KR20220137304A - 기판 세정장치 - Google Patents

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KR20220137304A
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Abstract

본 발명은 회전하는 롤브러시를 이용하여 기판에 존재하는 이물질을 제거하고, 기판으로부터 롤브러시에 흡착된 이물질을 세척하며, 롤브러시를 세척할 때 롤브러시로부터 분리된 이물질이 세정된 기판으로 전달되는 현상을 방지할 수 있는 기판 세정장치를 제공한다. 이를 위한 본 발명은 기판의 하부면에 접촉된 채, 회전하면서 상기 기판의 하부면에 존재하는 이물질을 세정하는 롤브러시를 가지는 브러시유닛; 및 상기 롤브러시에 존재하는 이물질을 세척하는 세척유닛을 포함하고, 상기 세척유닛은, 내부에 세척공간을 가지며, 상기 롤브러시가 상기 기판의 하부면에 접촉될 수 있도록 상기 롤브러시의 일부분을 감싸도록 마련되는 챔버와, 상기 세척공간 내에서 상기 롤브러시로부터 이격되게 배치되며, 상기 롤브러시의 하부를 향하여 세정액을 분사하는 분사모듈과, 적어도 일부분이 상기 롤브러시 및 상기 분사모듈 사이에 배치되며, 상기 분사모듈에서 분사되는 세정액이 상기 롤브러시를 타격할 시 발생되는 미스트의 확산을 방지하는 격판부재를 포함하는 특징을 개시한다.

Description

기판 세정장치{APPARATUS FOR CLEANING SUBSTRATE}
본 발명은 기판 세정장치에 관한 것으로, 상세하게는 회전하는 롤브러시를 이용하여 기판에 존재하는 이물질을 제거하고, 기판으로부터 롤브러시에 흡착된 이물질을 세척하며, 롤브러시를 세척할 때 롤브러시로부터 분리된 이물질이 세정된 기판으로 전달되는 현상을 방지할 수 있는 기판 세정장치에 관한 것이다.
표시 장치에 사용되는 기판을 제조하는 공정에는 소정의 표면 처리가 수행된 기판으로부터 각종 유기성 또는 무기성 이물질을 제거하는 세정 공정이 요구되며, 이러한 세정 공정은 개별 제조 공정에 투입되기 전이나, 개별 제조 공정 중의 기판의 표면으로부터 각종 이물질을 제거하여 불량이 발생하지 않도록 한다.
일반적으로 세정 공정에 사용되는 세정장치는 기판의 적어도 일측 표면과 물리적으로 접촉하여 기판을 세정하는 롤 타입의 브러시와, 롤브러시를 회전시키기 위한 구동샤프트와, 구동샤프트의 높낮이를 조절하는 높이조절부 및 구동샤프트에 회전력을 발생시키는 구동모터를 포함하며, 롤브러시를 기판의 표면에 접촉시킨 상태에서 롤브러시를 회전시키면서 기판의 표면에 존재하는 이물질을 제거하게 된다.
하지만, 기존 세정장치는 기판에서 제거된 이물질이 롤브러시에 의해 기판으로 재부착될 수 있어, 세정 효율을 떨어뜨리는 문제가 있다.
이에 따라, 세정액을 이용한 롤브러시를 적신 상태에서 기판의 세정 공정 중 또는 세정 공간 중간에 롤브러시가 세척될 수 있도록 하는 방법이 시도되고 있다.
그러나, 세정액에 의한 기판 세정과 고속으로 회전하는 롤브러시에 의한 기판 세정이 동시에 진행될 경우, 공기 중으로 떠다니는 이물질을 포함한 미스트들이 다시 기판에 안착되는 문제가 발생될 수 있다.
또한, 롤브러시를 이용한 기판 세정 시, 세정되는 기판의 일면에 반대편인 기판의 타면으로 이물질을 포함한 미스트들이 전달될 수 있는데, 이 경우 만일 LLO(Laser Lift-Off) 공정이 후행될 경우에는 LLO 공정 중 기판에 많은 불량을 초래할 수 있다.
