KR20220157308A - 테트라카복실산 이무수물을 고순도로 제조하는 방법 - Google Patents

테트라카복실산 이무수물을 고순도로 제조하는 방법 Download PDF

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KR20220157308A
KR20220157308A KR1020220058949A KR20220058949A KR20220157308A KR 20220157308 A KR20220157308 A KR 20220157308A KR 1020220058949 A KR1020220058949 A KR 1020220058949A KR 20220058949 A KR20220058949 A KR 20220058949A KR 20220157308 A KR20220157308 A KR 20220157308A
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이소영
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Abstract

본 개시는 테트라카복실산 이무수물의 제조방법에 관한 것으로 본 발명의 일 측면에서 제공하는 테트라카복실산 이무수물의 제조방법은 촉매의 사용량을 저감하여 색상 불순물의 생성을 억제할 수 있으므로 광학용으로 적합하며, 별도의 정제 공정 없이 경제적인 공정 조건에서 비교적 짧은 시간 안에 고순도로 테트라카복실산 이무수물을 제조할 수 있으므로 효과적이다.

Description

테트라카복실산 이무수물을 고순도로 제조하는 방법{Method for preparing tetracarboxylic dianhydride with high purity}
본 개시는 광학용으로 적합한 테트라카복실산 이무수물을 고순도로 제조하는 방법에 관한 것이다.
정보화의 심화 및 대중화에 따라 다양한 정보를 시각화하여 인간에게 전달하는 디스플레이로 장소나 시간에 구애됨이 없고, 초경량, 저전력의 얇고 가벼우며 안정성과 투명성이 우수한 광학 부재에 대한 필요성이 증대되고 있다. 현재 광학 부재로 사용되는 화합물 중에는 갈색 또는 황색으로 착색되어 가시광선 영역에서의 투과도가 낮고, 큰 복굴절률을 가져 광학 부재로 사용되기에 곤란한 점이 있는 경우도 있다.
예로써 테트라카복실산 이무수물은 광학 재료로 널리 사용되고 있는 화합물 중 하나인데, 종래 테트라카복실산 이무수물을 제조하는 방법은 아세트산 무수물이 비교적 고용량으로 사용됨에 따라 색 불순물(color impurity)이 생성되는 문제점이 있으며, 뿐만 아니라 고온에서 오랜시간 동안 교반하는 공정이 필요하여 경제적이지 못한 단점이 있다.
따라서 낮은 색 지수 가지며, 온화한 조건에서 이무수물을 제조하는 방법에 대한 요구가 존재한다.
일 구현예의 목적은 테트라카복실산 이무수물을 경제적인 공정 조건에서 광학용으로 적합하고 고순도로 제조하는 방법을 제공하는 것이다.
다른 일 구현예의 목적은 상기 제조방법으로 제조된 테트라카복실산 이무수물을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위해,
일 구현예는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 비양성자성 용매 및 질소 원자 함유-헤테로방향족 화합물 하에서 탈수 반응시키는 단계를 포함하는 하기 화학식 2로 표시되는 화합물의 제조방법을 제공한다.
[화학식 1]
Figure pat00001
;
[화학식 2]
Figure pat00002
;
이때 상기 A는 C6- 20방향족 탄화수소기 또는 C4- 20지환족 탄화수소기를 포함하는 고리 시스템이다.
다른 일 구현예는 상기 제조방법으로 제조된 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 제공한다.
[화학식 2]
Figure pat00003
;
이때, 상기 A는 상기에서 정의한 바와 같다.
일 구현예에서 제공하는 테트라카복실산 이무수물의 제조방법은 촉매의 사용량을 저감하여 색상 불순물의 생성을 억제할 수 있으므로 광학용으로 적합하며, 별도의 정제 공정 없이 경제적인 공정 조건에서 비교적 짧은 시간 안에 고순도로 테트라카복실산 이무수물을 제조할 수 있으므로 효과적이다.
이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.
한편, 본 발명의 실시 형태는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시 형태로 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명의 실시 형태는 당해 기술분야에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 나아가, 명세서 전체에서 어떤 구성요소를 "포함"한다는 것은 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다.
