KR20230152694A - 불화수소 가스 제거 장치 및 불화수소 가스의 제거 방법 - Google Patents
불화수소 가스 제거 장치 및 불화수소 가스의 제거 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20230152694A KR20230152694A KR1020237029910A KR20237029910A KR20230152694A KR 20230152694 A KR20230152694 A KR 20230152694A KR 1020237029910 A KR1020237029910 A KR 1020237029910A KR 20237029910 A KR20237029910 A KR 20237029910A KR 20230152694 A KR20230152694 A KR 20230152694A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- hydrogen fluoride
- remover
- gas
- fluoride gas
- removal
- Prior art date
Links
- 239000007789 gas Substances 0.000 title claims abstract description 618
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 448
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 447
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 102
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 claims abstract description 146
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 claims abstract description 146
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 132
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 29
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 18
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 claims description 15
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 15
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 claims description 14
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 claims description 14
- XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M caesium fluoride Chemical compound [F-].[Cs+] XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 12
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 11
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 claims description 9
- AHLATJUETSFVIM-UHFFFAOYSA-M rubidium fluoride Chemical compound [F-].[Rb+] AHLATJUETSFVIM-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- OMRRUNXAWXNVFW-UHFFFAOYSA-N fluoridochlorine Chemical compound ClF OMRRUNXAWXNVFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 claims description 7
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 7
- JOHWNGGYGAVMGU-UHFFFAOYSA-N trifluorochlorine Chemical compound FCl(F)F JOHWNGGYGAVMGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- SANRKQGLYCLAFE-UHFFFAOYSA-H uranium hexafluoride Chemical compound F[U](F)(F)(F)(F)F SANRKQGLYCLAFE-UHFFFAOYSA-H 0.000 claims description 7
- TVVNZBSLUREFJN-UHFFFAOYSA-N 2-(4-chlorophenyl)sulfanyl-5-nitrobenzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1SC1=CC=C(Cl)C=C1 TVVNZBSLUREFJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- CEBDXRXVGUQZJK-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-benzofuran-7-carboxylic acid Chemical compound C1=CC(C(O)=O)=C2OC(C)=CC2=C1 CEBDXRXVGUQZJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KNSWNNXPAWSACI-UHFFFAOYSA-N chlorine pentafluoride Chemical compound FCl(F)(F)(F)F KNSWNNXPAWSACI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 6
- HLEOJHXJJVUGLR-UHFFFAOYSA-N heptafluoro-$l^{7}-bromane Chemical compound FBr(F)(F)(F)(F)(F)F HLEOJHXJJVUGLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VJUJMLSNVYZCDT-UHFFFAOYSA-N iodine trifluoride Chemical compound FI(F)F VJUJMLSNVYZCDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QKCGXXHCELUCKW-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(dinaphthalen-2-ylamino)phenyl]phenyl]-n-naphthalen-2-ylnaphthalen-2-amine Chemical compound C1=CC=CC2=CC(N(C=3C=CC(=CC=3)C=3C=CC(=CC=3)N(C=3C=C4C=CC=CC4=CC=3)C=3C=C4C=CC=CC4=CC=3)C3=CC4=CC=CC=C4C=C3)=CC=C21 QKCGXXHCELUCKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QHMQWEPBXSHHLH-UHFFFAOYSA-N sulfur tetrafluoride Chemical compound FS(F)(F)F QHMQWEPBXSHHLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- FQFKTKUFHWNTBN-UHFFFAOYSA-N trifluoro-$l^{3}-bromane Chemical compound FBr(F)F FQFKTKUFHWNTBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- NXHILIPIEUBEPD-UHFFFAOYSA-H tungsten hexafluoride Chemical compound F[W](F)(F)(F)(F)F NXHILIPIEUBEPD-UHFFFAOYSA-H 0.000 claims description 6
- MZFRHHGRNOIMLW-UHFFFAOYSA-J uranium(4+);tetrafluoride Chemical compound F[U](F)(F)F MZFRHHGRNOIMLW-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 6
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- OYLGJCQECKOTOL-UHFFFAOYSA-L barium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ba+2] OYLGJCQECKOTOL-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- 229910001632 barium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 5
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- XRURPHMPXJDCOO-UHFFFAOYSA-N iodine heptafluoride Chemical compound FI(F)(F)(F)(F)(F)F XRURPHMPXJDCOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N uranium(0) Chemical compound [U] JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000032258 transport Effects 0.000 abstract description 9
- 238000007872 degassing Methods 0.000 abstract description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 20
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 11
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 5
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 5
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 5
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 3
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 150000002221 fluorine Chemical class 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910016036 BaF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- CVWURBHDTADKCH-UHFFFAOYSA-N F.F.F.F.F.F.F.I Chemical compound F.F.F.F.F.F.F.I CVWURBHDTADKCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000792 Monel Inorganic materials 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000010332 dry classification Methods 0.000 description 1
- -1 fluoride ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 229910000856 hastalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000004255 ion exchange chromatography Methods 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- 238000002627 tracheal intubation Methods 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/02—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by adsorption, e.g. preparative gas chromatography
- B01D53/06—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by adsorption, e.g. preparative gas chromatography with moving adsorbents, e.g. rotating beds
- B01D53/10—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by adsorption, e.g. preparative gas chromatography with moving adsorbents, e.g. rotating beds with dispersed adsorbents
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/02—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by adsorption, e.g. preparative gas chromatography
- B01D53/06—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by adsorption, e.g. preparative gas chromatography with moving adsorbents, e.g. rotating beds
- B01D53/08—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by adsorption, e.g. preparative gas chromatography with moving adsorbents, e.g. rotating beds according to the "moving bed" method
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/46—Removing components of defined structure
- B01D53/68—Halogens or halogen compounds
- B01D53/685—Halogens or halogen compounds by treating the gases with solids
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/02—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof comprising inorganic material
- B01J20/04—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof comprising inorganic material comprising compounds of alkali metals, alkaline earth metals or magnesium
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/02—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof comprising inorganic material
- B01J20/04—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof comprising inorganic material comprising compounds of alkali metals, alkaline earth metals or magnesium
- B01J20/046—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof comprising inorganic material comprising compounds of alkali metals, alkaline earth metals or magnesium containing halogens, e.g. halides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/30—Processes for preparing, regenerating, or reactivating
- B01J20/34—Regenerating or reactivating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B7/00—Halogens; Halogen acids
- C01B7/19—Fluorine; Hydrogen fluoride
- C01B7/191—Hydrogen fluoride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B7/00—Halogens; Halogen acids
- C01B7/19—Fluorine; Hydrogen fluoride
- C01B7/191—Hydrogen fluoride
- C01B7/195—Separation; Purification
- C01B7/197—Separation; Purification by adsorption
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2251/00—Reactants
- B01D2251/30—Alkali metal compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2251/00—Reactants
- B01D2251/40—Alkaline earth metal or magnesium compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2251/00—Reactants
- B01D2251/60—Inorganic bases or salts
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2253/00—Adsorbents used in seperation treatment of gases and vapours
- B01D2253/10—Inorganic adsorbents
- B01D2253/112—Metals or metal compounds not provided for in B01D2253/104 or B01D2253/106
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2253/00—Adsorbents used in seperation treatment of gases and vapours
- B01D2253/30—Physical properties of adsorbents
- B01D2253/302—Dimensions
- B01D2253/304—Linear dimensions, e.g. particle shape, diameter
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2256/00—Main component in the product gas stream after treatment
- B01D2256/26—Halogens or halogen compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2257/00—Components to be removed
- B01D2257/20—Halogens or halogen compounds
- B01D2257/204—Inorganic halogen compounds
- B01D2257/2047—Hydrofluoric acid
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2259/00—Type of treatment
- B01D2259/40—Further details for adsorption processes and devices
- B01D2259/40011—Methods relating to the process cycle in pressure or temperature swing adsorption
- B01D2259/40043—Purging
- B01D2259/4005—Nature of purge gas
- B01D2259/40052—Recycled product or process gas
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2259/00—Type of treatment
- B01D2259/40—Further details for adsorption processes and devices
- B01D2259/40083—Regeneration of adsorbents in processes other than pressure or temperature swing adsorption
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)
Abstract
불화수소 가스를 함유하는 혼합 가스로부터 불화수소 가스를 제거하는 제거 처리를 정지하지 않고 장기간에 걸쳐 연속해서 행할 수 있는 불화수소 가스 제거 장치를 제공한다. 불화수소 가스 제거 장치는, 불화수소 가스와 타종의 가스를 함유하는 혼합 가스로부터 불화수소 가스를 제거할 수 있다. 이 불화수소 가스 제거 장치는, 혼합 가스로부터 불화수소 가스를 제거하는 제거제에 혼합 가스를 접촉시킴으로써 혼합 가스로부터 불화수소 가스를 제거하는 처리를 행하는 불화수소 가스 제거 처리기(10)와, 제거제를 불화수소 가스 제거 처리기(10)에 공급하는 제거제 공급기(20)와, 제거제의 불화수소 가스 제거 성능을 향상시키는 재생 처리를 사용 완료의 제거제에 실시하는 제거제 재생 처리기(30)와, 재생 처리 완료의 제거제를 수송해 제거제 공급기(20)에 공급하는 재생 처리 완료 제거제 수송기(40)를 구비한다.
Description
본 발명은 불화수소 가스 제거 장치 및 불화수소 가스의 제거 방법에 관한 것이다.
반도체의 제조 시에 사용되는 불소 가스, 3불화염소나, 원자력 발전의 우라늄 연료의 제조에 사용되는 6불화우라늄은, 불순물로서 불화수소 가스를 함유하고 있는 경우가 있으므로, 제거제를 사용한 불화수소 가스의 제거가 행하여진다. 예를 들면 특허문헌 1, 2, 3에는, 불화수소 가스를 불화나트륨에 흡착시킴으로써, 불소 가스로부터 불화수소 가스를 제거하는 기술이 개시되어 있다. 불화나트륨은 불화수소를 흡착함에 따라서 불화수소 가스 제거 성능이 저하하므로, 재생 처리를 실시해서 불화나트륨의 불화수소 가스 제거 성능을 향상시킨다.
그렇지만, 특허문헌 1, 2, 3에 개시된 기술에 있어서는, 불화수소 가스 제거 장치로부터 불화나트륨을 발출해서 재생 처리를 실시하거나, 또는, 불화수소 가스의 제거 처리를 정지하고 불화수소 가스 제거 장치 내에서 불화나트륨에 재생 처리를 실시하는 것이 필요하게 되므로, 불화수소 가스의 제거 처리를 정지하지 않고 장기간에 걸쳐 연속해서 행할 수 없다는 문제가 있었다.
본 발명은, 불화수소 가스를 함유하는 혼합 가스로부터 불화수소 가스를 제거하는 제거 처리를 정지하지 않고 장기간에 걸쳐 연속해서 행할 수 있는 불화수소 가스 제거 장치 및 불화수소 가스의 제거 방법을 제공하는 것을 과제로 한다.
상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명의 일 형태는 이하의 [1]~[17]과 같다.