대한민국 등록특허공보 제1048828호 (2011.07.13. 공고)
상술한 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 과제는 회전하는 롤브러시를 이용하여 기판에 존재하는 이물질을 제거하고, 기판으로부터 롤브러시에 흡착된 이물질을 세척하며, 롤브러시를 세척할 때 롤브러시로부터 이탈된 이물질이 세정된 기판으로 전달되는 현상을 방지할 수 있는 기판 세정장치를 제공함에 있다.
상술한 과제를 해결하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 기판 세정장치는, 기판의 하부면에 접촉된 채, 회전하면서 상기 기판의 하부면에 존재하는 이물질을 세정하는 롤브러시를 가지는 브러시유닛; 및 상기 롤브러시에 존재하는 이물질을 세척하는 세척유닛을 포함하고, 상기 세척유닛은, 내부에 세척공간을 가지며, 상기 롤브러시가 상기 기판의 하부면에 접촉될 수 있도록 상기 롤브러시의 일부분을 감싸도록 마련되는 챔버와, 상기 세척공간 내에서 상기 롤브러시로부터 이격되게 배치되며, 상기 롤브러시의 하부를 향하여 세정액을 분사하는 분사모듈과, 적어도 일부분이 상기 롤브러시 및 상기 분사모듈 사이에 배치되며, 상기 분사모듈에서 분사되는 세정액이 상기 롤브러시를 타격할 시 발생되는 미스트의 확산을 방지하는 격판부재를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 실시예에 따른 기판 세정장치에 있어서, 상기 분사모듈은, 상기 롤브러시의 길이방향을 따라 연장 형성되며, 외부 세정액 공급부에서 가압된 세정액을 공급받는 세정액 공급관과, 상기 세정액 공급관의 길이방향을 따라 이격하여 배치되며, 상기 롤브러시의 하부를 향하여 세정액을 분사하는 분사노즐을 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 기판 세정장치에 있어서, 상기 세척유닛은, 상기 챔버의 측벽에 형성된 미스트 배기구를 통하여 상기 세척공간과 연통되는 석션공간을 가지며, 상기 분사모듈에서 분사되는 세정액이 상기 롤브러시를 타격할 시 발생되는 미스트를 외부로 배출하기 위한 석션챔버를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 기판 세정장치에 있어서, 상기 미스트 배기구는 상기 브러시유닛의 길이방향을 따라 연장 형성되되, 상기 격판부재의 상단부에서 상부방향으로 이격하여 배치될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 기판 세정장치에 있어서, 상기 격판부재는, 상기 분사모듈의 일측에서 상기 롤브러시의 외주면에 인접하게 상부방향으로 연장 형성되는 제1격판부재와, 상기 분사모듈의 타측에서 상기 롤브러시의 외주면에 인접하게 상부방향으로 연장 형성되는 제2격판부재를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 기판 세정장치에 있어서, 상기 제1격판부재 및 상기 제2격판부재는, 상하방향으로 연장 형성되는 수직부와, 상기 수직부의 상단부에서 상기 롤브러시의 외주면을 따라 연장 형성되는 경사부를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 기판 세정장치에 있어서, 상기 챔버는, 하부버킷과, 상기 하부버킷의 상단부에 결합되며, 상기 롤브러시의 상부 일부분을 관통시키는 개구부를 가지고, 상기 세척공간에 존재하는 이물질을 포함한 미스트가 기판 측으로 전달되는 것을 차단하기 위한 상부커버를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 기판 세정장치에 있어서, 상기 챔버는, 상기 하부버킷의 측벽 또는 상기 상부커버의 측벽에 탈부착 가능하게 결합되며, 상기 브러시유닛의 위치 변화 시, 상기 브러시유닛의 구동샤프트와 상기 챔버의 사이에 형성되는 틈새를 차단하기 위한 측면커버를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 기판 세정장치에 있어서, 상기 하부버킷은, 바닥면이 일측에서 타측으로 가면서 경사지게 형성될 수 있고, 이 경우 상대적으로 낮은 높이를 유지하는 상기 바닥면의 일측에는 상기 롤브러시의 세척에 사용된 후 낙하하는 세정액을 외부로 배출하기 위한 세정액 배출구가 구비될 수 있다.
