KR20220082009A - adhesive composition - Google Patents

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KR20220082009A
KR20220082009A KR1020227014965A KR20227014965A KR20220082009A KR 20220082009 A KR20220082009 A KR 20220082009A KR 1020227014965 A KR1020227014965 A KR 1020227014965A KR 20227014965 A KR20227014965 A KR 20227014965A KR 20220082009 A KR20220082009 A KR 20220082009A
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유지 아사츠
유키 니시카미
고우지 구몬
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스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
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Abstract

[과제] 막 두께를 얇게 했다고 해도 충분한 자외선 흡수 성능을 갖고, 또한, 블리드 아웃의 발생이 적으며, 파장 420 ㎚ 부근의 가시광의 흡수가 적은 점착제층 및 상기 점착제층을 형성하기 위한 점착제 조성물을 제공한다.
[해결수단] 수지(A), 파장 360 ㎚ 이상에 극대 흡수를 나타내고, 또한, 하기 식 (1) 및 식 (2)를 만족시키는 광선택 흡수 화합물(B), 및 분자 내에 중합성 기를 갖고, 또한 파장 300 ㎚ 이상 파장 360 ㎚ 미만에 극대 흡수를 나타내는 단량체(C-1) 및 파장 300 ㎚ 이상 파장 360 ㎚ 미만에 극대 흡수를 나타내는 수지(C-2)에서 선택되는 적어도 하나를 포함하는 점착제 조성물.
ε(380)≥25 (1)
ε(380)/ε(420)≥20 (2)
[식 (1) 및 (2) 중, ε(380)은, 광선택 흡수 화합물(B)의 파장 380 ㎚에 있어서의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(420)은, 광선택 흡수 화합물(B)의 파장 420 ㎚에 있어서의 그램 흡광 계수를 나타낸다. 그램 흡광 계수의 단위는 L/(g·㎝)이다.][Problem] To provide a pressure-sensitive adhesive layer having sufficient ultraviolet absorption performance even when the film thickness is made thin, and less occurrence of bleed-out, and less absorption of visible light near a wavelength of 420 nm, and a pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer do.
[Solutions] Resin (A), a photoselective absorption compound (B) that exhibits maximum absorption at a wavelength of 360 nm or more, and satisfies the following formulas (1) and (2), and a polymerizable group in the molecule, In addition, a pressure-sensitive adhesive composition comprising at least one selected from a monomer (C-1) exhibiting maximum absorption at a wavelength of 300 nm or more and less than 360 nm and a resin (C-2) exhibiting a maximum absorption at a wavelength of 300 nm or more and less than 360 nm .
ε(380)≥25 (1)
ε(380)/ε(420)≥20 (2)
[In formulas (1) and (2), ε(380) represents the gram extinction coefficient at a wavelength of 380 nm of the photoselective absorption compound (B), and ε(420) denotes the photoselective absorption compound (B) shows the gram extinction coefficient at a wavelength of 420 nm. The unit of the gram extinction coefficient is L/(g·cm).]

Description

점착제 조성물adhesive composition

본 발명은 점착제 조성물, 상기 점착제 조성물로 형성되는 점착제층 및 상기 점착제층을 적층한 광학 적층체에 관한 것이다.The present invention relates to a pressure-sensitive adhesive composition, a pressure-sensitive adhesive layer formed of the pressure-sensitive adhesive composition, and an optical laminate in which the pressure-sensitive adhesive layer is laminated.

유기 일렉트로루미네선스 디스플레이(유기 EL 표시 장치)나 액정 표시 장치 등의 표시 장치(FPD: 플랫 패널 디스플레이)에는, 유기 EL 소자, 액정 셀 등의 표시 소자나 편광판 등의 광학 필름 등 여러 가지 부재가 이용되고 있다. 이들 부재 중에서도 유기 EL 소자나 액정 셀에 사용되는 액정 화합물에는, 내후성이 비교적 약한 화합물이 이용되는 경우가 많기 때문에, 자외선(UV)에 의한 열화가 문제가 되기 쉬웠다. 이러한 문제를 해결하기 위해서, 특허문헌 1에는, 아크릴계 수지, 트리아진계 자외선 흡수제를 포함하는 자외선 흡수성(차폐성) 점착제 조성물이 기재되어 있고, 상기 점착제 조성물로 형성된 두께 15 ㎛의 점착제층도 기재되어 있다.In a display device (FPD: flat panel display) such as an organic electroluminescent display (organic EL display device) and a liquid crystal display device, various members such as an organic EL device, a display device such as a liquid crystal cell, and an optical film such as a polarizing plate are included. is being used Among these members, since a compound with comparatively weak weather resistance is often used for the liquid crystal compound used for an organic electroluminescent element or a liquid crystal cell, deterioration by ultraviolet-ray (UV) tended to become a problem. In order to solve this problem, Patent Document 1 discloses a UV-absorbing (shielding) pressure-sensitive adhesive composition containing an acrylic resin and a triazine-based UV absorber, and a pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 15 µm formed from the pressure-sensitive adhesive composition is also described.

특허문헌 1: 일본 특허 공개 제2008-248131호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Laid-Open No. 2008-248131

최근, 유기 EL 표시 장치나 액정 표시 장치는 현저한 박막화가 요구되고 있고, 유기 EL 표시 장치나 액정 표시 장치에 사용되는 부재도 현저한 박막화가 요구되고 있다. 그 때문에, 자외선 흡수성(차폐성) 점착제층 자체에도 박막화가 요구되고 있다. 그러나, 자외선 흡수성(차폐성) 점착제층을 단순히 박막화(예컨대 12 ㎛ 미만)하면, 점착제층의 자외선 흡수 성능이 저하된다. 한편, 자외선 흡수 성능을 유지하면서 점착제층을 박막화하고자 하여 자외선 흡수제의 첨가량을 증가시키면, 자외선 흡수제의 블리드 아웃이나 파장 420 ㎚ 이상의 가시광의 흡수에 의한 착색의 문제가 발생해 버린다.In recent years, remarkable thin film formation is calculated|required for an organic electroluminescent display device and a liquid crystal display device, and remarkable thin film formation is calculated|required also for the member used for an organic electroluminescent display device or a liquid crystal display device. Therefore, thin film formation is calculated|required also for the ultraviolet-absorbing (shielding property) adhesive layer itself. However, if the ultraviolet-absorbing (shielding) pressure-sensitive adhesive layer is simply thinned (for example, less than 12 µm), the ultraviolet-absorbing performance of the pressure-sensitive adhesive layer is lowered. On the other hand, if the addition amount of the ultraviolet absorber is increased to thin the pressure-sensitive adhesive layer while maintaining the ultraviolet absorption performance, problems of bleed-out of the ultraviolet absorber or coloration due to absorption of visible light having a wavelength of 420 nm or more occur.

본 발명은 이하의 발명을 포함한다.The present invention includes the following inventions.

[1] 수지(A),[1] Resin (A),

파장 360 ㎚ 이상에 극대 흡수를 나타내고, 또한, 하기 식 (1) 및 식 (2)를 만족시키는 광선택 흡수 화합물(B), 및A photoselective absorption compound (B) that exhibits maximum absorption at a wavelength of 360 nm or more and satisfies the following formulas (1) and (2), and

분자 내에 중합성 기를 갖고, 또한 파장 300 ㎚ 이상 파장 360 ㎚ 미만에 극대 흡수를 나타내는 단량체(C-1) 및 파장 300 ㎚ 이상 파장 360 ㎚ 미만에 극대 흡수를 나타내는 수지(C-2)에서 선택되는 적어도 하나It has a polymerizable group in the molecule and is selected from a monomer (C-1) that has a maximum absorption at a wavelength of 300 nm or more and less than 360 nm and a resin (C-2) that shows a maximum absorption at a wavelength of 300 nm or more and less than 360 nm. at least one

를 포함하는 점착제 조성물.A pressure-sensitive adhesive composition comprising a.

ε(380)≥25 (1)ε(380)≥25 (One)

ε(380)/ε(420)≥20 (2)ε(380)/ε(420)≥20 (2)

[식 (1) 및 (2) 중, ε(380)은, 광선택 흡수 화합물(B)의 파장 380 ㎚에 있어서의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(420)은, 광선택 흡수 화합물(B)의 파장 420 ㎚에 있어서의 그램 흡광 계수를 나타낸다. 그램 흡광 계수의 단위는 L/(g·㎝)이다.][In formulas (1) and (2), ε(380) represents the gram extinction coefficient at a wavelength of 380 nm of the photoselective absorption compound (B), and ε(420) denotes the photoselective absorption compound (B) shows the gram extinction coefficient at a wavelength of 420 nm. The unit of the gram extinction coefficient is L/(g·cm).]

[2] 개시제(D)를 더 포함하는 [1]에 기재된 점착제 조성물.[2] The pressure-sensitive adhesive composition according to [1], further comprising an initiator (D).

[3] 개시제(D)가 라디칼 발생제인 [2]에 기재된 점착제 조성물.[3] The pressure-sensitive adhesive composition according to [2], wherein the initiator (D) is a radical generator.

[4] 개시제(D)가 광라디칼 발생제인 [2] 또는 [3]에 기재된 점착제 조성물.[4] The pressure-sensitive adhesive composition according to [2] or [3], wherein the initiator (D) is a photo-radical generator.

[5] 개시제(D)가 옥심에스테르계 광라디칼 발생제인 [2]∼[4] 중 어느 하나에 기재된 점착제 조성물.[5] The pressure-sensitive adhesive composition according to any one of [2] to [4], wherein the initiator (D) is an oxime ester-based photoradical generator.

[6] 라디칼 경화성 성분(E)을 더 포함하는 [1]∼[5] 중 어느 하나에 기재된 점착제 조성물.[6] The pressure-sensitive adhesive composition according to any one of [1] to [5], further comprising a radical curable component (E).

[7] 라디칼 경화성 성분(E)이, (메트)아크릴레이트계 화합물을 포함하는 [6]에 기재된 점착제 조성물.[7] The pressure-sensitive adhesive composition according to [6], wherein the radical curable component (E) contains a (meth)acrylate-based compound.

[8] 라디칼 경화성 성분(E)이, 다작용 (메트)아크릴레이트계 화합물을 포함하는 [6] 또는 [7]에 기재된 점착제 조성물.[8] The pressure-sensitive adhesive composition according to [6] or [7], wherein the radical curable component (E) contains a polyfunctional (meth)acrylate-based compound.

[9] 가교제(F)를 더 포함하는 [1]∼[8] 중 어느 하나에 기재된 점착제 조성물.[9] The pressure-sensitive adhesive composition according to any one of [1] to [8], further comprising a crosslinking agent (F).

[10] 가교제(F)가, 이소시아네이트계 가교제인 [9]에 기재된 점착제 조성물.[10] The pressure-sensitive adhesive composition according to [9], wherein the crosslinking agent (F) is an isocyanate-based crosslinking agent.

[11] 수지(A)의 유리 전이 온도가 40℃ 이하인 [1]∼[10] 중 어느 하나에 기재된 점착제 조성물.[11] The pressure-sensitive adhesive composition according to any one of [1] to [10], wherein the resin (A) has a glass transition temperature of 40°C or less.

[12] 유리 전이 온도가 40℃ 이하인 수지(A)가, (메트)아크릴계 수지인 [11]에 기재된 점착제 조성물.[12] The pressure-sensitive adhesive composition according to [11], wherein the resin (A) having a glass transition temperature of 40°C or less is a (meth)acrylic resin.

[13] [1]∼[12] 중 어느 하나에 기재된 점착제 조성물로 형성되는 점착제층.[13] A pressure-sensitive adhesive layer formed of the pressure-sensitive adhesive composition according to any one of [1] to [12].

[14] 하기 식 (3)을 만족시키는 [13]에 기재된 점착제층.[14] The pressure-sensitive adhesive layer according to [13], which satisfies the following formula (3).

A(380)≥0.6 (3)A(380)≥0.6 (3)

[식 (3) 중, A(380)은 파장 380 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타낸다.][In formula (3), A (380) represents the absorbance at a wavelength of 380 nm.]

[15] 또한, 하기 식 (4)를 만족시키는 [14]에 기재된 점착제층.[15] The pressure-sensitive adhesive layer according to [14], which further satisfies the following formula (4).

A(380)/A(420)≥5 (4)A(380)/A(420)≥5 (4)

[식 (4) 중, A(380)은 파장 380 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타내고, A(420)은 파장 420 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타낸다.][In formula (4), A (380) represents the absorbance at a wavelength of 380 nm, and A (420) represents the absorbance at a wavelength of 420 nm.]

[16] 점착제층의 막 두께가 10 ㎛ 이하인 [13]∼[15] 중 어느 하나에 기재된 점착제층.[16] The pressure-sensitive adhesive layer according to any one of [13] to [15], wherein the pressure-sensitive adhesive layer has a thickness of 10 µm or less.

[17] [13]∼[16] 중 어느 하나에 기재된 점착제층의 적어도 한쪽 면에 광학 필름이 적층된 점착제층 부착 광학 필름.[17] An optical film with an adhesive layer in which an optical film is laminated on at least one surface of the adhesive layer according to any one of [13] to [16].

[18] 광학 필름이 편광판인 [17]에 기재된 점착제층 부착 광학 필름.[18] The optical film with an adhesive layer according to [17], wherein the optical film is a polarizing plate.

[19] [17] 또는 [18]에 기재된 점착제층 부착 광학 필름을 포함하는 화상 표시 장치.[19] An image display device comprising the optical film with an adhesive layer according to [17] or [18].

본 발명은 막 두께를 얇게(예컨대 12 ㎛ 미만) 했다고 해도 충분한 자외선 흡수 성능을 갖고, 또한, 블리드 아웃의 발생이 적으며, 파장 420 ㎚ 부근의 가시광의 흡수가 적은 점착제층 및 상기 점착제층을 형성하기 위한 점착제 조성물을 제공한다.In the present invention, even when the film thickness is made thin (for example, less than 12 µm), the pressure-sensitive adhesive layer and the pressure-sensitive adhesive layer having sufficient ultraviolet absorption performance, and less occurrence of bleed-out and less absorption of visible light near a wavelength of 420 nm, are formed. It provides a pressure-sensitive adhesive composition for.

[도 1]은 본 발명의 점착제층에 박리 필름이 형성된 적층체의 층 구성의 일례를 도시한다.
[도 2]는 본 발명의 점착제층 부착 광학 필름의 층 구성의 일례를 도시한다.
[도 3]은 본 발명의 점착제층 부착 광학 필름의 층 구성의 일례를 도시한다.
[도 4]는 본 발명의 광학 적층체의 층 구성의 일례를 도시한다.
[도 5]는 본 발명의 광학 적층체의 층 구성의 일례를 도시한다.Fig. 1 shows an example of the layer structure of a laminate in which a release film is formed in the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention.
2 shows an example of the laminated constitution of the optical film with an adhesive layer of this invention.
3 : shows an example of the laminated constitution of the optical film with an adhesive layer of this invention.
[Fig. 4] shows an example of the layer configuration of the optical laminate of the present invention.
Fig. 5 shows an example of the layer configuration of the optical laminate of the present invention.

<점착제 조성물><Adhesive composition>

본 발명의 점착제 조성물은, 이하의 (Z-1)∼(Z-3)을 포함한다.The adhesive composition of this invention contains the following (Z-1) - (Z-3).

(Z-1): 수지(A)(Z-1): Resin (A)

(Z-2): 파장 360 ㎚ 이상에 극대 흡수를 나타내고, 또한, 하기 식 (1) 및 식 (2)를 만족시키는 광선택 흡수 화합물(B)(이하, 광선택 흡수 화합물(B)이라고 하는 경우가 있다.)(Z-2): a photoselective absorption compound (B) that exhibits maximum absorption at a wavelength of 360 nm or more and satisfies the following formulas (1) and (2) (hereinafter referred to as a photoselective absorption compound (B)) There are cases.)

(Z-3): 분자 내에 중합성 기를 갖고, 또한 파장 300 ㎚ 이상 파장 360 ㎚ 미만에 극대 흡수를 나타내는 단량체(C-1)(이하, 광선택 흡수 화합물(C-1)이라고 하는 경우가 있다.) 및(Z-3): Monomer (C-1) having a polymerizable group in the molecule and exhibiting maximum absorption at a wavelength of 300 nm or more and less than 360 nm (hereinafter sometimes referred to as a photoselective absorption compound (C-1)) .) and

파장 300 ㎚ 이상 파장 360 ㎚ 미만에 극대 흡수를 나타내는 수지(C-2)(이하, 광선택 흡수 수지(C-2)라고 하는 경우가 있다.)에서 선택되는 적어도 하나At least one selected from the group consisting of a resin (C-2) (hereinafter sometimes referred to as a photoselective absorption resin (C-2)) exhibiting maximum absorption at a wavelength of 300 nm or more and less than 360 nm.

<수지(A)><Resin (A)>

본 발명의 수지(A)는, 점착제 조성물에 사용되는 수지이면 특별히 한정되지 않는다.Resin (A) of this invention will not be specifically limited if it is resin used for an adhesive composition.

수지(A)는, 유리 전이 온도(Tg)가 40℃ 이하인 수지인 것이 바람직하다. 수지(A)의 유리 전이 온도(Tg)는, 20℃ 이하인 것이 보다 바람직하고, 10℃ 이하인 것이 더욱 바람직하며, 0℃ 이하인 것이 특히 바람직하다. 또한, 수지(A)의 유리 전이 온도는 통상 -80℃ 이상이고, -70℃ 이상인 것이 바람직하며, -60℃ 이상인 것이 보다 바람직하고, -55℃ 이상인 것이 더욱 바람직하며, -50℃ 이상인 것이 특히 바람직하다. 수지(A)의 유리 전이 온도가 40℃ 이하이면, 수지(A)를 포함하는 점착제 조성물로 형성되는 점착제층의 피착체에 대한 밀착성의 향상에 유리하다. 또한, 수지(A)의 유리 전이 온도가 -80℃ 이상이면, 수지(A)를 포함하는 점착제 조성물로 형성되는 점착제층의 내구성의 향상에 유리하다. 또한, 유리 전이 온도는 시차 주사 열량계(DSC)에 의해 측정할 수 있다.It is preferable that resin (A) is resin whose glass transition temperature (Tg) is 40 degrees C or less. As for the glass transition temperature (Tg) of resin (A), it is more preferable that it is 20 degrees C or less, It is still more preferable that it is 10 degrees C or less, It is especially preferable that it is 0 degrees C or less. The glass transition temperature of the resin (A) is usually -80°C or higher, preferably -70°C or higher, more preferably -60°C or higher, still more preferably -55°C or higher, and particularly preferably -50°C or higher. desirable. It is advantageous for the improvement of the adhesiveness with respect to the to-be-adhered body of the adhesive layer formed from the adhesive composition containing resin (A) as the glass transition temperature of resin (A) is 40 degrees C or less. Moreover, it is advantageous for the improvement of durability of the adhesive layer formed from the adhesive composition containing resin (A) as the glass transition temperature of resin (A) is -80 degreeC or more. In addition, the glass transition temperature can be measured by differential scanning calorimetry (DSC).

또한, 수지(A)는 파장 300 ㎚∼파장 780 ㎚ 사이에 극대 흡수를 나타내지 않는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the resin (A) does not show maximum absorption between a wavelength of 300 nm and a wavelength of 780 nm.

수지(A)로서는, (메트)아크릴계 수지, 실리콘계 수지, 고무계 수지, 우레탄계 수지 등을 들 수 있고, (메트)아크릴계 수지인 것이 바람직하다.As resin (A), (meth)acrylic-type resin, silicone resin, rubber-type resin, urethane-type resin, etc. are mentioned, It is preferable that it is (meth)acrylic-type resin.