[1] 불화수소 가스와 타종의 가스를 함유하는 혼합 가스로부터 상기 불화수소 가스를 제거하는 불화수소 가스 제거 장치로서,
상기 혼합 가스로부터 상기 불화수소 가스를 제거하는 제거제를 수용 가능하게 되어 있음과 아울러, 상기 혼합 가스가 도입되는 가스 도입구와, 상기 불화수소 가스를 제거하는 처리가 실시된 상기 혼합 가스가 배출되는 가스 배출구를 갖고, 상기 제거제에 상기 혼합 가스를 접촉시킴으로써 상기 혼합 가스로부터 상기 불화수소 가스를 제거하는 처리를 행하는 불화수소 가스 제거 처리기와,
상기 제거제를 상기 불화수소 가스 제거 처리기에 공급하는 제거제 공급기와,
상기 불화수소 가스 제거 처리기에 있어서 상기 혼합 가스로부터 상기 불화수소 가스를 제거하는 처리에 사용된 사용 완료의 상기 제거제를 수용 가능하게 되어 있고, 상기 제거제의 불화수소 가스 제거 성능을 향상시키는 재생 처리를 사용 완료의 상기 제거제에 실시하는 제거제 재생 처리기와,
상기 제거제 재생 처리기에 있어서 불화수소 가스 제거 성능을 향상시킨 재생 처리 완료의 상기 제거제를 수송하여, 상기 제거제 공급기에 공급하는 재생 처리 완료 제거제 수송기를 구비하는 불화수소 가스 제거 장치.
[2] 상기 제거제가 상기 불화수소 가스를 흡착하는 흡착제인 [1]에 기재된 불화수소 가스 제거 장치.
[3] 상기 흡착제가 불화리튬, 불화나트륨, 불화칼륨, 불화루비듐, 불화세슘, 불화마그네슘, 불화칼슘, 및 불화바륨으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종인 [2]에 기재된 불화수소 가스 제거 장치.
[4] 상기 불화수소 가스 제거 처리기 내의 상기 제거제의 온도를 -30℃ 이상 100℃ 이하로 제어하는 불화수소 가스 제거 처리기용 온도 제어부를 구비하는 [2] 또는 [3]에 기재된 불화수소 가스 제거 장치.
[5] 상기 제거제 재생 처리기 내의 상기 제거제의 온도를 150℃ 이상 400℃ 이하로 제어하는 제거제 재생 처리기용 온도 제어부를 구비하는 [2]~[4] 중 어느 한 항에 기재된 불화수소 가스 제거 장치.
[6] 상기 제거제는, 평균 입경이 10㎛ 이상 10mm 이하의 분립체(粉粒體)인 [1]~[5] 중 어느 한 항에 기재된 불화수소 가스 제거 장치.
[7] 상기 타종의 가스가 불소 가스, 1불화염소, 3불화염소, 5불화염소, 3불화브롬, 5불화브롬, 7불화브롬, 3불화요오드, 5불화요오드, 7불화요오드, 4불화우라늄, 6불화우라늄, 6불화텅스텐, 4불화규소, 3불화질소, 및 4불화황으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종인 [1]~[6] 중 어느 한 항에 기재된 불화수소 가스 제거 장치.
[8] 상기 제거제 공급기는 상기 제거제를 상기 불화수소 가스 제거 처리기에 연속적으로 공급할 수 있도록 되어 있고, 상기 불화수소 가스 제거 처리기는 사용 완료의 상기 제거제를 연속적으로 배출할 수 있도록 되어 있는 [1]~[7] 중 어느 한 항에 기재된 불화수소 가스 제거 장치.
[9] 상기 제거제 재생 처리기는 사용 완료의 상기 제거제가 연속적으로 도입 가능하게 되어 있고, 또한 재생 처리 완료의 상기 제거제를 연속적으로 배출할 수 있도록 되어 있는 [1]~[8] 중 어느 한 항에 기재된 불화수소 가스 제거 장치.
[10] 상기 재생 처리 완료 제거제 수송기는 재생 처리 완료의 상기 제거제가 연속적으로 도입 가능하게 되어 있고, 또한 재생 처리 완료의 상기 제거제를 상기 제거제 공급기에 연속적으로 공급할 수 있도록 되어 있는 [1]~[9] 중 어느 한 항에 기재된 불화수소 가스 제거 장치.
[11] 불화수소 가스와 타종의 가스를 함유하는 혼합 가스로부터 상기 불화수소 가스를 제거하는 불화수소 가스의 제거 방법으로서,
상기 혼합 가스로부터 상기 불화수소 가스를 제거하는 제거제를, 상기 혼합 가스로부터 상기 불화수소 가스를 제거하는 처리를 행하는 불화수소 가스 제거 처리기에 공급하는 제거제 공급 공정과,
상기 제거제가 수용된 상기 불화수소 가스 제거 처리기의 가스 도입구에 상기 혼합 가스를 도입하여, 상기 불화수소 가스 제거 처리기 내의 상기 제거제에 상기 혼합 가스를 접촉시킨 후에, 상기 불화수소 가스 제거 처리기의 가스 배출구로부터 배출하여, 상기 혼합 가스로부터 상기 불화수소 가스를 제거하는 처리를 행하는 불화수소 가스 제거 처리 공정과,
상기 불화수소 가스 제거 처리 공정에 있어서 상기 혼합 가스로부터 상기 불화수소 가스를 제거하는 처리에 사용된 사용 완료의 상기 제거제를, 상기 불화수소 가스 제거 처리기로부터, 불화수소 가스 제거 성능을 향상시키는 재생 처리를 상기 제거제에 실시하는 제거제 재생 처리기로 옮기고, 사용 완료의 상기 제거제에 상기 재생 처리를 실시하는 제거제 재생 처리 공정과,
상기 제거제 재생 처리 공정에 의해 불화수소 가스 제거 성능이 향상된 재생 처리 완료의 상기 제거제를 수송하여, 상기 제거제 공급 공정에 제공하는 재생 처리 완료 제거제 수송 공정을 구비하는 불화수소 가스의 제거 방법.
[12] 상기 제거제가 상기 불화수소 가스를 흡착하는 흡착제인 [11]에 기재된 불화수소 가스의 제거 방법.
[13] 상기 흡착제가 불화리튬, 불화나트륨, 불화칼륨, 불화루비듐, 불화세슘, 불화마그네슘, 불화칼슘, 및 불화바륨으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종인 [12]에 기재된 불화수소 가스의 제거 방법.
[14] 상기 불화수소 가스 제거 처리 공정에 있어서는, 상기 불화수소 가스 제거 처리기 내의 상기 제거제의 온도를 -30℃ 이상 100℃ 이하로 하는 [12] 또는 [13]에 기재된 불화수소 가스의 제거 방법.
[15] 상기 제거제 재생 처리 공정에 있어서는, 상기 제거제 재생 처리기 내의 상기 제거제의 온도를 150℃ 이상 400℃ 이하로 해서 상기 제거제에 상기 재생 처리를 실시하는 [12]~[14] 중 어느 한 항에 기재된 불화수소 가스의 제거 방법.
[16] 상기 제거제는 평균 입경이 10㎛ 이상 10mm 이하의 분립체인 [11]~[15] 중 어느 한 항에 기재된 불화수소 가스의 제거 방법.
[17] 상기 타종의 가스가 불소 가스, 1불화염소, 3불화염소, 5불화염소, 3불화브롬, 5불화브롬, 7불화브롬, 3불화요오드, 5불화요오드, 7불화요오드, 4불화우라늄, 6불화우라늄, 6불화텅스텐, 4불화규소, 3불화질소, 및 4불화황으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종인 [11]~[16] 중 어느 한 항에 기재된 불화수소 가스의 제거 방법.
본 발명에 의하면, 불화수소 가스를 함유하는 혼합 가스로부터 불화수소 가스를 제거하는 제거 처리를, 정지하지 않고 장기간에 걸쳐 연속해서 행할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시형태에 의한 불화수소 가스 제거 장치의 일례의 구조를 설명하는 도면이다.
본 발명의 일 실시형태에 대해서 이하에 설명한다. 또한, 본 실시형태는 본 발명의 일례를 나타낸 것이며, 본 발명은 본 실시형태에 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 실시형태에는 다양한 변경 또는 개량을 가하는 것이 가능하고, 그와 같은 변경 또는 개량을 가한 형태도 본 발명에 포함될 수 있다.
본 실시형태에 의한 불화수소 가스 제거 장치는, 불화수소 가스(HF)와 타종의 가스를 함유하는 혼합 가스로부터 불화수소 가스를 제거하는 불화수소 가스 제거 장치이다. 이 불화수소 가스 제거 장치는, 혼합 가스로부터 불화수소 가스를 제거하는 처리를 행하는 불화수소 가스 제거 처리기와, 혼합 가스로부터 불화수소 가스를 제거하는 제거제를 불화수소 가스 제거 처리기에 공급하는 제거제 공급기와, 제거제의 불화수소 가스 제거 성능을 향상시키는 재생 처리를 사용 완료의 제거제에 실시하는 제거제 재생 처리기와, 제거제 재생 처리기에 있어서 불화수소 가스 제거 성능을 향상시킨 재생 처리 완료의 제거제를 수송하여, 제거제 공급기에 공급하는 재생 처리 완료 제거제 수송기를 구비하고 있다.
불화수소 가스 제거 처리기는, 제거제를 수용 가능하게 되어 있음과 아울러, 혼합 가스가 도입되는 가스 도입구와, 불화수소 가스를 제거하는 처리가 실시된 혼합 가스가 배출되는 가스 배출구를 갖고 있다. 이것에 의해, 불화수소 가스 제거 처리기는, 제거제에 혼합 가스를 접촉시킴으로써, 혼합 가스로부터 불화수소 가스를 제거하는 처리를 행할 수 있도록 되어 있다.
제거제 재생 처리기는, 불화수소 가스 제거 처리기에 있어서 혼합 가스로부터 불화수소 가스를 제거하는 처리에 사용된 사용 완료의 제거제를 수용 가능하게 되어 있다. 그리고, 제거제 재생 처리기는, 제거제의 불화수소 가스 제거 성능을 향상시키는 재생 처리를 사용 완료의 제거제에 실시할 수 있도록 되어 있다.
또한, 본 실시형태에 의한 불화수소 가스의 제거 방법은, 불화수소 가스와 타종의 가스를 함유하는 혼합 가스로부터 불화수소 가스를 제거하는 불화수소 가스의 제거 방법이다. 이 불화수소 가스의 제거 방법은, 혼합 가스로부터 불화수소 가스를 제거하는 제거제를, 혼합 가스로부터 불화수소 가스를 제거하는 처리를 행하는 불화수소 가스 제거 처리기에 공급하는 제거제 공급 공정과, 혼합 가스로부터 불화수소 가스를 제거하는 처리를 행하는 불화수소 가스 제거 처리 공정과, 불화수소 가스 제거 성능을 향상시키는 재생 처리를 사용 완료의 제거제에 실시하는 제거제 재생 처리 공정과, 제거제 재생 처리 공정에 의해 불화수소 가스 제거 성능이 향상된 재생 처리 완료의 제거제를 수송하여, 제거제 공급 공정에 제공하는 재생 처리 완료 제거제 수송 공정을 구비하고 있다.