본 발명에 따르면, 회전하는 롤브러시를 이용하여 기판에 존재하는 이물질을 제거하고, 기판으로부터 롤브러시에 흡착된 이물질을 효과적으로 세척할 수 있으며, 특히 롤브러시를 세척할 때 롤브러시로부터 이탈된 이물질이 세정된 기판으로 전달되는 현상을 억제하여 기판의 세정 효과를 높일 수 있으며, 제조되는 기판의 품질을 높일 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판 세정장치의 전체 예시도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판 세정장치의 횡단면 예시도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 기판 세정장치의 종단면 예시도이다.
도 4는 도 3의 부분 확대도이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 기판 세정장치의 분사모듈을 나타낸 예시도이다.
이하 상술한 해결하고자 하는 과제가 구체적으로 실현될 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예들이 첨부된 도면을 참조하여 설명된다. 본 실시예들을 설명함에 있어서, 동일 구성에 대해서는 동일 명칭 및 동일 부호가 사용될 수 있으며 이에 따른 부가적인 설명은 생략될 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판 세정장치의 전체 예시도이고, 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판 세정장치의 횡단면 예시도이며, 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 기판 세정장치의 종단면 예시도이고, 도 4는 도 3의 부분 확대도이다.
도 1 내지 도 4를 참조하면, 본 실시예에 따른 기판 세정장치는 브러시유닛 및 세척유닛을 포함할 수 있다.
브러시유닛(100)은 기판(1)의 하부면에 접촉된 채, 회전하면서 기판(1)의 하부면에 존재하는 이물질을 세정할 수 있다.
브러시유닛(100)은 구동샤프트(110) 및 롤브러시(120)를 포함할 수 있다.
구동샤프트(110)는 외부 구동부로부터 회전력을 전달받아 회전될 수 있다.
또한, 브러시유닛(100)은 높이조절부를 더 포함할 수 있는데, 높이조절부는 구동샤프트(110)의 양단부를 회전 가능하게 지지하면서, 구동샤프트(110)의 높이를 조절할 수 있다.
즉, 높이조절부는 구동샤프트(110)의 높이를 조절하여, 기판(1)과 롤브러시(120) 사이의 간격을 조절할 수 있고, 이에 따라 기판(1)과 롤브러시(120) 간의 접촉 면적 또는 접촉 강도를 변화시킬 수 있다.
롤브러시(120)는 구동샤프트(110)에 결합되어 기판(1)의 폭방향으로 길게 연장하여 배치될 수 있으며, 구동샤프트(110)와 연동하여 회전할 수 있다. 이러한 롤브러시(120)는 기판(1)의 하부면에 접촉된 채 회전함에 따라, 기판(1)의 하부면에 존재하는 이물질을 제거할 수 있다.
롤브러시(120)는 후술되는 분사모듈(220)에서 분사된 세정액에 의해 젖은 상태에서 기판(1)에 접촉될 수 있고, 이렇게 세정액이 젖은 롤브러시(120)는 기판(1)의 효과적인 세정이 가능하다.
롤브러시(120)는 구동샤프트(110)에 채널 형태로 감겨서 결합될 수 있고, 벨트 형태로 감겨서 구동샤프트(110)에 결합될 수 있다.
한편, 브러시유닛(100)은 액절샤프트(130)를 더 포함할 수 있다.
