KR20230057342A - Silver-coated flaky copper powder and its manufacturing method - Google Patents

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Abstract

레이저 회절 산란식 입도 분포 측정법에 의한 누적 체적 90용량%에 있어서의 체적 누적 입경을 D90(㎛)으로 하고, 누적 체적 10용량%에 있어서의 체적 누적 입경을 D10(㎛)으로 했을 때, D90/D10으로 정의되는 분산도에 대한, 명도 L*의 값이 13 이상이다. 구리 모분 및 제1 착화제를 포함하는 분산액을, 매체 교반 밀 장치에 의해 처리하고, 해당 구리 모분을 구성하는 구리 모입자를 플레이크상으로 변형시키고; 플레이크상으로 변형된 상기 구리 모입자를 포함하는 상기 구리 모분을, 은 이온 및 제2 착화제를 포함하는 수성액으로 처리하고, 해당 구리 모입자의 표면에 은을 석출시키는 방법으로 은 피복 플레이크상 구리 분말을 제조한다.When the volume cumulative particle size at 90% by volume by laser diffraction scattering particle size distribution measurement is D 90 (μm) and the cumulative volume particle size at 10% by volume is D 10 (μm), The value of lightness L* for the degree of dispersion defined by D 90 /D 10 is 13 or more. processing the dispersion liquid containing the copper base powder and the first complexing agent by means of a media agitating mill device to transform the copper base particles constituting the copper base powder into flakes; Silver-coated flakes by treating the copper base powder containing the copper base particles transformed into flakes with an aqueous solution containing silver ions and a second complexing agent to deposit silver on the surface of the copper base particles. manufacture copper powder.

Description

은 피복 플레이크상 구리 분말 및 그 제조 방법Silver-coated flaky copper powder and its manufacturing method

본 발명은, 은 피복 플레이크상 구리 분말 및 그 제조 방법에 관한 것이다.This invention relates to silver-coated flaky copper powder and its manufacturing method.

플레이크상 구리 입자는, 그 형상에 기인하여 입자의 비표면적이 크고, 또한 입자끼리가 접촉하기 쉽다는 점에서, 이것을 수지에 첨가함으로써 해당 수지에 도전성을 부여하는 것이 용이하다. 그러나 구리는 산화되기 쉽고, 그 결과, 구리 입자의 전기 저항이 증대되기 쉽다고 하는 결점이 있다. 이 결점을 보완하는 것을 목적으로 하여, 구리 입자의 표면을, 구리보다도 전기 저항이 낮은 금속인 은으로 피복하여, 입자의 전기 저항의 증대를 억제하는 기술이 여러 가지 제안되어 있다.Since the flaky copper particles have a large specific surface area due to their shape and the particles easily come into contact with each other, it is easy to impart conductivity to the resin by adding them to the resin. However, copper is easily oxidized, and as a result, there is a drawback that the electrical resistance of copper particles tends to increase. For the purpose of supplementing this drawback, various techniques have been proposed to suppress the increase in electrical resistance of the particles by coating the surfaces of the copper particles with silver, which is a metal having lower electrical resistance than copper.

예를 들어 특허문헌 1 내지 3에는, 표면에 은을 갖고, 편평화 처리된 은 피복 플레이크상 구리 입자를 포함하는 은 피복 플레이크상 구리 분말이 제안되어 있다.For example, Patent Documents 1 to 3 propose a silver-coated flaky copper powder containing silver-coated flaky copper particles having silver on the surface and subjected to a flattening process.

일본 특허 공개 제2010-275638호 공보Japanese Unexamined Patent Publication No. 2010-275638 일본 특허 공개 제2015-71818호 공보Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-71818 일본 특허 공개 제2016-35098호 공보Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-35098

특허문헌 1 내지 3에 기재된 기술에 의하면, 어트리터 등의 분쇄 장치를 사용하여 전해 구리 분말을 편평화하고, 이어서 치환 도금에 의해 구리 분말의 표면을 은으로 피복하고 있다. 그러나, 이 방법으로 얻어진 은 피복 플레이크상 구리 분말은, 은의 피복이 균일하지 않아, 구리 분말의 표면이 일부 노출된 상태로 되기 쉽다고 하는 과제가 있다. 이 과제는, 편평화 후의 전해 구리 분말의 두께가 얇은 경우에 특히 현저하다. 이러한 피복 상태의 은 피복 플레이크상 구리 분말을 수지와 혼합하면, 수지 중에 구리가 용출되기 쉽고, 그 점에 기인하여 수지가 경시적으로 열화되기 쉽다.According to the techniques described in Patent Literatures 1 to 3, the electrolytic copper powder is flattened using a grinding device such as an attritor, and then the surface of the copper powder is coated with silver by displacement plating. However, the silver-coated flaky copper powder obtained by this method has a problem that silver coating is not uniform and the surface of the copper powder is in a partially exposed state. This subject is remarkable especially when the thickness of the electrolytic copper powder after flattening is thin. When the silver-coated flaky copper powder in such a coated state is mixed with a resin, copper is easily eluted in the resin, and due to this, the resin is easily deteriorated with time.

따라서 본 발명의 과제는, 전술한 종래 기술이 갖는 여러 가지의 결점을 해소할 수 있는 은 피복 플레이크상 구리 분말 및 그 제조 방법을 제공하는 데 있다.Therefore, the subject of this invention is providing the silver-coated flaky copper powder which can eliminate the various faults which the prior art mentioned above has, and its manufacturing method.

본 발명은, 적어도 표면에 은을 갖는 은 피복 플레이크상 구리 입자를 포함하는 은 피복 플레이크상 구리 분말이며,The present invention is a silver-coated flaky copper powder containing silver-coated flaky copper particles having silver on at least the surface,

상기 은 피복 플레이크상 구리 분말에 대한, 레이저 회절 산란식 입도 분포 측정법에 의한 누적 체적 90용량%에 있어서의 체적 누적 입경을 D90(㎛)으로 하고, 누적 체적 10용량%에 있어서의 체적 누적 입경을 D10(㎛)으로 했을 때,The volume cumulative particle size of the silver-coated flaky copper powder at a cumulative volume of 90% by volume by laser diffraction scattering particle size distribution measurement is set to D 90 (μm), and the cumulative volume particle size at 10% by volume of the cumulative volume When D 10 (㎛),

D90/D10으로 정의되는 분산도에 대한, 상기 은 피복 플레이크상 구리 분말의 명도 L*의 값이 13 이상인, 은 피복 플레이크상 구리 분말을 제공함으로써 상기의 과제를 해결한 것이다.The above object is solved by providing a silver-coated flaky copper powder having a value of lightness L* of the silver-coated flaky copper powder with respect to the degree of dispersion defined by D 90 /D 10 of 13 or more.

또한 본 발명은, 구리 모분 및 제1 착화제를 포함하는 분산액을, 매체 교반 밀 장치에 의해 처리하고, 해당 구리 모분을 구성하는 구리 모입자를 플레이크상으로 변형시키고,Further, the present invention treats a dispersion liquid containing copper mother powder and a first complexing agent with a media agitating mill device to transform the copper mother particles constituting the copper mother powder into flakes,

플레이크상으로 변형된 상기 구리 모입자를 포함하는 상기 구리 모분을, 은 이온 및 제2 착화제를 포함하는 수성액으로 처리하고, 해당 구리 모입자의 표면에 은을 석출시키는, 은 피복 플레이크상 구리 분말의 제조 방법을 제공하는 것이다.Silver-coated flaky copper, wherein the copper base powder containing the copper base particles transformed into flakes is treated with an aqueous solution containing silver ions and a second complexing agent to deposit silver on the surface of the copper base particles. It is to provide a method for producing the powder.

이하 본 발명을, 그 바람직한 실시 형태에 기초하여 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described based on its preferred embodiments.

본 발명은, 모재로서의 구리 입자의 적어도 표면에 은을 갖는 은 피복 구리 입자의 집합체인 은 피복 구리 분말에 관한 것이다. 은 피복 구리 입자는 그 외형에 특징의 하나를 갖는다. 상세하게는, 은 피복 구리 입자는 플레이크상의 형상을 갖는다. 따라서 이하의 설명에 있어서는, 은 피복 구리 입자를 「은 피복 플레이크상 구리 입자」라고 하고, 은 피복 구리 분말을 「은 피복 플레이크상 구리 분말」이라고 한다.The present invention relates to a silver-coated copper powder which is an aggregate of silver-coated copper particles having silver on at least the surface of copper particles as a base material. Silver-coated copper particles have one of the characteristics in their appearance. In detail, the silver-coated copper particles have a flaky shape. Therefore, in the following description, silver-coated copper particles are referred to as "silver-coated flaky copper particles", and silver-coated copper powder is referred to as "silver-coated flaky copper powder".

본 명세서에 있어서 「플레이크상」이란, 「편평상」이나 「박편상」과 동일한 의미이며, 입자가 박판상의 형상인 것을 의미하고 있다. 플레이크상 입자는, 그 애스펙트비에 의해 특정된다. 애스펙트비란, 플레이크상 입자의 두께 T에 대한, 플레이크상 입자를 평면으로 보았을 때의 판면에 있어서의 긴 직경 D의 비인 D/T의 값을 말한다. 판면에 있어서의 긴 직경 D는, 해당 판면을 가로지르는 선분 중 가장 긴 선분의 길이를 말한다. 본 발명에 있어서, 은 피복 플레이크상 구리 입자의 애스펙트비는, 은 피복 플레이크상 구리 분말을 수지에 첨가했을 때에 높은 도전성을 부여할 수 있는 관점에서, 5 이상 160 이하인 것이 바람직하고, 10 이상 160 이하인 것이 보다 바람직하고, 10 이상 140 이하인 것이 더욱 바람직하고, 15 이상 140 이하인 것이 한층 바람직하고, 20 이상 140 이하인 것이 한층 더 바람직하고, 30 이상 120 이하인 것이 특히 바람직하고, 30 이상 80 이하인 것이 특히 바람직하다.In this specification, "flake shape" has the same meaning as "flat shape" or "flaky shape", and means that the particles are in the shape of a thin plate. Flake-shaped particles are specified by their aspect ratio. The aspect ratio refers to the value of D/T, which is the ratio of the major diameter D on the plate surface when the flaky particles are viewed in plan to the thickness T of the flaky particles. The major axis D in the plate surface refers to the length of the longest line segment among the line segments crossing the plate surface. In the present invention, the aspect ratio of the silver-coated flaky copper particles is preferably 5 or more and 160 or less, and is 10 or more and 160 or less, from the viewpoint of being able to impart high conductivity when the silver-coated flaky copper powder is added to resin. is more preferably 10 or more and 140 or less, still more preferably 15 or more and 140 or less, still more preferably 20 or more and 140 or less, particularly preferably 30 or more and 120 or less, particularly preferably 30 or more and 80 or less .

애스펙트비는, 1개의 입자에 대하여 긴 직경 D 및 두께 T를 측정하여 D/T의 값을 산출하는 조작을 50개 이상의 입자에 대하여 행하고, 그에 의해 얻어진 D/T의 값의 산술 평균값으로 한다.The aspect ratio is calculated by measuring the major diameter D and thickness T of one particle and calculating the D/T value for 50 or more particles.

긴 직경 D 및 두께 T의 측정 방법은 다음과 같다.The measuring method of major diameter D and thickness T is as follows.

