KR20220082009A - 점착제 조성물 - Google Patents

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KR20220082009A
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유키 니시카미
고우지 구몬
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스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
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Abstract

[과제] 막 두께를 얇게 했다고 해도 충분한 자외선 흡수 성능을 갖고, 또한, 블리드 아웃의 발생이 적으며, 파장 420 ㎚ 부근의 가시광의 흡수가 적은 점착제층 및 상기 점착제층을 형성하기 위한 점착제 조성물을 제공한다.
[해결수단] 수지(A), 파장 360 ㎚ 이상에 극대 흡수를 나타내고, 또한, 하기 식 (1) 및 식 (2)를 만족시키는 광선택 흡수 화합물(B), 및 분자 내에 중합성 기를 갖고, 또한 파장 300 ㎚ 이상 파장 360 ㎚ 미만에 극대 흡수를 나타내는 단량체(C-1) 및 파장 300 ㎚ 이상 파장 360 ㎚ 미만에 극대 흡수를 나타내는 수지(C-2)에서 선택되는 적어도 하나를 포함하는 점착제 조성물.
ε(380)≥25 (1)
ε(380)/ε(420)≥20 (2)
[식 (1) 및 (2) 중, ε(380)은, 광선택 흡수 화합물(B)의 파장 380 ㎚에 있어서의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(420)은, 광선택 흡수 화합물(B)의 파장 420 ㎚에 있어서의 그램 흡광 계수를 나타낸다. 그램 흡광 계수의 단위는 L/(g·㎝)이다.]

Description

점착제 조성물
본 발명은 점착제 조성물, 상기 점착제 조성물로 형성되는 점착제층 및 상기 점착제층을 적층한 광학 적층체에 관한 것이다.
유기 일렉트로루미네선스 디스플레이(유기 EL 표시 장치)나 액정 표시 장치 등의 표시 장치(FPD: 플랫 패널 디스플레이)에는, 유기 EL 소자, 액정 셀 등의 표시 소자나 편광판 등의 광학 필름 등 여러 가지 부재가 이용되고 있다. 이들 부재 중에서도 유기 EL 소자나 액정 셀에 사용되는 액정 화합물에는, 내후성이 비교적 약한 화합물이 이용되는 경우가 많기 때문에, 자외선(UV)에 의한 열화가 문제가 되기 쉬웠다. 이러한 문제를 해결하기 위해서, 특허문헌 1에는, 아크릴계 수지, 트리아진계 자외선 흡수제를 포함하는 자외선 흡수성(차폐성) 점착제 조성물이 기재되어 있고, 상기 점착제 조성물로 형성된 두께 15 ㎛의 점착제층도 기재되어 있다.
특허문헌 1: 일본 특허 공개 제2008-248131호 공보
최근, 유기 EL 표시 장치나 액정 표시 장치는 현저한 박막화가 요구되고 있고, 유기 EL 표시 장치나 액정 표시 장치에 사용되는 부재도 현저한 박막화가 요구되고 있다. 그 때문에, 자외선 흡수성(차폐성) 점착제층 자체에도 박막화가 요구되고 있다. 그러나, 자외선 흡수성(차폐성) 점착제층을 단순히 박막화(예컨대 12 ㎛ 미만)하면, 점착제층의 자외선 흡수 성능이 저하된다. 한편, 자외선 흡수 성능을 유지하면서 점착제층을 박막화하고자 하여 자외선 흡수제의 첨가량을 증가시키면, 자외선 흡수제의 블리드 아웃이나 파장 420 ㎚ 이상의 가시광의 흡수에 의한 착색의 문제가 발생해 버린다.
본 발명은 이하의 발명을 포함한다.
[1] 수지(A),
파장 360 ㎚ 이상에 극대 흡수를 나타내고, 또한, 하기 식 (1) 및 식 (2)를 만족시키는 광선택 흡수 화합물(B), 및
분자 내에 중합성 기를 갖고, 또한 파장 300 ㎚ 이상 파장 360 ㎚ 미만에 극대 흡수를 나타내는 단량체(C-1) 및 파장 300 ㎚ 이상 파장 360 ㎚ 미만에 극대 흡수를 나타내는 수지(C-2)에서 선택되는 적어도 하나
를 포함하는 점착제 조성물.
ε(380)≥25 (1)
ε(380)/ε(420)≥20 (2)
[식 (1) 및 (2) 중, ε(380)은, 광선택 흡수 화합물(B)의 파장 380 ㎚에 있어서의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(420)은, 광선택 흡수 화합물(B)의 파장 420 ㎚에 있어서의 그램 흡광 계수를 나타낸다. 그램 흡광 계수의 단위는 L/(g·㎝)이다.]
[2] 개시제(D)를 더 포함하는 [1]에 기재된 점착제 조성물.
[3] 개시제(D)가 라디칼 발생제인 [2]에 기재된 점착제 조성물.
[4] 개시제(D)가 광라디칼 발생제인 [2] 또는 [3]에 기재된 점착제 조성물.
[5] 개시제(D)가 옥심에스테르계 광라디칼 발생제인 [2]∼[4] 중 어느 하나에 기재된 점착제 조성물.
[6] 라디칼 경화성 성분(E)을 더 포함하는 [1]∼[5] 중 어느 하나에 기재된 점착제 조성물.
[7] 라디칼 경화성 성분(E)이, (메트)아크릴레이트계 화합물을 포함하는 [6]에 기재된 점착제 조성물.
[8] 라디칼 경화성 성분(E)이, 다작용 (메트)아크릴레이트계 화합물을 포함하는 [6] 또는 [7]에 기재된 점착제 조성물.
[9] 가교제(F)를 더 포함하는 [1]∼[8] 중 어느 하나에 기재된 점착제 조성물.
[10] 가교제(F)가, 이소시아네이트계 가교제인 [9]에 기재된 점착제 조성물.
[11] 수지(A)의 유리 전이 온도가 40℃ 이하인 [1]∼[10] 중 어느 하나에 기재된 점착제 조성물.
[12] 유리 전이 온도가 40℃ 이하인 수지(A)가, (메트)아크릴계 수지인 [11]에 기재된 점착제 조성물.
[13] [1]∼[12] 중 어느 하나에 기재된 점착제 조성물로 형성되는 점착제층.
[14] 하기 식 (3)을 만족시키는 [13]에 기재된 점착제층.
A(380)≥0.6 (3)
[식 (3) 중, A(380)은 파장 380 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타낸다.]
[15] 또한, 하기 식 (4)를 만족시키는 [14]에 기재된 점착제층.
A(380)/A(420)≥5 (4)
[식 (4) 중, A(380)은 파장 380 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타내고, A(420)은 파장 420 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타낸다.]
[16] 점착제층의 막 두께가 10 ㎛ 이하인 [13]∼[15] 중 어느 하나에 기재된 점착제층.
[17] [13]∼[16] 중 어느 하나에 기재된 점착제층의 적어도 한쪽 면에 광학 필름이 적층된 점착제층 부착 광학 필름.
[18] 광학 필름이 편광판인 [17]에 기재된 점착제층 부착 광학 필름.
[19] [17] 또는 [18]에 기재된 점착제층 부착 광학 필름을 포함하는 화상 표시 장치.
본 발명은 막 두께를 얇게(예컨대 12 ㎛ 미만) 했다고 해도 충분한 자외선 흡수 성능을 갖고, 또한, 블리드 아웃의 발생이 적으며, 파장 420 ㎚ 부근의 가시광의 흡수가 적은 점착제층 및 상기 점착제층을 형성하기 위한 점착제 조성물을 제공한다.
[도 1]은 본 발명의 점착제층에 박리 필름이 형성된 적층체의 층 구성의 일례를 도시한다.
[도 2]는 본 발명의 점착제층 부착 광학 필름의 층 구성의 일례를 도시한다.
[도 3]은 본 발명의 점착제층 부착 광학 필름의 층 구성의 일례를 도시한다.
[도 4]는 본 발명의 광학 적층체의 층 구성의 일례를 도시한다.
[도 5]는 본 발명의 광학 적층체의 층 구성의 일례를 도시한다.
<점착제 조성물>
본 발명의 점착제 조성물은, 이하의 (Z-1)∼(Z-3)을 포함한다.
(Z-1): 수지(A)
(Z-2): 파장 360 ㎚ 이상에 극대 흡수를 나타내고, 또한, 하기 식 (1) 및 식 (2)를 만족시키는 광선택 흡수 화합물(B)(이하, 광선택 흡수 화합물(B)이라고 하는 경우가 있다.)
(Z-3): 분자 내에 중합성 기를 갖고, 또한 파장 300 ㎚ 이상 파장 360 ㎚ 미만에 극대 흡수를 나타내는 단량체(C-1)(이하, 광선택 흡수 화합물(C-1)이라고 하는 경우가 있다.) 및
파장 300 ㎚ 이상 파장 360 ㎚ 미만에 극대 흡수를 나타내는 수지(C-2)(이하, 광선택 흡수 수지(C-2)라고 하는 경우가 있다.)에서 선택되는 적어도 하나
<수지(A)>
본 발명의 수지(A)는, 점착제 조성물에 사용되는 수지이면 특별히 한정되지 않는다.
수지(A)는, 유리 전이 온도(Tg)가 40℃ 이하인 수지인 것이 바람직하다. 수지(A)의 유리 전이 온도(Tg)는, 20℃ 이하인 것이 보다 바람직하고, 10℃ 이하인 것이 더욱 바람직하며, 0℃ 이하인 것이 특히 바람직하다. 또한, 수지(A)의 유리 전이 온도는 통상 -80℃ 이상이고, -70℃ 이상인 것이 바람직하며, -60℃ 이상인 것이 보다 바람직하고, -55℃ 이상인 것이 더욱 바람직하며, -50℃ 이상인 것이 특히 바람직하다. 수지(A)의 유리 전이 온도가 40℃ 이하이면, 수지(A)를 포함하는 점착제 조성물로 형성되는 점착제층의 피착체에 대한 밀착성의 향상에 유리하다. 또한, 수지(A)의 유리 전이 온도가 -80℃ 이상이면, 수지(A)를 포함하는 점착제 조성물로 형성되는 점착제층의 내구성의 향상에 유리하다. 또한, 유리 전이 온도는 시차 주사 열량계(DSC)에 의해 측정할 수 있다.
또한, 수지(A)는 파장 300 ㎚∼파장 780 ㎚ 사이에 극대 흡수를 나타내지 않는 것이 바람직하다.
수지(A)로서는, (메트)아크릴계 수지, 실리콘계 수지, 고무계 수지, 우레탄계 수지 등을 들 수 있고, (메트)아크릴계 수지인 것이 바람직하다.
(메트)아크릴계 수지로서는, (메트)아크릴산에스테르 유래의 구조 단위를 주성분(바람직하게는 50 질량% 이상 포함함)으로 하는 중합체인 것이 바람직하다. (메트)아크릴산에스테르에서 유래하는 구조 단위는, 1종 이상의 (메트)아크릴산에스테르 이외의 단량체에서 유래하는 구조 단위(예컨대, 극성 작용기를 갖는 단량체에서 유래하는 구조 단위)를 포함해도 좋다. 또한 본 명세서에 있어서, (메트)아크릴산이란, 아크릴산 또는 메타크릴산의 어느 것이어도 좋은 것을 의미하고, 그 외에, (메트)아크릴레이트 등이라고 할 때의 「(메트)」도 동일한 취지이다.
(메트)아크릴산에스테르로서는, 하기 식 (a)로 나타나는 (메트)아크릴산에스테르를 들 수 있다.
Figure pct00001
[식 (a) 중, R1A는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R2A는 탄소수 1∼14의 알킬기, 또는 탄소수 6∼20의 방향족 탄화수소기를 나타내며, 상기 알킬기 및 상기 방향족 탄화수소기의 수소 원자는, 탄소수 1∼10의 알콕시기로 치환되어 있어도 좋다.]
식 (a)에 있어서, R2A는, 바람직하게는, 탄소수 1∼14의 알킬기이고, 보다 바람직하게는, 탄소수 1∼8의 알킬기이다.
식 (a)로 나타나는 (메트)아크릴산에스테르로서는,
(메트)아크릴산메틸, (메트)아크릴산에틸, (메트)아크릴산 n-프로필, (메트)아크릴산 n-부틸, (메트)아크릴산 n-펜틸, (메트)아크릴산 n-헥실, (메트)아크릴산 n-헵틸, (메트)아크릴산 n-옥틸, (메트)아크릴산 n-노닐, (메트)아크릴산 n-데실, (메트)아크릴산 n-도데실, (메트)아크릴산라우릴, (메트)아크릴산스테아릴 등의 (메트)아크릴산의 직쇄상(直鎖狀) 알킬에스테르;
(메트)아크릴산 i-프로필, (메트)아크릴산 i-부틸, (메트)아크릴산 t-부틸, (메트)아크릴산 i-펜틸, (메트)아크릴산 i-헥실, (메트)아크릴산 2-에틸헥실, (메트)아크릴산 i-옥틸, (메트)아크릴산 i-노닐, (메트)아크릴산 i-스테아릴, (메트)아크릴산 i-아밀 등의 (메트)아크릴산의 분지상(分枝狀) 알킬에스테르;
(메트)아크릴산시클로헥실, (메트)아크릴산이소보로닐, (메트)아크릴산아다만틸, (메트)아크릴산디시클로펜타닐, (메트)아크릴산시클로도데실, (메트)아크릴산메틸시클로헥실, (메트)아크릴산트리메틸시클로헥실, (메트)아크릴산 tert-부틸시클로헥실, α-에톡시아크릴산시클로헥실 등의 (메트)아크릴산의 지환 골격 함유 알킬에스테르;
(메트)아크릴산페닐, (메트)아크릴산벤질 등의 (메트)아크릴산의 방향환 골격 함유 에스테르;
등을 들 수 있다.
또한, 치환기 함유 (메트)아크릴산에스테르로서는, (메트)아크릴산 2-메톡시에틸, (메트)아크릴산에톡시메틸, (메트)아크릴산페녹시에틸, (메트)아크릴산 2-(2-페녹시에톡시)에틸 등을 들 수 있다.
(메트)아크릴산에스테르로서는, (메트)아크릴산페녹시디에틸렌글리콜, (메트)아크릴산페녹시폴리(에틸렌글리콜) 등도 들 수 있다.
이들 (메트)아크릴산에스테르는, 각각 단독으로 이용할 수 있는 것 외에, 상이한 복수의 것을 이용해도 좋다.
본 발명의 수지(A)는, (메트)아크릴산알킬에스테르 중에서도 호모폴리머의 유리 전이 온도 Tg가 0℃ 미만인 (메트)아크릴산알킬에스테르(a1) 유래의 구조 단위, 및 호모폴리머의 Tg가 0℃ 이상인 (메트)아크릴산알킬에스테르(a2) 유래의 구조 단위를 함유하는 것이 바람직하다. 이것은, 점착제층의 고온 내구성을 높이는 데 있어서 유리하다. (메트)아크릴산알킬에스테르의 호모폴리머의 Tg는, 예컨대 POLYMER HANDBOOK(Wiley-Interscience) 등의 문헌값을 채용할 수 있다.
