에서 1시간 반응을 계속하여, 3급 아미노기를 갖는 비닐계 수지의 용액을 얻었다. 실온까지 냉각한 후, 수지 용액 약 2g을 샘플링하여 180℃, 20분 가열 건조하여 불휘발분을 측정하고, 먼저 합성한 수지 용액에 불휘발분이 45%가 되도록 이소프로필알코올을 첨가하여, 고형분당 아민가가 301mgKOH/g, 수평균 분자량 20,000의 3급 아미노기를 갖는 비닐계 수지인 친수화제(t-2) 용액을 얻었다.
<3급 아미노기 함유 친수화제(t-3)의 제조 예>
가스 도입관, 콘덴서, 교반 날개, 및 온도계를 구비한 반응조에, 이소프로필알코올 50.6부 및 N,N-디에틸아미노에틸메타크릴레이트 100부, 및 메틸메타크릴레이트 100부를 넣고, 질소 치환하면서 50℃로 승온한 후, 1-티오글리세롤 2.3부를 첨가하고, 70℃로 승온하였다. 적하조에 이소프로필알코올 16.8부 및 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴)를 0.6부 투입하고, 균일해질 때까지 교반한 후, 반응조로 7시간에 걸쳐 적하하고, 그 후, 동 온도에서 1시간 반응을 계속하여, 3급 아미노기를 갖는 비닐계 수지의 용액을 얻었다. 실온까지 냉각한 후, 수지 용액 약 2g을 샘플링하여 180℃, 20분 가열 건조하여 불휘발분을 측정하고, 먼저 합성한 수지 용액에 불휘발분이 45%가 되도록 이소프로필알코올을 첨가하여, 고형분당 아민가가 151mgKOH/g, 수평균 분자량 21,000의 3급 아미노기를 갖는 비닐계 수지인 친수화제(t-3) 용액을 얻었다.
<경화성 조성물(S)의 제조 예>
(실시 예 1)
펜타에리트리톨 트리아크릴레이트(닛폰카야쿠사 제조「KAYARAD PET30」, 일부 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트를 함유.) 94.5부, 아크리트 8WX-030(타이세이파인케미컬사 제조) 5.5부, Omnirad 184(IGM-Resins B.V.사 제조) 5.0부, 메틸프로필렌글리콜 50부를 균일하게 혼합하였다. 이어서, 이것에 MSD-57을 실리카 입자의 함유율이 불휘발 성분 중 5질량%가 되도록 첨가하고, 뷸휘발 성분이 50질량%가 되도록 메틸프로필렌글리콜을 더하여 균일하게 혼합함으로써, 경화성 조성물(S)를 얻었다.
(실시 예 2~25, 비교 예 1~7)
표 1~3에 나타내는 배합량으로 변경한 것 이외에는, 실시 예 1과 마찬가지의 방법에 의해 각 실시 예 및 비교 예에 관련한 경화성 조성물(S)을 얻었다.
[표 1]
[표 2]
[표 3]
(실시 예 26)
펜타에리트리톨 트리아크릴레이트(닛폰카야쿠사 제조「KAYARAD PET30」, 일부 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트를 함유) 94.5부, 아크리트 8WX-030(타이세이파인케미컬사 제조) 5.5부, Omnirad 184(IGM-Resins B.V.사 제조) 5.0부, 메틸프로필렌글리콜 50부를 균일하게 혼합하였다. 이어서, 거기에 아에록사이드 AluC 분산체를, 알루미나의 함유율이 불휘발 성분 중 5.5질량%가 되도록 첨가하고, 불휘발 성분이 50질량%가 되도록 메틸프로필렌글리콜을 첨가하여 균일하게 혼합함으로써, 경화성 조성물(S)을 얻었다.
(실시 예 27~50, 비교 예 8~13)
표 4~6에 나타내는 배합량으로 변경한 것 이외에는, 실시 예 1과 마찬가지의 방법에 의해 각 실시 예 및 비교 예에 관한 경화성 조성물(S)을 얻었다.
[표 4]
[표 5]
[표 6]
<적층체의 제조 예>
(실시 예 1)
광 투과성 기재층(A)으로서 50㎛ 두께의 이(易) 접착 처리 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(도레이사 제조 「루미러 U403」)을 사용하였다. 이 광 투과성 기재 층(A) 상에 바 코터를 사용하여 실시 예·비교 예에서 얻어진 경화성 조성물(S)을 도공하고, 100℃의 열풍 오븐을 사용하여 1분간 건조시켜 유기 용제를 제거하였다. 그 후, 고압 수은 램프를 사용하여 400mJ/㎠의 자외선을 조사하고, 1㎛의 수지층(B)을 형성하여, 실시 예 1에 따른 적층체를 얻었다.
