RU50880U1 - Устройство мегазвуковой очистки плоских стеклянных подложек - Google Patents

Устройство мегазвуковой очистки плоских стеклянных подложек Download PDF

Info

Publication number
RU50880U1
RU50880U1 RU2005123892/22U RU2005123892U RU50880U1 RU 50880 U1 RU50880 U1 RU 50880U1 RU 2005123892/22 U RU2005123892/22 U RU 2005123892/22U RU 2005123892 U RU2005123892 U RU 2005123892U RU 50880 U1 RU50880 U1 RU 50880U1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
nozzle
bath
rotor
substrate
rollers
Prior art date
Application number
RU2005123892/22U
Other languages
English (en)
Inventor
Валерий Николаевич Комаров
Роман Валерьевич Комаров
Людмила Юлиановна Быкова
Original Assignee
Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт полупроводникового машиностроения" (ОАО "НИИПМ")
Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство обороны Российской Федерации (Управление развития базовых военных технологий и специальных проектов)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт полупроводникового машиностроения" (ОАО "НИИПМ"), Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство обороны Российской Федерации (Управление развития базовых военных технологий и специальных проектов) filed Critical Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт полупроводникового машиностроения" (ОАО "НИИПМ")
Priority to RU2005123892/22U priority Critical patent/RU50880U1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU50880U1 publication Critical patent/RU50880U1/ru

Links

Landscapes

  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

Полезная модель относится к области электронной техники и может быть использована в оборудовании для мегазвуковой очистки больших стеклянных подложек при изготовлении жидкокристаллических экранов (ЖКЭ), в частности, для очистки матриц и фильтров (ЖКЭ) прямоугольной формы с размерами порядка 500×400 мм и толщиной до 1,2 мм. Устройство мегазвуковой очистки больших стеклянных подложек содержит корпус, ванну с подложкодержателем, выполненным в виде ротора с держателями для подложек, установленного на валу привода, внутри которого коаксиально закреплен полый стержень, форсунку с соплом для подачи моющей жидкости, установленную с возможностью возвратно-поступательного перемещения по радиусу от центра к периферии, пьезоизлучатель, установленный в корпусе форсунки и соединенный с генератором мегазвуковых колебаний, средства для подачи моющей жидкости в форсунку и в ванну. Новым в устройстве является то, что держатель для подложек выполнен в виде горизонтально установленных двух роликов, снабженных кольцевыми канавками с конусной заходной поверхностью, и двух пар фиксаторов, расположенных диаметрально противоположно относительно торцевых сторон подложки и выполненных в виде ступенчатых валиков. Каждый фиксатор закреплен во втулке ротора, установленного вертикально. В отверстии втулки установлен шарик, взаимодействующий с кольцевой канавкой, выполненной на поверхности ступени меньшего диаметра. Каждая пара фиксаторов при остановке их против загрузочного окна ванны взаимодействует с толкателями, установленными на стенках ванны. Ванна снабжена двумя поддерживающими роликами, выполненными аналогично роликам на роторе, и заслонкой со стороны загрузочного окна. Кроме того, на полом стержне вала привода установлен колпачок с отверстиями, выполненными в виде ряда в направлении сканирования струи
озвученной жидкости, а на держателе мегазвуковой форсунки дополнительно установлена вторая форсунка. Предложенная новая совокупность признаков повышает качество очистки больших стеклянных подложек, повышает надежность устройства, уменьшает занимаемую площадь оборудованием и повышает производительность обработки.