(메트)아크릴산알킬에스테르(a1)의 구체예는, 아크릴산에틸, 아크릴산 n- 및 i-프로필, 아크릴산 n- 및 i-부틸, 아크릴산 n-펜틸, 아크릴산 n- 및 i-헥실, 아크릴산 n-헵틸, 아크릴산 n- 및 i-옥틸, 아크릴산 2-에틸헥실, 아크릴산 n- 및 i-노닐, 아크릴산 n- 및 i-데실, 아크릴산 n-도데실 등의 알킬기의 탄소수가 2∼12 정도의 (메트)아크릴산알킬에스테르를 포함한다.
(메트)아크릴산알킬에스테르(a1)는, 1종만을 이용해도 좋고 2종 이상을 병용해도 좋다. 그 중에서도, 광학 필름에 적층했을 때의 추종성이나 리워크성의 관점에서, 아크릴산 n-부틸, 아크릴산 n-옥틸, 아크릴산 2-에틸헥실 등이 바람직하다.
(메트)아크릴산알킬에스테르(a2)는, (메트)아크릴산알킬에스테르(a1) 이외의 (메트)아크릴산알킬에스테르이다. (메트)아크릴산알킬에스테르(a2)의 구체예는, 아크릴산메틸, 아크릴산시클로헥실, 아크릴산이소보로닐, 아크릴산스테아릴, 아크릴산 t-부틸 등을 포함한다.
(메트)아크릴산알킬에스테르(a2)는, 1종만을 이용해도 좋고 2종 이상을 병용해도 좋다. 그 중에서도, 고온 내구성의 관점에서, (메트)아크릴산알킬에스테르(a2)는, 아크릴산메틸, 아크릴산시클로헥실, 아크릴산이소보로닐 등을 포함하는 것이 바람직하고, 아크릴산메틸을 포함하는 것이 보다 바람직하다.
식 (a)로 나타나는 (메트)아크릴산에스테르에서 유래하는 구조 단위는, (메트)아크릴계 수지에 포함되는 전체 구조 단위 중, 50 질량% 이상인 것이 바람직하고, 60∼95 질량%인 것이 바람직하며, 65∼95 질량% 이상인 것이 보다 바람직하다.
(메트)아크릴산에스테르 이외의 단량체에서 유래하는 구조 단위로서는, 극성 작용기를 갖는 단량체에서 유래하는 구조 단위가 바람직하고, 극성 작용기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르에서 유래하는 구조 단위가 보다 바람직하다. 극성 작용기로서는, 히드록시기, 카르복실기, 치환 혹은 무치환 아미노기, 에폭시기 등의 복소환기 등을 들 수 있다.
극성 작용기를 갖는 단량체로서는,
(메트)아크릴산 1-히드록시메틸, (메트)아크릴산 1-히드록시에틸, (메트)아크릴산 1-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 1-히드록시부틸, (메트)아크릴산 1-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 2-히드록시에틸, (메트)아크릴산 2-히드록시프로필, (메트)아크릴산 2-히드록시부틸, (메트)아크릴산 2-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 2-히드록시헥실, (메트)아크릴산 3-히드록시프로필, (메트)아크릴산 3-히드록시부틸, (메트)아크릴산 3-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 3-히드록시헥실, (메트)아크릴산 3-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 4-히드록시부틸, (메트)아크릴산 4-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 4-히드록시헥실, (메트)아크릴산 4-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 4-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 2-클로로-2-히드록시프로필, (메트)아크릴산 3-클로로-2-히드록시프로필, (메트)아크릴산 2-히드록시-3-페녹시프로필, (메트)아크릴산 5-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 5-히드록시헥실, (메트)아크릴산 5-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 5-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 5-히드록시노닐, (메트)아크릴산 6-히드록시헥실, (메트)아크릴산 6-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 6-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 6-히드록시노닐, (메트)아크릴산 6-히드록시데실, (메트)아크릴산 7-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 7-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 7-히드록시노닐, (메트)아크릴산 7-히드록시데실, (메트)아크릴산 7-히드록시운데실, (메트)아크릴산 8-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 8-히드록시노닐, (메트)아크릴산 8-히드록시데실, (메트)아크릴산 8-히드록시운데실, (메트)아크릴산 8-히드록시도데실, (메트)아크릴산 9-히드록시노닐, (메트)아크릴산 9-히드록시데실, (메트)아크릴산 9-히드록시운데실, (메트)아크릴산 9-히드록시도데실, (메트)아크릴산 9-히드록시트리데실, (메트)아크릴산 10-히드록시데실, (메트)아크릴산 10-히드록시운데실, (메트)아크릴산 10-히드록시도데실, 아크릴산 10-히드록시트리데실, (메트)아크릴산 10-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 11-히드록시운데실, (메트)아크릴산 11-히드록시도데실, (메트)아크릴산 11-히드록시트리데실, (메트)아크릴산 11-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 11-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 12-히드록시도데실, (메트)아크릴산 12-히드록시트리데실, (메트)아크릴산 12-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 13-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 13-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 13-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 14-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 14-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 15-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 15-히드록시헵타데실 등의 히드록시기를 갖는 단량체;
(메트)아크릴산, 카르복시알킬(메트)아크릴레이트(예컨대, 카르복시에틸(메트)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메트)아크릴레이트), 말레산, 무수 말레산, 푸마르산, 크로톤산 등의 카르복실기를 갖는 단량체;
아크릴로일모르폴린, 비닐카프로락탐, N-비닐-2-피롤리돈, 비닐피리딘, 테트라히드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 테트라히드로푸르푸릴아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 2,5-디히드로푸란 등의 복소환기를 갖는 단량체;
아미노에틸(메트)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 디메틸아미노프로필(메트)아크릴레이트 등의 치환 혹은 무치환 아미노기를 갖는 단량체를 들 수 있다.
그 중에서도, (메트)아크릴산에스테르 중합체와 가교제의 반응성의 점에서, 히드록시기를 갖는 단량체 및 카르복실기를 갖는 단량체가 바람직하고, 히드록시기를 갖는 단량체 및 카르복실기를 갖는 단량체의 모두를 포함하는 것이 보다 바람직하다.
히드록시기를 갖는 단량체로서는, 아크릴산 2-히드록시에틸, 아크릴산 3-히드록시프로필, 아크릴산 4-히드록시부틸, 아크릴산 5-히드록시펜틸, 아크릴산 6-히드록시헥실이 바람직하다. 특히, 아크릴산 2-히드록시에틸, 아크릴산 4-히드록시부틸 및 아크릴산 5-히드록시펜틸을 이용함으로써 양호한 내구성을 얻을 수 있다.
카르복실기를 갖는 단량체로서는, 아크릴산을 이용하는 것이 바람직하다.
점착제층의 외면에 적층할 수 있는 세퍼레이트 필름의 박리력 항진을 방지하는 관점에서, (메트)아크릴계 수지는, 아미노기를 갖는 단량체에서 유래하는 구조 단위를 실질적으로 포함하지 않는 것이 바람직하다. 여기서 실질적으로 포함하지 않는다란, (메트)아크릴계 수지를 구성하는 전체 구조 단위 100 질량부 중, 0.1 질량부 이하인 것을 말한다.
극성 작용기를 갖는 단량체에서 유래하는 구조 단위의 함유량은, (메트)아크릴계 수지의 전체 구조 단위 100 질량부에 대해, 바람직하게는 20 질량부 이하, 보다 바람직하게는, 0.5 질량부 이상 15 질량부 이하, 더욱 바람직하게는 0.5 질량부 이상 10 질량부 이하, 특히 바람직하게는 1 질량부 이상 7 질량부 이하이다.
(메트)아크릴산에스테르 이외의 단량체에서 유래하는 구조 단위로서는, 방향족기를 갖는 단량체에서 유래하는 구조 단위도 들 수 있다. 방향족기를 갖는 단량체로서는, 분자 내에 1개의 (메트)아크릴로일기와 1개 이상의 방향환(예컨대, 벤젠환, 나프탈렌환 등)을 갖는 (메트)아크릴산에스테르를 들 수 있고, 예컨대, 페닐기, 페녹시에틸기, 또는 벤질기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르를 들 수 있다. 방향족기를 갖는 단량체에서 유래하는 구조 단위의 함유량은, (메트)아크릴계 수지의 전체 구조 단위 100 질량부에 대해, 바람직하게는 20 질량부 이하, 보다 바람직하게는 4 질량부 이상 20 질량부 이하, 더욱 바람직하게는 4 질량부 이상 16 질량부 이하이다.
(메트)아크릴산에스테르 이외의 단량체에서 유래하는 구조 단위로서는, 스티렌계 단량체에서 유래하는 구조 단위, 비닐계 단량체에서 유래하는 구조 단위, 분자 내에 복수의 (메트)아크릴로일기를 갖는 단량체에서 유래하는 구조 단위, (메트)아크릴아미드계 단량체에서 유래하는 구조 단위 등도 들 수 있다.
스티렌계 단량체로서는, 스티렌; 메틸스티렌, 디메틸스티렌, 트리메틸스티렌, 에틸스티렌, 디에틸스티렌, 트리에틸스티렌, 프로필스티렌, 부틸스티렌, 헥실스티렌, 헵틸스티렌, 옥틸스티렌 등의 알킬스티렌; 플루오로스티렌, 클로로스티렌, 브로모스티렌, 디브로모스티렌, 요오드스티렌 등의 할로겐화스티렌; 니트로스티렌; 아세틸스티렌; 메톡시스티렌; 및 디비닐벤젠을 들 수 있다.
비닐계 단량체로서는, 아세트산비닐, 프로피온산비닐, 부티르산비닐, 2-에틸헥산산비닐, 라우르산비닐 등의 지방산비닐에스테르; 염화비닐, 브롬화비닐 등의 할로겐화비닐; 염화비닐리덴 등의 할로겐화비닐리덴; 비닐피리딘, 비닐피롤리돈, 비닐카르바졸 등의 질소 함유 복소 방향족 비닐; 부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 공액 디엔; 및 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 불포화 니트릴을 들 수 있다.
분자 내에 복수의 (메트)아크릴로일기를 갖는 단량체로서는, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 분자 내에 2개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 단량체; 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트 등의 분자 내에 3개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 단량체를 들 수 있다.
(메트)아크릴아미드계 단량체로서는, N-메틸올(메트)아크릴아미드, N-(2-히드록시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(3-히드록시프로필)(메트)아크릴아미드, N-(4-히드록시부틸)(메트)아크릴아미드, N-(5-히드록시펜틸)(메트)아크릴아미드, N-(6-히드록시헥실)(메트)아크릴아미드, N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N,N-디에틸(메트)아크릴아미드, N-이소프로필(메트)아크릴아미드, N-(3-디메틸아미노프로필)(메트)아크릴아미드, N-(1,1-디메틸-3-옥소부틸)(메트)아크릴아미드, N-〔2-(2-옥소-1-이미다졸리디닐)에틸〕(메트)아크릴아미드, 2-아크릴로일아미노-2-메틸-1-프로판술폰산, N-(메톡시메틸)아크릴아미드, N-(에톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(프로폭시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(1-메틸에톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(1-메틸프로폭시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-메틸프로폭시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(부톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(1,1-디메틸에톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-메톡시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-에톡시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-프로폭시에틸)(메트)아크릴아미드, N-〔2-(1-메틸에톡시)에틸〕(메트)아크릴아미드, N-〔2-(1-메틸프로폭시)에틸〕(메트)아크릴아미드, N-〔2-(2-메틸프로폭시)에틸〕(메트)아크릴아미드, N-(2-부톡시에틸)(메트)아크릴아미드, N-〔2-(1,1-디메틸에톡시)에틸〕(메트)아크릴아미드 등을 들 수 있다. 그 중에서도, N-(메톡시메틸)아크릴아미드, N-(에톡시메틸)아크릴아미드, N-(프로폭시메틸)아크릴아미드, N-(부톡시메틸)아크릴아미드 및 N-(2-메틸프로폭시메틸)아크릴아미드가 바람직하다.
(메트)아크릴계 수지의 중량 평균 분자량(Mw)은, 바람직하게는, 50만∼250만이다. 중량 평균 분자량이 50만 이상이면, 고온 환경에 있어서의 점착제층의 내구성이 향상되고, 피착체와 점착제층 사이의 들뜸 박리나, 점착제층의 응집 파괴 등의 문제를 억제하기 쉽다. 중량 평균 분자량이 250만 이하이면, 도공성의 관점에서 유리하다. 점착제층의 내구성 및 점착제 조성물의 도공성의 양립의 관점에서, 중량 평균 분자량은 바람직하게는 60만∼180만이고, 보다 바람직하게는 70만∼170만이며, 특히 바람직하게는 100만∼160만이다. 또한, 중량 평균 분자량(Mw)과 수 평균 분자량(Mn)의 비로 표시되는 분자량 분포(Mw/Mn)는, 통상 2∼10, 바람직하게는 3∼8, 더욱 바람직하게는 3∼6이다. 중량 평균 분자량은, 겔 침투 크로마토그래피에 의해 분석할 수 있고, 표준 폴리스티렌 환산의 값이다.
(메트)아크릴산 수지는, 아세트산에틸에 용해시켜, 농도 20 질량%의 용액으로 했을 때, 25℃에 있어서의 점도가, 20 ㎩·s 이하인 것이 바람직하고, 0.1∼15 ㎩·s인 것이 보다 바람직하다. 상기 범위의 점도이면, 점착제 조성물을 기재에 도공할 때의 도공성의 관점에서 유리하다. 또한, 점도는, 브룩필드 점도계에 의해 측정할 수 있다.
(메트)아크릴계 수지는, 예컨대, 용액 중합법, 괴상(塊狀) 중합법, 현탁 중합법, 유화 중합법 등의 공지된 방법에 의해 제조할 수 있고, 특히 용액 중합법이 바람직하다. 용액 중합법으로서는, 예컨대, 단량체 및 유기 용매를 혼합하고, 질소 분위기하, 열중합 개시제를 첨가하며, 40∼90℃, 바람직하게는 50∼80℃ 정도의 온도 조건하, 3∼15시간 정도 교반하는 방법을 들 수 있다. 반응 제어를 위해서, 중합 중, 연속적 또는 간헐적으로 단량체나 열중합 개시제를 첨가해도 좋다. 상기 단량체나 열중합 개시제는 유기 용매에 첨가한 상태여도 좋다. 상기 유기 용매로서는, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류; 프로필알코올, 이소프로필알코올 등의 지방족 알코올류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류 등을 들 수 있다. 열중합 개시제는, 공지된 열중합 개시제를 사용할 수 있다. 또한, 열중합 개시제 대신에 광중합 개시제를 사용하여, 자외선 등에 의한 중합법을 사용해도 좋다.