(실시 예 2~50, 비교 예 1~13)
실시 예 1과 마찬가지의 방법에 의해, 실시 예 2~50, 비교 예 1~13에 관련한 적층체를 얻었다.
각 실시 예 및 비교 예에 대하여, 다양한 평가를 행한 결과를 표 7, 8에 나타낸다.
<내열 보호 필름의 제조 예>
토요켐사 제조「사이아바인 SH101」과 「사이아바인 T-501B」를 고형분으로 100/20의 배합비로 혼합하여 얻어진 점착제를, 바코터를 사용하여 100㎛ 두께의 이접착 처리 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(도레이사 제조 「루미러 U403」) 상에 도공했다. 그리고, 100℃의 열풍 오븐을 사용하여 2분간 건조시켜, 유기 용제를 제거하고, 점착층 5㎛를 구비하는 내열 보호 PET 필름을 얻었다.
<OCA 필름의 제조 예>
토요켐사 제조「올리바인 BPS5896」과 「올리바인 BXX5627」을 고형분으로 100/0.5의 배합비로 혼합하여 얻어진 점착제를 바 코터를 사용하여 100㎛ 두께의 이접착 처리 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(도레이사 제조「루미러 U403」) 상에 도공했다. 그리고, 100℃의 열풍 오븐을 이용하여 2분간 건조시켜 유기 용제를 제거하여, 점착층 5㎛를 구비하는 OCA 필름을 얻었다.
<초기 젖음 장력의 측정>
각 실시 예 및 비교 예의 적층체의 어닐링 전의 수지층(B)의 주면(F)(도 1 참조)의 초기 젖음 장력은 이하의 순서에 의해 측정했다. 즉, 23℃, 상대 습도 50%의 환경 하에 있어서 Arcotest사 제조의 젖음성 체크용 다인펜(표면 에너지값 평가용 테스트 펜)을 사용하여, 수지층(B)의 주면(F)의 젖음 장력을 구하였다. 구체적으로는, 각 실시예 및 비교예의 적층체(시험편)를 유리판 위에 놓고, 상기 다인펜을 사용하여 시험편의 수지층(B)의 주면(F) 위에 1cm×5cm 정도의 다인펜의 액막을 형성시켰다. 판정은 다인펜의 액막을 밝은 곳에서 관찰하고, 5초 후의 액막의 상태에서 행하였다. 액막의 단변이 95% 이상 유지되어 있는 것은 젖어 있다고 판정하였다. 젖음이 95% 이상 유지하는 경우는, 다음으로 표면 장력이 높은 다인펜으로 진행하고, 반대로 95% 이상 유지되어 있지 않은 경우에는, 다음의 표면 장력이 낮은 혼합액으로 진행함으로써 평가하였다. 또한, 젖음 장력의 다른 측정 방법으로서 JIS K6768이 알려져 있다. 이 측정 방법에 의하면, 다인펜/잉크를 도포 후 2초 이하에서 액막이 찢어지는 경우에 NG라고 판단하고 있고, 본 시험법 쪽이 보다 정확한 평가 방법이 된다. JIS K6768와 비교해서, 본 시험법에 의해 구한 젖음 장력 쪽이 작은 값이 되는 경향이 있다.
<어닐링 후의 젖음 장력의 측정>
각 실시 예 및 비교 예의 적층체의 수지층(B)과 제조 예로 얻어진 내열 보호 PET 필름을 23℃, 상대 습도 50%의 환경 하에 30분간 정치시킨 후, 수지층(B)의 주면(F)과 내열 보호 PET 필름의 점착층을 붙여 맞추고, 2kg 롤러를 사용하여 첩부하였다. 이어서, 150℃에서 3시간 어닐링 처리를 행한 후, 상기 내열 보호 PET 필름을 박리하고, 노출된 수지층(B)의 주면(F)의 젖음 장력을, 초기 젖음 장력과 동일한 방법에 의해 측정했다.
<헤이즈 값의 측정>
50㎛ 두께의 폴리에틸렌테레프탈레이트(루미러 U403, 도레이사 제조, 헤이즈값 1.1%, 전(全)광선 투과율 91%) 상에, 바코터를 사용하여, 표 1에 나타내는 경화성 조성물(S)을 도공하고 100℃에서 1분간 건조시켰다. 활성 에너지선 및 조사량은, 경화성 조성물(S)의 종류에 따라 적절히 변경할 필요가 있지만, 본 실시 예 및 비교 예에 있어서는, 광원으로서 고압 수은 램프를 사용하여 UVA 자외선 영역에 있어서의 광량 400mJ/㎠의 자외선을 조사하여 두께가 1㎛의 경화막으로 이루어지는 수지층(B)을 갖는 측정 시료를 얻었다. 그리고, 각 실시 예 및 비교 예에 관한 측정 시료(50㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트/수지층(B))를, 23℃, 50%RH의 환경하에 있어서, 헤이즈 미터(닛폰덴쇼쿠코교사 제조, 상품명「SH7000」)를 이용하여 JIS K 7136에 준하여 헤이즈값을 구하였다. 측정은, 수지층(B) 측으로부터 행하였다.