불화수소 가스 제거 처리 공정은, 제거제가 수용된 불화수소 가스 제거 처리기의 가스 도입구에 혼합 가스를 도입하여, 불화수소 가스 제거 처리기 내의 제거제에 혼합 가스를 접촉시킨 후에, 불화수소 가스 제거 처리기의 가스 배출구로부터 배출하여, 혼합 가스로부터 불화수소 가스를 제거하는 처리를 행하는 공정이다.
제거제 재생 처리 공정은, 불화수소 가스 제거 처리 공정에 있어서 혼합 가스로부터 불화수소 가스를 제거하는 처리에 사용된 사용 완료의 제거제를, 불화수소 가스 제거 처리기로부터, 불화수소 가스 제거 성능을 향상시키는 재생 처리를 제거제에 실시하는 제거제 재생 처리기로 옮기고, 사용 완료의 제거제에 재생 처리를 실시하는 공정이다.
이러한 본 실시형태에 의한 불화수소 가스 제거 장치 및 불화수소 가스의 제거 방법에 의하면, 불화수소 가스를 함유하는 혼합 가스로부터 불화수소 가스를 제거하는 제거 처리를, 사용 완료의 제거제에 재생 처리를 실시할 때에도 정지하지 않고, 장기간에 걸쳐 연속해서 행할 수 있다. 즉, 본 실시형태에 의한 불화수소 가스 제거 장치 및 불화수소 가스의 제거 방법은, 상기 제거 처리와 상기 재생 처리를 병행해서 행할 수 있기 때문에, 상기 제거 처리를 효율적으로 행할 수 있어, 공업적인 이용에 바람직하하다.
따라서, 본 실시형태에 의한 불화수소 가스 제거 장치 및 불화수소 가스의 제거 방법은, 반도체의 제조 시에 사용되는 불소 가스(F2), 1불화염소(ClF), 3불화염소(ClF3), 5불화염소(ClF5), 3불화브롬(BrF3), 5불화브롬(BrF5), 7불화브롬(BrF7), 3불화요오드(IF3), 5불화요오드(IF5), 7불화요오드(IF7), 6불화텅스텐(WF6), 4불화규소(SiF4), 3불화질소(NF3), 및 4불화황(SF4)이나, 원자력 발전의 우라늄 연료의 제조에 사용되는 4불화우라늄(UF4), 6불화우라늄(UF6)의 제조에 바람직하게 이용할 수 있다.
또한, 제거제 공급기는, 제거제를 불화수소 가스 제거 처리기에 연속적으로 공급할 수 있도록 되어 있어도 좋다. 또한, 불화수소 가스 제거 처리기는, 사용 완료의 제거제를 연속적으로 배출할 수 있도록 되어 있어도 좋다. 또한, 제거제 재생 처리기는, 사용 완료의 제거제가 연속적으로 도입 가능하게 되어 있어도 좋고, 재생 처리 완료의 제거제를 연속적으로 배출할 수 있도록 되어 있어도 좋다. 또한, 재생 처리 완료 제거제 수송기는, 재생 처리 완료의 제거제가 연속적으로 도입 가능하게 되어 있어도 좋고, 재생 처리 완료의 제거제를 제거제 공급기에 연속적으로 공급할 수 있도록 되어 있어도 좋다.
이하에, 본 실시형태에 의한 불화수소 가스 제거 장치 및 불화수소 가스의 제거 방법에 대해서 더욱 상세하게 설명한다.
제거제의 종류는, 혼합 가스로부터 불화수소 가스를 제거할 수 있으면 특별히 한정되는 것이 아니고, 예를 들면, 불화수소 가스를 흡착해서 제거하는 흡착제여도 좋고, 불화수소 가스와 반응해서 제거하는 반응제여도 좋다.
흡착체의 구체예로서는, 활성탄, 실리카 겔, 제올라이트, 몰레큘러 시브 등을 들 수 있지만, 불화리튬(LiF), 불화나트륨(NaF), 불화칼륨(KF), 불화루비듐(RbF), 불화세슘(CsF), 불화마그네슘(MgF2), 불화칼슘(CaF2), 및 불화바륨(BaF2)으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종이 바람직하다. 이들 불화나트륨 등의 금속 불화물과 불화수소는 수소 결합에 의해 결합한 염을 형성하기 때문에, 금속 불화물을 불화수소 가스의 흡착제로서 사용할 수 있다. 상기 금속 불화물 중에서는, 불화나트륨과 불화칼륨이 흡착제로서 보다 바람직하다.
제거제의 형상은, 불화수소 가스 제거 처리 공정을 실시 중인 제거제의 온도에 있어서 고체상을 유지할 수 있으면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 평균 입경이 10㎛ 이상 10mm 이하의 분립체인 것이 바람직하고, 평균 입경이 20㎛ 이상 1mm 이하의 분립체인 것이 보다 바람직하다.
평균 입경이 10mm 이하이면, 불화수소 가스와 제거제의 접촉 면적이 충분히 크기 때문에, 불화수소 가스의 제거율이 높아지기 쉽다. 한편, 평균 입경이 10㎛ 이상이면, 불화수소 가스를 제거한 후의 혼합 가스에 제거제가 혼입하기 어렵다.
제거제의 평균 입경은, 예를 들면 레이저 회절식 입도 분포 측정 장치나 건식 분급법으로 측정 가능하다.
불화수소 가스와 함께 혼합 가스에 함유되는 타종의 가스의 종류는, 불화수소 가스 이외의 가스이면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예로서는, 불소 가스, 1불화염소, 3불화염소, 5불화염소, 3불화브롬, 5불화브롬, 7불화브롬, 3불화요오드, 5불화요오드, 7불화요오드, 4불화우라늄, 6불화우라늄, 6불화텅스텐, 4불화규소, 3불화질소, 및 4불화황으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 들 수 있다.
본 실시형태에 의한 불화수소 가스 제거 장치 및 불화수소 가스의 제거 방법에 의해, 혼합 가스로부터 불화수소 가스를 제거해서 고순도의 상기 타종의 가스를 얻을 수 있으므로, 얻어진 고순도의 상기 타종의 가스를, 반도체 제조용 재료 가스나, 원자력 발전의 우라늄 연료의 제조용 가스로서 사용할 수 있다.
혼합 가스 중의 불화수소 가스의 농도는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 20체적% 이하인 것이 바람직하고, 10체적% 이하인 것이 보다 바람직하다. 불화수소 가스의 농도가 상기 범위 내의 혼합 가스이면, 큰 사이즈의 불화수소 가스 제거 장치를 사용할 필요가 없어, 불화수소 가스의 제거를 경제적으로 행할 수 있다.
불화수소 가스 제거 처리 공정에 있어서의 불화수소 가스 제거 처리기 내의 제거제의 온도는, 제거제에 의해 혼합 가스로부터 불화수소 가스를 제거할 수 있으면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 제거제가 흡착제인 경우는 -30℃ 이상 100℃ 이하로 하는 것이 바람직하고, -10℃ 이상 50℃ 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. -30℃ 이상이면, 냉각에 필요한 에너지가 소량으로 충분하다. 또한, 100℃ 이하이면, 불화수소 가스의 제거율이 높아지기 쉽다.
불화수소 가스 제거 처리기 내의 제거제의 온도는, 불화수소 가스 제거 장치가 구비하는 불화수소 가스 제거 처리기용 온도 제어부에 의해 제어할 수 있다.
또한, 불화수소 가스 제거 처리기 내의 제거제의 온도의 측정 방법은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 불화수소 가스 제거 처리기 내에 열전대를 삽입함으로써 측정할 수 있다.
제거제 재생 처리 공정에 있어서의 제거제 재생 처리기 내의 제거제의 온도는, 사용 완료의 제거제의 불화수소 가스 제거 성능을 향상시켜서 재생할 수 있으면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 제거제가 흡착제인 경우는, 150℃ 이상 400℃ 이하로 하는 것이 바람직하고, 200℃ 이상 350℃ 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. 150℃ 이상이면, 흡착제로부터 불화수소 가스를 충분히 탈리시킬 수 있으므로, 사용 완료의 제거제의 불화수소 가스 제거 성능을 충분히 향상시킬 수 있다. 또한, 400℃ 이하이면, 사용 완료의 제거제의 재생 처리를 경제적으로 행할 수 있는 데에 부가해서, 제거제 재생 처리기의 열화가 생기기 어렵다.
제거제 재생 처리기 내의 제거제의 온도는 불화수소 가스 제거 장치가 구비하는 제거제 재생 처리기용 온도 제어부에 의해 제어할 수 있다.
또한, 제거제 재생 처리기 내의 제거제의 온도의 측정 방법은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 제거제 재생 처리기 내에 열전대를 삽입함으로써 측정할 수 있다.
다음에, 본 실시형태에 의한 불화수소 가스 제거 장치 및 불화수소 가스의 제거 방법의 보다 구체적인 예를, 도 1을 참조하면서 설명한다. 또한, 이하에 설명하는 도 1의 예에서는, 제거제로서 불화나트륨의 분립체를 사용하고 있고, 혼합 가스로서 불소 가스와 불화수소 가스로 이루어지는 혼합 가스를 사용하고 있다.
도 1에 나타내는 불화수소 가스 제거 장치는, 혼합 가스로부터 불화수소 가스를 제거하는 처리를 행하는 불화수소 가스 제거 처리기(10)와, 제거제를 불화수소 가스 제거 처리기(10)에 공급하는 제거제 공급기(20)와, 사용 완료의 제거제에 재생 처리를 실시하는 제거제 재생 처리기(30)와, 재생 처리 완료의 제거제를 수송해 제거제 공급기(20)에 공급하는 재생 처리 완료 제거제 수송기(40)를 구비하고 있다.
불화수소 가스 제거 처리기(10)는 통상이며, 내부에 제거제를 수용 가능하게 되어 있다. 또한, 불화수소 가스 제거 처리기(10)는 나선상으로 연속하는 나선날개(11)가 봉상의 회전축 부재(12)의 외주면으로부터 지름 방향 외방으로 돌출되어 이루어지는 회전 스크루(13)를 구비하고 있다. 회전 스크루(13)는, 회전축 부재(12)가 통상의 불화수소 가스 제거 처리기(10)의 중심축과 동축이 되도록 불화수소 가스 제거 처리기(10)에 설치되어 있고, 회전 스크루(13)를 모터(14)로 회전시킴으로써, 불화수소 가스 제거 처리기(10) 내의 제거제를 교반할 수 있도록 되어 있음과 아울러, 불화수소 가스 제거 처리기(10) 내의 제거제를, 불화수소 가스 제거 처리기(10)의 중심축 방향 일단측으로부터 타단측을 향해서 이동시킬 수 있도록 되어 있다. 이렇게, 불화수소 가스 제거 처리기(10)는 이동상식의 처리 장치이다.
