JP2016035098A - Silver-coated flake type copper powder and production method of the same, and conductive paste using the silver-coated flake type copper powder - Google Patents

Silver-coated flake type copper powder and production method of the same, and conductive paste using the silver-coated flake type copper powder Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a silver-coated flake type copper powder that can maintain conductivity even in a paste with a low filler content, a production method of the silver-coated flake type copper powder, and a conductive paste using the silver-coated flake type copper powder.SOLUTION: The silver-coated flake type copper powder comprises silver-coated flake type copper powder particles having silver on at least surfaces thereof and subjected to a flattening treatment. The silver-coated flake type copper powder particles have a circularity coefficient of 0.3 or more and 0.6 or less by the measurement of a scanning electron microscope image, and have an X-ray particle diameter of 10 nm or more and 30 nm or less on an Ag (111) plane and 30 nm or more and 58 nm or less on a Cu (111) plane.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、銀被覆フレーク状銅粉およびその製造方法、並びに当該銀被覆フレーク状銅粉を用いた導電性ペーストに関する。   The present invention relates to a silver-coated flaky copper powder, a method for producing the same, and a conductive paste using the silver-coated flaky copper powder.

従来、電子部品等の電極や回路、電磁波シールドフィルム、電磁波シールド材等を形成するために、銀粉を有機成分中に分散させた導電性ペーストが使用されている。前記導電性ペーストの中でも、樹脂硬化型の導電性ペースト(特許文献1参照)は、樹脂の体積収縮により銀粉同士が接触して導通が取られる。前記樹脂硬化型の導電性ペーストに配合される銀粉としては、接触面積が大きいフレーク状銀粉が使用されている(特許文献2参照)。
しかし、当該フレーク状銀粉を配合した「銀系ペースト」は、フレーク状銅粉を配合した「銅系ペースト」と比べて地金価格が高いため高価であることに加えて、マイグレーションが起こりやすい。一方、「銅系ペースト」は、マイグレーションは起こり難いものの、酸化し易く導電性が悪化するという欠点がある。
これらの欠点を克服する手法の一つとして、銅粉を扁平化処理し、さらに銀を被覆した銀被覆フレーク状銅粉が提案されている。
当該銀被覆フレーク状銅粉に用いられる銅粉は、アトマイズ法、湿式還元法、電気分解法により製造されている。これらの中でも、価格的にも大量生産性にも有利な点からアトマイズ法が好まれ、アトマイズ法により製造された球状の銅粉を扁平化処理した銀被覆フレーク状銅粉が提案されている(特許文献3参照)。
Conventionally, a conductive paste in which silver powder is dispersed in an organic component has been used to form electrodes and circuits such as electronic parts, electromagnetic wave shielding films, electromagnetic wave shielding materials, and the like. Among the conductive pastes, resin-cured conductive pastes (see Patent Document 1) are brought into conduction by silver powders contacting each other due to volumetric shrinkage of the resin. As silver powder blended in the resin curable conductive paste, flaky silver powder having a large contact area is used (see Patent Document 2).
However, the “silver paste” blended with the flaky silver powder is expensive because the metal price is higher than the “copper paste” blended with the flaky copper powder, and migration tends to occur. On the other hand, the “copper-based paste” has a drawback in that although it is difficult for migration, it is easily oxidized and conductivity is deteriorated.
As one method for overcoming these drawbacks, a silver-coated flaky copper powder in which copper powder is flattened and further coated with silver has been proposed.
The copper powder used for the silver-coated flaky copper powder is manufactured by an atomizing method, a wet reduction method, or an electrolysis method. Among these, the atomizing method is preferred because it is advantageous in terms of price and mass productivity, and silver-coated flaky copper powder obtained by flattening spherical copper powder produced by the atomizing method has been proposed ( (See Patent Document 3).

特開2002−150837号公報JP 2002-150837 A 特許第3874634号公報Japanese Patent No. 3874634 特開2002−245849号公報JP 2002-245849 A

しかしながら本発明者らの検討によると、前記アトマイズ法による銀被覆フレーク状銅粉は導電性の点で十分満足できる性能を有していない。特に、低フィラー含量導電性ペーストでは、更なる導電性の改善が望まれることに想到した。
本発明は上述の状況の下で為されたものであり、その解決しようとする課題は、低フィラー含量ペーストであっても導電性を確保できる銀被覆フレーク状銅粉、および、当該銀被覆フレーク状銅粉の製造方法、並びに、当該銀被覆フレーク状銅粉を用いた導電性ペーストを提供することである。
However, according to the study by the present inventors, the silver-coated flaky copper powder by the atomizing method does not have a performance that is sufficiently satisfactory in terms of conductivity. In particular, it has been conceived that further improvement in conductivity is desired in the low filler content conductive paste.
The present invention has been made under the above-mentioned circumstances, and the problem to be solved is a silver-coated flaky copper powder capable of ensuring conductivity even with a low filler content paste, and the silver-coated flakes. And a conductive paste using the silver-coated flaky copper powder.

前記課題を解決する為、本発明者らは鋭意研究を行った。そして、銀被覆フレーク状銅粉粒子の形状を制御することで、当該銀被覆フレーク状銅粉の粒子間の接点が取りやすくなり、低フィラー含量ペーストでも導電性を確保できる銀被覆フレーク状銅粉を得ることが出来るという、画期的な知見を得た。   In order to solve the above problems, the present inventors have conducted intensive research. And by controlling the shape of the silver-coated flaky copper powder particles, it becomes easy to take contact between the particles of the silver-coated flaky copper powder, and the silver-coated flaky copper powder that can ensure conductivity even with a low filler content paste It was a revolutionary finding that

具体的には、円形度係数が0.3以上0.6以下であり、厚みが、0.35μm以上0.70μm以下であり、且つ、X線回折法により測定された粒径(本発明において「X線粒径」と記載する場合がある。)が、Ag(111)面において10nm以上30nm以下であり、Cu(111)面において30nm以上58nm以下である銀被覆フレーク状銅粉粒子は、粒子間の接点が取り易く、低フィラー含量ペーストでも導電性を確保できる銀被覆フレーク状銅粉であるという画期的な知見を得て、本発明を完成した。   Specifically, the circularity coefficient is 0.3 or more and 0.6 or less, the thickness is 0.35 μm or more and 0.70 μm or less, and the particle diameter measured by the X-ray diffraction method (in the present invention) The silver-coated flaky copper powder particles that may be described as “X-ray particle size” are 10 nm to 30 nm in the Ag (111) plane and 30 nm to 58 nm in the Cu (111) plane. The present invention was completed by obtaining the epoch-making knowledge that it is a silver-coated flaky copper powder that facilitates contact between particles and can ensure conductivity even with a low filler content paste.

即ち、上述の課題を解決する為の第1の発明は、
少なくとも表面に銀を有し、扁平化処理された銀被覆フレーク状銅粉粒子を含む銀被覆フレーク状銅粉であって、
前記銀被覆フレーク状銅粉粒子の走査型電子顕微鏡像の測定による円形度係数が0.3以上0.6以下であり、
X線粒径が、Ag(111)面において10nm以上30nm以下であり、Cu(111)面において30nm以上58nm以下であることを特徴とする銀被覆フレーク状銅粉である。
第2の発明は、
厚みが、0.35μm以上0.70μm以下であることを特徴とする銀被覆フレーク状銅粉である。
第3の発明は、
前記銀被覆フレーク状銅粉粒子の走査型電子顕微鏡像の測定による円形度係数とアスペクト比との積が、7.5以上15.5以下であることを特徴とする銀被覆フレーク状銅粉である。
第4の発明は、
前記銀被覆フレーク状銅粉粒子の走査型電子顕微鏡像の測定による長軸の最大長と平均厚みとのアスペクト比(長軸の最大長/平均厚み)が、17以上34以下であることを特徴とする銀被覆フレーク状銅粉である。
第5の発明は、
BET比表面積が、0.45m/g以上0.65m/g以下であることを特徴とする銀被覆フレーク状銅粉である。
第6の発明は、
タップ密度が、3.5g/cm以下2.0g/cm以上であることを特徴とする銀被覆フレーク状銅粉である。
第7の発明は、
樹枝状の形状を有する電解銅粉へ、水および/または有機溶剤の存在下にてアトライターを用いて扁平化処理を行い、フレーク状の電解銅粉を得る扁平化処理工程と、
前記扁平化処理により得られたフレーク状の電解銅粉の表面に銀を被覆する銀被覆工程と、を有し、
前記扁平化処理において、〔電解銅粉量(kg)/アトライターの処理スケール(L)〕の値を0.3kg/L以上として、扁平化処理することを特徴とする銀被覆フレーク状銅粉の製造方法である。
第8の発明は、
前記扁平化処理工程において、扁平化処理の後に得られたフレーク状の電解銅粉を、目開き25μmの篩に通すことを特徴とする銀被覆フレーク状銅粉の製造方法である。
第9の発明は、
前記銀被覆工程において、銀被覆反応の後に得られる水と銀被覆フレーク状銅粉とを含むウェットケーキを、真空乾燥することを特徴とする銀被覆フレーク状銅粉の製造方法である。
第10の発明は、
第1から第6の発明のいずれかに記載の銀被覆フレーク状銅粉を含有することを特徴とする導電性ペーストである。
That is, the first invention for solving the above-described problem is
Silver-coated flaky copper powder containing silver-coated flaky copper powder particles having at least silver on the surface and flattened,
The circularity coefficient by measurement of a scanning electron microscope image of the silver-coated flaky copper powder particles is 0.3 or more and 0.6 or less,
The silver-coated flaky copper powder has an X-ray particle size of 10 nm to 30 nm in the Ag (111) plane and 30 nm to 58 nm in the Cu (111) plane.
The second invention is
The silver-coated flaky copper powder has a thickness of 0.35 μm or more and 0.70 μm or less.
The third invention is
The silver-coated flaky copper powder is characterized in that a product of a circularity coefficient and an aspect ratio measured by a scanning electron microscope image of the silver-coated flaky copper powder particles is 7.5 or more and 15.5 or less. is there.
The fourth invention is:
The aspect ratio (maximum long axis length / average thickness) of the long axis and the average thickness by measurement of a scanning electron microscope image of the silver-coated flaky copper powder particles is 17 or more and 34 or less. And silver-coated flaky copper powder.
The fifth invention is:
The silver-coated flaky copper powder has a BET specific surface area of 0.45 m 2 / g or more and 0.65 m 2 / g or less.
The sixth invention is:
A silver-coated flaky copper powder having a tap density of 3.5 g / cm 3 or less and 2.0 g / cm 3 or more.
The seventh invention
A flattening treatment step for obtaining a flaky electrolytic copper powder by performing a flattening treatment using an attritor in the presence of water and / or an organic solvent on the electrolytic copper powder having a dendritic shape;
A silver coating step of coating silver on the surface of the flaky electrolytic copper powder obtained by the flattening treatment,
In the flattening treatment, the flattening treatment is performed by setting the value of [amount of electrolytic copper powder (kg) / attritor processing scale (L)] to 0.3 kg / L or more. It is a manufacturing method.
The eighth invention
In the flattening treatment step, the flaky electrolytic copper powder obtained after the flattening treatment is passed through a sieve having an opening of 25 μm.
The ninth invention
In the silver coating step, a wet cake containing water and silver-coated flaky copper powder obtained after the silver-coating reaction is vacuum-dried, which is a method for producing a silver-coated flaky copper powder.
The tenth invention is
A conductive paste containing the silver-coated flaky copper powder according to any one of the first to sixth inventions.

本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉を用いることで、低フィラー含量ペーストであっても導電性を確保できる導電性ペーストを製造することが出来る。   By using the silver-coated flaky copper powder according to the present invention, it is possible to produce a conductive paste that can ensure conductivity even with a low filler content paste.

本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉の製造方法を示すフロー図である。It is a flowchart which shows the manufacturing method of the silver covering flaky copper powder which concerns on this invention. 実施例1に係る銀被覆フレーク状銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡像である。2 is a scanning electron microscope image of 1000 times the silver-coated flaky copper powder according to Example 1. FIG. 実施例2に係る銀被覆フレーク状銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡像である。4 is a scanning electron microscope image of 1000 times the silver-coated flaky copper powder according to Example 2. FIG. 実施例3に係る銀被覆フレーク状銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡像である。4 is a scanning electron microscope image of 1000 times the silver-coated flaky copper powder according to Example 3. FIG. 実施例4に係る銀被覆フレーク状銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡像である。4 is a scanning electron microscope image of 1000 times the silver-coated flaky copper powder according to Example 4. FIG. 実施例5に係る銀被覆フレーク状銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡像である。6 is a scanning electron microscope image of 1000 times the silver-coated flaky copper powder according to Example 5. FIG. 実施例6に係る銀被覆フレーク状銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡像である。10 is a scanning electron microscope image of 1000 times the silver-coated flaky copper powder according to Example 6. FIG. 実施例7に係る銀被覆フレーク状銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡像である。10 is a scanning electron microscope image of 1000 times the silver-coated flaky copper powder according to Example 7. FIG. 実施例8に係る銀被覆フレーク状銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡像である。10 is a scanning electron microscope image of 1000 times the silver-coated flaky copper powder according to Example 8. FIG. 実施例9に係る銀被覆フレーク状銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡像である。It is a scanning electron microscope image of 1000 times of the silver covering flaky copper powder which concerns on Example 9. FIG. 実施例10に係る銀被覆フレーク状銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡像である。1 is a scanning electron microscope image of 1000 times the silver-coated flaky copper powder according to Example 10. 実施例11に係る銀被覆フレーク状銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡像である。3 is a scanning electron microscope image of 1000 times the silver-coated flaky copper powder according to Example 11. FIG. 実施例12に係る銀被覆フレーク状銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡像である。It is a 1000 times scanning electron microscope image of the silver covering flaky copper powder which concerns on Example 12. FIG. 実施例13に係る銀被覆フレーク状銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡像である。It is a scanning electron microscope image of 1000 times of the silver covering flaky copper powder which concerns on Example 13. FIG. 実施例14に係る銀被覆フレーク状銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡像である。It is a 1000 times scanning electron microscope image of the silver covering flaky copper powder which concerns on Example 14. FIG. 実施例15に係る銀被覆フレーク状銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡像である。It is a scanning electron microscope image of 1000 times of the silver covering flaky copper powder which concerns on Example 15. FIG. 実施例16に係る銀被覆フレーク状銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡像である。It is a scanning electron microscope image of 1000 times of the silver covering flaky copper powder which concerns on Example 16. FIG. 比較例1に係る銀被覆銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡像である。3 is a scanning electron microscope image of 1000 times the silver-coated copper powder according to Comparative Example 1. FIG. 比較例2に係る銀被覆フレーク状銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡像である。4 is a scanning electron microscope image of 1000 times the silver-coated flaky copper powder according to Comparative Example 2. FIG. 比較例3に係る銀被覆銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡像である。It is a scanning electron microscope image of 1000 times of the silver covering copper powder which concerns on the comparative example 3. FIG. 比較例4に係る銀被覆フレーク状銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡像である。10 is a scanning electron microscope image of 1000 times the silver-coated flaky copper powder according to Comparative Example 4. FIG. 樹枝状の形状を有する電解銅粉粒子の1000倍の走査型電子顕微鏡像である。It is a scanning electron microscope image of 1000 times the electrolytic copper powder particles having a dendritic shape. 実施例17に係る銀被覆フレーク状銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡像である。It is a scanning electron microscope image of 1000 times of the silver covering flaky copper powder which concerns on Example 17. FIG. 実施例18に係る銀被覆フレーク状銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡像である。It is a scanning electron microscope image of 1000 times of the silver covering flaky copper powder which concerns on Example 18. FIG.

本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉は、低フィラー含量ペーストであっても導電性を確保できる銀被覆フレーク状銅粉である。
以下、本発明に係る「(1)銀被覆フレーク状銅粉粒子の形状的特性」について説明し、「(2)銀被覆フレーク状銅粉の製造方法」、並びに、当該銀被覆フレーク状銅粉を用いた「(3)導電性ペーストとその製造方法」について説明する。
The silver-coated flaky copper powder according to the present invention is a silver-coated flaky copper powder that can ensure conductivity even if it is a low filler content paste.
Hereinafter, “(1) Shape characteristics of silver-coated flaky copper powder particles” according to the present invention will be described, “(2) Method for producing silver-coated flaky copper powder”, and the silver-coated flaky copper powder. “(3) Conductive paste and its manufacturing method” will be described.

(1)銀被覆フレーク状銅粉粒子の形状的特性
本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉粒子の形状的特性について、以下、〈1.円形度係数〉、〈2.X線粒径〉、〈3.厚み〉、〈4.アスペクト比〉、〈5.円形度係数×アスペクト比〉、〈6.軸長最大長〉、〈7.軸長最大長/厚み〉、〈8.BET比表面積〉、〈9.タップ密度〉および〈10.累積粒子径〉の各観点から説明する。また、当該形状的特性の具体的な測定方法は、実施例にて説明する。
(1) Shape characteristics of silver-coated flaky copper powder particles The shape characteristics of silver-coated flaky copper powder particles according to the present invention are described in <1. Circularity coefficient>, <2. X-ray particle size>, <3. Thickness>, <4. Aspect ratio>, <5. Circularity coefficient × aspect ratio>, <6. Maximum axial length>, <7. Maximum axial length / thickness>, <8. BET specific surface area>, <9. Tap density> and <10. The cumulative particle diameter will be described from each viewpoint. A specific method for measuring the shape characteristic will be described in Examples.