<안티블로킹성의 평가>
측정 시료는 이하와 같이 제작했다. 즉, 상기에서 얻어진 어닐링 처리 전의 적층체와 수지층의 적층되어 있지 않은 광 투과성 기재층(A)을 4cm×4cm의 사이즈로 잘라낸 시험편을 준비하여, 적층체의 수지층(B)의 표면과 광 투과성 기재층(A)이 접하도록 겹치고, 영구변형(歪)시험기(상품명「CO-201 영구변형시험기(정하중식)」, 니혼테스터산교사 제조)의 시험대에 올려, 하중 200kg을 걸어서 50℃로 가온한 오븐 내에서 24시간 정치시켰다. 그 후, 하중을 제거한 직후에, 시험편끼리 중첩된 면이 붙어 버린(워터 마크(물이 들어간 것 같은 외관)가 형성된다) 면적의 비율을 하기의 기준에 따라서 안티 블로킹성(이하,「AB성」이라고 약기함)으로서 평가하였다.
A: 붙은 면적이 10% 이하.
B: 붙은 면적이 10% 초과 30% 이하.
C: 붙은 면적이 30%를 초과한다.
<내찰상성의 평가>
상기에서 얻어진 적층체의 수지층이 시험면이 되도록 학진(學振)시험기에 세트하고, 수지층의 표면을, 스틸 울의 No. 0000로, 하중 200g의 조건으로 10회 왕복 문지른다. 시험 후의 IM층 표면의 상처의 개수를 확인하고, 이하의 평가 기준으로 평가하였다.
A: 0~10개.
B: 11~20개.
C: 21개 이상.
<OCA 밀착성의 평가>
측정 시료는 이하와 같이 제작했다. 즉, 어닐링 실시 전(초기) 및 어닐링을 실시한 각 실시 예 및 비교 예의 적층체와 제조예에서 얻어진 OCA 필름을 23℃, 상대 습도 50%의 환경하에 30분간 정치시켰다. 이어서, 수지층(B)의 주면(F)과 OCA 필름의 점착층을 맞춰 붙이고, 2kg 롤러를 사용하여 첩부하였다. 그 후, 인장 시험기에서 300mm/min의 속도로 180°필(peel) 시험을 행하여 박리 강도를 측정하였다. 얻어진 박리 강도의 값으로부터, 하기의 기준에 따라 밀착성을 평가했다.
A: 박리 강도가 25N 이상.
B: 박리 강도가 10N 이상 25N 미만.
C: 박리 강도가 10N 미만.
[표 7]
[표 8]
초기 젖음 장력이 38mN/m 미만이고, 또한 어닐링 처리 후의 표면 장력이 30mN/m 미만인 적층체는, 예를 들면, 비교 예 1에 나타내는 바와 같이, OCA 밀착성 불량이 인정되었다. 또한, 초기 젖음 장력이 60mN/m 초과이고, 또한 어닐링 처리 후의 표면 장력이 54mN/m 초과인 적층체는, 비교 예 3에 나타내는 바와 같이, 내찰상성 및 안티블로킹성 불량이 인정되었다. 또한, 비교 예 4에 나타내는 바와 같이, 입자(R)의 함유량이 많으면 안티블로킹성 개선이 인정되는 한편, 헤이즈 값이 악화되는 것을 알 수 있다. 한편, 본 실시 예에 의하면, 광학 특성 및 내찰상성이 우수하고, 그리고 또한, 롤·투·롤법으로 제조한 경우에도 수율이 높고, 어닐링 처리의 유무에 관계없이 OCA 밀착성이 우수한 결과가 얻어지는 것을 확인하였다.
본 발명의 적층체는, OCA 필름으로의 밀착성이 우수하고, 우수한 안티블로킹성, 내찰상성 및 투명성이 우수한 적층체를 제공할 수 있으므로, 광학용 필름으로서 적합하다. 예를 들면, 적층체에 투명 도전층을 적층하여 이루어지는 투명 전극 필름은, 스마트폰, 태블릿, PC, TV, 카 내비게이션이나, 그 외 상업 시설 등의 안내판이나 교통권 발매기 등에 탑재되는 터치 패널용 부재로서 적합하다. 또한, 본 발명의 적층체의 수지층(B)은 표면 경도가 우수하기 때문에, 액정 디스플레이(LCD), 유기 EL 디스플레이(OLED), 플라즈마 디스플레이(PDP) 등의 플랫 패널 디스플레이(FPD) 표면의 흠집 방지용 필름으로서도 적합하다.