(메트)아크릴계 수지로서는, (메트)아크릴산에스테르 유래의 구조 단위를 주성분(바람직하게는 50 질량% 이상 포함함)으로 하는 중합체인 것이 바람직하다. (메트)아크릴산에스테르에서 유래하는 구조 단위는, 1종 이상의 (메트)아크릴산에스테르 이외의 단량체에서 유래하는 구조 단위(예컨대, 극성 작용기를 갖는 단량체에서 유래하는 구조 단위)를 포함해도 좋다. 또한 본 명세서에 있어서, (메트)아크릴산이란, 아크릴산 또는 메타크릴산의 어느 것이어도 좋은 것을 의미하고, 그 외에, (메트)아크릴레이트 등이라고 할 때의 「(메트)」도 동일한 취지이다.As (meth)acrylic resin, it is preferable that it is a polymer which has the structural unit derived from (meth)acrylic acid ester as a main component (preferably 50 mass % or more is included). The structural unit derived from (meth)acrylic acid ester may include a structural unit derived from a monomer other than one or more (meth)acrylic acid esters (eg, a structural unit derived from a monomer having a polar functional group). In addition, in this specification, (meth)acrylic acid means that either acrylic acid or methacrylic acid may be sufficient, and "(meth)" at the time of calling (meth)acrylate etc. in addition is the same meaning.

(메트)아크릴산에스테르로서는, 하기 식 (a)로 나타나는 (메트)아크릴산에스테르를 들 수 있다.As (meth)acrylic acid ester, (meth)acrylic acid ester represented by a following formula (a) is mentioned.

Figure pct00001
Figure pct00001

[식 (a) 중, R1A는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R2A는 탄소수 1∼14의 알킬기, 또는 탄소수 6∼20의 방향족 탄화수소기를 나타내며, 상기 알킬기 및 상기 방향족 탄화수소기의 수소 원자는, 탄소수 1∼10의 알콕시기로 치환되어 있어도 좋다.][In formula (a), R 1A represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2A represents an alkyl group having 1 to 14 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, and the hydrogen atom of the alkyl group and the aromatic hydrocarbon group is, It may be substituted with an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms.]

식 (a)에 있어서, R2A는, 바람직하게는, 탄소수 1∼14의 알킬기이고, 보다 바람직하게는, 탄소수 1∼8의 알킬기이다.In the formula (a), R 2A is preferably an alkyl group having 1 to 14 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.

식 (a)로 나타나는 (메트)아크릴산에스테르로서는,As (meth)acrylic acid ester represented by Formula (a),

(메트)아크릴산메틸, (메트)아크릴산에틸, (메트)아크릴산 n-프로필, (메트)아크릴산 n-부틸, (메트)아크릴산 n-펜틸, (메트)아크릴산 n-헥실, (메트)아크릴산 n-헵틸, (메트)아크릴산 n-옥틸, (메트)아크릴산 n-노닐, (메트)아크릴산 n-데실, (메트)아크릴산 n-도데실, (메트)아크릴산라우릴, (메트)아크릴산스테아릴 등의 (메트)아크릴산의 직쇄상(直鎖狀) 알킬에스테르; (meth)methyl acrylate, (meth)ethyl acrylate, (meth)acrylic acid n-propyl, (meth)acrylic acid n-butyl, (meth)acrylic acid n-pentyl, (meth)acrylic acid n-hexyl, (meth)acrylic acid n- Heptyl, (meth)acrylic acid n-octyl, (meth)acrylic acid n-nonyl, (meth)acrylic acid n-decyl, (meth)acrylic acid n-dodecyl, (meth)acrylic acid lauryl, (meth)acrylic acid stearyl, etc. linear alkyl esters of (meth)acrylic acid;

(메트)아크릴산 i-프로필, (메트)아크릴산 i-부틸, (메트)아크릴산 t-부틸, (메트)아크릴산 i-펜틸, (메트)아크릴산 i-헥실, (메트)아크릴산 2-에틸헥실, (메트)아크릴산 i-옥틸, (메트)아크릴산 i-노닐, (메트)아크릴산 i-스테아릴, (메트)아크릴산 i-아밀 등의 (메트)아크릴산의 분지상(分枝狀) 알킬에스테르; (meth)acrylic acid i-propyl, (meth)acrylic acid i-butyl, (meth)acrylic acid t-butyl, (meth)acrylic acid i-pentyl, (meth)acrylic acid i-hexyl, (meth)acrylic acid 2-ethylhexyl, ( Branched alkyl esters of (meth)acrylic acid, such as i-octyl meth)acrylic acid, i-nonyl (meth)acrylic acid, i-stearyl (meth)acrylic acid, and i-amyl (meth)acrylic acid;

(메트)아크릴산시클로헥실, (메트)아크릴산이소보로닐, (메트)아크릴산아다만틸, (메트)아크릴산디시클로펜타닐, (메트)아크릴산시클로도데실, (메트)아크릴산메틸시클로헥실, (메트)아크릴산트리메틸시클로헥실, (메트)아크릴산 tert-부틸시클로헥실, α-에톡시아크릴산시클로헥실 등의 (메트)아크릴산의 지환 골격 함유 알킬에스테르; (meth)acrylic acid cyclohexyl, (meth)acrylic acid isoboronyl, (meth)acrylic acid adamantyl, (meth)acrylic acid dicyclopentanyl, (meth)acrylic acid cyclododecyl, (meth)acrylic acid methylcyclohexyl, (meth) alicyclic skeleton-containing alkyl esters of (meth)acrylic acid such as trimethylcyclohexyl acrylate, tert-butylcyclohexyl (meth)acrylic acid, and cyclohexyl α-ethoxyacrylic acid;

(메트)아크릴산페닐, (메트)아크릴산벤질 등의 (메트)아크릴산의 방향환 골격 함유 에스테르; Aromatic ring skeleton containing ester of (meth)acrylic acid, such as (meth)acrylic-acid phenyl and (meth)acrylic-acid benzyl;

등을 들 수 있다.and the like.

또한, 치환기 함유 (메트)아크릴산에스테르로서는, (메트)아크릴산 2-메톡시에틸, (메트)아크릴산에톡시메틸, (메트)아크릴산페녹시에틸, (메트)아크릴산 2-(2-페녹시에톡시)에틸 등을 들 수 있다.In addition, as the substituent-containing (meth)acrylic acid ester, (meth)acrylic acid 2-methoxyethyl, (meth)acrylic acid ethoxymethyl, (meth)acrylic acid phenoxyethyl, (meth)acrylic acid 2-(2-phenoxyethoxy) ) ethyl and the like.

(메트)아크릴산에스테르로서는, (메트)아크릴산페녹시디에틸렌글리콜, (메트)아크릴산페녹시폴리(에틸렌글리콜) 등도 들 수 있다.As (meth)acrylic acid ester, (meth)acrylic acid phenoxydiethylene glycol, (meth)acrylic acid phenoxypoly(ethylene glycol), etc. are mentioned.

이들 (메트)아크릴산에스테르는, 각각 단독으로 이용할 수 있는 것 외에, 상이한 복수의 것을 이용해도 좋다.These (meth)acrylic acid esters can be used independently, respectively, and may use a different some plurality.

본 발명의 수지(A)는, (메트)아크릴산알킬에스테르 중에서도 호모폴리머의 유리 전이 온도 Tg가 0℃ 미만인 (메트)아크릴산알킬에스테르(a1) 유래의 구조 단위, 및 호모폴리머의 Tg가 0℃ 이상인 (메트)아크릴산알킬에스테르(a2) 유래의 구조 단위를 함유하는 것이 바람직하다. 이것은, 점착제층의 고온 내구성을 높이는 데 있어서 유리하다. (메트)아크릴산알킬에스테르의 호모폴리머의 Tg는, 예컨대 POLYMER HANDBOOK(Wiley-Interscience) 등의 문헌값을 채용할 수 있다.The resin (A) of the present invention has a structural unit derived from the (meth)acrylic acid alkylester (a1) whose glass transition temperature Tg of the homopolymer is less than 0°C among the (meth)acrylic acid alkylesters, and the homopolymer has a Tg of 0°C or higher. It is preferable to contain the structural unit derived from (meth)acrylic-acid alkylester (a2). This is advantageous in improving the high temperature durability of the pressure-sensitive adhesive layer. As for Tg of the homopolymer of (meth)acrylic acid alkylester, literature values, such as POLYMER HANDBOOK (Wiley-Interscience), can be employ|adopted, for example.

(메트)아크릴산알킬에스테르(a1)의 구체예는, 아크릴산에틸, 아크릴산 n- 및 i-프로필, 아크릴산 n- 및 i-부틸, 아크릴산 n-펜틸, 아크릴산 n- 및 i-헥실, 아크릴산 n-헵틸, 아크릴산 n- 및 i-옥틸, 아크릴산 2-에틸헥실, 아크릴산 n- 및 i-노닐, 아크릴산 n- 및 i-데실, 아크릴산 n-도데실 등의 알킬기의 탄소수가 2∼12 정도의 (메트)아크릴산알킬에스테르를 포함한다.Specific examples of (meth)acrylic acid alkyl ester (a1) include ethyl acrylate, n- and i-propyl acrylate, n- and i-butyl acrylate, n-pentyl acrylate, n- and i-hexyl acrylate, and n-heptyl acrylate , n- and i-octyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, n- and i-nonyl acrylate, n- and i-decyl acrylate, n-dodecyl acrylate, etc. (meth) having about 2 to 12 carbon atoms in the alkyl group Acrylic acid alkylester is included.

(메트)아크릴산알킬에스테르(a1)는, 1종만을 이용해도 좋고 2종 이상을 병용해도 좋다. 그 중에서도, 광학 필름에 적층했을 때의 추종성이나 리워크성의 관점에서, 아크릴산 n-부틸, 아크릴산 n-옥틸, 아크릴산 2-에틸헥실 등이 바람직하다.(meth)acrylic acid alkylester (a1) may use only 1 type, and may use 2 or more types together. Among them, n-butyl acrylate, n-octyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, and the like are preferred from the viewpoint of followability and reworkability when laminated on an optical film.

(메트)아크릴산알킬에스테르(a2)는, (메트)아크릴산알킬에스테르(a1) 이외의 (메트)아크릴산알킬에스테르이다. (메트)아크릴산알킬에스테르(a2)의 구체예는, 아크릴산메틸, 아크릴산시클로헥실, 아크릴산이소보로닐, 아크릴산스테아릴, 아크릴산 t-부틸 등을 포함한다.(meth)acrylic acid alkylester (a2) is (meth)acrylic acid alkylester other than (meth)acrylic acid alkylester (a1). Specific examples of the (meth)acrylic acid alkyl ester (a2) include methyl acrylate, cyclohexyl acrylate, isoboronyl acrylate, stearyl acrylate, and t-butyl acrylate.

(메트)아크릴산알킬에스테르(a2)는, 1종만을 이용해도 좋고 2종 이상을 병용해도 좋다. 그 중에서도, 고온 내구성의 관점에서, (메트)아크릴산알킬에스테르(a2)는, 아크릴산메틸, 아크릴산시클로헥실, 아크릴산이소보로닐 등을 포함하는 것이 바람직하고, 아크릴산메틸을 포함하는 것이 보다 바람직하다.(meth)acrylic acid alkylester (a2) may use only 1 type and may use 2 or more types together. Among them, from the viewpoint of high temperature durability, the (meth)acrylic acid alkylester (a2) preferably contains methyl acrylate, cyclohexyl acrylate, isoboronyl acrylate and the like, and more preferably contains methyl acrylate.

식 (a)로 나타나는 (메트)아크릴산에스테르에서 유래하는 구조 단위는, (메트)아크릴계 수지에 포함되는 전체 구조 단위 중, 50 질량% 이상인 것이 바람직하고, 60∼95 질량%인 것이 바람직하며, 65∼95 질량% 이상인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that the structural unit derived from the (meth)acrylic acid ester represented by Formula (a) is 50 mass % or more among all the structural units contained in (meth)acrylic-type resin, It is preferable that it is 60-95 mass %, 65 It is more preferable that it is -95 mass % or more.

(메트)아크릴산에스테르 이외의 단량체에서 유래하는 구조 단위로서는, 극성 작용기를 갖는 단량체에서 유래하는 구조 단위가 바람직하고, 극성 작용기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르에서 유래하는 구조 단위가 보다 바람직하다. 극성 작용기로서는, 히드록시기, 카르복실기, 치환 혹은 무치환 아미노기, 에폭시기 등의 복소환기 등을 들 수 있다.As the structural unit derived from a monomer other than (meth)acrylic acid ester, a structural unit derived from a monomer having a polar functional group is preferable, and a structural unit derived from a (meth)acrylic acid ester having a polar functional group is more preferable. Examples of the polar functional group include a hydroxy group, a carboxyl group, a substituted or unsubstituted amino group, and a heterocyclic group such as an epoxy group.

극성 작용기를 갖는 단량체로서는,As a monomer having a polar functional group,

(메트)아크릴산 1-히드록시메틸, (메트)아크릴산 1-히드록시에틸, (메트)아크릴산 1-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 1-히드록시부틸, (메트)아크릴산 1-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 2-히드록시에틸, (메트)아크릴산 2-히드록시프로필, (메트)아크릴산 2-히드록시부틸, (메트)아크릴산 2-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 2-히드록시헥실, (메트)아크릴산 3-히드록시프로필, (메트)아크릴산 3-히드록시부틸, (메트)아크릴산 3-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 3-히드록시헥실, (메트)아크릴산 3-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 4-히드록시부틸, (메트)아크릴산 4-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 4-히드록시헥실, (메트)아크릴산 4-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 4-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 2-클로로-2-히드록시프로필, (메트)아크릴산 3-클로로-2-히드록시프로필, (메트)아크릴산 2-히드록시-3-페녹시프로필, (메트)아크릴산 5-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 5-히드록시헥실, (메트)아크릴산 5-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 5-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 5-히드록시노닐, (메트)아크릴산 6-히드록시헥실, (메트)아크릴산 6-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 6-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 6-히드록시노닐, (메트)아크릴산 6-히드록시데실, (메트)아크릴산 7-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 7-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 7-히드록시노닐, (메트)아크릴산 7-히드록시데실, (메트)아크릴산 7-히드록시운데실, (메트)아크릴산 8-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 8-히드록시노닐, (메트)아크릴산 8-히드록시데실, (메트)아크릴산 8-히드록시운데실, (메트)아크릴산 8-히드록시도데실, (메트)아크릴산 9-히드록시노닐, (메트)아크릴산 9-히드록시데실, (메트)아크릴산 9-히드록시운데실, (메트)아크릴산 9-히드록시도데실, (메트)아크릴산 9-히드록시트리데실, (메트)아크릴산 10-히드록시데실, (메트)아크릴산 10-히드록시운데실, (메트)아크릴산 10-히드록시도데실, 아크릴산 10-히드록시트리데실, (메트)아크릴산 10-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 11-히드록시운데실, (메트)아크릴산 11-히드록시도데실, (메트)아크릴산 11-히드록시트리데실, (메트)아크릴산 11-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 11-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 12-히드록시도데실, (메트)아크릴산 12-히드록시트리데실, (메트)아크릴산 12-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 13-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 13-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 13-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 14-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 14-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 15-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 15-히드록시헵타데실 등의 히드록시기를 갖는 단량체; (meth)acrylic acid 1-hydroxymethyl, (meth)acrylic acid 1-hydroxyethyl, (meth)acrylic acid 1-hydroxyheptyl, (meth)acrylic acid 1-hydroxybutyl, (meth)acrylic acid 1-hydroxypentyl; (meth)acrylic acid 2-hydroxyethyl, (meth)acrylic acid 2-hydroxypropyl, (meth)acrylic acid 2-hydroxybutyl, (meth)acrylic acid 2-hydroxypentyl, (meth)acrylic acid 2-hydroxyhexyl; (meth)acrylic acid 3-hydroxypropyl, (meth)acrylic acid 3-hydroxybutyl, (meth)acrylic acid 3-hydroxypentyl, (meth)acrylic acid 3-hydroxyhexyl, (meth)acrylic acid 3-hydroxyheptyl; (meth)acrylic acid 4-hydroxybutyl, (meth)acrylic acid 4-hydroxypentyl, (meth)acrylic acid 4-hydroxyhexyl, (meth)acrylic acid 4-hydroxyheptyl, (meth)acrylic acid 4-hydroxyoctyl; (meth)acrylic acid 2-chloro-2-hydroxypropyl, (meth)acrylic acid 3-chloro-2-hydroxypropyl, (meth)acrylic acid 2-hydroxy-3-phenoxypropyl, (meth)acrylic acid 5-hydroxy Roxypentyl, (meth)acrylic acid 5-hydroxyhexyl, (meth)acrylic acid 5-hydroxyheptyl, (meth)acrylic acid 5-hydroxyoctyl, (meth)acrylic acid 5-hydroxynonyl, (meth)acrylic acid 6-hydroxy Hydroxyhexyl, (meth)acrylic acid 6-hydroxyheptyl, (meth)acrylic acid 6-hydroxyoctyl, (meth)acrylic acid 6-hydroxynonyl, (meth)acrylic acid 6-hydroxydecyl, (meth)acrylic acid 7-hydroxy Hydroxyheptyl, (meth)acrylic acid 7-hydroxyoctyl, (meth)acrylic acid 7-hydroxynonyl, (meth)acrylic acid 7-hydroxydecyl, (meth)acrylic acid 7-hydroxyundecyl, (meth)acrylic acid 8- Hydroxyoctyl, (meth)acrylic acid 8-hydroxynonyl, (meth)acrylic acid 8-hydroxydecyl, (meth)acrylic acid 8-hydroxyundecyl, (meth)acrylic acid 8-hydroxydodecyl, (meth)acrylic acid 9-hydroxynonyl, (meth)acrylic acid 9-hydroxydecyl, (meth)acrylic acid 9-hydroxyundecyl, (meth)acrylic acid 9-hydroxydodecyl, (meth)acrylic acid 9-hydroxytridecyl, ( meth)acrylic acid 10-hydroxydecyl, (meth)acrylic acid 10-hydroxyundecyl, (meth)acrylic acid 10-hydroxydo Decyl, acrylic acid 10-hydroxytridecyl, (meth)acrylic acid 10-hydroxytetradecyl, (meth)acrylic acid 11-hydroxyundecyl, (meth)acrylic acid 11-hydroxydodecyl, (meth)acrylic acid 11-hydroxy hydroxytridecyl, (meth)acrylic acid 11-hydroxytetradecyl, (meth)acrylic acid 11-hydroxypentadecyl, (meth)acrylic acid 12-hydroxydodecyl, (meth)acrylic acid 12-hydroxytridecyl, (meth)acrylic acid ) Acrylic acid 12-hydroxytetradecyl, (meth)acrylic acid 13-hydroxypentadecyl, (meth)acrylic acid 13-hydroxytetradecyl, (meth)acrylic acid 13-hydroxypentadecyl, (meth)acrylic acid 14-hydroxy Monomers having a hydroxyl group, such as tetradecyl, (meth)acrylic acid 14-hydroxypentadecyl, (meth)acrylic acid 15-hydroxypentadecyl, and (meth)acrylic acid 15-hydroxyheptadecyl;

(메트)아크릴산, 카르복시알킬(메트)아크릴레이트(예컨대, 카르복시에틸(메트)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메트)아크릴레이트), 말레산, 무수 말레산, 푸마르산, 크로톤산 등의 카르복실기를 갖는 단량체; Monomers having a carboxyl group, such as (meth)acrylic acid, carboxyalkyl (meth)acrylate (eg, carboxyethyl (meth)acrylate, carboxypentyl (meth)acrylate), maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, crotonic acid;

아크릴로일모르폴린, 비닐카프로락탐, N-비닐-2-피롤리돈, 비닐피리딘, 테트라히드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 테트라히드로푸르푸릴아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 2,5-디히드로푸란 등의 복소환기를 갖는 단량체; Acryloylmorpholine, vinylcaprolactam, N-vinyl-2-pyrrolidone, vinylpyridine, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, caprolactone-modified tetrahydrofurfuryl acrylate, 3,4-epoxycyclohexyl monomers having a heterocyclic group such as methyl (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, and 2,5-dihydrofuran;

아미노에틸(메트)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 디메틸아미노프로필(메트)아크릴레이트 등의 치환 혹은 무치환 아미노기를 갖는 단량체를 들 수 있다.and monomers having a substituted or unsubstituted amino group, such as aminoethyl (meth)acrylate, N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate, and dimethylaminopropyl (meth)acrylate.