〈1.円形度係数〉
本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉粒子は、電子顕微鏡像から測定した円形度係数が0.3以上0.6以下である。これに対し、従来の技術に係る球形状のアトマイズ銅粉や湿式還元銅粉等を扁平化処理して得られるフレーク状銅粉や銀被覆フレーク状銅粉の場合円形度係数は0.78以上である。
ここで、円形度係数とは「粒子の形状が、円形からどれだけかけ離れているか。」を表すパラメータであり、以下の式1で定義される。
(円形度係数)=(4πS)/(L)・・・・式1
但し、S:粒子の面積、L:粒子の周囲長
ここで、円形度係数の値は、当該粒子が円形のとき1となり、円形からかけ離れるに従って1より小さくなる。
円形度係数が0.3以上0.6以下であると、前記銀被覆フレーク状銅粉同士の接触箇所が十分に確保できる。この結果、導電性ペーストに配合し、該導電性ペーストを用いて形成される導電膜の導電性を十分高くすることが出来ると考えられ、好ましい。
<1. Circularity coefficient>
The silver-coated flaky copper powder particles according to the present invention have a circularity coefficient of 0.3 or more and 0.6 or less measured from an electron microscope image. In contrast, in the case of flaky copper powder or silver-coated flaky copper powder obtained by flattening spherical atomized copper powder or wet reduced copper powder according to the prior art, the circularity coefficient is 0.78 or more It is.
Here, the circularity coefficient is a parameter representing “how far the shape of the particle is from the circle”, and is defined by the following Equation 1.
(Circularity coefficient) = (4πS) / (L 2 )... Formula 1
However, S: Area of particle, L: Peripheral length of particle Here, the value of the circularity coefficient is 1 when the particle is circular, and becomes smaller than 1 as the particle is far from the circle.
When the circularity coefficient is 0.3 or more and 0.6 or less, a contact portion between the silver-coated flaky copper powders can be sufficiently secured. As a result, it is considered that the conductivity of the conductive film formed by using the conductive paste and using the conductive paste can be sufficiently increased, which is preferable.

本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉粒子の円形度係数は、倍率1000倍の走査型電子顕微鏡像へ、画像解析ソフト(例えば、株式会社マウンテック製 Mac−View Ver.4)を用い、点ツールを使用して測定した形状データより、S、Lの値を求めれば良い。   The circularity coefficient of the silver-coated flaky copper powder particles according to the present invention is obtained using a point tool using image analysis software (for example, Mac-View Ver. 4 manufactured by Mountec Co., Ltd.) to a scanning electron microscope image with a magnification of 1000 times. What is necessary is just to obtain | require the value of S and L from the shape data measured using.

〈2.X線粒径〉
本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉において、X線回折法による測定結果へ、計算用ソフト(例えば、株式会社リガク製 JADE7)を用いて測定したX線粒径が、Ag(111)面において10nm以上であり30nm以下であり、好ましくは17.5nm以上であり25nm以下である。また、X線粒径が、Cu(111)面において30nm以上であり58nm以下であり、好ましくは44nm以上であり58nm以下である。
前記Cu(111)面におけるX線粒径が58nm以下であれば、扁平化が十分であり、また銀被覆の均一性に優れることから、銀被覆フレーク状銅粉を配合して形成した導電膜の抵抗値が低くなると考えられる。
<2. X-ray particle size>
In the silver-coated flaky copper powder according to the present invention, the X-ray particle size measured using a calculation software (for example, JADE7 manufactured by Rigaku Corporation) is measured on the Ag (111) plane. It is 10 nm or more and 30 nm or less, preferably 17.5 nm or more and 25 nm or less. Further, the X-ray particle diameter is 30 nm or more and 58 nm or less on the Cu (111) plane, preferably 44 nm or more and 58 nm or less.
If the X-ray particle size on the Cu (111) plane is 58 nm or less, flattening is sufficient and the uniformity of the silver coating is excellent, so that the conductive film formed by blending the silver-coated flaky copper powder It is thought that the resistance value of becomes low.

これは、球形状のアトマイズ銅粉粒子は、その形状によりランダムな方向から潰されやすいが、樹枝状の形状を有する電解銅粉粒子をアトライターにより扁平化処理すると、その形状により主幹部や副幹部に対して特定の方向から潰されやすい為であると考えられる。この樹枝状の形状を有する電解銅粉粒子における潰され具合は、ばらつきが大きいことから、フレーク状銅粉同士の接点数が増え導電性の向上に寄与すると考えられる。
また、球形状のアトマイズ銅粉粒子は製造方法に起因して結晶方位が揃っていないが、樹枝状の形状を有する電解銅粉粒子は、Cu(111)面を平行にして次々と連なって主幹部と副幹部を形成しているため水平断面がCu(111)面となっている。これらにより、樹枝状の形状を有する電解銅粉粒子は、アトライターによる扁平化の際にCu(111)面が優先的に潰されやすく、扁平化が進むにつれて、Cu(111)面のX線粒径の値が大きく変化すると考えられることに拠る。そして、表面の結晶方位と、主幹部と副幹部の扁平化の結果である主幹部と副幹部とからなる形状(外周の凹凸から置換反応が始まり易いと考えられること)から、樹枝状の形状を有する電解銅粉粒子を扁平化してCu(111)面におけるX線粒径を58nm以下としたフレーク状銅粉は、後述する銀被覆工程において銀置換反応が同時多発的に起きて銀被膜の厚みが均一になりやすく、銀のX線粒径の値にも違いが生じると考えられることに拠る。実際、Cu(111)面のX線粒径が58nm以下のフレーク状銅粉に銀被覆した方が、Ag(111)面のX線粒径も小さくなっており、導電膜の導電性が良好となり好ましい。
This is because spherical atomized copper powder particles are easily crushed from random directions depending on the shape, but when electrolytic copper powder particles having a dendritic shape are flattened by an attritor, the shape of the main part or sub-particles is reduced. This is thought to be due to being easily crushed from a specific direction with respect to the executive. Since the degree of collapse in the electrolytic copper powder particles having a dendritic shape varies greatly, it is considered that the number of contact points between the flaky copper powders increases and contributes to improvement in conductivity.
In addition, spherical atomized copper powder particles are not aligned in crystal orientation due to the manufacturing method, but electrolytic copper powder particles having a dendritic shape are mainly connected one after another with the Cu (111) plane in parallel. Since the trunk and the sub-trunk are formed, the horizontal section is the Cu (111) plane. As a result, the electrolytic copper powder particles having a dendritic shape are preferentially crushed in the Cu (111) plane during flattening by an attritor, and as the flattening progresses, X-rays on the Cu (111) plane This is because the value of the particle size is considered to change greatly. And, from the crystal orientation of the surface and the shape of the main trunk and sub trunk resulting from the flattening of the main trunk and sub trunk (the substitution reaction is thought to start easily from the irregularities on the outer periphery), the dendritic shape In the flaky copper powder obtained by flattening the electrolytic copper powder particles having an X-ray particle size of 58 nm or less on the Cu (111) surface, silver substitution reactions occur simultaneously and frequently in the silver coating step described later. This is because the thickness is likely to be uniform and the value of the X-ray particle diameter of silver is considered to be different. Actually, the X-ray particle size of the Ag (111) surface is smaller when the flaky copper powder having an X-ray particle size of 58 nm or less on the Cu (111) surface is coated with silver, and the conductivity of the conductive film is better. It is preferable.

即ち、CuのX線粒径は、アトライターによる扁平化操作の程度に影響すると考えられるところ、CuのX線粒径が30nm以上であり58nm以下であるとき、銅粉が適切に扁平化されていると考えられる。扁平化が適切であると、得られるフレーク状銅粉において厚み、アスペクト比、等の値が好ましい範囲に入ると考えられる。この為、Cu(111)面におけるX線粒径において30nm以上、さらには44nm以上、58nm以下であることが好ましい。   That is, the X-ray particle size of Cu is considered to affect the level of flattening operation by an attritor. When the X-ray particle size of Cu is 30 nm or more and 58 nm or less, the copper powder is appropriately flattened. It is thought that. When flattening is appropriate, it is considered that values such as thickness, aspect ratio and the like fall within a preferable range in the obtained flaky copper powder. For this reason, it is preferable that it is 30 nm or more in the X-ray particle diameter in Cu (111) surface, Furthermore, it is 44 nm or more and 58 nm or less.

一方、上述したアトライターによる扁平化操作を受けたフレーク状銅粉上へ、後述する銀被覆工程において被覆される銀のX線粒径は、Ag(111)面において概ね10nm以上であり30nm以下、さらには17.5nm以上であり25nm以下であることが判明した。   On the other hand, the X-ray particle size of silver coated in the silver coating step described later on the flaky copper powder subjected to the flattening operation by the attritor described above is generally 10 nm or more and 30 nm or less on the Ag (111) plane. Furthermore, it was found that it was 17.5 nm or more and 25 nm or less.

以上より、本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉は、X線回折法によるX線粒径が、Cu(111)面において、30nm以上であり58nm以下、好ましくは44nm以上であり58nm以下であり、X線粒径は、Ag(111)面において、10nm以上であり30nm以下、好ましくは17.5nm以上であり25nm以下であることが理解出来る。   From the above, in the silver-coated flaky copper powder according to the present invention, the X-ray particle size by the X-ray diffraction method is 30 nm or more and 58 nm or less, preferably 44 nm or more and 58 nm or less on the Cu (111) plane. It can be understood that the X-ray particle size is 10 nm or more and 30 nm or less, preferably 17.5 nm or more and 25 nm or less in the Ag (111) plane.

〈3.厚み〉
本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉粒子の厚みは、0.35μm以上0.70μm以下である。
銀被覆フレーク状銅粉粒子の厚みとは、当該粒子の1000倍の電子顕微鏡像を撮影し、各粒子において扁平化処理によって生じた2平面間の長さを、厚みとしたものである。
当該厚みは、銀被覆フレーク状銅粉粒子の扁平化の進行度合いを示すパラメータと考えられる。そして、厚みが0.35μm以上0.70μm以下であると、扁平化の進行度合いが十分、且つ進行し過ぎていない為、前記銀被覆フレーク状銅粉同士の接触箇所が十分に確保できる。この結果、導電性ペーストに配合し、該導電性ペーストを用いて形成される導電膜の導電性を十分高くすることが出来ると考えられ、好ましい。
<3. Thickness>
The thickness of the silver-coated flaky copper powder particles according to the present invention is 0.35 μm or more and 0.70 μm or less.
The thickness of the silver-coated flaky copper powder particles is the thickness between the two planes produced by flattening treatment in each particle by taking a 1000-fold electron microscope image of the particles.
The thickness is considered to be a parameter indicating the progress of flattening of the silver-coated flaky copper powder particles. And when thickness is 0.35 micrometer or more and 0.70 micrometer or less, since the progress degree of flattening is not enough and has not progressed too much, the contact location of the said silver covering flaky copper powder can fully be ensured. As a result, it is considered that the conductivity of the conductive film formed by using the conductive paste and using the conductive paste can be sufficiently increased, which is preferable.

〈4.アスペクト比〉
本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉粒子においてアスペクト比は、17以上34以下であることが好ましい。
ここで、アスペクト比は「最大長/厚み」で定義される。
前記アスペクト比が17以上であると、前記銀被覆フレーク状銅粉同士の接触面積が十分に確保できる。この結果、導電性ペーストに配合し、該導電性ペーストを用いて形成される導電膜の導電性を十分高くすることが出来る。前記アスペクト比が34以下であれば前記銀被覆フレーク状銅粉を製造することは、容易である。
<4. aspect ratio>
In the silver-coated flaky copper powder particles according to the present invention, the aspect ratio is preferably 17 or more and 34 or less.
Here, the aspect ratio is defined as “maximum length / thickness”.
When the aspect ratio is 17 or more, a sufficient contact area between the silver-coated flaky copper powders can be secured. As a result, it can mix | blend with an electrically conductive paste and can fully make the electroconductivity of the electrically conductive film formed using this electrically conductive paste. If the aspect ratio is 34 or less, it is easy to produce the silver-coated flaky copper powder.

〈5.円形度係数×アスペクト比〉
本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉粒子において、円形度係数とアスペクト比との積の値は、7.5以上15.5以下であることが好ましい。
上述したように、円形度係数、アスペクト比とも、本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉粒子の形状を示すパラメータであり、銀被覆フレーク状銅粉同士の接触に関連している。従って、両パラメータの積の値が7.5以上15.5以下にあると、前記銀被覆フレーク状銅粉同士の接触箇所が十分に確保できると考えられる。この結果、導電性ペーストに配合し、該導電性ペーストを用いて形成される導電膜の導電性を十分高くすることが出来ると考えられ、好ましい。
<5. Circularity factor x aspect ratio>
In the silver-coated flaky copper powder particles according to the present invention, the product of the circularity coefficient and the aspect ratio is preferably 7.5 or more and 15.5 or less.
As described above, the circularity coefficient and the aspect ratio are parameters indicating the shape of the silver-coated flaky copper powder particles according to the present invention, and are related to the contact between the silver-coated flaky copper powders. Therefore, when the value of the product of both parameters is 7.5 or more and 15.5 or less, it is considered that the contact portion between the silver-coated flaky copper powders can be sufficiently secured. As a result, it is considered that the conductivity of the conductive film formed by using the conductive paste and using the conductive paste can be sufficiently increased, which is preferable.

〈6.軸長最大長〉
本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉において軸長最大長とは、当該銀被覆フレーク状銅粉の、1000倍の電子顕微鏡像を撮影し、各粒子について軸長の最長の長さを、軸長最大長としたものである。
<6. Maximum shaft length>
In the silver-coated flaky copper powder according to the present invention, the maximum axial length is a 1000-fold electron microscope image of the silver-coated flaky copper powder. This is the maximum length.

〈7.軸長最大長/厚み〉
本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉において、軸長最大長と厚みとの比率を「軸長最大長/厚み」としたとき、その値が所定範囲内にあるとき、銀被覆フレーク状銅粉粒子間の電気的接触が良好に保たれる。本発明者らは、当該比率の値が17以上34以下の値をとることが好ましいことを知見した。
<7. Maximum shaft length / thickness>
In the silver-coated flaky copper powder according to the present invention, when the ratio between the maximum axial length and the thickness is “maximum axial length / thickness”, when the value is within a predetermined range, the silver-coated flaky copper powder Good electrical contact between particles is maintained. The present inventors have found that it is preferable that the ratio value is 17 or more and 34 or less.

〈8.BET比表面積〉
本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉においてBET比表面積は、0.45m/g以上0.65m/g以下であることが好ましい。
当該BET比表面積値は、銀被覆フレーク状銅粉粒子の扁平化の進行度合いおよび表面状態を示すパラメータと考えられる。そして、BET比表面積値が0.45m/g以上0.65m/g以下であると、扁平化の進行度合いが十分、且つ進行し過ぎていない為、前記銀被覆フレーク状銅粉同士の接触箇所が十分に確保できる。この結果、導電性ペーストに配合し、該導電性ペーストを用いて形成される導電膜の導電性を十分高くすることが出来ると考えられ、好ましい。
<8. BET specific surface area>
In the silver-coated flaky copper powder according to the present invention, the BET specific surface area is preferably 0.45 m 2 / g or more and 0.65 m 2 / g or less.
The BET specific surface area value is considered to be a parameter indicating the progress of flattening and the surface state of the silver-coated flaky copper powder particles. And when the BET specific surface area value is 0.45 m 2 / g or more and 0.65 m 2 / g or less, the degree of progress of flattening is not sufficient and does not progress too much. A sufficient contact area can be secured. As a result, it is considered that the conductivity of the conductive film formed by using the conductive paste and using the conductive paste can be sufficiently increased, which is preferable.

〈9.タップ密度 〉
本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉においてタップ密度は、3.5g/cm以下2.0g/cm以上であることが好ましい。
タップ密度が3.5g/cm以下2.0g/cm以上の範囲にあると、ハンドリング性および生産性に優れ、また導電膜の導電性が高く保たれる。
<9. Tap density〉
In the silver-coated flaky copper powder according to the present invention, the tap density is preferably 3.5 g / cm 3 or less and 2.0 g / cm 3 or more.
When the tap density is in the range of 3.5 g / cm 3 or less and 2.0 g / cm 3 or more, the handleability and productivity are excellent, and the conductivity of the conductive film is kept high.

〈10.累積粒子径〉
本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉においてレーザー回折式粒度分布測定法による体積基準の粒子径分布における累積50%粒子径(D50)は、7μm以上13μm以下であることが好ましい。
<10. Cumulative particle size>
In the silver-coated flaky copper powder according to the present invention, the cumulative 50% particle size (D50) in the volume-based particle size distribution by the laser diffraction particle size distribution measurement method is preferably 7 μm or more and 13 μm or less.