또한, 불화수소 가스 제거 처리기(10)는, 제거제가 공급되는 제거제 공급구(17)와, 제거제가 배출되는 제거제 배출구(18)를 갖고 있다. 제거제 공급구(17)는 불화수소 가스 제거 처리기(10)의 중심축 방향 일단측에 형성되어 있고, 제거제 배출구(18)는 불화수소 가스 제거 처리기(10)의 중심축 방향 타단측에 형성되어 있다. 제거제는, 제거제 공급기(20)에 의해 제거제 공급구(17)를 통해서 불화수소 가스 제거 처리기(10) 내에 공급되지만, 제거제 공급기(20)에 대해서는 후에 상술한다.
또한, 불화수소 가스 제거 처리기(10)는, 혼합 가스가 도입되는 가스 도입구(15)와, 불화수소 가스를 제거하는 처리가 실시된 혼합 가스가 배출되는 가스 배출구(16)를 갖고 있다. 가스 도입구(15)는 불화수소 가스 제거 처리기(10)의 중심축 방향 타단측에 형성되어 있고, 가스 배출구(16)는 불화수소 가스 제거 처리기(10)의 중심축 방향 일단측에 형성되어 있다.
즉, 도 1의 예에 있어서는, 제거제는, 불화수소 가스 제거 처리기(10)의 좌단측에 형성된 제거제 공급구(17)로부터 불화수소 가스 제거 처리기(10) 내로 공급되고, 회전 스크루(13)에 의해 불화수소 가스 제거 처리기(10)의 우단측을 향해서 이송된다. 혼합 가스는, 불화수소 가스 제거 처리기(10)의 우단측에 형성된 가스 도입구(15)로부터 불화수소 가스 제거 처리기(10) 내로 도입되고, 불화수소 가스 제거 처리기(10)의 좌단측을 향해서 흘러 간다.
따라서, 불화수소 가스 제거 처리기(10) 내에서 혼합 가스가 제거제에 접촉하므로, 혼합 가스로부터 불화수소 가스를 제거하는 처리가 행하여진다. 불화수소 가스 제거 처리기(10)는 불화수소 가스 제거 처리기(10) 내의 제거제의 온도를 제어하는 불화수소 가스 제거 처리기용 온도 제어부(도시 생략)를 구비하고 있어, 혼합 가스로부터 불화수소 가스를 제거하는 처리를 소망의 온도(예를 들면 -30℃ 이상 100℃ 이하)에서 행할 수 있도록 되어 있다. 불화수소 가스 제거 처리기(10) 내의 제거제의 온도를 측정하는 열전대의 설치 개소는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 회전 스크루(13)의 회전축 부재(12)에 열전대를 삽입해도 좋다(즉, 회전 스크루(13)의 회전축 부재(12)를 열전대의 내삽관으로서 사용해도 좋다).
또한, 도 1의 예에서는, 제거제와 혼합 가스는 역방향으로 이동(향류)하도록 되어 있지만, 동방향으로 이동(병류)하도록 해도 좋다. 불화수소 가스를 제거하는 처리가 실시된 혼합 가스(주로 불소 가스)는, 가스 배출구(16)로부터 불화수소 가스 제거 처리기(10) 밖으로 배출된다. 또한, 불화수소 가스를 제거하는 처리에 사용된 사용 완료의 제거제(불화수소 가스를 흡착한 제거제)는 제거제 배출구(18)로부터 불화수소 가스 제거 처리기(10) 밖으로 배출된다.
불화수소 가스 제거 처리기(10)는, 혼합 가스가 제거제 공급구(17)로부터 역류해서 불화수소 가스 제거 처리기(10) 밖으로 배출되는 것을 억제하는 구조를 갖고 있어도 좋다. 또한, 불화수소 가스 제거 처리기(10)는 제거제 배출구(18)로부터 배출되는 제거제에 혼합 가스가 동반해서 불화수소 가스 제거 처리기(10) 밖으로 배출되는 것을 억제하는 구조를 갖고 있어도 좋다.
제거제 배출구(18)로부터 배출된 사용 완료의 제거제는 제거제 재생 처리기(30)로 옮겨진다. 제거제 재생 처리기(30)는 통상이며, 내부에 사용 완료의 제거제를 수용 가능하게 되어 있다. 또한, 제거제 재생 처리기(30)는, 불화수소 가스 제거 처리기(10)와 마찬가지로, 나선상으로 연속하는 나선날개(31)가 봉상의 회전축 부재(32)의 외주면으로부터 지름 방향 외방으로 돌출되어 이루어지는 회전 스크루(33)를 구비하고 있다. 회전 스크루(33)는 회전축 부재(32)가 통상의 제거제 재생 처리기(30)의 중심축과 동축이 되도록 제거제 재생 처리기(30)에 설치되어 있고, 회전 스크루(33)를 모터(34)로 회전시킴으로써, 제거제 재생 처리기(30) 내의 제거제를 교반할 수 있도록 되어 있음과 아울러, 제거제 재생 처리기(30) 내의 제거제를, 제거제 재생 처리기(30)의 중심축 방향 타단측으로부터 일단측을 향해서 이동시킬 수 있도록 되어 있다.
또한, 제거제 재생 처리기(30)는 사용 완료의 제거제가 공급되는 사용 완료 제거제 공급구(37)와, 재생 처리 완료의 제거제가 배출되는 재생 처리 완료 제거제 배출구(38)를 갖고 있다. 사용 완료 제거제 공급구(37)는 제거제 재생 처리기(30)의 중심축 방향 타단측에 형성되어 있고, 재생 처리 완료 제거제 배출구(38)는 제거제 재생 처리기(30)의 중심축 방향 일단측에 형성되어 있다. 불화수소 가스 제거 처리기(10)의 제거제 배출구(18)와 제거제 재생 처리기(30)의 사용 완료 제거제 공급구(37)가 연결되어 있기 때문에, 제거제 배출구(18)로부터 연속적으로 배출된 사용 완료의 제거제가, 사용 완료 제거제 공급구(37)로부터 제거제 재생 처리기(30) 내로 연속적으로 공급된다.
또한, 제거제 재생 처리기(30)는 질소 가스 등의 불활성 가스가 도입되는 가스 도입구(35)와, 제거제로부터 탈리한 불화수소 가스와 불활성 가스가 혼합된 불화수소 혼합 불활성 가스가 배출되는 가스 배출구(36)를 갖고 있다. 가스 도입구(35)는 제거제 재생 처리기(30)의 중심축 방향 일단측에 형성되어 있고, 가스 배출구(36)는 제거제 재생 처리기(30)의 중심축 방향 타단측에 형성되어 있다.
또한, 제거제 재생 처리기(30)는 제거제 재생 처리기(30) 내의 제거제의 온도를 제어하는 제거제 재생 처리기용 온도 제어부를 구비하고 있다. 도 1에 있어서는, 제거제 재생 처리기용 온도 제어부로서 가열기(39) 및 도시하지 않은 열전대가 구비되어 있으므로, 제거제 재생 처리기(30) 내의 제거제의 온도를, 예를 들면 150℃ 이상 400℃ 이하로 제어할 수 있도록 되어 있다. 열전대의 설치 개소는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 회전 스크루(33)의 회전축 부재(32)의 내부에 열전대를 삽입해도 좋다(즉, 회전 스크루(33)의 회전축 부재(32)를 열전대의 내삽관으로서 사용해도 좋다).
도 1의 예에 있어서는, 사용 완료의 제거제는, 제거제 재생 처리기(30)의 우단측에 형성된 사용 완료 제거제 공급구(37)로부터 제거제 재생 처리기(30) 내로 공급되고, 회전 스크루(33)에 의해 제거제 재생 처리기(30)의 좌단측을 향해서 이송된다. 그리고, 제거제 재생 처리기(30) 내의 사용 완료의 제거제는, 제거제 재생 처리기용 온도 제어부에 의해 가열되어서, 불화수소 가스 제거 성능을 향상시키는 재생 처리가 실시된다(불화수소 가스가 제거제로부터 탈리한다). 불활성 가스는 제거제 재생 처리기(30)의 좌단측에 형성된 가스 도입구(35)로부터 제거제 재생 처리기(30) 내로 도입되고, 제거제 재생 처리기(30)의 우단측을 향해서 흘러 간다.
이렇게, 제거제 재생 처리기(30) 내에서 제거제에 재생 처리가 실시되어서, 불화수소 가스가 제거제로부터 탈리하여, 사용 완료의 제거제는 재생 처리 완료의 제거제가 된다. 또한, 도 1의 예에서는, 제거제와 불활성 가스는 역방향으로 이동하도록 되어 있지만, 동방향으로 이동하도록 해도 좋다. 제거제로부터 탈리한 불화수소 가스는 불활성 가스와 혼합되어서 불화수소 혼합 불활성 가스가 되고, 가스 배출구(36)로부터 제거제 재생 처리기(30) 밖으로 배출된다. 또한, 재생 처리 완료의 제거제는, 재생 처리 완료 제거제 배출구(38)로부터 제거제 재생 처리기(30) 밖으로 연속적으로 배출된다.
제거제 재생 처리기(30)는 불화수소 혼합 불활성 가스가 사용 완료 제거제 공급구(37)로부터 역류해서 제거제 재생 처리기(30) 밖으로 배출되는 것을 억제하는 구조를 갖고 있어도 좋다. 또한, 제거제 재생 처리기(30)는 재생 처리 완료 제거제 배출구(38)로부터 배출되는 재생 처리 완료의 제거제에 불화수소 혼합 불활성 가스가 동반해서 제거제 재생 처리기(30) 밖으로 배출되는 것을 억제하는 구조를 갖고 있어도 좋다.
재생 처리 완료 제거제 배출구(38)로부터 배출된 재생 처리 완료의 제거제는, 재생 처리 완료 제거제 수송기(40)에 연속적으로 공급되고, 재생 처리 완료 제거제 수송기(40)에 의해 수송되어, 제거제 공급기(20)에 연속적으로 공급된다. 재생 처리 완료 제거제 수송기(40)는 재생 처리 완료 제거제 배출구(38)로부터 배출된 재생 처리 완료의 제거제를 수용하는 회수 탱크(41)와, 회수 탱크(41)와 제거제 공급기(20)를 연결해 재생 처리 완료의 제거제를 회수 탱크(41)로부터 제거제 공급기(20)로 수송하는 수송 라인(42)을 구비한다.
재생 처리 완료의 제거제를 수송하는 방법은 특별히 한정되는 것이 아니고, 예를 들면, 압축 질소 가스, 압축 공기 등의 압축 가스를 사용해서 압송하는 방법이나, 스크루 피더, 벨트 컨베이어, 버킷 컨베이어 등의 수송 기기를 사용해서 수송하는 방법을 들 수 있다. 도 1의 예이면, 압축 가스원(43)으로부터 압축 질소 가스를 수송 라인(42)으로 흐르게 함으로써, 재생 처리 완료의 제거제를 회수 탱크(41)로부터 제거제 공급기(20)로 수송할 수 있다.