그 중에서도, (메트)아크릴산에스테르 중합체와 가교제의 반응성의 점에서, 히드록시기를 갖는 단량체 및 카르복실기를 갖는 단량체가 바람직하고, 히드록시기를 갖는 단량체 및 카르복실기를 갖는 단량체의 모두를 포함하는 것이 보다 바람직하다.Among them, from the viewpoint of reactivity between the (meth)acrylic acid ester polymer and the crosslinking agent, a monomer having a hydroxyl group and a monomer having a carboxyl group are preferable, and it is more preferable to include both a monomer having a hydroxyl group and a monomer having a carboxyl group.

히드록시기를 갖는 단량체로서는, 아크릴산 2-히드록시에틸, 아크릴산 3-히드록시프로필, 아크릴산 4-히드록시부틸, 아크릴산 5-히드록시펜틸, 아크릴산 6-히드록시헥실이 바람직하다. 특히, 아크릴산 2-히드록시에틸, 아크릴산 4-히드록시부틸 및 아크릴산 5-히드록시펜틸을 이용함으로써 양호한 내구성을 얻을 수 있다.As the monomer having a hydroxyl group, 2-hydroxyethyl acrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, and 6-hydroxyhexyl acrylate are preferable. In particular, good durability can be obtained by using 2-hydroxyethyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate and 5-hydroxypentyl acrylate.

카르복실기를 갖는 단량체로서는, 아크릴산을 이용하는 것이 바람직하다.It is preferable to use acrylic acid as a monomer which has a carboxyl group.

점착제층의 외면에 적층할 수 있는 세퍼레이트 필름의 박리력 항진을 방지하는 관점에서, (메트)아크릴계 수지는, 아미노기를 갖는 단량체에서 유래하는 구조 단위를 실질적으로 포함하지 않는 것이 바람직하다. 여기서 실질적으로 포함하지 않는다란, (메트)아크릴계 수지를 구성하는 전체 구조 단위 100 질량부 중, 0.1 질량부 이하인 것을 말한다.From the viewpoint of preventing an increase in peeling force of a separate film that can be laminated on the outer surface of the pressure-sensitive adhesive layer, the (meth)acrylic resin preferably does not substantially contain a structural unit derived from a monomer having an amino group. Here, "not included substantially" means that it is 0.1 mass part or less in 100 mass parts of all structural units which comprise (meth)acrylic-type resin.

극성 작용기를 갖는 단량체에서 유래하는 구조 단위의 함유량은, (메트)아크릴계 수지의 전체 구조 단위 100 질량부에 대해, 바람직하게는 20 질량부 이하, 보다 바람직하게는, 0.5 질량부 이상 15 질량부 이하, 더욱 바람직하게는 0.5 질량부 이상 10 질량부 이하, 특히 바람직하게는 1 질량부 이상 7 질량부 이하이다.The content of the structural unit derived from the monomer having a polar functional group is preferably 20 parts by mass or less, more preferably 0.5 parts by mass or more and 15 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of all structural units of the (meth)acrylic resin. , More preferably, they are 0.5 mass part or more and 10 mass parts or less, Especially preferably, they are 1 mass part or more and 7 mass parts or less.

(메트)아크릴산에스테르 이외의 단량체에서 유래하는 구조 단위로서는, 방향족기를 갖는 단량체에서 유래하는 구조 단위도 들 수 있다. 방향족기를 갖는 단량체로서는, 분자 내에 1개의 (메트)아크릴로일기와 1개 이상의 방향환(예컨대, 벤젠환, 나프탈렌환 등)을 갖는 (메트)아크릴산에스테르를 들 수 있고, 예컨대, 페닐기, 페녹시에틸기, 또는 벤질기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르를 들 수 있다. 방향족기를 갖는 단량체에서 유래하는 구조 단위의 함유량은, (메트)아크릴계 수지의 전체 구조 단위 100 질량부에 대해, 바람직하게는 20 질량부 이하, 보다 바람직하게는 4 질량부 이상 20 질량부 이하, 더욱 바람직하게는 4 질량부 이상 16 질량부 이하이다.As a structural unit derived from monomers other than (meth)acrylic acid ester, the structural unit derived from the monomer which has an aromatic group is also mentioned. Examples of the monomer having an aromatic group include (meth)acrylic acid esters having one (meth)acryloyl group and one or more aromatic rings (eg, benzene ring, naphthalene ring, etc.) in the molecule, for example, phenyl group, phenoxy (meth)acrylic acid ester which has an ethyl group or a benzyl group is mentioned. The content of the structural unit derived from the monomer having an aromatic group is preferably 20 parts by mass or less, more preferably 4 parts by mass or more and 20 parts by mass or less, with respect to 100 parts by mass of all the structural units of the (meth)acrylic resin. Preferably they are 4 mass parts or more and 16 mass parts or less.

(메트)아크릴산에스테르 이외의 단량체에서 유래하는 구조 단위로서는, 스티렌계 단량체에서 유래하는 구조 단위, 비닐계 단량체에서 유래하는 구조 단위, 분자 내에 복수의 (메트)아크릴로일기를 갖는 단량체에서 유래하는 구조 단위, (메트)아크릴아미드계 단량체에서 유래하는 구조 단위 등도 들 수 있다.Examples of the structural unit derived from a monomer other than (meth)acrylic acid ester include a structural unit derived from a styrene-based monomer, a structural unit derived from a vinyl-based monomer, and a structure derived from a monomer having a plurality of (meth)acryloyl groups in the molecule. A unit, a structural unit derived from a (meth)acrylamide type monomer, etc. are mentioned.

스티렌계 단량체로서는, 스티렌; 메틸스티렌, 디메틸스티렌, 트리메틸스티렌, 에틸스티렌, 디에틸스티렌, 트리에틸스티렌, 프로필스티렌, 부틸스티렌, 헥실스티렌, 헵틸스티렌, 옥틸스티렌 등의 알킬스티렌; 플루오로스티렌, 클로로스티렌, 브로모스티렌, 디브로모스티렌, 요오드스티렌 등의 할로겐화스티렌; 니트로스티렌; 아세틸스티렌; 메톡시스티렌; 및 디비닐벤젠을 들 수 있다.Examples of the styrene-based monomer include styrene; alkyl styrenes such as methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, diethyl styrene, triethyl styrene, propyl styrene, butyl styrene, hexyl styrene, heptyl styrene, and octyl styrene; halogenated styrenes such as fluorostyrene, chlorostyrene, bromostyrene, dibromostyrene, and iodine styrene; nitrostyrene; acetyl styrene; methoxystyrene; and divinylbenzene.

비닐계 단량체로서는, 아세트산비닐, 프로피온산비닐, 부티르산비닐, 2-에틸헥산산비닐, 라우르산비닐 등의 지방산비닐에스테르; 염화비닐, 브롬화비닐 등의 할로겐화비닐; 염화비닐리덴 등의 할로겐화비닐리덴; 비닐피리딘, 비닐피롤리돈, 비닐카르바졸 등의 질소 함유 복소 방향족 비닐; 부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 공액 디엔; 및 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 불포화 니트릴을 들 수 있다.Examples of the vinyl-based monomer include fatty acid vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl 2-ethylhexanoate, and vinyl laurate; vinyl halides such as vinyl chloride and vinyl bromide; vinylidene halides such as vinylidene chloride; nitrogen-containing heteroaromatic vinyls such as vinylpyridine, vinylpyrrolidone and vinylcarbazole; conjugated dienes such as butadiene, isoprene and chloroprene; and unsaturated nitriles such as acrylonitrile and methacrylonitrile.

분자 내에 복수의 (메트)아크릴로일기를 갖는 단량체로서는, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 분자 내에 2개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 단량체; 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트 등의 분자 내에 3개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 단량체를 들 수 있다.Examples of the monomer having a plurality of (meth)acryloyl groups in the molecule include 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, 1,9-nonanedioldi(meth) Two (meth) in a molecule such as acrylate, ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, tetraethylene glycol di(meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate a monomer having an acryloyl group; The monomer which has three (meth)acryloyl groups in molecules, such as trimethylol propane tri(meth)acrylate, is mentioned.

(메트)아크릴아미드계 단량체로서는, N-메틸올(메트)아크릴아미드, N-(2-히드록시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(3-히드록시프로필)(메트)아크릴아미드, N-(4-히드록시부틸)(메트)아크릴아미드, N-(5-히드록시펜틸)(메트)아크릴아미드, N-(6-히드록시헥실)(메트)아크릴아미드, N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N,N-디에틸(메트)아크릴아미드, N-이소프로필(메트)아크릴아미드, N-(3-디메틸아미노프로필)(메트)아크릴아미드, N-(1,1-디메틸-3-옥소부틸)(메트)아크릴아미드, N-〔2-(2-옥소-1-이미다졸리디닐)에틸〕(메트)아크릴아미드, 2-아크릴로일아미노-2-메틸-1-프로판술폰산, N-(메톡시메틸)아크릴아미드, N-(에톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(프로폭시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(1-메틸에톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(1-메틸프로폭시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-메틸프로폭시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(부톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(1,1-디메틸에톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-메톡시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-에톡시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-프로폭시에틸)(메트)아크릴아미드, N-〔2-(1-메틸에톡시)에틸〕(메트)아크릴아미드, N-〔2-(1-메틸프로폭시)에틸〕(메트)아크릴아미드, N-〔2-(2-메틸프로폭시)에틸〕(메트)아크릴아미드, N-(2-부톡시에틸)(메트)아크릴아미드, N-〔2-(1,1-디메틸에톡시)에틸〕(메트)아크릴아미드 등을 들 수 있다. 그 중에서도, N-(메톡시메틸)아크릴아미드, N-(에톡시메틸)아크릴아미드, N-(프로폭시메틸)아크릴아미드, N-(부톡시메틸)아크릴아미드 및 N-(2-메틸프로폭시메틸)아크릴아미드가 바람직하다.As a (meth)acrylamide type monomer, N-methylol (meth)acrylamide, N-(2-hydroxyethyl) (meth)acrylamide, N-(3-hydroxypropyl) (meth)acrylamide, N -(4-hydroxybutyl)(meth)acrylamide, N-(5-hydroxypentyl)(meth)acrylamide, N-(6-hydroxyhexyl)(meth)acrylamide, N,N-dimethyl ( Meth)acrylamide, N,N-diethyl(meth)acrylamide, N-isopropyl(meth)acrylamide, N-(3-dimethylaminopropyl)(meth)acrylamide, N-(1,1-dimethyl -3-oxobutyl)(meth)acrylamide, N-[2-(2-oxo-1-imidazolidinyl)ethyl](meth)acrylamide, 2-acryloylamino-2-methyl-1- Propanesulfonic acid, N-(methoxymethyl)acrylamide, N-(ethoxymethyl)(meth)acrylamide, N-(propoxymethyl)(meth)acrylamide, N-(1-methylethoxymethyl)( Meth)acrylamide, N-(1-methylpropoxymethyl)(meth)acrylamide, N-(2-methylpropoxymethyl)(meth)acrylamide, N-(butoxymethyl)(meth)acrylamide; N-(1,1-dimethylethoxymethyl)(meth)acrylamide, N-(2-methoxyethyl)(meth)acrylamide, N-(2-ethoxyethyl)(meth)acrylamide, N- (2-propoxyethyl)(meth)acrylamide, N-[2-(1-methylethoxy)ethyl](meth)acrylamide, N-[2-(1-methylpropoxy)ethyl](meth) acrylamide, N-[2-(2-methylpropoxy)ethyl](meth)acrylamide, N-(2-butoxyethyl)(meth)acrylamide, N-[2-(1,1-dimethyl toxy)ethyl](meth)acrylamide, etc. are mentioned. Among them, N-(methoxymethyl)acrylamide, N-(ethoxymethyl)acrylamide, N-(propoxymethyl)acrylamide, N-(butoxymethyl)acrylamide, and N-(2-methylprop Foxymethyl)acrylamide is preferred.

(메트)아크릴계 수지의 중량 평균 분자량(Mw)은, 바람직하게는, 50만∼250만이다. 중량 평균 분자량이 50만 이상이면, 고온 환경에 있어서의 점착제층의 내구성이 향상되고, 피착체와 점착제층 사이의 들뜸 박리나, 점착제층의 응집 파괴 등의 문제를 억제하기 쉽다. 중량 평균 분자량이 250만 이하이면, 도공성의 관점에서 유리하다. 점착제층의 내구성 및 점착제 조성물의 도공성의 양립의 관점에서, 중량 평균 분자량은 바람직하게는 60만∼180만이고, 보다 바람직하게는 70만∼170만이며, 특히 바람직하게는 100만∼160만이다. 또한, 중량 평균 분자량(Mw)과 수 평균 분자량(Mn)의 비로 표시되는 분자량 분포(Mw/Mn)는, 통상 2∼10, 바람직하게는 3∼8, 더욱 바람직하게는 3∼6이다. 중량 평균 분자량은, 겔 침투 크로마토그래피에 의해 분석할 수 있고, 표준 폴리스티렌 환산의 값이다.The weight average molecular weight (Mw) of (meth)acrylic-type resin becomes like this. Preferably it is 500,000-2.5 million. When the weight average molecular weight is 500,000 or more, the durability of the pressure-sensitive adhesive layer in a high-temperature environment is improved, and problems such as lifting and peeling between the adherend and the pressure-sensitive adhesive layer and cohesive failure of the pressure-sensitive adhesive layer are easily suppressed. It is advantageous from a viewpoint of coatability that a weight average molecular weight is 2.5 million or less. From a viewpoint of coexistence of the durability of an adhesive layer, and the coatability of an adhesive composition, a weight average molecular weight becomes like this. Preferably it is 600,000-1.8 million, More preferably, it is 700,000-1.7 million, Especially preferably, it is 1 million-1.6 million. . Moreover, molecular weight distribution (Mw/Mn) represented by ratio of a weight average molecular weight (Mw) and a number average molecular weight (Mn) is 2-10 normally, Preferably it is 3-8, More preferably, it is 3-6. The weight average molecular weight can be analyzed by gel permeation chromatography and is a value in terms of standard polystyrene.

(메트)아크릴산 수지는, 아세트산에틸에 용해시켜, 농도 20 질량%의 용액으로 했을 때, 25℃에 있어서의 점도가, 20 ㎩·s 이하인 것이 바람직하고, 0.1∼15 ㎩·s인 것이 보다 바람직하다. 상기 범위의 점도이면, 점착제 조성물을 기재에 도공할 때의 도공성의 관점에서 유리하다. 또한, 점도는, 브룩필드 점도계에 의해 측정할 수 있다.When the (meth)acrylic acid resin is dissolved in ethyl acetate to obtain a solution having a concentration of 20% by mass, the viscosity at 25°C is preferably 20 Pa·s or less, and more preferably 0.1 to 15 Pa·s. do. It is advantageous from a viewpoint of the coatability at the time of coating an adhesive composition to a base material as it is a viscosity of the said range. In addition, a viscosity can be measured with a Brookfield viscometer.

(메트)아크릴계 수지는, 예컨대, 용액 중합법, 괴상(塊狀) 중합법, 현탁 중합법, 유화 중합법 등의 공지된 방법에 의해 제조할 수 있고, 특히 용액 중합법이 바람직하다. 용액 중합법으로서는, 예컨대, 단량체 및 유기 용매를 혼합하고, 질소 분위기하, 열중합 개시제를 첨가하며, 40∼90℃, 바람직하게는 50∼80℃ 정도의 온도 조건하, 3∼15시간 정도 교반하는 방법을 들 수 있다. 반응 제어를 위해서, 중합 중, 연속적 또는 간헐적으로 단량체나 열중합 개시제를 첨가해도 좋다. 상기 단량체나 열중합 개시제는 유기 용매에 첨가한 상태여도 좋다. 상기 유기 용매로서는, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류; 프로필알코올, 이소프로필알코올 등의 지방족 알코올류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류 등을 들 수 있다. 열중합 개시제는, 공지된 열중합 개시제를 사용할 수 있다. 또한, 열중합 개시제 대신에 광중합 개시제를 사용하여, 자외선 등에 의한 중합법을 사용해도 좋다.(meth)acrylic resin can be manufactured by well-known methods, such as a solution polymerization method, the block polymerization method, the suspension polymerization method, and the emulsion polymerization method, for example, especially the solution polymerization method is preferable. As the solution polymerization method, for example, a monomer and an organic solvent are mixed, a thermal polymerization initiator is added in a nitrogen atmosphere, and stirred for about 3 to 15 hours under a temperature condition of 40 to 90°C, preferably 50 to 80°C. how to do it For reaction control, a monomer or a thermal polymerization initiator may be added continuously or intermittently during polymerization. The said monomer and thermal-polymerization initiator may be in the state added to the organic solvent. Examples of the organic solvent include aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; aliphatic alcohols such as propyl alcohol and isopropyl alcohol; Ketones, such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone, etc. are mentioned. As the thermal polymerization initiator, a known thermal polymerization initiator can be used. Moreover, you may use the polymerization method by an ultraviolet-ray etc. using a photoinitiator instead of a thermal polymerization initiator.

수지(A)의 함유량은, 점착제 조성물의 고형분 100 질량% 중, 통상 50 질량%∼99.9 질량%이고, 바람직하게는 60 질량%∼95 질량%이며, 보다 바람직하게는 70 질량%∼90 질량%이다.Content of resin (A) is 50 mass % - 99.9 mass % normally in 100 mass % of solid content of an adhesive composition, Preferably they are 60 mass % - 95 mass %, More preferably, they are 70 mass % - 90 mass % to be.

<광선택 흡수 화합물(B)><Photoselective Absorption Compound (B)>

광선택 흡수 화합물(B)은, 파장 360 ㎚ 이상에 극대 흡수를 나타낸다. 광선택 흡수 화합물(B)은, 파장 360 ㎚ 이상 파장 420 ㎚ 이하 사이에 극대 흡수를 나타내는 것이 바람직하고, 파장 370 ㎚ 이상 파장 410 ㎚ 이하 사이에 극대 흡수를 나타내는 것이 더욱 바람직하다. 파장 360 ㎚ 이상에 극대 흡수를 나타냄으로써, 소량의 첨가여도 효율적으로 파장 380 ㎚ 부근의 광을 흡수할 수 있다.The photoselective absorption compound (B) exhibits maximum absorption at a wavelength of 360 nm or more. The photoselective absorption compound (B) preferably exhibits maximum absorption between a wavelength of 360 nm or more and 420 nm or less, and more preferably exhibits a maximum absorption between a wavelength of 370 nm or more and 410 nm or less. By exhibiting maximum absorption at a wavelength of 360 nm or more, even a small amount of addition can efficiently absorb light at a wavelength of around 380 nm.