액절샤프트(130)은 롤브러시(120)에 과도하게 잔류할 수 있는 세정액을 제거하기 위한 것으로, 롤브러시(120)의 길이방향으로 연장 형성될 수 있으며, 롤브러시(120)와 평행하게 배치된 채 롤브러시(120)에 접촉될 수 있다.
이러한 액절샤프트(130)의 역시 롤브러시(120)의 위치 변화에 대응하여 높이 조절이 가능할 수 있다. 즉, 액절샤프트(130)의 양단부를 지지하는 회전지지부(131)에는 액절샤프트(130)의 높이를 조절하기 위한 높이조절구(132)가 구비될 수 있다.
이러한 액절샤프트(130)는 회전하는 롤브러시(120)에 접촉되면서 롤브러시(120)에 묻어 있는 세정액의 일부를 제거할 수 있다. 이에 따라 롤브러시(120)를 이용한 기판(1) 세정 시 기판(1)에는 균일한 세정액이 공급될 수 있다.
세척유닛은 롤브러시(120)에 존재하는 이물질(P)을 세척할 수 있다.
세척유닛은 기판(1) 세정 중인 롤브러시(120)에 대해 지속적인 세척을 수행할 수 있고, 혹은 기판 세정 중인 롤브러시(120)에 대해 미리 정해진 시간을 두고 간헐적으로 세척을 수행할 수도 있다.
세척유닛은 챔버(110) 및 분사모듈(220)을 포함할 수 있다.
챔버(110)는 내부에 세척공간(S)을 가지며, 롤브러시(120)가 기판(1)의 하부면에 접촉될 수 있도록 롤브러시(120)의 일부분을 감싸도록 마련될 수 있다.
챔버(110)는 하부버킷(213) 및 상부커버(211)를 포함할 수 있다.
하부버킷(213)은 챔버(110)의 하부를 형성하며, 세척공간(S)의 하부영역을 형성할 수 있다.
하부버킷(213)은 바닥판과, 바닥판의 테두리에서 상부방향으로 연장 형성되는 전후, 좌우 측벽을 포함할 수 있다.
하부버킷(213)의 바닥판은 바닥면(213b)이 일측에서 타측으로 가며 경사지게 형성될 수 있다. 이에 따라 롤브러시(120)의 세척에 사용된 후 바닥면(213b)으로 낙하하는 세정액은 경사진 바닥면(213b)을 따라 자연스레 일측으로 흐를 수 있다.
이때, 상대적으로 낮은 높이를 유지하는 바닥면(213b)의 일측에는 세정액 배출구(213c)가 구비될 수 있다. 이에 따라 하부버킷(213)의 바닥면(213b)의 일측에 모이는 세정액은 세정액 배출구(213c)를 통하여 배출배관(218) 측으로 효과적으로 배수될 수 있다.
상부커버(211)는 챔버(110)의 상부를 형성하며, 세척공간(S)의 상부영역을 형성할 수 있다.
상부커버(211)는 상판과, 상판의 테두리에서 하부방향으로 연장 형성되는 전후, 좌우 측벽을 포함할 수 있다.
상부커버(211)의 상판에는 롤브러시(120)의 상부 일부분을 관통시키는 개구부(211a)가 구비될 수 있다.
이러한 상부커버(211)는 세척공간(S)의 상부를 덮도록 마련되어 롤브러시(120)의 세척 시 발생되는 이물질(P)을 포함한 미스트(M)가 기판(10) 측으로 전달되는 것을 차단할 수 있다.
상부커버(211) 및 하부버킷(213)은 탈부착 가능하게 결합될 수 있다. 이에 따라 챔버(110)은 상부커버(211) 및 하부버킷(213)을 분리하여 유지보수를 용이하게 수행할 수 있다.
또한, 앞서 설명한 바와 같이 브러시유닛(100)의 높이 변화가 요구됨에 따라 상부커버(211)의 개구부(211a)의 높이 변화가 함께 고려될 수 있으며, 이를 위해 상부커버(211)는 하부버킷(213)에 대해 상하방향으로 높이 조절이 가능할 수 있다.