제거제 공급기(20)는 통상이며, 내부에 제거제를 수용 가능하게 되어 있다. 또한, 제거제 공급기(20)는 불화수소 가스 제거 처리기(10)나 제거제 재생 처리기(30)와 마찬가지로, 나선상으로 연속하는 나선날개(21)가 봉상의 회전축 부재(22)의 외주면으로부터 지름 방향 외방으로 돌출되어 이루어지는 회전 스크루(23)를 구비하고 있다. 회전 스크루(23)는, 회전축 부재(22)가 통상의 제거제 공급기(20)의 중심축과 동축이 되도록 제거제 공급기(20)에 설치되어 있고, 회전 스크루(23)를 모터(24)로 회전시킴으로써, 제거제 공급기(20) 내의 제거제를 교반할 수 있도록 되어 있음과 아울러, 제거제 공급기(20) 내의 제거제를, 제거제 공급기(20)의 중심축 방향 일단측으로부터 타단측을 향해서 이동시킬 수 있도록 되어 있다.
또한, 제거제 공급기(20)는 제거제가 공급되는 제거제 공급구(27)와, 제거제가 배출되는 제거제 배출구(28)를 갖고 있다. 제거제 공급구(27)는 제거제 공급기(20)의 중심축 방향 일단측에 형성되어 있고, 제거제 배출구(28)는 제거제 공급기(20)의 중심축 방향 타단측에 형성되어 있다.
또한, 제거제 공급기(20)는, 제거제를 일시적으로 저장하는 저장 탱크(25)를 구비하고 있고, 저장 탱크(25)로부터 제거제 공급기(20)의 제거제 공급구(27)로 제거제가 공급되도록 되어 있다. 저장 탱크(25)에는, 수용하고 있는 제거제의 양을 육안으로 확인하기 위한 창을 설치해도 좋다. 제거제 공급기(20) 내에 공급된 제거제는, 회전 스크루(23)에 의해 제거제 공급기(20)의 일단측(도 1에 있어서는 좌단측)으로부터 타단측(도 1에 있어서는 우단측)을 향해서 이송된다.
제거제 공급기(20)의 제거제 배출구(28)와 불화수소 가스 제거 처리기(10)의 제거제 공급구(17)가 연결되어 있으므로, 제거제 공급기(20)의 타단측으로 이송된 제거제는, 제거제 배출구(28) 및 제거제 공급구(17)를 통해서 불화수소 가스 제거 처리기(10)에 연속적으로 공급되도록 되어 있다.
저장 탱크(25)로부터 불화수소 가스 제거 처리기(10) 내로 공급되는 제거제의 공급 속도는, 불화수소 가스 제거 처리기(10)로부터 배출되는 사용 완료의 제거제의 배출 속도와 일치시킬 필요가 있다. 불화수소 가스 제거 처리기(10)로부터 배출되는 사용 완료의 제거제의 배출 속도쪽이 크면, 불화수소 가스 제거 처리기(10) 내의 제거제의 충전율이 저하하게 되므로, 불화수소 가스의 제거율이 낮아질 우려가 있다. 한편, 저장 탱크(25)로부터 불화수소 가스 제거 처리기(10) 내로 공급되는 제거제의 공급 속도쪽이 크면, 불화수소 가스 제거 처리기(10) 내의 제거제의 충전율이 높아지므로, 로터리 밸브 등을 사용해서 저장 탱크(25)로부터 제거제를 정량적으로 발출하는 것이 바람직하다.
또한, 제거제 공급기(20)를 사용하는 대신에, 제거제의 자중에 의해 저장 탱크(25)로부터 제거제가 불화수소 가스 제거 처리기(10) 내로 공급되도록 해도 좋다.
재생 처리 완료 제거제 수송기(40)에 의해 수송되는 재생 처리 완료의 제거제가 제거제 공급기(20)의 저장 탱크(25)에 투입되도록 해두면, 제거제 재생 처리기(30)에 있어서 재생 처리된 재생 처리 완료의 제거제를 불화수소 가스 제거 처리기(10)에 있어서의 불화수소 가스의 제거 처리에 재이용할 수 있다.
미사용의 제거제를 제거제 공급기(20)의 저장 탱크(25)에 공급하는 제거제원(51)을 설치하면, 미사용의 제거제와 재생 처리 완료의 제거제 양쪽을, 불화수소 가스 제거 처리기(10)에 있어서의 불화수소 가스의 제거 처리에 사용할 수 있다. 예를 들면, 불화수소 가스 제거 처리 공정과 제거제 재생 처리 공정에 있어서 제거제가 소실된 경우에, 소실량의 제거제를 제거제원(51)으로부터 저장 탱크(25)로 공급하면, 불화수소 가스 제거 장치의 계 내 전체에 존재하는 제거제의 양을 상시 일정하게 유지할 수 있다.
이렇게, 도 1에 나타내는 불화수소 가스 제거 장치를 사용하면, 혼합 가스로부터 불화수소 가스를 제거하는 처리와 사용 완료의 제거제를 재생하는 처리를 동시 병행으로 행할 수 있으므로, 사용 완료의 제거제를 재생하는 처리를 행하기 위해서, 혼합 가스로부터 불화수소 가스를 제거하는 처리를 정지할 필요가 없다. 따라서, 혼합 가스로부터 불화수소 가스를 제거하는 처리를, 정지하지 않고 장기간에 걸쳐 연속해서 행할 수 있다.
또한, 재생 처리 완료의 제거제를 수송하는 방법이 압축 가스에 의한 압송인 경우에는, 저장 탱크(25)의 기상부로부터 가스를 배출하는 가스 발출구(52)를 설치하는 것이 바람직하다. 그리고, 가스 발출구(52)를 구성하는 배관에 백 필터 등의 필터(53)를 설치하여, 가스 발출구(52)로부터 불화수소 가스 제거 장치의 외부로 배출되는 가스로부터 미립자를 제거하는 것이 바람직하다.
또한, 불화수소 가스 제거 처리기(10), 회전 스크루(13), 제거제 재생 처리기(30), 회전 스크루(33) 등은 혼합 가스, 불화수소 가스 등의 부식성을 갖는 가스와 접촉하므로, 이들 가스에 내식성을 갖는 재질로 형성하는 것이 바람직하다. 예를 들면, 스테인리스강, 하스텔로이(상표), 모넬(상표), 니켈 등을 들 수 있다.
다음에, 도 1에 나타내는 불화수소 가스 제거 장치를 사용해서 혼합 가스로부터 불화수소 가스를 제거하는 처리를 행할 때의 여러 조건에 대해서 설명한다.
불화수소 가스 제거 처리기(10)의 내경 및 길이는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 불화수소 가스 제거 처리기(10)에의 혼합 가스의 공급량과, 불화수소 가스를 제거하는 처리를 실시하기 전의 혼합 가스 중의 불화수소 가스의 농도와, 불화수소 가스를 제거하는 처리가 실시된 후의 혼합 가스 중의 불화수소 가스의 농도에 의거해서 조정하는 것이 바람직하다.
예를 들면, 불화수소 가스를 제거하는 처리를 실시하기 전의 혼합 가스 중의 불화수소 가스의 농도가 2체적% 이상 15체적% 이하이고, 불화수소 가스를 제거하는 처리가 실시된 후의 혼합 가스 중의 불화수소 가스의 농도가 1체적ppm 이상 100체적ppm 이하인 경우에는, 이하와 같이 하는 것이 바람직하다.
불화수소 가스 제거 처리기(10)의 제거제 공급구(17)와 제거제 배출구(18) 사이의 공간의 공간 용적 V1(단위는 리터이다. 단, 회전 스크루(13)의 체적은 뺀 용적으로 한다)은, 시공 속도(SV1)가 5/h 이상 600/h 이하가 되는 공간 용적 V1로 하는 것이 바람직하고, 10/h 이상 200/h 이하가 되는 공간 용적 V1로 하는 것이 보다 바람직하다.
또한, 불화수소 가스 제거 처리기(10)의 내경과 길이의 비율(길이/내경)은 5 이상 500 이하로 하는 것이 바람직하고, 10 이상 50 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. 불화수소 가스 제거 처리기(10)의 내경은, 회전 스크루(13)가 설치 가능하면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 2cm 이상인 것이 바람직하다.
또한, 공간 용적 V1 내에 존재하는 제거제의 용량 V2와 공간 용적 V1의 비 V2/V1(이하 「충전율」이라고 기재하는 경우도 있다)은 0.3 이상 0.9 이하인 것이 바람직하고, 0.4 이상 0.8 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.6 이상 0.8 이하인 것이 더욱 바람직하다.
상기 각 값이 각각의 바람직한 범위에서 벗어나도, 불화수소 가스 제거 장치를 작동시키는 것은 가능하지만, 시공 속도(SV1)가 5/h 이상이면 불화수소 가스 제거 장치의 사이즈를 억제할 수 있고, 600/h 이하이면 불화수소 가스의 제거율이 높아지기 쉽다.
또한, 불화수소 가스 제거 처리기(10)의 내경과 길이의 비율(길이/내경)이 5 이상이면, 불화수소 가스의 제거율이 높아지기 쉽고, 500 이하이면, 불화수소 가스 제거 처리기(10)의 길이가 억제되므로, 회전 스크루(13)의 회전에 부하가 가해지기 어렵다.
또한, 충전율이 0.3 이상이면 불화수소 가스의 제거율이 높아지기 쉽고, 0.9 이하이면 회전 스크루(13)의 회전에 부하가 가해지기 어렵다.
불화수소 가스 제거 처리 공정에 있어서의 불화수소 가스 제거 처리기(10) 내의 압력(이하, 특별히 언급이 없는 한 압력은 절대 압력을 나타낸다)은 0.01MPa 이상 2MPa 이하인 것이 바람직하고, 0.05MPa 이상 1MPa 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.09MPa 이상 0.15MPa 이하인 것이 더욱 바람직하다.
회전 스크루(13)를 모터(14)로 회전시키기 위해서, 회전축 부재(12)가 불화수소 가스 제거 처리기(10)의 중심축 방향 일단부를 관통하고 있으므로, 회전축 부재(12)의 베어링부에서 불화수소 가스 제거 처리기(10) 내의 기밀성을 확보하기 위해서는, 불화수소 가스 제거 처리기(10) 내의 압력은 지나치게 높아지지 않도록 하는 것이 바람직하다.
불화수소 가스 제거 처리기(10) 내의 압력은, 예를 들면, 불화수소 가스 제거 처리기(10) 내에 설치한 압력계로 측정하는 것이 가능하다. 또한, 불화수소 가스를 제거하는 처리가 실시된 혼합 가스가 배출되는 가스 배출구(16)에 개방도 조정 밸브를 설치하고, 상기 개방도 조정 밸브의 개방도를 압력계의 지시와 연동시킴으로써, 소망의 압력을 유지할 수 있다.
불화수소 가스 제거 장치의 가동 시에는, 불화수소 가스 제거 처리기(10) 내를 제거제가 이동하지만, 불화수소 가스 제거 처리기(10) 내에서의 제거제의 체류 시간은 특별히 한정되지 않는다. 단, 제거제의 흐름 F(1/h)를 불화수소 가스 제거 처리기(10)의 공간 용적 V1(L)로 나눈 값이, 혼합 가스의 SV1의 값의 1/100배 이상 5배 이하가 되는 것을 기준으로 하는 것이 바람직하고, 1/10배 이상 1배 이하로 하는 것이 보다 바람직하다.