광선택 흡수 화합물(B)은, 하기 식 (1) 및 식 (2)를 만족시킨다.The photoselective absorption compound (B) satisfies the following formulas (1) and (2).

ε(380)≥25 (1)ε(380)≥25 (One)

[식 (1) 중, ε(380)은 광선택 흡수 화합물(B)의 파장 380 ㎚에 있어서의 그램 흡광 계수를 나타낸다. 그램 흡광 계수의 단위는 L/(g·㎝)이다.][In formula (1), ε (380) represents the gram extinction coefficient of the photoselective absorption compound (B) at a wavelength of 380 nm. The unit of the gram extinction coefficient is L/(g·cm).]

ε(380)/ε(420)≥20 (2)ε(380)/ε(420)≥20 (2)

[식 (2) 중, ε(380)은 광선택 흡수 화합물(B)의 파장 380 ㎚에 있어서의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(420)은 광선택 흡수 화합물(B)의 파장 420 ㎚에 있어서의 그램 흡광 계수를 나타낸다.[In formula (2), ε(380) represents the gram extinction coefficient of the photoselective absorption compound (B) at a wavelength of 380 nm, and ε(420) represents the photoselective absorption compound (B) at a wavelength of 420 nm. represents the extinction coefficient in grams.

그램 흡광 계수의 단위는 L/(g·㎝)이다.]The unit of the gram extinction coefficient is L/(g·cm).]

ε(380)의 값이 30 L/(g·㎝) 이상인 것이 바람직하고, 35 L/(g·㎝) 이상인 것이 보다 바람직하며, 50 L/(g·㎝) 이상인 것이 더욱 바람직하고, 100 L/(g·㎝) 이상인 것이 보다 더 바람직하며, 통상 10000 L/(g·㎝) 이하이다. ε(380)의 값이 큰 화합물일수록 파장 380 ㎚의 광을 흡수하기 쉽고, 자외선에 의한 열화 억제 기능을 발현하기 쉽다.The value of ε (380) is preferably 30 L/(g cm) or more, more preferably 35 L/(g cm) or more, still more preferably 50 L/(g cm) or more, and 100 L It is still more preferable that it is /(g·cm) or more, and is usually 10000 L/(g·cm) or less. A compound with a larger value of ε(380) is more likely to absorb light having a wavelength of 380 nm and is more likely to exhibit a function of suppressing deterioration due to ultraviolet rays.

광선택 흡수 화합물(B)은, ε(380)/ε(420)의 값이 25 이상인 것이 바람직하고, 35 이상인 것이 보다 바람직하며, 50 이상이 보다 더 바람직하고, 100 이상이 특히 보다 바람직하다. ε(380)/ε(420)의 값이 큰 화합물을 포함하는 점착제 조성물로 형성되는 점착제층은, 표시 장치의 색채 표현을 저해하지 않고, 380 ㎚ 부근의 자외선을 흡수한다. 또한, 적층된 광학 필름(위상차 필름)이나 유기 EL 소자 등의 표시 장치의 광 열화를 억제할 수 있다.The value of ε(380)/ε(420) of the photoselective absorption compound (B) is preferably 25 or more, more preferably 35 or more, still more preferably 50 or more, and particularly more preferably 100 or more. The pressure-sensitive adhesive layer formed of the pressure-sensitive adhesive composition containing the compound having a large value of ε(380)/ε(420) absorbs ultraviolet rays in the vicinity of 380 nm without inhibiting the color expression of the display device. Moreover, optical deterioration of display apparatuses, such as a laminated|stacked optical film (retardation film) and organic electroluminescent element, can be suppressed.

광선택 흡수 화합물(B)은, 분자 내에 메로시아닌 구조를 포함하지 않는 것이 바람직하다.It is preferable that the photoselective absorption compound (B) does not contain a merocyanine structure in a molecule|numerator.

본 발명에 있어서 메로시아닌 구조란, N-C=C-C=C로 표시되는 부분 구조를 의미한다. 단, 본 발명에 있어서의 메로시아닌 구조는, N-C=C-C=C로 표시되는 부분 구조 모두를 고리의 구성 요소로 하는 방향족 축합환(예컨대, 인돌환, 벤조트리아졸환, 벤조이미다졸환, 이소인돌환, 퀴놀린환 등)을 포함하지 않는다. 즉, 광선택 흡수 화합물(B)은, N-C=C-C=C로 표시되는 부분 구조 모두를 고리의 구성 요소로 하는 방향족 축합환을 분자 내에 포함하고 있어도 좋다.In the present invention, the merocyanine structure means a partial structure represented by N-C=C-C=C. However, the merocyanine structure in the present invention is an aromatic condensed ring (eg, indole ring, benzotriazole ring, benzimidazole ring, iso indole ring, quinoline ring, etc.) is not included. That is, the photoselective absorption compound (B) may contain in its molecule an aromatic condensed ring having all of the partial structures represented by N-C=C-C=C as ring constituents.

광선택 흡수 화합물(B)로서는, 시판품을 이용해도 좋고, FUV-002B(후지 필름사 제조) 등을 들 수 있다.As the light-selective absorption compound (B), a commercially available product may be used, and FUV-002B (manufactured by Fujifilm), etc. may be mentioned.

광선택 흡수 화합물(B)의 함유량은, 수지(A) 100 질량부에 대해, 통상 0.01∼50 질량부이고, 0.1∼20 질량부인 것이 바람직하며, 0.5∼10 질량부인 것이 보다 바람직하고, 특히 바람직하게는 1.0∼5 질량부이다.Content of the photoselective absorption compound (B) is 0.01-50 mass parts normally with respect to 100 mass parts of resin (A), It is preferable that it is 0.1-20 mass parts, It is more preferable that it is 0.5-10 mass parts, It is especially preferable Preferably it is 1.0-5 mass parts.

<광선택 흡수 화합물(C-1)><Photoselective Absorption Compound (C-1)>

광선택 흡수 화합물(C-1)은, 분자 내에 중합성 기를 갖고, 또한 파장 300 ㎚ 이상 파장 360 ㎚ 미만에 극대 흡수를 나타내는 단량체이다.The photoselective absorption compound (C-1) is a monomer having a polymerizable group in the molecule and exhibiting maximum absorption at a wavelength of 300 nm or more and less than 360 nm.

광선택 흡수 화합물(C-1)은, 파장 320 ㎚ 이상 파장 355 ㎚ 이하에 극대 흡수를 나타내는 것이 바람직하고, 파장 330 ㎚ 이상 파장 350 ㎚ 이하에 극대 흡수를 나타내는 것이 보다 바람직하다.The photoselective absorption compound (C-1) preferably exhibits maximum absorption at a wavelength of 320 nm or more and 355 nm or less, and more preferably exhibits maximum absorption at a wavelength of 330 nm or more and 350 nm or less.

광선택 흡수 화합물(C-1)이 갖는 중합성 기로서는, 에폭시기, 옥세타닐기, 옥사졸리노기, 아지리디노기, 비닐에테르기 등의 양이온성 중합성 기; 에틸렌성 불포화기 등의 라디칼성 중합성 기를 들 수 있다. 광선택 흡수 화합물(C-1)이 갖는 중합성 기는, 에틸렌성 불포화기 등의 라디칼성 중합성 기인 것이 바람직하다. 에틸렌성 불포화기의 구체예로서는, 비닐기, α-메틸비닐기, 아크릴로일기, 메타아크릴로일기, 알릴기, 스티릴기, (메트)아크릴아미드기, 비닐술폰기, (메트)아크릴로일옥시기 등을 들 수 있다.Examples of the polymerizable group in the photoselective absorption compound (C-1) include cationic polymerizable groups such as an epoxy group, an oxetanyl group, an oxazolino group, an aziridino group, and a vinyl ether group; Radical polymerizable groups, such as an ethylenically unsaturated group, are mentioned. It is preferable that the polymerizable group which the photoselective absorption compound (C-1) has is a radically polymerizable group, such as an ethylenically unsaturated group. Specific examples of the ethylenically unsaturated group include a vinyl group, α-methylvinyl group, acryloyl group, methacryloyl group, allyl group, styryl group, (meth)acrylamide group, vinylsulfone group, (meth)acryloyloxy group and the like.

광선택 흡수 화합물(C-1)은, 예컨대, 분자 내에 중합성 기와 벤조트리아졸 골격을 갖는 화합물, 분자 내에 중합성 기와 벤조이미다졸 골격을 갖는 화합물, 분자 내에 중합성 기와 트리아진 골격을 갖는 화합물, 분자 내에 중합성 기와 벤조페논 골격을 갖는 화합물, 분자 내에 중합성 기와 중합성을 갖지 않는 시아노아크릴레이트 골격을 갖는 화합물 등을 들 수 있다.The photoselective absorption compound (C-1) is, for example, a compound having a polymerizable group and a benzotriazole skeleton in a molecule, a compound having a polymerizable group and a benzoimidazole skeleton in a molecule, and a compound having a polymerizable group and a triazine skeleton in the molecule , a compound having a polymerizable group and a benzophenone skeleton in the molecule, and a compound having a cyanoacrylate skeleton having no polymerizable group and polymerizable skeleton in the molecule.

광선택 흡수 화합물(C-1)은, 예컨대, 이하에 기재된 화합물 등을 들 수 있다.The photoselective absorption compound (C-1) includes, for example, the compounds described below.

2-[2-(2,4-디히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸메타크릴레이트,2-[2-(2,4-dihydroxyphenyl)-2H-benzotriazol-5-yloxy]ethyl methacrylate;

2-[2-(4-에톡시-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸메타크릴레이트,2-[2-(4-ethoxy-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazol-5-yloxy]ethyl methacrylate;

2-[2-(4-부톡시-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸메타크릴레이트,2-[2-(4-butoxy-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazol-5-yloxy]ethyl methacrylate;

2-[2-(4-벤조일옥시-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸메타크릴레이트,2-[2-(4-benzoyloxy-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazol-5-yloxy]ethyl methacrylate;

4-[2-(2,4-디히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]부틸메타크릴레이트,4-[2-(2,4-dihydroxyphenyl)-2H-benzotriazol-5-yloxy]butyl methacrylate;

4-[2-(4-에톡시-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]부틸메타크릴레이트,4-[2-(4-ethoxy-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazol-5-yloxy]butyl methacrylate;

4-[2-(4-부톡시-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]부틸메타크릴레이트,4-[2-(4-butoxy-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazol-5-yloxy]butyl methacrylate;

4-[2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]부틸메타크릴레이트,4-[2-(2-hydroxy-4-octyloxyphenyl)-2H-benzotriazol-5-yloxy]butyl methacrylate;

4-[2-(4-벤조일옥시-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]부틸메타크릴레이트,4-[2-(4-benzoyloxy-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazol-5-yloxy]butyl methacrylate;

2-[2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸메타크릴레이트,2-[2-(2-hydroxy-4-octyloxyphenyl)-2H-benzotriazol-5-yloxy]ethyl methacrylate;

2-[2-(4-옥틸옥시-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸메타크릴레이트,2-[2-(4-octyloxy-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazol-5-yloxy]ethyl methacrylate;

2-[2-(4-메톡시-5-터셔리부틸-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸메타크릴레이트,2-[2-(4-methoxy-5-tertbutyl-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazol-5-yloxy]ethyl methacrylate;

2-[2-(4-메톡시-3-터셔리부틸-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸메타크릴레이트,2-[2-(4-methoxy-3-tertbutyl-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazol-5-yloxy]ethyl methacrylate;

2-2-(4-메톡시-3-메틸-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸메타크릴레이트,2-2-(4-methoxy-3-methyl-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazol-5-yloxy]ethyl methacrylate;

2-[2-히드록시-5-(메타크릴로일옥시에틸)페닐]-2H-벤조트리아졸,2-[2-hydroxy-5-(methacryloyloxyethyl)phenyl]-2H-benzotriazole;

2-[2-히드록시-5-(메타크릴로일)페닐]-2H-벤조트리아졸,2-[2-hydroxy-5-(methacryloyl)phenyl]-2H-benzotriazole;

2-[2-히드록시-5-(메타크릴로일옥시프로필)페닐]-5-클로로-2H-벤조트리아졸,2-[2-hydroxy-5-(methacryloyloxypropyl)phenyl]-5-chloro-2H-benzotriazole;

2-[2-히드록시-5-(메타크릴로일옥시프로필)페닐]-2H-벤조트리아졸,2-[2-hydroxy-5-(methacryloyloxypropyl)phenyl]-2H-benzotriazole;

N-[3-벤조트리아졸-2-일-2-히드록시-5-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-벤조일]-2-메틸메타크릴아미드,N-[3-benzotriazol-2-yl-2-hydroxy-5-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)-benzoyl]-2-methylmethacrylamide;

2-[2-(2,4-디히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸아크릴레이트,2-[2-(2,4-dihydroxyphenyl)-2H-benzotriazol-5-yloxy]ethyl acrylate;

2-[2-(4-에톡시-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸아크릴레이트,2-[2-(4-ethoxy-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazol-5-yloxy]ethyl acrylate;

2-[2-(4-부톡시-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸아크릴레이트,2-[2-(4-butoxy-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazol-5-yloxy]ethyl acrylate;

2-[2-(4-벤조일옥시-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸아크릴레이트,2-[2-(4-benzoyloxy-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazol-5-yloxy]ethyl acrylate;

4-[2-(2,4-디히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]부틸아크릴레이트,4-[2-(2,4-dihydroxyphenyl)-2H-benzotriazol-5-yloxy]butyl acrylate;

4-[2-(4-에톡시-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]부틸아크릴레이트,4-[2-(4-ethoxy-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazol-5-yloxy]butyl acrylate;

4-[2-(4-부톡시-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]부틸아크릴레이트, 4-[2-(4-butoxy-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazol-5-yloxy]butyl acrylate;

4-[2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]부틸아크릴레이트,4-[2-(2-hydroxy-4-octyloxyphenyl)-2H-benzotriazol-5-yloxy]butyl acrylate;

2-[2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸아크릴레이트,2-[2-(2-hydroxy-4-octyloxyphenyl)-2H-benzotriazol-5-yloxy]ethyl acrylate;

4-[2-(4-벤조일옥시-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]부틸아크릴레이트,4-[2-(4-benzoyloxy-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazol-5-yloxy]butyl acrylate;

2-[2-(4-옥틸옥시-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸아크릴레이트,2-[2-(4-octyloxy-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazol-5-yloxy]ethyl acrylate;

2-[2-(4-메톡시-5-터셔리부틸-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸아크릴레이트,2-[2-(4-methoxy-5-tertbutyl-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazol-5-yloxy]ethyl acrylate;

2-[2-(4-메톡시-3-터셔리부틸-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸아크릴레이트,2-[2-(4-methoxy-3-tertbutyl-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazol-5-yloxy]ethyl acrylate;

2-[2-(4-메톡시-3-메틸-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸아크릴레이트,2-[2-(4-methoxy-3-methyl-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazol-5-yloxy]ethyl acrylate;

2-[2-히드록시-5-(아크릴로일옥시에틸)페닐]-2H-벤조트리아졸,2-[2-hydroxy-5-(acryloyloxyethyl)phenyl]-2H-benzotriazole;

2-[2-히드록시-5-(아크릴로일)페닐]-2H-벤조트리아졸,2-[2-hydroxy-5-(acryloyl)phenyl]-2H-benzotriazole;

2-[2-히드록시-5-(메타크릴로일옥시프로필)페닐]-5-클로로-2H-벤조트리아졸,2-[2-hydroxy-5-(methacryloyloxypropyl)phenyl]-5-chloro-2H-benzotriazole;

2-[2-히드록시-5-(메타크릴로일옥시프로필)페닐]-2H-벤조트리아졸,2-[2-hydroxy-5-(methacryloyloxypropyl)phenyl]-2H-benzotriazole;

N-[3-벤조트리아졸-2-일-2-히드록시-5-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-벤조일]-2-메틸아크릴아미드,N-[3-benzotriazol-2-yl-2-hydroxy-5-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)-benzoyl]-2-methylacrylamide;

2-히드록시-4-아크릴로일옥시벤조페논,2-hydroxy-4-acryloyloxybenzophenone,

2-히드록시-4-메타크릴로일옥시벤조페논,2-hydroxy-4-methacryloyloxybenzophenone,

2-히드록시-4-(2-아크릴로일옥시)에톡시벤조페논,2-hydroxy-4-(2-acryloyloxy)ethoxybenzophenone;

2-히드록시-4-(2-메타크릴로일옥시)에톡시벤조페논,2-hydroxy-4-(2-methacryloyloxy)ethoxybenzophenone;

2-히드록시-4-(2-메틸-2-아크릴로일옥시)에톡시벤조페논,2-hydroxy-4-(2-methyl-2-acryloyloxy)ethoxybenzophenone;

2,4-디페닐-6-[2-히드록시-4-(2-메타크릴로일옥시에톡시)페닐]-s-트리아진,2,4-diphenyl-6-[2-hydroxy-4-(2-methacryloyloxyethoxy)phenyl]-s-triazine;

2,4-디페닐-6-[2-히드록시-4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]-s-트리아진,2,4-diphenyl-6-[2-hydroxy-4-(2-acryloyloxyethoxy)phenyl]-s-triazine;

2,4-비스(2-메틸페닐)-6-[2-히드록시-4-(3-메타크릴로일옥시-2-히드록시프로필옥시)페닐]-s-트리아진,2,4-bis(2-methylphenyl)-6-[2-hydroxy-4-(3-methacryloyloxy-2-hydroxypropyloxy)phenyl]-s-triazine;

2,4-비스(2-메틸페닐)-6-[2-히드록시-4-(3-아크릴로일옥시-2-히드록시프로필옥시)페닐]-s-트리아진,2,4-bis(2-methylphenyl)-6-[2-hydroxy-4-(3-acryloyloxy-2-hydroxypropyloxy)phenyl]-s-triazine;

2,4-비스(2-메톡시페닐)-6-[2-히드록시-4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]-s-트리아진,2,4-bis(2-methoxyphenyl)-6-[2-hydroxy-4-(2-acryloyloxyethoxy)phenyl]-s-triazine;

2,4-비스(2-메톡시페닐)-6-[2-히드록시-4-(2-메타크릴로일옥시에톡시)페닐]-s-트리아진,2,4-bis(2-methoxyphenyl)-6-[2-hydroxy-4-(2-methacryloyloxyethoxy)phenyl]-s-triazine;

2,4-비스(2-에틸페닐)-6-[2-히드록시-4-(2-메타크릴로일옥시에톡시)페닐]-s-트리아진,2,4-bis(2-ethylphenyl)-6-[2-hydroxy-4-(2-methacryloyloxyethoxy)phenyl]-s-triazine;

2,4-비스(2-에틸페닐)-6-[2-히드록시-4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]-s-트리아진,2,4-bis(2-ethylphenyl)-6-[2-hydroxy-4-(2-acryloyloxyethoxy)phenyl]-s-triazine;

2,4-비스(2-에톡시페닐)-6-[2-히드록시-4-(2-메타크릴로일옥시에톡시)페닐]-s-트리아진,2,4-bis(2-ethoxyphenyl)-6-[2-hydroxy-4-(2-methacryloyloxyethoxy)phenyl]-s-triazine;

2,4-비스(2-에톡시페닐)-6-[2-히드록시-4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]-s-트리아진 등.2,4-bis(2-ethoxyphenyl)-6-[2-hydroxy-4-(2-acryloyloxyethoxy)phenyl]-s-triazine and the like.

또한, 광선택 흡수 화합물(C-1)은, 하기에 나타내는 화합물이어도 좋다.The photoselective absorption compound (C-1) may be a compound shown below.