수지(A)의 함유량은, 점착제 조성물의 고형분 100 질량% 중, 통상 50 질량%∼99.9 질량%이고, 바람직하게는 60 질량%∼95 질량%이며, 보다 바람직하게는 70 질량%∼90 질량%이다.
<광선택 흡수 화합물(B)>
광선택 흡수 화합물(B)은, 파장 360 ㎚ 이상에 극대 흡수를 나타낸다. 광선택 흡수 화합물(B)은, 파장 360 ㎚ 이상 파장 420 ㎚ 이하 사이에 극대 흡수를 나타내는 것이 바람직하고, 파장 370 ㎚ 이상 파장 410 ㎚ 이하 사이에 극대 흡수를 나타내는 것이 더욱 바람직하다. 파장 360 ㎚ 이상에 극대 흡수를 나타냄으로써, 소량의 첨가여도 효율적으로 파장 380 ㎚ 부근의 광을 흡수할 수 있다.
광선택 흡수 화합물(B)은, 하기 식 (1) 및 식 (2)를 만족시킨다.
ε(380)≥25 (1)
[식 (1) 중, ε(380)은 광선택 흡수 화합물(B)의 파장 380 ㎚에 있어서의 그램 흡광 계수를 나타낸다. 그램 흡광 계수의 단위는 L/(g·㎝)이다.]
ε(380)/ε(420)≥20 (2)
[식 (2) 중, ε(380)은 광선택 흡수 화합물(B)의 파장 380 ㎚에 있어서의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(420)은 광선택 흡수 화합물(B)의 파장 420 ㎚에 있어서의 그램 흡광 계수를 나타낸다.
그램 흡광 계수의 단위는 L/(g·㎝)이다.]
ε(380)의 값이 30 L/(g·㎝) 이상인 것이 바람직하고, 35 L/(g·㎝) 이상인 것이 보다 바람직하며, 50 L/(g·㎝) 이상인 것이 더욱 바람직하고, 100 L/(g·㎝) 이상인 것이 보다 더 바람직하며, 통상 10000 L/(g·㎝) 이하이다. ε(380)의 값이 큰 화합물일수록 파장 380 ㎚의 광을 흡수하기 쉽고, 자외선에 의한 열화 억제 기능을 발현하기 쉽다.
광선택 흡수 화합물(B)은, ε(380)/ε(420)의 값이 25 이상인 것이 바람직하고, 35 이상인 것이 보다 바람직하며, 50 이상이 보다 더 바람직하고, 100 이상이 특히 보다 바람직하다. ε(380)/ε(420)의 값이 큰 화합물을 포함하는 점착제 조성물로 형성되는 점착제층은, 표시 장치의 색채 표현을 저해하지 않고, 380 ㎚ 부근의 자외선을 흡수한다. 또한, 적층된 광학 필름(위상차 필름)이나 유기 EL 소자 등의 표시 장치의 광 열화를 억제할 수 있다.
광선택 흡수 화합물(B)은, 분자 내에 메로시아닌 구조를 포함하지 않는 것이 바람직하다.
본 발명에 있어서 메로시아닌 구조란, N-C=C-C=C로 표시되는 부분 구조를 의미한다. 단, 본 발명에 있어서의 메로시아닌 구조는, N-C=C-C=C로 표시되는 부분 구조 모두를 고리의 구성 요소로 하는 방향족 축합환(예컨대, 인돌환, 벤조트리아졸환, 벤조이미다졸환, 이소인돌환, 퀴놀린환 등)을 포함하지 않는다. 즉, 광선택 흡수 화합물(B)은, N-C=C-C=C로 표시되는 부분 구조 모두를 고리의 구성 요소로 하는 방향족 축합환을 분자 내에 포함하고 있어도 좋다.
광선택 흡수 화합물(B)로서는, 시판품을 이용해도 좋고, FUV-002B(후지 필름사 제조) 등을 들 수 있다.
광선택 흡수 화합물(B)의 함유량은, 수지(A) 100 질량부에 대해, 통상 0.01∼50 질량부이고, 0.1∼20 질량부인 것이 바람직하며, 0.5∼10 질량부인 것이 보다 바람직하고, 특히 바람직하게는 1.0∼5 질량부이다.
<광선택 흡수 화합물(C-1)>
광선택 흡수 화합물(C-1)은, 분자 내에 중합성 기를 갖고, 또한 파장 300 ㎚ 이상 파장 360 ㎚ 미만에 극대 흡수를 나타내는 단량체이다.
광선택 흡수 화합물(C-1)은, 파장 320 ㎚ 이상 파장 355 ㎚ 이하에 극대 흡수를 나타내는 것이 바람직하고, 파장 330 ㎚ 이상 파장 350 ㎚ 이하에 극대 흡수를 나타내는 것이 보다 바람직하다.
광선택 흡수 화합물(C-1)이 갖는 중합성 기로서는, 에폭시기, 옥세타닐기, 옥사졸리노기, 아지리디노기, 비닐에테르기 등의 양이온성 중합성 기; 에틸렌성 불포화기 등의 라디칼성 중합성 기를 들 수 있다. 광선택 흡수 화합물(C-1)이 갖는 중합성 기는, 에틸렌성 불포화기 등의 라디칼성 중합성 기인 것이 바람직하다. 에틸렌성 불포화기의 구체예로서는, 비닐기, α-메틸비닐기, 아크릴로일기, 메타아크릴로일기, 알릴기, 스티릴기, (메트)아크릴아미드기, 비닐술폰기, (메트)아크릴로일옥시기 등을 들 수 있다.
광선택 흡수 화합물(C-1)은, 예컨대, 분자 내에 중합성 기와 벤조트리아졸 골격을 갖는 화합물, 분자 내에 중합성 기와 벤조이미다졸 골격을 갖는 화합물, 분자 내에 중합성 기와 트리아진 골격을 갖는 화합물, 분자 내에 중합성 기와 벤조페논 골격을 갖는 화합물, 분자 내에 중합성 기와 중합성을 갖지 않는 시아노아크릴레이트 골격을 갖는 화합물 등을 들 수 있다.
광선택 흡수 화합물(C-1)은, 예컨대, 이하에 기재된 화합물 등을 들 수 있다.
2-[2-(2,4-디히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸메타크릴레이트,
2-[2-(4-에톡시-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸메타크릴레이트,
2-[2-(4-부톡시-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸메타크릴레이트,
2-[2-(4-벤조일옥시-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸메타크릴레이트,
4-[2-(2,4-디히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]부틸메타크릴레이트,
4-[2-(4-에톡시-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]부틸메타크릴레이트,
4-[2-(4-부톡시-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]부틸메타크릴레이트,
4-[2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]부틸메타크릴레이트,
4-[2-(4-벤조일옥시-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]부틸메타크릴레이트,
2-[2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸메타크릴레이트,
2-[2-(4-옥틸옥시-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸메타크릴레이트,
2-[2-(4-메톡시-5-터셔리부틸-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸메타크릴레이트,
2-[2-(4-메톡시-3-터셔리부틸-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸메타크릴레이트,
2-2-(4-메톡시-3-메틸-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸메타크릴레이트,
2-[2-히드록시-5-(메타크릴로일옥시에틸)페닐]-2H-벤조트리아졸,
2-[2-히드록시-5-(메타크릴로일)페닐]-2H-벤조트리아졸,
2-[2-히드록시-5-(메타크릴로일옥시프로필)페닐]-5-클로로-2H-벤조트리아졸,
2-[2-히드록시-5-(메타크릴로일옥시프로필)페닐]-2H-벤조트리아졸,
N-[3-벤조트리아졸-2-일-2-히드록시-5-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-벤조일]-2-메틸메타크릴아미드,
2-[2-(2,4-디히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸아크릴레이트,
2-[2-(4-에톡시-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸아크릴레이트,
2-[2-(4-부톡시-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸아크릴레이트,
2-[2-(4-벤조일옥시-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸아크릴레이트,
4-[2-(2,4-디히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]부틸아크릴레이트,
4-[2-(4-에톡시-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]부틸아크릴레이트,
4-[2-(4-부톡시-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]부틸아크릴레이트,
4-[2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]부틸아크릴레이트,
2-[2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸아크릴레이트,
4-[2-(4-벤조일옥시-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]부틸아크릴레이트,
2-[2-(4-옥틸옥시-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸아크릴레이트,
2-[2-(4-메톡시-5-터셔리부틸-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸아크릴레이트,
2-[2-(4-메톡시-3-터셔리부틸-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸아크릴레이트,
2-[2-(4-메톡시-3-메틸-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸아크릴레이트,
2-[2-히드록시-5-(아크릴로일옥시에틸)페닐]-2H-벤조트리아졸,
2-[2-히드록시-5-(아크릴로일)페닐]-2H-벤조트리아졸,
2-[2-히드록시-5-(메타크릴로일옥시프로필)페닐]-5-클로로-2H-벤조트리아졸,
2-[2-히드록시-5-(메타크릴로일옥시프로필)페닐]-2H-벤조트리아졸,
N-[3-벤조트리아졸-2-일-2-히드록시-5-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-벤조일]-2-메틸아크릴아미드,
2-히드록시-4-아크릴로일옥시벤조페논,
2-히드록시-4-메타크릴로일옥시벤조페논,
2-히드록시-4-(2-아크릴로일옥시)에톡시벤조페논,
2-히드록시-4-(2-메타크릴로일옥시)에톡시벤조페논,
2-히드록시-4-(2-메틸-2-아크릴로일옥시)에톡시벤조페논,
2,4-디페닐-6-[2-히드록시-4-(2-메타크릴로일옥시에톡시)페닐]-s-트리아진,
2,4-디페닐-6-[2-히드록시-4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]-s-트리아진,
2,4-비스(2-메틸페닐)-6-[2-히드록시-4-(3-메타크릴로일옥시-2-히드록시프로필옥시)페닐]-s-트리아진,
2,4-비스(2-메틸페닐)-6-[2-히드록시-4-(3-아크릴로일옥시-2-히드록시프로필옥시)페닐]-s-트리아진,
2,4-비스(2-메톡시페닐)-6-[2-히드록시-4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]-s-트리아진,
2,4-비스(2-메톡시페닐)-6-[2-히드록시-4-(2-메타크릴로일옥시에톡시)페닐]-s-트리아진,
2,4-비스(2-에틸페닐)-6-[2-히드록시-4-(2-메타크릴로일옥시에톡시)페닐]-s-트리아진,
2,4-비스(2-에틸페닐)-6-[2-히드록시-4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]-s-트리아진,
2,4-비스(2-에톡시페닐)-6-[2-히드록시-4-(2-메타크릴로일옥시에톡시)페닐]-s-트리아진,
2,4-비스(2-에톡시페닐)-6-[2-히드록시-4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]-s-트리아진 등.
또한, 광선택 흡수 화합물(C-1)은, 하기에 나타내는 화합물이어도 좋다.
Figure pct00002
또한, 광선택 흡수 화합물(C-1)은 시판품을 이용해도 좋고, 구체적으로는, 「RUVA-93」(오츠카 가가쿠 가부시키가이샤), 「CHISORB 5687」(Double bond Chemical사), 「Tinuvin R 796」(BASF) 등을 들 수 있다.
광선택 흡수 화합물(C-1)은, 분자 내에 중합성 기와 벤조트리아졸 골격을 갖는 화합물, 분자 내에 중합성 기와 트리아진 골격을 갖는 화합물 또는 분자 내에 중합성 기와 벤조페논 골격을 갖는 화합물인 것이 바람직하다.
<광선택 흡수 수지(C-2)>
광선택 흡수 수지(C-2)는, 파장 300 ㎚ 이상 파장 360 ㎚ 미만에 극대 흡수를 나타내는 수지이다. 광선택 흡수 수지(C-2)는, 파장 320 ㎚ 이상 파장 355 ㎚ 이하에 극대 흡수를 나타내는 것이 바람직하고, 파장 330 ㎚ 이상 파장 350 ㎚ 이하에 극대 흡수를 나타내는 것이 보다 바람직하다.
광선택 흡수 수지(C-2)로서는, 예컨대, 전술한 광선택 흡수 화합물(C-1)에서 유래하는 구조 단위(이하, 구조 단위(C-1)라고 하는 경우가 있음)를 포함하는 수지 등을 들 수 있다. 광선택 흡수 수지(C-2)는, 구조 단위(C-1)를 포함하는 호모폴리머여도 좋고 코폴리머여도 좋다. 광선택 흡수 수지(C-2)는, 구조 단위(C-1)를 포함하는 코폴리머인 것이 바람직하다.
광선택 흡수 수지(C-2)는, 구조 단위(C-1)를 전체 구조 단위에 대해, 0.1∼90 질량% 함유하는 것이 바람직하고, 1∼75 질량% 함유하는 것이 보다 바람직하며, 5∼60 질량% 함유하는 것이 더욱 바람직하고, 특히 바람직하게는 10∼50 질량%이다.
광선택 흡수 수지(C-2)가 구조 단위(C-1) 이외에 포함하는 구조 단위로서는, 전술한 수지(A)를 형성하는 단량체 유래의 구조 단위를 들 수 있다. 구체적으로는, 전술한 식 (a)로 나타나는 (메트)아크릴산에스테르 유래의 구조 단위, 전술한 극성 작용기를 갖는 단량체 유래의 구조 단위, 전술한 스티렌계 단량체 유래의 구조 단위, 전술한 비닐계 단량체 유래의 구조 단위, 전술한 (메트)아크릴아미드계 단량체 유래의 구조 단위 등을 들 수 있다.
광선택 흡수 수지(C-2)가 구조 단위(C-1) 이외에 포함하는 구조 단위로서는, 전술한 식 (a)로 나타나는 (메트)아크릴산에스테르 유래의 구조 단위, 전술한 극성 작용기를 갖는 단량체 유래의 구조 단위 등이 바람직하고, 전술한 식 (a)로 나타나는 (메트)아크릴산에스테르 유래의 구조 단위, 히드록시기를 갖는 단량체, (메트)아크릴아미드계 단량체 유래의 구조 단위 등이 보다 바람직하다. 특히 노말 부틸아크릴레이트, 메틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 노말 옥틸아크릴레이트 등에서 유래하는 구조 단위인 것이 바람직하다.
광선택 흡수 수지(C-2)는 시판품이어도 좋고, 공지된 방법(예컨대, 일본 특허 공개 제2012-25811호 공보)에 의해 합성해도 좋다.
광선택 흡수 수지(C-2)로서는, 구체적으로는, 일본 특허 공개 제2012-25811호 공보에 기재된 수지를 들 수 있다. 또한, 광선택 흡수 수지(C-2)의 시판품으로서는, 바나레진 UVR 시리즈(신나카무라 가가쿠 고교 가부시키가이샤) 등을 들 수 있다.
광선택 흡수 화합물(C-1) 또는 광선택 흡수 수지(C-2)의 함유량은, 수지(A) 100 질량부에 대해, 통상 0.1∼70 질량부이고, 1.0∼50 질량부인 것이 바람직하며, 5.0∼30 질량부인 것이 보다 바람직하고, 더욱 바람직하게는 7.5∼25 질량부이며, 특히 바람직하게는 10∼20 질량부이다.