혼합 가스의 SV1의 값의 1/100배 이상이면, 불화수소 가스 제거 처리기(10)의 가스 도입구(15)의 근방 부분에 있어서 제거제가 흡착하는 불화수소 가스의 양이 지나치게 많아져서 제거제가 회전 스크루(13)에 부착된다는 현상이 일어나기 어렵다. 한편, 혼합 가스의 SV1의 값의 5배 이하이면, 제거제의 미세한 파티클이 혼합 가스에 포함되기 어렵다.
또한, 제거제의 체류 시간은, 혼합 가스의 SV1의 값과 혼합 가스 중의 불화수소 가스의 농도를 기준으로 정할 수도 있다. 즉, 혼합 가스의 SV1의 값과 혼합 가스 중의 불화수소 가스의 농도의 곱이, 제거제의 시공 속도(SV2)의 하한값이 되고, 이 하한값의 10배의 시공 속도가 제거제의 시공 속도(SV2)의 바람직한 값이 된다.
예를 들면, 혼합 가스의 SV1의 값이 30/h이고, 혼합 가스 중의 불화수소 가스의 농도가 10체적%인 경우는 30×0.1=3/h가 제거제의 시공 속도(SV2)의 하한값이 되고, 그 10배인 30/h가 제거제의 시공 속도(SV2)의 바람직한 값이 된다. 마찬가지로, 혼합 가스의 SV1의 값이 30/h이고, 혼합 가스 중의 불화수소 가스의 농도가 1체적%인 경우는 30×0.01=0.3/h가 제거제의 시공 속도(SV2)의 하한값이 되고, 그 10배인 3/h가 제거제의 시공 속도(SV2)의 바람직한 값이 된다.
혼합 가스 중의 불화수소 가스의 농도가 15체적%보다 높은 경우여도, 본 실시형태에 의한 불화수소 가스 제거 장치 및 불화수소 가스의 제거 방법을 적용하는 것은 가능하고, 예를 들면, 불화수소 가스 제거 처리기(10)의 치수를 크게 하거나,또는, 불화수소 가스 제거 처리기(10)를 복수 사용해 다단(예를 들면 2단)으로 설치하면 좋다.
불화수소 가스 제거 처리기(10)를 복수 사용해 다단으로 설치하는 경우에는, 불화수소 가스의 농도가 15체적%보다 높은 혼합 가스를 상류측인 1단째의 불화수소 가스 제거 처리기(10)에 통과시켜, 혼합 가스 중의 불화수소 가스의 농도를 15체적% 이하로 하고, 1단째의 불화수소 가스 제거 처리기(10)에 통과시킨 혼합 가스를 하류측인 2단째의 불화수소 가스 제거 처리기(10)에 통과시키면, 불화수소 가스의 농도를 1체적ppm 이상 100체적ppm 이하로 저감한 혼합 가스를 얻을 수 있다.
또한, 불화수소 가스 제거 처리기(10)를 복수 사용해 다단으로 설치하는 경우에는, 재생 처리 완료의 제거제를 2단째의 불화수소 가스 제거 처리기(10)에 공급하고, 2단째의 불화수소 가스 제거 처리기(10)로부터 배출되는 제거제를, 재생 처리를 실시하지 않고 1단째의 불화수소 가스 제거 처리기(10)에 공급해도 좋다.
또한, 혼합 가스를 냉각해서 혼합 가스 중의 불화수소 가스의 농도를 저감하거나, 증류에 의해 혼합 가스 중의 불화수소 가스의 농도를 저감하거나 한 후에, 본 실시형태에 의한 불화수소 가스 제거 장치 및 불화수소 가스의 제거 방법을 적용해도 좋다.
제거제 재생 처리기(30)의 내경 및 길이는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 사용 완료의 제거제가 함유하고 있는 불화수소의 양과, 제거제 재생 처리기(30)에 공급하는 불활성 가스의 양과, 제거제 재생 처리기(30) 내의 제거제의 온도에 의거해서 조정하는 것이 바람직하다.
제거제 재생 처리기(30)에 공급되는 사용 완료의 제거제가 함유하고 있는 불화수소의 양은, 불화수소 가스 제거 처리 공정에 있어서 제거제가 제거한 불화수소의 양이므로, 불화수소 가스 제거 처리 공정에 있어서의 불화수소 가스의 제거 속도와 제거제 재생 처리 공정에 있어서의 불화수소 가스의 탈리 속도를 동일하게 하면 좋다. 가장 간단한 예가 이하이다.
즉, 불화수소 가스 제거 처리기(10)와 제거제 재생 처리기(30)를 동일한 치수로 하고, 불화수소 가스 제거 처리기(10)와 제거제 재생 처리기(30)에 있어서의 제거제의 체류 시간도 동일하게 하고, 불화수소 가스 제거 처리기(10)에 공급되는 혼합 가스 중 불화수소 이외의 성분(즉 타종의 가스)의 유량과 제거제 재생 처리기(30)에 공급되는 불활성 가스의 유량도 동일하게 하고, 제거제 재생 처리기(30) 내의 제거제의 온도를 150℃ 이상 400℃ 이하로 하면, 불화수소 가스 제거 처리 공정에 있어서의 불화수소 가스의 제거 속도와 제거제 재생 처리 공정에 있어서의 불화수소 가스의 탈리 속도를 동일하게 할 수 있다.
제거제 재생 처리기(30)에 공급하는 불활성 가스의 유량은 특별히 한정되는 것이 아니고, 불화수소 가스 제거 처리기(10)에 공급되는 혼합 가스 중 불화수소 이외의 성분의 유량과 비교하여, 동일하게 해도 좋고, 많게 해도 좋고, 적게 해도 좋지만, 적게 하는 것이 바람직하다.
제거제 재생 처리기(30)에 공급하는 불활성 가스의 유량은, 불화수소 가스 제거 처리기(10)에 공급되는 혼합 가스 중 불화수소 이외의 성분의 유량의 1/100배 이상 5배 이하로 하는 것이 바람직하고, 1/10배 이상 1배 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. 1/100배 이상이면, 불화수소 혼합 불활성 가스에 포함되는 탈리한 불화수소 가스의 농도가 지나치게 높아지지 않으므로 불화수소 가스의 탈리 속도가 높아지기 쉽다. 한편, 5배 이하이면, 제거제의 미세한 파티클이 불화수소 혼합 불활성 가스에 포함되기 어려우므로, 제거제의 손실량이 낮아진다.
제거제 재생 처리기(30)의 치수는 특별히 한정되는 것이 아니고, 불화수소 가스 제거 처리기(10)의 치수와 동일한 치수로 해도 좋고 상이한 치수로 해도 좋지만, 불화수소 가스 제거 처리기(10)와 동일한 내경으로 하고, 또한, 불화수소 가스 제거 처리기(10)보다 길이를 크게 하면, 제거제의 재생 처리를 보다 충분히 행할 수 있다. 또한, 불화수소 가스 제거 처리기(10)와 제거제 재생 처리기(30)의 내경을 동일하게 하고, 또한, 회전 스크루(13, 33)의 치수도 동일하게 하면, 회전 스크루(13, 33)의 회전 속도를 동조시킴으로써 제거제의 이동 속도를 간단히 제어할 수 있다.
제거제 재생 처리기(30)의 내경과 길이의 비율(길이/내경)은, 불화수소 가스 제거 처리기(10)와 마찬가지로, 5 이상 500 이하로 하는 것이 바람직하고, 10 이상 50 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. 제거제 재생 처리기(30)의 내경은, 회전 스크루(33)가 설치 가능하면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 2cm 이상인 것이 바람직하다.
또한, 제거제 재생 처리기(30)에 있어서의 제거제의 충전율도, 불화수소 가스 제거 처리기(10)의 경우와 마찬가지로, 0.3 이상 0.9 이하인 것이 바람직하고, 0.4 이상 0.8 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.6 이상 0.8 이하인 것이 더욱 바람직하다. 그리고, 불화수소 가스 제거 처리기(10)와 제거제 재생 처리기(30)에서, 제거제의 충전율이 대략 동일한 것이 바람직하다.
상기 각 값이 각각의 바람직한 범위로부터 벗어나도, 제거제의 재생 처리를 행하는 것은 가능하지만, 제거제 재생 처리기(30)의 내경과 길이의 비율(길이/내경)이 5 이상이면, 불화수소 가스의 탈리율이 높아지기 쉽고, 500 이하이면, 제거제 재생 처리기(30)의 길이가 억제되므로, 회전 스크루(33)의 회전에 부하가 가해지기 어렵다. 또한, 충전율이 0.3 이상이면 불화수소 가스의 탈리율이 높아지기 쉽고, 0.9 이하이면 회전 스크루(33)의 회전에 부하가 가해지기 어렵다.
불화수소 가스 제거 장치의 가동 시에는, 제거제 재생 처리기(30) 내를 제거제가 이동하지만, 제거제 재생 처리기(30) 내에서의 제거제의 체류 시간은 특별히 한정되지 않는다. 단, 불화수소 가스 제거 처리기(10) 내에서의 제거제의 체류 시간에 대하여 0.5배 이상 2배 이하인 것이 바람직하고, 0.8배 이상 1.5배 이하인 것이 보다 바람직하다. 0.5배 이상이면, 비교적 낮은 온도에서 제거제로부터 불화수소 가스를 충분히 탈리시키는 것이 가능하고, 2배 이하이면, 큰 사이즈의 불화수소 가스 제거 장치를 사용할 필요가 없어, 제거제의 재생 처리를 경제적으로 행할 수 있다.
제거제 재생 처리 공정에 있어서의 제거제 재생 처리기(30) 내의 압력은 0.01MPa 이상 2MPa 이하인 것이 바람직하고, 0.05MPa 이상 1MPa 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.09MPa 이상 0.15MPa 이하인 것이 더욱 바람직하다.
회전 스크루(33)를 모터(34)로 회전시키기 위해서, 회전축 부재(32)가 제거제 재생 처리기(30)의 중심축 방향 타단부를 관통하고 있으므로, 회전축 부재(32)의 베어링부에서 제거제 재생 처리기(30) 내의 기밀성을 확보하기 위해서는, 제거제 재생 처리기(30) 내의 압력은 지나치게 높아지지 않도록 하는 것이 바람직하다.
제거제 재생 처리기(30) 내의 압력은, 예를 들면, 제거제 재생 처리기(30) 내에 설치한 압력계로 측정하는 것이 가능하다. 또한, 불화수소 혼합 불활성 가스가 배출되는 가스 배출구(36)에 개방도 조정 밸브를 설치하고, 상기 개방도 조정 밸브의 개방도를 압력계의 지시와 연동시킴으로써, 소망의 압력을 유지할 수 있다.
불화수소 가스 제거 처리기(10) 내의 압력과 제거제 재생 처리기(30) 내의 압력에 차를 두고 불화수소 가스 제거 장치를 가동하는 것도 가능하지만, 압력차를 작게 한 편이 각 공정 간에서 가스의 왕래를 적게 할 수 있으므로 바람직하다. 압력차는, 0.01MPa 이상 1MPa 이하인 것이 바람직하고, 0.01MPa 이상 0.5MPa 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.01MPa 이상 0.1MPa 이하인 것이 더욱 바람직하다.