Description

Полезная модель относится к области электронной техники и может быть использована в оборудовании для мегазвуковой очистки больших стеклянных подложек при изготовлении жидкокристаллических экранов ЖКЭ, в частности, очистки матриц и фильтров ЖКЭ прямоугольной формы с размерами порядка 500×400 мм и толщиной 1,2 мм.
Известны устройства для мегазвуковой очистки подложек в специальных ваннах [1-2], в которых УЗ-преобразователь установлен на дне ванны, что неудобно из-за постоянного загрязнения и ухудшения условий излучателя. Очистка подложек в этих устройствах осуществляется на низких частотах порядка 22-24 кГц, что приводит к разрушению и повреждению структур обрабатываемых пластин.
Кроме того, при использовании подложек больших размеров, в связи с падением мощности излучения от дна ванны до верхней части подложек эффективность очистки теряется из-за неравномерного распределения УЗ-энергии. И после жидкостной обработки пластин необходима дополнительная позиция сушки.
Для повышения качества очистки подложек наиболее предпочтительна мегазвуковая очистка в диапазоне частот 0,9-2 мегагерца.
Известно устройство для мегазвуковой очистки полупроводниковых пластин [3], позволяющее вращать пластины в кассете. Это повышает качество очистки пластин. Однако известная групповая обработка неприемлема для подложек прямоугольной формы и больших размеров из-за ухудшения качества и эффективности очистки.
Из известных наиболее близким по технической сущности является способ и устройство ддя мегазвуковой очистки подложек [4], позволяющее осуществлять индивидуальную двухстороннюю очистку подложек, в частности, фотошаблонов с размерами 102×102 мм, 127×127 мм, 153×153 мм и толщиной 3 мм.
Устройство содержит корпус, ванну с установленным на валу привода подложкодержателем, выполненным в виде ротора с держателями для подложек. Внутри вала привода закреплен полый стержень, по которому подается моющая жидкость, омывающая вторую (нижнюю) сторону подложки.
Над поверхностью подложки установлена мегазвуковая форсунка, закрепленная на кронштейне с возможностью возвратно-поступательного перемещения от привода. В корпусе форсунки установлен пьезоэлемент, соединенный с генератором мегазвуковых колебаний. Моющая жидкость подается в форсунку через шланг. Очистка подложек, установленных на вращающемся подложкодержателе горизонтально, осуществляется путем сканирования струёй озвученной жидкости по радиусу поверхности их от центра к периферии и обратно.
Недостатки известного устройства заключаются в следующем. Поскольку обработка подложек осуществляется при горизонтальном расположении их на подложкодержателе и на больших оборотах центрифуги, то при обработке подложек больших размеров 400×500 мм и толщиной до 1,2 мм наблюдаются прогибы подложек и возможно выпадение их из центрифуги, что не обеспечивает надежность работы устройства. Кроме того, большие занимаемые площади и малая производительность устройства делают его непригодным для обработки плоских стеклянных подложек больших размеров, используемых при изготовлении ЖКЭ.
Техническим результатом полезной модели является повышение надежности и производительности устройства, уменьшение габаритов устройства и занимаемой площади повышение качества обработки подложек. Указанный технический результат достигается тем, что в устройстве мегазвуковой очистки плоских стеклянных подложек, содержащем корпус, ванну с подложкодержателем, выполненным в виде ротора с держателями для подложек, установленного на валу привода, внутри которого коаксиально закреплен полый стержень, форсунку с
соплом для подачи моющей жидкости, установленную с возможностью возвратно-поступательного перемещения по радиусу от центра к периферии, пьезоизлучатель, установленный в корпусе форсунки и соединенный с генератором мегазвуковых колебаний, средства для подачи моющей жидкости в форсунку и ванну, держатели подложек выполнены в виде горизонтально установленных двух рядов роликов, снабженных кольцевыми канавками с конусной заходной поверхностью, и двух пар фиксаторов, расположенных диаметрально противоположно относительно торцевых сторон подложки и выполненных в виде ступенчатых валиков, каждый из которых закреплен во втулке ротора, установленного вертикально, снабженной отверстием, в котором установлен шарик взаимодействующий с кольцевой канавкой, выполненной на поверхности ступени меньшего диаметра, при этом каждая пара фиксаторов при остановке их против загрузочного окна ванны взаимодействует с толкателями, установленными на стенках ванны, которая снабжена также двумя поддерживающими роликами, выполненными аналогично упомянутым, и заслонкой со стороны загрузочного окна, а на полом стержне вала привода установлен колпачок с отверстиями выполненными виде ряда в направлении сканирования струи озвученной жидкости, при этом на держателе мегазвуковой форсунки дополнительно установлена вторая форсунка.