예컨대, 하부버킷(213)의 상단부와 상부커버(211)의 하단부는 슬라이드 가능하게 결합될 수 있고, 하부버킷(213)의 상단부 또는 상부커버(211)의 하단부에는 상하방향으로 연장 형성되는 장공이 형성될 수 있다. 이에 따라 하부버킷(213)에 대해 상부커버(211)을 슬라이드 이동시켜 높이를 설정한 다음, 장공을 관통하는 체결구를 이용하여 하부버킷(213)에 대해 높이 설정된 상부커버(211)을 고정 결합할 수 있다.
그리고, 브러시유닛(100)의 구동샤프트(110)의 높이가 변화하게 되면, 구동샤프트(110)가 관통되는 상부커버(211) 또는 하부버킷(213)의 측벽에 틈새 공간이 형성될 수 있고, 이러한 틈새 공간을 통하여 외부 이물질이 유입되거나 세척액이 외부로 배출될 수 있다.
이를 해소하기 위해, 챔버(110)는 측면커버(214)를 더 포함할 수 있다.
측면커버(214)는 하부버킷(213)의 측벽 또는 상부커버(211)의 측벽에 탈부착 가능하게 결합될 수 있다.
예컨대, 하부버킷(213)의 측벽에 대해 측면커버(214)는 슬라이드 가능하게 결합될 수 있고, 하부버킷(213)의 측벽 또는 측면커버(214)에는 상하방향으로 연장 형성되는 장공이 형성될 수 있다. 이에 따라 브러시유닛(100)의 구동샤프트(110)의 위치 변화에 대응하여 측면커버(214)를 이동시켜 구동샤프트(110)와 챔버(210) 사이의 틈새 공간을 차단한 다음, 장공을 관통하는 체결구를 이용하여 하부버킷(213)의 측벽에 측면커버(214)를 고정 결합할 수 있다.
이와 같이, 브러시유닛(100)의 위치 변화에 대응하여 하부버킷(213), 상부커버(211) 및 측면커버(214)의 결합 상태를 조절함으로써, 세척공간(S)은 외부로부터 기밀이 보장될 수 있다.
분사모듈(220)은 세척공간(S) 내에 배치될 수 있으며, 롤브러시(120)의 하부를 향하여 세정액을 분사할 수 있다.
분사모듈(220)은 세정액 공급관(223) 및 분사노즐(225)을 포함할 수 있다.
세정액 공급관(223)은 챔버(110)의 바닥면 상부에 배치될 수 있으며, 롤브러시(120)의 길이방향을 따라 연장 형성될 수 있다. 이러한 세정액 공급관(223)은 공급배관(217)을 통하여 외부 세정액 공급부에 연결되며, 세정액 공급부에서 가압된 세정액을 공급 받을 수 있다.
한편, 도 5를 참조하면, 분사모듈(220)은 고정부재를 더 포함할 수 있다.
고정부재는 세정액 공급관(223)을 롤브러시(120)와 평행하게 유지할 수 있으며, 마운트부재(227) 및 고정밴드(228)를 포함할 수 있다.
마운트부재(227)는 챔버(110)의 바닥면(213b)로부터 세정액 공급관(223)의 높이를 제한할 수 있고, 고정밴드(228)는 세정액 공급관(223)을 감싼 상태에서 양단부가 마운트부재(227)에 결합됨으로써 세정액 공급관(223)을 마운트부재(227)에 고정시킬 수 있다.
이때, 전술한 바와 같이 챔버(110)의 바닥면(213b)이 경사지게 배치될 경우를 고려하여, 마운트부재(227)는 챔버(110)의 바닥면(213b)의 경사진 정도에 따라 서로 다른 높이를 가질 수 있고, 이에 따라 고정부재에 고정된 세정액 공급관(223)은 롤브러시(120)와 평행한 상태를 유지할 수 있고, 분사노즐(225)을 통하여 분사되는 세정액은 롤브러시(120)의 길이방향을 따라 균일하게 분사 및 공급될 수 있다.