또한, 광선택 흡수 화합물(C-1) 및 광선택 흡수 수지(C-2)의 양방을 포함하는 경우에는 그 합계가, 상기 범위이면 된다.
광선택 흡수 화합물(B)과, 광선택 흡수 화합물(C-1)의 함유비(질량비)는, 통상, 광선택 흡수 화합물(C-1)/광선택 흡수 화합물(B)=1/1∼10/1이고, 2/1∼5/1인 것이 바람직하다.
광선택 흡수 화합물(B)과, 광선택 흡수 수지(C-2)의 함유비(질량비)는, 통상, 광선택 흡수 수지(C-2)/광선택 흡수 화합물(B)=1/1∼10/1이고, 2/1∼5/1인 것이 바람직하다.
광선택 흡수 화합물(C-1) 및 광선택 흡수 수지(C-2)의 양방을 포함하는 경우에는, 광선택 흡수 화합물(C-1) 및 광선택 흡수 수지(C-2)의 합계와 광선택 흡수 화합물(B)의 함유비(질량비)는, 통상, 광선택 흡수 화합물(C-1) 및 광선택 흡수 수지(C-2)의 합계/광선택 흡수 화합물(B)=1/1∼10/1이고, 2/1∼5/1인 것이 바람직하다.
본 발명의 점착제 조성물은, 개시제(D), 라디칼 경화성 성분(E), 가교제(F)를 더 포함하고 있어도 좋다.
<개시제(D)>
개시제(D)는, 광선택 흡수 화합물(C-1) 또는 필요에 따라 함유하는 라디칼 경화성 성분(E)의 중합 반응을 일으키는 화합물이면 된다. 개시제(D)는, 열의 에너지를 흡수함으로써 중합 반응을 일으키는 화합물(열중합 개시제), 광의 에너지를 흡수함으로써 중합 반응을 일으키는 화합물(광중합 개시제)의 어느 것이어도 좋다. 또한, 여기서 광이란, 가시광선, 자외선, X선, 또는 전자선과 같은 활성 에너지선인 것이 바람직하다.
열중합 개시제로서는, 가열 등에 의해 라디칼을 발생하는 화합물(열라디칼 발생제), 가열 등에 의해 산을 발생하는 화합물(열산 발생제), 가열 등에 의해 염기를 발생하는 화합물(열염기 발생제) 등을 들 수 있다.
광중합 개시제로서는, 광의 에너지를 흡수함으로써 라디칼을 발생하는 화합물(광라디칼 발생제), 광의 에너지를 흡수함으로써 산을 발생하는 화합물(광산 발생제), 광의 에너지를 흡수함으로써 염기를 발생하는 화합물(광염기 발생제) 등을 들 수 있다.
개시제(D)는, 광선택 흡수 화합물(C-1) 또는 라디칼 경화성 성분(E)의 중합 반응에 적합한 것을 선택하는 것이 바람직하고, 라디칼 발생제인 것이 바람직하며, 광라디칼 발생제인 것이 보다 바람직하다. 라디칼 발생제로서는, 예컨대 열라디칼 발생제 및 광라디칼 발생제를 들 수 있다.
개시제(D)는 2종 이상을 포함하고 있어도 좋고, 광라디칼 발생제와 열라디칼 발생제를 병용해도 좋다.
라디칼 발생제는, 예컨대, 알킬페논 화합물, 벤조인 화합물, 벤조페논 화합물, 옥심에스테르 화합물, 포스핀 화합물 등을 들 수 있다. 라디칼 발생제는, 광라디칼 발생제인 것이 바람직하고, 중합 반응의 반응성의 관점에서 옥심에스테르계 광라디칼 발생제인 것이 보다 바람직하다. 옥심에스테르계 라디칼 발생제를 사용함으로써, 조도 또는 광량이 약한 경화 조건이어도 광선택 흡수 화합물(C-1)이나 라디칼 경화 성분(E)의 반응률을 높일 수 있다.
알킬페논 화합물로서는, α-아미노알킬페논 화합물, α-히드록시알킬페논 화합물, α-알콕시알킬페논 화합물을 들 수 있다.
α-아미노알킬페논 화합물로서는, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸술파닐페닐)프로판-1-온, 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-벤질부탄-1-온, 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-(4-메틸페닐메틸)부탄-1-온 등을 들 수 있고, 바람직하게는 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸술파닐페닐)프로판-1-온, 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-벤질부탄-1-온 등을 들 수 있다. α-아미노알킬페논 화합물은, 이르가큐어(등록 상표) 127, 184, 369, 369E, 379EG, 651, 907, 1173, 2959, (이상, BASF 재팬(주) 제조), 세이쿠올(SEIKUOL)(등록 상표) BEE(세이코 가가쿠사 제조) 등의 시판품을 이용해도 좋다.
벤조인 화합물로서는, 예컨대, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등을 들 수 있다.
벤조페논 화합물로서는, 예컨대, 벤조페논, o-벤조일벤조산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술파이드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등을 들 수 있다. 벤조페논 화합물은 시판품을 이용해도 좋다.
옥심에스테르 화합물로서는, N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)부탄-1-온-2-이민, N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민, N-아세톡시-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄-1-이민, N-아세톡시-1-[9-에틸-6-{2-메틸-4-(3,3-디메틸-2,4-디옥사시클로펜타닐메틸옥시)벤조일}-9H-카르바졸-3-일]에탄-1-이민 등을 들 수 있다. 옥심 화합물은, 이르가큐어 OXE-01, OXE-02, OXE-03(이상, BASF 재팬사 제조), N-1919, NCI-730, NCI-831, NCI-930(ADEKA사 제조), PBG3057(TRONLY사 제조) 등의 시판품을 이용해도 좋다.
포스핀 화합물로서는, 페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀옥사이드, 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀옥사이드 등의 아실포스핀옥사이드를 들 수 있다. 포스핀 화합물은, 이르가큐어(등록 상품) TPO, 이르가큐어 819(BASF 재팬(주) 제조) 등을 들 수 있다.
산 발생제는, 방향족 요오도늄염이나 방향족 술포늄염 등의 오늄염; 방향족 디아조늄염; 철-아렌 착체 등을 들 수 있다.
방향족 요오도늄염은, 디아릴요오도늄 양이온을 갖는 화합물이고, 상기 양이온으로서, 전형적으로는 디페닐요오도늄 양이온을 들 수 있다. 방향족 술포늄염은, 트리아릴술포늄 양이온을 갖는 화합물이고, 상기 양이온으로서, 전형적으로는 트리페닐술포늄 양이온이나 4,4'-비스(디페닐술포니오)디페닐술피드 양이온 등을 들 수 있다. 방향족 디아조늄염은, 디아조늄 양이온을 갖는 화합물이고, 상기 양이온으로서, 전형적으로는 벤젠디아조늄 양이온을 들 수 있다. 또한, 철-아렌 착체는, 전형적으로는 시클로펜타디에닐철(II) 아렌 양이온 착염이다.
위에 나타낸 양이온은, 아니온(음이온)과 쌍이 되어 광양이온 발생제를 구성한다. 광양이온 발생제를 구성하는 음이온의 예를 들면, 특수 인계 음이온[(Rf)nPF 6-n]-, 헥사플루오로포스페이트 음이온 PF6 -, 헥사플루오로안티모네이트 음이온 SbF6 -, 펜타플루오로히드록시안티모네이트 음이온 SbF5(OH)-, 헥사플루오로아세네이트 음이온 AsF6 -, 테트라플루오로보레이트 음이온 BF4 -, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 음이온 B(C6F5)4 - 등이 있다. 그 중에서도, 양이온 중합성 화합물의 경화성 및 얻어지는 점착제층의 안전성의 관점에서, 특수 인계 음이온[(Rf)nPF6-n]-, 헥사플루오로포스페이트 음이온 PF6 -, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 음이온 B(C6F5)4 -, 헥사플루오로안티모네이트 음이온 SbF6 -인 것이 바람직하다.
광염기 발생제로서는, 카르바메이트 화합물, α-아미노케톤 화합물, 4급 암모늄 화합물, O-아실옥심 화합물, 아미노시클로프로페논 화합물 등을 들 수 있다.
카르바메이트 화합물로서는, 예컨대, 1-(2-안트라퀴노닐)에틸 1-피페리딘카르복실레이트, 1-(2-안트라퀴노닐)에틸 1H-2-에틸이미다졸-1-카르복실레이트, 9-안트릴메틸 1-피페리딘카르복실레이트, 9-안트릴메틸 N,N-디에틸카르바메이트, 9-안트릴메틸 N-프로필카르바메이트, 9-안트릴메틸 N-시클로헥실카르바메이트, 9-안트릴메틸 1H-이미다졸-1-카르복실레이트, 9-안트릴메틸 N,N-디옥틸카르바메이트, 9-안트릴메틸 1-(4-히드록시피페리딘)카르복실레이트, 1-피레닐메틸 1-피페리딘카르복실레이트, 비스〔1-(2-안트라퀴노닐)에틸〕 1,6-헥산디일비스카르바메이트, 비스(9-안트릴메틸) 1,6-헥산디일비스카르바메이트 등을 들 수 있다.
α-아미노케톤 화합물로서는, 예컨대, 다음과 같은 것이 알려져 있다. 1-페닐-2-(4-모르폴리노벤조일)-2-디메틸아미노부탄, 2-(4-메틸티오벤조일)-2-모르폴리노프로판 등을 들 수 있다.
광염기 발생제가 되는 4급 암모늄 화합물로서는, 예컨대, 1-(4-페닐티오페나실)-1-아조니아-4-아자비시클로[2,2,2]옥탄테트라페닐보레이트, 5-(4-페닐티오페나실)-1-아자-5-아조니아비시클로[4,3,0]-5-노넨 테트라페닐보레이트, 8-(4-페닐티오페나실)-1-아자-8-아조니아비시클로[5,4,0]-7-운데센테트라페닐보레이트 등을 들 수 있다.
광염기 발생제가 되는 아미노시클로프로페논 화합물로서는, 예컨대, 2-디에틸아미노-3-페닐시클로프로페논, 2-디에틸아미노-3-(1-나프틸)시클로프로페논, 2-피롤리디닐-3-페닐시클로프로페논, 2-이미다졸릴-3-페닐시클로프로페논, 2-이소프로필아미노-3-페닐시클로프로페논 등을 들 수 있다.
열염기 발생제로서는, 2-(4-비페닐)-2-프로필 카르바메이트, 및 1,1-디메틸-2-시아노에틸 카르바메이트 등의 카르바메이트 유도체, 요소나 N,N,N'-트리메틸요소 등의 요소 유도체, 1,4-디히드로니코틴아미드 등의 디히드로피리딘 유도체, 디시안디아미드, 유기염이나 무기염 등의 산과 염기를 포함하는 염 등을 들 수 있다.
개시제(D)의 함유량은, 수지(A) 100 질량부에 대해, 통상 0.01∼20 질량부이고, 0.1∼10 질량부인 것이 바람직하며, 0.5∼5 질량부인 것이 보다 바람직하고, 1∼3 질량부인 것이 더욱 바람직하다.
<라디칼 경화성 성분(E)>
라디칼 경화성 성분(E)으로서는, 라디칼 중합 반응에 의해 경화하는 모노머 또는 올리고머 등을 들 수 있다.
라디칼 경화성 성분(E)으로서는, 단작용 또는 다작용의 (메트)아크릴레이트계 화합물, 스티렌계 화합물, 비닐계 화합물 등을 들 수 있다.
본 발명의 점착제 조성물은 라디칼 경화성 성분(E)을 2종 이상 포함하고 있어도 좋다.
(메트)아크릴레이트계 화합물로서는, 분자 내에 적어도 1개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 (메트)아크릴레이트 모노머, (메트)아크릴아미드 모노머, 및 분자 내에 적어도 2개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 (메트)아크릴 올리고머 등의 (메트)아크릴로일기 함유 화합물을 들 수 있다. (메트)아크릴 올리고머는 바람직하게는, 분자 내에 적어도 2개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 (메트)아크릴레이트 올리고머이다. (메트)아크릴계 화합물은, 1종만을 단독으로 이용해도 좋고 2종 이상을 병용해도 좋다.
(메트)아크릴레이트 모노머로서는, 분자 내에 1개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 단작용 (메트)아크릴레이트 모노머, 분자 내에 2개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 2작용 (메트)아크릴레이트 모노머, 분자 내에 3개 이상의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 다작용 (메트)아크릴레이트 모노머를 들 수 있다.
단작용 (메트)아크릴레이트 모노머로서는, 알킬(메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 알킬(메트)아크릴레이트에 있어서, 그 알킬기의 탄소수가 3 이상인 경우에는 직쇄, 분기, 환상(環狀)의 어느 것이어도 좋다. 알킬(메트)아크릴레이트로서는, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 이소프로필(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
또한, 단작용 (메트)아크릴레이트 모노머로서는, 벤질(메트)아크릴레이트 등의 아랄킬(메트)아크릴레이트; 이소보르닐(메트)아크릴레이트 등의 테르펜 알코올의 (메트)아크릴레이트; 테트라히드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트 등의 테트라히드로푸르푸릴 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트; 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 시클로헥실메틸메타크릴레이트, 디시클로펜타닐아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 1,4-시클로헥산디메탄올모노아크릴레이트 등의 알킬기 부위에 시클로알킬기를 갖는 (메트)아크릴레이트; N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트 등의 아미노알킬(메트)아크릴레이트; 2-페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 에틸카르비톨(메트)아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트 등의 알킬 부위에 에테르 결합을 갖는 (메트)아크릴레이트 등도 들 수 있다.
또한, 단작용 (메트)아크릴레이트 모노머로서는, 알킬 부위에 수산기를 갖는 단작용 (메트)아크릴레이트; 알킬 부위에 카르복실기를 갖는 단작용 (메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 알킬 부위에 수산기를 갖는 단작용 (메트)아크릴레이트로서는, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2- 또는 3-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판모노(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨모노(메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 알킬 부위에 카르복실기를 갖는 단작용 (메트)아크릴레이트로서는, 2-카르복시에틸(메트)아크릴레이트, ω-카르복시-폴리카프로락톤(n=2)모노(메트)아크릴레이트, 1-[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]프탈산, 1-[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]헥사히드로프탈산, 1-[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]숙신산, 4-[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]트리멜리트산, N-(메트)아크릴로일옥시-N',N'-디카르복시메틸-p-페닐렌디아민 등을 들 수 있다.
(메트)아크릴아미드 모노머는, 바람직하게는 N- 위치에 치환기를 갖는 (메트)아크릴아미드이다. 그 N- 위치의 치환기의 전형적인 예는 알킬기이지만, (메트)아크릴아미드의 질소 원자와 함께 고리를 형성하고 있어도 좋고, 이 고리는, 탄소 원자 및 (메트)아크릴아미드의 질소 원자에 더하여, 산소 원자를 고리 구성원으로서 가져도 좋다. 또한, 그 고리를 구성하는 탄소 원자에는, 알킬이나 옥소(=O)와 같은 치환기가 결합하고 있어도 좋다.