긴 직경 D: 전자 현미경에 의해 임의의 배율로 시료를 촬영 후, 화상 해석 입도 분포 측정 소프트웨어(가부시키가이샤 마운테크사 제조 Mac-View)를 사용하여 긴 직경을 측정한다.Major axis D: After photographing a sample at an arbitrary magnification with an electron microscope, the major axis is measured using image analysis particle size distribution measurement software (Mac-View, manufactured by Mounttech Co., Ltd.).

두께 T: 시료의 수지 매립을 행하고, 크로스 섹션 폴리셔에 의해 단면 가공을 행한다. 그 후, 전자 현미경을 사용하여 임의의 배율로 촬영 후, 긴 직경 D와 마찬가지로 측정한다.Thickness T: The sample is resin-embedded, and end-face processing is performed with a cross-section polisher. After that, it is measured at an arbitrary magnification using an electron microscope, and then measured in the same way as the major diameter D.

은 피복 플레이크상 구리 입자는, 그 평면으로 본 형상, 즉 판면의 형상에 특별히 제한은 없고, 예를 들어 대략 원형, 대략 긴 원형, 대략 타원형, 부정형 등의 형상을 취할 수 있다. 이들 형상 중, 대략 원형인 것이, 은 피복 플레이크상 구리 분말을 수지에 첨가했을 때에 높은 도전성을 부여할 수 있는 관점에서 바람직하다.The shape of the silver-coated flaky copper particle when viewed in plan view, ie, the shape of the plate surface, is not particularly limited. Among these shapes, a substantially circular one is preferable from the viewpoint of being able to provide high conductivity when the silver-coated flaky copper powder is added to the resin.

은 피복 플레이크상 구리 입자의 판면의 형상이 대략 원형인 경우, 해당 판면의 원형도는 0.60 이상 0.95 이하인 것이 바람직하고, 0.65 이상 0.90 이하인 것이 더욱 바람직하고, 0.65 이상 0.85 이하인 것이 한층 바람직하다. 원형도는, 판면의 면적을 S로 하고, 판면의 주위 길이를 L로 했을 때, 4πS/L2로 정의된다. 원형도는, 50개 이상의 입자에 대하여 측정된 값의 산술 평균값으로 한다.When the shape of the plate surface of the silver-coated flaky copper particles is substantially circular, the circularity of the plate surface is preferably 0.60 or more and 0.95 or less, more preferably 0.65 or more and 0.90 or less, and still more preferably 0.65 or more and 0.85 or less. Circularity is defined as 4πS/L 2 where S is the area of the plate surface and L is the circumferential length of the plate surface. The circularity is taken as the arithmetic average value of the values measured for 50 or more particles.

원형도의 구체적인 측정 방법은 다음과 같다.The specific measurement method of circularity is as follows.

화상 해석 입도 분포 측정 소프트웨어(가부시키가이샤 마운테크사 제조 Mac-View)를 사용하여 측정한다. 이 소프트웨어를 사용하여 50개 이상의 시료의 윤곽을 본떠, 윤곽 내의 면적을 구한다. 면적으로부터 원 상당 직경을 계산하고, 이것을 평균화한다.It measures using image analysis particle size distribution measuring software (Mac-View by Mount Tech Co., Ltd.). Using this software, the contours of more than 50 samples are modeled, and the area within the contours is calculated. Calculate the equivalent circle diameter from the area and average it.

은 피복 플레이크상 구리 입자에 있어서, 모재인 플레이크상 구리 입자의 표면의 일부가 노출된 상태로 되어 있으면, 즉 은의 피복이 불균일하게 되어 있으면, 은 피복 플레이크상 구리 분말을 수지와 혼합한 경우, 구리가 수지와 접촉하는 것에 기인하여 수지가 변성되어 버리는 경우가 있다. 따라서 은 피복 플레이크상 구리 입자는, 모재로서의 플레이크상 구리 입자의 표면에 은이 최대한 균일하게 피복되어 있는 것이 바람직하다. 특히 최대한 적은 양의 은으로써 플레이크상 구리 입자의 표면이 균일하게 피복되어 있는 것이, 경제성의 관점에서 바람직하다.In the silver-coated flaky copper particles, when a part of the surface of the flaky copper particles as the base material is exposed, that is, when the silver coating is non-uniform, when the silver-coated flaky copper powder is mixed with a resin, copper The resin may be denatured due to contact with the resin. Therefore, as for the silver-coated flaky copper particle, it is preferable that the surface of the flaky copper particle as a base material is coated with silver as uniformly as possible. In particular, it is preferable from the viewpoint of economy that the surfaces of the flaky copper particles are uniformly coated with the smallest amount of silver as possible.

은 피복 플레이크상 구리 입자에 있어서의 은의 피복 상태는, 은 피복 플레이크상 구리 분말의 명도 L*의 값에 의해 평가할 수 있다. 이 이유는, 구리 자체의 명도보다도 은 자체의 명도의 쪽이 높기 때문이다. 그렇다고는 하지만, 플레이크상 구리 입자의 표면에 큰 두께로써 은을 피복하여 명도를 높여도 경제적으로 불리해질 뿐만 아니라, 수지 중에서의 은 피복 플레이크상 구리 분말의 분산성도 저하되어 버리는 것이 본 발명자의 검토 결과 판명되었다. 따라서, 은 피복 플레이크상 구리 분말의 명도 L*의 값이 높은 것만을 이유로 하여 당해 은 피복 플레이크상 구리 분말이 바람직한 것이라고 할 수는 없다.The silver coating state in the silver-coated flaky copper particles can be evaluated by the value of lightness L* of the silver-coated flaky copper powder. This reason is that the brightness of silver itself is higher than the brightness of copper itself. However, as a result of investigation by the present inventors, even if the surface of the flaky copper particles is coated with silver with a large thickness to increase the brightness, not only is it economically disadvantageous, but also the dispersibility of the silver-coated flaky copper powder in the resin is reduced. Turned out. Therefore, it cannot be said that the said silver-coated flaky copper powder is a preferable thing only for the reason that the value of lightness L* of silver-coated flaky copper powder is high.

수지와 혼합한 경우의 수지의 변성을 방지하고 또한 수지 중에서의 분산성을 높이는 관점에서 본 발명자가 예의 검토한 결과, 은 피복 플레이크상 구리 분말에 대한 D90/D10의 값과, 명도 L*의 값의 비율을 척도로서 채용하는 것이 유리한 것이 판명되었다. D90이란, 레이저 회절 산란식 입도 분포 측정법에 의한 누적 체적 90용량%에 있어서의 체적 누적 입경(㎛)을 말하고, D10이란, 동 측정법에 의한 누적 체적 10용량%에 있어서의 체적 누적 입경(㎛)을 말한다. 또한, D90/D10의 값은 분체의 입도 분포 척도가 되는 값이며 일반적으로 분산도라고 불리고 있다. 분산도의 값이 작을수록, 그 분체는 입자의 응집의 정도가 낮고, 또한 입도 분포가 샤프한 것을 의미한다. 따라서, L*/분산도의 값은, 그 값이 크면 클수록, 은에 의한 피복이 균일하고 또한 은 피복 플레이크상 구리 분말의 응집의 정도가 낮은 것을 의미한다.From the viewpoint of preventing denaturation of the resin when mixed with the resin and improving the dispersibility in the resin, the inventors of the present invention conducted intensive studies and found that the value of D 90 /D 10 for the silver-coated flaky copper powder and the lightness L* It has been found to be advantageous to employ the ratio of the values of as a measure. D 90 refers to the volume cumulative particle size (μm) in a cumulative volume of 90% by volume by a laser diffraction scattering particle size distribution measurement method, and D 10 refers to a volume cumulative particle size in a cumulative volume of 10% by volume by the same measurement method ( μm). In addition, the value of D 90 /D 10 is a value that becomes a measure of the particle size distribution of powder and is generally called dispersion. The smaller the value of the degree of dispersion, the lower the degree of particle aggregation and the sharper the particle size distribution of the powder. Therefore, the larger the value of L*/dispersion, the more uniform the coating with silver and the lower the degree of aggregation of the silver-coated flaky copper powder.

본 발명의 은 피복 플레이크상 구리 분말에 있어서는, L*/분산도의 값은, 13 이상인 것이 바람직하고, 14 이상인 것이 더욱 바람직하고, 15 이상인 것이 한층 바람직하다. L*/분산도의 값은, 크면 클수록 바람직하지만 25 정도로 그 값이 크면, 본 발명의 소기의 효과는 충분히 발휘된다.In the silver-coated flaky copper powder of this invention, it is preferable that it is 13 or more, as for the value of L*/dispersion degree, it is more preferable that it is 14 or more, and it is still more preferable that it is 15 or more. The larger the value of L*/dispersion, the better, but when the value is as large as 25, the desired effect of the present invention is sufficiently exhibited.

L*/분산도의 값은 상술한 바와 같은 것이 바람직한 바, L* 자체의 값은, 은에 의한 균일한 피복의 관점에서 70 이상인 것이 바람직하고, 73 이상인 것이 더욱 바람직하고, 76 이상인 것이 한층 바람직하다. 이러한 L*값을 갖는 은 피복 플레이크상 구리 분말은, 후술하는 방법에 의해 제조할 수 있다. L*의 상한값에 특별히 제한은 없고, 100에 가까우면 가까울수록 바람직하지만, 86 정도로 L*의 값이 크면 본 발명의 소기의 효과는 충분히 발휘된다. L*의 값은, JIS Z 8722(기하 조건 c에 준거/정반사광 포함함)에 기재된 확산 조명 수직 수광 방식, 예를 들어 코니카 미놀타 가부시키가이샤 제조의 색채 색차계(CR-400)를 사용하여 측정된다.The value of L*/dispersion is preferably as described above, and the value of L* itself is preferably 70 or more, more preferably 73 or more, and even more preferably 76 or more from the viewpoint of uniform coating with silver. do. The silver-coated flaky copper powder having such an L* value can be manufactured by the method described later. There is no particular restriction on the upper limit of L*, and the closer to 100, the better. However, when the value of L* is as large as about 86, the intended effect of the present invention is sufficiently exhibited. The value of L* is obtained by using a diffuse illumination vertical light receiving method described in JIS Z 8722 (compliance with geometric condition c/including specular reflection light), for example, using a color difference meter (CR-400) manufactured by Konica Minolta Co., Ltd. It is measured.

한편, 분산도의 값은, 5.3 이하, 특히 5.0 이하, 특히 4.5 이하인 것이, 수지 중에서의 은 피복 플레이크상 구리 분말의 분산성을 높이는 관점에서 바람직하다. 이러한 분산도를 갖는 은 피복 플레이크상 구리 분말은, 후술하는 방법에 의해 제조할 수 있다. 분산도의 하한값에 특별히 제한은 없으며 1에 가까우면 가까울수록 바람직하지만, 3.0 정도로 분산도의 값이 작으면 본 발명의 소기의 효과는 충분히 발휘된다.On the other hand, the value of the degree of dispersion is preferably 5.3 or less, particularly 5.0 or less, and particularly 4.5 or less from the viewpoint of enhancing the dispersibility of the silver-coated flaky copper powder in the resin. The silver-coated flaky copper powder having such a dispersion degree can be manufactured by the method mentioned later. There is no particular restriction on the lower limit of the degree of dispersion, and the closer to 1, the better. However, when the value of the degree of dispersion is as small as about 3.0, the desired effect of the present invention is fully exhibited.