일 구현예는, 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 비양성자성 용매 및 질소 원자 함유-헤테로방향족 화합물 하에서 탈수 반응시키는 단계를 포함하는 하기 화학식 2로 표시되는 화합물의 제조방법을 제공한다.
[화학식 1]
Figure pat00004
;
[화학식 2]
Figure pat00005
;
이때 상기 A는 C6- 20방향족 탄화수소기 또는 C4- 20지환족 탄화수소기를 포함하는 고리 시스템이다. 상기 A는 C6- 15방향족 탄화수소기, C6- 10방향족 탄화수소기 또는 C6-8방향족 탄화수소기를 포함하는 고리시스템일 수도 있고, C4- 15지환족 탄화수소기, C4-10지환족 탄화수소기, C4- 8지환족 탄화수소기 또는 C4- 6지환족 탄화수소기를 포함하는 고리시스템일 수도 있다. 이때 상기 방향족 탄화수소기 또는 지환족 탄화수소기는 단독으로 존재하거나, 2개 이상이 접합되어 축합고리를 형성할 수도 있다.
상기 방향족 탄화수소기 또는 지환족 탄화수소기는 예를 들면, 비치환되어 있거나, 수소, 할로겐, -OH, -CN, -SO2, -NO2, -NH2, 직쇄 또는 분지쇄의 C1- 10알킬, 직쇄 또는 분지쇄의 C1- 5알킬, 직쇄 또는 분지쇄의 C1- 10알콕시, 또는 직쇄 또는 분지쇄의 C1- 5알콕시로 치환된 것일 수도 있다. 또는 예를 들면, 비치환 또는 치환된 두 개 이상의 방향족 탄화수소기 또는 지환족 탄화수소기가 단결합, C1- 10알킬렌, C1- 6알킬렌-CO-, -S-, -O-, -SO2-, -C(CF3)2- 또는 Si(CH3)2- 등을 포함하는 1종 이상의 연결기로 연결된 것일 수도 있다. 또는, 구체적으로 예를 들자면(이때 -C(=O)O-의 탄소가
Figure pat00006
와 연결된다),
Figure pat00007
,
Figure pat00008
,
Figure pat00009
,
Figure pat00010
,
Figure pat00011
,
Figure pat00012
,
Figure pat00013
,
Figure pat00014
,
Figure pat00015
,
Figure pat00016
,
Figure pat00017
,
Figure pat00018
,
Figure pat00019
, 또는
Figure pat00020
일 수도 있으나, 반드시 이에 제한되는 것은 아니다.
또는 상기 화학식 2로 표시되는 이무수물은 예를 들면, 사이클로뷰테인테트라카복실산 이무수물(CBDA), 9,9-비스 트리플루오로메틸-2,4,6,7-잔텐-테트라카복실산 이무수물(6FCDA), 사이클로뷰테인테트라카복실산 이무수물의 유도체, 비페닐테트라카르복실산 이무수물(BPDA), 바이시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르복실산 이무수물(BTA), 4-(2,5-디옥소테트라하이드로푸란-3-일)-1,2,3,4-테트라하이드로나프탈렌-1,2-디카르복실산 이무수물(TDA), 1,2,4,5-벤젠 테트라카르복실산 이무수물(PMDA), 벤조페논 테트라카르복실산 이무수물(BTDA), 비스(카르복시페닐) 디메틸 실란 이무수물(SiDA), 옥시디프탈릭 이무수물(ODPA), 비스 (디카르복시페녹시) 디페닐 설파이드 이무수물(BDSDA), 술포닐 디프탈릭 이무수물(SO2DPA) 또는 (이소프로필리덴디페녹시) 비스 (프탈릭이무수물)(6HDBA)일 수도 있다.
상기 화학식 1의 일 예로 1,2,3,4-사이클로뷰테인테트라카복실산(
Figure pat00021
), 또는 9,9-비스 트리플루오로메틸-9H-잔텐-2,4,6,7-테트라카복실산(
Figure pat00022
)을 들 수 있고, 상기 화학식 2의 일 예로 사이클로뷰테인테트라카복실산 이무수물(
Figure pat00023
)또는 9,9-비스 트리플루오로메틸-2,4,6,7-잔텐-테트라카복실산 이무수물(
Figure pat00024
)을 들 수 있다.