제거제 재생 처리기(30)에 공급되는 불활성 가스의 유량과, 제거제 재생 처리기(30) 내의 제거제의 온도 등의 재생 처리의 조건은, 제거제 재생 처리기(30)로부터 배출되는 재생 처리 완료의 제거제를 샘플링해서 분석함으로써 조정해도 좋다. 예를 들면, 재생 처리 완료 제거제 배출구(38)로부터 재생 처리 완료의 제거제를 채취하고, 샘플의 질량을 측정한 후에 순수에 투입하여, 제거제에 함유된 불화수소를 순수에 추출하고, 순수에 함유되어 있는 불화수소의 양을 중화 적정으로 측정함으로써, 재생 처리 완료의 제거제에 함유되어 있는 불화수소의 함유량을 구해도 좋다. 또는, 샘플을 질산으로 용해하고 ICP 분석으로 금속 성분을 분석한 결과와, 이온 크로마토그래피로 불화물 이온을 분석한 결과를 비교함으로써, 재생 처리 완료의 제거제에 함유되어 있는 불화수소의 함유량을 구해도 좋다.
재생 처리 완료의 제거제에 함유되어 있는 불화수소의 함유량은, 1질량% 이하인 것이 바람직하고, 0.5질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.1질량% 이하인 것이 더욱 바람직하다.
재생 처리 완료의 제거제에 함유되어 있는 불화수소의 함유량의 측정값이 높은 경우에는, 제거제 재생 처리기(30) 내의 제거제의 온도를 상승시키거나, 제거제 재생 처리기(30)에 공급하는 불활성 가스의 양을 많게 하는 등, 재생 처리의 조건을 조정하면 좋다.
회수 탱크(41)의 재질은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 스테인리스강 등을 사용할 수 있고, 그 내면에는 불소 수지 등에 의해 수지 라이닝이 실시되어 있어도 좋다. 회수 탱크(41)의 치수 등은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 불화수소 가스 제거 처리기(10)와 제거제 재생 처리기(30)에 수용할 수 있는 제거제의 전체량을 저장할 수 있는 크기인 것이 바람직하다. 통상은, 회수 탱크(41) 용량의 30~50% 정도의 양의 제거제를 저장하면서, 불화수소 가스 제거가 가동된다.
실시예
이하에 실시예 및 비교예를 나타내어, 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다.
〔실시예 1〕
먼저, 불화칼륨·불화수소(KF·2HF)의 용융염을 3000A의 직류 전류로 정전류 전기분해함으로써, 양극으로부터 불소 가스를 발생시켰다. 그 결과, 표준 상태 환산(0℃, 0.101325MPa)으로 1.13㎥/h(이하, 특별히 언급이 없는 한 가스의 유량은 표준 상태 환산한 값을 나타낸다)의 불소 가스가 발생했다. 그리고, 이 불소 가스 중의 불화수소 가스의 농도를, FT-IR을 사용한 분석 결과로부터 산출한 바 12체적%이며, 불화수소 가스의 유량은 0.154㎥/h였다.
다음에, 도 1에 나타내는 불화수소 가스 제거 장치와 마찬가지의 구성의 불화수소 가스 제거 장치를 사용하고, 상술과 마찬가지로 불화수소 가스 제거 장치를 가동하여, 상기한 바와 같이 발생시킨 불소 가스로부터 불화수소 가스를 제거하는 처리를 행했다. 제거제로서는, 평균 입경 0.5mm의 불화나트륨의 분말을 사용했다.
불화수소 가스 제거 처리기의 내경은 150mm, 길이는 3m이며, 회전 스크루의 체적을 뺀 불화수소 가스 제거 처리기의 내용적은 34L였다. 제거제의 충전율은 0.7로 했다. 따라서, 불화수소 가스 제거 처리기 내의 제거제의 양은 24L이다. 회전 스크루의 회전 속도를 1rpm, 기어드 모터 감속비를 1/1500, 주파수를 50Hz로 하고, 불화수소 가스 제거 처리기에의 제거제의 공급 속도를 83L/h로 했다.
불화수소 가스 제거 처리기 내의 제거제의 온도는 실온으로 하고, 압력은 대기압으로 했다. 따라서, 혼합 가스의 SV는 38/h(=(1.13+0.154)×1000/34)이다. 또한, 제거제의 시공 속도는 2.4/h(=83/34)이며, 혼합 가스의 SV의 0.06배(=2.4/38)이다.
불화수소 가스 제거 처리기의 가스 배출구로부터 배출되는 가스의 불화수소 가스의 농도를 FT-IR을 사용해서 측정한 바, 6체적ppm이었다. 또한, 불화수소 가스 제거 처리기의 제거제 배출구로부터 배출되는 사용 완료의 제거제에 함유되는 불화수소를 분석한 바, 0.13질량%였다.
제거제 재생 처리기의 치수는 불화수소 가스 제거 처리기와 동일하게 하고, 제거제 재생 처리기의 회전 스크루의 운전 조건도 불화수소 가스 제거 처리기의 회전 스크루와 동일하게 했다. 또한, 불활성 가스의 공급량을 0.2㎥/h로 하고, 제거제 재생 처리기 내의 제거제의 온도를 300℃로 하여, 사용 완료의 제거제의 재생 처리를 행했다.
제거제 재생 처리기의 재생 처리 완료 제거제 배출구로부터 배출되는 재생 처리 완료의 제거제에 함유되는 불화수소를 분석한 바, 0.01질량%였다.
재생 처리 완료 제거제 수송기를 사용해서 제거제를 순환시키면서 불화수소 가스 제거 장치의 가동을 1000시간 계속했지만, 제거제의 불화수소 가스 제거 성능이 저하하는 경우는 없었다. 또한, 제거제의 유착에 의한 불화수소 가스 제거 처리기의 폐색이 일어나는 경우도 없었다.
〔실시예 2〕
먼저, 불화칼륨·불화수소(KF·2HF)의 용융염을 2000A의 직류 전류로 정전류 전기분해함으로써, 양극으로부터 불소 가스를 발생시켰다. 그 결과, 표준 상태 환산(0℃, 0.101325MPa)으로 0.753㎥/h의 불소 가스가 발생했다. 그리고, 이 불소 가스 중의 불화수소 가스의 농도를, FT-IR을 사용한 분석 결과로부터 산출한 바 10체적%이며, 불화수소 가스의 유량은 0.084㎥/h였다.
다음에, 도 1에 나타내는 불화수소 가스 제거 장치와 마찬가지의 구성의 불화수소 가스 제거 장치를 사용하고, 상술과 마찬가지로 불화수소 가스 제거 장치를 가동하고, 상기한 바와 같이 해서 발생시킨 불소 가스로부터 불화수소 가스를 제거하는 처리를 실시예 1과 마찬가지로 해서 행했다. 사용한 제거제는 실시예 1과 마찬가지이다.
혼합 가스의 SV는 24.6/h(=(0.753+0.084)×1000/34)이다. 또한, 제거제의 시공 속도는 2.4/h(=83/34)이며, 혼합 가스의 SV의 0.01배(=2.4/24.6)이다.
불화수소 가스 제거 처리기의 가스 배출구로부터 배출되는 가스의 불화수소 가스의 농도를 FT-IR을 사용해서 측정한 바, 2체적ppm이었다. 또한, 불화수소 가스 제거 처리기의 제거제 배출구로부터 배출되는 사용 완료의 제거제에 함유되는 불화수소를 분석한 바, 0.08질량%였다.
다음에, 도 1에 나타내는 불화수소 가스 제거 장치와 마찬가지의 구성의 불화수소 가스 제거 장치를 사용하고, 상술과 마찬가지로 불화수소 가스 제거 장치를 가동하여, 사용 완료의 제거제의 재생 처리를 행했다. 재생 처리의 조건은, 불활성 가스의 공급량을 0.1㎥/h로 한 점 이외는, 실시예 1의 조건과 마찬가지이다.
제거제 재생 처리기의 재생 처리 완료 제거제 배출구로부터 배출되는 재생 처리 완료의 제거제에 함유되는 불화수소를 분석한 바, 0.01질량%였다.
재생 처리 완료 제거제 수송기를 사용해서 제거제를 순환시키면서 불화수소 가스 제거 장치의 가동을 1000시간 계속했지만, 제거제의 불화수소 가스 제거 성능이 저하하는 경우는 없었다. 또한, 제거제의 유착에 의한 불화수소 가스 제거 처리기의 폐색이 일어나는 경우도 없었다.