분사노즐(225)은 세정액 공급관(223)의 길이방향을 따라 이격하여 배치될 수 있으며, 롤브러시(120)의 하부를 향하여 세정액 공급관(223) 내부의 세정액을 분사할 수 있다.
분사노즐(225)은 세정액 공급관(223)에 관통 형성되는 관통홀일 수 있다.
분사모듈(220)을 통하여 롤브러시(120)에 세정액이 분사되면, 롤브러시(120)에 존재하는 이물질(P)이 롤브러시(120)로부터 분리될 수 있다. 그리고 분사되는 세정액의 분사력에 의하여 세정액이 롤브러시(120)를 타격하게 됨으로, 롤브러시(120)에 존재하는 이물질(P)은 세정액의 타력에 의하여 롤브러시(120)로부터 보다 효과적으로 분리될 수 있다.
한편, 분사되는 세정액이 롤브러시(120)를 타격하는 과정에서, 이물질(P)과 함께 미스트(M)가 발생될 수 있는데, 이러한 미스트(M)는 세척공간(S) 내에서 확산되어 세척공간(S)의 상부로 이동하고, 롤브러시(120)의 상부 혹은 개구부(211a)를 통과하여 기판(1) 측으로 전달될 수 있다. 결국 미스트가 롤브러시(120) 혹은 기판(1)에 재부착됨에 따라 기판의 세정 효과가 저하될 수 있다.
이를 해소하기 위해, 본 실시예에 따른 세척유닛은 격판부재를 더 포함할 수 있다.
격판부재는 적어도 일부분이 롤브러시(120) 및 분사모듈(220) 사이에 배치될 수 있으며, 분사모듈(220)에서 분사되는 세정액이 롤브러시(120)를 타격할 시 발생되는 미스트(M)의 확산을 방지할 수 있다.
격판부재는 제1격판부재(240) 및 제2격판부재(250)를 포함할 수 있다.
제1격판부재(240)는 롤브러시(120)의 길이방향으로 길게 연장 형성될 수 있으며, 챔버(110)의 좌우 측벽에 양단부가 결합될 수 있다.
또한, 제1격판부재(240)는 분사노즐(225)의 일측에서 롤브러시(120)의 외주면에 인접하도록 상부방향으로 연장 형성될 수 있다.
또한, 제1격판부재(240)는 상하방향으로 연장 형성되는 제1수직부(241)와, 제1수직부(241)의 상단부에서 롤브러시(120)의 외주면을 따라 연장 형성되는 제1경사부(242)를 포함할 수 있다.
제2격판부재(250)는 롤브러시(120)의 길이방향으로 길게 연장 형성될 수 있으며, 챔버(110)의 좌우 측벽에 양단부가 결합될 수 있다.
또한, 제2격판부재(250)는 제1격판부재(240)를 마주하게 분사노즐(225)의 타측에서 롤브러시(120)의 외주면에 인접하도록 상부방향으로 연장 형성될 수 있다.
또한, 제2격판부재(250)는 상하방향으로 연장 형성되는 제2수직부(251)와, 제2수직부(251)의 상단부에서 롤브러시(120)의 외주면을 따라 연장 형성되는 제2경사부(252)를 포함할 수 있다.
이에 따라, 제1격판부재(240) 및 제2격판부재(250)의 사이에 배치된 분사노즐(225)에서 롤브러시(120)를 향하여 세정액이 분사되면, 롤브러시(120)이 하부영역에서 미스트(M)가 발생되고, 이렇게 발생된 미스트(M)는 제1격판부재(240) 및 제2격판부재(250)에 의해 보호되는 분사영역(SA) 내에서 일시적으로 가두어지고, 세척공간(S)의 상측으로 급격하게 확산되는 것이 차단될 수 있다.