Выполнение держателей подложек в виде горизонтально установленных двух рядов роликов на вертикально расположенном роторе образует две направляющие для подложек и позволяет обрабатывать подложки вертикально, что с одной стороны, уменьшает занимаемую площадь оборудованием, с другой, повышает качество очистки по сравнению с горизонтальным расположением подложек. При этом направление движения жидкости совпадает с направлением удаления загрязнений даже без вращения подложки. Кроме того, вертикальное расположение подложек исключает прогиб их, что повышает надежность работы устройства. А наличие фиксаторов и удерживающих роликов позволяет надежно зафиксировать подложки и исключает выпадение их в процессе вращения ротора с большой скоростью.
Наличие колпачка на полом стержне вала привода и ряда отверстий в направлении сканирования струи озвученной жидкости позволяет проводить двухстороннюю очистку подложек двумя форсунками. Это повышает качество очистки и производительность.
Таким образом, указанные признаки являются новыми и в совокупности направлены на достижение технического результата и очевидным образом не вытекают из известного уровня техники.
Следовательно, предложенная совокупность существенных признаков является новой и соответствует критериям патентоспособности полезной модели «новизна», «технический эффект», "промышленная применимость"
Сущность полезной модели поясняется чертежами, где изображены:
На фиг1 - общий вид устройства мегазвуковой очистки плоских стеклянных подложек.
На фиг2 - устройство мегазвуковой очистки плоских стеклянных подложек, вид сверху.
На фиг3 - устройство мегазвуковой очистки плоских стеклянных подложек, разрез по А-А,
На фиг4- ориентирующее устройство, разрез по В-В.
На фиг5 - приводы фиксаторов, разрез по Ж-Ж.
На фиг6 - фиксаторы, разрез по Е-Е,
На фиг7 - ролики, разрез по Д-Д
Предложенное устройство мегазвуковой очистки плоских стеклянных подложек (фиг1-3) содержит следующие основные элементы:
Ротор 1, содержащий два ряда роликов, вращающихся на осях 3 и имеющих кольцевую канавку с конической заходной поверхностью в (фиг7). Ряды роликов образуют верхние и нижние направляющие для подложек 4.
Ротор 1 вращается на подшипниках 5 (фиг1), расположенных на расстоянии ширины кольца 6 в корпусе 7 и закрытых крышкой 8.
Вращение ротору передается от привода 9 через шкивы 10, 11 и ремень 12. На роторе 1 установлено ориентирующее устройство, выполненное виде
коромысла 13 и двух подшипников 14 на осях 15. Внутри вала ротора 1 установлен неподвижно коаксиально полый стержень 16, который заканчивается колпачком со множеством отверстий 18, расположенных от центра к периферии ротора 1в один ряд в направлении сканирования струи озвученной жидкости. Через эти отверстия происходит подача моющей жидкости. Положение ориентирующего устройства, а значит и ротора 1 задается планкой 19 (фиг.4), которая перемещается с помощью привода 20.
Подложка 4 загружается на ротор 1 по роликам 21, расположенными за пределами рабочей зоны ванны 22, через загрузочное окно 23. При этом два фиксатора 24 отведены вправо на расстояние L (фиг6) с помощью привода толкателя 25 и привода 26 (фиг5). Во избежание перекоса подложки 4 при ее загрузке на ротор 1 с помощью вилки 27 и привода 28 ванна 22 снабжена дополнительными поддерживающими роликами 29. Окно 23 закрывается заслонкой 30 от привода 31. Подложка 4 на роликах 2 ротора 1 фиксируется фиксаторами 24 (фиг2, 6), которые перемещаются толкателями 32 от привода 33. Сторона подложки 4, обращенная к стенке ванны 22, очищается с помощью форсунок 34 (2 штуки), которые закреплены на держателе 35 и перемещаются приводом 36. Выгрузка подложки 4 с ротора 1 осуществляется с помощью вилки 37 и привода 38 (фиг2).
Фиксаторы 24 попарно расположены диаметрально противоположно относительно торцевых сторон подложки и выполнены в виде ступенчатых валиков. Каждый фиксатор закреплен во втулке 39 ротора 1 с помощью гайки 40 (фиг6). Для предотвращения самопроизвольного перемещения фиксаторов 24 во время обработки подложки 4 в отверстии втулки установлен шарик 41, взаимодействующий с кольцевой канавкой Н, выполненной на поверхности ступени меньшего диаметра.