이 출원은, 2021년 3월 18일에 출원된 일본특허출원 제2021-44727호, 2021년 4월 14일에 출원된 일본특허출원 제2021-68628호 및 2021년 12월 10일에 출원된 일본특허출원 제2021-201209를 기초로 하는 우선권을 주장하고, 그 개시의 모두를 여기에 도입한다.
Claims (6)
- 광 투과성 기재층(A)의 적어도 한쪽 면에, 수지층(B)이 직접 또는 하나 이상의 다른 층을 통해서 적층된 적층 구성을 갖고,
수지층(B)은, 입자(R)와, 활성 에너지선에 의해 경화성을 나타내는 경화성 화합물(Q)(단, 입자(R)을 제외한다)을 함유하는 경화성 조성물(S)을 경화시킨 층이며,
입자(R)가, 무기 입자, 및 메틸에틸케톤에 대한 겔 분율이 80질량% 이상인 수지 비즈로부터 선택되는 적어도 1종이며,
1㎛ 두께의 수지층(B)과 50㎛ 두께의 폴리에틸렌테레프탈레이트의 적층 구성에 있어서, 수지층(B)의 표층측에서 측정한 경우에, 헤이즈 값이 2.0%이하이며,
광 투과성 기재층(A)측과는 반대의 수지층(B)의 주면(主面)(F)은, 어닐링 처리가 행해지기 전의 초기 젖음 장력이 38~60mN/m이며,
또한 수지층(B)의 주면(F)에 내열 보호 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 붙이고(貼付), 150℃에서 3시간 어닐링 처리를 행하며, 상기 내열 보호 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 박리한 후의 수지층(B)의 주면(F)의 젖음 장력이 30~54mN/m이며,
경화성 조성물(S)은,
(i)경화성 화합물(Q)로서, 3급 아미노기 및 4급 암모늄염기 중 적어도 한쪽을 갖는 경화성 화합물(QN)을 함유하고, 및
(ii)활성 에너지선에 의한 경화성을 나타내지 않는, 친수화제(T)(단, 입자(R)를 제외한다)를 함유하고, 친수화제(T)는, 3급 아미노기 및 4급 암모늄염기 중 적어도 한쪽을 갖는 친수화제(TN)를 함유하는,
것 중 적어도 어느 하나를 만족하는 적층체.
- 제1항에 있어서,
3급 아미노기 및 4급 암모늄염기 중 적어도 한쪽을 갖는 경화성 화합물(QN)은 (메타)아크릴로일기를 갖는 적층체.
- 제1항 또는 제2항에 있어서,
3급 아미노기 및 4급 암모늄염기 중 적어도 한쪽을 갖는 경화성 화합물(QN), 및 3급 아미노기 및 4급 암모늄염기 중 적어도 한쪽을 갖는 친수화제(TN)의 합계 함유율이, 경화성 조성물(S)의 불휘발성분 100질량%에 대하여 3~40질량%인 적층체.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
입자(R)의 함유율이, 경화성 조성물(S)의 불휘발성분 100질량%에 대하여 0.01~40질량%인 적층체.
- 투명 도전층과, 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 적층체를 구비하고,
적어도 상기 투명 도전층, 상기 적층체를 구성하는 광 투과성 기재층(A), 및 상기 적층체를 구성하는 수지층(B)이, 직접 또는 하나 이상의 층을 통해서 이 순서로 적층되어 있는 투명 전극 필름.
- 제5항에 있어서, 수지층(B)의 광 투과성 기재층(A)측과는 반대의 주면에, 또한, 광학 투명 점착제 필름이 적층되어 있는 투명 전극 필름.
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021044727 | 2021-03-18 | ||
JPJP-P-2021-044727 | 2021-03-18 | ||
JPJP-P-2021-068628 | 2021-04-14 | ||
JP2021068628A JP6981565B1 (ja) | 2021-03-18 | 2021-04-14 | 積層体および透明電極フィルム |
JPJP-P-2021-201209 | 2021-12-10 | ||
JP2021201209A JP7078169B1 (ja) | 2021-12-10 | 2021-12-10 | 透明電極フィルム |
PCT/JP2022/012252 WO2022196760A1 (ja) | 2021-03-18 | 2022-03-17 | 積層体および透明電極フィルム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20230152713A true KR20230152713A (ko) | 2023-11-03 |
Family
ID=83321101
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020237032610A KR20230152713A (ko) | 2021-03-18 | 2022-03-17 | 투명 전극 필름 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20230152713A (ko) |
WO (1) | WO2022196760A1 (ko) |
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2022
- 2022-03-17 WO PCT/JP2022/012252 patent/WO2022196760A1/ja active Application Filing
- 2022-03-17 KR KR1020237032610A patent/KR20230152713A/ko active Search and Examination
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2022196760A1 (ja) | 2022-09-22 |
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