10: 불화수소 가스 제거 처리기
13: 회전 스크루
15: 가스 도입구
16: 가스 배출구
17: 제거제 공급구
18: 제거제 배출구
20: 제거제 공급기
30: 제거제 재생 처리기
33: 회전 스크루
35: 가스 도입구
36: 가스 배출구
37: 사용 완료 제거제 공급구
38: 재생 처리 완료 제거제 배출구
39: 가열기
40: 재생 처리 완료 제거제 수송기
41: 회수 탱크
42: 수송 라인
13: 회전 스크루
15: 가스 도입구
16: 가스 배출구
17: 제거제 공급구
18: 제거제 배출구
20: 제거제 공급기
30: 제거제 재생 처리기
33: 회전 스크루
35: 가스 도입구
36: 가스 배출구
37: 사용 완료 제거제 공급구
38: 재생 처리 완료 제거제 배출구
39: 가열기
40: 재생 처리 완료 제거제 수송기
41: 회수 탱크
42: 수송 라인
Claims (17)
- 불화수소 가스와 타종의 가스를 함유하는 혼합 가스로부터 상기 불화수소 가스를 제거하는 불화수소 가스 제거 장치로서,
상기 혼합 가스로부터 상기 불화수소 가스를 제거하는 제거제를 수용 가능하게 되어 있음과 아울러, 상기 혼합 가스가 도입되는 가스 도입구와, 상기 불화수소 가스를 제거하는 처리가 실시된 상기 혼합 가스가 배출되는 가스 배출구를 갖고, 상기 제거제에 상기 혼합 가스를 접촉시킴으로써 상기 혼합 가스로부터 상기 불화수소 가스를 제거하는 처리를 행하는 불화수소 가스 제거 처리기와,
상기 제거제를 상기 불화수소 가스 제거 처리기에 공급하는 제거제 공급기와,
상기 불화수소 가스 제거 처리기에 있어서 상기 혼합 가스로부터 상기 불화수소 가스를 제거하는 처리에 사용된 사용 완료의 상기 제거제를 수용 가능하게 되어 있고, 상기 제거제의 불화수소 가스 제거 성능을 향상시키는 재생 처리를 사용 완료의 상기 제거제에 실시하는 제거제 재생 처리기와,
상기 제거제 재생 처리기에 있어서 불화수소 가스 제거 성능을 향상시킨 재생 처리 완료의 상기 제거제를 수송하여, 상기 제거제 공급기에 공급하는 재생 처리 완료 제거제 수송기를 구비하는 불화수소 가스 제거 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 제거제가 상기 불화수소 가스를 흡착하는 흡착제인 불화수소 가스 제거 장치. - 제 2 항에 있어서,
상기 흡착제가 불화리튬, 불화나트륨, 불화칼륨, 불화루비듐, 불화세슘, 불화마그네슘, 불화칼슘, 및 불화바륨으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종인 불화수소 가스 제거 장치. - 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,
상기 불화수소 가스 제거 처리기 내의 상기 제거제의 온도를 -30℃ 이상 100℃ 이하로 제어하는 불화수소 가스 제거 처리기용 온도 제어부를 구비하는 불화수소 가스 제거 장치. - 제 2 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제거제 재생 처리기 내의 상기 제거제의 온도를 150℃ 이상 400℃ 이하로 제어하는 제거제 재생 처리기용 온도 제어부를 구비하는 불화수소 가스 제거 장치. - 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제거제는 평균 입경이 10㎛ 이상 10mm 이하의 분립체인 불화수소 가스 제거 장치. - 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 타종의 가스가 불소 가스, 1불화염소, 3불화염소, 5불화염소, 3불화브롬, 5불화브롬, 7불화브롬, 3불화요오드, 5불화요오드, 7불화요오드, 4불화우라늄, 6불화우라늄, 6불화텅스텐, 4불화규소, 3불화질소, 및 4불화황으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종인 불화수소 가스 제거 장치. - 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제거제 공급기는 상기 제거제를 상기 불화수소 가스 제거 처리기에 연속적으로 공급할 수 있도록 되어 있고, 상기 불화수소 가스 제거 처리기는 사용 완료의 상기 제거제를 연속적으로 배출할 수 있도록 되어 있는 불화수소 가스 제거 장치. - 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제거제 재생 처리기는 사용 완료의 상기 제거제가 연속적으로 도입 가능하게 되어 있고, 또한 재생 처리 완료의 상기 제거제를 연속적으로 배출할 수 있도록 되어 있는 불화수소 가스 제거 장치. - 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 재생 처리 완료 제거제 수송기는, 재생 처리 완료의 상기 제거제가 연속적으로 도입 가능하게 되어 있고, 또한 재생 처리 완료의 상기 제거제를 상기 제거제 공급기에 연속적으로 공급할 수 있도록 되어 있는 불화수소 가스 제거 장치. - 불화수소 가스와 타종의 가스를 함유하는 혼합 가스로부터 상기 불화수소 가스를 제거하는 불화수소 가스의 제거 방법으로서,
상기 혼합 가스로부터 상기 불화수소 가스를 제거하는 제거제를, 상기 혼합 가스로부터 상기 불화수소 가스를 제거하는 처리를 행하는 불화수소 가스 제거 처리기에 공급하는 제거제 공급 공정과,
상기 제거제가 수용된 상기 불화수소 가스 제거 처리기의 가스 도입구에 상기 혼합 가스를 도입하여, 상기 불화수소 가스 제거 처리기 내의 상기 제거제에 상기 혼합 가스를 접촉시킨 후에, 상기 불화수소 가스 제거 처리기의 가스 배출구로부터 배출하여, 상기 혼합 가스로부터 상기 불화수소 가스를 제거하는 처리를 행하는 불화수소 가스 제거 처리 공정과,
상기 불화수소 가스 제거 처리 공정에 있어서 상기 혼합 가스로부터 상기 불화수소 가스를 제거하는 처리에 사용된 사용 완료의 상기 제거제를, 상기 불화수소 가스 제거 처리기로부터, 불화수소 가스 제거 성능을 향상시키는 재생 처리를 상기 제거제에 실시하는 제거제 재생 처리기로 옮기고, 사용 완료의 상기 제거제에 상기 재생 처리를 실시하는 제거제 재생 처리 공정과,
상기 제거제 재생 처리 공정에 의해 불화수소 가스 제거 성능이 향상된 재생 처리 완료의 상기 제거제를 수송하여, 상기 제거제 공급 공정에 제공하는 재생 처리 완료 제거제 수송 공정을 구비하는 불화수소 가스의 제거 방법. - 제 11 항에 있어서,
상기 제거제가 상기 불화수소 가스를 흡착하는 흡착제인 불화수소 가스의 제거 방법. - 제 12 항에 있어서,
상기 흡착제가 불화리튬, 불화나트륨, 불화칼륨, 불화루비듐, 불화세슘, 불화마그네슘, 불화칼슘, 및 불화바륨으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종인 불화수소 가스의 제거 방법. - 제 12 항 또는 제 13 항에 있어서,
상기 불화수소 가스 제거 처리 공정에 있어서는, 상기 불화수소 가스 제거 처리기 내의 상기 제거제의 온도를 -30℃ 이상 100℃ 이하로 하는 불화수소 가스의 제거 방법. - 제 12 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제거제 재생 처리 공정에 있어서는, 상기 제거제 재생 처리기 내의 상기 제거제의 온도를 150℃ 이상 400℃ 이하로 하여 상기 제거제에 상기 재생 처리를 실시하는 불화수소 가스의 제거 방법. - 제 11 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제거제는, 평균 입경이 10㎛ 이상 10mm 이하의 분립체인 불화수소 가스의 제거 방법. - 제 11 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 타종의 가스가 불소 가스, 1불화염소, 3불화염소, 5불화염소, 3불화브롬, 5불화브롬, 7불화브롬, 3불화요오드, 5불화요오드, 7불화요오드, 4불화우라늄, 6불화우라늄, 6불화텅스텐, 4불화규소, 3불화질소, 및 4불화황으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종인 불화수소 가스의 제거 방법.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JPJP-P-2021-032459 | 2021-03-02 | ||
| JP2021032459 | 2021-03-02 | ||
| PCT/JP2022/005421 WO2022185878A1 (ja) | 2021-03-02 | 2022-02-10 | フッ化水素ガス除去装置及びフッ化水素ガスの除去方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20230152694A true KR20230152694A (ko) | 2023-11-03 |
Family
ID=83154044
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020237029910A KR20230152694A (ko) | 2021-03-02 | 2022-02-10 | 불화수소 가스 제거 장치 및 불화수소 가스의 제거 방법 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20240157284A1 (ko) |
| EP (1) | EP4303178A1 (ko) |
| JP (1) | JPWO2022185878A1 (ko) |
| KR (1) | KR20230152694A (ko) |
| CN (1) | CN116963816A (ko) |
| TW (1) | TW202302203A (ko) |
| WO (1) | WO2022185878A1 (ko) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2024053704A1 (ja) * | 2022-09-09 | 2024-03-14 | 株式会社レゾナック | フッ化水素吸着剤の製造方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100208276B1 (ko) | 1996-12-23 | 1999-07-15 | 유기범 | 전전자 교환기의 데이터 이중화 장치 |
| KR100215588B1 (ko) | 1993-05-28 | 1999-08-16 | 모리시타 요이찌 | 반도체 박막의 제조방법 및 자전변환 소자의 제조방법 |
| JP5757168B2 (ja) | 2011-06-10 | 2015-07-29 | セントラル硝子株式会社 | フッ素ガス生成装置 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0568839A (ja) * | 1991-09-17 | 1993-03-23 | Daikin Ind Ltd | 有害／悪臭ガス成分濃縮装置 |
| JPH07289850A (ja) * | 1994-04-28 | 1995-11-07 | Central Glass Co Ltd | 排ガス精製法 |
| GB9626327D0 (en) * | 1996-12-19 | 1997-02-05 | British Nuclear Fuels Plc | Improvements in and relating to the removal and re-use of chloride trifluoride |
| JP2013086054A (ja) * | 2011-10-20 | 2013-05-13 | Babcock Hitachi Kk | 海水利用の湿式石灰石−石膏法脱硫装置 |
| CN111729468A (zh) * | 2020-06-12 | 2020-10-02 | 中船重工（邯郸）派瑞特种气体有限公司 | 一种用于制备高纯六氟化钨的吸附塔 |
-
2022
- 2022-02-10 US US18/280,050 patent/US20240157284A1/en active Pending
- 2022-02-10 EP EP22762935.9A patent/EP4303178A1/en active Pending
- 2022-02-10 KR KR1020237029910A patent/KR20230152694A/ko unknown
- 2022-02-10 WO PCT/JP2022/005421 patent/WO2022185878A1/ja active Application Filing
- 2022-02-10 JP JP2023503677A patent/JPWO2022185878A1/ja active Pending
- 2022-02-10 CN CN202280018201.7A patent/CN116963816A/zh active Pending
- 2022-02-24 TW TW111106712A patent/TW202302203A/zh unknown
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100215588B1 (ko) | 1993-05-28 | 1999-08-16 | 모리시타 요이찌 | 반도체 박막의 제조방법 및 자전변환 소자의 제조방법 |
| KR100208276B1 (ko) | 1996-12-23 | 1999-07-15 | 유기범 | 전전자 교환기의 데이터 이중화 장치 |
| JP5757168B2 (ja) | 2011-06-10 | 2015-07-29 | セントラル硝子株式会社 | フッ素ガス生成装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW202302203A (zh) | 2023-01-16 |
| CN116963816A (zh) | 2023-10-27 |
| US20240157284A1 (en) | 2024-05-16 |
| WO2022185878A1 (ja) | 2022-09-09 |
| EP4303178A1 (en) | 2024-01-10 |
| JPWO2022185878A1 (ko) | 2022-09-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100308404B1 (ko) | Sf６가스 회수·정제 처리장치 및 방법 | |
| TWI288656B (en) | Method and apparatus for collecting rare gas | |
| US6955707B2 (en) | Method of recycling fluorine using an adsorption purification process | |
| KR20230152694A (ko) | 불화수소 가스 제거 장치 및 불화수소 가스의 제거 방법 | |
| WO2022185879A1 (ja) | フッ化水素ガス除去装置及びフッ化水素ガスの除去方法 | |
| JP2009018269A (ja) | ガス分離装置及びガス分離方法 | |
| US11779877B2 (en) | Method for removing halogen fluoride, quantitative analysis method for gas component contained in halogen fluoride mixed gas, and quantitative analyzer | |
| JP4212106B2 (ja) | ガス分離装置及びガス分離方法 | |
| CN108246062B (zh) | 一种铀浓缩工厂尾气hf处理工艺 | |
| JP2005262128A (ja) | フッ素含有化合物を含むガスの処理方法及び装置 | |
| JP4683543B2 (ja) | ガス分離方法及びガス分離装置 | |
| JP5757168B2 (ja) | フッ素ガス生成装置 | |
| WO2021094709A1 (en) | Inert gas recovery from a semiconductor manufacturing tool | |
| JP2001506220A (ja) | 活性フッ素を貯蔵、搬送および製造する装置および方法 | |
| WO2011121929A1 (ja) | 気体発生装置 | |
| Gromov | Separation of a Gas Mixture Containing Uranium Hexafluoride, Hydrogen Fluoride, and Chlorine Trifluoride | |
| JP4787550B2 (ja) | ガス分離方法及びガス分離装置 | |
| JP4683544B2 (ja) | ガス分離方法及びガス分離装置 | |
| JP2000015056A (ja) | フッ化物の回収方法 | |
| Munday | Preconceptual design of the gas-phase decontamination demonstration cart | |
| JP2005187312A (ja) | 四フッ化珪素の除去方法 | |
| JPH0930803A (ja) | 高純度硫酸の製造方法 | |
| JPH0234506A (ja) | 三弗化窒素ガスの精製方法 |