N-치환(메트)아크릴아미드로서는, N-메틸(메트)아크릴아미드, N-에틸(메트)아크릴아미드, N-이소프로필(메트)아크릴아미드, N-n-부틸(메트)아크릴아미드, N-t-부틸(메트)아크릴아미드, N-헥실(메트)아크릴아미드와 같은 N-알킬(메트)아크릴아미드; N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N,N-디에틸(메트)아크릴아미드와 같은 N,N-디알킬(메트)아크릴아미드 등을 들 수 있다. 또한, N-치환기는 수산기를 갖는 알킬기여도 좋고, 그 예로서, N-히드록시메틸(메트)아크릴아미드, N-(2-히드록시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-히드록시프로필)(메트)아크릴아미드 등을 들 수 있다. 또한, 상기한 5원환 또는 6원환을 형성하는 N-치환(메트)아크릴아미드의 구체적인 예로서는, N-아크릴로일피롤리딘, 3-아크릴로일-2-옥사졸리디논, 4-아크릴로일모르폴린, N-아크릴로일피페리딘, N-메타크릴로일피페리딘 등을 들 수 있다.
2작용 (메트)아크릴레이트 모노머로서는,
에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,3-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메트)아크릴레이트 및 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 알킬렌글리콜디(메트)아크릴레이트;
디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트 및 폴리테트라메틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 폴리옥시알킬렌글리콜디(메트)아크릴레이트;
테트라플루오로에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 할로겐 치환 알킬렌글리콜의 디(메트)아크릴레이트;
트리메틸올프로판디(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨디(메트)아크릴레이트 등의 지방족 폴리올의 디(메트)아크릴레이트;
수소 첨가 디시클로펜타디에닐디(메트)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올디(메트)아크릴레이트 등의 수소 첨가 디시클로펜타디엔 또는 트리시클로데칸디알칸올의 디(메트)아크릴레이트;
1,3-디옥산-2,5-디일디(메트)아크릴레이트〔별명: 디옥산글리콜디(메트)아크릴레이트〕 등의 디옥산글리콜 또는 디옥산디알칸올의 디(메트)아크릴레이트;
비스페놀 A 에틸렌옥사이드 부가물 디아크릴레이트물, 비스페놀 F 에틸렌옥사이드 부가물 디아크릴레이트물 등의 비스페놀 A 또는 비스페놀 F의 알킬렌옥사이드 부가물의 디(메트)아크릴레이트;
비스페놀 A 디글리시딜에테르의 아크릴산 부가물, 비스페놀 F 디글리시딜에테르의 아크릴산 부가물 등의 비스페놀 A 또는 비스페놀 F의 에폭시디(메트)아크릴레이트;
실리콘디(메트)아크릴레이트;
히드록시피발산네오펜틸글리콜에스테르의 디(메트)아크릴레이트;
2,2-비스[4-(메트)아크릴로일옥시에톡시에톡시페닐]프로판;
2,2-비스[4-(메트)아크릴로일옥시에톡시에톡시시클로헥실]프로판;
2-(2-히드록시-1,1-디메틸에틸)-5-에틸-5-히드록시메틸-1,3-디옥산〕의 디(메트)아크릴레이트;
트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트디(메트)아크릴레이트; 등을 들 수 있다.
3작용 이상의 다작용 (메트)아크릴레이트 모노머로서는, 글리세린트리(메트)아크릴레이트, 알콕시화 글리세린트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 등의 3작용 이상의 지방족 폴리올의 폴리(메트)아크릴레이트; 3작용 이상의 할로겐 치환 폴리올의 폴리(메트)아크릴레이트; 글리세린의 알킬렌옥사이드 부가물의 트리(메트)아크릴레이트; 트리메틸올프로판의 알킬렌옥사이드 부가물의 트리(메트)아크릴레이트; 1,1,1-트리스[(메트)아크릴로일옥시에톡시에톡시]프로판; 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트트리(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
또한, 시판품을 이용해도 좋다. 시판품으로서는, 예컨대, A-DPH-12E, A-TMPT, A-9300(신나카무라 가가쿠(주)사 제조) 등을 들 수 있다.
(메트)아크릴 올리고머로서는, 우레탄(메트)아크릴 올리고머, 폴리에스테르(메트)아크릴 올리고머, 에폭시(메트)아크릴 올리고머 등을 들 수 있다.
우레탄(메트)아크릴 올리고머란, 분자 내에 우레탄 결합(-NHCOO-) 및 적어도 2개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물이다. 구체적으로는, 분자 내에 적어도 1개의 (메트)아크릴로일기 및 적어도 1개의 수산기를 각각 갖는 수산기 함유 (메트)아크릴 모노머와 폴리이소시아네이트의 우레탄화 반응 생성물이나, 폴리올을 폴리이소시아네이트와 반응시켜 얻어지는 말단 이소시아나토기 함유 우레탄 화합물과, 분자 내에 적어도 1개의 (메트)아크릴로일기 및 적어도 1개의 수산기를 각각 갖는 (메트)아크릴 모노머의 우레탄화 반응 생성물 등일 수 있다.
상기 우레탄화 반응에 이용되는 수산기 함유 (메트)아크릴 모노머는, 예컨대 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 모노머일 수 있고, 그 구체예는, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 글리세린디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트를 포함한다. 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 모노머 이외의 구체예는, N-히드록시에틸(메트)아크릴아미드, N-메틸올(메트)아크릴아미드 등의 N-히드록시알킬(메트)아크릴아미드 모노머를 포함한다.
수산기 함유 (메트)아크릴 모노머와의 우레탄화 반응에 제공되는 폴리이소시아네이트로서는, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 톨릴렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 이들 디이소시아네이트 중 방향족의 이소시아네이트류를 수소 첨가하여 얻어지는 디이소시아네이트(예컨대, 수소 첨가 톨릴렌디이소시아네이트, 수소 첨가 크실릴렌디이소시아네이트 등), 트리페닐메탄트리이소시아네이트, 디벤질벤젠트리이소시아네이트 등의 디- 또는 트리-이소시아네이트, 및 상기한 디이소시아네이트를 다량화시켜 얻어지는 폴리이소시아네이트 등을 들 수 있다.
또한, 폴리이소시아네이트와의 반응에 의해 말단 이소시아나토기 함유 우레탄 화합물로 하기 위해서 이용되는 폴리올로서는, 방향족, 지방족 또는 지환식의 폴리올 외에, 폴리에스테르폴리올, 폴리에테르폴리올 등을 사용할 수 있다. 지방족 및 지환식의 폴리올로서는, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨, 디메틸올헵탄, 디메틸올프로피온산, 디메틸올부탄산, 글리세린, 수소 첨가 비스페놀 A 등을 들 수 있다.
폴리에스테르폴리올은, 상기한 폴리올과 다염기성 카르복실산 또는 그 무수물의 탈수 축합 반응에 의해 얻어지는 것이다. 다염기성 카르복실산 또는 그 무수물의 예를, 무수물일 수 있는 것에 「(무수)」를 붙여 나타내면, (무수)숙신산, 아디프산, (무수)말레산, (무수)이타콘산, (무수)트리멜리트산, (무수)피로멜리트산, (무수)프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 헥사히드로(무수)프탈산 등이 있다.
폴리에테르폴리올은, 폴리알킬렌글리콜 외에, 상기한 폴리올 또는 디히드록시벤젠류와 알킬렌옥사이드의 반응에 의해 얻어지는 폴리옥시알킬렌 변성 폴리올 등일 수 있다.
폴리에스테르(메트)아크릴레이트 올리고머란, 분자 내에 에스테르 결합과 적어도 2개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 올리고머를 의미한다.
폴리에스테르(메트)아크릴레이트 올리고머는, 예컨대, (메트)아크릴산, 다염기성 카르복실산 또는 그 무수물, 및 폴리올을 탈수 축합 반응시킴으로써 얻을 수 있다.
다염기성 카르복실산 또는 그 무수물로서는, 무수 숙신산, 아디프산, 무수 말레산, 무수 이타콘산, 무수 트리멜리트산, 무수 피로멜리트산, 헥사히드로 무수 프탈산, 프탈산, 숙신산, 말레산, 이타콘산, 트리멜리트산, 피로멜리트산, 헥사히드로프탈산, 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산 등을 들 수 있다.
폴리올로서는, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨, 디메틸올헵탄, 디메틸올프로피온산, 디메틸올부탄산, 글리세린, 수소 첨가 비스페놀 A 등을 들 수 있다.
에폭시(메트)아크릴 올리고머는, 폴리글리시딜에테르와 (메트)아크릴산의 부가 반응에 의해 얻을 수 있다. 에폭시(메트)아크릴 올리고머는, 분자 내에 적어도 2개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는다.
폴리글리시딜에테르로서는, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 트리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 비스페놀 A 디글리시딜에테르 등을 들 수 있다.
스티렌계 화합물로서는, 스티렌; 메틸스티렌, 디메틸스티렌, 트리메틸스티렌, 에틸스티렌, 디에틸스티렌, 트리에틸스티렌, 프로필스티렌, 부틸스티렌, 헥실스티렌, 헵틸스티렌, 옥틸스티렌 등의 알킬스티렌; 플루오로스티렌, 클로로스티렌, 브로모스티렌, 디브로모스티렌, 요오드스티렌 등의 할로겐화스티렌; 니트로스티렌; 아세틸스티렌; 메톡시스티렌; 및 디비닐벤젠을 들 수 있다.
비닐계 단량체로서는, 아세트산비닐, 프로피온산비닐, 부티르산비닐, 2-에틸헥산산비닐, 라우르산비닐 등의 지방산비닐에스테르; 염화비닐, 브롬화비닐 등의 할로겐화비닐; 염화비닐리덴 등의 할로겐화비닐리덴; 비닐피리딘, 비닐피롤리돈, 비닐카르바졸 등의 질소 함유 복소 방향족 비닐; 부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 공액 디엔; 및 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 불포화 니트릴을 들 수 있다.
라디칼 경화성 성분(E)은, (메트)아크릴레이트 화합물인 것이 바람직하고, 다작용 (메트)아크릴레이트 화합물인 것이 보다 바람직하다. 다작용 (메트)아크릴레이트 화합물은 3작용 이상인 것이 바람직하다.
라디칼 경화성 성분(E)의 함유량은, 수지(A) 100 질량부에 대해, 통상 0.5∼100 질량부이고, 1∼70 질량부인 것이 바람직하며, 3∼50 질량부인 것이 보다 바람직하고, 5∼30 질량부인 것이 더욱 바람직하며, 7.5∼20 질량부인 것이 특히 바람직하다.
<가교제(F)>
가교제(F)로서는, 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 아지리딘계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제 등을 들 수 있고, 특히 점착제 조성물의 포트라이프 및 점착제층의 내구성, 가교 속도 등의 관점에서, 이소시아네이트계 가교제인 것이 바람직하다.
이소시아네이트계 가교제로서는, 분자 내에 적어도 2개의 이소시아나토기(-NCO)를 갖는 화합물이 바람직하고, 예컨대, 지방족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 헥사메틸렌디이소시아네이트 등), 지환족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 이소포론디이소시아네이트, 수소 첨가 디페닐메탄디이소시아네이트, 수소 첨가 크실릴렌디이소시아네이트), 방향족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 톨릴렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 나프탈렌디이소시아네이트, 트리페닐메탄트리이소시아네이트 등) 등을 들 수 있다. 또한 가교제(F)는, 상기 이소시아네이트계 화합물의 다가 알코올 화합물에 의한 부가체(어덕트체)[예컨대, 글리세롤, 트리메틸올프로판 등에 의한 부가체], 이소시아누레이트화물, 뷰렛형 화합물, 폴리에테르폴리올, 폴리에스테르폴리올, 아크릴폴리올, 폴리부타디엔폴리올, 폴리이소프렌폴리올 등과 부가 반응시킨 우레탄 프리폴리머형의 이소시아네이트 화합물 등의 유도체여도 좋다. 가교제(F)는 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중, 대표적으로는 방향족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 톨릴렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트), 지방족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 헥사메틸렌디이소시아네이트) 또는 이들의 다가 알코올 화합물(예컨대, 글리세롤, 트리메틸올프로판)에 의한 부가체, 또는 이소시아누레이트체를 들 수 있다. 가교제(F)가, 방향족 이소시아네이트계 화합물 및/또는 이들의 다가 알코올 화합물, 또는 이소시아누레이트체에 의한 부가체이면, 최적의 가교 밀도(또는 가교 구조)의 형성에 유리하기 때문인지, 점착제층의 내구성을 향상시킬 수 있다. 특히, 톨릴렌디이소시아네이트계 화합물 및/또는 이들의 다가 알코올 화합물에 의한 부가체이면, 예컨대 점착제층을 편광판에 적용한 경우 등이어도 내구성을 향상시킬 수 있다.
가교제(F)의 함유량은, 수지(A) 100 질량부에 대해, 통상 0.01∼25 질량부이고, 바람직하게는 0.1∼15 질량부이며, 보다 바람직하게는 0.15∼7 질량부이고, 더욱 바람직하게는 0.2∼5 질량부이며, 특히 바람직하게는 0.25∼2 질량부이다.
본 발명의 점착제 조성물은, 실란 화합물(G)을 더 함유하고 있어도 좋다.
실란 화합물(G)로서는, 예컨대, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 3-글리시독시프로필에톡시디메틸실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다.
실란 화합물(G)은, 실리콘 올리고머여도 좋다. 실리콘 올리고머의 구체예를, 모노머끼리의 조합의 형태로 표기하면 다음과 같다.
3-머캅토프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-머캅토프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-머캅토프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-머캅토프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 머캅토프로필기 함유 올리고머; 머캅토메틸트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 머캅토메틸트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 머캅토메틸트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 머캅토메틸트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 머캅토메틸기 함유 올리고머; 3-글리시독시프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머 등의 3-글리시독시프로필기 함유의 코폴리머; 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 메타크릴로일옥시프로필기 함유 올리고머; 3-아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 아크릴로일옥시프로필기 함유 올리고머; 비닐트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 비닐트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 비닐트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 비닐트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 비닐메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 비닐메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 비닐메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 비닐메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 비닐기 함유 올리고머; 3-아미노프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머 등의 아미노기 함유의 코폴리머 등.
실란 화합물(G)은, 하기 식 (g1)로 표시되는 실란 화합물이어도 좋다.
Figure pct00003
[식 중, A는, 탄소수 1∼20의 알칸디일기 또는 탄소수 3∼20의 2가의 지환식 탄화수소기를 나타내고, 상기 알칸디일기 및 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 좋고, R41은, 탄소수 1∼5의 알킬기를 나타내며, R42, R43, R44, R45 및 R46은, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼5의 알킬기 또는 탄소수 1∼5의 알콕시기를 나타낸다.]