(2)銀被覆フレーク状銅粉の製造方法
本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉は、樹枝状の形状を有する電解銅粉粒子を扁平化処理する工程(扁平化工程)と、扁平化処理後のフレーク状電解銅粉粒子表面に銀を被覆する工程(銀被覆工程)、さらに必要に応じてその他の工程を経て製造される。
尚、所望により、樹枝状の形状を有する電解銅粉粒子へ先に銀被覆工程を行った後に、扁平化工程を行うことも可能である。
以下、本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉の製造方法を示すフロー図である図1を参照しながら、〈1.樹枝状の形状を有する電解銅粉粒子〉、〈2.扁平化工程〉、〈3.銀被覆工程〉、および、〈4.その他の工程〉、の順で本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉の製造方法について説明する。
(2) Method for producing silver-coated flaky copper powder The silver-coated flaky copper powder according to the present invention comprises a step of flattening electrolytic copper powder particles having a dendritic shape (flattening step), and a flattening treatment. It is manufactured through a step of coating silver on the surface of the later flaky electrolytic copper powder particles (silver coating step) and, if necessary, other steps.
If desired, the flattening step can be performed after the silver coating step is first performed on the electrolytic copper powder particles having a dendritic shape.
Hereinafter, with reference to FIG. 1 which is a flowchart showing a method for producing a silver-coated flaky copper powder according to the present invention, <1. Electrolytic copper powder particles having a dendritic shape>, <2. Flattening step>, <3. Silver coating step> and <4. Other steps> will be described in order of the method for producing silver-coated flaky copper powder according to the present invention.

〈1.樹枝状の形状を有する電解銅粉粒子〉
本発明に係る樹枝状の形状を有する電解銅粉粒子の一例における、1000倍の走査型電子顕微鏡像を図22に示す。
図22から明らかなように、本発明に係る樹枝状の形状を有する電解銅粉粒子は、主幹部、および、当該主幹部から不定形状に分岐した枝状部を備えた不定形状を有している。
<1. Electrolytic copper powder particles having a dendritic shape>
FIG. 22 shows a scanning electron microscope image of 1000 times in an example of the electrolytic copper powder particles having a dendritic shape according to the present invention.
As is clear from FIG. 22, the electrolytic copper powder particles having a dendritic shape according to the present invention have an indefinite shape including a main trunk portion and a branch portion branched from the main trunk portion into an indefinite shape. Yes.

本発明に係る樹枝状の形状を有する電解銅粉《1》として、市販の電解銅粉を用いることが出来る。例えば、福田金属箔粉工業(株)製FCC−115、JX日鉱日石金属(株)製#51−R(A)等を好ましい例として挙げることが出来る。   Commercially available electrolytic copper powder can be used as the electrolytic copper powder << 1 >> having a dendritic shape according to the present invention. For example, Fukuda Metal Foil Powder Co., Ltd. FCC-115, JX Nippon Mining & Metals Co., Ltd. # 51-R (A), etc. can be mentioned as preferred examples.

また、例えば、銅イオンを含む硫酸酸性の電解液に陽極と陰極を浸漬し、これに直流電流を流して電気分解を行い、陰極表面に粉末状に銅を析出させ、機械的又は電気的方法により掻き落として回収し、洗浄し、乾燥し、必要に応じて篩別工程などを実施することで、本発明に係る樹枝状の形状を有する電解銅粉を製造することも出来る。尚、必要に応じて酸化防止処理としてベンゾトリアゾール等のトリアゾール系の物質で、樹枝状の形状を有する電解銅粉の表面処理を施してもよい。   Also, for example, an anode and a cathode are immersed in a sulfuric acid acidic electrolyte solution containing copper ions, a direct current is passed through the electrolyte to conduct electrolysis, and copper is deposited in the form of powder on the cathode surface. The electrolytic copper powder having a dendritic shape according to the present invention can also be produced by scraping off, collecting, washing, drying, and performing a sieving step as necessary. If necessary, the electrolytic copper powder having a dendritic shape may be surface-treated with a triazole-based substance such as benzotriazole as an antioxidant treatment.

〈2.扁平化工程〉
扁平化工程は、樹枝状の形状を有する電解銅粉《1》を扁平化処理《5》することで、円形度係数が0.3以上0.6以下、且つ、厚みが0.35μm以上0.70μm以下のフレーク状の電解銅粉《10》を得る工程である。
当該扁平化処理を行う装置としては、アトライターを用いる。尚アトライターは、市販されている装置をそのまま使用可能である。
<2. Flattening process>
In the flattening step, the electrolytic copper powder << 1 >> having a dendritic shape is flattened << 5 >>, so that the circularity coefficient is 0.3 to 0.6 and the thickness is 0.35 μm to 0 This is a step of obtaining flaky electrolytic copper powder << 10 >> of 70 μm or less.
An attritor is used as an apparatus for performing the flattening process. The attritor can use a commercially available apparatus as it is.

前記扁平化処理を行う際には、アトライターに樹枝状の形状を有する電解銅粉とボールと溶媒(水および/または有機溶剤)《4》とを装填して処理を行う。本発明者らは、円形度係数の値が0.3以上0.6以下、X線粒径がAg(111)面において10nm以上30nm以下であり、Cu(111)面において30nm以上58nm以下の値を有する銀被覆フレーク状銅粉粒子を得るに際し、〔電解銅粉量(kg)/アトライターの処理スケール(L)〕の値が、0.3kg/L以上であると好ましいことを知見した。   When performing the flattening treatment, the attritor is loaded with electrolytic copper powder having a dendritic shape, a ball, and a solvent (water and / or organic solvent) << 4 >>. The inventors have a circularity coefficient value of 0.3 to 0.6, an X-ray particle size of 10 nm to 30 nm on the Ag (111) plane, and 30 nm to 58 nm on the Cu (111) plane. In obtaining silver-coated flaky copper powder particles having a value, it was found that the value of [electrolytic copper powder amount (kg) / attritor processing scale (L)] is preferably 0.3 kg / L or more. .

尚、アトライターの処理スケールが例えば10L以上と大きくなった場合、アトライターの動作のみでは、底部において粒子の沈降により粒子溜りが発生してデッドスペース化し、電解銅粉の扁平化が不均一になることが考えられる。そこで、アトライターの底からスラリーの一部を抜き出し、循環ポンプでアトライター上部から再投入することも好ましい。当該循環ポンプの使用によりスラリーの循環を図ることで、電解銅粉の均一な扁平化を促進できると考えられる。循環ポンプの圧力はゲージ圧で0.3MPa以上あればよい。   In addition, when the processing scale of the attritor becomes large, for example, 10L or more, only the operation of the attritor causes a particle accumulation due to sedimentation of particles at the bottom portion, resulting in dead space, and flattening of the electrolytic copper powder is uneven It is possible to become. Therefore, it is also preferable to extract a part of the slurry from the bottom of the attritor and re-inject it from the top of the attritor with a circulation pump. It is considered that uniform flattening of the electrolytic copper powder can be promoted by using the circulation pump to circulate the slurry. The pressure of the circulation pump may be 0.3 MPa or more in terms of gauge pressure.

以上説明した扁平化処理操作を実施することで、アトライターに装填されるボール(メディア)が、樹枝状の形状を有する電解銅粉《1》を扁平化処理《5》する際、ボールが電解銅粉粒子に与える衝撃力が均一化され、且つ、衝撃により局所的な昇温が緩和されると考えられる。この結果、扁平化処理後の銀被覆フレーク状銅粉は、X線回折法によるX線粒径が、Cu(111)面において30nm以上であり58nm以下、Ag(111)面において10nm以上であり30nm以下となるのではないかと考えられる。さらに、扁平化処理後の銀被覆フレーク状銅粉において、BET比表面積が、0.45m/g以上0.65m/g以下となり、タップ密度が、3.5g/cm以下2.0g/cm以上となるのであると考えられる。 By performing the flattening operation described above, when the ball (media) loaded in the attritor flattens the electrolytic copper powder << 1 >> having a dendritic shape, the ball is electrolyzed. It is considered that the impact force applied to the copper powder particles is made uniform, and the local temperature rise is mitigated by the impact. As a result, the silver-coated flaky copper powder after the flattening treatment has an X-ray particle size of 30 nm or more and 58 nm or less on the Cu (111) plane and 10 nm or more on the Ag (111) plane by the X-ray diffraction method. It is thought that it may be 30 nm or less. Further, in the silver-coated flaky copper powder after the flattening treatment, the BET specific surface area is 0.45 m 2 / g or more and 0.65 m 2 / g or less, and the tap density is 3.5 g / cm 3 or less 2.0 g. / Cm 3 or more.

前記溶媒は、水および/または有機溶剤を用いるが、具体的には、水、有機溶剤、水と有機溶剤とを含む溶液、または、有機溶媒相と水溶媒相とを含むエマルジョンを用いることが出来る。当該有機溶媒としては、分子量200以下の有機溶媒が好ましく、分子量200以下のアルコールがより好ましい。前記分子量200以下のアルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、又はこれらの混合物、などが挙げられる。
前記扁平化処理の際に、樹枝状の形状を有する電解銅粉と混合撹拌《3》する溶媒の添加量としては、扁平化処理する銅粉に対し、質量で0.1倍以上3倍以下が好ましい。前記添加量が、0.1倍以上あれば溶媒添加の効果が得られ、3倍以下であれば添加効果が飽和するのを回避しながらフレーク状の電解銅粉《10》を得ることが出来る。
さらに、前記扁平化処理の際に、電解銅粉と混合撹拌する溶媒を、循環ポンプにより循環させる。当該溶媒の循環による流動により、ボールや電解銅粉粒子の相互衝突による局所的な温度上昇の影響を緩和し、加えて、粒子が沈降するなどして一部に滞留する影響を緩和し、上述した、X線粒径、BET比表面積、タップ密度の値が安定すると考えられるからである。
As the solvent, water and / or an organic solvent are used. Specifically, water, an organic solvent, a solution containing water and an organic solvent, or an emulsion containing an organic solvent phase and an aqueous solvent phase is used. I can do it. As the organic solvent, an organic solvent having a molecular weight of 200 or less is preferable, and an alcohol having a molecular weight of 200 or less is more preferable. Examples of the alcohol having a molecular weight of 200 or less include methanol, ethanol, propanol, or a mixture thereof.
In the flattening treatment, the amount of the solvent to be mixed and stirred << 3 >> with the electrolytic copper powder having a dendritic shape is 0.1 to 3 times by mass with respect to the copper powder to be flattened. Is preferred. If the addition amount is 0.1 times or more, the effect of solvent addition is obtained, and if it is 3 times or less, flaky electrolytic copper powder << 10 >> can be obtained while avoiding saturation of the addition effect. .
Furthermore, in the flattening treatment, a solvent that is mixed and stirred with the electrolytic copper powder is circulated by a circulation pump. The flow of the solvent circulates to mitigate the effect of local temperature rise due to the mutual collision of balls and electrolytic copper powder particles, and in addition, the effect of particles staying in part due to sedimentation, etc. This is because the values of the X-ray particle size, the BET specific surface area, and the tap density are considered to be stable.

前記アトライターに装填するボール(メディア)としては、直径が0.1mm以上3mm以下で形状が球状のボールである限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。前記ボールの直径が0.1mm以上であると、扁平化処理後においてフレーク状の銅粉とボールとの分離《6》する際、ボールの目詰まりが起きず、分離の効率が担保される。一方、ボールの直径が3mmを以下であれば、得られるフレーク状の銅粉の粒径が過大にならず好ましい。   The ball (media) loaded in the attritor is not particularly limited as long as it is a ball having a diameter of 0.1 mm to 3 mm and a spherical shape, and can be appropriately selected according to the purpose. When the diameter of the ball is 0.1 mm or more, clogging of the ball does not occur when the flake-shaped copper powder and the ball are separated << 6 >> after the flattening treatment, and separation efficiency is ensured. On the other hand, if the diameter of the ball is 3 mm or less, the particle diameter of the obtained flaky copper powder is preferable because it does not become excessive.

前記ボールの材質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ステンレス(SUS)等の金属、アルミナ、ジルコニア等のセラミックスなどが挙げられる。これらの中でも、製品へのコンタミネーションを考えると、ステンレス(SUS)が特に好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as a material of the said ball | bowl, According to the objective, it can select suitably, For example, metals, such as stainless steel (SUS), ceramics, such as an alumina and a zirconia, etc. are mentioned. Among these, stainless steel (SUS) is particularly preferable in view of product contamination.

扁平化処理時における、ボールの添加量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、扁平化処理する銅粉に対し、重量比で1重量部以上50重量部以下が好ましい。前記ボールの添加量が1重量部以上あると、扁平化処理後のフレーク状の銅粉において十分な扁平化処理効果が得られる。前記添加量が50重量部以下であれば、1回に扁平化処理できる銅粉の量を担保出来、処理コストの観点から好ましい。   The amount of the ball added during the flattening treatment is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. However, the copper powder to be flattened may have a weight ratio of 1 to 50 parts by weight. Is preferred. When the added amount of the balls is 1 part by weight or more, a sufficient flattening effect can be obtained in the flaky copper powder after flattening. If the said addition amount is 50 weight part or less, the quantity of the copper powder which can be flattened at once can be ensured, and it is preferable from a viewpoint of processing cost.

前記扁平化処理の処理時間は、特に制限はなく、アトライターの仕様(容量)、ボールおよび銅粉の添加量に応じて適宜選択することができる。生産性を考慮すると10分間以上300分間以下であることが好ましい。例えば、容量5Lのアトライターを用いる場合には、10分間以上180分間以下が好ましく、60分間以上150分間以下がより好ましい。前記処理時間が10分間以上あれば、銅粉の扁平化が十分に進む。一方、前記処理時間が180分間以下であれば、銅粉の扁平化が進みすぎることを回避出来る。
また、例えば、容量100Lのアトライターを用いる場合には、100分間以上300分間以下が好ましく、180分間以上240分間以下がより好ましい。
なお、前記扁平化処理は、投入した全ての銅粉が扁平化される必要はなく、扁平化処理後に扁平化が進んでいない銅粉が混在していてもよい。扁平化処理の前後で、投入した銅粉に対して上記のフレーク状の銅粉が一部でも形成されていれば扁平化処理されたということができる。
The treatment time of the flattening treatment is not particularly limited, and can be appropriately selected according to the specifications (capacity) of the attritor and the added amounts of balls and copper powder. Considering productivity, it is preferably 10 minutes or more and 300 minutes or less. For example, when an attritor with a capacity of 5 L is used, it is preferably 10 minutes or more and 180 minutes or less, and more preferably 60 minutes or more and 150 minutes or less. If the said processing time is 10 minutes or more, flattening of copper powder will fully advance. On the other hand, if the treatment time is 180 minutes or less, it is possible to avoid excessive progress of flattening of the copper powder.
For example, when an attritor having a capacity of 100 L is used, it is preferably 100 minutes or longer and 300 minutes or shorter, and more preferably 180 minutes or longer and 240 minutes or shorter.
In the flattening process, it is not necessary to flatten all of the input copper powder, and copper powder that has not been flattened after the flattening process may be mixed. If the flaky copper powder is partly formed before and after the flattening process, it can be said that the flattening process has been performed.

得られるフレーク状の銅粉の分散性を向上させる目的で、分散剤を扁平化処理する銅粉に対して0.1質量%以上5質量%以下添加することも好ましい。当該分散剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、脂肪酸、脂肪酸塩、界面活性剤、有機金属、キレート形成剤、保護コロイドなどが挙げられる。これらの中でも、脂肪酸が特に好ましい。前記脂肪酸としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、プロピオン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、アクリル酸、オレイン酸、リノール酸、アラキドン酸、リシノール酸又はそれらの混合物などが挙げられる。なお、扁平化処理前の銅粉に分散剤を添加する代わりに、溶媒とともに前記分散剤を添加することもできる。一方、前記分散剤を扁平化処理前の銅粉に添加し、かつ前記分散剤を扁平化処理で溶媒とともに添加してもよい。   For the purpose of improving the dispersibility of the obtained flaky copper powder, it is also preferable to add a dispersant in an amount of 0.1% by mass to 5% by mass with respect to the copper powder to be flattened. There is no restriction | limiting in particular as the said dispersing agent, According to the objective, it can select suitably, For example, a fatty acid, a fatty acid salt, surfactant, an organic metal, a chelate formation agent, a protective colloid etc. are mentioned. Of these, fatty acids are particularly preferred. The fatty acid is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose.For example, propionic acid, caprylic acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, behenic acid, acrylic acid, oleic acid, Examples thereof include linoleic acid, arachidonic acid, ricinoleic acid, and mixtures thereof. In addition, the said dispersing agent can also be added with a solvent instead of adding a dispersing agent to the copper powder before a flattening process. On the other hand, the dispersant may be added to the copper powder before the flattening treatment, and the dispersant may be added together with the solvent in the flattening treatment.