결국, 롤브러시(120)의 세척 과정에서 발생되는 미스트(M)가 롤브러시(120) 혹은 기판(1)에 재부착되는 현상을 억제할 수 있다.
한편, 제1격판부재(240) 및 제2격판부재(250)에 의해 보호되는 분사영역(SA) 내에서 일시적으로 가두어진 미스트(M)는 시간이 지나면서 격판부재 및 롤브러시(120) 사이의 틈새를 통하여 세척공간(S)으로 점차 유입될 수 있고, 그 중 일부 미스트는 세척공간(S)의 상측으로 유동되어 롤브러시(120) 혹은 기판(1)에 재부착될 수 있다.
이를 해소하기 위해, 세척유닛은 석션챔버(260)를 더 포함할 수 있다.
석션챔버(260)는 챔버(110)의 측벽에 결합될 수 있으며, 챔버(110)의 측벽에 형성된 미스트 배기구(213a)를 통하여 세척공간(S)과 연통되는 석션공간(261)을 가질 수 있다.
석션공간(261)은 외부 미스트 흡입부에 연결된 미스트 배출관(219)과 연결될 수 있다. 이에 따라 세척공간(S)에 존재하는 미스트(M)는 외부 미스트 흡입부에서 발생된 흡입력에 의하여 석션공간(261)에 채워진 후, 미스트 배출관(219)을 통하여 외부로 배출될 수 있다. 외부 미스트 흡입부로는 진공펌프가 사용될 수 있다.
여기서, 미스트 배기구(213a) 및 석션챔버(260)는 브러시유닛(100)의 길이방향을 따라 연장 형성될 수 있는데, 이때 미스트 배기구(213a)는 격판부재의 상단부에서 상부방향으로 이격하여 배치됨이 바람직하다.
즉, 분사모듈(220)에서 분사되는 세정액이 롤브러시(120)를 타격함으로써 발생되는 미스트(M)는 격판부재에 의해 보호되는 분사영역(SA)에 일시적으로 가두어진 채 확산이 차단되는데, 이후 시간이 지나면서 격판부재의 상단부와 롤브러시(120) 사이의 틈새 공간을 통하여 세척공간(S)으로 이동될 수 있다. 이렇게 세척공간(S)으로 이동되는 미스트(M)는 세척공간(S)의 상측으로 이동 중 인접하는 미스트 배기구(213a)를 통하여 석션챔버(260) 측으로 유입될 수 있다. 이에 따라 기판(1)과 인접하는 세척공간(S)의 상측으로의 미스트(M) 이동이 억제될 수 있다.
도시된 실시예에서는 석션챔버(260)가 챔버(110)의 일측벽에 배치된 예를 보이고 있으나, 이와 달리 석션챔버(260)는 챔버(110)의 마주하는 양측벽에 모두 배치될 수도 있다.
이상에서와 같이, 본 발명에 따른 기판 세정장치는 회전하는 롤브러시(120)를 이용하여 기판(1)에 존재하는 이물질을 제거하고, 기판(1)으로부터 롤브러시(120)에 흡착된 이물질을 효과적으로 세척할 수 있으며, 특히 롤브러시(120)를 세척할 때 롤브러시(120)로부터 이탈된 이물질이 세정된 기판(1)으로 전달되는 현상을 억제하여 기판의 세정 효과를 높일 수 있으며, 제조되는 기판(1)의 품질을 높일 수 있다.
그리고, 본 발명에 따른 기판 세정장치는 LLO(Laser Lift-Off) 공정 이전에 수행되는 세정 공정 과정에서 우수한 효과를 가질 수 있다. 즉, 본 발명은 롤브러시를 이용한 기판 세정 시 세정되는 기판의 하면에 반대편인 기판의 상면으로 이물질을 포함한 미스트가 전달되는 것을 억제할 수 있기 때문에, 이후 수행되는 LLO(Laser Lift-Off) 공정 시 발생될 수 있는 불량을 최소화할 수 있다. 또한 이로 인하여 LLO 공정의 효율성도 향상될 수 있다.