A로 표시되는 탄소수 1∼20의 알칸디일기로서는, 메틸렌기, 1,2-에탄디일기, 1,3-프로판디일기, 1,4-부탄디일기, 1,5-펜탄디일기, 1,6-헥산디일기, 1,7-헵탄디일기, 1,8-옥탄디일기, 1,9-노난디일기, 1,10-데칸디일기, 1,12-도데칸디일기, 1,14-테트라데칸디일기, 1,16-헥사데칸디일기, 1,18-옥타데칸디일기 및 1,20-이코산디일기를 들 수 있다. 탄소수 3∼20의 2가의 지환식 탄화수소기로서는, 1,3-시클로펜탄디일기 및 1,4-시클로헥산디일기를 들 수 있다. 상기 알칸디일기 및 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 -CH2-가 -O- 또는 -CO-로 치환된 기로서는, -CH2CH2-O-CH2CH2-, -CH2CH2-O-CH2CH2-O-CH2CH2-, -CH2CH2-O-CH2CH2-O-CH2CH2-O-CH2CH2-, -CH2CH2-CO-O-CH2CH2-, -CH2CH2-O-CH2CH2-CO-O-CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-O-CH2CH2- 및 -CH2CH2CH2CH2-O-CH2CH2CH2CH2-를 들 수 있다.
R41∼R46으로 표시되는 탄소수 1∼5의 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기 및 펜틸기를 들 수 있고, R42∼R46으로 표시되는 탄소수 1∼5의 알콕시기로서는, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기, 이소부톡시기, tert-부톡시기 및 펜틸옥시기를 들 수 있다.
식 (g1)로 표시되는 실란 화합물로서는, 예컨대, (트리메톡시실릴)메탄, 1,2-비스(트리메톡시실릴)에탄, 1,2-비스(트리에톡시실릴)에탄, 1,3-비스(트리메톡시실릴)프로판, 1,3-비스(트리에톡시실릴)프로판, 1,4-비스(트리메톡시실릴)부탄, 1,4-비스(트리에톡시실릴)부탄, 1,5-비스(트리메톡시실릴)펜탄, 1,5-비스(트리에톡시실릴)펜탄, 1,6-비스(트리메톡시실릴)헥산, 1,6-비스(트리에톡시실릴)헥산, 1,6-비스(트리프로폭시실릴)헥산, 1,8-비스(트리메톡시실릴)옥탄, 1,8-비스(트리에톡시실릴)옥탄, 1,8-비스(트리프로폭시실릴)옥탄 등의 비스(트리 C1-5 알콕시실릴) C1-10 알칸; 비스(디메톡시메틸실릴)메탄, 1,2-비스(디메톡시메틸실릴)에탄, 1,2-비스(디메톡시에틸실릴)에탄, 1,4-비스(디메톡시메틸실릴)부탄, 1,4-비스(디메톡시에틸실릴)부탄, 1,6-비스(디메톡시메틸실릴)헥산, 1,6-비스(디메톡시에틸실릴)헥산, 1,8-비스(디메톡시메틸실릴)옥탄, 1,8-비스(디메톡시에틸실릴)옥탄 등의 비스(디 C1-5 알콕시 C1-5 알킬실릴) C1-10 알칸; 1,6-비스(메톡시디메틸실릴)헥산, 1,8-비스(메톡시디메틸실릴)옥탄 등의 비스(모노 C1-5 알콕시-디 C1-5 알킬실릴) C1-10 알칸 등을 들 수 있다. 이들 중, 1,2-비스(트리메톡시실릴)에탄, 1,3-비스(트리메톡시실릴)프로판, 1,4-비스(트리메톡시실릴)부탄, 1,5-비스(트리메톡시실릴)펜탄, 1,6-비스(트리메톡시실릴)헥산, 1,8-비스(트리메톡시실릴)옥탄 등의 비스(트리 C1-3 알콕시실릴) C1-10 알칸이 바람직하고, 특히, 1,6-비스(트리메톡시실릴)헥산, 1,8-비스(트리메톡시실릴)옥탄이 바람직하다.
실란 화합물(G)의 함유량은, 수지(A) 100 질량부에 대해, 통상 0.01∼20 질량부이고, 바람직하게는 0.1∼10 질량부이며, 보다 바람직하게는 0.15∼7 질량부이고, 더욱 바람직하게는 0.2∼5 질량부이며, 특히 바람직하게는 0.25∼2 질량부이다.
점착제 조성물은, 대전 방지제, 용제, 가교 촉매, 택키파이어, 가소제, 연화제, 안료, 방청제, 무기 필러, 광산란성 미립자 등의 첨가제를 1종 또는 2종 이상 더 함유할 수 있다.
본 발명의 점착제층은, 예컨대, 본 발명의 점착제 조성물을, 용제에 용해 또는 분산하여 용제 함유의 점착제 조성물로 하고, 계속해서, 이것을, 기재의 표면에 도포하여, 건조시킨 후에 활성 에너지선 조사를 행함으로써 형성할 수 있다. 본 발명의 점착제층은, 점착제 조성물의 광경화물이라고도 할 수 있다.
기재로서는, 플라스틱 필름이 적합하고, 구체적으로는, 이형 처리가 실시된 박리 필름을 들 수 있다. 박리 필름으로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트 등의 수지를 포함하는 필름의 한쪽 면에, 실리콘 처리 등의 이형 처리가 실시된 것을 들 수 있다.
용제 함유의 점착제 조성물로 형성되는 도포막을 건조시키는 조건(건조 온도, 건조 시간)은, 그 조성이나 농도로 적절히 설정할 수 있으나, 바람직하게는 60∼150℃에서, 1∼60분간이다.
도포막의 건조 후의 활성 에너지선 조사는, 자외선 조사인 것이 바람직하다. 조사하는 자외선의 조도는, 10 ㎽/㎠∼3000 ㎽/㎠인 것이 바람직하다. 또한, 자외선의 적산 광량은 10 mJ/㎠∼5000 mJ/㎠인 것이 바람직하다.
자외선 조사를 행하는 자외선 램프는, 수은 램프, 메탈 할라이드 램프, LED 램프여도 좋다.
본 발명의 점착제층은, 하기 식 (3)을 만족시키는 점착제층인 것이 바람직하고, 또한 식 (4)를 만족시키는 점착제층인 것이 보다 바람직하다.
A(380)≥0.6 (3)
[식 (3) 중, A(380)은 파장 380 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타낸다.]
A(380)/A(420)≥5 (4)
[식 (4) 중, A(380)은 파장 380 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타내고, A(420)은 파장 420 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타낸다.]
A(380)의 값이 클수록 파장 380 ㎚에 있어서의 흡수가 높은 것을 나타낸다. A(380)의 값이 0.6 미만이면 파장 380 ㎚에 있어서의 흡수가 낮고, 자외선 부근의 광에 의해 열화하기 쉬운 부재(예컨대 유기 EL 소자 등의 표시 장치나 액정계 위상차 필름 등)의 열화가 발생하기 쉽다. A(380)의 값은, 바람직하게는 0.75 이상이고, 보다 바람직하게는 0.85 이상이며, 특히 바람직하게는 1.0 이상이다. 상한은 특별히 없으나, 통상은 10 이하이다.
A(380)/A(420)의 값은, 파장 420 ㎚에 있어서의 흡수의 크기에 대한 파장 380 ㎚의 흡수의 크기를 나타내고, 이 값이 클수록 자외선 부근의 파장 영역에 특이적인 흡수가 있는 것을 나타낸다. A(380)/A(420)의 값은 5 이상인 것이 바람직하고, 20 이상인 것이 보다 바람직하며, 50 이상인 것이 더욱 바람직하고, 100 이상인 것이 특히 바람직하다.
본 발명의 점착제층의 두께는, 통상 200 ㎛ 미만이고, 바람직하게는 100 ㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 20 ㎛ 이하이고, 더욱 바람직하게는 12 ㎛ 이하 또는12 ㎛ 미만이며, 보다 더 바람직하게는 10 ㎛ 이하이고, 특히 바람직하게는 7 ㎛ 이하이다. 또한, 통상 0.1 ㎛ 이상이고, 바람직하게는 0.5 ㎛ 이상이며, 보다 바람직하게는 1 ㎛ 이상이고, 더욱 바람직하게는 2 ㎛ 이상이다.
본 발명에 의하면, 예컨대 12 ㎛ 미만의 박막의 점착층에 있어서도 충분히 자외선을 흡수할 수 있기 때문에, 표시 장치의 박막화의 관점에서 유리하다.
본 발명의 점착제층의 겔 분율은, 통상 50∼99.9 질량%이고, 60∼99 질량%인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 70∼95 질량%, 더욱 바람직하게는 75∼90 질량%이다.
<점착제층 부착 광학 필름>
본 발명의 점착제 조성물 및 상기 점착제 조성물로 형성되는 점착제층은, 예컨대 광학 필름의 접합 등에 사용할 수 있다.
본 발명의 점착제층의 적어도 한쪽 면에 광학 필름이 적층된 점착제층 부착 광학 필름도 본 발명에 포함된다.
본 발명의 점착제층 부착 광학 필름은, 상기 점착제 조성물을, 용제에 용해 또는 분산하여 용제 함유의 점착제 조성물로 하고, 계속해서, 이것을, 광학 필름의 표면에 도포하여, 건조시킨 후에 활성 에너지선 조사를 행함으로써 형성할 수 있다. 또한, 박리 필름 상에 동일하게 하여 점착제층을 형성하고, 이 점착제층을 광학 필름의 표면에 적층(전사)함으로써도 얻을 수 있다.
광학 필름은, 광선을 투과, 반사, 흡수하는 등의 광학 기능을 갖는 필름이다.
광학 필름은 단층의 필름이어도 좋고, 다층의 필름이어도 좋다. 광학 필름은, 예컨대, 편광 필름, 위상차 필름, 휘도 향상 필름, 방현 필름, 반사 방지 필름, 확산 필름, 집광 필름 등을 들 수 있고, 편광 필름, 위상차 필름 또는 이들의 적층 필름인 것이 바람직하다.
집광 필름은, 광로 제어 등을 목적으로 이용되는 것이며, 프리즘 어레이 시트나 렌즈 어레이 시트, 도트 부설 시트 등일 수 있다.
휘도 향상 필름은, 편광판을 적용한 액정 표시 장치에 있어서의 휘도를 향상시킬 목적으로 사용된다. 구체적으로는, 굴절률의 이방성이 서로 상이한 박막 필름을 복수 매 적층하여 반사율에 이방성이 발생하도록 설계된 반사형 편광 분리 시트, 콜레스테릭 액정 폴리머의 배향 필름이나 그 배향 액정층을 기재 필름 상에 지지한 원편광 분리 시트 등을 들 수 있다.
편광 필름은, 그 흡수축에 평행한 진동면을 갖는 직선 편광을 흡수하고, 흡수축에 직교하는(투과축과 평행한) 진동면을 갖는 직선 편광을 투과하는 성질을 갖는 필름이며, 예컨대, 폴리비닐알코올계 수지 필름에 이색성 색소를 흡착 배향시킨 필름을 이용할 수 있다.
이색성 색소로서는, 예컨대, 요오드나 이색성 유기 염료 등을 들 수 있다.
폴리비닐알코올계 수지의 비누화도는, 통상 85 몰%∼100 몰%, 바람직하게는 98 몰% 이상이다. 폴리비닐알코올계 수지는, 변성되어 있어도 좋고, 예컨대, 알데히드로 변성된 폴리비닐포르말이나 폴리비닐아세탈 등이어도 좋다. 폴리비닐알코올계 수지의 중합도는, 통상 1,000∼10,000, 바람직하게는 1,500∼5,000이다.
통상, 폴리비닐알코올계 수지를 제막(製膜)한 것을 편광 필름의 원반(原反) 필름으로서 이용한다. 폴리비닐알코올계 수지는, 공지된 방법으로 제막할 수 있다. 원반 필름의 두께는, 통상 1∼150 ㎛이고, 연신하기 용이함 등을 고려하면, 바람직하게는 10 ㎛ 이상이다.
편광 필름은, 예컨대, 원반 필름에 대해, 일축 연신하는 공정, 이색성 색소로 필름을 염색하여 그 이색성 색소를 흡착시키는 공정, 붕산 수용액으로 필름을 처리하는 공정, 및 필름을 수세(水洗)하는 공정이 실시되고, 마지막으로 건조시켜 제조된다. 편광 필름의 두께는, 통상 1∼30 ㎛이고, 점착제층 부착 광학 필름의 박막화의 관점에서, 바람직하게는 20 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 15 ㎛ 이하, 특히 바람직하게는 10 ㎛ 이하이다.
편광 필름의 적어도 한쪽 면은, 접착제를 통해 보호 필름이 형성되어 있는 편광판인 것이 바람직하다.
접착제로서는, 공지된 접착제가 이용되고, 수계 접착제여도 좋고, 활성 에너지선 경화형 접착제여도 좋다.
수계 접착제로서는, 관용의 수계 접착제(예컨대, 폴리비닐알코올계 수지 수용액을 포함하는 접착제, 수계 이액형 우레탄계 에멀젼 접착제, 알데히드 화합물, 에폭시 화합물, 멜라민계 화합물, 메틸올 화합물, 이소시아네이트 화합물, 아민 화합물, 다가 금속염 등의 가교제 등)를 들 수 있다. 이들 중, 폴리비닐알코올계 수지 수용액을 포함하는 수계 접착제를 적합하게 이용할 수 있다. 또한, 수계 접착제를 사용하는 경우에는, 편광 필름과 보호 필름을 접합한 후, 수계 접착제 중에 포함되는 물을 제거하기 위해서 건조시키는 공정을 실시하는 것이 바람직하다. 건조 공정 후, 예컨대 20∼45℃ 정도의 온도에서 양생(養生)하는 양생 공정을 마련해도 좋다. 수계 접착제로 형성되는 접착제층은, 통상 0.001∼5 ㎛이다.
활성 에너지선 경화성 접착제란, 자외선이나 전자선 등의 활성 에너지선을 조사함으로써 경화하는 접착제를 말하고, 예컨대, 중합성 화합물 및 광중합 개시제를 포함하는 경화성 조성물, 광반응성 수지를 포함하는 경화성 조성물, 바인더 수지 및 광반응성 가교제를 포함하는 경화성 조성물 등을 들 수 있으며, 바람직하게는 자외선 경화성 접착제이다.
편광 필름과 보호 필름을 접합하는 방법으로서는, 이들 중 적어도 어느 한쪽의 접합면에 비누화 처리, 코로나 처리, 플라즈마 처리 등의 표면 활성화 처리를 실시하는 방법 등을 들 수 있다. 편광 필름의 양면에 보호 필름이 접합되는 경우, 이들 수지 필름을 접합하기 위한 접착제는, 동종의 접착제여도 좋고 이종(異種)의 접착제여도 좋다.