尤も、フレーク状の銅粉の分散性が十分な場合には、扁平化処理において分散剤を添加しないことも、勿論可能である。また、前記分散剤がフレーク状の銅粉の表面に多量に存在してしまう場合は、後述する銀被覆工程の前に当該分散剤の除去を行うことで、銀被覆工程での銀被覆が不均一となることを回避出来る。   However, if the dispersibility of the flaky copper powder is sufficient, it is of course possible not to add a dispersant in the flattening treatment. In addition, when a large amount of the dispersant is present on the surface of the flaky copper powder, removal of the dispersant before the silver coating step described later prevents the silver coating in the silver coating step. It can avoid becoming uniform.

扁平化処理が完了したら、フレーク状の銅粉とボールとを分離し、当該フレーク状の銅粉を乾燥《7》し、本発明に係るフレーク状の電解銅粉《10》を得る。
このとき、乾燥《7》した当該フレーク状の電解銅粉を、目開き25μmの篩に通すことで粗大粒子を除去し、得られたフレーク状の電解銅粉へ後述する銀被覆工程を行うことは、凝集した粒子を除去することによって、フレーク状の電解銅粉への、銀被覆の均一性が高まる観点から、好ましい構成である。
When the flattening process is completed, the flaky copper powder and the ball are separated, and the flaky copper powder is dried << 7 >> to obtain the flaky electrolytic copper powder << 10 >> according to the present invention.
At this time, coarse particles are removed by passing the dried flaky electrolytic copper powder through a sieve having an opening of 25 μm, and the obtained flaky electrolytic copper powder is subjected to a silver coating step described later. Is a preferred configuration from the viewpoint of increasing the uniformity of silver coating on the flaky electrolytic copper powder by removing the agglomerated particles.

〈3.銀被覆工程〉
銀被覆工程は、扁平化処理後のフレーク状の電解銅粉表面に銀を被覆する工程である。
本発明に係るフレーク状の電解銅粉表面に銀を被覆させる方法としては、例えば、還元法と置換法との2種類を挙げることができる。
還元法は、銅粉粒子の表面に、還元剤で還元された銀の微粒子を緻密に被覆させていく方法である(例えば、特開2000−248303号公報等参照)。
一方、置換法は、銅粉粒子の界面で、銀イオンが金属の銅と電子の授受を行い、銀イオンが金属の銀に還元され、代わりに金属の銅が酸化され銅イオンになることで、銅粉粒子の表面層を銀層とする方法である(例えば、特開2006−161081号公報等参照)。
両方法を比較した場合、銀被覆の均一性、銅表面への銀層の密着の観点から置換法が好ましい。
<3. Silver coating process>
The silver coating step is a step of coating silver on the surface of the flaky electrolytic copper powder after the flattening treatment.
Examples of the method for coating the surface of the flaky electrolytic copper powder according to the present invention with silver include two types of methods, ie, a reduction method and a substitution method.
The reduction method is a method in which the surface of copper powder particles is finely coated with silver fine particles reduced with a reducing agent (see, for example, JP 2000-248303 A).
On the other hand, at the interface of the copper powder particles, the silver ion exchanges electrons with metallic copper, the silver ions are reduced to metallic silver, and the metallic copper is oxidized to copper ions instead. In this method, the surface layer of the copper powder particles is a silver layer (see, for example, JP-A-2006-161081).
When both methods are compared, the substitution method is preferable from the viewpoint of uniformity of silver coating and adhesion of the silver layer to the copper surface.

置換法による、フレーク状の電解銅粉への銀被覆反応について説明する。
まず、フレーク状の電解銅粉の表面処理剤として、キレート化剤《8》(例えば、EDTA・4Na・4HO)と、pH緩衝剤《9》(例えば、炭酸アンモニウム)とを含む水溶液を調製して液温を10℃〜80℃に調温《11》した。そして、当該表面処理剤へフレーク状の電解銅粉《10》を加え混合攪拌《12》し、フレーク状の電解銅粉分散液とした。このフレーク状銅粉分散液を乾燥窒素ガス雰囲気にて液温を10℃〜80℃で、1分間以上5時間以下調温保持《13》した。
The silver coating reaction on the flaky electrolytic copper powder by the substitution method will be described.
First, as a surface treatment agent for flaky electrolytic copper powder, an aqueous solution containing a chelating agent << 8 >> (for example, EDTA · 4Na · 4H 2 O) and a pH buffering agent << 9 >> (for example, ammonium carbonate). The liquid temperature was adjusted to 10 to 80 ° C. << 11 >>. Then, flaky electrolytic copper powder << 10 >> was added to the surface treatment agent and mixed and stirred << 12 >> to obtain a flaky electrolytic copper powder dispersion. This flaky copper powder dispersion was temperature-controlled and maintained <13> at a temperature of 10 ° C. to 80 ° C. for 1 minute to 5 hours in a dry nitrogen gas atmosphere.

一方、銀被覆反応を行う反応液を調製した。当該銀被覆反応を行う反応液は、銀塩《16》と溶媒《17》であるが、当該溶媒として水および/または有機溶剤を用いるが、具体的には、水、有機溶剤、水と有機溶剤とを含む溶液、または、有機溶媒相と水溶媒相とを含むエマルジョンを用いることが出来る。このとき、当該溶媒として、水に対する溶解度が大きい有機溶媒を使用する場合は、反応液が、均一な混合溶液となるが、溶解度が低い有機溶媒の場合は、静止状態では水相と有機溶媒相が分離するため、液を攪拌することによりエマルジョンを形成させた状態で銀被覆反応を行う。これらの反応液を使用することにより、上述した扁平化処理《5》の際に添加した分散剤等の助剤を除去することなく、フレーク状の電解銅粉《10》をそのままの状態で銀被覆反応に供することもできる。   On the other hand, a reaction solution for silver coating reaction was prepared. The reaction solution for performing the silver coating reaction is a silver salt << 16 >> and a solvent << 17 >>, and water and / or an organic solvent are used as the solvent. Specifically, water, an organic solvent, water and an organic solvent are used. A solution containing a solvent or an emulsion containing an organic solvent phase and an aqueous solvent phase can be used. At this time, when an organic solvent having a high solubility in water is used as the solvent, the reaction solution becomes a uniform mixed solution. However, in the case of an organic solvent having a low solubility, the aqueous phase and the organic solvent phase are stationary. Therefore, the silver coating reaction is performed in a state where an emulsion is formed by stirring the liquid. By using these reaction liquids, the flaky electrolytic copper powder << 10 >> can be used as it is without removing the auxiliary agent such as the dispersant added during the above-mentioned flattening treatment << 5 >>. It can also be subjected to a coating reaction.

前記有機溶媒としては、水との相溶性、銀塩(主として硝酸銀)の溶解度を有する、アルコール、ケトン、アルデヒド、エーテルを好ましく使用することができる。前記有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、1−プロパノール、イソプロピルアルコール、1−ブタノール、2−メチルプロパノール、3−メチルプロパノール、1,1−ジメチルエタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン、カルビトール、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、セロソルブ、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、テルピネオール、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アセトン、メチルエチルケトン、メチルエーテル、エチルエーテル、メチルエチルエーテルなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
一方、水を含有せず、有機溶媒を単独の溶媒として使用する場合は、銀塩を直接溶解することが可能な多価アルコールが好ましい。具体的には、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリンなどが挙げられる。
As the organic solvent, alcohols, ketones, aldehydes, and ethers having compatibility with water and solubility of silver salts (mainly silver nitrate) can be preferably used. Examples of the organic solvent include methanol, ethanol, 1-propanol, isopropyl alcohol, 1-butanol, 2-methylpropanol, 3-methylpropanol, 1,1-dimethylethanol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, and glycerin. Carbitol, methyl carbitol, butyl carbitol, cellosolve, methyl cellosolve, butyl cellosolve, terpineol, formaldehyde, acetaldehyde, acetone, methyl ethyl ketone, methyl ether, ethyl ether, methyl ethyl ether, and the like. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
On the other hand, when water is not contained and an organic solvent is used as a single solvent, a polyhydric alcohol capable of directly dissolving a silver salt is preferable. Specific examples include ethylene glycol, diethylene glycol, and glycerin.

上述した有機溶媒と水との混合溶液、または、エマルジョンを用いて銀被覆を行う場合は、前記有機溶媒として室温(具体的には、10℃〜30℃)において液体となるものを用いることが好ましい。前記水と前記有機溶媒との混合比率は、使用する有機溶媒により適宜調整することができる。また、有機溶媒と混合する水としては、不純物が混入するおそれがなければ、蒸留水、イオン交換水、工業用水等のいずれを用いてもよい。   When silver coating is performed using a mixed solution of the organic solvent and water described above or an emulsion, the organic solvent may be a liquid at room temperature (specifically, 10 ° C. to 30 ° C.). preferable. The mixing ratio of the water and the organic solvent can be appropriately adjusted depending on the organic solvent used. As the water mixed with the organic solvent, any of distilled water, ion-exchanged water, industrial water, etc. may be used as long as there is no risk of impurities being mixed.

銀被覆反応に使用する銀塩(銀原料)としては、銀イオンを反応液中に存在させる必要があるため、水や、多くの有機溶媒に対して溶解度を有する硝酸銀を用いることが好ましい。できるだけ均一な被覆反応を実現するために、硝酸銀を固体状で添加せず、水溶液、有機溶媒、または、水と有機溶媒との混合液に硝酸銀を溶解した硝酸銀溶液として使用することが好ましい。目的とする銀被覆量に応じて、使用する硝酸銀溶液の濃度、有機溶媒量、および、使用する硝酸銀溶液量を適宜決定することができる。   As the silver salt (silver raw material) used for the silver coating reaction, it is preferable to use silver nitrate having solubility in water and many organic solvents because silver ions need to be present in the reaction solution. In order to realize a coating reaction that is as uniform as possible, it is preferable to use silver nitrate solution in which silver nitrate is dissolved in an aqueous solution, an organic solvent, or a mixed solution of water and an organic solvent without adding silver nitrate in a solid state. The concentration of the silver nitrate solution to be used, the amount of the organic solvent, and the amount of the silver nitrate solution to be used can be appropriately determined according to the target silver coating amount.

銀被覆層をより均一に形成させるために、銀被覆反応を行う反応液(混合溶液、エマルジョン、または、有機溶媒)中にキレート化剤《14》を添加混合《18》し、溶解またはエマルジョン化《19》してもよい。当該キレート化剤としては、銀イオンと金属銅との置換反応により副生成する銅イオンが再析出しないよう、銅イオンとの錯安定度定数の高いものが好ましい。例えば、エチレンジアミン四酢酸(EDTA)、イミノジ酢酸、ジエチレントリアミン、トリエチレンジアミン、又はそれらの塩などが挙げられる。
銀被覆反応を安定かつ安全に行う為に、銀被覆反応を行う反応液へ、さらにpH緩衝剤《15》を添加混合し、溶解またはエマルジョン化《19》してもよい。当該pH緩衝剤としては、例えば、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、アンモニア水、炭酸水素ナトリウムなどが挙げられる。
In order to form a silver coating layer more uniformly, a chelating agent << 14 >> is added and mixed in a reaction solution (mixed solution, emulsion, or organic solvent) for silver coating reaction << 18 >>, and dissolved or emulsified. << 19 >> As the chelating agent, those having a high complex stability constant with copper ions are preferred so that copper ions by-produced by substitution reaction between silver ions and metallic copper do not reprecipitate. Examples thereof include ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA), iminodiacetic acid, diethylenetriamine, triethylenediamine, or salts thereof.
In order to carry out the silver coating reaction stably and safely, a pH buffering agent <15> may be further added to and mixed with the reaction solution for carrying out the silver coating reaction to dissolve or emulsify <19>. Examples of the pH buffering agent include ammonium carbonate, ammonium hydrogen carbonate, aqueous ammonia, sodium hydrogen carbonate, and the like.

銀被覆反応を行う反応液を10℃〜80℃に調温《20》後、フレーク状の電解銅粉分散液へ添加混合《21》し、熟成《22》して、フレーク状の電解銅粉の表面へ銀を被覆し、銀被覆フレーク状銅粉の分散液を得る。
フレーク状の電解銅粉を被覆する銀の、銅に対する割合(銀の被覆量)は0.3質量%以上30質量%以下が好ましい。前記銀の被覆量が、0.3質量%以上であると、体積抵抗率を十分に低減することができる。一方、30質量%以下であれば銀の原料コストを低減できる。
当該銀の被覆量は、例えば、銀被覆フレーク状銅粉を硝酸で溶解後に塩酸を添加し、生じた塩化銀の沈殿を乾燥し、重量を測定することにより求めることができる。
After the temperature of the reaction solution for carrying out the silver coating reaction is adjusted to 10 to 80 ° C. << 20 >>, it is added and mixed <21> to the flaky electrolytic copper powder dispersion, ripened <22>, and flaky electrolytic copper powder The surface is coated with silver to obtain a dispersion of silver-coated flaky copper powder.
The ratio of silver covering the flaky electrolytic copper powder to the copper (silver coating amount) is preferably 0.3% by mass or more and 30% by mass or less. When the silver coating amount is 0.3% by mass or more, the volume resistivity can be sufficiently reduced. On the other hand, if it is 30 mass% or less, the raw material cost of silver can be reduced.
The silver coating amount can be determined, for example, by dissolving silver-coated flaky copper powder with nitric acid and then adding hydrochloric acid, drying the resulting silver chloride precipitate, and measuring the weight.

〈4.その他の工程〉
前記熟成された銀被覆フレーク状銅粉分散液へ、ステアリン酸エマルジョン《23》を添加し攪拌を継続して、銀被覆フレーク銅粉への表面処理《24》を行うのも好ましい構成である。
その他の工程としては、洗浄工程《25》や乾燥工程《26》などが挙げられる。
洗浄工程、乾燥工程は、得られた銀被覆フレーク状銅粉を固液分離し、洗浄を行い、乾燥する工程である。
当該洗浄工程において、特に制限はなく、銅粉に対する公知の方法を適宜使用することが出来る。
一方、乾燥工程も特に制限はないが、温度が10〜120℃、雰囲気の気圧が0〜750mmHgの真空乾燥とすることが好ましい。
これは、乾燥時における銀被覆フレーク状銅粉の凝集を抑制する理由による。
当該乾燥後において解砕《27》を行ってもよく、本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉《28》を得ることが出来る。もちろん、解砕《27》の後に、適宜、篩い工程を実施して粗大粒子を除去することも好ましい。
<4. Other processes>
It is also preferable to add the stearic acid emulsion << 23 >> to the aged silver-coated flaky copper powder dispersion and continue the stirring to perform the surface treatment << 24 >> on the silver-coated flaky copper powder.
Examples of other processes include a cleaning process << 25 >> and a drying process << 26 >>.
The washing step and the drying step are steps in which the obtained silver-coated flaky copper powder is solid-liquid separated, washed and dried.
There is no restriction | limiting in particular in the said washing | cleaning process, The well-known method with respect to copper powder can be used suitably.
On the other hand, the drying process is not particularly limited, but is preferably vacuum drying at a temperature of 10 to 120 ° C. and an atmospheric pressure of 0 to 750 mmHg.
This is because the aggregation of the silver-coated flaky copper powder during drying is suppressed.
After the drying, crushing << 27 >> may be performed, and the silver-coated flaky copper powder << 28 >> according to the present invention can be obtained. Of course, after crushing << 27 >>, it is also preferable to appropriately carry out a sieving step to remove coarse particles.

当該樹枝状の形状を有する電解銅粉へ、銀被覆処理および扁平化処理してなる本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉は、少なくとも表面に銀を有し、樹枝状の形状を有する電解銅粉へ扁平化処理を加えた銀被覆フレーク状銅粉である。
尤も、前記銀被覆フレーク状銅粉には、樹枝状の形状を有する電解銅粉を扁平化処理した後、銀を被覆する態様、および、樹枝状の形状を有する電解銅粉に銀を被覆した後、これを扁平化処理する態様のいずれも含まれる。
電子顕微鏡観察(後述する図2〜17参照)によると、樹枝状の形状を有する電解銅粉の主幹部および枝状部に由来する形状を有している。即ち、球形状のアトマイズ銅粉、湿式還元銅粉等を扁平化処理してなる従来の技術に係るフレーク状銅粉や銀被覆フレーク状銅粉とは、形状に顕著な差が認められる。
The silver-coated flaky copper powder according to the present invention obtained by subjecting the electrolytic copper powder having a dendritic shape to a silver coating treatment and a flattening treatment is an electrolytic copper having a silver shape at least on the surface and having a dendritic shape. This is a silver-coated flaky copper powder obtained by adding a flattening treatment to the powder.
However, after the silver-coated flaky copper powder is flattened with an electrolytic copper powder having a dendritic shape, the silver is coated, and the electrolytic copper powder having a dendritic shape is coated with silver. Thereafter, any of flattening processing is included.
According to an electron microscope observation (see FIGS. 2 to 17 described later), it has a shape derived from the main trunk portion and the branch portion of the electrolytic copper powder having a dendritic shape. That is, a noticeable difference in shape is recognized from the conventional flaky copper powder and silver-coated flaky copper powder obtained by flattening spherical atomized copper powder, wet reduced copper powder, and the like.