상기 비양성자성 용매는 테트라하이드로퓨란(THF), 에틸아세테이트(EA), 아세톤, 다이메틸설폭사이드(DMSO), 다이메틸포름아마이드(DMF), 아세토나이트릴, 다이부틸에테르(DBE), 프로필렌카보네이트(PC), N-메틸피롤리디논(NMP), 헥사메틸포스포르아미드(HMPA) 및 다이클로로메탄(DCM)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있고, 비양성자성 용매라면 특별히 제한되는 것은 아니다.
상기 질소 원자 함유-헤테로방향족 화합물은 질소 원자를 하나 이상 포함하는, 비치환 또는 치환된 3 내지 15 원자의 헤테로방향족 화합물일 수 있다. 이때, 상기 '원자'는 헤테로방향족의 고리를 이루는 원자의 개수만을 의미할 수도 있고, 헤테로 방향족 고리를 포함하는 화합물을 구성하는 모든 원자의 개수를 의미하는 것에도 제한이 없다. 이때 상기 치환된 3 내지 15 원자의 헤테로방향족 화합물은, 수소, 할로겐, -NO2, 직쇄 또는 분지쇄의 C1- 20알킬, 직쇄 또는 분지쇄의 C1- 20알콕시 및 -NR1R2로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 치환기가 치환된 것일 수 있고, 상기 R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, 또는 직쇄 또는 분지쇄의 C1- 20알킬이다. 상기 C1- 20알킬은 예를 들면 C1- 15알킬, C1- 10알킬 또는 C1- 8알킬일 수도 있고, 상기 C1-20알콕시는 예를 들면 C1-15알콕시, C1-10알콕시 또는 C1-5알콕시일 수도 있다.
상기 3 내지 15 원자의 헤테로방향족 화합물은 특별히 제한되는 것은 아니나, 예를 들면 피리딘, 피리다진, 피라진, 피리미딘, 1,2,4-트리아진, 1,2,3-트리아진, 이미다졸, 1,2,3-트리아졸, 피라졸, 퓨린, 인돌린, 프탈라진, 인다졸, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 신놀린, 퀴나졸린, 나프티리딘, 피리도[3,4-b]-피리딘, 피리도[3,2-b]-피리딘, 피리도[4,3-b]-피리딘, 인돌, 3H-인돌, 프테리딘 또는 퀴녹살린 중 한개 이상을 선택하여 사용할 수 있다. 상기 헤테로방향족 화합물은 예를 들면 3 내지 13 원자, 3 내지 12 원자, 또는 4 내지 12 원자일 수도 있다.
상기 탈수 반응은 화학식 1로 표시되는 화합물을 산 무수물(acid anhydride, R-C(=O)OC(=O)-R')을 촉매로 하여 비양성자성 용매 및 질소 원자 함유-헤테로방향족 화합물 하에서 진행되는 것일 수 있고, 이때 상기 산 무수물은 아세트산 무수물일 수 있다. 이때 상기 화학식 1로 표시되는 화합물과 산 무수물의 몰비는 1:1 내지 1:4일 수 있으나 반드시 이에 제한되는 것은 아니고, 예를 들면 1:1 내지 1:3.5, 또는 1:1 내지 1:3일 수도 있다. 본 발명의 일 측면에서 제공하는 제조방법은 산 무수물 사용량을 저감함으로써 종래 색 불순물 생성으로 인한 색 지수 문제를 현저히 개선하였다.
상기 화학식 1로 표시되는 화합물과 질소 원자 함유-헤테로방향족 화합물의 몰비는 1:0.001 내지 1:0.1일 수 있으나 반드시 이에 제한되는 것은 아니고, 1:0.001 내지 1:0.08, 1:0.001 내지 0.005, 또는 1:0.005 내지 1:0.08일 수도 있다.
다른 일 구현예는, 상기의 제조방법으로 제조된 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 제공한다.
[화학식 2]
Figure pat00025
상기 A는 앞서 설명한 바를 동일하게 적용할 수 있다.
상기 제조방법으로 제조된 화학식 2로 표시되는 화합물은 색 지수 APHA가 20 이하일 수 있고, 10 이하, 8 이하, 5 이하, 3 이하 또는 2 이하일 수도 있다.