Для слива отработанных растворов ванна 22 снабжена сливным отверстием 42. Предусмотрено вытяжное устройство 43.
Работа устройства мегазвуковой очистки подложек происходит следующим образом.
Подложка 4 с помощью транспортного устройства (на фиг. не показано) устанавливается в вилку 27 и на ролики 21. Верхний и нижний ряды роликов 2 ротора 1 устанавливаются параллельно горизонтали с помощью коромысла 13 (фиг.1) ролика 14 на планке 19 и привода 20 (фиг4) Два фиксатора 24, находящиеся у загрузочного окна 23 (фиг2) перемещаются в открытое состояние толкателем 25 и приводом 26 (фиг 2, 5). Заслонка 30 отведена в сторону от окна 23, приводом 31. Привод 28 с помощью вилки 27 перемещает подложку 4 в сторону ротора 1. Подложка 4 задвигается в ролики 2 ротора 1 до упора торца подложки в пару фиксаторов 2, находящиеся в закрытом состоянии на противоположной диаметрально стороне ротора 1. После загрузки подложки 4 на ротор 1 вилка 27 с помощью привода 28 уходит в исходное положение. Привод 33 толкателем 32 перемещает пару фиксаторов 24, находящихся со стороны загрузочного окна 23, и подложка 4 фиксируется на роторе 1.
Толкатель 32 приводом 33 перемещается в исходное положение. Привод 31 перемещает заслонку 30 и закрывает загрузочное окно 23. Привод 20 перемещает планку 19, освобождая ролики 14 коромысла 13 от фиксации, т.е. освобождает ротор 1 с подложкой 4 от ориентированного положения.
Привод 9 через шкивы 10,11 и ремень 12 (фиг.1, 2) приводит во вращение ротор 1 с подложкой 4, форсунки 34 с приводом 36 перемещаются к центру ротора 1. В форсунки подают моющий раствор, включают мегазвуковой генератор (на фиг. не показан.) Раствор озвучивается, а форсунки 34 начинают сканирование от центра ротора 1 к его периферии, очищая всю поверхность подложки 4. Одновременно очищающий раствор подается и на обратную сторону подложки 4 через полость стержня 16 в колпак 17 с множеством отверстий 18 в зоне сканирования форсунок 34 (фиг.3).
Благодаря ряду отверстий, расположенных в направлении сканирования струи озвученной жидкости, поверхность подложки хорошо смачивается жидкостью, а мегазвуковые колебания через толщину подложки 4 проходят и озвучивают очищаемый раствор на обратной стороне подложки, очищая поверхность ее.
При вращении ротора 1 возникают центробежные силы, которые перемещают шарики 41 в канавки Н фиксаторов 24, предотвращая самопроизвольное перемещение фиксаторов.
После окончания очистки подложки подача жидкости прекращается. Форсунки 34 отходят в исходное положение за счет привода 36. Ротор 1 с подложкой продолжает вращаться, но уже с гораздо большей скоростью, удаляя капельную влагу, осуществляя таким образом сушку подложки.
После окончания процесса очистки ротор 1 останавливается. Привод 20 перемещает планку 19 на расстояние Х (фиг.4). Планка 19 взаимодействует с роликами 14 коромысла 13, устанавливает ротор 1 с подложкой 4 в определенном положении (нижний и верхний торец подложки 4 параллельны горизонтали) и одна из пар фиксаторов24 устанавливается напротив толкателя 25 с приводом 26.
Привод 26 перемещает толкатель 25, взаимодействующий с двумя фиксаторами 24, перемещая их во втулках 39 на расстояние t (фиг5, 6), освобождая подложку 4.
Заслонка 30 с помощью привода 31 (фиг.2) освобождает окно 23. Привод 38 с помощью вилки 37 перемещает подложку 4 и выводит ее из рабочей зоны на ролики 21. Транспортная система переносит подложку на следующую позицию, устанавливая на ее месте следующую подложку.
Цикл обработки повторяется.
Таким образом, за счет вертикального расположения обрабатываемых подложек улучшается качество очистки поверхности их по сравнению с горизонтальным расположением, так как направление движения жидкости совпадает с направлением удаления загрязнений даже без вращения подложки. Кроме того, исключается прогиб подложек, что обеспечивает надежность устройства.
Предложенное техническое решение позволяет уменьшить занимаемую площадь оборудованием для очистки больших стеклянных подложек, позволяет совместить на одном роторе процесс очистки и сушки подложек. А использование второй форсунки увеличивает производительность обработки.
На предприятии разработана техническая документация на установку отмывки матриц и фильтров жидкокристаллических экранов (ЖКЭ).
Источники информации принятые во внимание:
1. Березин М.И. Технология и оборудование для очистки деталей и узлов электронной техники, (обзоры по электронной технике - 1878 г.
2. РСТ. №89/11730 кл. Н ОI L. 21/00, 1989 г.
3. Патент США 869278, Кл. В 08 В 3/10, 1989 г.
4. Патент РФ 2243038, Кл. В 08 В 3/12, 2002 г. (прототип)