(3)導電性ペーストとその製造方法
得られた銀被覆フレーク状銅粉は、以下に説明する導電性ペーストに配合して用いることが好ましい。
本発明に係る導電性ペーストとしては、例えば、樹脂硬化型ペーストなどが挙げられ、当該導電性ペーストにおける、銀被覆フレーク状銅粉の含有量は特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。当該導電性ペーストは、当該銀被覆フレーク状銅粉の他、樹脂と、溶剤とを含み、さらに、所望に応じてその他の成分を含有してなる。
本発明に係る導電性ペーストについて、以下、〈1.樹脂〉、〈2.溶剤〉、〈3.その他成分〉、〈4.導電性ペーストの製造方法〉、〈5.導電性ペーストの特性〉、の順で説明する。
(3) Conductive paste and production method thereof The obtained silver-coated flaky copper powder is preferably used by blending with the conductive paste described below.
Examples of the conductive paste according to the present invention include a resin curable paste, and the content of the silver-coated flaky copper powder in the conductive paste is not particularly limited and should be appropriately selected according to the purpose. Can do. In addition to the silver-coated flaky copper powder, the conductive paste contains a resin and a solvent, and further contains other components as desired.
The conductive paste according to the present invention will be described in the following <1. Resin>, <2. Solvent>, <3. Other components>, <4. Manufacturing method of conductive paste>, <5. The characteristics will be described in the order of the characteristics of the conductive paste>.

〈1.樹脂〉
本発明に係る導電性ペーストに含まれる樹脂は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノキシ樹脂、シリコーン樹脂、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
<1. resin>
There is no restriction | limiting in particular in resin contained in the electrically conductive paste which concerns on this invention, According to the objective, it can select suitably. For example, an epoxy resin, an acrylic resin, a polyester resin, a polyimide resin, a polyurethane resin, a phenoxy resin, a silicone resin, and the like can be given. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

〈2.溶剤〉
本発明に係る導電性ペーストに含まれる溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、トルエン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、テトラデカン、テトラリン、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、テルピネオール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールモノイソブチレート、酢酸ジエチレングリコールモノ−n−エチルエーテルなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
<2. solvent>
There is no restriction | limiting in particular as a solvent contained in the electrically conductive paste which concerns on this invention, According to the objective, it can select suitably. For example, toluene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, tetradecane, tetralin, propyl alcohol, isopropyl alcohol, terpineol, ethyl carbitol, butyl carbitol, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, 2,2,4-trimethyl-1, Examples include 3-pentanediol monoisobutyrate and acetic acid diethylene glycol mono-n-ethyl ether. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

〈3.その他の成分〉
本発明に係る導電性ペーストに含まれるその他の成分としては、例えば、界面活性剤、ガラスフリット、分散剤、粘度調整剤などが挙げられる。
<3. Other ingredients>
Examples of other components contained in the conductive paste according to the present invention include surfactants, glass frit, dispersants, viscosity modifiers, and the like.

〈4.導電性ペーストの製造方法〉
本発明に係る導電性ペーストの製造方法は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉と、前記樹脂と、前記溶剤と、必要に応じて前記その他の成分とを、例えば、超音波分散、ディスパー、三本ロールミル、ボールミル、ビーズミル、二軸ニーダー、自公転式攪拌機などを用い、混合することにより製造することができる。
<4. Method for producing conductive paste>
There is no restriction | limiting in particular in the manufacturing method of the electrically conductive paste which concerns on this invention, According to the objective, it can select suitably. For example, the silver-coated flaky copper powder according to the present invention, the resin, the solvent, and, if necessary, the other components, for example, ultrasonic dispersion, disperser, three-roll mill, ball mill, bead mill, two It can be manufactured by mixing using a shaft kneader, a self-revolving stirrer or the like.

〈5.導電性ペーストの特性〉
本発明に係る導電性ペーストの粘度は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、25℃で、5Pa・s以上100Pa・s以下が好ましい。導電性ペーストの粘度が5Pa・s以上であると、印刷時に「にじみ」が発生することない。粘度が100Pa・s以下であれば、印刷の際にむらが発生することを回避出来る。
<5. Characteristics of conductive paste>
There is no restriction | limiting in particular in the viscosity of the electrically conductive paste which concerns on this invention, Although it can select suitably according to the objective, 5 Pa.s or more and 100 Pa.s or less are preferable at 25 degreeC. When the viscosity of the conductive paste is 5 Pa · s or more, “bleeding” does not occur during printing. If the viscosity is 100 Pa · s or less, it is possible to avoid unevenness during printing.

本発明に係る導電性ペーストの体積抵抗率は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、好ましくは5×10−4Ω・cm以下、さらに好ましくは2.4×10−4Ω・cm以下とすることが出来る。前記体積抵抗率が、5×10−4Ω・cm以下であると、極めて低い体積抵抗率の導電性ペーストが実現可能である。
前記体積抵抗率は、例えば、DIGITAL MULTIMETER(ADVANTEST社製、AD7451A)を用いて、測定することができる。
The volume resistivity of the conductive paste according to the present invention is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose, but is preferably 5 × 10 −4 Ω · cm or less, more preferably 2.4 × 10. -4 Ω · cm or less. When the volume resistivity is 5 × 10 −4 Ω · cm or less, a conductive paste having an extremely low volume resistivity can be realized.
The volume resistivity can be measured by using, for example, DIGITAL MULTITIMER (ADVANTEST, AD7451A).

本発明に係る導電性ペーストは、低フィラー含量ペーストであっても導電性を確保できる。この結果、例えば、太陽電池用のシリコンウエハー、タッチパネル用フィルム、EL素子用ガラス等の各種基体上に直接又は必要に応じて前記基体上に更に透明導電膜を設けた前記透明導電膜上に、塗布又は印刷して導電性塗膜を形成することができる。具体的には、例えば、太陽電池セルの集電電極、チップ型電子部品の外部電極、RFID、電磁波シールド、振動子接着、メンブレンスイッチ、エレクトロルミネセンス等の電極又は電気配線用途に好適に用いられる。   The conductive paste according to the present invention can ensure conductivity even if it is a low filler content paste. As a result, for example, directly on the various substrates such as a silicon wafer for solar cells, a film for touch panel, glass for EL elements, or on the transparent conductive film further provided with a transparent conductive film on the substrate as necessary, A conductive coating can be formed by coating or printing. Specifically, for example, it is suitably used for a current collecting electrode of a solar battery cell, an external electrode of a chip-type electronic component, an RFID, an electromagnetic wave shield, a vibrator adhesive, a membrane switch, an electroluminescence electrode, or an electrical wiring application. .

以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。
(実施例1)
実施例1について、(1)電解銅粉、(2)扁平化工程、(3)銀被覆工程、(4)銀被覆フレーク状銅粉の特性値の測定、(5)導電性ペーストの製造工程、(6)導電膜の体積抵抗率、の順で説明する。
Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.
Example 1
About Example 1, (1) electrolytic copper powder, (2) flattening step, (3) silver coating step, (4) measurement of characteristic values of silver-coated flaky copper powder, (5) manufacturing process of conductive paste (6) Volume resistivity of the conductive film will be described in this order.

(1)電解銅粉
電解銅粉として、福田金属箔粉工業株式会社製 FCC-115を用意した。
(1) Electrolytic copper powder As electrolytic copper powder, Fukuda Metal Foil Powder Industry Co., Ltd. FCC-115 was prepared.

(2)扁平化工程
前記電解銅粉30.66kgと、溶媒としてソルミックスAP−7(日本アルコール販売株式会社製、エタノール85.5質量%、IPA5質量%、n−プロピルアルコール9.5質量%)17.77kgとを、SUSボール(直径1.6mm)185.8kgと伴にアトライター(日本コークス工業株式会社製、MA15SE、容量100L)に装填した。
この結果、〔電解銅粉量(kg)/アトライターの処理スケール(L)〕の値が、0.307kg/Lとなった。
当該アトライターの回転数を195rpm、循環ポンプ圧力を0.4Mpa、処理時間を180分間の条件で、前記電解銅粉の扁平化処理を実施し、フレーク状銅粉スラリーを得た。フレーク状銅粉スラリーとSUSボールとの分離後、当該フレーク状銅粉スラリーを濾過して得られたウェットケーキを、70℃で真空乾燥を行い、フレーク状銅粉を得た。
(2) Flattening step 30.66 kg of the electrolytic copper powder and Solmix AP-7 (manufactured by Nippon Alcohol Sales Co., Ltd., ethanol 85.5% by mass, IPA 5% by mass, n-propyl alcohol 9.5% by mass) ) 17.77 kg was loaded together with 185.8 kg of SUS balls (diameter 1.6 mm) into an attritor (Nippon Coke Kogyo Co., Ltd., MA15SE, capacity 100 L).
As a result, the value of [amount of electrolytic copper powder (kg) / attritor processing scale (L)] was 0.307 kg / L.
The electrolytic copper powder was flattened under the conditions of a rotation speed of the attritor of 195 rpm, a circulation pump pressure of 0.4 Mpa, and a treatment time of 180 minutes, to obtain a flaky copper powder slurry. After separating the flaky copper powder slurry and the SUS ball, the wet cake obtained by filtering the flaky copper powder slurry was vacuum dried at 70 ° C. to obtain flaky copper powder.

(3)銀被覆工程
炭酸アンモニウム175.0gとエチレンジアミン四酢酸四ナトリウム塩(EDTA・4Na・4HO)50質量%溶液735.0gとを純水1128.4gに溶解して溶液とし、液温を35℃に調整した。
当該溶液と、銀38.89g含有の硝酸銀水溶液とを混合して、銀錯塩溶液を調製した。
また、炭酸アンモニウム9.1gと、EDTA・4Na・4HOの50質量%溶液112.6gとを、純水1441.1gに溶解させた後、前記フレーク銅粉350.0gを加え攪拌してフレーク状銅粉分散液を準備した。このフレーク状銅粉分散液を乾燥窒素ガス雰囲気にて液温を35℃に調整し、前記銀錯塩溶液を添加し銀被覆反応を実施し、30分間攪拌しながら保持した。ステアリン酸15質量%のステアリン酸エマルジョン11.3gを添加し、5分間攪拌を継続して、銀被覆フレーク銅粉への表面処理を行った。
得られた銀被覆フレーク銅粉を濾過してイオン交換水で洗浄し、得られたウェットケーキを窒素雰囲気中で、120℃で乾燥を行なって乾燥物とした。得られた乾燥物の乾燥凝集を、サンプルミル(不二パウダル社製、KII WR−1型)により解砕し、目開き25μmの篩を通して、実施例1に係る銀被覆フレーク状銅粉を得た(本発明において、当該銀被覆工程を「銀被覆工程(A)」と記載する。)。
以上の操作について、アトライターの処理スケール、元粉(電解銅粉)名、元粉(電解銅粉)量、電解銅粉量(kg)/アトライターの処理スケール(L)、アトライターの処理時間、使用ボール径、アトライターへのボール充填率、使用溶媒名、電解銅粉量/スラリー量=電解銅粉量/(電解銅粉量+溶媒量)、ボール質量/電解銅粉量、アトライター回転数、循環ポンプ圧力、銀被覆工程種別、を表1に記載した(以下、実施例2〜18、比較例1〜4も同様である。)。
実施例1に係る銀被覆フレーク状銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡写真を図2に示す。
(3) Silver coating step 175.0 g of ammonium carbonate and 735.0 g of ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium salt (EDTA · 4Na · 4H 2 O) 50% by mass solution were dissolved in 118.4 g of pure water to obtain a solution, and the liquid temperature Was adjusted to 35 ° C.
The solution was mixed with an aqueous silver nitrate solution containing 38.89 g of silver to prepare a silver complex salt solution.
Moreover, after dissolving 9.1 g of ammonium carbonate and 112.6 g of a 50 mass% solution of EDTA · 4Na · 4H 2 O in 1441.1 g of pure water, 350.0 g of the flake copper powder was added and stirred. A flaky copper powder dispersion was prepared. The liquid temperature of this flaky copper powder dispersion was adjusted to 35 ° C. in a dry nitrogen gas atmosphere, the silver complex salt solution was added to carry out the silver coating reaction, and the mixture was held for 30 minutes with stirring. The stearic acid emulsion 11.3g of 15 mass% stearic acid was added, and stirring was continued for 5 minutes, and surface treatment to the silver coating flake copper powder was performed.
The obtained silver-coated flake copper powder was filtered and washed with ion exchange water, and the obtained wet cake was dried at 120 ° C. in a nitrogen atmosphere to obtain a dried product. The dried agglomerate of the obtained dried product was pulverized by a sample mill (KII WR-1 type, manufactured by Fuji Paudal Co., Ltd.), and passed through a sieve having an opening of 25 μm to obtain a silver-coated flaky copper powder according to Example 1. (In the present invention, the silver coating step is referred to as “silver coating step (A)”).
About the above operation, processing scale of attritor, original powder (electrolytic copper powder) name, original powder (electrolytic copper powder) amount, electrolytic copper powder amount (kg) / attritor processing scale (L), attritor processing Time, used ball diameter, ball filling ratio in attritor, used solvent name, electrolytic copper powder amount / slurry amount = electrolytic copper powder amount / (electrolytic copper powder amount + solvent amount), ball mass / electrolytic copper powder amount, atto The lighter rotation speed, circulation pump pressure, and silver coating process type are listed in Table 1 (hereinafter the same applies to Examples 2 to 18 and Comparative Examples 1 to 4).
A scanning electron micrograph of 1000 times of the silver-coated flaky copper powder according to Example 1 is shown in FIG.

(4)銀被覆フレーク状銅粉の特性値の測定
得られた実施例1に係る銀被覆フレーク状銅粉に対し、〈1.円形度係数〉、〈2.X線粒径〉、〈3.厚み〉、〈4.アスペクト比〉、〈5.円形度係数×アスペクト比〉、〈6.軸長最大長〉、〈7.軸長最大長/厚み〉の各特性値の測定を行って結果を表2に記載し、〈8.BET比表面積〉、〈9.タップ密度〉、〈10.累積粒子径〉、〈11. 酸素含有量、炭素含有量、銀被覆量〉、の各特性値の測定を行って結果を表2、3に記載した。(以下、実施例2〜18、比較例1〜4も同様である。)
以下、説明する。
(4) Measurement of characteristic value of silver-coated flaky copper powder With respect to the obtained silver-coated flaky copper powder according to Example 1, <1. Circularity coefficient>, <2. X-ray particle size>, <3. Thickness>, <4. Aspect ratio>, <5. Circularity coefficient × aspect ratio>, <6. Maximum axial length>, <7. Each characteristic value of Axis Length Maximum Length / Thickness> was measured, and the results are shown in Table 2. <8. BET specific surface area>, <9. Tap density>, <10. Cumulative particle diameter>, <11. The oxygen content, carbon content, silver coating amount> were measured, and the results are shown in Tables 2 and 3. (The same applies to Examples 2 to 18 and Comparative Examples 1 to 4 below.)
This will be described below.

〈1.円形度係数〉
本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉粒子の形状が、円形からどの程度かけ離れているかを、円形度係数を用いて評価する。
<1. Circularity coefficient>
The degree of separation of the shape of the silver-coated flaky copper powder particles according to the present invention from the circle is evaluated using the circularity coefficient.

具体的には、本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡像を撮影し、当該電子顕微鏡像へ市販の画像解析ソフトを適用して求めることが便宜である。当該市販の画像解析ソフトとしては、本実施例においては、株式会社マウンテックの画像解析式粒度分布測定ソフトウェア「Mac−View Ver.4」を用い、点ツールを使用して測定した形状データより、S、Lの値を求めた。   Specifically, it is convenient to take a 1000-fold scanning electron microscope image of the silver-coated flaky copper powder according to the present invention and obtain the electron microscope image by applying commercially available image analysis software. As the commercially available image analysis software, in this example, using the image analysis type particle size distribution measurement software “Mac-View Ver. 4” manufactured by Mountec Co., Ltd., from shape data measured using a point tool, S , L was determined.

〈2.X線粒径〉
本発明では、計算用ソフト(株式会社リガク製 JADE7)を使用して、X線回折法で得られた回折ピークについて平滑化を実施し、三次式近似を用いてバックグラウンドの除去およびKα2の除去を実施後、ピーク分離を実施した。そして、当該計算用ソフトにより得られた結晶子径の値をX線粒径とした。
・株式会社リガク製 RINT−ULtimaIII
・使用X線:CoKα(波長=1.7889Å)
・走査範囲:2θ=10°〜100°
・スキャンスピード=2°/minでスキャン
・計算用ソフト:株式会社リガク製 JADE7
<2. X-ray particle size>
In the present invention, the calculation peak (JADE7 manufactured by Rigaku Corporation) is used to smooth the diffraction peak obtained by the X-ray diffraction method, and background removal and Kα2 removal are performed using cubic approximation. After the above, peak separation was performed. And the value of the crystallite diameter obtained with the said calculation software was made into the X-ray particle size.
・ RINT-ULtimaIII made by Rigaku Corporation
-X-ray used: CoKα (wavelength = 1.7889 mm)
Scanning range: 2θ = 10 ° to 100 °
-Scanning at scan speed = 2 ° / min-Calculation software: JADE7 manufactured by Rigaku Corporation

〈3.厚み〉
本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉の厚みは、当該銀被覆フレーク状銅粉の、1000倍の走査型電子顕微鏡像を撮影し、各粒子において扁平化処理によって生じた2平面間の長さを厚みとし、各粒子の厚みを測定する。
上述した円形度係数と同様に、市販の画像解析ソフトを適用して求めることが便宜であり、本実施例においては、株式会社マウンテックの画像解析式粒度分布測定ソフトウェア「Mac−View Ver.4」を用い、長さツールの2点指定を使用して測定した。
<3. Thickness>
The thickness of the silver-coated flaky copper powder according to the present invention is the length between two planes produced by a flattening treatment in each particle by taking a scanning electron microscope image of the silver-coated flaky copper powder 1000 times. The thickness of each particle is measured.
Similar to the circularity coefficient described above, it is convenient to obtain by applying commercially available image analysis software, and in this embodiment, the image analysis type particle size distribution measurement software “Mac-View Ver. Was measured using the two-point designation of the length tool.