상술한 바와 같이 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자라면, 하기의 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 또는 변경시킬 수 있다.
100: 브러시유닛
120: 롤브러시
210: 챔버
220: 분사모듈
240, 250: 격판부재

Claims (9)

  1. 기판의 하부면에 접촉된 채, 회전하면서 상기 기판의 하부면에 존재하는 이물질을 세정하는 롤브러시를 가지는 브러시유닛; 및
    상기 롤브러시에 존재하는 이물질을 세척하는 세척유닛을 포함하고,
    상기 세척유닛은,
    내부에 세척공간을 가지며, 상기 롤브러시가 상기 기판의 하부면에 접촉될 수 있도록 상기 롤브러시의 일부분을 감싸도록 마련되는 챔버와,
    상기 세척공간 내에서 상기 롤브러시로부터 이격되게 배치되며, 상기 롤브러시의 하부를 향하여 세정액을 분사하는 분사모듈과,
    적어도 일부분이 상기 롤브러시 및 상기 분사모듈 사이에 배치되며, 상기 분사모듈에서 분사되는 세정액이 상기 롤브러시를 타격할 시 발생되는 미스트의 확산을 방지하는 격판부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 분사모듈은,
    상기 롤브러시의 길이방향을 따라 연장 형성되며, 외부 세정액 공급부에서 가압된 세정액을 공급받는 세정액 공급관과,
    상기 세정액 공급관의 길이방향을 따라 이격하여 배치되며, 상기 롤브러시의 하부를 향하여 세정액을 분사하는 분사노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 세척유닛은,
    상기 챔버의 측벽에 형성된 미스트 배기구를 통하여 상기 세척공간과 연통되는 석션공간을 가지며, 상기 분사모듈에서 분사되는 세정액이 상기 롤브러시를 타격할 시 발생되는 미스트를 외부로 배출하기 위한 석션챔버를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 미스트 배기구는 상기 브러시유닛의 길이방향을 따라 연장 형성되되, 상기 격판부재의 상단부에서 상부방향으로 이격하여 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 세정장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 격판부재는,
    상기 분사모듈의 일측에서 상기 롤브러시의 외주면에 인접하게 상부방향으로 연장 형성되는 제1격판부재와,
    상기 분사모듈의 타측에서 상기 롤브러시의 외주면에 인접하게 상부방향으로 연장 형성되는 제2격판부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제1격판부재 및 상기 제2격판부재는,
    상하방향으로 연장 형성되는 수직부와,
    상기 수직부의 상단부에서 상기 롤브러시의 외주면을 따라 연장 형성되는 경사부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 챔버는,
    하부버킷과,
    상기 하부버킷의 상단부에 결합되며, 상기 롤브러시의 상부 일부분을 관통시키는 개구부를 가지고, 상기 세척공간에 존재하는 이물질을 포함한 미스트가 기판 측으로 전달되는 것을 차단하기 위한 상부커버를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 챔버는,
    상기 하부버킷의 측벽 또는 상기 상부커버의 측벽에 탈부착 가능하게 결합되며, 상기 브러시유닛의 위치 변화 시, 상기 브러시유닛의 구동샤프트와 상기 챔버의 사이에 형성되는 틈새를 차단하기 위한 측면커버를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정장치.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 하부버킷은,
    바닥면이 일측에서 타측으로 가면서 경사지게 형성되며,
    상대적으로 낮은 높이를 유지하는 상기 바닥면의 일측에는 상기 롤브러시의 세척에 사용된 후 낙하하는 세정액을 외부로 배출하기 위한 세정액 배출구가 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 세정장치.
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