보호 필름으로서는, 투광성을 갖는 열가소성 수지로 형성되는 필름인 것이 바람직하다. 구체적으로는, 폴리올레핀계 수지; 셀룰로오스계 수지; 폴리에스테르계 수지; (메트)아크릴계 수지; 또는 이들의 혼합물, 공중합물 등을 포함하는 필름을 들 수 있다. 편광 필름의 양면에 보호 필름이 형성되는 경우, 이용되는 보호 필름은, 상이한 열가소성 수지를 포함하는 필름이어도 좋고, 동일한 열가소성 수지를 포함하는 필름이어도 좋다.
보호 필름이 편광 필름의 적어도 한쪽 면에 적층되는 경우, 보호 필름은 폴리올레핀계 수지, 셀룰로오스계 수지를 포함하는 보호 필름인 것이 바람직하다. 이들 필름을 이용함으로써, 편광 필름의 광학 특성을 손상시키지 않고 고온 환경에 있어서의 편광 필름의 수축을 유효하게 억제할 수 있다. 또한, 보호 필름도 산소 차폐층이어도 좋다.
편광판의 바람직한 구성으로서는, 편광 필름의 적어도 한쪽 면에 접착제층을 통해 보호 필름이 적층된 편광판이다. 보호 필름이 편광 필름의 한쪽 면에밖에 적층되지 않는 경우, 시인측에 적층되는 것이 보다 바람직하다. 시인측에 적층된 보호 필름은, 트리아세틸셀룰로오스계 수지 또는 시클로올레핀계 수지를 포함하는 보호 필름인 것이 바람직하다. 보호 필름은 미연신 필름이어도 좋고, 임의의 방향으로 연신되어 위상차를 갖고 있어도 좋다. 시인측에 적층된 보호 필름의 표면에는 하드 코트층이나 안티 글레어층 등의 표면 처리층이 형성되어 있어도 좋다.
보호 필름이 편광 필름의 양면에 적층되는 경우, 패널측(시인측과 반대측)의 보호 필름은, 트리아세틸셀룰로오스계 수지, 시클로올레핀계 수지 또는 아크릴계 수지를 포함하는 보호 필름 또는 위상차 필름인 것이 바람직하다. 위상차 필름은 후술하는 제로 리타데이션 필름이어도 좋다.
위상차 필름이란, 광학 이방성을 나타내는 광학 필름이며, 예컨대, 폴리비닐알코올, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리아릴레이트, 폴리이미드, 폴리올레핀, 폴리시클로올레핀, 폴리스티렌, 폴리술폰, 폴리에테르술폰, 폴리비닐리덴플루오라이드/폴리메틸메타크릴레이트, 아세틸셀룰로오스, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 비누화물, 폴리염화비닐 등을 포함하는 고분자 필름을 1.01∼6배 정도로 연신함으로써 얻어지는 연신 필름 등을 들 수 있다. 연신 필름 중에서도, 아세틸셀룰로오스, 폴리에스테르, 폴리카보네이트 필름이나 시클로올레핀계 수지 필름을 일축 연신 또는 이축 연신한 고분자 필름인 것이 바람직하다. 또한, 위상차 필름은, 액정성 화합물을 기재에 도포·배향에 의해 광학 이방성을 발현시킨 위상차 필름이어도 좋다.
또한, 본 명세서에 있어서, 위상차 필름은, 제로 리타데이션 필름을 포함하고, 일축성 위상차 필름, 저광탄성률 위상차 필름, 광시야각 위상차 필름 등으로 칭해지는 필름도 포함한다.
제로 리타데이션 필름이란, 정면 리타데이션 Re와 두께 방향의 리타데이션 Rth가, 모두 -15∼15 ㎚이고, 광학적으로 등방인 필름을 말한다. 제로 리타데이션 필름으로서는, 셀룰로오스계 수지, 폴리올레핀계 수지(쇄상 폴리올레핀계 수지, 폴리시클로올레핀계 수지 등) 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지를 포함하는 수지 필름을 들 수 있고, 리타데이션값의 제어가 용이하고, 입수도 용이하다고 하는 점에서, 셀룰로오스계 수지 또는 폴리올레핀계 수지가 바람직하다. 제로 리타데이션 필름은, 보호 필름으로서도 이용할 수 있다. 제로 리타데이션 필름으로서는, 후지 필름(주)에서 판매되고 있는 "Z-TAC"(상품명), 코니카 미놀타 옵토(주)에서 판매되고 있는 "제로태크(등록 상표)", 닛폰 제온(주)에서 판매되고 있는 "ZF-14"(상품명) 등을 들 수 있다.
본 발명의 광학 필름에 있어서, 위상차 필름은, 액정성 화합물의 도포·배향에 의해 광학 이방성을 발현시킨 위상차 필름이 바람직하다.
액정성 화합물의 도포·배향에 의해 광학 이방성을 발현시킨 필름으로서는, 이하의 제1 형태∼제5 형태를 들 수 있다.
제1 형태: 봉상(棒狀) 액정 화합물이 지지 기재에 대해 수평 방향으로 배향된 위상차 필름
제2 형태: 봉상 액정 화합물이 지지 기재에 대해 수직 방향으로 배향된 위상차 필름
제3 형태: 봉상 액정 화합물이 면내에서 나선형으로 배향의 방향이 변화하고 있는 위상차 필름
제4 형태: 원반상(圓盤狀) 액정 화합물이 경사 배향되어 있는 위상차 필름
제5 형태: 원반상 액정 화합물이 지지 기재에 대해 수직 방향으로 배향된 이축성의 위상차 필름
예컨대, 유기 일렉트로루미네선스 디스플레이에 이용되는 광학 필름으로서는, 제1 형태, 제2 형태, 제5 형태가 적합하게 이용된다. 또는 이들 형태의 위상차 필름을 적층시켜 이용해도 좋다.
위상차 필름이, 중합성 액정 화합물의 배향 상태에 있어서의 중합체를 포함하는 층(이하, 「광학 이방성 층」이라고 칭하는 경우가 있음)인 경우, 위상차 필름은 역파장 분산성을 갖는 것이 바람직하다. 역파장 분산성이란, 단파장에서의 액정 배향 면내 위상차값 쪽이 장파장에서의 액정 배향 면내 위상차값보다 작아지는 광학 특성이고, 바람직하게는, 위상차 필름이 하기 식 (7) 및 식 (8)을 만족시키는 것이다. 또한, Re(λ)는 파장 λ ㎚의 광에 대한 면내 위상차값을 나타낸다.
Re(450)/Re(550)≤1 (7)
1≤Re(630)/Re(550) (8)
본 발명의 광학 필름에 있어서, 위상차 필름이 제1 형태이고 또한 역파장 분산성을 갖는 경우, 표시 장치에서의 흑표시 시의 착색이 저감되기 때문에 바람직하고, 상기 식 (7)에 있어서 0.82≤Re(450)/Re(550)≤0.93이면 보다 바람직하다. 또한 120≤Re(550)≤150이 바람직하다.
위상차 필름이, 광학 이방성 층을 갖는 필름인 경우의 중합성 액정 화합물로서는, 액정 편람(액정 편람 편집 위원회편, 마루젠(주) 2000년 10월 30일 발행)의 「3.8.6 네트워크(완전 가교형)」, 「6.5.1 액정 재료 b. 중합성 네마틱 액정 재료」에 기재된 화합물 중에서 중합성 기를 갖는 화합물, 및 일본 특허 공개 제2010-31223호 공보, 일본 특허 공개 제2010-270108호 공보, 일본 특허 공개 제2011-6360호 공보, 일본 특허 공개 제2011-207765호 공보, 일본 특허 공개 제2011-162678호 공보, 일본 특허 공개 제2016-81035호 공보, 국제 공개 제2017/043438호 및 일본 특허 공개 제2011-207765호 공보에 기재된 중합성 액정 화합물 등을 들 수 있다.
중합성 액정 화합물의 배향 상태에 있어서의 중합체로부터 위상차 필름을 제조하는 방법은, 예컨대, 일본 특허 공개 제2010-31223호 공보에 기재된 방법 등을 들 수 있다.
제2 형태의 경우, 정면 위상차값 Re(550)은 0∼10 ㎚의 범위로, 바람직하게는 0∼5 ㎚의 범위로 조정하면 되고, 두께 방향의 위상차값 Rth는, -10∼-300 ㎚의 범위로, 바람직하게는 -20∼-200 ㎚의 범위로 조정하면 된다. 두께 방향의 굴절률 이방성을 의미하는 두께 방향의 위상차값 Rth는, 면내의 진상축(進相軸)을 경사축으로 하여 50도 경사시켜 측정되는 위상차값 R50과 면내의 위상차값 R0으로부터 산출할 수 있다. 즉, 두께 방향의 위상차값 Rth는, 면내의 위상차값 R0, 진상축을 경사축으로 하여 50도 경사시켜 측정한 위상차값 R50, 위상차 필름의 두께 d, 및 위상차 필름의 평균 굴절률 n0으로부터, 이하의 식 (10)∼(12)에 의해 nx, ny 및 nz를 구하고, 이들을 식 (9)에 대입하여, 산출할 수 있다.
Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d (9)
R0=(nx-ny)×d (10)
R50=(nx-ny')×d/cos(φ) (11)
(nx+ny+nz)/3=n0 (12)
여기서,
φ=sin-1〔sin(40°)/n0〕
ny'=ny×nz/〔ny 2×sin2(φ)+nz 2×cos2(φ)〕1/2
액정성 화합물의 도포·배향에 의해 광학 이방성을 발현시킨 필름이나, 무기 층상(層狀) 화합물의 도포에 의해 광학 이방성을 발현시킨 필름으로서는, 온도 보상형 위상차 필름이라고 칭해지는 필름, JX 닛코 닛세키 에너지(주)에서 판매되고 있는 "NH 필름"(상품명; 봉상 액정이 경사 배향된 필름), 후지 필름(주)에서 판매되고 있는 "WV 필름"(상품명; 원반상 액정이 경사 배향된 필름), 스미토모 가가쿠(주)에서 판매되고 있는 "VAC 필름"(상품명; 완전 이축 배향형의 필름), 스미토모 가가쿠(주)에서 판매되고 있는 "new VAC 필름"(상품명; 이축 배향형의 필름) 등을 들 수 있다.
위상차 필름은, 2 이상의 층을 갖는 다층 필름이어도 좋다. 예컨대, 위상차 필름의 한쪽 면 또는 양면에 보호 필름이 적층된 것이나, 2 이상의 위상차 필름이 점착제 또는 접착제를 통해 적층된 것을 들 수 있다.
본 발명의 점착제층에 박리 필름이 형성된 적층체, 본 발명의 점착제층 부착 광학 필름, 및 광학 적층체의 층 구성의 일례를, 도 1∼도 5에 도시한다.
도 1에 기재된 점착제층에 박리 필름이 형성된 적층체(10)는, 본 발명의 점착제 조성물로 형성된 점착제층(1) 면의 일시적인 보호를 위해서, 점착제층(1) 면에 박리 필름(세퍼레이트 필름)(2)을 접착하고 있는 상태이다.
도 2에 기재된 점착제층 부착 광학 필름(10A)은, 보호 필름(3), 접착제층(4), 편광 필름(5), 본 발명의 점착제 조성물로 형성된 점착제층(1), 박리 필름(2)을 포함하는 점착제층 부착 광학 필름이다. 보호 필름(3), 접착제층(4), 및 편광 필름(5)은, 편광판(100)(광학 필름(40))을 구성한다. 보호 필름(3)은 위상차를 갖고 있어도 좋다. 또한, 보호 필름(3) 위에 하드 코트층 등이 더 적층되어 있어도 좋다.
도 3에 기재된 점착제층 부착 광학 필름(10B)은, 보호 필름(3), 접착제층(4), 편광 필름(5), 접착제층(7), 보호 필름(6), 본 발명의 점착제 조성물로 형성된 점착제층(1), 위상차 필름(8)을 포함하는 점착제층 부착 광학 필름이다. 보호 필름(3), 접착제층(4), 편광 필름(5), 접착제층(7), 및 보호 필름(6)은, 편광판(100)(광학 필름(40))을 구성한다.
도 4에 기재된 광학 적층체(10C) 및 도 5에 기재된 광학 적층체(10D)는, 보호 필름(3), 접착제층(4), 편광 필름(5), 본 발명의 점착제 조성물로 형성된 점착제층(1), 위상차 필름(110)(광학 필름(40)), 점착제층(1a), 발광 소자(30)(액정 셀, 유기 EL 셀)를 포함하는 광학 적층체이다. 보호 필름(3), 접착제층(4), 및 편광 필름(5)은, 편광판(100)(광학 필름(40))을 구성한다. 점착제층(1a)은, 공지된 점착제 조성물로 형성된 점착제층이어도 좋고, 본 발명의 점착제 조성물로 형성된 점착제층이어도 좋다.
도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 위상차 필름이 다층 필름인 경우, 도 4에 도시된 바와 같이, 투과광에 1/4 파장분의 위상차를 부여하는 1/4 파장 위상차층(70)과 투과광에 1/2 파장분의 위상차를 부여하는 1/2 파장 위상차층(50)을, 접착제층 또는 점착제층(60)을 통해 적층한 위상차 필름(110)(광학 필름(40))을 포함하는 구성을 들 수 있다. 또한, 도 5에 도시된 바와 같이, 1/4 파장 위상차층(50a)과 포지티브 C층(80)을, 접착제층 또는 점착제층(60)을 통해 적층한 위상차 필름(110)(광학 필름(40))을 포함하는 구성도 들 수 있다.
도 4의 1/4 파장분의 위상차를 부여하는 1/4 파장 위상차층(70), 및 투과광에 1/2 파장분의 위상차를 부여하는 1/2 파장 위상차층(50)은 상기 제1 형태의 광학 필름이어도 제5 형태의 광학 필름이어도 좋다. 도 4의 구성의 경우, 적어도 한쪽이 제5 형태인 것이 보다 바람직하다.
도 5의 구성의 경우, 1/4 파장 위상차층(50a)은 상기 제1 형태의 광학 필름인 것이 바람직하고, 또한 식 (7), 식 (8)을 만족시키는 것이 보다 바람직하다.
<액정 표시 장치>
본 발명의 점착제 조성물, 및 상기 점착제 조성물로 형성되는 점착제층을 포함하는 점착제층 부착 광학 필름은, 유기 EL 소자, 액정 셀 등의 표시 소자에 적층시킨 광학 적층체로서, 유기 EL 표시 장치나 액정 표시 장치 등의 표시 장치에 이용할 수 있다.
실시예
이하, 실시예 및 비교예를 나타내어 본 발명을 더 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 예에 의해 한정되는 것이 아니다. 예 중, 함유량 내지 사용량을 나타내는 % 및 부는, 특별히 언급이 없는 한 질량 기준이다.