분산도의 값은, 예를 들어 이하의 방법으로 산출할 수 있다. 은 피복 플레이크상 구리 분말을 소량 비커에 덜어, 3질량% 트리톤 X 용액(간토 가가쿠 가부시키가이샤 제조)을 2, 3방울 첨가하여, 분말에 섞고 나서, 0.1질량% SN 디스퍼선트 41용액(산노프코 가부시키가이샤 제조) 50mL를 첨가한다. 그 후, 초음파 분산기 TIPφ20(가부시키가이샤 니혼 세이키 세이사쿠쇼 제조, OUTPUT: 8, TUNING: 5)을 사용하여 2분간 분산 처리하여 측정용 샘플을 조제한다. 이 측정용 샘플을, 레이저 회절 산란식 입도 분포 측정 장치 MT3300(마이크로트랙 벨 가부시키가이샤 제조)을 사용하여, 입도 분포를 측정하고 D90 및 D10의 값을 얻는다. 이들 값으로부터 분산도를 산출한다.The value of dispersion degree is computable with the following method, for example. A small amount of silver-coated flaky copper powder was placed in a beaker, 2 or 3 drops of a 3% by mass Triton X solution (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) were added, and after mixing with the powder, a 0.1% by mass SN Dispersant 41 solution ( 50 mL of San Nopco Co., Ltd.) is added. Thereafter, using an ultrasonic disperser TIPφ20 (manufactured by Nippon Seiki Seisakusho, OUTPUT: 8, TUNING: 5), dispersion treatment is carried out for 2 minutes to prepare a sample for measurement. The particle size distribution of this sample for measurement is measured using a laser diffraction scattering type particle size distribution analyzer MT3300 (manufactured by Microtrac Bell Co., Ltd.), and values of D 90 and D 10 are obtained. The degree of dispersion is calculated from these values.

수지와 혼합한 경우의 수지의 변성을 방지하고 또한 수지 중에서의 분산성을 높이는 관점에서는, D50(㎛)에 대한, 은 피복 플레이크상 구리 입자의 두께 T(㎛)의 비율을 척도로서 채용하는 것도 유리한 것이 본 발명자의 검토 결과 판명되었다. D50이란, 레이저 회절 산란식 입도 분포 측정법에 의한 누적 체적 50용량%에 있어서의 체적 누적 입경(㎛)을 말한다. 본 발명에 있어서는, T/D50의 값이 0.04 이하인 것이 바람직하고, 0.03 이하인 것이 더욱 바람직하다. 한편, T/D50의 값은 0.005 이상인 것이 바람직하고, 0.01 이상인 것이 더욱 바람직하고, 0.01 이상 0.02 이하인 것이 한층 바람직하다. T/D50의 값은, 입경 D50을 고정하여 고려한 경우, 입경 D50에 대하여, 은 피복 플레이크상 구리 입자의 두께 T가 작은 것을 의미하고 있다. 두께가 너무 작으면 입자의 표면적이 너무 커져, 수지와의 반응성이 강해진다. 은 피복 플레이크상 구리 분말은, 이것을 수지와 혼합한 경우의 수지와의 변성 방지에 유효하고 또한 수지 중에서의 분산성의 향상에 유효한 것을 의미하고 있다. 일반적으로, 두께 T를 작게 하기 위해서는, 원료가 되는 구리 모분에 외력을 장시간 가하여 충분히 편평하게 변형시키면 되지만, 장시간에 걸쳐 외력을 가함으로써 구리 모분이 응집되어 버려 D50이 커지는 경향이 있다. 즉, 두께 T를 작게 하는 것과, D50을 작게 하는 것은 이율 배반의 관계에 있다. 그러나 본 발명에 있어서는, 후술하는 방법에 의해 구리 모분을 플레이크화함으로써, D50의 증대를 억제하면서 두께 T를 작게 하는 것이 가능해졌다.From the viewpoint of preventing denaturation of the resin when mixed with the resin and enhancing the dispersibility in the resin, the ratio of the thickness T (μm) of the silver-coated flaky copper particles to D 50 (μm) is employed as a measure It has also been found to be advantageous as a result of examination by the present inventors. D 50 refers to the cumulative volume particle diameter (μm) in 50% by volume of the cumulative volume according to the laser diffraction scattering particle size distribution measurement method. In this invention, it is preferable that the value of T/ D50 is 0.04 or less, and it is more preferable that it is 0.03 or less. On the other hand, the value of T/D 50 is preferably 0.005 or more, more preferably 0.01 or more, and still more preferably 0.01 or more and 0.02 or less. The value of T/D 50 means that the thickness T of the silver-coated flaky copper particles is small with respect to the particle size D 50 when the particle size D 50 is fixed and considered. When the thickness is too small, the surface area of the particles becomes too large, and the reactivity with the resin becomes strong. The silver-coated flaky copper powder means that it is effective for preventing modification with the resin when this is mixed with the resin and effective for improving the dispersibility in the resin. In general, in order to reduce the thickness T, an external force is applied to the copper hair powder as a raw material for a long time to deform it sufficiently flat . In other words, reducing the thickness T and decreasing D 50 have a contradictory relationship. However, in this invention, it became possible to make thickness T small, suppressing the increase of D50 by flake-forming copper hair powder by the method mentioned later.

두께 T는 얇으면 얇을수록 바람직하고, 구체적으로는 0.5㎛ 이하, 그 중에서도 0.3㎛ 이하, 특히 0.25㎛ 이하, 특히 0.20㎛ 이하인 것이 바람직하다. 두께 T의 하한값에 특별히 제한은 없지만, 0.10㎛ 정도로 두께 T가 작으면, 본 발명의 소기의 효과는 충분히 발휘된다.The thinner the thickness T, the more preferable it is, specifically, 0.5 μm or less, particularly 0.3 μm or less, particularly 0.25 μm or less, particularly preferably 0.20 μm or less. Although there is no particular restriction on the lower limit of the thickness T, as long as the thickness T is as small as 0.10 μm, the desired effect of the present invention is sufficiently exhibited.

한편, D50의 값은, 은 피복 플레이크상 구리 분말의 수지에 대한 분산성을 높이는 관점에서, 7㎛ 이상 17㎛ 이하인 것이 바람직하고, 8㎛ 이상 16㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하고, 9㎛ 이상 15㎛ 이하인 것이 한층 바람직하다. D50의 값은, 상술한 분산도의 측정과 마찬가지의 방법으로 측정할 수 있다.On the other hand, the value of D 50 is preferably 7 μm or more and 17 μm or less, more preferably 8 μm or more and 16 μm or less, from the viewpoint of enhancing the dispersibility of the silver-coated flaky copper powder in resin. It is further more preferable that it is micrometer or less. The value of D 50 can be measured by the method similar to the above-mentioned measurement of dispersion degree.

먼저 설명한 바와 같이 본 발명의 은 피복 플레이크상 구리 분말은 응집의 정도가 낮은, 즉 상술한 분산도(D90/D10)의 값이 작은 것이다. 따라서 본 발명의 은 피복 플레이크상 구리 분말에 있어서는, D90 및 D10의 값은, D50의 값으로부터 크게 떨어진 것으로 되어 있지 않은 것이 바람직하다. 이 관점에서, D90의 값은, 15㎛ 이상 35㎛ 이하인 것이 바람직하고, 16㎛ 이상 31㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하고, 17㎛ 이상 30.5㎛ 이하인 것이 한층 바람직하다. 한편, D10의 값은, 3.0㎛ 이상 8.0㎛ 이하인 것이 바람직하고, 3.9㎛ 이상 7.0㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하고, 5.0㎛ 이상 6.2㎛ 이하인 것이 한층 바람직하다.As described above, the silver-coated flaky copper powder of the present invention has a low degree of aggregation, that is, a small value of the above-mentioned dispersity (D 90 /D 10 ). Therefore, in the silver-coated flaky copper powder of this invention, it is preferable that the values of D90 and D10 do not become large apart from the value of D50 . From this point of view, the value of D 90 is preferably 15 μm or more and 35 μm or less, more preferably 16 μm or more and 31 μm or less, and still more preferably 17 μm or more and 30.5 μm or less. On the other hand, the value of D 10 is preferably 3.0 μm or more and 8.0 μm or less, more preferably 3.9 μm or more and 7.0 μm or less, and still more preferably 5.0 μm or more and 6.2 μm or less.

이상과 같이 본 발명의 은 피복 플레이크상 구리 분말은, 이를 구성하는 은 피복 플레이크상 구리 입자의 두께가 얇은 것이며, 또한 입자의 응집의 정도가 낮은 것이다. 이것에 기인하여 본 발명의 은 피복 플레이크상 구리 분말은, 그 탭 밀도가 낮은 것이 된다. 구체적으로는, 본 발명의 은 피복 플레이크상 구리 분말의 탭 밀도는, 바람직하게는 0.5g/㎤ 이상 2.5g/㎤ 이하이고, 보다 바람직하게는 0.5g/㎤ 이상 2.0g/㎤ 이하이고, 더욱 바람직하게는 0.7g/㎤ 이상 2.0g/㎤ 이하이고, 한층 바람직하게는 0.7g/㎤ 이상 1.8g/㎤ 이하이고, 한층 더 바람직하게는 0.7g/㎤ 이상 1.5g/㎤ 이하이고, 특히 바람직하게는 0.8g/㎤ 이상 1.3g/㎤ 이하이다. 탭 밀도는 JIS Z 2512에 준거하여 측정된다.As described above, in the silver-coated flaky copper powder of the present invention, the thickness of the silver-coated flaky copper particles constituting the same is thin, and the degree of aggregation of the particles is low. Owing to this, the silver-coated flaky copper powder of the present invention has a low tap density. Specifically, the tap density of the silver-coated flaky copper powder of the present invention is preferably 0.5 g/cm 3 or more and 2.5 g/cm 3 or less, more preferably 0.5 g/cm 3 or more and 2.0 g/cm 3 or less, and furthermore It is preferably 0.7 g/cm 3 or more and 2.0 g/cm 3 or less, more preferably 0.7 g/cm 3 or more and 1.8 g/cm 3 or less, still more preferably 0.7 g/cm 3 or more and 1.5 g/cm 3 or less, particularly preferably Preferably, it is 0.8 g/cm 3 or more and 1.3 g/cm 3 or less. A tap density is measured based on JIS Z 2512.

본 발명의 은 피복 플레이크상 구리 분말에 있어서는, 모재인 플레이크상 구리 입자의 표면이, 은에 의해 가능한 한 얇고 또한 균일하게 피복되어 있는 것이 바람직하다. 따라서 본 발명의 은 피복 플레이크상 구리 분말에 있어서의 은의 비율을 높게 하는 것은 바람직하지 않다. 상세하게는, 본 발명의 은 피복 플레이크상 구리 분말에 있어서의 은의 비율은, 5질량% 이상 20질량% 이하이고, 더욱 바람직하게는 7질량% 이상 16질량% 이하이고, 한층 바람직하게는 9질량% 이상 14질량% 이하이다. 은 피복 플레이크상 구리 분말에 있어서의 은의 비율은, ICP 발광 분광 분석법에 의해서 측정할 수 있다.In the silver-coated flaky copper powder of this invention, it is preferable that the surface of the flaky copper particle which is a base material is coated with silver as thinly and uniformly as possible. Therefore, it is undesirable to make high the ratio of silver in the silver-coated flaky copper powder of this invention. Specifically, the ratio of silver in the silver-coated flaky copper powder of the present invention is 5 mass% or more and 20 mass% or less, more preferably 7 mass% or more and 16 mass% or less, still more preferably 9 mass% It is % or more and 14 mass % or less. The ratio of silver in the silver-coated flaky copper powder can be measured by ICP emission spectrometry.