Claims (1)

  1. Устройство мегазвуковой очистки плоских стеклянных подложек, содержащее корпус, ванну с подложкодержателем, выполненным в виде ротора с держателями для подложек, установленного на валу привода, внутри которого коаксиально закреплен полый стержень, форсунку с соплом для подачи моющей жидкости, установленную с возможностью возвратно-поступательного перемещения по радиусу от центра к периферии, пьезоизлучатель, установленный в корпусе форсунки и соединенный с генератором мегазвуковых колебаний, средства для подачи моющей жидкости в форсунку и в ванну, отличающееся тем, что держатели для подложек выполнены в виде горизонтально установленных двух рядов роликов, снабженных кольцевыми канавками с конусной заходной поверхностью, и двух пар фиксаторов, расположенных диаметрально противоположно относительно торцевых сторон подложки и выполненных в виде ступенчатых валиков, каждый из которых закреплен во втулке ротора, установленного вертикально, снабженной отверстием, в котором установлен шарик, взаимодействующий с кольцевой канавкой, выполненной на поверхности ступени меньшего диаметра, при этом каждая пара фиксаторов при остановке их против загрузочного окна ванны взаимодействует с толкателями, установленными на стенках ванны, которая снабжена также двумя поддерживающими роликами, выполненными аналогично упомянутым, и заслонкой со стороны загрузочного окна, а на полом стержне вала привода установлен колпачок с отверстиями, выполненными в виде ряда в направлении сканирования струи озвученной жидкости, при этом на держателе мегазвуковой форсунки дополнительно установлена вторая форсунка.
    Figure 00000001
RU2005123892/22U 2005-07-27 2005-07-27 Устройство мегазвуковой очистки плоских стеклянных подложек RU50880U1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2005123892/22U RU50880U1 (ru) 2005-07-27 2005-07-27 Устройство мегазвуковой очистки плоских стеклянных подложек

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2005123892/22U RU50880U1 (ru) 2005-07-27 2005-07-27 Устройство мегазвуковой очистки плоских стеклянных подложек

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU50880U1 true RU50880U1 (ru) 2006-01-27

Family

ID=36048629

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2005123892/22U RU50880U1 (ru) 2005-07-27 2005-07-27 Устройство мегазвуковой очистки плоских стеклянных подложек

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU50880U1 (ru)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU173385U1 (ru) * 2017-01-27 2017-08-24 Акционерное Общество "ТЕЛЕКОМ-СТВ" Устройство мегазвуковой очистки полупроводниковых пластин
RU173401U1 (ru) * 2017-02-09 2017-08-25 Акционерное Общество "ТЕЛЕКОМ-СТВ" Установка очистки полупроводниковых пластин

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU173385U1 (ru) * 2017-01-27 2017-08-24 Акционерное Общество "ТЕЛЕКОМ-СТВ" Устройство мегазвуковой очистки полупроводниковых пластин
RU173401U1 (ru) * 2017-02-09 2017-08-25 Акционерное Общество "ТЕЛЕКОМ-СТВ" Установка очистки полупроводниковых пластин

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101911144B1 (ko) 기판 유지 회전 장치 및 그것을 구비한 기판 처리 장치, 그리고 기판 처리 방법
US20110309051A1 (en) Apparatus and method for wet treatment of an object and fluid diffusion plate and barrel used therein
KR19980042583A (ko) 기판세정장치 및 기판세정방법
KR20120083841A (ko) 액 처리 장치 및 액 처리 방법
TWI407522B (zh) 基板處理裝置及其清潔模組
JP5518756B2 (ja) 液処理装置
US20080053488A1 (en) Substrate treatment apparatus and substrate treatment method
RU50880U1 (ru) Устройство мегазвуковой очистки плоских стеклянных подложек
KR102138383B1 (ko) 웨이퍼 세정장치
JPS6116528A (ja) ウエハ洗浄装置
JP6940281B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
KR20100136835A (ko) 반도체 후면 세정을 위한 메가소닉 세정 시스템
JP2001121096A (ja) ロールブラシ洗浄装置
JP5248633B2 (ja) 液処理装置および液処理方法
JP2003045838A (ja) 基板処理装置ならびに基板処理装置に備えられた回転板および周囲部材の洗浄方法
JPH09223681A (ja) 洗浄装置
JP2005072429A (ja) 両面洗浄処理方法及び装置
KR100766460B1 (ko) 웨이퍼 클리닝장치
JPH09167747A (ja) 基板処理装置
KR100766459B1 (ko) 웨이퍼 클리닝장치
JP2013069776A (ja) 基板洗浄装置、基板洗浄方法および基板洗浄方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体
KR100869472B1 (ko) 평판의 비접촉식 이면식각장치
KR101909476B1 (ko) 브러시 유닛 및 이를 가지는 기판처리장치.
JP2000301089A (ja) 板状ワークの処理方法及び装置
US20080156360A1 (en) Horizontal megasonic module for cleaning substrates

Legal Events

Date Code Title Description
MM1K Utility model has become invalid (non-payment of fees)

Effective date: 20140728