다른 일 구현예는 APHA 색 지수 값이 20 이하인 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 제공한다.
[화학식 2]
Figure pat00026
;
상기 A는 앞서 설명한 바를 동일하게 적용할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물의 APHA 색 지수 값은 10 이하, 8 이하, 5 이하, 3 이하 또는 2 이하일 수도 있다.
일 실시예에서 APHA 색 지수는 액체에서의 색상 측정을 위하여 미국 공중 보건 협회(American Public Health Association)에 의해 발의된 시험방법으로 측정될 수 있다. 일 실시예에서 상기 화합물의 APHA 값은 예를 들어, 상기 화합물을 APHA 색 지수 값이 5 이하이거나, 3 이하이거나, 또는 1 이하인 유기용매 (예를 들어, DMAc(다이메틸아세트아마이드))에 약 5 중량%로 용해한 용액을 사용하여 ASTM D1209 규격에 따라 측정한 것일 수 있다. 다만 상기 용매의 APHA 색 지수 값은 일 예시일 뿐이며, 반드시 이에 한정하고자 하는 것은 아니다.
일 실시예에서 상기 화학식 2로 표시되는 화합물은 전술한 화학식 2로 표시되는 화합물의 제조방법을 통해 제조된 화합물 일 수 있다.
이하, 본 발명의 실시예 및 실험예를 하기에 구체적으로 예시하여 설명한다. 다만, 후술하는 실시예 및 실험예는 본 발명의 일부를 예시하는 것일 뿐, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.
<실시예 1>
Figure pat00027
250 mL 둥근바닥 플라스크에 스터링 바와 사이클로뷰테인 테트라카복실산 20 g(0.086 mol), 테트라하이드로퓨란(THF) 120 mL(1.48 mol), 아세트산 무수물 24 mL(0.254 mol)를 투입하였다. 테트라하이드로퓨란이 환류되도록 온도를 66 ℃로 높여 밤새 교반한 뒤 상온으로 냉각하였다. 고체를 여과한 후 디클로로메탄 40 mL으로 세척하여 사이클로뷰테인테트라카복실산 이무수물를 수득하였다.
<실시예 2>
Figure pat00028
250 mL 둥근바닥 플라스크에 스터링 바와 사이클로뷰테인 테트라카복실산 20 g(0.086 mol), 테트라하이드로퓨란(THF) 120 mL(1.48 mol), 아세트산 무수물 24 mL(0.254 mol), 피리딘 0.068 g(0.0008 mol)을 투입하였다. 테트라하이드로퓨란이 환류되도록 온도를 66 ℃로 높여 3시간 교반한 뒤 상온으로 냉각하였다. 고체를 여과한 후 디클로로메탄 40 mL으로 세척하여 사이클로뷰테인테트라카복실산 이무수물을 수득하였다.
<실시예 3>
Figure pat00029
250 mL 둥근바닥 플라스크에 스터링 바와 사이클로뷰테인 테트라카복실산 20 g(0.086 mol), 테트라하이드로퓨란(THF) 120 mL(1.48 mol), 아세트산 무수물 18 mL(0.191 mol), 피리딘 0.136 g(0.0017 mol)을 투입하였다. 테트라하이드로퓨란이 환류되도록 온도를 66 ℃로 높여 3시간 교반한 뒤 상온으로 냉각하였다. 고체를 여과한 후 디클로로메탄 40 mL로 세척하여 사이클로뷰테인테트라카복실산 이무수물을 수득하였다.
<실시예 4>
Figure pat00030
250 mL 둥근바닥 플라스크에 스터링 바와 사이클로뷰테인 테트라카복실산 20 g(0.086 mol), 에틸아세테이트(EA) 120 mL(1.23 mol), 아세트산 무수물 18 mL(0.191 mol), 4-디메틸아미노피리딘 0.208 g(0.0017 mol)을 투입하였다. 에틸아세테이트가 환류되도록 온도를 77 ℃로 높여 3시간 교반한 뒤 상온으로 냉각하였다. 고체를 여과한 후 디클로로메탄 40 mL로 세척하여 사이클로뷰테인테트라카복실산 이무수물을 수득하였다.