Figure pct00002
Figure pct00002

또한, 광선택 흡수 화합물(C-1)은 시판품을 이용해도 좋고, 구체적으로는, 「RUVA-93」(오츠카 가가쿠 가부시키가이샤), 「CHISORB 5687」(Double bond Chemical사), 「Tinuvin R 796」(BASF) 등을 들 수 있다.In addition, the photoselective absorption compound (C-1) may use a commercial item, and, specifically, "RUVA-93" (Otsuka Chemical Co., Ltd.), "CHISORB 5687" (Double bond Chemical company), "Tinuvin R" 796" (BASF) etc. are mentioned.

광선택 흡수 화합물(C-1)은, 분자 내에 중합성 기와 벤조트리아졸 골격을 갖는 화합물, 분자 내에 중합성 기와 트리아진 골격을 갖는 화합물 또는 분자 내에 중합성 기와 벤조페논 골격을 갖는 화합물인 것이 바람직하다.The photoselective absorption compound (C-1) is preferably a compound having a polymerizable group and a benzotriazole skeleton in a molecule, a compound having a polymerizable group and a triazine skeleton in a molecule, or a compound having a polymerizable group and a benzophenone skeleton in a molecule do.

<광선택 흡수 수지(C-2)><Photoselective absorption resin (C-2)>

광선택 흡수 수지(C-2)는, 파장 300 ㎚ 이상 파장 360 ㎚ 미만에 극대 흡수를 나타내는 수지이다. 광선택 흡수 수지(C-2)는, 파장 320 ㎚ 이상 파장 355 ㎚ 이하에 극대 흡수를 나타내는 것이 바람직하고, 파장 330 ㎚ 이상 파장 350 ㎚ 이하에 극대 흡수를 나타내는 것이 보다 바람직하다.The photoselective absorption resin (C-2) is a resin that exhibits maximum absorption at a wavelength of 300 nm or more and less than 360 nm. The photoselective absorption resin (C-2) preferably exhibits maximum absorption at a wavelength of 320 nm or more and 355 nm or less, and more preferably exhibits maximum absorption at a wavelength of 330 nm or more and 350 nm or less.

광선택 흡수 수지(C-2)로서는, 예컨대, 전술한 광선택 흡수 화합물(C-1)에서 유래하는 구조 단위(이하, 구조 단위(C-1)라고 하는 경우가 있음)를 포함하는 수지 등을 들 수 있다. 광선택 흡수 수지(C-2)는, 구조 단위(C-1)를 포함하는 호모폴리머여도 좋고 코폴리머여도 좋다. 광선택 흡수 수지(C-2)는, 구조 단위(C-1)를 포함하는 코폴리머인 것이 바람직하다.As the photoselective absorption resin (C-2), for example, a resin containing a structural unit derived from the aforementioned photoselective absorption compound (C-1) (hereinafter sometimes referred to as structural unit (C-1)), etc. can be heard The photoselective absorption resin (C-2) may be either a homopolymer or a copolymer containing a structural unit (C-1). It is preferable that the photoselective absorption resin (C-2) is a copolymer containing a structural unit (C-1).

광선택 흡수 수지(C-2)는, 구조 단위(C-1)를 전체 구조 단위에 대해, 0.1∼90 질량% 함유하는 것이 바람직하고, 1∼75 질량% 함유하는 것이 보다 바람직하며, 5∼60 질량% 함유하는 것이 더욱 바람직하고, 특히 바람직하게는 10∼50 질량%이다.The photoselective absorption resin (C-2) preferably contains 0.1 to 90 mass% of the structural unit (C-1) with respect to all the structural units, more preferably 1 to 75 mass%, and more preferably 5 to It is more preferable to contain 60 mass %, Especially preferably, it is 10-50 mass %.

광선택 흡수 수지(C-2)가 구조 단위(C-1) 이외에 포함하는 구조 단위로서는, 전술한 수지(A)를 형성하는 단량체 유래의 구조 단위를 들 수 있다. 구체적으로는, 전술한 식 (a)로 나타나는 (메트)아크릴산에스테르 유래의 구조 단위, 전술한 극성 작용기를 갖는 단량체 유래의 구조 단위, 전술한 스티렌계 단량체 유래의 구조 단위, 전술한 비닐계 단량체 유래의 구조 단위, 전술한 (메트)아크릴아미드계 단량체 유래의 구조 단위 등을 들 수 있다.As a structural unit included in the photoselective absorption resin (C-2) other than the structural unit (C-1), the structural unit derived from the monomer which forms the resin (A) mentioned above is mentioned. Specifically, the structural unit derived from the (meth)acrylic acid ester represented by the above formula (a), the structural unit derived from a monomer having the aforementioned polar functional group, the structural unit derived from the aforementioned styrene-based monomer, and derived from the aforementioned vinyl-based monomer and structural units derived from the above-mentioned (meth)acrylamide-based monomers.

광선택 흡수 수지(C-2)가 구조 단위(C-1) 이외에 포함하는 구조 단위로서는, 전술한 식 (a)로 나타나는 (메트)아크릴산에스테르 유래의 구조 단위, 전술한 극성 작용기를 갖는 단량체 유래의 구조 단위 등이 바람직하고, 전술한 식 (a)로 나타나는 (메트)아크릴산에스테르 유래의 구조 단위, 히드록시기를 갖는 단량체, (메트)아크릴아미드계 단량체 유래의 구조 단위 등이 보다 바람직하다. 특히 노말 부틸아크릴레이트, 메틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 노말 옥틸아크릴레이트 등에서 유래하는 구조 단위인 것이 바람직하다.As the structural unit included in the photoselective absorption resin (C-2) other than the structural unit (C-1), the structural unit derived from the (meth)acrylic acid ester represented by the above formula (a), and the monomer having the aforementioned polar functional group Structural units of , etc. are preferable, and structural units derived from (meth)acrylic acid esters represented by the above formula (a), monomers having a hydroxyl group, structural units derived from (meth)acrylamide-based monomers, and the like are more preferable. In particular, it is preferable that it is a structural unit derived from normal butyl acrylate, methyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, normal octyl acrylate, etc.

광선택 흡수 수지(C-2)는 시판품이어도 좋고, 공지된 방법(예컨대, 일본 특허 공개 제2012-25811호 공보)에 의해 합성해도 좋다.The photoselective absorption resin (C-2) may be a commercially available product or may be synthesized by a known method (eg, JP 2012-25811 A ).

광선택 흡수 수지(C-2)로서는, 구체적으로는, 일본 특허 공개 제2012-25811호 공보에 기재된 수지를 들 수 있다. 또한, 광선택 흡수 수지(C-2)의 시판품으로서는, 바나레진 UVR 시리즈(신나카무라 가가쿠 고교 가부시키가이샤) 등을 들 수 있다.Specific examples of the light-selective absorption resin (C-2) include resins described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-25811. Moreover, as a commercial item of the photoselective absorption resin (C-2), the Vana resin UVR series (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) etc. are mentioned.

광선택 흡수 화합물(C-1) 또는 광선택 흡수 수지(C-2)의 함유량은, 수지(A) 100 질량부에 대해, 통상 0.1∼70 질량부이고, 1.0∼50 질량부인 것이 바람직하며, 5.0∼30 질량부인 것이 보다 바람직하고, 더욱 바람직하게는 7.5∼25 질량부이며, 특히 바람직하게는 10∼20 질량부이다.The content of the photoselective absorbing compound (C-1) or the photoselective absorbing resin (C-2) is usually 0.1 to 70 parts by mass, preferably 1.0 to 50 parts by mass, with respect to 100 parts by mass of the resin (A), It is more preferable that it is 5.0-30 mass parts, More preferably, it is 7.5-25 mass parts, Especially preferably, it is 10-20 mass parts.

또한, 광선택 흡수 화합물(C-1) 및 광선택 흡수 수지(C-2)의 양방을 포함하는 경우에는 그 합계가, 상기 범위이면 된다.In addition, when both the photoselective absorption compound (C-1) and the photoselective absorption resin (C-2) are included, the total should just be the said range.

광선택 흡수 화합물(B)과, 광선택 흡수 화합물(C-1)의 함유비(질량비)는, 통상, 광선택 흡수 화합물(C-1)/광선택 흡수 화합물(B)=1/1∼10/1이고, 2/1∼5/1인 것이 바람직하다.The content ratio (mass ratio) of the photoselective absorbing compound (B) to the photoselective absorbing compound (C-1) is usually, photoselective absorbing compound (C-1)/photoselective absorbing compound (B) = 1/1 to It is 10/1, and it is preferable that it is 2/1 - 5/1.

광선택 흡수 화합물(B)과, 광선택 흡수 수지(C-2)의 함유비(질량비)는, 통상, 광선택 흡수 수지(C-2)/광선택 흡수 화합물(B)=1/1∼10/1이고, 2/1∼5/1인 것이 바람직하다.The content ratio (mass ratio) of the photoselective absorbing compound (B) to the photoselective absorbing resin (C-2) is usually in the range of photoselective absorbing resin (C-2)/photoselective absorbing compound (B) = 1/1 to It is 10/1, and it is preferable that it is 2/1 - 5/1.

광선택 흡수 화합물(C-1) 및 광선택 흡수 수지(C-2)의 양방을 포함하는 경우에는, 광선택 흡수 화합물(C-1) 및 광선택 흡수 수지(C-2)의 합계와 광선택 흡수 화합물(B)의 함유비(질량비)는, 통상, 광선택 흡수 화합물(C-1) 및 광선택 흡수 수지(C-2)의 합계/광선택 흡수 화합물(B)=1/1∼10/1이고, 2/1∼5/1인 것이 바람직하다.In the case of containing both the photoselective absorbing compound (C-1) and the photoselective absorbing resin (C-2), the sum of the photoselective absorbing compound (C-1) and the photoselective absorbing resin (C-2) and the light The content ratio (mass ratio) of the selective absorbing compound (B) is usually the total of the photoselective absorbing compound (C-1) and the photoselective absorbing resin (C-2)/photoselective absorbing compound (B) = 1/1 to It is 10/1, and it is preferable that it is 2/1 - 5/1.

본 발명의 점착제 조성물은, 개시제(D), 라디칼 경화성 성분(E), 가교제(F)를 더 포함하고 있어도 좋다.The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention may further contain an initiator (D), a radical curable component (E), and a crosslinking agent (F).

<개시제(D)><Initiator (D)>

개시제(D)는, 광선택 흡수 화합물(C-1) 또는 필요에 따라 함유하는 라디칼 경화성 성분(E)의 중합 반응을 일으키는 화합물이면 된다. 개시제(D)는, 열의 에너지를 흡수함으로써 중합 반응을 일으키는 화합물(열중합 개시제), 광의 에너지를 흡수함으로써 중합 반응을 일으키는 화합물(광중합 개시제)의 어느 것이어도 좋다. 또한, 여기서 광이란, 가시광선, 자외선, X선, 또는 전자선과 같은 활성 에너지선인 것이 바람직하다.The initiator (D) should just be a compound which raise|generates the polymerization reaction of the photoselective absorption compound (C-1) or the radically curable component (E) contained as needed. The initiator (D) may be either a compound causing a polymerization reaction by absorbing heat energy (thermal polymerization initiator) or a compound causing a polymerization reaction by absorbing light energy (photo polymerization initiator). In addition, it is preferable that light here is an active energy ray like visible light, an ultraviolet-ray, an X-ray, or an electron beam.

열중합 개시제로서는, 가열 등에 의해 라디칼을 발생하는 화합물(열라디칼 발생제), 가열 등에 의해 산을 발생하는 화합물(열산 발생제), 가열 등에 의해 염기를 발생하는 화합물(열염기 발생제) 등을 들 수 있다.As the thermal polymerization initiator, a compound that generates a radical by heating, etc. (thermal radical generator), a compound that generates an acid by heating, etc. (thermal acid generator), a compound that generates a base by heating, etc. (thermal base generator), etc. can be heard

광중합 개시제로서는, 광의 에너지를 흡수함으로써 라디칼을 발생하는 화합물(광라디칼 발생제), 광의 에너지를 흡수함으로써 산을 발생하는 화합물(광산 발생제), 광의 에너지를 흡수함으로써 염기를 발생하는 화합물(광염기 발생제) 등을 들 수 있다.As a photoinitiator, the compound which generate|occur|produces a radical by absorbing the energy of light (photoradical generator), the compound which generate|occur|produces an acid by absorbing the energy of light (photoacid generator), A compound which generates a base by absorbing the energy of light (photobase) generator) and the like.

개시제(D)는, 광선택 흡수 화합물(C-1) 또는 라디칼 경화성 성분(E)의 중합 반응에 적합한 것을 선택하는 것이 바람직하고, 라디칼 발생제인 것이 바람직하며, 광라디칼 발생제인 것이 보다 바람직하다. 라디칼 발생제로서는, 예컨대 열라디칼 발생제 및 광라디칼 발생제를 들 수 있다.It is preferable to select a thing suitable for the polymerization reaction of a photoselective absorption compound (C-1) or a radically curable component (E), and, as for an initiator (D), it is preferable that it is a radical generator, It is more preferable that it is a photoradical generator. Examples of the radical generator include a thermal radical generator and a photoradical generator.

개시제(D)는 2종 이상을 포함하고 있어도 좋고, 광라디칼 발생제와 열라디칼 발생제를 병용해도 좋다.The initiator (D) may contain 2 or more types, and may use a photo-radical generator and a thermal radical generator together.

라디칼 발생제는, 예컨대, 알킬페논 화합물, 벤조인 화합물, 벤조페논 화합물, 옥심에스테르 화합물, 포스핀 화합물 등을 들 수 있다. 라디칼 발생제는, 광라디칼 발생제인 것이 바람직하고, 중합 반응의 반응성의 관점에서 옥심에스테르계 광라디칼 발생제인 것이 보다 바람직하다. 옥심에스테르계 라디칼 발생제를 사용함으로써, 조도 또는 광량이 약한 경화 조건이어도 광선택 흡수 화합물(C-1)이나 라디칼 경화 성분(E)의 반응률을 높일 수 있다.As a radical generator, an alkylphenone compound, a benzoin compound, a benzophenone compound, an oxime ester compound, a phosphine compound, etc. are mentioned, for example. It is preferable that a radical generator is a photoradical generator, and it is more preferable that it is an oxime ester type photoradical generator from a reactive viewpoint of a polymerization reaction. By using an oxime ester radical generator, the reaction rate of a photoselective absorption compound (C-1) and a radical hardening component (E) can be raised even if it is a hardening condition with weak illumination intensity or light quantity.

알킬페논 화합물로서는, α-아미노알킬페논 화합물, α-히드록시알킬페논 화합물, α-알콕시알킬페논 화합물을 들 수 있다.Examples of the alkylphenone compound include an α-aminoalkylphenone compound, an α-hydroxyalkylphenone compound, and an α-alkoxyalkylphenone compound.

α-아미노알킬페논 화합물로서는, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸술파닐페닐)프로판-1-온, 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-벤질부탄-1-온, 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-(4-메틸페닐메틸)부탄-1-온 등을 들 수 있고, 바람직하게는 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸술파닐페닐)프로판-1-온, 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-벤질부탄-1-온 등을 들 수 있다. α-아미노알킬페논 화합물은, 이르가큐어(등록 상표) 127, 184, 369, 369E, 379EG, 651, 907, 1173, 2959, (이상, BASF 재팬(주) 제조), 세이쿠올(SEIKUOL)(등록 상표) BEE(세이코 가가쿠사 제조) 등의 시판품을 이용해도 좋다.Examples of the α-aminoalkylphenone compound include 2-methyl-2-morpholino-1-(4-methylsulfanylphenyl)propan-1-one, 2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)- 2-benzylbutan-1-one, 2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-2-(4-methylphenylmethyl)butan-1-one, etc. are mentioned, Preferably 2-methyl -2-morpholino-1-(4-methylsulfanylphenyl)propan-1-one, 2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-2-benzylbutan-1-one, etc. can α-aminoalkylphenone compounds include Irgacure (registered trademark) 127, 184, 369, 369E, 379EG, 651, 907, 1173, 2959, (above, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.), SEIKUOL ( You may use commercial items, such as registered trademark) BEE (made by Seiko Chemical).

벤조인 화합물로서는, 예컨대, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등을 들 수 있다.As a benzoin compound, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, etc. are mentioned, for example.

벤조페논 화합물로서는, 예컨대, 벤조페논, o-벤조일벤조산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술파이드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등을 들 수 있다. 벤조페논 화합물은 시판품을 이용해도 좋다.As the benzophenone compound, for example, benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, 3,3',4,4'-tetra(tert-butyl Peroxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, etc. are mentioned. A commercial item may be used for a benzophenone compound.

옥심에스테르 화합물로서는, N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)부탄-1-온-2-이민, N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민, N-아세톡시-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄-1-이민, N-아세톡시-1-[9-에틸-6-{2-메틸-4-(3,3-디메틸-2,4-디옥사시클로펜타닐메틸옥시)벤조일}-9H-카르바졸-3-일]에탄-1-이민 등을 들 수 있다. 옥심 화합물은, 이르가큐어 OXE-01, OXE-02, OXE-03(이상, BASF 재팬사 제조), N-1919, NCI-730, NCI-831, NCI-930(ADEKA사 제조), PBG3057(TRONLY사 제조) 등의 시판품을 이용해도 좋다.As the oxime ester compound, N-benzoyloxy-1-(4-phenylsulfanylphenyl)butan-1-one-2-imine, N-benzoyloxy-1-(4-phenylsulfanylphenyl)octan-1-one -2-imine, N-acetoxy-1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazol-3-yl]ethane-1-imine, N-acetoxy-1-[9 -ethyl-6-{2-methyl-4-(3,3-dimethyl-2,4-dioxacyclopentanylmethyloxy)benzoyl}-9H-carbazol-3-yl]ethane-1-imine; can The oxime compound is Irgacure OXE-01, OXE-02, OXE-03 (above, manufactured by BASF Japan), N-1919, NCI-730, NCI-831, NCI-930 (made by ADEKA), PBG3057 ( You may use commercial items, such as TRONLY company make).

포스핀 화합물로서는, 페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀옥사이드, 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀옥사이드 등의 아실포스핀옥사이드를 들 수 있다. 포스핀 화합물은, 이르가큐어(등록 상품) TPO, 이르가큐어 819(BASF 재팬(주) 제조) 등을 들 수 있다.Examples of the phosphine compound include acylphosphine oxides such as phenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide and diphenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide. Examples of the phosphine compound include Irgacure (registered product) TPO and Irgacure 819 (manufactured by BASF Japan Co., Ltd.).

산 발생제는, 방향족 요오도늄염이나 방향족 술포늄염 등의 오늄염; 방향족 디아조늄염; 철-아렌 착체 등을 들 수 있다.The acid generator may be an onium salt such as an aromatic iodonium salt or an aromatic sulfonium salt; aromatic diazonium salts; An iron-arene complex etc. are mentioned.

방향족 요오도늄염은, 디아릴요오도늄 양이온을 갖는 화합물이고, 상기 양이온으로서, 전형적으로는 디페닐요오도늄 양이온을 들 수 있다. 방향족 술포늄염은, 트리아릴술포늄 양이온을 갖는 화합물이고, 상기 양이온으로서, 전형적으로는 트리페닐술포늄 양이온이나 4,4'-비스(디페닐술포니오)디페닐술피드 양이온 등을 들 수 있다. 방향족 디아조늄염은, 디아조늄 양이온을 갖는 화합물이고, 상기 양이온으로서, 전형적으로는 벤젠디아조늄 양이온을 들 수 있다. 또한, 철-아렌 착체는, 전형적으로는 시클로펜타디에닐철(II) 아렌 양이온 착염이다.The aromatic iodonium salt is a compound having a diaryliodonium cation, and examples of the cation include typically a diphenyliodonium cation. The aromatic sulfonium salt is a compound having a triarylsulfonium cation, and examples of the cation include typically a triphenylsulfonium cation and a 4,4'-bis(diphenylsulfonio)diphenylsulfide cation. have. An aromatic diazonium salt is a compound which has a diazonium cation, and a benzenediazonium cation is mentioned typically as said cation. In addition, the iron-arene complex is typically a cyclopentadienyl iron(II) arene cation complex salt.