〈4.アスペクト比〉
本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉において、アスペクト比は「(長軸を基準とした)最大長/厚み」で定義される。
上述した最大長と厚みとを求め、計算により求めることが便宜である。
<4. aspect ratio>
In the silver-coated flaky copper powder according to the present invention, the aspect ratio is defined as “maximum length / thickness (based on the major axis)”.
It is convenient to obtain the above-described maximum length and thickness and obtain them by calculation.

〈5.円形度係数×アスペクト比〉
上述した円形度係数とアスペクト比とを求め、計算により求めることが便宜である。
<5. Circularity factor x aspect ratio>
It is convenient to obtain the above-described circularity coefficient and aspect ratio by calculation.

〈6.軸長最大長〉
本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉の、1000倍の走査型電子顕微鏡像を撮影し、各粒子について、最長の長さの直線を軸長とし、その長さを軸長最大長とする。
(実際に軸長最大長を測定しているわけではなく、点ツールにより粒子のふちをなぞって計測した粒子形状から、ソフトウェア内で自動計算されて出てくる値のため「軸長最大長として測定した」との記載は「軸長最大長とする」とした。)
上述した円形度係数と同様に、市販の画像解析ソフトを適用して求めることが便宜であり、本実施例においては、株式会社マウンテックの画像解析式粒度分布測定ソフトウェア「Mac−View Ver.4」を用い、点ツールを使用して測定した。
<6. Maximum shaft length>
A 1000-times scanning electron microscope image of the silver-coated flaky copper powder according to the present invention is taken, and for each particle, the longest straight line is defined as the axial length, and the length is defined as the maximum axial length.
(The actual maximum axial length is not measured, but the value automatically calculated in the software from the particle shape measured by tracing the edge of the particle with a point tool. The description “measured” is “the maximum axial length”.)
Similar to the circularity coefficient described above, it is convenient to obtain by applying commercially available image analysis software, and in this embodiment, the image analysis type particle size distribution measurement software “Mac-View Ver. And measured using a point tool.

〈7.軸長最大長/厚み〉
上述した軸長最大長と厚みとを求め、計算により求めることが便宜である。
<7. Maximum shaft length / thickness>
It is convenient to obtain the above-described maximum axial length and thickness and obtain them by calculation.

〈8.BET比表面積〉
本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉のBET比表面積値は、BET比表面積測定装置(ユアサイオニクス株式会社製:4ソーブUS)を用いて、BET法により求めた。
<8. BET specific surface area>
The BET specific surface area value of the silver-coated flaky copper powder according to the present invention was determined by the BET method using a BET specific surface area measuring apparatus (manufactured by Your Sonics Co., Ltd .: 4 Sorb US).

〈9.タップ密度〉
本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉のタップ密度の測定方法について説明する。
重量および外形が既知の蓋付きの金型(当該金型が空のときの外形高さをh0(μm)、空の重量をw0(mg)とする。)の内部に試料を装填し、蓋をした当該金型をマイクロメーターに設置する。次に、当該マイクロメーターのアンビルをまわして当該金型を圧縮し、当該アンビルのラチェットを5回クリックさせる。そのときの金型の高さを読み取り、この高さをh1(μm)とする。一方、試料込みの金型の重量を測定し、当該重量をw1(mg)とする。そして、w0、w1、h0、h1の値から、式2よりタップ密度を求めた。尚、36.6は係数である。
タップ密度=36.6×(w1−w0)÷(h1−h0)g/cm・・・式2
(詳細は、特開2007−263860号公報を参照。)
<9. Tap density>
A method for measuring the tap density of the silver-coated flaky copper powder according to the present invention will be described.
A sample is loaded into a mold with a lid whose weight and profile are known (the height of the mold when the mold is empty is h0 (μm) and the weight of the blank is w0 (mg)), and the lid Place the mold on the micrometer. Next, the mold is compressed by turning the anvil of the micrometer, and the ratchet of the anvil is clicked five times. The height of the mold at that time is read, and this height is defined as h1 (μm). On the other hand, the weight of the mold including the sample is measured, and the weight is defined as w1 (mg). And the tap density was calculated | required from Formula 2 from the value of w0, w1, h0, h1. Incidentally, 36.6 is a coefficient.
Tap density = 36.6 × (w1−w0) ÷ (h1−h0) g / cm 3 Equation 2
(For details, refer to JP 2007-263860 A.)

〈10.累積粒子径〉
本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉の体積基準の累積粒子径は、累積粒度は、レーザー回折式粒度分布装置(SYMPATEC社製、ヘロス粒度分布測定装置、HELOS&RODOS)により測定した。尚、測定に使用するレンズは、粒子径により適宜変更して測定を実施した。
<10. Cumulative particle size>
The cumulative particle size on the volume basis of the silver-coated flaky copper powder according to the present invention was measured by a laser diffraction particle size distribution device (manufactured by SYMPATEC, HEROS particle size distribution measurement device, HELOS & RODOS). In addition, the lens used for the measurement was appropriately changed according to the particle diameter.

〈11. 酸素含有量、炭素含有量、銀被覆量〉
本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉における酸素含有量は酸素・窒素分析装置(LECO社製:TC−436型)により測定し、炭素含有量は炭素・硫黄分析装置(堀場製作所製:EMIA−220V)により測定した。
本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉における銀被覆量は、銀被覆銅粉末を硝酸で溶解後に塩酸を添加し、生じた塩化銀の沈殿を乾燥し、重量を測定することにより、本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉における銀被覆量の実測値を求めた。
<11. Oxygen content, carbon content, silver coverage>
The oxygen content in the silver-coated flaky copper powder according to the present invention was measured with an oxygen / nitrogen analyzer (manufactured by LECO: TC-436), and the carbon content was measured using a carbon / sulfur analyzer (manufactured by Horiba: EMIA- 220V).
The silver coating amount in the silver-coated flaky copper powder according to the present invention is determined by adding hydrochloric acid after dissolving the silver-coated copper powder with nitric acid, drying the resulting silver chloride precipitate, and measuring the weight. The measured value of the silver coating amount in the silver-coated flaky copper powder was determined.

本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉のAg含有量の測定方法例について、具体的に説明する。
試料2gを秤量し、純水で洗い流しながらビーカーへ移した後、硝酸10mlを投入して加熱溶解する。放冷後、溶解液をろ過し浮遊している有機物成分を除去して、ろ液を得る。当該ろ液に純水100mlを加え、HClを6ml添加し十分に攪拌し、さらにHClを添加する。そして、新たなAgClの沈殿ができなくなるまでHClを添加した後、溶液が透明になるまで加熱、熟成を実施する。その後、ガラスファイバーフィルター(重量をW1(g)とする。)でろ過し、回収したAgClの沈殿を乾燥機により110℃で3時間乾燥した。放冷後、ガラスファイバーフィルターと回収したAgClをあわせて秤量し、その重量をW2(g)とした。
W1、W2の値から、式3よりAg含有量を求めた。
Ag(質量%)=(W2−W1)/当初の試料量(g)×0.7526×100・・・式3
An example of a method for measuring the Ag content of the silver-coated flaky copper powder according to the present invention will be specifically described.
2 g of a sample is weighed and transferred to a beaker while being rinsed with pure water, and then 10 ml of nitric acid is added and dissolved by heating. After allowing to cool, the solution is filtered to remove floating organic components, and a filtrate is obtained. 100 ml of pure water is added to the filtrate, 6 ml of HCl is added and stirred sufficiently, and further HCl is added. Then, HCl is added until no new AgCl can be precipitated, and then heating and aging are performed until the solution becomes transparent. Thereafter, the mixture was filtered through a glass fiber filter (weight is W1 (g)), and the collected AgCl precipitate was dried at 110 ° C. for 3 hours by a dryer. After allowing to cool, the glass fiber filter and the collected AgCl were weighed together, and the weight was defined as W2 (g).
From the values of W1 and W2, the Ag content was determined from Equation 3.
Ag (mass%) = (W2−W1) / initial sample amount (g) × 0.7526 × 100 Formula 3

(5)導電性ペーストの製造工程
実施例1に係る導電性ペーストの製造工程について、以下、〈1.導電性ペーストの組成〉、〈2.導電性ペーストの混練工程〉、〈3.導電性ペーストの印刷工程〉の順に説明する。
(以下、実施例2〜18、比較例1〜4も同様である。)
(5) Manufacturing process of conductive paste About the manufacturing process of the conductive paste which concerns on Example 1, <1. Composition of conductive paste>, <2. Step of kneading conductive paste>, <3. The conductive paste printing step will be described in this order.
(The same applies to Examples 2 to 18 and Comparative Examples 1 to 4 below.)

〈1.導電性ペーストの組成〉
得られた実施例1に係る銀被覆フレーク状銅粉と、ポリエステル樹脂と、溶剤とを下記の組成で混合した。
・銀被覆フレーク状銅粉60質量部
・ポリエステル樹脂(東洋紡績株式会社製、バイロン200)12質量部
・溶剤:酢酸ジエチレングリコールモノ−n−エチルエーテル(和光純薬工業株式会社製、ECA)28質量部
<1. Composition of conductive paste>
The obtained silver-coated flaky copper powder according to Example 1, a polyester resin, and a solvent were mixed in the following composition.
-60 parts by mass of silver-coated flaky copper powder-12 parts by mass of polyester resin (Toyobo Co., Ltd., Byron 200)-Solvent: Diethylene glycol acetate mono-n-ethyl ether (Wako Pure Chemical Industries, Ltd., ECA) 28 masses Part

〈2.導電性ペーストの混練工程〉
得られた混合物を、真空攪拌脱泡ミキサー(株式会社EME製、V-mini300)を用いて、1400rpmで30秒間の処理を2回実施して混練処理を行い、実施例1に係る導電性ペーストを得た。
<2. Conductive paste kneading process>
The obtained mixture was kneaded by using a vacuum stirring and defoaming mixer (manufactured by EME, Inc., V-mini300) twice at 1400 rpm for 30 seconds to conduct the conductive paste according to Example 1. Got.

〈3.導電性ペーストの印刷工程〉
作製した実施例1に係る導電性ペーストを、スクリーン印刷法によってアルミナ基板上に(線幅500μm、線長37.5mmのパターンに)印刷した後、得られたアルミナ基板を、大気循環式乾燥機を用いて130℃、30分間の条件で加熱処理し、導電膜を作製した。
<3. Printing process of conductive paste>
After the produced conductive paste according to Example 1 was printed on an alumina substrate by a screen printing method (in a pattern having a line width of 500 μm and a line length of 37.5 mm), the obtained alumina substrate was subjected to an atmospheric circulation dryer. Was subjected to heat treatment at 130 ° C. for 30 minutes to form a conductive film.

(6)導電膜の体積抵抗率
実施例1に係る導電性ペーストをアルミナ基板上に印刷し、加熱処理して得られた導電膜の体積抵抗率を、以下のように測定した。
(以下、実施例2〜18、比較例1〜4も同様である。)
導電膜の体積抵抗率は、得られた導電膜のライン抵抗をDIGITAL MULTIMETER(ADVANTEST社製、AD7451A)により測定した。一方、得られた導電膜の膜厚を表面粗さ形状測定機(株式会社東京精密製のサーフコム1500DX型)により測定した。そして、導電膜における、体積抵抗率を式4により算出した。
体積抵抗率(Ω・cm)=ライン抵抗(Ω)×膜厚(cm)×線幅(cm)/線長(cm)・・・・式4
得られた体積抵抗率の測定結果を、表4に記載した。(以下、実施例2〜18、比較例1〜4も同様である。)
(6) Volume resistivity of electrically conductive film The electrically conductive paste which concerns on Example 1 was printed on the alumina substrate, and the volume resistivity of the electrically conductive film obtained by heat-processing was measured as follows.
(The same applies to Examples 2 to 18 and Comparative Examples 1 to 4 below.)
The volume resistivity of the conductive film was determined by measuring the line resistance of the obtained conductive film with DIGITAL MULTITIMER (ADVANTEST, AD7451A). On the other hand, the film thickness of the obtained conductive film was measured with a surface roughness shape measuring instrument (Surfcom 1500DX type manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.). And the volume resistivity in the electrically conductive film was computed by Formula 4.
Volume resistivity (Ω · cm) = line resistance (Ω) × film thickness (cm) × line width (cm) / line length (cm)... Formula 4
The measurement results of the obtained volume resistivity are shown in Table 4. (The same applies to Examples 2 to 18 and Comparative Examples 1 to 4 below.)

表4中の体積抵抗率に示した数値において、記号「E」は、その次に続く数値が10を底とした「べき指数」であることを示し、その10を底とした指数関数で表される数値が「E」の前の数値に乗算されることを示す。例えば、「1.0E−04」であれば、「1.0×10−4」であることを示す。 In the numerical values shown in Table 4 for volume resistivity, the symbol “E” indicates that the next numerical value is a “power index” with 10 as the base, and is expressed as an exponential function with 10 as the base. Indicates that the numerical value to be multiplied with the numerical value before "E". For example, “1.0E-04” indicates “1.0 × 10 −4 ”.

(実施例2)
扁平化処理工程において、アトライターの回転数を227rpmとした以外は、実施例1と同様の操作を行って、実施例2に係る銀被覆フレーク状銅粉、導電性ペースト、導電膜を得た。
当該操作、および、実施例2に係る銀被覆フレーク状銅粉、導電膜における、体積抵抗率の測定結果を表1〜4に示す。
そして、実施例2に係る銀被覆フレーク状銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡写真を図3に示す。以下、実施例3〜18においても、各実施例に係る銀被覆フレーク状銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡写真を図4〜17、23、24に示す。
(Example 2)
In the flattening treatment step, the same operation as in Example 1 was performed except that the rotation speed of the attritor was changed to 227 rpm, and the silver-coated flaky copper powder, the conductive paste, and the conductive film according to Example 2 were obtained. .
The measurement results of the volume resistivity in the operation and the silver-coated flaky copper powder and conductive film according to Example 2 are shown in Tables 1 to 4.
And the scanning electron micrograph of 1000 time of the silver covering flaky copper powder which concerns on Example 2 is shown in FIG. Hereinafter, also in Examples 3-18, 1000 times the scanning electron micrographs of the silver-coated flaky copper powder according to each Example are shown in FIGS.

(実施例3)
扁平化処理工程において、電解銅粉の量を35.7kg、アトライターの回転数を227rpmとした以外は、実施例1と同様の操作を行って、実施例3に係る銀被覆フレーク状銅粉、導電性ペースト、導電膜を得た。
このとき、〔電解銅粉量(kg)/アトライターの処理スケール(L)〕の値が、0.357kg/Lとなった。
(Example 3)
In the flattening process, the same operation as in Example 1 was performed except that the amount of electrolytic copper powder was 35.7 kg and the rotation speed of the attritor was 227 rpm, and the silver-coated flaky copper powder according to Example 3 A conductive paste and a conductive film were obtained.
At this time, the value of [amount of electrolytic copper powder (kg) / processing scale of attritor (L)] was 0.357 kg / L.

(実施例4)
扁平化処理工程において、アトライターの回転数を227rpmとし、循環ポンプの圧力を0.55MPaとした以外は、実施例1と同様の操作を行って、実施例4に係る銀被覆フレーク状銅粉、導電性ペースト、導電膜を得た。
Example 4
In the flattening treatment step, the same operation as in Example 1 was performed except that the rotation speed of the attritor was set to 227 rpm and the pressure of the circulation pump was set to 0.55 MPa. A conductive paste and a conductive film were obtained.

(実施例5)
扁平化処理工程において、アトライターの回転数を227rpmとした以外は、実施例1と同様の操作を行った。
(Example 5)
In the flattening treatment step, the same operation as in Example 1 was performed except that the rotation speed of the attritor was changed to 227 rpm.