<실시예 5>
Figure pat00031
250 mL 둥근바닥 플라스크에 스터링 바와 사이클로뷰테인 테트라카복실산 20 g(0.086 mol), 에틸아세테이트(EA) 120 mL(1.23 mol), 아세트산 무수물 18 mL(0.191 mol), 이미다졸 0.116 g(0.0017 mol)을 투입하였다. 에틸아세테이트가 환류되도록 온도를 77 ℃로 높여 3시간 교반한 뒤 상온으로 냉각하였다. 고체를 여과한 후 디클로로메탄 40 mL로 세척하여 사이클로뷰테인테트라카복실산 이무수물을 수득하였다.
<실시예 6>
Figure pat00032
250 mL 둥근바닥 플라스크에 스터링 바와 비스 트리플루오로메틸 잔텐 테트라카복실산 20 g(0.040 mol), 아세톤 200 mL(2.76 mol), 아세트산 무수물 19 mL(0.202 mol), 피리딘 0.16 g(0.0020 mol)을 투입하였다. 아세톤이 환류되도록 온도를 56 ℃로 높여 3시간 교반한 뒤 상온으로 냉각하였다. 고체를 여과한 후 디클로로메탄 40 mL로 세척하여 비스 트리플루오로메틸 잔텐 테트라카복실산 이무수물을 수득하였다.
<비교예 1>
Figure pat00033
250 mL 둥근바닥 플라스크에 스터링 바와 사이클로뷰테인 테트라카복실산 20 g(0.086 mol), 아세트산 무수물 100 mL(1.06 mol)를 투입하였다. 온도를 100 ℃로 높여 밤새 교반한 뒤 상온으로 냉각하였다. 고체를 여과한 후 디클로로메탄 40 mL로 세척하여 사이클로뷰테인테트라카복실산 이무수물을 수득하였다.
<비교예 2>
Figure pat00034
250 mL 둥근바닥 플라스크에 스터링 바와 비스 트리플루오로메틸 잔텐 테트라카복실산 20 g(0.040 mol), 아세트산 무수물 100 mL(1.06 mol)를 투입하였다. 온도를 100 ℃로 높여 밤새 교반한 뒤 상온으로 냉각하였다. 고체를 여과한 후 디클로로메탄 40 mL로 세척하여 비스 트리플루오로메틸 잔텐 테트라카복실산 이무수물을 수득하였다.
상기 실시예 1 내지 실시예 6, 비교예 1 및 비교예 2에서 수득한 화합물의 수득량, 순도 및 APHA 값을 하기 표 1에 나타내었다. 색 지수(APHA)는 각 생성물 1 g을 DMAc(다이메틸아세트아마이드) 19 g에 용해한 후 Colorimeter(HunterLab사, ColorQuest XE)를 이용하여 측정하였다.
수득량 순도 APHA
실시예 1 14.0 g 99.5% 5
실시예 2 15.2 g 99.5% 2
실시예 3 15.1 g 99.5% 3
실시예 4 15.2 g 99.6% 3
실시예 5 15.0 g 99.5% 2
실시예 6 16.7 g 99.5% 3
비교예 1 14.4 g 98.9% 35
비교예 2 14.9 g 97.5% 55
상기 표 1을 통해 확인할 수 있는 바와 같이, 아세트산 무수물을 이용하여 테트라카복실산 이무수물을 제조할 때 비양성자성 용매하에서 탈수반응을 진행하는 경우 아세트산 무수물의 양을 현저히 저감함으로써 색상 불순물(color impurity) 생성을 억제하여 5 이하의 APHA를 갖는 테트라카복실산 이무수물을 제조할 수 있었다. 또한 촉매량의 질소 원자 함유-헤테로방향족 화합물을 함께 투입하여 반응하는 경우 빠른 시간 내에 고순도의 테트라카복실산 이무수물을 제조할 수 있었으며, APHA 값이 더욱 낮아지는 것을 확인할 수 있었다. 또한 실시예에 따른 제조방법은 비교예에 비해 온화한 반응조건으로도 짧은 시간 안에 반응을 완료할 수 있었으며, 반응 결정화로 별도 정제 공정 없이도 99.5% 이상의 고순도 테트라카복실산 이무수물을 제조할 수 있었다.