위에 나타낸 양이온은, 아니온(음이온)과 쌍이 되어 광양이온 발생제를 구성한다. 광양이온 발생제를 구성하는 음이온의 예를 들면, 특수 인계 음이온[(Rf)nPF 6-n]-, 헥사플루오로포스페이트 음이온 PF6 -, 헥사플루오로안티모네이트 음이온 SbF6 -, 펜타플루오로히드록시안티모네이트 음이온 SbF5(OH)-, 헥사플루오로아세네이트 음이온 AsF6 -, 테트라플루오로보레이트 음이온 BF4 -, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 음이온 B(C6F5)4 - 등이 있다. 그 중에서도, 양이온 중합성 화합물의 경화성 및 얻어지는 점착제층의 안전성의 관점에서, 특수 인계 음이온[(Rf)nPF6-n]-, 헥사플루오로포스페이트 음이온 PF6 -, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 음이온 B(C6F5)4 -, 헥사플루오로안티모네이트 음이온 SbF6 -인 것이 바람직하다.The cation shown above is paired with an anion (anion) to constitute a photocation generator. Examples of anions constituting the photocation generator include a special phosphorus anion [(Rf) n PF 6-n ] - , hexafluorophosphate anion PF 6 - , hexafluoroantimonate anion SbF 6 - , pentafluoro rhohydroxyantimonate anion SbF 5 (OH) - , hexafluoroacetate anion AsF 6 - , tetrafluoroborate anion BF 4 - , tetrakis(pentafluorophenyl)borate anion B(C 6 F 5 ) 4 - and so on. Among them, special phosphorus anion [(Rf) n PF 6-n ] − , hexafluorophosphate anion PF 6 − , tetrakis (pentafluorophenyl ) borate anion B(C 6 F 5 ) 4 - , hexafluoroantimonate anion SbF 6 - is preferred.

광염기 발생제로서는, 카르바메이트 화합물, α-아미노케톤 화합물, 4급 암모늄 화합물, O-아실옥심 화합물, 아미노시클로프로페논 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the photobase generator include carbamate compounds, α-aminoketone compounds, quaternary ammonium compounds, O-acyloxime compounds, aminocyclopropenone compounds, and the like.

카르바메이트 화합물로서는, 예컨대, 1-(2-안트라퀴노닐)에틸 1-피페리딘카르복실레이트, 1-(2-안트라퀴노닐)에틸 1H-2-에틸이미다졸-1-카르복실레이트, 9-안트릴메틸 1-피페리딘카르복실레이트, 9-안트릴메틸 N,N-디에틸카르바메이트, 9-안트릴메틸 N-프로필카르바메이트, 9-안트릴메틸 N-시클로헥실카르바메이트, 9-안트릴메틸 1H-이미다졸-1-카르복실레이트, 9-안트릴메틸 N,N-디옥틸카르바메이트, 9-안트릴메틸 1-(4-히드록시피페리딘)카르복실레이트, 1-피레닐메틸 1-피페리딘카르복실레이트, 비스〔1-(2-안트라퀴노닐)에틸〕 1,6-헥산디일비스카르바메이트, 비스(9-안트릴메틸) 1,6-헥산디일비스카르바메이트 등을 들 수 있다.Examples of the carbamate compound include 1-(2-anthraquinonyl)ethyl 1-piperidinecarboxylate, 1-(2-anthraquinonyl)ethyl 1H-2-ethylimidazole-1-carboxylate. Rate, 9-anthrylmethyl 1-piperidinecarboxylate, 9-anthrylmethyl N,N-diethylcarbamate, 9-anthrylmethyl N-propylcarbamate, 9-anthrylmethyl N- Cyclohexylcarbamate, 9-anthrylmethyl 1H-imidazole-1-carboxylate, 9-anthrylmethyl N,N-dioctylcarbamate, 9-anthrylmethyl 1-(4-hydroxypi) Peridine)carboxylate, 1-pyrenylmethyl 1-piperidinecarboxylate, bis[1-(2-anthraquinonyl)ethyl] 1,6-hexanediylbiscarbamate, bis(9-an trylmethyl) 1,6-hexanediyl biscarbamate, etc. are mentioned.

α-아미노케톤 화합물로서는, 예컨대, 다음과 같은 것이 알려져 있다. 1-페닐-2-(4-모르폴리노벤조일)-2-디메틸아미노부탄, 2-(4-메틸티오벤조일)-2-모르폴리노프로판 등을 들 수 있다.As the α-aminoketone compound, for example, the following are known. 1-phenyl-2-(4-morpholinobenzoyl)-2-dimethylaminobutane, 2-(4-methylthiobenzoyl)-2-morpholinopropane, etc. are mentioned.

광염기 발생제가 되는 4급 암모늄 화합물로서는, 예컨대, 1-(4-페닐티오페나실)-1-아조니아-4-아자비시클로[2,2,2]옥탄테트라페닐보레이트, 5-(4-페닐티오페나실)-1-아자-5-아조니아비시클로[4,3,0]-5-노넨 테트라페닐보레이트, 8-(4-페닐티오페나실)-1-아자-8-아조니아비시클로[5,4,0]-7-운데센테트라페닐보레이트 등을 들 수 있다.Examples of the quaternary ammonium compound serving as the photobase generator include 1-(4-phenylthiophenacyl)-1-azonia-4-azabicyclo[2,2,2]octanetetraphenylborate, 5-(4- Phenylthiophenacyl)-1-aza-5-azoniabicyclo[4,3,0]-5-nonene tetraphenylborate, 8-(4-phenylthiophenacyl)-1-aza-8-azoni Abicyclo[5,4,0]-7-undecenetetraphenylborate etc. are mentioned.

광염기 발생제가 되는 아미노시클로프로페논 화합물로서는, 예컨대, 2-디에틸아미노-3-페닐시클로프로페논, 2-디에틸아미노-3-(1-나프틸)시클로프로페논, 2-피롤리디닐-3-페닐시클로프로페논, 2-이미다졸릴-3-페닐시클로프로페논, 2-이소프로필아미노-3-페닐시클로프로페논 등을 들 수 있다.Examples of the aminocyclopropenone compound serving as the photobase generator include 2-diethylamino-3-phenylcyclopropenone, 2-diethylamino-3-(1-naphthyl)cyclopropenone, and 2-pyrrolidinyl. -3-phenylcyclopropenone, 2-imidazolyl-3-phenylcyclopropenone, 2-isopropylamino-3-phenylcyclopropenone, and the like.

열염기 발생제로서는, 2-(4-비페닐)-2-프로필 카르바메이트, 및 1,1-디메틸-2-시아노에틸 카르바메이트 등의 카르바메이트 유도체, 요소나 N,N,N'-트리메틸요소 등의 요소 유도체, 1,4-디히드로니코틴아미드 등의 디히드로피리딘 유도체, 디시안디아미드, 유기염이나 무기염 등의 산과 염기를 포함하는 염 등을 들 수 있다.Examples of the thermal base generator include carbamate derivatives such as 2-(4-biphenyl)-2-propyl carbamate and 1,1-dimethyl-2-cyanoethyl carbamate; urea, N,N; urea derivatives such as N'-trimethylurea, dihydropyridine derivatives such as 1,4-dihydronicotinamide, dicyandiamide, and salts containing acids and bases such as organic salts and inorganic salts.

개시제(D)의 함유량은, 수지(A) 100 질량부에 대해, 통상 0.01∼20 질량부이고, 0.1∼10 질량부인 것이 바람직하며, 0.5∼5 질량부인 것이 보다 바람직하고, 1∼3 질량부인 것이 더욱 바람직하다.Content of initiator (D) is 0.01-20 mass parts normally with respect to 100 mass parts of resin (A), It is preferable that it is 0.1-10 mass parts, It is more preferable that it is 0.5-5 mass parts, It is 1-3 mass parts more preferably.

<라디칼 경화성 성분(E)><Radically curable component (E)>

라디칼 경화성 성분(E)으로서는, 라디칼 중합 반응에 의해 경화하는 모노머 또는 올리고머 등을 들 수 있다. As a radical-curable component (E), the monomer, an oligomer, etc. which harden|cure by a radical polymerization reaction are mentioned.

라디칼 경화성 성분(E)으로서는, 단작용 또는 다작용의 (메트)아크릴레이트계 화합물, 스티렌계 화합물, 비닐계 화합물 등을 들 수 있다. Examples of the radical-curable component (E) include monofunctional or polyfunctional (meth)acrylate-based compounds, styrene-based compounds, and vinyl-based compounds.

본 발명의 점착제 조성물은 라디칼 경화성 성분(E)을 2종 이상 포함하고 있어도 좋다.The adhesive composition of this invention may contain 2 or more types of radical curable component (E).

(메트)아크릴레이트계 화합물로서는, 분자 내에 적어도 1개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 (메트)아크릴레이트 모노머, (메트)아크릴아미드 모노머, 및 분자 내에 적어도 2개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 (메트)아크릴 올리고머 등의 (메트)아크릴로일기 함유 화합물을 들 수 있다. (메트)아크릴 올리고머는 바람직하게는, 분자 내에 적어도 2개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 (메트)아크릴레이트 올리고머이다. (메트)아크릴계 화합물은, 1종만을 단독으로 이용해도 좋고 2종 이상을 병용해도 좋다.As the (meth)acrylate-based compound, a (meth)acrylate monomer having at least one (meth)acryloyloxy group in the molecule, a (meth)acrylamide monomer, and at least two (meth)acryloyl groups in the molecule (meth)acryloyl group containing compounds, such as the (meth)acryl oligomer which has it, are mentioned. The (meth)acryl oligomer is preferably a (meth)acrylate oligomer having at least two (meth)acryloyloxy groups in the molecule. A (meth)acrylic-type compound may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

(메트)아크릴레이트 모노머로서는, 분자 내에 1개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 단작용 (메트)아크릴레이트 모노머, 분자 내에 2개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 2작용 (메트)아크릴레이트 모노머, 분자 내에 3개 이상의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 다작용 (메트)아크릴레이트 모노머를 들 수 있다.As a (meth)acrylate monomer, the monofunctional (meth)acrylate monomer which has one (meth)acryloyloxy group in a molecule|numerator, and the bifunctional (meth)acrylate which has two (meth)acryloyloxy groups in a molecule|numerator Monomers and polyfunctional (meth)acrylate monomers having three or more (meth)acryloyloxy groups in the molecule are exemplified.

단작용 (메트)아크릴레이트 모노머로서는, 알킬(메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 알킬(메트)아크릴레이트에 있어서, 그 알킬기의 탄소수가 3 이상인 경우에는 직쇄, 분기, 환상(環狀)의 어느 것이어도 좋다. 알킬(메트)아크릴레이트로서는, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 이소프로필(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the monofunctional (meth)acrylate monomer include alkyl (meth)acrylate. Alkyl (meth)acrylate WHEREIN: When carbon number of the alkyl group is 3 or more, any of linear, branched, and cyclic|annular (環狀) may be sufficient. Examples of the alkyl (meth) acrylate include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate ) acrylate and 2-ethylhexyl (meth)acrylate.

또한, 단작용 (메트)아크릴레이트 모노머로서는, 벤질(메트)아크릴레이트 등의 아랄킬(메트)아크릴레이트; 이소보르닐(메트)아크릴레이트 등의 테르펜 알코올의 (메트)아크릴레이트; 테트라히드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트 등의 테트라히드로푸르푸릴 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트; 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 시클로헥실메틸메타크릴레이트, 디시클로펜타닐아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 1,4-시클로헥산디메탄올모노아크릴레이트 등의 알킬기 부위에 시클로알킬기를 갖는 (메트)아크릴레이트; N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트 등의 아미노알킬(메트)아크릴레이트; 2-페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 에틸카르비톨(메트)아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트 등의 알킬 부위에 에테르 결합을 갖는 (메트)아크릴레이트 등도 들 수 있다.Moreover, as a monofunctional (meth)acrylate monomer, Aralkyl (meth)acrylates, such as benzyl (meth)acrylate; (meth)acrylates of terpene alcohols such as isobornyl (meth)acrylate; (meth)acrylates having a tetrahydrofurfuryl structure such as tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate; A cycloalkyl group at the alkyl group site of cyclohexyl (meth) acrylate, cyclohexylmethyl methacrylate, dicyclopentanyl acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, 1,4-cyclohexanedimethanol monoacrylate, etc. (meth)acrylate having; aminoalkyl (meth)acrylates such as N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate; 2-phenoxyethyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, ethyl carbitol (meth) acrylate, phenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate having an ether bond in the alkyl moiety (meth)acrylate etc. are mentioned.

또한, 단작용 (메트)아크릴레이트 모노머로서는, 알킬 부위에 수산기를 갖는 단작용 (메트)아크릴레이트; 알킬 부위에 카르복실기를 갖는 단작용 (메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 알킬 부위에 수산기를 갖는 단작용 (메트)아크릴레이트로서는, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2- 또는 3-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판모노(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨모노(메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 알킬 부위에 카르복실기를 갖는 단작용 (메트)아크릴레이트로서는, 2-카르복시에틸(메트)아크릴레이트, ω-카르복시-폴리카프로락톤(n=2)모노(메트)아크릴레이트, 1-[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]프탈산, 1-[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]헥사히드로프탈산, 1-[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]숙신산, 4-[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]트리멜리트산, N-(메트)아크릴로일옥시-N',N'-디카르복시메틸-p-페닐렌디아민 등을 들 수 있다.Moreover, as a monofunctional (meth)acrylate monomer, the monofunctional (meth)acrylate which has a hydroxyl group in an alkyl part; and monofunctional (meth)acrylates having a carboxyl group in the alkyl moiety. Examples of the monofunctional (meth)acrylate having a hydroxyl group in the alkyl moiety include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2- or 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, and 4-hydroxybutyl (meth)acrylate. and 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)acrylate, trimethylolpropane mono(meth)acrylate, and pentaerythritol mono(meth)acrylate. Examples of the monofunctional (meth)acrylate having a carboxyl group in the alkyl moiety include 2-carboxyethyl (meth)acrylate, ω-carboxy-polycaprolactone (n=2) mono(meth)acrylate, 1-[2-( Meth)acryloyloxyethyl]phthalic acid, 1-[2-(meth)acryloyloxyethyl]hexahydrophthalic acid, 1-[2-(meth)acryloyloxyethyl]succinic acid, 4-[2-( meth)acryloyloxyethyl] trimellitic acid, N-(meth)acryloyloxy-N',N'-dicarboxymethyl-p-phenylenediamine, etc. are mentioned.

(메트)아크릴아미드 모노머는, 바람직하게는 N- 위치에 치환기를 갖는 (메트)아크릴아미드이다. 그 N- 위치의 치환기의 전형적인 예는 알킬기이지만, (메트)아크릴아미드의 질소 원자와 함께 고리를 형성하고 있어도 좋고, 이 고리는, 탄소 원자 및 (메트)아크릴아미드의 질소 원자에 더하여, 산소 원자를 고리 구성원으로서 가져도 좋다. 또한, 그 고리를 구성하는 탄소 원자에는, 알킬이나 옥소(=O)와 같은 치환기가 결합하고 있어도 좋다.The (meth)acrylamide monomer is preferably (meth)acrylamide having a substituent at the N-position. A typical example of the substituent at the N-position is an alkyl group, but may form a ring together with the nitrogen atom of (meth)acrylamide, and this ring is an oxygen atom in addition to a carbon atom and the nitrogen atom of (meth)acrylamide. may have as ring members. Further, a substituent such as alkyl or oxo (=O) may be bonded to a carbon atom constituting the ring.

N-치환(메트)아크릴아미드로서는, N-메틸(메트)아크릴아미드, N-에틸(메트)아크릴아미드, N-이소프로필(메트)아크릴아미드, N-n-부틸(메트)아크릴아미드, N-t-부틸(메트)아크릴아미드, N-헥실(메트)아크릴아미드와 같은 N-알킬(메트)아크릴아미드; N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N,N-디에틸(메트)아크릴아미드와 같은 N,N-디알킬(메트)아크릴아미드 등을 들 수 있다. 또한, N-치환기는 수산기를 갖는 알킬기여도 좋고, 그 예로서, N-히드록시메틸(메트)아크릴아미드, N-(2-히드록시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-히드록시프로필)(메트)아크릴아미드 등을 들 수 있다. 또한, 상기한 5원환 또는 6원환을 형성하는 N-치환(메트)아크릴아미드의 구체적인 예로서는, N-아크릴로일피롤리딘, 3-아크릴로일-2-옥사졸리디논, 4-아크릴로일모르폴린, N-아크릴로일피페리딘, N-메타크릴로일피페리딘 등을 들 수 있다.As N-substituted (meth)acrylamide, N-methyl (meth)acrylamide, N-ethyl (meth)acrylamide, N-isopropyl (meth)acrylamide, N-n-butyl (meth)acrylamide, N-t-butyl N-alkyl (meth)acrylamide such as (meth)acrylamide and N-hexyl (meth)acrylamide; and N,N-dialkyl (meth)acrylamide such as N,N-dimethyl (meth)acrylamide and N,N-diethyl (meth)acrylamide. Further, the N-substituent may be an alkyl group having a hydroxyl group, and examples thereof include N-hydroxymethyl (meth)acrylamide, N-(2-hydroxyethyl)(meth)acrylamide, N-(2-hydroxy). propyl) (meth)acrylamide etc. are mentioned. In addition, as specific examples of the N-substituted (meth)acrylamide forming the above-mentioned 5-membered ring or 6-membered ring, N-acryloylpyrrolidine, 3-acryloyl-2-oxazolidinone, 4-acryloylmorph Pauline, N-acryloylpiperidine, N-methacryloylpiperidine, etc. are mentioned.