다음에 본 발명의 은 피복 플레이크상 구리 분말의 적합한 제조 방법에 대해서 설명한다. 본 발명의 제조 방법은, 모재인 구리 입자의 플레이크화 공정과, 플레이크상 구리 입자에 대한 은의 피복 공정으로 크게 구별된다.Next, the suitable manufacturing method of the silver-coated flaky copper powder of this invention is demonstrated. The production method of the present invention is broadly divided into a process of forming flakes of copper particles as a base material and a process of coating flaky copper particles with silver.

플레이크화 공정에 있어서는, 구리 모분 및 제1 착화제를 포함하는 분산액을, 매체 교반 밀 장치에 의해 처리하고, 해당 구리 모분을 구성하는 구리 모입자를 플레이크상으로 변형시킨다.In the flake forming step, the dispersion liquid containing the copper base powder and the first complexing agent is treated with a medium stirring mill device to deform the copper base particles constituting the copper base powder into flakes.

은의 피복 공정에 있어서는, 플레이크상으로 변형된 구리 모입자를 포함하는 구리 모분을, 은 이온 및 제2 착화제를 포함하는 수성액으로 처리하고, 해당 구리 모입자의 표면에 은을 석출시킨다.In the silver coating step, copper base powder containing copper base particles deformed into flakes is treated with an aqueous solution containing silver ions and a second complexing agent to deposit silver on the surfaces of the copper base particles.

이하, 각각의 공정에 대해서 설명한다.Hereinafter, each process is demonstrated.

구리 모분의 플레이크화 공정에 있어서는, 플레이크상 이외의 형상을 갖는 구리 모분에 외력을 가하여, 해당 구리 모분을 편평한 형상으로 변형시킨다. 구리 모분으로서는, 예를 들어 습식 환원법에 의해 제조된 구상의 구리 모분, 구리 이온을 포함하는 전해액을 전기 분해하여 얻어진 전해 구리 모분, 아토마이즈법에 의해 제조된 구상의 구리 모분 등을 들 수 있다. 이들 구리 모분 중, 전해법에 의해 제조된 덴드라이트상 구리 모분을 플레이크화하는 것이, 두께가 작은 플레이크상 구리 분말을 순조롭게 제조할 수 있는 점에서 바람직하다.In the flaking process of copper hair powder, an external force is applied to copper hair powder having a shape other than flake shape to deform the copper hair powder into a flat shape. Examples of the copper mother powder include spherical copper hair powder manufactured by a wet reduction method, electrolytic copper hair powder obtained by electrolyzing an electrolyte solution containing copper ions, and spherical copper hair powder manufactured by an atomization method. Among these copper base powders, it is preferable to flake the dendrite-like copper base powder produced by the electrolytic method from the viewpoint of being able to smoothly manufacture a flaky copper powder having a small thickness.

전해법에 의해 제조된 덴드라이트상 구리 입자를 모분으로서 사용하는 경우에는, 플레이크화에 앞서서, 해당 덴드라이트상 구리 입자를 분쇄하는 것이, 두께가 작은 플레이크상 구리 분말을 한층 순조롭게 제조할 수 있는 점에서 바람직하다. 분쇄의 수단은 특별히 제한은 없고, 예를 들어 원판식, 롤러식, 실린더식, 충격식, 제트식, 고속 회전식에 의한 분쇄 방식을 들 수 있다. 또한, 건식 분쇄 및 습식 분쇄 중 어느 것을 사용해도 된다. 덴드라이트상 구리 입자에 있어서의 가지부와 줄기부를 확실하게 분리시키는 관점에서는 건식 분쇄를 행하는 것이 바람직하다. 건식 분쇄에는 예를 들어 충돌판 방식의 제트 밀이나, 입자끼리를 충돌시키는 방식의 제트 밀을 사용하는 것이 바람직하다.In the case of using dendrite-like copper particles produced by the electrolysis method as the mother powder, pulverizing the dendrite-like copper particles prior to flaking makes it possible to more smoothly produce flaky copper powder having a small thickness preferred in The means of pulverization is not particularly limited, and examples thereof include disc type, roller type, cylinder type, impact type, jet type, and high-speed rotation type pulverization method. Also, either dry grinding or wet grinding may be used. From the viewpoint of reliably separating the branch portion and the stem portion of the dendrite-like copper particles, it is preferable to perform dry grinding. For dry grinding, it is preferable to use, for example, a jet mill of a collision plate type or a jet mill of a type in which particles collide with each other.

분쇄 후의 구리 입자의 입경 D50은, 원하는 입경 및 두께를 갖는 플레이크상 구리 입자를 얻는 관점에서, 2㎛ 이상 8㎛ 이하인 것이 바람직하고, 3㎛ 이상 7㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하고, 4㎛ 이상 6㎛ 이하인 것이 한층 바람직하다.From the viewpoint of obtaining flaky copper particles having a desired particle diameter and thickness, the particle size D 50 of the copper particles after grinding is preferably 2 μm or more and 8 μm or less, more preferably 3 μm or more and 7 μm or less, and 4 μm or more 6 μm. It is further more preferable that it is micrometer or less.

다음에, 모재인 구리 입자의 플레이크화를 행한다. 플레이크화에는, 비즈 밀, 볼 밀, 어트리터 등의 매체 교반 밀을 사용할 수 있다.Next, flake formation of copper particles as a base material is performed. For flake formation, media agitation mills such as bead mills, ball mills, and attritors can be used.

매체 교반 밀을 사용하여 플레이크화를 행하는 데 앞서서, 구리 입자를 액매체에 분산시켜서 분산액을 조제한다. 분산액의 조제에 사용되는 액매체로서는, 예를 들어 물이나 유기 용매를 들 수 있다. 물과 유기 용매의 혼합 용매를 사용할 수도 있다. 유기 용매로서는, 메탄올, 에탄올 등의 탄소수 1 내지 4의 저급 모노 알코올; 에틸렌글리콜 등의 탄소수 1 내지 4의 저급 다가 알코올; 탄소수 1 내지 4의 저급 카르복실산; 탄소수 1 내지 4의 저급 아민 등을 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 이들 액매체 중, 유기 용매를 사용하는 것이, 분산액 중에서의 구리 입자의 분산성이 높아지고, 또한 매체 교반 밀로 처리할 때의 품질 안정성이 높아지는 점에서 바람직하다. 특히 메탄올 등의 저급 알코올류를 사용하는 것이, 매체의 휘발이 용이하고, 목적으로 하는 플레이크상 구리 입자에 매체가 잔류하기 어려운 점에서 바람직하다.Prior to flake formation using a media stirring mill, copper particles are dispersed in a liquid medium to prepare a dispersion. As a liquid medium used for preparation of a dispersion liquid, water and an organic solvent are mentioned, for example. A mixed solvent of water and an organic solvent may also be used. Examples of organic solvents include lower monoalcohols having 1 to 4 carbon atoms such as methanol and ethanol; lower polyhydric alcohols having 1 to 4 carbon atoms such as ethylene glycol; lower carboxylic acids having 1 to 4 carbon atoms; A lower amine having 1 to 4 carbon atoms and the like can be used alone or in combination of two or more. Among these liquid media, it is preferable to use an organic solvent from the viewpoint of increasing the dispersibility of the copper particles in the dispersion and increasing the quality stability during treatment with a medium stirring mill. It is preferable to use especially lower alcohols, such as methanol, from the viewpoint that volatilization of the medium is easy and that the medium is difficult to remain in the target flaky copper particles.

분산액 중에 있어서의 구리 입자의 농도는, 생산성의 점이나, 조대 입자의 발생 방지의 점에서, 10질량% 이상 60질량% 이하인 것이 바람직하고, 20질량% 이상 50질량% 이하인 것이 바람직하다.The concentration of the copper particles in the dispersion is preferably 10% by mass or more and 60% by mass or less, and preferably 20% by mass or more and 50% by mass or less, from the viewpoint of productivity and prevention of generation of coarse particles.

분산액을 조제하기 위해서는, 구리 입자와 액매체를 단순히 혼합하는 것만으로 좋다. 경우에 따라서는, 교반 분산 장치를 사용하여 분산액을 조제해도 된다. 그러한 장치로서는, 예를 들어 유체 밀이나 프라이믹스 가부시키가이샤 제조의 T.K.필믹스(등록상표) 등을 들 수 있다.To prepare the dispersion, it is sufficient to simply mix the copper particles and the liquid medium. Depending on the case, you may prepare a dispersion liquid using the stirring dispersion apparatus. Examples of such a device include a fluid mill and T.K. Filmix (registered trademark) manufactured by Primix Co., Ltd.

본 제조 방법에 있어서는, 분산액 중에 제1 착화제를 함유시켜 두는 것이 바람직하다. 제1 착화제의 작용에 의해, 플레이크화를 행하고 있는 동안의 구리 입자의 응집이 효과적으로 억제된다. 또한, 구리 입자의 표면에 존재하는 산화물이 제1 착화제에 의해 제거되어, 플레이크상 구리 입자의 표면에 은을 얇고 또한 균일하게 피복시킬 수 있다. 이 관점에서, 분산액에 포함되는 제1 착화제의 농도는, 분산액 중에 있어서의 구리 입자의 농도가 상술한 범위인 것을 조건으로 하여, 0.1질량% 이상 40질량% 이하인 것이 바람직하고, 0.5질량% 이상 20질량% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 1질량% 이상 10질량% 이하인 것이 한층 바람직하다.In this manufacturing method, it is preferable to contain the first complexing agent in the dispersion. Aggregation of copper particles during flaking is effectively suppressed by the action of the first complexing agent. In addition, the oxide present on the surface of the copper particle is removed by the first complexing agent, and the surface of the flaky copper particle can be coated with silver thinly and uniformly. From this point of view, the concentration of the first complexing agent contained in the dispersion is preferably 0.1% by mass or more and 40% by mass or less, and is 0.5% by mass or more, on condition that the concentration of the copper particles in the dispersion is in the above-mentioned range. It is more preferable that it is 20 mass % or less, and it is still more preferable that it is 1 mass % or more and 10 mass % or less.