銀被覆工程において、炭酸アンモニウム35.00kgとエチレンジアミン四酢酸四ナトリウム塩(EDTA・4Na・4HO)50質量%溶液147.00kgを純水225.68kgに溶解し、液温を35℃に調整した。この溶液と銀7.778kg含有の硝酸銀水溶液を混合して、銀錯塩溶液を調製した。また、炭酸アンモニウム1.82kgとEDTA・4Na・4HOの50質量%溶液22.52kgを純水288.23kgに溶解させた後、前記フレーク銅粉70.00kgを加え攪拌してフレーク状銅粉分散液を準備した。このフレーク状銅粉分散液を乾燥窒素ガス雰囲気にて液温を35℃に調整し、前記銀錯塩溶液を添加し銀被覆反応を実施し、30分間攪拌しながら保持した。ステアリン酸15質量%のステアリン酸エマルジョン2.26kgを添加し、5分間攪拌を継続して、銀被覆フレーク銅粉への表面処理を行った。
得られた銀被覆フレーク銅粉を濾過して、イオン交換水で洗浄し、得られたウェットケーキを窒素雰囲気中で、120℃で乾燥を行い、目開き25μmの篩を通して、実施例5に係る銀被覆フレーク状銅粉を得た(本発明において、当該銀被覆工程を「銀被覆工程(B)」と記載する。)。
これ以外は、実施例1と同様の操作を行って、実施例5に係る導電性ペースト、導電膜を得た。
In the silver coating process, 35.00 kg of ammonium carbonate and 147.00 kg of 50% by mass ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium salt (EDTA.4Na.4H 2 O) were dissolved in 225.68 kg of pure water, and the liquid temperature was adjusted to 35 ° C. did. This solution was mixed with an aqueous silver nitrate solution containing 7.778 kg of silver to prepare a silver complex salt solution. Further, after dissolving 1.82 kg of ammonium carbonate and 22.52 kg of a 50 mass% solution of EDTA · 4Na · 4H 2 O in 288.23 kg of pure water, 70.00 kg of the flake copper powder was added and stirred, and the flaky copper was added. A powder dispersion was prepared. The liquid temperature of this flaky copper powder dispersion was adjusted to 35 ° C. in a dry nitrogen gas atmosphere, the silver complex salt solution was added to carry out the silver coating reaction, and the mixture was held for 30 minutes with stirring. 2.26 kg of a stearic acid emulsion containing 15% by mass of stearic acid was added, and stirring was continued for 5 minutes to perform surface treatment on the silver-coated flake copper powder.
The obtained silver-coated flake copper powder is filtered, washed with ion-exchanged water, the obtained wet cake is dried at 120 ° C. in a nitrogen atmosphere, and passed through a sieve having an opening of 25 μm according to Example 5. Silver-coated flaky copper powder was obtained (in the present invention, the silver coating step is referred to as “silver coating step (B)”).
Except for this, the same operations as in Example 1 were performed to obtain a conductive paste and a conductive film according to Example 5.

(実施例6)
扁平化処理工程において、アトライターの回転数を227rpmとした以外は、実施例1と同様の操作を行った。
(Example 6)
In the flattening treatment step, the same operation as in Example 1 was performed except that the rotation speed of the attritor was changed to 227 rpm.

銀被覆工程において、炭酸アンモニウム35.00kgとエチレンジアミン四酢酸四ナトリウム塩(EDTA・4Na・4HO)50質量%溶液147.00kgを純水225.68kgに溶解し、液温を35℃に調整した。この溶液と銀7.778kg含有の硝酸銀水溶液を混合して、銀錯塩溶液を調製した。また、炭酸アンモニウム1.82kgとEDTA・4Na・4HOの50質量%溶液22.52kgを純水288.23kgに溶解させた後、前記フレーク銅粉70.00kgを加え攪拌してフレーク状銅粉分散液を準備した。このフレーク状銅粉分散液を乾燥窒素ガス雰囲気にて液温を35℃に調整し、前記銀錯塩溶液を添加し銀被覆反応を実施し、30分間攪拌しながら保持した。ステアリン酸15質量%のステアリン酸エマルジョン2.26kgを添加し、5分間攪拌を継続して、銀被覆フレーク銅粉への表面処理を行った。
得られた銀被覆フレーク銅粉を濾過して、イオン交換水で洗浄し、得られたウェットケーキを窒素雰囲気中で、120℃で乾燥を行い、サンプルミル(不二パウダル社製、KII WR−1型)により乾燥凝集を解砕し、目開き25μmの篩を通して、実施例6に係る銀被覆フレーク状銅粉を得た(本発明において、当該銀被覆工程を「銀被覆工程(C)」と記載する。)。
これ以外は、実施例1と同様の操作を行って、実施例6に係る導電性ペースト、導電膜を得た。
In the silver coating process, 35.00 kg of ammonium carbonate and 147.00 kg of 50% by mass ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium salt (EDTA.4Na.4H 2 O) were dissolved in 225.68 kg of pure water, and the liquid temperature was adjusted to 35 ° C. did. This solution was mixed with an aqueous silver nitrate solution containing 7.778 kg of silver to prepare a silver complex salt solution. Further, after dissolving 1.82 kg of ammonium carbonate and 22.52 kg of a 50 mass% solution of EDTA · 4Na · 4H 2 O in 288.23 kg of pure water, 70.00 kg of the flake copper powder was added and stirred, and the flaky copper was added. A powder dispersion was prepared. The liquid temperature of this flaky copper powder dispersion was adjusted to 35 ° C. in a dry nitrogen gas atmosphere, the silver complex salt solution was added to carry out the silver coating reaction, and the mixture was held for 30 minutes with stirring. 2.26 kg of a stearic acid emulsion containing 15% by mass of stearic acid was added, and stirring was continued for 5 minutes to perform surface treatment on the silver-coated flake copper powder.
The obtained silver-coated flake copper powder was filtered and washed with ion-exchanged water. The obtained wet cake was dried at 120 ° C. in a nitrogen atmosphere, and a sample mill (KII WR-, manufactured by Fuji Powder Co., Ltd.) was obtained. The dry agglomeration was pulverized by Type 1), and the silver-coated flaky copper powder according to Example 6 was obtained through a sieve having an opening of 25 μm (in the present invention, the silver coating step is referred to as “silver coating step (C)”). .)
Except for this, the same operation as in Example 1 was performed to obtain a conductive paste and a conductive film according to Example 6.

(実施例7)
扁平化処理工程において、アトライターによる処理時間を240分間とした以外は、実施例1と同様の操作を行って、実施例7に係る銀被覆フレーク状銅粉、導電性ペースト、導電膜を得た。
(Example 7)
In the flattening process, the same operation as in Example 1 was performed except that the processing time by the attritor was set to 240 minutes, and the silver-coated flaky copper powder, the conductive paste, and the conductive film according to Example 7 were obtained. It was.

(実施例8)
扁平化処理工程において、アトライターの回転数を170rpmとした以外は、実施例1と同様の操作を行って、実施例8に係る銀被覆フレーク状銅粉、導電性ペースト、導電膜を得た。
(Example 8)
In the flattening treatment step, the same operation as in Example 1 was performed except that the rotation speed of the attritor was set to 170 rpm, and the silver-coated flaky copper powder, the conductive paste, and the conductive film according to Example 8 were obtained. .

(実施例9)
扁平化処理工程において、アトライターによる処理時間を240分間、アトライターの回転数を170rpmとした以外は、実施例1と同様の操作を行って、実施例9に係る銀被覆フレーク状銅粉、導電性ペースト、導電膜を得た。
Example 9
In the flattening treatment step, the silver coated flaky copper powder according to Example 9 was performed by performing the same operation as in Example 1 except that the treatment time by the attritor was 240 minutes and the rotation speed of the attritor was 170 rpm. A conductive paste and a conductive film were obtained.

(実施例10)
扁平化処理工程において、アトライターによる処理時間を240分間、アトライターの回転数を170rpmとした以外は、実施例1と同様の操作を行った。
(Example 10)
In the flattening process, the same operation as in Example 1 was performed except that the processing time by the attritor was 240 minutes and the rotation speed of the attritor was 170 rpm.

〈銀被覆工程〉
銀被覆工程において、実施例6で説明した「銀被覆工程(C)」を行って、実施例10に係る銀被覆フレーク状銅粉を得た。
これ以外は、実施例1と同様の操作を行って、実施例10に係る導電性ペースト、導電膜を得た。
<Silver coating process>
In the silver coating step, the “silver coating step (C)” described in Example 6 was performed to obtain a silver-coated flaky copper powder according to Example 10.
Except for this, the same operations as in Example 1 were performed to obtain a conductive paste and a conductive film according to Example 10.

(実施例11)
扁平化処理工程において、アトライターの回転数を150rpmとした以外は、実施例1と同様の操作を行って、実施例11に係る銀被覆フレーク状銅粉、導電性ペースト、導電膜を得た。
(Example 11)
In the flattening treatment step, the same operation as in Example 1 was performed except that the rotation speed of the attritor was set to 150 rpm, and the silver-coated flaky copper powder, the conductive paste, and the conductive film according to Example 11 were obtained. .

(実施例12)
扁平化処理工程において、アトライターによる処理時間を240分間、アトライターの回転数を150rpmとした以外は、実施例1と同様の操作を行って、実施例12に係る銀被覆フレーク状銅粉、導電性ペースト、導電膜を得た。
(Example 12)
In the flattening treatment step, the silver coated flaky copper powder according to Example 12 was performed by performing the same operation as in Example 1 except that the treatment time by the attritor was 240 minutes and the rotation speed of the attritor was 150 rpm. A conductive paste and a conductive film were obtained.

(実施例13)
扁平化処理工程において、循環ポンプの圧力を0.55MPaとした以外は、実施例1と同様の操作を行って、実施例13に係る銀被覆フレーク状銅粉、導電性ペースト、導電膜を得た。
(Example 13)
In the flattening treatment step, the same operation as in Example 1 was performed except that the pressure of the circulation pump was changed to 0.55 MPa to obtain a silver-coated flaky copper powder, a conductive paste, and a conductive film according to Example 13. It was.

(実施例14)
扁平化処理工程において、アトライターによる処理時間を240分間、循環ポンプの圧力を0.55MPaとした以外は、実施例1と同様の操作を行って、実施例14に係る銀被覆フレーク状銅粉、導電性ペースト、導電膜を得た。
(Example 14)
In the flattening process, the same operation as in Example 1 was performed except that the processing time by the attritor was 240 minutes and the pressure of the circulation pump was 0.55 MPa, and the silver-coated flaky copper powder according to Example 14 A conductive paste and a conductive film were obtained.

(実施例15)
扁平化処理工程において、アトライターによる処理時間を240分間、アトライターの回転数を170rpm、循環ポンプの圧力を0.55MPaとした以外は、実施例1と同様の操作を行って、実施例15に係る銀被覆フレーク状銅粉、導電性ペースト、導電膜を得た。
(Example 15)
In the flattening process, the same operation as in Example 1 was performed except that the processing time by the attritor was 240 minutes, the rotation speed of the attritor was 170 rpm, and the pressure of the circulation pump was 0.55 MPa. A silver-coated flaky copper powder, a conductive paste, and a conductive film were obtained.

(実施例16)
扁平化処理工程において、アトライターの処理スケールを5.4L、電解銅粉として、福田金属箔粉工業株式会社製 #51-R(A)を用い、電解銅粉の量を1.865kg、アトライターによる処理時間を120分間、ボール充填率を45.02vol%、アトライターの回転数を360rpmとし、アトライターの処理スケールが5.4Lであったので循環ポンプを使用しなかった以外は、実施例1と同様の操作を行って、実施例16に係る銀被覆フレーク状銅粉、導電性ペースト、導電膜を得た。
このとき、〔電解銅粉量(kg)/アトライターの処理スケール(L)〕の値が、0.345kg/Lとなった。
(Example 16)
In the flattening treatment process, the processing scale of the attritor is 5.4 L, and electrolytic copper powder is # 51-R (A) manufactured by Fukuda Metal Foil Powder Industry Co., Ltd. The processing time with a lighter was 120 minutes, the ball filling rate was 45.02 vol%, the rotation speed of the attritor was 360 rpm, and the processing scale of the attritor was 5.4 L. The same operation as in Example 1 was performed to obtain a silver-coated flaky copper powder, a conductive paste, and a conductive film according to Example 16.
At this time, the value of [amount of electrolytic copper powder (kg) / processing scale of attritor (L)] was 0.345 kg / L.

(実施例17)
銀被覆工程において、得られたウェットケーキを、70℃で真空乾燥を行って乾燥物とした以外は実施例9と同様の操作を行って、実施例17に係る銀被覆フレーク状銅粉、導電性ペースト、導電膜を得た。
(Example 17)
In the silver coating step, the obtained wet cake was vacuum-dried at 70 ° C. to obtain a dried product, and then the same operation as in Example 9 was performed to obtain a silver-coated flaky copper powder according to Example 17, conductive Conductive paste and conductive film were obtained.

(実施例18)
実施例9と同様の扁平化処理工程を行って得られたフレーク状銅粉を、さらに目開き25μmの篩を通してフレーク状銅粉とした以外は、実施例9と同様の操作を行って、実施例18に係る銀被覆フレーク状銅粉、導電性ペースト、導電膜を得た。
(Example 18)
The same operation as in Example 9 was performed except that the flaky copper powder obtained by performing the same flattening treatment step as in Example 9 was changed to a flaky copper powder through a sieve having an opening of 25 μm. A silver-coated flaky copper powder, a conductive paste, and a conductive film according to Example 18 were obtained.

(比較例1)
銀被覆工程において、炭酸アンモニウム393.0gとエチレンジアミン四酢酸四ナトリウム塩(EDTA・4Na・4HO)50質量%溶液1268.7gを純水1458.7gに溶解し、液温を25℃に調整した。この溶液と銀55.56g含有の硝酸銀水溶液を混合して、銀錯塩溶液を調製した。また、炭酸アンモニウム356.9gとEDTA・4Na・4HOの50質量%溶液576.2gを純水5031.1gに溶解させた後、ヘロスによるD50粒径が6.4μmの球状銅粉500.0gを加え攪拌して、球状銅粉分散液を準備した。この球状銅粉分散液を乾燥窒素ガス雰囲気にて液温を25℃に調整し、前記銀錯塩溶液を添加し銀被覆反応を実施し、30分間攪拌しながら保持した。ステアリン酸15質量%のステアリン酸エマルジョン4.6gを添加し、30分間攪拌を継続して、銀被覆球状銅粉への表面処理を行った。
得られた銀被覆球状銅粉を濾過して、イオン交換水で洗浄し、得られたウェットケーキを窒素雰囲気中で、120℃で乾燥を行い、目開き32μmの篩を通した以外は、実施例1と同様の操作を行って、比較例1に係る銀被覆球状銅粉、導電性ペースト、導電膜を得た。
そして、比較例1に係る銀被覆銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡写真を図18に示す。
(Comparative Example 1)
In the silver coating step, 393.0 g of ammonium carbonate and 1268.7 g of ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium salt (EDTA · 4Na · 4H 2 O) 50% by mass solution were dissolved in 1458.7 g of pure water, and the liquid temperature was adjusted to 25 ° C. did. This solution was mixed with an aqueous silver nitrate solution containing 55.56 g of silver to prepare a silver complex salt solution. Further, after the 50 wt% solution 576.2g of ammonium carbonate 356.9g and EDTA · 4Na · 4H 2 O dissolved in pure water 5031.1G, spherical copper powder D50 particle size of 6.4μm by Heroes 500. 0 g was added and stirred to prepare a spherical copper powder dispersion. The liquid temperature of this spherical copper powder dispersion was adjusted to 25 ° C. in a dry nitrogen gas atmosphere, the silver complex salt solution was added to carry out the silver coating reaction, and the mixture was held for 30 minutes with stirring. The stearic acid emulsion 4.6g of 15 mass% stearic acid was added, and stirring was continued for 30 minutes, and the surface treatment to the silver coating spherical copper powder was performed.
The obtained silver-coated spherical copper powder was filtered, washed with ion-exchanged water, and the obtained wet cake was dried at 120 ° C. in a nitrogen atmosphere and passed through a sieve having an opening of 32 μm. The same operation as in Example 1 was performed to obtain a silver-coated spherical copper powder, a conductive paste, and a conductive film according to Comparative Example 1.
And the scanning electron micrograph of 1000 time of the silver covering copper powder which concerns on the comparative example 1 is shown in FIG.