2작용 (메트)아크릴레이트 모노머로서는,As a bifunctional (meth)acrylate monomer,

에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,3-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메트)아크릴레이트 및 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 알킬렌글리콜디(메트)아크릴레이트;Ethylene glycol di(meth)acrylate, 1,3-butanediol di(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, 1,9- alkylene glycol di(meth)acrylates such as nonanediol di(meth)acrylate and neopentyl glycol di(meth)acrylate;

디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트 및 폴리테트라메틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 폴리옥시알킬렌글리콜디(메트)아크릴레이트;Diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, dipropylene glycol di(meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, poly polyoxyalkylene glycol di(meth)acrylates such as propylene glycol di(meth)acrylate and polytetramethylene glycol di(meth)acrylate;

테트라플루오로에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 할로겐 치환 알킬렌글리콜의 디(메트)아크릴레이트;di(meth)acrylates of halogen-substituted alkylene glycols such as tetrafluoroethylene glycol di(meth)acrylate;

트리메틸올프로판디(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨디(메트)아크릴레이트 등의 지방족 폴리올의 디(메트)아크릴레이트;di(meth)acrylates of aliphatic polyols such as trimethylolpropane di(meth)acrylate, ditrimethylolpropane di(meth)acrylate, and pentaerythritol di(meth)acrylate;

수소 첨가 디시클로펜타디에닐디(메트)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올디(메트)아크릴레이트 등의 수소 첨가 디시클로펜타디엔 또는 트리시클로데칸디알칸올의 디(메트)아크릴레이트;di(meth)acrylates of hydrogenated dicyclopentadiene or tricyclodecanedialkanol such as hydrogenated dicyclopentadienyldi(meth)acrylate and tricyclodecanedimethanoldi(meth)acrylate;

1,3-디옥산-2,5-디일디(메트)아크릴레이트〔별명: 디옥산글리콜디(메트)아크릴레이트〕 등의 디옥산글리콜 또는 디옥산디알칸올의 디(메트)아크릴레이트;di(meth)acrylates of dioxane glycol or dioxane dialkanol such as 1,3-dioxane-2,5-diyldi(meth)acrylate [alias: dioxane glycol di(meth)acrylate];

비스페놀 A 에틸렌옥사이드 부가물 디아크릴레이트물, 비스페놀 F 에틸렌옥사이드 부가물 디아크릴레이트물 등의 비스페놀 A 또는 비스페놀 F의 알킬렌옥사이드 부가물의 디(메트)아크릴레이트;di(meth)acrylates of alkylene oxide adducts of bisphenol A or bisphenol F such as bisphenol A ethylene oxide adduct diacrylate and bisphenol F ethylene oxide adduct diacrylate;

비스페놀 A 디글리시딜에테르의 아크릴산 부가물, 비스페놀 F 디글리시딜에테르의 아크릴산 부가물 등의 비스페놀 A 또는 비스페놀 F의 에폭시디(메트)아크릴레이트;Epoxy di(meth)acrylate of bisphenol A or bisphenol F, such as an acrylic acid adduct of bisphenol A diglycidyl ether and an acrylic acid adduct of bisphenol F diglycidyl ether;

실리콘디(메트)아크릴레이트;silicone di(meth)acrylate;

히드록시피발산네오펜틸글리콜에스테르의 디(메트)아크릴레이트;di(meth)acrylate of hydroxypivalic acid neopentyl glycol ester;

2,2-비스[4-(메트)아크릴로일옥시에톡시에톡시페닐]프로판;2,2-bis[4-(meth)acryloyloxyethoxyethoxyphenyl]propane;

2,2-비스[4-(메트)아크릴로일옥시에톡시에톡시시클로헥실]프로판;2,2-bis[4-(meth)acryloyloxyethoxyethoxycyclohexyl]propane;

2-(2-히드록시-1,1-디메틸에틸)-5-에틸-5-히드록시메틸-1,3-디옥산〕의 디(메트)아크릴레이트;di(meth)acrylate of 2-(2-hydroxy-1,1-dimethylethyl)-5-ethyl-5-hydroxymethyl-1,3-dioxane];

트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트디(메트)아크릴레이트; 등을 들 수 있다.tris(hydroxyethyl)isocyanurate di(meth)acrylate; and the like.

3작용 이상의 다작용 (메트)아크릴레이트 모노머로서는, 글리세린트리(메트)아크릴레이트, 알콕시화 글리세린트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 등의 3작용 이상의 지방족 폴리올의 폴리(메트)아크릴레이트; 3작용 이상의 할로겐 치환 폴리올의 폴리(메트)아크릴레이트; 글리세린의 알킬렌옥사이드 부가물의 트리(메트)아크릴레이트; 트리메틸올프로판의 알킬렌옥사이드 부가물의 트리(메트)아크릴레이트; 1,1,1-트리스[(메트)아크릴로일옥시에톡시에톡시]프로판; 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트트리(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the trifunctional or higher polyfunctional (meth)acrylate monomer include glycerin tri(meth)acrylate, alkoxylated glycerin tri(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, and ditrimethylolpropane tri(meth)acryl. rate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta ( poly(meth)acrylates of trifunctional or higher aliphatic polyols such as meth)acrylate and dipentaerythritol hexa(meth)acrylate; poly(meth)acrylates of trifunctional or more halogen-substituted polyols; tri(meth)acrylate of an alkylene oxide adduct of glycerin; tri(meth)acrylate of the alkylene oxide adduct of trimethylolpropane; 1,1,1-tris[(meth)acryloyloxyethoxyethoxy]propane; Tris(hydroxyethyl) isocyanurate tri(meth)acrylate etc. are mentioned.

또한, 시판품을 이용해도 좋다. 시판품으로서는, 예컨대, A-DPH-12E, A-TMPT, A-9300(신나카무라 가가쿠(주)사 제조) 등을 들 수 있다.Moreover, you may use a commercial item. As a commercial item, A-DPH-12E, A-TMPT, A-9300 (made by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) etc. are mentioned, for example.

(메트)아크릴 올리고머로서는, 우레탄(메트)아크릴 올리고머, 폴리에스테르(메트)아크릴 올리고머, 에폭시(메트)아크릴 올리고머 등을 들 수 있다.As a (meth)acryl oligomer, a urethane (meth)acryl oligomer, a polyester (meth)acryl oligomer, an epoxy (meth)acryl oligomer, etc. are mentioned.

우레탄(메트)아크릴 올리고머란, 분자 내에 우레탄 결합(-NHCOO-) 및 적어도 2개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물이다. 구체적으로는, 분자 내에 적어도 1개의 (메트)아크릴로일기 및 적어도 1개의 수산기를 각각 갖는 수산기 함유 (메트)아크릴 모노머와 폴리이소시아네이트의 우레탄화 반응 생성물이나, 폴리올을 폴리이소시아네이트와 반응시켜 얻어지는 말단 이소시아나토기 함유 우레탄 화합물과, 분자 내에 적어도 1개의 (메트)아크릴로일기 및 적어도 1개의 수산기를 각각 갖는 (메트)아크릴 모노머의 우레탄화 반응 생성물 등일 수 있다.A urethane (meth)acryl oligomer is a compound which has a urethane bond (-NHCOO-) and at least two (meth)acryloyl groups in a molecule|numerator. Specifically, a urethanation reaction product of a hydroxyl group-containing (meth)acrylic monomer and polyisocyanate each having at least one (meth)acryloyl group and at least one hydroxyl group in the molecule, or a terminal isoform obtained by reacting a polyol with a polyisocyanate. It may be a urethanation reaction product of a cyanato group-containing urethane compound and a (meth)acrylic monomer each having at least one (meth)acryloyl group and at least one hydroxyl group in the molecule.

상기 우레탄화 반응에 이용되는 수산기 함유 (메트)아크릴 모노머는, 예컨대 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 모노머일 수 있고, 그 구체예는, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 글리세린디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트를 포함한다. 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 모노머 이외의 구체예는, N-히드록시에틸(메트)아크릴아미드, N-메틸올(메트)아크릴아미드 등의 N-히드록시알킬(메트)아크릴아미드 모노머를 포함한다.The hydroxyl group-containing (meth)acrylic monomer used in the urethanization reaction may be, for example, a hydroxyl group-containing (meth)acrylate monomer, and specific examples thereof include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)acrylate, glycerin di(meth)acrylate, trimethylolpropane di(meth)acrylate , pentaerythritol tri (meth) acrylate, and dipentaerythritol penta (meth) acrylate. Specific examples other than the hydroxyl group-containing (meth)acrylate monomer include N-hydroxyalkyl (meth)acrylamide monomers such as N-hydroxyethyl (meth)acrylamide and N-methylol (meth)acrylamide. .

수산기 함유 (메트)아크릴 모노머와의 우레탄화 반응에 제공되는 폴리이소시아네이트로서는, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 톨릴렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 이들 디이소시아네이트 중 방향족의 이소시아네이트류를 수소 첨가하여 얻어지는 디이소시아네이트(예컨대, 수소 첨가 톨릴렌디이소시아네이트, 수소 첨가 크실릴렌디이소시아네이트 등), 트리페닐메탄트리이소시아네이트, 디벤질벤젠트리이소시아네이트 등의 디- 또는 트리-이소시아네이트, 및 상기한 디이소시아네이트를 다량화시켜 얻어지는 폴리이소시아네이트 등을 들 수 있다.Examples of the polyisocyanate used for the urethanation reaction with the hydroxyl group-containing (meth)acrylic monomer include hexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, and these Diisocyanates obtained by hydrogenating aromatic isocyanates among diisocyanates (for example, hydrogenated tolylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, etc.), triphenylmethane triisocyanate, di- or tri- such as dibenzylbenzene triisocyanate Polyisocyanate obtained by multiplying isocyanate and said diisocyanate, etc. are mentioned.

또한, 폴리이소시아네이트와의 반응에 의해 말단 이소시아나토기 함유 우레탄 화합물로 하기 위해서 이용되는 폴리올로서는, 방향족, 지방족 또는 지환식의 폴리올 외에, 폴리에스테르폴리올, 폴리에테르폴리올 등을 사용할 수 있다. 지방족 및 지환식의 폴리올로서는, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨, 디메틸올헵탄, 디메틸올프로피온산, 디메틸올부탄산, 글리세린, 수소 첨가 비스페놀 A 등을 들 수 있다.Moreover, as a polyol used in order to set it as a terminal isocyanato group containing urethane compound by reaction with polyisocyanate, polyester polyol, polyether polyol, etc. other than an aromatic, aliphatic or alicyclic polyol can be used. Examples of the aliphatic and alicyclic polyols include 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, trimethylolethane, trimethylolpropane, and ditrimethylol. Propane, pentaerythritol, dipentaerythritol, dimethylol heptane, dimethylol propionic acid, dimethylol butanoic acid, glycerin, hydrogenated bisphenol A, etc. are mentioned.

폴리에스테르폴리올은, 상기한 폴리올과 다염기성 카르복실산 또는 그 무수물의 탈수 축합 반응에 의해 얻어지는 것이다. 다염기성 카르복실산 또는 그 무수물의 예를, 무수물일 수 있는 것에 「(무수)」를 붙여 나타내면, (무수)숙신산, 아디프산, (무수)말레산, (무수)이타콘산, (무수)트리멜리트산, (무수)피로멜리트산, (무수)프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 헥사히드로(무수)프탈산 등이 있다.A polyester polyol is obtained by the dehydration-condensation reaction of an above-mentioned polyol, polybasic carboxylic acid, or its anhydride. Examples of polybasic carboxylic acids or their anhydrides are expressed by adding "(anhydride)" to what may be anhydride, (anhydride) succinic acid, adipic acid, (anhydride) maleic acid, (anhydride) itaconic acid, (anhydride) trimellitic acid, (anhydrous) pyromellitic acid, (anhydrous) phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, hexahydro (anhydrous) phthalic acid, and the like.

폴리에테르폴리올은, 폴리알킬렌글리콜 외에, 상기한 폴리올 또는 디히드록시벤젠류와 알킬렌옥사이드의 반응에 의해 얻어지는 폴리옥시알킬렌 변성 폴리올 등일 수 있다.The polyether polyol may be, in addition to polyalkylene glycol, polyoxyalkylene-modified polyol obtained by reaction of the above-described polyol or dihydroxybenzene with alkylene oxide.

폴리에스테르(메트)아크릴레이트 올리고머란, 분자 내에 에스테르 결합과 적어도 2개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 올리고머를 의미한다.A polyester (meth)acrylate oligomer means the oligomer which has an ester bond and at least two (meth)acryloyloxy groups in a molecule|numerator.

폴리에스테르(메트)아크릴레이트 올리고머는, 예컨대, (메트)아크릴산, 다염기성 카르복실산 또는 그 무수물, 및 폴리올을 탈수 축합 반응시킴으로써 얻을 수 있다.The polyester (meth)acrylate oligomer can be obtained, for example, by subjecting (meth)acrylic acid, polybasic carboxylic acid or anhydride thereof, and polyol to a dehydration condensation reaction.

다염기성 카르복실산 또는 그 무수물로서는, 무수 숙신산, 아디프산, 무수 말레산, 무수 이타콘산, 무수 트리멜리트산, 무수 피로멜리트산, 헥사히드로 무수 프탈산, 프탈산, 숙신산, 말레산, 이타콘산, 트리멜리트산, 피로멜리트산, 헥사히드로프탈산, 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산 등을 들 수 있다.Examples of the polybasic carboxylic acid or anhydride thereof include succinic anhydride, adipic acid, maleic anhydride, itaconic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, phthalic acid, succinic acid, maleic acid, itaconic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, hexahydrophthalic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, and the like.

폴리올로서는, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨, 디메틸올헵탄, 디메틸올프로피온산, 디메틸올부탄산, 글리세린, 수소 첨가 비스페놀 A 등을 들 수 있다.Examples of the polyol include 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, trimethylolethane, trimethylolpropane, ditrimethylolpropane, pentaerythritol. , dipentaerythritol, dimethylol heptane, dimethylol propionic acid, dimethylol butanoic acid, glycerin, hydrogenated bisphenol A, and the like.

에폭시(메트)아크릴 올리고머는, 폴리글리시딜에테르와 (메트)아크릴산의 부가 반응에 의해 얻을 수 있다. 에폭시(메트)아크릴 올리고머는, 분자 내에 적어도 2개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는다.The epoxy (meth)acryl oligomer can be obtained by addition reaction of polyglycidyl ether and (meth)acrylic acid. The epoxy (meth)acryl oligomer has at least two (meth)acryloyloxy groups in the molecule.

폴리글리시딜에테르로서는, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 트리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 비스페놀 A 디글리시딜에테르 등을 들 수 있다.As polyglycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl Ether etc. are mentioned.

스티렌계 화합물로서는, 스티렌; 메틸스티렌, 디메틸스티렌, 트리메틸스티렌, 에틸스티렌, 디에틸스티렌, 트리에틸스티렌, 프로필스티렌, 부틸스티렌, 헥실스티렌, 헵틸스티렌, 옥틸스티렌 등의 알킬스티렌; 플루오로스티렌, 클로로스티렌, 브로모스티렌, 디브로모스티렌, 요오드스티렌 등의 할로겐화스티렌; 니트로스티렌; 아세틸스티렌; 메톡시스티렌; 및 디비닐벤젠을 들 수 있다.Examples of the styrene-based compound include styrene; alkyl styrenes such as methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, diethyl styrene, triethyl styrene, propyl styrene, butyl styrene, hexyl styrene, heptyl styrene, and octyl styrene; halogenated styrenes such as fluorostyrene, chlorostyrene, bromostyrene, dibromostyrene, and iodine styrene; nitrostyrene; acetyl styrene; methoxystyrene; and divinylbenzene.

비닐계 단량체로서는, 아세트산비닐, 프로피온산비닐, 부티르산비닐, 2-에틸헥산산비닐, 라우르산비닐 등의 지방산비닐에스테르; 염화비닐, 브롬화비닐 등의 할로겐화비닐; 염화비닐리덴 등의 할로겐화비닐리덴; 비닐피리딘, 비닐피롤리돈, 비닐카르바졸 등의 질소 함유 복소 방향족 비닐; 부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 공액 디엔; 및 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 불포화 니트릴을 들 수 있다.Examples of the vinyl-based monomer include fatty acid vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl 2-ethylhexanoate, and vinyl laurate; vinyl halides such as vinyl chloride and vinyl bromide; vinylidene halides such as vinylidene chloride; nitrogen-containing heteroaromatic vinyls such as vinylpyridine, vinylpyrrolidone and vinylcarbazole; conjugated dienes such as butadiene, isoprene and chloroprene; and unsaturated nitriles such as acrylonitrile and methacrylonitrile.

라디칼 경화성 성분(E)은, (메트)아크릴레이트 화합물인 것이 바람직하고, 다작용 (메트)아크릴레이트 화합물인 것이 보다 바람직하다. 다작용 (메트)아크릴레이트 화합물은 3작용 이상인 것이 바람직하다.It is preferable that it is a (meth)acrylate compound, and, as for a radically curable component (E), it is more preferable that it is a polyfunctional (meth)acrylate compound. The polyfunctional (meth)acrylate compound is preferably trifunctional or more.

라디칼 경화성 성분(E)의 함유량은, 수지(A) 100 질량부에 대해, 통상 0.5∼100 질량부이고, 1∼70 질량부인 것이 바람직하며, 3∼50 질량부인 것이 보다 바람직하고, 5∼30 질량부인 것이 더욱 바람직하며, 7.5∼20 질량부인 것이 특히 바람직하다.Content of radical curable component (E) is 0.5-100 mass parts normally with respect to 100 mass parts of resin (A), It is preferable that it is 1-70 mass parts, It is more preferable that it is 3-50 mass parts, 5-30 mass parts It is more preferable that it is a mass part, and it is especially preferable that it is 7.5-20 mass parts.

<가교제(F)><Crosslinking agent (F)>

가교제(F)로서는, 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 아지리딘계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제 등을 들 수 있고, 특히 점착제 조성물의 포트라이프 및 점착제층의 내구성, 가교 속도 등의 관점에서, 이소시아네이트계 가교제인 것이 바람직하다.Examples of the crosslinking agent (F) include an isocyanate-based crosslinking agent, an epoxy-based crosslinking agent, an aziridine-based crosslinking agent, and a metal chelate-based crosslinking agent. It is preferable to be

이소시아네이트계 가교제로서는, 분자 내에 적어도 2개의 이소시아나토기(-NCO)를 갖는 화합물이 바람직하고, 예컨대, 지방족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 헥사메틸렌디이소시아네이트 등), 지환족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 이소포론디이소시아네이트, 수소 첨가 디페닐메탄디이소시아네이트, 수소 첨가 크실릴렌디이소시아네이트), 방향족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 톨릴렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 나프탈렌디이소시아네이트, 트리페닐메탄트리이소시아네이트 등) 등을 들 수 있다. 또한 가교제(F)는, 상기 이소시아네이트계 화합물의 다가 알코올 화합물에 의한 부가체(어덕트체)[예컨대, 글리세롤, 트리메틸올프로판 등에 의한 부가체], 이소시아누레이트화물, 뷰렛형 화합물, 폴리에테르폴리올, 폴리에스테르폴리올, 아크릴폴리올, 폴리부타디엔폴리올, 폴리이소프렌폴리올 등과 부가 반응시킨 우레탄 프리폴리머형의 이소시아네이트 화합물 등의 유도체여도 좋다. 가교제(F)는 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중, 대표적으로는 방향족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 톨릴렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트), 지방족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 헥사메틸렌디이소시아네이트) 또는 이들의 다가 알코올 화합물(예컨대, 글리세롤, 트리메틸올프로판)에 의한 부가체, 또는 이소시아누레이트체를 들 수 있다. 가교제(F)가, 방향족 이소시아네이트계 화합물 및/또는 이들의 다가 알코올 화합물, 또는 이소시아누레이트체에 의한 부가체이면, 최적의 가교 밀도(또는 가교 구조)의 형성에 유리하기 때문인지, 점착제층의 내구성을 향상시킬 수 있다. 특히, 톨릴렌디이소시아네이트계 화합물 및/또는 이들의 다가 알코올 화합물에 의한 부가체이면, 예컨대 점착제층을 편광판에 적용한 경우 등이어도 내구성을 향상시킬 수 있다.As the isocyanate-based crosslinking agent, a compound having at least two isocyanato groups (-NCO) in the molecule is preferable, for example, an aliphatic isocyanate-based compound (such as hexamethylene diisocyanate), an alicyclic isocyanate-based compound (such as isophoronedi) Isocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate), aromatic isocyanate compounds (such as tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, naphthalene diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, etc.) and the like. In addition, the crosslinking agent (F) is an adduct (adduct) of the polyhydric alcohol compound of the isocyanate compound [eg, an adduct using glycerol, trimethylolpropane, etc.], an isocyanurate compound, a biuret compound, polyether Derivatives, such as a urethane prepolymer type isocyanate compound, which were addition-reacted with polyol, polyester polyol, acrylic polyol, polybutadiene polyol, polyisoprene polyol, etc. may be sufficient. A crosslinking agent (F) can be used individually or in combination of 2 or more types. Among these, representatively, aromatic isocyanate compounds (eg tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate), aliphatic isocyanate compounds (eg hexamethylene diisocyanate) or polyhydric alcohol compounds thereof (eg glycerol, trimethylolpropane) are used. an adduct or an isocyanurate body. If the crosslinking agent (F) is an aromatic isocyanate-based compound and/or a polyhydric alcohol compound thereof, or an adduct of an isocyanurate compound, this is because it is advantageous for the formation of an optimal crosslinking density (or crosslinking structure), the pressure-sensitive adhesive layer can improve the durability of In particular, if it is a tolylene diisocyanate-based compound and/or an adduct of these polyhydric alcohol compounds, durability can be improved even when, for example, an adhesive layer is applied to a polarizing plate.