종래, 구리 모분을 매체 교반 밀에 의해 플레이크화하는 경우에는, 해당 구리 모분을 포함하는 분산액에 지방산을 함유시켜서 해당 구리 모분을 구성하는 구리 입자의 응집을 억제하는 경우가 많았다. 그러나 지방산을 사용하면, 플레이크화 후의 구리 입자의 표면에 해당 지방산이 부착되어 잔류한다는 점에서, 플레이크화 후의 구리 입자의 표면에 은을 피복시키기 위해서는 그에 앞서서 지방산을 제거할 필요가 있었다. 지방산을 제거하기 위해서는 탈지 공정이 필요해져 공정이 증가한다는 문제와, 탈지 공정에 의해 구리 입자의 표면이 산화된다고 하는 문제가 있었다. 이에 반해 분산액 중에 지방산을 함유시키지 않고, 그 대신에 제1 착화제를 함유시키는 본 제조 방법에 의하면, 그러한 문제는 발생하지 않는다.Conventionally, when copper hair powder is flaked by a media stirring mill, aggregation of copper particles constituting the copper hair powder is often suppressed by making a dispersion liquid containing the copper hair powder contain a fatty acid. However, when a fatty acid is used, since the fatty acid adheres to and remains on the surface of the copper particle after flaking, it is necessary to remove the fatty acid prior to coating the surface of the copper particle after flaking with silver. In order to remove fatty acids, there was a problem that a degreasing step was required and the number of steps increased, and a problem that the surface of the copper particles was oxidized by the degreasing step. In contrast, such a problem does not occur according to the present production method in which the dispersion liquid does not contain a fatty acid and instead contains the first complexing agent.

제1 착화제는, 단좌의 것이어도 되고, 2좌, 3좌 및 4좌 등의 다좌가 것이어도 된다. 구리에 대한 배위성의 높이의 관점에서, 제1 착화제로서는, 시트르산, 아스코르브산, 에틸렌디아민4아세트산염 등을 들 수 있다. 이들 착화제는 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 이들 착화제 중, 플레이크화 공정에 있어서 구리 입자의 응집을 효과적으로 억제할 수 있는 관점에서, 에틸렌디아민4아세트산염을 사용하는 것이 바람직하다.The first complexing agent may be a single-located agent or may be a multi-located agent such as two-located, tri-located, and tetra-located. Citric acid, ascorbic acid, ethylenediamine tetraacetate, etc. are mentioned as a 1st complexing agent from a viewpoint of the height of coordination with copper. These complexing agents may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. Among these complexing agents, it is preferable to use ethylenediamine tetraacetate from the viewpoint of effectively suppressing aggregation of copper particles in the flaking step.

플레이크화 공정에 있어서는, 분산액과 분쇄 미디어를 매체 교반 밀 장치 내에 넣고 혼합 교반한다.In the flake forming process, the dispersion liquid and pulverization media are put into a medium agitation mill and mixed and agitated.

분쇄 미디어의 직경은 0.1㎜ 이상 1㎜ 이하인 것이 바람직하다. 분쇄 미디어의 재질은, 일반적으로 지르코니아나 알루미나이다.It is preferable that the diameter of grinding media is 0.1 mm or more and 1 mm or less. The material of the grinding media is generally zirconia or alumina.

매체 교반 밀 장치의 운전 시간이나 회전 속도, 패스의 횟수 등은, 목적으로 하는 플레이크상 구리 분말이 얻어지도록 적절히 조정하면 된다.What is necessary is just to adjust suitably so that the target flaky copper powder may be obtained for the operating time, rotational speed, number of passes, etc. of the media stirring mill device.

이와 같이 하여 구리 모분을 구성하는 구리 모입자를 플레이크상으로 변형시켰으면, 다음에 은의 피복 공정을 행한다. 은의 피복 공정에 있어서, 먼저 설명한 바와 같이, 플레이크상으로 변형된 구리 모입자를 포함하는 구리 모분을, 은 이온 및 제2 착화제를 포함하는 수성액으로 처리한다. 이 처리는, 이하의 처리 1 및 처리 2를 포함하는 것이 바람직하다.After the copper base particles constituting the copper base powder have been deformed into flakes in this way, a silver coating step is performed next. In the silver coating step, as described above, the copper base powder containing the copper base particles deformed into flakes is treated with an aqueous solution containing silver ions and a second complexing agent. It is preferable that this process includes process 1 and process 2 below.

〔처리 1〕[Process 1]

은 이온과, 플레이크상 구리 입자를 수중에서 접촉시켜서 치환 도금을 행하여, 해당 플레이크상 구리 입자의 표면에 은을 석출시킨다. 이 석출에 의해 전구체 입자를 얻는다.Substitution plating is performed by bringing silver ions and flaky copper particles into contact in water to deposit silver on the surface of the flaky copper particles. Precursor particles are obtained by this precipitation.

〔처리 2〕[Process 2]

처리 1에서 얻어진 전구체 입자와, 은 이온과, 은 이온의 환원제를 수중에서 접촉시켜서, 해당 전구체 입자의 표면에 또한 은을 석출시킨다.The precursor particles obtained in Process 1, silver ions, and a reducing agent for the silver ions are brought into contact in water to further deposit silver on the surface of the precursor particles.

처리 1 및 처리 2에서 사용되는 은 이온은, 은원이 되는 은 화합물로부터 생성시킨다. 은 화합물로서는, 예를 들어 질산은 등의 수용성 은 화합물을 사용할 수 있다. 수중에 있어서의 은 이온의 농도는, 0.01 내지 10㏖/L, 특히 0.04 내지 2.0㏖/L로 설정하는 것이, 바람직한 양의 은을 플레이크상 구리 입자의 표면에 석출시킬 수 있는 관점에서 바람직하다.The silver ion used in the process 1 and the process 2 is produced|generated from the silver compound used as a silver source. As a silver compound, water-soluble silver compounds, such as silver nitrate, can be used, for example. The concentration of silver ions in water is preferably set to 0.01 to 10 mol/L, particularly 0.04 to 2.0 mol/L, from the viewpoint of allowing a preferable amount of silver to precipitate on the surface of the flaky copper particles.

처리 1에 있어서, 수중에 있어서의 플레이크상 구리 입자의 양은, 1 내지 1000g/L, 특히 50 내지 500g/L로 하는 것이, 역시 바람직한 양의 은을 플레이크상 구리 입자의 표면에 석출시킬 수 있는 관점에서 바람직하다.In Treatment 1, the amount of the flaky copper particles in water is 1 to 1000 g/L, particularly 50 to 500 g/L, so that silver in a preferable amount can be deposited on the surface of the flaky copper particles. preferred in

처리 1에 있어서, 플레이크상 구리 입자와 은 이온의 첨가의 순서에 특별히 제한은 없다. 예를 들어 플레이크상 구리 입자와 은 이온을 동시에 수중에 첨가할 수 있다. 치환 도금에 의한 은의 석출의 컨트롤의 용이함의 관점에서는, 수중에 플레이크상 구리 입자를 미리 분산시켜서 분산액을 조제하고, 이 분산액에 은원이 되는 은 화합물을 첨가하는 것이 바람직하다. 이 경우, 분산액은 상온이어도 되고, 혹은 0 내지 80℃의 온도 범위여도 된다.In Process 1, there is no particular restriction on the order of adding the flaky copper particles and silver ions. For example, flaky copper particles and silver ions can be simultaneously added to water. From the viewpoint of ease of control of silver deposition by displacement plating, it is preferable to prepare a dispersion by previously dispersing flaky copper particles in water, and to add a silver compound serving as a silver source to the dispersion. In this case, the dispersion may be at room temperature or in the temperature range of 0 to 80°C.

은 화합물의 첨가에 앞서서, 분산액 중에 제2 착화제를 첨가해 두고, 은의 환원을 컨트롤하는 것이 바람직하다. 제2 착화제로서는, 예를 들어 에틸렌디아민4아세트산염, 트리에틸렌디아민, 이미노2아세트산 및 그의 염, 시트르산 및 그의 염, 그리고 타르타르산 및 그의 염 등을 들 수 있다.Prior to the addition of the silver compound, it is preferable to add the second complexing agent in the dispersion to control reduction of silver. Examples of the second complexing agent include ethylenediamine tetraacetate, triethylenediamine, iminodiacetic acid and salts thereof, citric acid and salts thereof, and tartaric acid and salts thereof.

먼저 설명한 제1 착화제와, 상기한 제2 착화제는 동종의 것이어도 되고, 혹은 이종의 것이어도 되지만, 착체의 안정도 상수를 맞추는 관점에서, 제1 착화제와 제2 착화제는 동종의 것인 것이 바람직하다. 특히, 플레이크화 공정에 있어서 구리 입자의 응집을 효과적으로 억제하는 관점, 및 은의 피복 공정에 있어서 은을 얇고 또한 균일하게 피복시키는 관점에서, 제1 착화제와 제2 착화제는 모두 에틸렌디아민4아세트산염인 것이 바람직하다.The first complexing agent described above and the second complexing agent described above may be of the same kind or different kinds, but from the viewpoint of matching the stability constants of the complex, the first complexing agent and the second complexing agent are of the same kind. It is desirable to be In particular, both the first complexing agent and the second complexing agent are ethylenediaminetetraacetate from the viewpoint of effectively suppressing aggregation of copper particles in the flaking step and from the viewpoint of thinly and uniformly coating silver in the silver coating step. It is desirable to be

처리 1에 있어서의 은 화합물의 첨가는 수용액의 상태로 행하는 것이 바람직하다. 이 수용액은 분산액 중에 일괄 첨가할 수도 있고, 혹은 소정의 시간에 걸쳐서 연속적으로 또는 불연속으로 첨가할 수도 있다. 치환 도금의 반응을 제어하기 쉬운 점에서, 은 화합물의 수용액은, 소정의 시간에 걸쳐 분산액에 첨가하는 것이 바람직하다.It is preferable to perform addition of the silver compound in the process 1 in the state of aqueous solution. This aqueous solution may be added in a lump in the dispersion, or may be added continuously or discontinuously over a predetermined period of time. It is preferable to add the aqueous solution of the silver compound to the dispersion over a predetermined period of time from the viewpoint of facilitating the control of the substitution plating reaction.

처리 1에 있어서는, 분산액에 은 화합물을 첨가하기 전부터, 또는 첨가하는 것과 동시에, 해당 분산액에 초음파를 조사하는 것이 바람직하다. 초음파의 조사에 의해 분산액 중의 플레이크상 구리 입자의 분산이 촉진되어, 은에 의한 해당 플레이크상 구리 입자의 균일 피복이 일어나기 쉬워진다. 초음파는 이를 조사하면 일정한 효과는 있지만, 특히 주파수는 200㎑ 이하가 바람직하고, 45㎑ 이하가 보다 바람직하다. 하한은 10㎑이면 충분하다.In Treatment 1, it is preferable to irradiate the dispersion with ultrasonic waves before adding the silver compound to the dispersion or simultaneously with the addition. The dispersion of the flaky copper particles in the dispersion is promoted by the irradiation of ultrasonic waves, so that the uniform coating of the flaky copper particles with silver tends to occur. When irradiated with ultrasonic waves, there is a certain effect, but in particular, the frequency is preferably 200 kHz or less, and more preferably 45 kHz or less. A lower limit of 10 kHz is sufficient.