(比較例2)
銀被覆工程において、炭酸アンモニウム393.0gとエチレンジアミン四酢酸四ナトリウム塩(EDTA・4Na・4HO)50質量%溶液1268.7gとを純水1458.7gに溶解して溶液とし、液温を25℃に調整した。この溶液と、銀55.56g含有の硝酸銀水溶液とを混合して、銀錯塩溶液を調製した。
また、炭酸アンモニウム356.9gと、EDTA・4Na・4HOの50質量%溶液576.2gとを純水5031.1gに溶解させた後、IPAを200g添加して溶液を得た。当該溶液へ、ヘロス測定によるD50粒径が13.97μmの球状銅粉を扁平化したフレーク状銅粉500.0gを加え、攪拌してフレーク状銅粉分散液を準備した。
当該フレーク状銅粉分散液を乾燥窒素ガス雰囲気にて液温を25℃に調整した後、前記銀錯塩溶液を添加して銀被覆反応を実施し、30分間攪拌しながら保持した。次に、ここへステアリン酸15質量%のステアリン酸エマルジョン4.6gを添加し、30分間攪拌を継続して、銀被覆フレーク状銅粉への表面処理を行った。
得られた銀被覆フレーク状銅粉を濾過して、イオン交換水で洗浄し、得られたウェットケーキを窒素雰囲気中で、120℃で乾燥を行い、目開き32μmの篩を通した以外は、実施例1と同様の操作を行って、比較例2に係る銀被覆フレーク状銅粉、導電性ペースト、導電膜を得た。
そして、比較例2に係る銀被覆フレーク状銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡写真を図19に示す。
(Comparative Example 2)
In the silver coating step, 393.0 g of ammonium carbonate and 1268.7 g of ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium salt (EDTA · 4Na · 4H 2 O) 50% by mass solution were dissolved in 1458.7 g of pure water to obtain a solution, and the liquid temperature was adjusted. Adjusted to 25 ° C. This solution was mixed with an aqueous silver nitrate solution containing 55.56 g of silver to prepare a silver complex salt solution.
Further, 356.9 g of ammonium carbonate and 576.2 g of a 50 mass% solution of EDTA · 4Na · 4H 2 O were dissolved in 5031.1 g of pure water, and then 200 g of IPA was added to obtain a solution. To the solution was added 500.0 g of flaky copper powder obtained by flattening spherical copper powder having a D50 particle size of 13.97 μm as measured by Heros, followed by stirring to prepare a flaky copper powder dispersion.
The liquid temperature of the flaky copper powder dispersion was adjusted to 25 ° C. in a dry nitrogen gas atmosphere, and then the silver complex salt solution was added to carry out a silver coating reaction, which was held for 30 minutes with stirring. Next, 4.6 g of a stearic acid emulsion containing 15% by mass of stearic acid was added thereto, and stirring was continued for 30 minutes to perform surface treatment on the silver-coated flaky copper powder.
The obtained silver-coated flaky copper powder was filtered, washed with ion-exchanged water, the obtained wet cake was dried at 120 ° C. in a nitrogen atmosphere, and passed through a sieve having an opening of 32 μm. The same operation as in Example 1 was performed to obtain a silver-coated flaky copper powder, a conductive paste, and a conductive film according to Comparative Example 2.
And the scanning electron micrograph of 1000 time of the silver covering flaky copper powder which concerns on the comparative example 2 is shown in FIG.

(比較例3)
銀被覆工程において、炭酸アンモニウム196.5gと、エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム塩(EDTA・4Na・4HO)50質量%溶液634.5gとを純水729.4gに溶解して溶液を得、液温を25℃に調整した。この溶液と、銀27.78g含有の硝酸銀水溶液とを混合して、銀錯塩溶液を調製した。
また、炭酸アンモニウム178.5gと、EDTA・4Na・4HOの50質量%溶液288.1gとを純水2315.5gに溶解させた後、IPAを200g添加して溶液とした。当該溶液へ、福田金属箔粉工業(株)FCC−115を250.0g加えて攪拌し、樹枝状銅粉分散液を準備した。
この樹枝状銅粉分散液を乾燥窒素ガス雰囲気にて液温を25℃に調整し、前記銀錯塩溶液を添加して、銀被覆反応を実施し30分間攪拌しながら保持した。次に、ステアリン酸15質量%のステアリン酸エマルジョン2.0gを添加し、30分間攪拌を継続して、銀被覆樹枝状銅粉への表面処理を行った。
得られた銀被覆樹枝状銅粉を濾過して、イオン交換水で洗浄し、得られたウェットケーキを窒素雰囲気中で、120℃で乾燥を行い、目開き32μmの篩を通した以外は、実施例1と同様の操作を行って、比較例3に係る銀被覆樹枝状銅粉、導電性ペースト、導電膜を得た。
そして、比較例3に係る銀被覆銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡写真を図20に示す。
(Comparative Example 3)
In the silver coating step, 196.5 g of ammonium carbonate and 634.5 g of ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium salt (EDTA · 4Na · 4H 2 O) 50% by mass solution were dissolved in 729.4 g of pure water to obtain a solution. The temperature was adjusted to 25 ° C. This solution was mixed with an aqueous silver nitrate solution containing 27.78 g of silver to prepare a silver complex salt solution.
In addition, 178.5 g of ammonium carbonate and 288.1 g of a 50 mass% solution of EDTA · 4Na · 4H 2 O were dissolved in 2315.5 g of pure water, and then 200 g of IPA was added to obtain a solution. To this solution, 250.0 g of Fukuda Metal Foil Powder Co., Ltd. FCC-115 was added and stirred to prepare a dendritic copper powder dispersion.
The liquid temperature of this dendritic copper powder dispersion was adjusted to 25 ° C. in a dry nitrogen gas atmosphere, and the silver complex salt solution was added to carry out the silver coating reaction, and the mixture was held for 30 minutes with stirring. Next, 2.0 g of a stearic acid emulsion containing 15% by mass of stearic acid was added, and stirring was continued for 30 minutes to perform surface treatment on the silver-coated dendritic copper powder.
The obtained silver-coated dendritic copper powder was filtered, washed with ion-exchanged water, the obtained wet cake was dried at 120 ° C. in a nitrogen atmosphere, and passed through a sieve having an opening of 32 μm. The same operation as in Example 1 was performed to obtain a silver-coated dendritic copper powder, a conductive paste, and a conductive film according to Comparative Example 3.
And the scanning electron micrograph of 1000 time of the silver covering copper powder which concerns on the comparative example 3 is shown in FIG.

(比較例4)
扁平化処理工程において、電解銅粉の量を25kg、アトライターによる処理時間を210分間とした以外は、実施例1と同様の操作を行って、比較例4に係る銀被覆フレーク状銅粉、導電性ペースト、導電膜を得た。
このとき、〔電解銅粉量(kg)/アトライターの処理スケール(L)〕の値が、0.250kg/Lとなった。
そして、比較例4に係る銀被覆フレーク状銅粉の1000倍の走査型電子顕微鏡写真を図21に示す。
(Comparative Example 4)
In the flattening treatment step, the same operation as in Example 1 was performed except that the amount of electrolytic copper powder was 25 kg and the treatment time with an attritor was 210 minutes, and the silver-coated flaky copper powder according to Comparative Example 4 A conductive paste and a conductive film were obtained.
At this time, the value of [amount of electrolytic copper powder (kg) / processing scale of attritor (L)] was 0.250 kg / L.
And the scanning electron micrograph of 1000 time of the silver covering flaky copper powder which concerns on the comparative example 4 is shown in FIG.

(まとめ)
以上の結果より、実施例1〜18の本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉は、いずれも少なくとも表面に銀を有し、扁平化処理された銀被覆フレーク状銅粉粒子を含む銀被覆フレーク状銅粉であって、円形度係数が0.3以上0.6以下であり、厚みが、0.35μm以上0.70μm以下であり、X線粒径が、Ag(111)面において10nm以上30nm以下であり、Cu(111)面において30nm以上58nm以下であった。そして、当該構成を有する本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉は、表4に示すように体積抵抗率が低く、フィラー(導電性ペースト用の銀被覆銅粉)含有量が60質量%という低フィラー含量の導電性ペーストであっても、フィラー含有量が80質量%以上ある従来の技術に係る導電性ペーストと同等の体積抵抗率を有していることが理解出来る。
即ち、本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉は、低フィラー含量ペーストにおいても導電性を確保できる銀被覆フレーク状銅粉であることが理解出来る。
(Summary)
From the above results, the silver-coated flaky copper powder according to the present invention of Examples 1 to 18 has a silver-coated flaky copper powder particle that has at least silver on the surface and is flattened. The copper powder has a circularity coefficient of 0.3 or more and 0.6 or less, a thickness of 0.35 μm or more and 0.70 μm or less, and an X-ray particle size of 10 nm or more on the Ag (111) plane. It was 30 nm or less, and was 30 nm or more and 58 nm or less on the Cu (111) plane. And the silver covering flaky copper powder which concerns on this invention which has the said structure has low volume resistivity as shown in Table 4, and filler (silver covering copper powder for conductive paste) content is as low as 60 mass%. It can be understood that even a conductive paste having a filler content has a volume resistivity equivalent to that of a conductive paste according to the prior art having a filler content of 80% by mass or more.
That is, it can be understood that the silver-coated flaky copper powder according to the present invention is a silver-coated flaky copper powder that can ensure conductivity even in a paste with a low filler content.

これに対し、比較例1〜3の従来の技術に係る銀被覆フレーク状銅粉において、比較例1は円形度係数および厚みを満たさず、比較例2は円形度係数を満たさず、比較例3は厚みを満たしていない。
一方、本発明の製造方法と同様の方法ではあるが、扁平化処理において、〔電解銅粉量(kg)/アトライターの処理スケール(L)〕の値を0.25とした比較例4の銀被覆フレーク状銅粉においては、厚みが0.35μm以上0.70μm以下を満たさなかった。この結果、表4に示すように実施例1〜18と較べて体積抵抗率が高かった。
In contrast, in the silver-coated flaky copper powder according to the conventional techniques of Comparative Examples 1 to 3, Comparative Example 1 does not satisfy the circularity coefficient and thickness, Comparative Example 2 does not satisfy the circularity coefficient, and Comparative Example 3 Does not meet the thickness.
On the other hand, although it is the same method as the manufacturing method of the present invention, in the flattening treatment, the value of [electrolytic copper powder amount (kg) / attritor treatment scale (L)] is 0.25. In the silver-coated flaky copper powder, the thickness did not satisfy 0.35 μm or more and 0.70 μm or less. As a result, as shown in Table 4, the volume resistivity was higher than those of Examples 1-18.

本発明に係る銀被覆フレーク状銅粉を含む導電性ペーストは、低フィラー含量ペーストとすることが出来るので、例えば、太陽電池用のシリコンウエハー、タッチパネル用フィルム、EL素子用ガラス等の各種基体上に直接又は必要に応じて前記基体上へ更に透明導電膜を設けた前記透明導電膜上に、塗布又は印刷して導電性塗膜を形成することが出来る。この結果、例えば、太陽電池セルの集電電極、チップ型電子部品の外部電極、RFID、電磁波シールド、振動子接着、メンブレンスイッチ、エレクトロルミネセンス等の電極又は電気配線用途に好適に用いられる。   Since the conductive paste containing the silver-coated flaky copper powder according to the present invention can be a low filler content paste, for example, on various substrates such as silicon wafers for solar cells, films for touch panels, glass for EL elements, etc. The conductive coating film can be formed by coating or printing directly or on the transparent conductive film further provided with a transparent conductive film on the substrate, if necessary. As a result, for example, it is suitably used for a current collecting electrode of a solar battery cell, an external electrode of a chip-type electronic component, an RFID, an electromagnetic wave shield, a vibrator adhesive, a membrane switch, an electroluminescence electrode, or an electrical wiring application.

Claims (10)

少なくとも表面に銀を有し、扁平化処理された銀被覆フレーク状銅粉粒子を含む銀被覆フレーク状銅粉であって、
前記銀被覆フレーク状銅粉粒子の走査型電子顕微鏡像の測定による円形度係数が0.3以上0.6以下であり、
X線粒径が、Ag(111)面において10nm以上30nm以下であり、Cu(111)面において30nm以上58nm以下であることを特徴とする銀被覆フレーク状銅粉。
Silver-coated flaky copper powder containing silver-coated flaky copper powder particles having at least silver on the surface and flattened,
The circularity coefficient by measurement of a scanning electron microscope image of the silver-coated flaky copper powder particles is 0.3 or more and 0.6 or less,
A silver-coated flaky copper powder having an X-ray particle size of 10 nm to 30 nm in the Ag (111) plane and 30 nm to 58 nm in the Cu (111) plane.
厚みが、0.35μm以上0.70μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の銀被覆フレーク状銅粉。   Thickness is 0.35 micrometer or more and 0.70 micrometer or less, The silver covering flaky copper powder of Claim 1 characterized by the above-mentioned. 前記銀被覆フレーク状銅粉粒子の走査型電子顕微鏡像の測定による円形度係数とアスペクト比との積が、7.5以上15.5以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の銀被覆フレーク状銅粉。   The product of the circularity coefficient and the aspect ratio measured by a scanning electron microscope image of the silver-coated flaky copper powder particles is 7.5 or more and 15.5 or less. Silver-coated flaky copper powder. 前記銀被覆フレーク状銅粉粒子の走査型電子顕微鏡像の測定による長軸の最大長と平均厚みとのアスペクト比(長軸の最大長/平均厚み)が、17以上34以下であることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の銀被覆フレーク状銅粉。   The aspect ratio (maximum long axis length / average thickness) of the long axis and the average thickness by measurement of a scanning electron microscope image of the silver-coated flaky copper powder particles is 17 or more and 34 or less. The silver-coated flaky copper powder according to any one of claims 1 to 3. BET比表面積が、0.45m/g以上0.65m/g以下であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の銀被覆フレーク状銅粉。 5. The silver-coated flaky copper powder according to claim 1, wherein the BET specific surface area is 0.45 m 2 / g or more and 0.65 m 2 / g or less. タップ密度が、3.5g/cm以下2.0g/cm以上であることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の銀被覆フレーク状銅粉。 6. The silver-coated flaky copper powder according to claim 1, wherein the tap density is 3.5 g / cm 3 or less and 2.0 g / cm 3 or more. 樹枝状の形状を有する電解銅粉へ、水および/または有機溶剤の存在下にてアトライターを用いて扁平化処理を行い、フレーク状の電解銅粉を得る扁平化処理工程と、
前記扁平化処理により得られたフレーク状の電解銅粉の表面に銀を被覆する銀被覆工程と、を有し、
前記扁平化処理において、〔電解銅粉量(kg)/アトライターの処理スケール(L)〕の値を0.3kg/L以上として、扁平化処理することを特徴とする銀被覆フレーク状銅粉の製造方法。
A flattening treatment step for obtaining a flaky electrolytic copper powder by performing a flattening treatment using an attritor in the presence of water and / or an organic solvent on the electrolytic copper powder having a dendritic shape;
A silver coating step of coating silver on the surface of the flaky electrolytic copper powder obtained by the flattening treatment,
In the flattening treatment, the flattening treatment is performed by setting the value of [amount of electrolytic copper powder (kg) / attritor processing scale (L)] to 0.3 kg / L or more. Manufacturing method.
前記扁平化処理工程において、扁平化処理の後に得られたフレーク状の電解銅粉を、目開き25μmの篩に通すことを特徴とする請求項7記載の銀被覆フレーク状銅粉の製造方法。   The method for producing a silver-coated flaky copper powder according to claim 7, wherein, in the flattening treatment step, the flaky electrolytic copper powder obtained after the flattening treatment is passed through a sieve having an opening of 25 µm. 前記銀被覆工程において、銀被覆反応の後に得られる水と銀被覆フレーク状銅粉とを含むウェットケーキを、真空乾燥することを特徴とする請求項7または8に記載の銀被覆フレーク状銅粉の製造方法。   9. The silver-coated flaky copper powder according to claim 7 or 8, wherein in the silver coating step, a wet cake containing water and silver-coated flaky copper powder obtained after the silver coating reaction is vacuum-dried. Manufacturing method. 請求項1から6のいずれかに記載の銀被覆フレーク状銅粉を含有することを特徴とする導電性ペースト。
A conductive paste comprising the silver-coated flaky copper powder according to claim 1.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110523973A (en) * 2019-09-21 2019-12-03 深圳市百柔新材料技术有限公司 Surface coats the sheet silver-bearing copper powder of fine and close silver layer, preparation method and applications
KR102193224B1 (en) * 2019-07-16 2020-12-21 주식회사 엠엠에스 Conductive powder mixture of different kind of shape for electromagnetic wave shielding and Method for manufacturing the same and Paint composition having the same
WO2022044676A1 (en) 2020-08-26 2022-03-03 三井金属鉱業株式会社 Silver-coated flake-form copper powder, and method for manufacturing same
CN117862520A (en) * 2024-03-11 2024-04-12 云南师范大学 Method for preparing flake silver powder by using shellac

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013149527A (en) * 2012-01-20 2013-08-01 Toyo Aluminium Kk Flake-like conductive filler
JP2013214508A (en) * 2012-03-06 2013-10-17 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd Conductive particle and process of manufacturing the same

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013149527A (en) * 2012-01-20 2013-08-01 Toyo Aluminium Kk Flake-like conductive filler
JP2013214508A (en) * 2012-03-06 2013-10-17 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd Conductive particle and process of manufacturing the same

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102193224B1 (en) * 2019-07-16 2020-12-21 주식회사 엠엠에스 Conductive powder mixture of different kind of shape for electromagnetic wave shielding and Method for manufacturing the same and Paint composition having the same
CN110523973A (en) * 2019-09-21 2019-12-03 深圳市百柔新材料技术有限公司 Surface coats the sheet silver-bearing copper powder of fine and close silver layer, preparation method and applications
WO2022044676A1 (en) 2020-08-26 2022-03-03 三井金属鉱業株式会社 Silver-coated flake-form copper powder, and method for manufacturing same
KR20230057342A (en) 2020-08-26 2023-04-28 미쓰이금속광업주식회사 Silver-coated flaky copper powder and its manufacturing method
CN117862520A (en) * 2024-03-11 2024-04-12 云南师范大学 Method for preparing flake silver powder by using shellac
CN117862520B (en) * 2024-03-11 2024-05-10 云南师范大学 Method for preparing flake silver powder by using shellac

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