이상, 본 발명을 바람직한 실시예 및 실험예를 통해 상세히 설명하였으나, 본 발명의 범위는 특성 실시예에 한정되는 것은 아니며, 첨부된 특허 청구범위에 의하여 해석되어야 할 것이다. 또한, 이 기술분야에서 통상의 지식을 습득한 자라면, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않으면서도 많은 수정과 변형이 가능함을 이해하여야 할 것이다.

Claims (11)

  1. 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 비양성자성 용매 및 질소 원자 함유-헤테로방향족 화합물 하에서 탈수 반응시키는 단계를 포함하는 하기 화학식 2로 표시되는 화합물의 제조방법:
    [화학식 1]
    Figure pat00035
    ;
    [화학식 2]
    Figure pat00036
    ;
    상기 화학식 1 및 화학식 2에서,
    상기 A는 C6- 20방향족 탄화수소기 또는 C4- 20지환족 탄화수소기를 포함하는 고리 시스템이다.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 A는 C6- 15방향족 탄화수소기 또는 C4- 15지환족 탄화수소기를 포함하는 고리 시스템인, 제조방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 비양성자성 용매는 테트라하이드로퓨란(THF), 에틸아세테이트(EA), 아세톤, 다이메틸설폭사이드(DMSO), 다이메틸포름아마이드(DMF), 아세토나이트릴, 다이부틸에테르(DBE), 프로필렌카보네이트(PC), N-메틸피롤리디논(NMP), 헥사메틸포스포르아미드(HMPA) 및 다이클로로메탄(DCM)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것인, 제조방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 질소 원자 함유-헤테로방향족 화합물은 질소 원자를 하나 이상 포함하는, 비치환 또는 치환된 3 내지 15 원자의 헤테로방향족 화합물이고,
    상기 치환된 3 내지 15 원자의 헤테로방향족 화합물은 수소, 할로겐, -NO2, 직쇄 또는 분지쇄의 C1- 20알킬, 직쇄 또는 분지쇄의 C1- 20알콕시 및 -NR1R2로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 치환기가 치환된 것이고, 상기 R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, 또는 직쇄 또는 분지쇄의 C1- 20알킬인, 제조방법.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 3 내지 15 원자의 헤테로방향족 화합물은 피리딘, 피리다진, 피라진, 피리미딘, 1,2,4-트리아진, 1,2,3-트리아진, 이미다졸, 1,2,3-트리아졸, 피라졸, 퓨린, 인돌린, 프탈라진, 인다졸, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 신놀린, 퀴나졸린, 나프티리딘, 피리도[3,4-b]-피리딘, 피리도[3,2-b]-피리딘, 피리도[4,3-b]-피리딘, 인돌, 3H-인돌, 프테리딘 및 퀴녹살린로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인, 제조방법.
  6. 제1항에 있어서,
    산 무수물을 촉매로 하여 화학식 1로 표시되는 화합물을 탈수 반응시키며, 화학식 1로 표시되는 화합물과 산 무수물의 몰비가 1:1 내지 1:4인, 제조방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 산 무수물은 아세트산 무수물인, 제조방법.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 화학식 1로 표시되는 화합물과 질소 원자 함유-헤테로방향족 화합물의 몰비는 1:0.001 내지 1:0.1인, 제조방법.
  9. APHA 색 지수 값이 20 이하인 하기 화학식 2로 표시되는 화합물:
    [화학식 2]
    Figure pat00037
    ;
    상기 화학식 2에서,
    상기 A는 C6- 20방향족 탄화수소기 또는 C4- 20지환족 탄화수소기를 포함하는 고리 시스템이다.
  10. 제9항에 있어서,
    APHA 색 지수 값이 10 이하인 화학식 2로 표시되는 화합물.
  11. 제9항에 있어서,
    상기 화학식 2로 표시되는 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 비양성자성 용매 및 질소 원자 함유-헤테로방향족 화합물 하에서 탈수 반응시키는 단계를 포함하는 제조방법으로 제조된 것인, 화학식 2로 표시되는 화합물:
    [화학식 1]
    Figure pat00038
    ;
    상기 A는 C6- 20방향족 탄화수소기 또는 C4- 20지환족 탄화수소기를 포함하는 고리 시스템이다.
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