처리 1에 있어서는, 상술한 치환 도금에 의해 플레이크상 구리 입자의 표면에 은이 석출되어 전구체 입자가 얻어진다. 전구체 입자에 있어서의 은의 석출량은, 최종적으로 얻어지는 은 피복 플레이크상 구리 분말에 있어서의 은의 양의 0.1 내지 50질량%, 특히 1 내지 10질량%로 하는 것이, 얇고 또한 균일한 은의 피복을 형성할 수 있는 점에서 바람직하다.In process 1, silver precipitates on the surface of the flaky copper particle by the displacement plating mentioned above, and precursor particle|grains are obtained. The amount of precipitation of silver in the precursor particles is 0.1 to 50% by mass, particularly 1 to 10% by mass of the amount of silver in the finally obtained silver-coated flaky copper powder, so that a thin and uniform silver coating can be formed. It is desirable in that it can be

다음에 처리 2에 대해서 설명한다. 처리 2에 있어서는, 처리 1에서 얻어진 전구체 입자를 포함하는 분산액에, 은 이온 및 은 이온의 환원제를 첨가한다. 이 경우, 처리 1에서 얻어진 전구체 입자를 일단 고액 분리한 후에 물에 분산시켜서 분산액으로 이루어도 되고, 혹은 처리 1에서 얻어진 전구체 입자의 분산액을 그대로 처리 2에 제공해도 된다. 후자의 경우, 분산액 중에, 처리 1에서 첨가한 은 이온이 잔존하고 있어도 되고, 혹은 잔존하고 있지 않아도 된다.Process 2 will be described next. In Treatment 2, silver ions and a reducing agent for silver ions are added to the dispersion containing the precursor particles obtained in Treatment 1. In this case, the precursor particles obtained in Treatment 1 may be once solid-liquid separated and then dispersed in water to form a dispersion, or the dispersion of precursor particles obtained in Treatment 1 may be directly used in Treatment 2. In the case of the latter, the silver ions added in the treatment 1 may or may not remain in the dispersion.

처리 2에 있어서 첨가하는 은 이온은, 처리 1과 동일하게 수용성 은 화합물로부터 생성시킨다. 은 화합물은, 수용액의 상태로 분산액에 첨가하는 것이 바람직하다. 수용액 중의 은 이온의 농도는 바람직하게는 0.01 내지 10㏖/L, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 2.0㏖/L이다. 이 범위의 농도의 은 이온을 갖는 수용액을, 1 내지 1000g/L, 특히 50 내지 500g/L의 전구체 입자를 포함하는 상기 분산액에 있어서의 해당 전구체 입자 100질량부에 대하여 0.1 내지 55질량부, 특히 1 내지 25질량부 첨가하는 것이, 얇고 또한 균일한 은의 피복을 형성할 수 있는 점에서 바람직하다.Silver ions added in Treatment 2 are generated from a water-soluble silver compound in the same manner as in Treatment 1. The silver compound is preferably added to the dispersion in the form of an aqueous solution. The concentration of silver ions in the aqueous solution is preferably 0.01 to 10 mol/L, more preferably 0.1 to 2.0 mol/L. 0.1 to 55 parts by mass, in particular 0.1 to 55 parts by mass, based on 100 parts by mass of the precursor particles in the dispersion liquid containing the precursor particles of 1 to 1000 g/L, particularly 50 to 500 g/L, of an aqueous solution having silver ions at a concentration in this range. It is preferable to add 1 to 25 parts by mass from the viewpoint of being able to form a thin and uniform silver coating.

처리 2에 있어서 첨가하는 환원제로서는, 은의 치환 도금 및 환원 도금을 동시에 진행시킬 수 있는 정도의 환원력을 갖는 것을 사용한다. 이러한 환원제를 사용함으로써, 얇고 또한 균일한 은의 피복을 순조롭게 형성할 수 있다. 환원성이 강한 환원제를 사용하면, 환원 도금이 일방적으로 진행되어 버려 목적으로 하는 구조를 갖는 은의 피복을 형성하는 것이 용이하지 않다. 한편, 환원성이 약한 환원제를 사용하면, 은 이온의 환원 도금이 진행되기 어렵고, 그것에 기인하여 역시 목적으로 하는 구조를 갖는 은의 피복을 형성하는 것이 용이하지 않다. 이상의 관점에서, 환원제로서는, 이를 물에 용해했을 때에 산성을 나타내는 유기 환원제를 사용하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 포름산, 옥살산, L-아스코르브산, 에리토르브산, 포름알데히드 등이 있다. 이들 유기 환원제는 1종을 단독으로 사용해도 되고, 혹은 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 그 중에서도, L-아스코르브산을 사용하는 것이 바람직하다. 여기서 말하는 「산성」이란, 유기 환원제 0.1몰을 1000g의 물에 용해한 수용액이, 25℃에서 1 내지 6의 pH를 나타내는 것이다.As the reducing agent added in Treatment 2, a reducing agent having a level of reducing power capable of simultaneously advancing silver substitution plating and reduction plating is used. By using such a reducing agent, a thin and uniform silver coating can be formed smoothly. If a reducing agent with strong reducing properties is used, reduction plating proceeds unilaterally, making it difficult to form a silver coating having a target structure. On the other hand, if a reducing agent with weak reducibility is used, reduction plating of silver ions is difficult to proceed, and it is also not easy to form a silver coating having a target structure due to this. From the viewpoints above, it is preferable to use an organic reducing agent that exhibits acidity when dissolved in water as the reducing agent. Specifically, there are formic acid, oxalic acid, L-ascorbic acid, erythorbic acid, formaldehyde and the like. These organic reducing agents may be used individually by 1 type, or may be used in combination of 2 or more types. Especially, it is preferable to use L-ascorbic acid. "Acidity" as used herein means that an aqueous solution obtained by dissolving 0.1 mol of an organic reducing agent in 1000 g of water has a pH of 1 to 6 at 25°C.

환원제의 첨가량은, 첨가하는 수용액 중의 은 이온에 대하여 0.5 내지 5.0 당량, 특히 1.0 내지 2.0 당량으로 하는 것이, 은의 치환 도금 및 환원 도금을 동시에 진행시키기 쉬운 점에서 바람직하다.The addition amount of the reducing agent is preferably 0.5 to 5.0 equivalents, particularly 1.0 to 2.0 equivalents, relative to the silver ions in the aqueous solution to be added, in view of facilitating simultaneous silver substitution plating and reduction plating.

전구체 입자를 포함하는 분산액에 환원제 및 은 이온을 첨가할 때의 순서에 특별히 제한은 없다. 은 이온의 환원을 제어하여, 얇고 또한 균일한 은의 피복을 형성하는 관점에서는, 분산액 중에 환원제를 첨가한 후에 은 이온을 첨가하는 것이 바람직하다. 은원이 되는 은 화합물은, 분산액 중에 일괄 첨가할 수도 있고, 혹은 소정의 시간에 걸쳐 연속적으로 또는 불연속으로 첨가할 수도 있다. 은 이온의 환원을 제어하기 쉬운 점에서, 은 화합물은 그 수용액의 상태로, 소정의 시간에 걸쳐 분산액에 첨가하는 것이 바람직하다.The order in which the reducing agent and silver ions are added to the dispersion containing the precursor particles is not particularly limited. From the viewpoint of controlling the reduction of silver ions and forming a thin and uniform silver coating, it is preferable to add silver ions after adding a reducing agent to the dispersion. The silver compound serving as a silver source may be added in a lump in the dispersion liquid, or may be added continuously or discontinuously over a predetermined period of time. From the viewpoint of easy control of the reduction of silver ions, it is preferable to add the silver compound to the dispersion in the form of an aqueous solution over a predetermined period of time.

처리 2에 있어서, 은의 치환 도금 및 환원 도금을 동시에 진행시킬 때에는, 분산액을 상온의 상태로 해 두어도 되고, 혹은 0 내지 80℃의 온도 범위에서 가열해 두어도 된다.In Process 2, when silver substitution plating and reduction plating are performed simultaneously, the dispersion may be maintained at room temperature or heated in a temperature range of 0 to 80°C.

처리 1의 경우와 마찬가지로 처리 2에 있어서는, 분산액에 환원제를 첨가하기 전부터, 또는 첨가하는 것과 동시에, 해당 분산액에 초음파를 조사하는 것이 바람직하다. 초음파의 조사에 의해 분산액 중의 전구체 입자의 분산이 촉진되어, 은에 의한 해당 전구체 입자의 균일 피복이 일어나기 쉬워진다. 초음파는 이를 조사하면 일정한 효과는 있지만, 특히 주파수는 200㎑ 이하가 바람직하고, 45㎑ 이하가 보다 바람직하다. 하한은 10㎑이면 충분하다.As in the case of Treatment 1, in Treatment 2, it is preferable to irradiate the dispersion with ultrasonic waves before or simultaneously with the addition of the reducing agent to the dispersion. The dispersion of the precursor particles in the dispersion liquid is promoted by the irradiation of ultrasonic waves, and the uniform coating of the precursor particles with silver tends to occur. When irradiated with ultrasonic waves, there is a certain effect, but in particular, the frequency is preferably 200 kHz or less, and more preferably 45 kHz or less. A lower limit of 10 kHz is sufficient.

이와 같이 하여 얻어진 은 피복 플레이크상 구리 분말은, 해당 구리 분말 및 수지를 포함하는 도전성 조성물의 상태로 적합하게 사용된다. 예를 들어 은 피복 플레이크상 구리 분말을 수지, 유기 용매 및 유리 프릿 등과 혼합하여 도전 페이스트로 이룰 수 있다. 혹은, 은 피복 플레이크상 구리 분말을 유기 용매 등과 혼합하여 도전 잉크로 이룰 수 있다. 이와 같이 하여 얻어진 도전 페이스트나 도전 잉크를 적용 대상물의 표면에 실시함으로써, 원하는 패턴을 갖는 도전막을 얻을 수 있다.The silver-coated flaky copper powder thus obtained is suitably used in the state of a conductive composition containing the copper powder and resin. For example, a conductive paste can be formed by mixing silver-coated flaky copper powder with a resin, an organic solvent, and a glass frit. Alternatively, a conductive ink can be obtained by mixing silver-coated flaky copper powder with an organic solvent or the like. By applying the conductive paste or conductive ink obtained in this way to the surface of the object to be applied, a conductive film having a desired pattern can be obtained.

본 발명의 은 피복 플레이크상 구리 분말에 있어서는 은의 피복이 얇고 또한 균일하게 되어 있으므로, 해당 은 피복 플레이크상 구리 분말은 도전성 조성물 중에 있어서 구리의 용출이 효과적으로 억제된다. 그 결과, 상기 도전성 조성물에 포함되는 수지의 변성이 억제된 것이 된다.In the silver-coated flaky copper powder of the present invention, since the coating of silver is thin and uniform, elution of copper is effectively suppressed in the conductive composition of the silver-coated flaky copper powder. As a result, denaturation of the resin contained in the conductive composition is suppressed.

또한 본 발명의 은 피복 플레이크상 구리 분말은 응집의 정도가 낮으므로, 도전성 조성물 중에서의 분산성이 양호하다. 따라서 상기 도전성 조성물로부터 얻어진 도전막은 그 도전성이 높은 것이 된다.Moreover, since the degree of aggregation is low, the silver-coated flaky copper powder of this invention has favorable dispersibility in a conductive composition. Therefore, the conductive film obtained from the conductive composition has high conductivity.

실시예Example

이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 그러나 본 발명의 범위는, 이러한 실시예에 제한되지 않는다. 특별히 언급하지 않는 한, 「%」 및 「부」는 각각 「질량%」 및 「질량부」를 의미한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by examples. However, the scope of the present invention is not limited to these examples. Unless otherwise indicated, "%" and "part" mean "mass %" and "part by mass", respectively.