<극대 흡수 파장 및 그램 흡광 계수 ε 측정>
「FUV002B」(후지 필름 가부시키가이샤 제조)의 2-부타논 용액(0.006 g/L)을 1 ㎝의 석영 셀에 넣고, 석영 셀을 분광 광도계 UV-2450(가부시키가이샤 시마즈 세이사쿠쇼 제조)에 세팅하며, 더블빔법에 의해 1 ㎚ 스텝마다 300∼800 ㎚의 파장 범위의 흡광도를 측정하였다. 얻어진 흡광도의 값과, 용액 중의 「FUV002B」의 농도, 석영 셀의 광로 길이로부터, 파장마다의 그램 흡광 계수를 산출하였다.
ε(λ)=A(λ)/CL
〔식 중, ε(λ)는 파장 λ ㎚에 있어서의 「FUV002B」의 그램 흡광 계수(L/(g·㎝))를 나타내고, A(λ)는 파장 λ ㎚에 있어서의 흡광도를 나타내며, C는 용액 중의 「FUV002B」의 농도(g/L)를 나타내고, L은 석영 셀의 광로 길이(㎝)를 나타낸다.〕
「FUV002B」의 극대 흡수 파장은 370 ㎚였다. 「FUV002B」의 ε(380)은, 108.9 L/(g·㎝), ε(420)은 0.2 L/(g·㎝), ε(380)/ε(420)은 544.5였다.
(중합예 1): 아크릴 수지(A1)의 조제
냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반기를 구비한 반응 용기에, 용매로서 아세트산에틸 81.8부, 아크릴산부틸 96부, 아크릴산 2-히드록시에틸메틸 3부, 및 아크릴산 1부의 혼합 용액을 투입하고, 질소 가스로 장치 내의 공기를 치환하여 산소 불함유로 하면서 내부 온도를 55℃로 올렸다. 그 후, 아조비스이소부티로니트릴(중합 개시제) 0.14부를 아세트산에틸 10부에 녹인 용액을 전량 첨가하였다. 개시제를 첨가한 후 1시간 이 온도에서 유지하고, 계속해서 내부 온도를 54∼56℃로 유지하면서 아세트산에틸을 첨가 속도 17.3부/hr로 반응 용기 내에 연속적으로 첨가하며, 아크릴 수지의 농도가 35%가 된 시점에서 아세트산에틸의 첨가를 멈추고, 또한 아세트산에틸의 첨가 개시로부터 12시간 경과할 때까지 이 온도에서 보온하였다. 마지막으로 아세트산에틸을 첨가하여 아크릴 수지의 농도가 20%가 되도록 조절하여, 아크릴 수지의 아세트산에틸 용액을 조제하였다. 얻어진 아크릴 수지는, GPC에 의한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 Mw가 147만, Mw/Mn이 5.5였다. 이것을 아크릴 수지(A1)로 한다. 또한, 얻어진 아크릴 수지(A1)는 파장 300 ㎚∼780 ㎚의 범위에 있어서 극대 흡수를 나타내지 않았다.
(실시예 1): 점착제 조성물(1)의 제작
수지(A)로서의 아크릴 수지(A1)의 아세트산에틸 용액(수지 농도: 20%)의 고형분 100부에 대해, 가교제(F)(도소 가부시키가이샤 제조: 상품명 「코로네이트(Coronate) L」, 이소시아네이트계 화합물, 고형분 75%) 0.3부, 실란 화합물(G)(신에츠 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제조: 상품명 「KBM3066」) 0.28부, 라디칼 경화성 성분(E)(신나카무라 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제조: 상품명 「A-DPH-12E」, 6작용 (메트)아크릴레이트계 화합물) 10부, 개시제(D)(가부시키가이샤 ADEKA사 제조: 상품명 「NCI-730」, 옥심에스테르계 화합물인 광라디칼 발생제) 1.5부, 광선택 흡수 화합물(B)(후지 필름 가부시키가이샤 제조; 「FUV002B」) 2.5부, 광선택 흡수 화합물(C-1)(오츠카 가가쿠 가부시키가이샤 제조: 상품명 「RUVA-93」, 2-[2'-히드록시-5'-(메타크릴로일옥시에틸)페닐]벤조트리아졸) 10부를 혼합하고, 또한 고형분 농도가 14%가 되도록 아세트산에틸을 첨가하여 점착제 조성물(1)을 얻었다. 또한, 상기 가교제의 배합량은, 유효 성분으로서의 질량부수이다.
실시예 2∼5 및 비교예 1∼11
표 1 또는 표 2에 나타내는 바와 같이 각 성분 및 각 성분의 함유량을 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 점착제 조성물(2)∼점착제 조성물(16)을 제작하였다. 또한, 가교제의 배합량은 유효 성분으로서의 질량부수이고, 아크릴 수지(A1)는 고형분의 질량부수이다.
Figure pct00004
또한, 표 1에 있어서의 약어는 각각 이하에 기재된 것을 나타낸다. 또한, RUVA-93, SB107, SB707 및 EU-1990에 있어서의 ε(380), ε(420)은 전술한 방법과 동일한 방법으로 측정하였다.
<수지(A)>
아크릴 수지(A1): 중합예 1에서 제작한 아크릴 수지(A1)
<광선택 흡수 화합물(B)>
FUV-002B: 후지 필름 가부시키가이샤 제조, 상품명: FUV002B, 극대 흡수 파장 λmax=370 ㎚, ε(380)=108.9, ε(420)=0.2, ε(380)/ε(420)=544.5
<광선택 흡수 화합물(C-1)>
RUVA-93: 오츠카 가가쿠 가부시키가이샤 제조, 상품명: RUVA-93, ε(380)=1.5, ε(420)=0, 분자 내에 중합성 기와 벤조트리아졸 골격을 갖고, 또한 극대 흡수 파장(λmax)이 337 ㎚이다.
<개시제(D)>
NCI-730: 가부시키가이샤 ADEKA사 제조, 상품명: NCI-730, 옥심에스테르계 광라디칼 발생제
PBG3057: TRONLY(창저우 강력 전자 신재료사(중국))사 제조, 상품명: TR-PBG-3057, 옥심에스테르계 광라디칼 발생제
<라디칼성 경화성 성분(E)>
A-DPH-12E: 신나카무라 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제조, 상품명: A-DPH-12E, 6작용 (메트)아크릴레이트계 화합물
<가교제(F)>
코로네이트 L: 도소 가부시키가이샤 제조, 상품명: 코로네이트 L, 이소시아네이트계 가교제
<실란 화합물(G)>
KBM3066: 신에츠 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제조, 상품명: KBM3066, 실란 커플링제
<자외선 흡수제>
SB107: 시프로 가세이 가부시키가이샤 제조, 벤조페논계 자외선 흡수제, 상품명: SEESORB107, 극대 흡수 파장 λmax=350 ㎚, ε(380)=22.4, ε(420)=1.6, ε(380)/ε(420)=14.0
SB707: 시프로 가세이 가부시키가이샤 제조, 벤조트리아졸계 자외선 흡수제, 상품명: SEESORB707, 극대 흡수 파장 λmax=343 ㎚, ε(380)=5.8, ε(420)=0.
EU-1990: EUTEC사 제조, 상품명: EUSORB-1990, 극대 흡수 파장 λmax=373 ㎚, ε(380)=123.9, ε(420)=7.5, ε(380)/ε(420)=16.5
<점착제층의 제작>
상기에서 조제한 각 점착제 조성물을, 이형 처리가 실시된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 포함하는 세퍼레이트 필름〔린텍(주)에서 입수한 상품명 「PLR-382190」〕의 이형 처리면에, 어플리케이터를 이용하여 건조 후의 두께가 5 ㎛가 되도록 도포하고, 100℃에서 1분간 건조시켰다. 그 후, 세퍼레이트 필름측으로부터 자외선 조사 장치(퓨전 UV 시스템즈사 제조 「무전극 UV 램프 시스템 H 벌브」)를 이용하여 UV-A(파장 320∼390 ㎚)가 조도 500 ㎽, 적산 광량이 500 mJ이 되도록 조정하여, 자외선 조사함으로써 점착제층(점착제 시트)을 제작하였다.
<점착제층의 흡광도 측정>
얻어진 점착제층을 각각 유리에 접합하고, 세퍼레이트 필름을 박리한 후, 점착제층에 시클로올레핀 폴리머(COP) 필름(닛폰 제온 가부시키가이샤 제조 ZF-14)을 접합하여, COP 필름/점착제층/유리의 구성을 갖는 적층체를 제작하였다. 제작한 적층체를 분광 광도계 UV-2450(가부시키가이샤 시마즈 세이사쿠쇼 제조)에 세팅하고, 더블빔법에 의해 1 ㎚ 스텝 300∼800 ㎚의 파장 범위에서 흡광도를 측정하였다. 제작한 점착제층의 파장 300 ㎚에 있어서의 흡광도 A(300), 파장 330 ㎚에 있어서의 흡광도 A(330), 파장 350 ㎚에 있어서의 흡광도 A(350), 파장 380 ㎚에 있어서의 흡광도 A(380), 및 파장 420 ㎚에 있어서의 흡광도 A(420)을 표 2에 나타낸다. 또한, 파장 300 ㎚, 파장 330 ㎚, 파장 350 ㎚, 파장 380 ㎚ 및 파장 420 ㎚에 있어서의, 유리의 흡광도 및 COP 필름의 흡광도는 모두 0이다. 결과를 표 2에 나타낸다.
<점착제층의 내블리드성 평가>
얻어진 점착제층의 면에 또한 세퍼레이트 필름을 적층시켜 양면 세퍼레이트 필름 부착 점착제층을 얻었다. 얻어진 양면 세퍼레이트 필름 부착 점착제층을 23∼25℃의 공기하에서 1개월 보관하였다. 보관 후의 양면 세퍼레이트 필름 부착 점착제층을 현미경을 이용하여 면내의 화합물의 결정 석출 유무를 확인하였다. 결정 석출이 없으면 「○」로 하고, 결정 석출이 있으면 「×」로 하였다. 평가 결과를 표 2에 나타낸다.
Figure pct00005
실시예의 점착제 조성물은, 파장 300 ㎚, 파장 330 ㎚, 파장 350 ㎚ 및 파장 380 ㎚의 어느 곳에 있어서도 0.6 이상의 흡광도를 나타내고, 양호한 자외선 흡수제 성능을 나타내었다. 또한, 파장 420 ㎚에 있어서의 흡광도는 0.10 미만(보다 바람직하게는 0.01 미만)으로 높은 투과율을 나타내었다. 또한, 본 발명의 점착제 조성물은 결정의 석출이 없고 양호한 내블리드성을 나타내었다.
본 발명의 점착제 조성물로 형성되는 점착제층은, 파장 300 ㎚∼파장 380 ㎚ 부근에 대해 높은 흡광도를 나타내고, 한편 파장 420 ㎚의 광을 투과시키기 때문에, 표시 장치의 색채 표현을 저해하지 않고 양호한 자외선 흡수 성능을 갖는다. 또한, 내블리드성도 양호하다.
본 발명의 점착제 조성물로 형성되는 점착제층은, 두께가 12 ㎛ 미만의 얇은 층이어도, 충분한 자외선 흡수 성능을 갖고, 또한 양호한 내블리드성을 갖는다.
본 발명의 점착제 조성물, 및 상기 점착제 조성물로 형성되는 점착제층을 포함하는 점착제층 부착 광학 필름은, 액정 패널 및 액정 표시 장치에 적합하게 이용된다.
1: 본 발명의 점착제 조성물로 형성된 점착제층
1a: 점착제층
2: 박리 필름
10: 적층체
10A, 10B: 점착제층 부착 광학 필름
10C, 10D: 광학 적층체
3, 6: 보호 필름
4, 7: 접착제층
5: 편광 필름
8: 위상차 필름
30: 발광 소자
40: 광학 필름
70, 50a: 1/4 파장 위상차층
60: 접착제층 또는 점착제층
50: 1/2 파장 위상차층
80: 포지티브 C층
100: 편광판
110: 위상차 필름

Claims (19)

  1. 수지(A),
    파장 360 ㎚ 이상에 극대 흡수를 나타내고, 또한, 하기 식 (1) 및 식 (2)를 만족시키는 광선택 흡수 화합물(B), 및
    분자 내에 중합성 기를 갖고, 또한 파장 300 ㎚ 이상 파장 360 ㎚ 미만에 극대 흡수를 나타내는 단량체(C-1) 및 파장 300 ㎚ 이상 파장 360 ㎚ 미만에 극대 흡수를 나타내는 수지(C-2)에서 선택되는 적어도 하나
    를 포함하는 점착제 조성물.
    ε(380)≥25 (1)
    ε(380)/ε(420)≥20 (2)
    [식 (1) 및 (2) 중, ε(380)은, 광선택 흡수 화합물(B)의 파장 380 ㎚에 있어서의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(420)은, 광선택 흡수 화합물(B)의 파장 420 ㎚에 있어서의 그램 흡광 계수를 나타낸다. 그램 흡광 계수의 단위는 L/(g·㎝)이다.]
  2. 제1항에 있어서, 개시제(D)를 더 포함하는 점착제 조성물.
  3. 제2항에 있어서, 개시제(D)가 라디칼 발생제인 점착제 조성물.
  4. 제2항 또는 제3항에 있어서, 개시제(D)가 광라디칼 발생제인 점착제 조성물.
  5. 제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 개시제(D)가 옥심에스테르계 광라디칼 발생제인 점착제 조성물.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 라디칼 경화성 성분(E)을 더 포함하는 점착제 조성물.
  7. 제6항에 있어서, 라디칼 경화성 성분(E)이, (메트)아크릴레이트계 화합물을 포함하는 점착제 조성물.
  8. 제6항 또는 제7항에 있어서, 라디칼 경화성 성분(E)이, 다작용 (메트)아크릴레이트계 화합물을 포함하는 점착제 조성물.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 가교제(F)를 더 포함하는 점착제 조성물.
  10. 제9항에 있어서, 가교제(F)가, 이소시아네이트계 가교제인 점착제 조성물.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 수지(A)의 유리 전이 온도가 40℃ 이하인 점착제 조성물.
  12. 제11항에 있어서, 유리 전이 온도가 40℃ 이하인 수지(A)가, (메트)아크릴계 수지인 점착제 조성물.
  13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 기재된 점착제 조성물로 형성되는 점착제층.
  14. 제13항에 있어서, 하기 식 (3)을 만족시키는 점착제층.
    A(380)≥0.6 (3)
    [식 (3) 중, A(380)은 파장 380 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타낸다.]
  15. 제14항에 있어서, 또한, 하기 식 (4)를 만족시키는 점착제층.
    A(380)/A(420)≥5 (4)
    [식 (4) 중, A(380)은 파장 380 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타내고, A(420)은 파장 420 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타낸다.]
  16. 제13항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 점착제층의 막 두께가 10 ㎛ 이하인 점착제층.
  17. 제13항 내지 제16항 중 어느 한 항에 기재된 점착제층의 적어도 한쪽 면에 광학 필름이 적층된 점착제층 부착 광학 필름.
  18. 제17항에 있어서, 광학 필름이 편광판인 점착제층 부착 광학 필름.
  19. 제17항 또는 제18항에 기재된 점착제층 부착 광학 필름을 포함하는 화상 표시 장치.
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