〔실시예 1〕[Example 1]

(1) 전해 구리 분말의 제조(1) Manufacture of electrolytic copper powder

2.5m×1.1m×1.5m의 크기(약 4㎥)의 전해조 내에, 각각 크기 (1.0m×1.0m) 9매의 음극판과 불용성 양극판(DSE(페르멜렉 전극사 제조))을 전극간 거리가 5㎝가 되도록 매달아 설치하였다. 전해액으로서의 황산구리 용액을 20L/분으로 전해조를 순환시켰다. 이 전해액에 양극과 음극을 침지하고, 이것에 직류 전류를 흘려서 전기 분해를 행하여, 음극 표면에 분말상의 구리를 석출시켰다.In an electrolytic cell of 2.5 m × 1.1 m × 1.5 m (approximately 4 m 3), nine negative electrode plates and insoluble positive electrode plates (DSE (manufactured by Permelec Electrode Co., Ltd.)) of each size (1.0 m × 1.0 m) are placed at a distance between electrodes. It was installed by hanging it so that it was 5 cm. A copper sulfate solution as an electrolytic solution was circulated through the electrolytic cell at 20 L/min. A positive electrode and a negative electrode were immersed in this electrolyte solution, and electrolysis was performed by applying a direct current thereto to deposit powdery copper on the surface of the negative electrode.

순환시키는 전해액의 구리 이온의 농도를 5g/L, 황산(H2SO4)의 농도를 100g/L, 전류 밀도를 100A/㎡로 조정하여 40분간 전해를 실시하였다.Electrolysis was performed for 40 minutes by adjusting the copper ion concentration of the circulating electrolyte to 5 g/L, the sulfuric acid (H 2 SO 4 ) concentration to 100 g/L, and the current density to 100 A/m 2 .

음극 표면에 석출된 구리를, 기계적으로 긁어 떨어뜨려서 회수하고, 그 후, 세정하여, 함수 구리 분말 케이크를 얻었다. 이 케이크를 물 3L에 분산시키고, 10분간 교반한 후, 부흐너 깔때기로 여과하고, 세정 후, 감압 상태(1×10-3Pa)에서 80℃, 6시간 건조시켜, 전해 구리 분말을 얻었다.The copper precipitated on the surface of the negative electrode was mechanically scraped off and recovered, and then washed to obtain a water-containing copper powder cake. This cake was dispersed in 3 L of water, stirred for 10 minutes, filtered through a Buchner funnel, washed, and dried at 80° C. for 6 hours under reduced pressure (1×10 -3 Pa) to obtain electrolytic copper powder.

(2) 전해 구리 분말의 분쇄(2) grinding of electrolytic copper powder

충돌판 방식 제트 밀(닛폰 뉴마틱 고교(주)사 제조의 IDS식 제트 밀, IDS-5)에 의해, 분쇄 압력 6㎏f/㎠, 공급 속도 6.7㎏/hr의 조건에서 전해 구리 분말을 분쇄하였다. 분쇄 후의 구리 분말의 입경 D50은 4.5㎛였다.The electrolytic copper powder is pulverized by a collision plate-type jet mill (IDS type jet mill, IDS-5 manufactured by Nippon Pneumatic Kogyo Co., Ltd.) under conditions of a pulverization pressure of 6 kgf/cm 2 and a feed rate of 6.7 kg/hr. did Particle size D 50 of the copper powder after grinding was 4.5 µm.

(3) 플레이크화(3) Flakes

분쇄 후의 전해 구리 분말 3㎏과, 메탄올 9㎏과, 1㎏의 에틸렌디아민4아세트산2나트륨(이하 「EDTA2Na」라고도 함)을 혼합하여, 구리 분말의 메탄올 분산액을 조제하였다. 이 분산액 12㎏을, 아시자와ㆍ파인테크 가부시키가이샤 제조의 비즈 밀인 스타 밀(등록상표) LMZ에 넣고, 또한 직경 0.2㎜의 지르코니아 비즈를 4.85㎏ 넣었다. 비즈 밀을 180분간에 걸쳐 운전하여, 구리 분말의 플레이크화를 행하였다. 그 후, 분산액과 비즈를 여과에 의해 분리한 후, 분산액을 정치하여 플레이크상 구리 입자를 침강시켰다. 상징액을 제거하고, 여과하여 플레이크상 구리 입자를 채취하였다. 이어서 플레이크상 구리 입자를 수세하고, 계속해서 메탄올에서의 세정을 2회 반복하였다.3 kg of electrolytic copper powder after pulverization, 9 kg of methanol, and 1 kg of disodium ethylenediamine tetraacetate (hereinafter also referred to as "EDTA2Na") were mixed to prepare a methanol dispersion of the copper powder. 12 kg of this dispersion was placed in Star Mill (registered trademark) LMZ, which is a bead mill manufactured by Ashizawa Finetech Co., Ltd., and further 4.85 kg of zirconia beads having a diameter of 0.2 mm were placed. The bead mill was operated over 180 minutes to flake the copper powder. Thereafter, after separating the dispersion liquid and the beads by filtration, the dispersion liquid was left still to precipitate the flaky copper particles. The supernatant was removed and filtered to obtain flaky copper particles. Subsequently, the flaky copper particles were washed with water, and subsequently, washing with methanol was repeated twice.

(4) 은의 피복(4) Silver coating

40℃로 가열한 500mL의 순수 중에, 100g의 플레이크상 구리 입자를 투입하고, 분산액으로 하였다. 이 분산액을 교반하면서, 4.3g의 EDTA2Na를 첨가하고 용해시켰다. 또한 이 분산액에, 0.44㏖/L의 질산은 수용액 48mL를 6분간에 걸쳐 연속 첨가하여 치환 도금을 행하여, 플레이크상 구리 입자의 표면에 은을 석출시켜서 전구체 입자를 얻었다. 이때, 분산액에 초음파(100W, 28㎑)를 조사하였다.Into 500 mL of pure water heated to 40°C, 100 g of flaky copper particles were introduced to obtain a dispersion. While stirring the dispersion, 4.3 g of EDTA2Na was added and dissolved. Furthermore, substitution plating was performed by continuously adding 48 mL of a 0.44 mol/L silver nitrate aqueous solution to this dispersion over 6 minutes, silver was precipitated on the surface of the flaky copper particles, and precursor particles were obtained. At this time, ultrasonic waves (100W, 28 kHz) were irradiated to the dispersion.

다음에 환원제로서의 L-아스코르브산을 분산액 중에 첨가하여 용해시켰다. 또한, 0.44㏖/L의 질산은 수용액 192mL를 24분간에 걸쳐 분산액에 연속 첨가하였다. 이에 의해, 환원 도금과 치환 도금을 동시에 진행시켜서, 전구체 입자의 표면에 은을 더 석출시켜, 목적으로 하는 은 피복 플레이크상 구리 분말을 얻었다. 이 동안에도 초음파의 조사를 계속하였다.Next, L-ascorbic acid as a reducing agent was added to the dispersion and dissolved. Furthermore, 192 mL of 0.44 mol/L silver nitrate aqueous solution was continuously added to the dispersion over 24 minutes. Thereby, reduction plating and displacement plating were simultaneously advanced, silver was further deposited on the surface of the precursor particles, and the target silver-coated flaky copper powder was obtained. Ultrasound irradiation was continued during this time.

〔실시예 2 내지 8〕[Examples 2 to 8]

이하의 표 1에 나타내는 조건을 채용한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 은 피복 플레이크상 구리 분말을 제조하였다.Except having adopted the conditions shown in the following Table 1, it carried out similarly to Example 1, and manufactured the silver-coated flaky copper powder.

〔비교예 1〕[Comparative Example 1]

실시예 1에 있어서의 플레이크화 공정에 있어서 EDTA2Na를 사용하지 않고, 플레이크화 시간을 20분으로 하였다. 또한 은의 피복 공정에 있어서 초음파의 조사를 행하지 않았다. 이들 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 은 피복 플레이크상 구리 분말을 제조하였다.In the flake formation step in Example 1, EDTA2Na was not used, and the flake formation time was 20 minutes. In addition, ultrasonic wave irradiation was not performed in the silver coating process. Except these, it carried out similarly to Example 1, and manufactured the silver-coated flaky copper powder.

Figure pct00001
Figure pct00001

〔평가 1〕[Evaluation 1]

실시예 및 비교예에서 얻어진 은 피복 플레이크상 구리 분말에 대해서, 상술한 방법으로 입도 분포, 명도, 입자의 판면의 원형도, 입자의 두께, 탭 밀도, 은의 함유 비율을 측정하였다. 그들의 결과를 이하의 표 2에 나타낸다.For the silver-coated flaky copper powders obtained in Examples and Comparative Examples, the particle size distribution, lightness, circularity of the plate surface of the particles, thickness of the particles, tap density, and silver content were measured by the methods described above. Their results are shown in Table 2 below.

〔평가 2〕[Evaluation 2]

실시예 및 비교예에서 얻어진 은 피복 플레이크상 구리 분말을 사용하여 도전성 조성물을 조제하였다.Conductive compositions were prepared using the silver-coated flaky copper powder obtained in Examples and Comparative Examples.

에폭시 수지(DIC 제조 EPICLON850)와 부틸카르비톨을 질량비 35:65 혼합하고, 이것에 은 피복 플레이크상 구리 분말을 농도 70%가 되도록 첨가하여 페이스트상의 도전성 조성물을 조제하였다.An epoxy resin (EPICLON850 manufactured by DIC) and butylcarbitol were mixed at a mass ratio of 35:65, and silver-coated flaky copper powder was added thereto so as to be 70% in concentration to prepare a paste-like conductive composition.

폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름의 일면에 도전성 조성물을, 바코터를 사용하여 도공하였다. 도공 폭은 200㎜로 하였다. 바코터의 갭은 30㎛가 되도록 하였다.A conductive composition was coated on one side of a polyethylene terephthalate (PET) film using a bar coater. The coating width was 200 mm. The gap of the bar coater was set to 30 μm.

형성한 도막을, 90℃의 진공 건조기 내에서 60분에 걸쳐 건조시켰다. 그 후, 도막이 형성된 PET 필름을 시트 사이에 끼워, 160℃ㆍ20kN의 조건에서 진공 프레스를 행하였다. 이와 같이 하여 얻어진 샘플에 대해서, 마이크로미터(Nikon 제조 디지털 마이크로미터 MF-501)를 사용하여 도전막의 두께를 측정하였다. 또한 도전막의 저항값을 측정하였다. 저항값은, 저항률 측정기(미쯔비시 가가쿠 MCP-T600)를 사용하여, 4탐침법에 의해 측정하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.The formed coating film was dried over 60 minutes within a 90 degreeC vacuum dryer. Then, the PET film on which the coating film was formed was sandwiched between sheets, and vacuum pressing was performed under conditions of 160°C and 20 kN. About the sample obtained in this way, the thickness of the conductive film was measured using the micrometer (Nikon digital micrometer MF-501). In addition, the resistance value of the conductive film was measured. The resistance value was measured by the four-probe method using a resistivity meter (Mitsubishi Chemical MCP-T600). The results are shown in Table 2.

〔평가 3〕[Evaluation 3]

실시예 및 비교예에서 얻어진 은 피복 플레이크상 구리 분말에 대해서, 구리 이온의 용출량을 측정하였다.About the silver-coated flaky copper powder obtained by the Example and the comparative example, the elution amount of copper ion was measured.

0.2g의 은 피복 플레이크상 구리 분말과, 농도 15%의 염산 10mL와, 메탄올 2mL를 혼합하여 분산액을 조제하였다. 이 분산액을 25℃의 환경 하에 10분간 정치하였다. 그 후, 분산액을 여과하고, 여액에 포함되는 구리 이온의 농도를 ICP 발광 분광 분석법에 의해 측정하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.A dispersion liquid was prepared by mixing 0.2 g of silver-coated flaky copper powder, 10 mL of 15% concentration hydrochloric acid, and 2 mL of methanol. This dispersion liquid was left still for 10 minutes in a 25 degreeC environment. Then, the dispersion liquid was filtered, and the concentration of copper ions contained in the filtrate was measured by ICP emission spectrometry. The results are shown in Table 2.

Figure pct00002
Figure pct00002

표 2에 나타내는 결과로부터 명백한 바와 같이, 각 실시예에서 얻어진 은 피복 플레이크상 구리 분말을 사용하여 형성된 도전막은, 비교예에서 얻어진 은 피복 플레이크상 구리 분말을 사용하여 형성된 도전막에 비하여 도전성이 높은 것임을 알 수 있다. As is clear from the results shown in Table 2, the conductive film formed using the silver-coated flaky copper powder obtained in each Example has higher conductivity than the conductive film formed using the silver-coated flaky copper powder obtained in Comparative Example. Able to know.

또한, 각 실시예에서 얻어진 은 피복 플레이크상 구리 분말은, 비교예에서 얻어진 은 피복 플레이크상 구리 분말보다도 구리 이온의 용출이 억제되어 있음을 알 수 있다.Moreover, it turns out that the elution of copper ion is suppressed in the silver-coated flaky copper powder obtained by each Example rather than the silver-coated flaky copper powder obtained by the comparative example.

본 발명에 따르면, 수지와 혼합한 경우에, 수지 중에서의 분산성이 양호하며, 또한 수지의 열화가 억제되고, 또한, 해당 수지로 형성되는 막의 전기 저항을 저감시킬 수 있는 은 피복 플레이크상 구리 분말 및 그 제조 방법이 제공된다.According to the present invention, when mixed with a resin, the silver-coated flaky copper powder has good dispersibility in the resin, suppresses deterioration of the resin, and can reduce the electrical resistance of a film formed of the resin. and a manufacturing method thereof is provided.

Claims (16)

적어도 표면에 은을 갖는 은 피복 플레이크상 구리 입자를 포함하는 은 피복 플레이크상 구리 분말이며,
상기 은 피복 플레이크상 구리 분말에 대한, 레이저 회절 산란식 입도 분포 측정법에 의한 누적 체적 90용량%에 있어서의 체적 누적 입경을 D90(㎛)으로 하고, 누적 체적 10용량%에 있어서의 체적 누적 입경을 D10(㎛)으로 했을 때,
D90/D10으로 정의되는 분산도에 대한, 상기 은 피복 플레이크상 구리 분말의 명도 L*의 값이 13 이상인, 은 피복 플레이크상 구리 분말.
A silver-coated flaky copper powder containing silver-coated flaky copper particles having silver on at least the surface,
The volume cumulative particle size of the silver-coated flaky copper powder at a cumulative volume of 90% by volume by laser diffraction scattering particle size distribution measurement is set to D 90 (μm), and the cumulative volume particle size at 10% by volume of the cumulative volume When D 10 (㎛),
The silver-coated flaky copper powder, wherein the value of lightness L* of the silver-coated flaky copper powder with respect to the degree of dispersion defined by D 90 /D 10 is 13 or more.
적어도 표면에 은을 갖는 은 피복 플레이크상 구리 입자를 포함하는 은 피복 플레이크상 구리 분말이며,
상기 은 피복 플레이크상 구리 분말에 대한, 레이저 회절 산란식 입도 분포 측정법에 의한 누적 체적 50용량%에 있어서의 체적 누적 입경을 D50(㎛)으로 하고, 상기 은 피복 플레이크상 구리 입자의 두께를 T(㎛)로 했을 때,
입경 D50에 대한, 두께 T의 값이 0.04 이하인, 은 피복 플레이크상 구리 분말.
A silver-coated flaky copper powder containing silver-coated flaky copper particles having silver on at least the surface,
The volume cumulative particle size of the silver-coated flaky copper powder in a cumulative volume of 50% by volume by laser diffraction scattering particle size distribution measurement is D 50 (μm), and the thickness of the silver-coated flaky copper particle is T (μm),
The silver-coated flaky copper powder whose value of thickness T is 0.04 or less with respect to particle diameter D50 .
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 은 피복 플레이크상 구리 입자의 두께 T가 0.1㎛ 이상 0.5㎛ 이하인, 은 피복 플레이크상 구리 분말.
According to claim 1 or 2,
The silver-coated flaky copper powder whose thickness T of the said silver-coated flaky copper particle is 0.1 micrometer or more and 0.5 micrometer or less.
제3항에 있어서,
상기 은 피복 플레이크상 구리 입자의 두께 T가 0.1㎛ 이상 0.3㎛ 이하인, 은 피복 플레이크상 구리 분말.
According to claim 3,
The silver-coated flaky copper powder whose thickness T of the said silver-coated flaky copper particle is 0.1 micrometer or more and 0.3 micrometer or less.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
탭 밀도가 0.5g/㎤ 이상 2.5g/㎤ 이하인, 은 피복 플레이크상 구리 분말.
According to any one of claims 1 to 4,
The silver-coated flaky copper powder whose tap density is 0.5 g/cm<3> or more and 2.5 g/cm<3> or less.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
은의 비율이 5질량% 이상 20질량% 이하인, 은 피복 플레이크상 구리 분말.
According to any one of claims 1 to 5,
The silver-coated flaky copper powder whose silver ratio is 5 mass % or more and 20 mass % or less.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 은 피복 플레이크상 구리 입자의 원형도가 0.60 이상 0.95 이하인, 은 피복 플레이크상 구리 분말.
According to any one of claims 1 to 6,
The silver-coated flaky copper powder whose circularity of the said silver-coated flaky copper particle is 0.60 or more and 0.95 or less.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
명도 L*가 70 이상 86 이하인, 은 피복 플레이크상 구리 분말.
According to any one of claims 1 to 7,
The silver-coated flaky copper powder whose lightness L* is 70 or more and 86 or less.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 은 피복 플레이크상 구리 분말에 대한, 레이저 회절 산란식 입도 분포 측정법에 의한 누적 체적 90용량%에 있어서의 체적 누적 입경 D90이 15㎛ 이상 35㎛ 이하인, 은 피복 플레이크상 구리 분말.
According to any one of claims 1 to 8,
The volume cumulative particle diameter D 90 of the silver-coated flaky copper powder in a cumulative volume of 90% by volume by laser diffraction scattering particle size distribution analysis is 15 µm or more and 35 µm or less. Silver-coated flaky copper powder.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 은 피복 플레이크상 구리 분말에 대한, 레이저 회절 산란식 입도 분포 측정법에 의한 누적 체적 10용량%에 있어서의 체적 누적 입경 D10이 3㎛ 이상 8㎛ 이하인, 은 피복 플레이크상 구리 분말.
According to any one of claims 1 to 9,
A silver-coated flaky copper powder in which the volume cumulative particle diameter D 10 of the silver-coated flaky copper powder in a cumulative volume of 10% by volume by a laser diffraction scattering particle size distribution measuring method is 3 μm or more and 8 μm or less.
제10항에 있어서,
D90/D10으로 정의되는 분산도가 3.0 이상 5.3 이하인, 은 피복 플레이크상 구리 분말.
According to claim 10,
A silver-coated flaky copper powder having a degree of dispersion defined by D 90 /D 10 of 3.0 or more and 5.3 or less.
제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 은 피복 플레이크상 구리 분말에 대한, 레이저 회절 산란식 입도 분포 측정법에 의한 누적 체적 50용량%에 있어서의 체적 누적 입경 D50이 7㎛ 이상 17㎛ 이하인, 은 피복 플레이크상 구리 분말.
According to any one of claims 1 to 11,
The volume cumulative particle size D 50 of the silver-coated flaky copper powder in a cumulative volume of 50% by volume by a laser diffraction scattering particle size distribution measurement method is 7 µm or more and 17 µm or less. Silver-coated flaky copper powder.
구리 모분 및 제1 착화제를 포함하는 분산액을, 매체 교반 밀 장치에 의해 처리하고, 해당 구리 모분을 구성하는 구리 모입자를 플레이크상으로 변형시키고,
플레이크상으로 변형된 상기 구리 모입자를 포함하는 상기 구리 모분을, 은 이온 및 제2 착화제를 포함하는 수성액으로 처리하고, 해당 구리 모입자의 표면에 은을 석출시키는, 은 피복 플레이크상 구리 분말의 제조 방법.
The dispersion liquid containing the copper mother powder and the first complexing agent is treated by a media agitating mill device to transform the copper mother particles constituting the copper mother powder into flakes;
Silver-coated flaky copper, wherein the copper base powder containing the copper base particles transformed into flakes is treated with an aqueous solution containing silver ions and a second complexing agent to deposit silver on the surface of the copper base particles. Method for preparing the powder.
제13항에 있어서,
제1 착화제 및 제2 착화제가, 동종의 것이거나 또는 이종의 것인, 제조 방법.
According to claim 13,
The manufacturing method in which a 1st complexing agent and a 2nd complexing agent are the thing of the same kind or a thing of a different kind.
제14항에 있어서,
제1 착화제 및 제2 착화제가 모두 에틸렌디아민4아세트산염인, 제조 방법.
According to claim 14,
The manufacturing method in which both a 1st complexing agent and a 2nd complexing agent are ethylenediamine tetraacetate.
제13항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 구리 모분이, 구리 이온을 포함하는 전해액을 전기 분해하여 얻어진 전해 구리 분말인, 제조 방법.
According to any one of claims 13 to 15,
The manufacturing method in which the said copper hair powder is an electrolytic copper powder obtained by electrolyzing the electrolyte solution containing copper ion.
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010275638A (en) 2010-07-12 2010-12-09 Dowa Holdings Co Ltd Silver-coated copper powder and conductive paste
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Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4660701B2 (en) * 2004-12-03 2011-03-30 Dowaエレクトロニクス株式会社 Silver-coated copper powder, method for producing the same, and conductive paste
US7459007B2 (en) * 2005-03-15 2008-12-02 Clarkson University Method for producing ultra-fine metal flakes
JP5080731B2 (en) * 2005-10-03 2012-11-21 三井金属鉱業株式会社 Fine silver particle-attached silver-copper composite powder and method for producing the fine silver particle-attached silver-copper composite powder
US10231344B2 (en) * 2007-05-18 2019-03-12 Applied Nanotech Holdings, Inc. Metallic ink

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010275638A (en) 2010-07-12 2010-12-09 Dowa Holdings Co Ltd Silver-coated copper powder and conductive paste
JP2015071818A (en) 2013-09-04 2015-04-16 Dowaエレクトロニクス株式会社 Silver coat flaky copper powder and production method thereof, and conductive paste
JP2016035098A (en) 2014-07-31 2016-03-17 Dowaエレクトロニクス株式会社 Silver-coated flake type copper powder and production method of the same, and conductive paste using the silver-coated flake type copper powder

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