가교제(F)의 함유량은, 수지(A) 100 질량부에 대해, 통상 0.01∼25 질량부이고, 바람직하게는 0.1∼15 질량부이며, 보다 바람직하게는 0.15∼7 질량부이고, 더욱 바람직하게는 0.2∼5 질량부이며, 특히 바람직하게는 0.25∼2 질량부이다.Content of a crosslinking agent (F) is 0.01-25 mass parts normally with respect to 100 mass parts of resin (A), Preferably it is 0.1-15 mass parts, More preferably, it is 0.15-7 mass parts, More preferably is 0.2 to 5 parts by mass, particularly preferably 0.25 to 2 parts by mass.

본 발명의 점착제 조성물은, 실란 화합물(G)을 더 함유하고 있어도 좋다.The adhesive composition of this invention may contain the silane compound (G) further.

실란 화합물(G)로서는, 예컨대, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 3-글리시독시프로필에톡시디메틸실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다.As the silane compound (G), for example, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris(2-methoxyethoxy)silane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyl Triethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropylethoxydimethylsilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldime oxysilane, 3-chloropropyl trimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyl trimethoxysilane, 3-mercaptopropyl trimethoxysilane, etc. are mentioned.

실란 화합물(G)은, 실리콘 올리고머여도 좋다. 실리콘 올리고머의 구체예를, 모노머끼리의 조합의 형태로 표기하면 다음과 같다.The silane compound (G) may be a silicone oligomer. Specific examples of silicone oligomers are described in the form of a combination of monomers as follows.

3-머캅토프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-머캅토프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-머캅토프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-머캅토프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 머캅토프로필기 함유 올리고머; 머캅토메틸트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 머캅토메틸트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 머캅토메틸트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 머캅토메틸트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 머캅토메틸기 함유 올리고머; 3-글리시독시프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머 등의 3-글리시독시프로필기 함유의 코폴리머; 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 메타크릴로일옥시프로필기 함유 올리고머; 3-아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 아크릴로일옥시프로필기 함유 올리고머; 비닐트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 비닐트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 비닐트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 비닐트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 비닐메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 비닐메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 비닐메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 비닐메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 비닐기 함유 올리고머; 3-아미노프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머 등의 아미노기 함유의 코폴리머 등.3-mercaptopropyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane-tetraethoxysilane oligomer, 3-mercaptopropyltriethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, 3- mercaptopropyl group-containing oligomers such as mercaptopropyltriethoxysilane-tetraethoxysilane oligomers; Mercaptomethyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, mercaptomethyltrimethoxysilane-tetraethoxysilane oligomer, mercaptomethyltriethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, mercaptomethyltriethoxysilane- mercaptomethyl group-containing oligomers such as tetraethoxysilane oligomers; 3-Glycidoxypropyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane-tetramethoxy Silane copolymer, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane 3-glycidoxy such as tetraethoxysilane copolymer, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, and 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer propyl group-containing copolymer; 3-Methacryloyloxypropyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane-tetraethoxysilane oligomer, 3-methacryloyloxypropyltriethoxysilane -Tetramethoxysilane oligomer, 3-methacryloyloxypropyltriethoxysilane-tetraethoxysilane oligomer, 3-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, 3-methacrylo Iloxypropylmethyldimethoxysilane-tetraethoxysilane oligomer, 3-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, 3-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane-tetraethoxysilane methacryloyloxypropyl group-containing oligomers such as oligomers; 3-Acryloyloxypropyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, 3-acryloyloxypropyltrimethoxysilane-tetraethoxysilane oligomer, 3-acryloyloxypropyltriethoxysilane-tetrameth Toxysilane oligomer, 3-acryloyloxypropyltriethoxysilane-tetraethoxysilane oligomer, 3-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, 3-acryloyloxypropylmethyldimethoxy Acryloyloxypropyl such as silane-tetraethoxysilane oligomer, 3-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, and 3-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane-tetraethoxysilane oligomer group-containing oligomers; Vinyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, vinyltrimethoxysilane-tetraethoxysilane oligomer, vinyltriethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, vinyltriethoxysilane-tetraethoxysilane oligomer, vinylmethyl Contains vinyl groups such as dimethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, vinylmethyldimethoxysilane-tetraethoxysilane oligomer, vinylmethyldiethoxysilane-tetramethoxysilane oligomer, and vinylmethyldiethoxysilane-tetraethoxysilane oligomer oligomers; 3-Aminopropyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-aminopropyltrimethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, 3-aminopropyltriethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3- Aminopropyltriethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, 3-aminopropylmethyldimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-aminopropylmethyldimethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, 3-aminopropyl amino group-containing copolymers such as methyldiethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer and 3-aminopropylmethyldiethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer;

실란 화합물(G)은, 하기 식 (g1)로 표시되는 실란 화합물이어도 좋다.The silane compound (G) may be a silane compound represented by the following formula (g1).

Figure pct00003
Figure pct00003

[식 중, A는, 탄소수 1∼20의 알칸디일기 또는 탄소수 3∼20의 2가의 지환식 탄화수소기를 나타내고, 상기 알칸디일기 및 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 좋고, R41은, 탄소수 1∼5의 알킬기를 나타내며, R42, R43, R44, R45 및 R46은, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼5의 알킬기 또는 탄소수 1∼5의 알콕시기를 나타낸다.][Wherein, A represents an alkanediyl group having 1 to 20 carbon atoms or a divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, and -CH 2 - constituting the alkanediyl group and the alicyclic hydrocarbon group is -O- Or it may be substituted with -CO-, R 41 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, R 42 , R 43 , R 44 , R 45 and R 46 are each independently an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or represents an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms.]

A로 표시되는 탄소수 1∼20의 알칸디일기로서는, 메틸렌기, 1,2-에탄디일기, 1,3-프로판디일기, 1,4-부탄디일기, 1,5-펜탄디일기, 1,6-헥산디일기, 1,7-헵탄디일기, 1,8-옥탄디일기, 1,9-노난디일기, 1,10-데칸디일기, 1,12-도데칸디일기, 1,14-테트라데칸디일기, 1,16-헥사데칸디일기, 1,18-옥타데칸디일기 및 1,20-이코산디일기를 들 수 있다. 탄소수 3∼20의 2가의 지환식 탄화수소기로서는, 1,3-시클로펜탄디일기 및 1,4-시클로헥산디일기를 들 수 있다. 상기 알칸디일기 및 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 -CH2-가 -O- 또는 -CO-로 치환된 기로서는, -CH2CH2-O-CH2CH2-, -CH2CH2-O-CH2CH2-O-CH2CH2-, -CH2CH2-O-CH2CH2-O-CH2CH2-O-CH2CH2-, -CH2CH2-CO-O-CH2CH2-, -CH2CH2-O-CH2CH2-CO-O-CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2-O-CH2CH2- 및 -CH2CH2CH2CH2-O-CH2CH2CH2CH2-를 들 수 있다.Examples of the alkanediyl group having 1 to 20 carbon atoms represented by A include a methylene group, 1,2-ethanediyl group, 1,3-propanediyl group, 1,4-butanediyl group, 1,5-pentanediyl group, 1 ,6-hexanediyl group, 1,7-heptanediyl group, 1,8-octanediyl group, 1,9-nonanediyl group, 1,10-decanediyl group, 1,12-dodecanediyl group, 1,14 -tetradecanediyl group, 1,16-hexadecanediyl group, 1,18-octadecanediyl group, and 1,20-icosandiyl group are mentioned. Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms include a 1,3-cyclopentanediyl group and a 1,4-cyclohexanediyl group. As a group in which -CH 2 - constituting the alkanediyl group and the alicyclic hydrocarbon group is substituted with -O- or -CO-, -CH 2 CH 2 -O-CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 - O-CH 2 CH 2 -O-CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 -O-CH 2 CH 2 -O-CH 2 CH 2 -O-CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 -CO -O-CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 -O-CH 2 CH 2 -CO-O-CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -O-CH 2 CH 2 - and -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -O-CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -.

R41∼R46으로 표시되는 탄소수 1∼5의 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기 및 펜틸기를 들 수 있고, R42∼R46으로 표시되는 탄소수 1∼5의 알콕시기로서는, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기, 이소부톡시기, tert-부톡시기 및 펜틸옥시기를 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms represented by R 41 to R 46 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group and a pentyl group, and R 42 to R 46 Examples of the alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms represented by , include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, a tert-butoxy group and a pentyloxy group.

식 (g1)로 표시되는 실란 화합물로서는, 예컨대, (트리메톡시실릴)메탄, 1,2-비스(트리메톡시실릴)에탄, 1,2-비스(트리에톡시실릴)에탄, 1,3-비스(트리메톡시실릴)프로판, 1,3-비스(트리에톡시실릴)프로판, 1,4-비스(트리메톡시실릴)부탄, 1,4-비스(트리에톡시실릴)부탄, 1,5-비스(트리메톡시실릴)펜탄, 1,5-비스(트리에톡시실릴)펜탄, 1,6-비스(트리메톡시실릴)헥산, 1,6-비스(트리에톡시실릴)헥산, 1,6-비스(트리프로폭시실릴)헥산, 1,8-비스(트리메톡시실릴)옥탄, 1,8-비스(트리에톡시실릴)옥탄, 1,8-비스(트리프로폭시실릴)옥탄 등의 비스(트리 C1-5 알콕시실릴) C1-10 알칸; 비스(디메톡시메틸실릴)메탄, 1,2-비스(디메톡시메틸실릴)에탄, 1,2-비스(디메톡시에틸실릴)에탄, 1,4-비스(디메톡시메틸실릴)부탄, 1,4-비스(디메톡시에틸실릴)부탄, 1,6-비스(디메톡시메틸실릴)헥산, 1,6-비스(디메톡시에틸실릴)헥산, 1,8-비스(디메톡시메틸실릴)옥탄, 1,8-비스(디메톡시에틸실릴)옥탄 등의 비스(디 C1-5 알콕시 C1-5 알킬실릴) C1-10 알칸; 1,6-비스(메톡시디메틸실릴)헥산, 1,8-비스(메톡시디메틸실릴)옥탄 등의 비스(모노 C1-5 알콕시-디 C1-5 알킬실릴) C1-10 알칸 등을 들 수 있다. 이들 중, 1,2-비스(트리메톡시실릴)에탄, 1,3-비스(트리메톡시실릴)프로판, 1,4-비스(트리메톡시실릴)부탄, 1,5-비스(트리메톡시실릴)펜탄, 1,6-비스(트리메톡시실릴)헥산, 1,8-비스(트리메톡시실릴)옥탄 등의 비스(트리 C1-3 알콕시실릴) C1-10 알칸이 바람직하고, 특히, 1,6-비스(트리메톡시실릴)헥산, 1,8-비스(트리메톡시실릴)옥탄이 바람직하다.Examples of the silane compound represented by the formula (g1) include (trimethoxysilyl)methane, 1,2-bis(trimethoxysilyl)ethane, 1,2-bis(triethoxysilyl)ethane, 1,3 -bis(trimethoxysilyl)propane, 1,3-bis(triethoxysilyl)propane, 1,4-bis(trimethoxysilyl)butane, 1,4-bis(triethoxysilyl)butane, 1 ,5-bis(trimethoxysilyl)pentane, 1,5-bis(triethoxysilyl)pentane, 1,6-bis(trimethoxysilyl)hexane, 1,6-bis(triethoxysilyl)hexane , 1,6-bis(tripropoxysilyl)hexane, 1,8-bis(trimethoxysilyl)octane, 1,8-bis(triethoxysilyl)octane, 1,8-bis(tripropoxysilyl) ) bis(tri C1-5 alkoxysilyl) C1-10 alkanes such as octane; Bis(dimethoxymethylsilyl)methane, 1,2-bis(dimethoxymethylsilyl)ethane, 1,2-bis(dimethoxyethylsilyl)ethane, 1,4-bis(dimethoxymethylsilyl)butane, 1, 4-bis(dimethoxyethylsilyl)butane, 1,6-bis(dimethoxymethylsilyl)hexane, 1,6-bis(dimethoxyethylsilyl)hexane, 1,8-bis(dimethoxymethylsilyl)octane, bis(di C1-5 alkoxy C1-5 alkylsilyl) C1-10 alkanes such as 1,8-bis(dimethoxyethylsilyl)octane; Bis(mono C1-5 alkoxy-di C1-5 alkylsilyl) C1-10 alkanes such as 1,6-bis(methoxydimethylsilyl)hexane and 1,8-bis(methoxydimethylsilyl)octane; have. Among these, 1,2-bis(trimethoxysilyl)ethane, 1,3-bis(trimethoxysilyl)propane, 1,4-bis(trimethoxysilyl)butane, 1,5-bis(trimethane) Bis(tri C1-3 alkoxysilyl) C1-10 alkanes such as oxysilyl)pentane, 1,6-bis(trimethoxysilyl)hexane, and 1,8-bis(trimethoxysilyl)octane are preferable, and particularly , 1,6-bis(trimethoxysilyl)hexane and 1,8-bis(trimethoxysilyl)octane are preferred.

실란 화합물(G)의 함유량은, 수지(A) 100 질량부에 대해, 통상 0.01∼20 질량부이고, 바람직하게는 0.1∼10 질량부이며, 보다 바람직하게는 0.15∼7 질량부이고, 더욱 바람직하게는 0.2∼5 질량부이며, 특히 바람직하게는 0.25∼2 질량부이다.Content of a silane compound (G) is 0.01-20 mass parts normally with respect to 100 mass parts of resin (A), Preferably it is 0.1-10 mass parts, More preferably, it is 0.15-7 mass parts, More preferably Preferably it is 0.2-5 mass parts, Especially preferably, it is 0.25-2 mass parts.

점착제 조성물은, 대전 방지제, 용제, 가교 촉매, 택키파이어, 가소제, 연화제, 안료, 방청제, 무기 필러, 광산란성 미립자 등의 첨가제를 1종 또는 2종 이상 더 함유할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive composition may further contain one or more additives such as an antistatic agent, a solvent, a crosslinking catalyst, a tackifier, a plasticizer, a softener, a pigment, a rust inhibitor, an inorganic filler, and light scattering fine particles.

본 발명의 점착제층은, 예컨대, 본 발명의 점착제 조성물을, 용제에 용해 또는 분산하여 용제 함유의 점착제 조성물로 하고, 계속해서, 이것을, 기재의 표면에 도포하여, 건조시킨 후에 활성 에너지선 조사를 행함으로써 형성할 수 있다. 본 발명의 점착제층은, 점착제 조성물의 광경화물이라고도 할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is, for example, by dissolving or dispersing the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention in a solvent to obtain a solvent-containing pressure-sensitive adhesive composition, and then applying this to the surface of the substrate and drying, active energy ray irradiation It can be formed by performing The adhesive layer of this invention can also be called the photocured material of an adhesive composition.

기재로서는, 플라스틱 필름이 적합하고, 구체적으로는, 이형 처리가 실시된 박리 필름을 들 수 있다. 박리 필름으로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트 등의 수지를 포함하는 필름의 한쪽 면에, 실리콘 처리 등의 이형 처리가 실시된 것을 들 수 있다.As a base material, a plastic film is suitable, and the peeling film to which the mold release process was specifically given is mentioned. As a peeling film, the thing in which the mold release process, such as silicone treatment, was given to one side of the film containing resin, such as a polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, a polycarbonate, and a polyarylate, is mentioned.

용제 함유의 점착제 조성물로 형성되는 도포막을 건조시키는 조건(건조 온도, 건조 시간)은, 그 조성이나 농도로 적절히 설정할 수 있으나, 바람직하게는 60∼150℃에서, 1∼60분간이다.Although the conditions (drying temperature, drying time) for drying the coating film formed from the adhesive composition containing a solvent can be set suitably with the composition and density|concentration, Preferably it is 60-150 degreeC for 1 to 60 minutes.

도포막의 건조 후의 활성 에너지선 조사는, 자외선 조사인 것이 바람직하다. 조사하는 자외선의 조도는, 10 ㎽/㎠∼3000 ㎽/㎠인 것이 바람직하다. 또한, 자외선의 적산 광량은 10 mJ/㎠∼5000 mJ/㎠인 것이 바람직하다.It is preferable that active energy ray irradiation after drying of a coating film is ultraviolet irradiation. It is preferable that the illuminance of the ultraviolet-ray to irradiate is 10 mW/cm<2> - 3000 mW/cm<2>. Moreover, it is preferable that the accumulated light quantity of an ultraviolet-ray is 10 mJ/cm<2> - 5000 mJ/cm<2>.

자외선 조사를 행하는 자외선 램프는, 수은 램프, 메탈 할라이드 램프, LED 램프여도 좋다.The ultraviolet lamp which irradiates an ultraviolet-ray may be a mercury lamp, a metal halide lamp, and an LED lamp.

본 발명의 점착제층은, 하기 식 (3)을 만족시키는 점착제층인 것이 바람직하고, 또한 식 (4)를 만족시키는 점착제층인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that it is an adhesive layer which satisfy|fills following formula (3), and, as for the adhesive layer of this invention, it is more preferable that it is an adhesive layer which satisfy|fills Formula (4).

A(380)≥0.6 (3)A(380)≥0.6 (3)

[식 (3) 중, A(380)은 파장 380 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타낸다.][In formula (3), A (380) represents the absorbance at a wavelength of 380 nm.]

A(380)/A(420)≥5 (4)A(380)/A(420)≥5 (4)

[식 (4) 중, A(380)은 파장 380 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타내고, A(420)은 파장 420 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타낸다.][In formula (4), A (380) represents the absorbance at a wavelength of 380 nm, and A (420) represents the absorbance at a wavelength of 420 nm.]

A(380)의 값이 클수록 파장 380 ㎚에 있어서의 흡수가 높은 것을 나타낸다. A(380)의 값이 0.6 미만이면 파장 380 ㎚에 있어서의 흡수가 낮고, 자외선 부근의 광에 의해 열화하기 쉬운 부재(예컨대 유기 EL 소자 등의 표시 장치나 액정계 위상차 필름 등)의 열화가 발생하기 쉽다. A(380)의 값은, 바람직하게는 0.75 이상이고, 보다 바람직하게는 0.85 이상이며, 특히 바람직하게는 1.0 이상이다. 상한은 특별히 없으나, 통상은 10 이하이다.It shows that absorption in wavelength 380nm is so high that the value of A (380) is large. When the value of A (380) is less than 0.6, absorption at a wavelength of 380 nm is low, and deterioration of a member (for example, a display device such as an organic EL element or a liquid crystal retardation film, etc.) that is easily deteriorated by light in the vicinity of ultraviolet rays occurs. easy to do. The value of A (380) becomes like this. Preferably it is 0.75 or more, More preferably, it is 0.85 or more, Especially preferably, it is 1.0 or more. Although there is no particular upper limit, it is usually 10 or less.

A(380)/A(420)의 값은, 파장 420 ㎚에 있어서의 흡수의 크기에 대한 파장 380 ㎚의 흡수의 크기를 나타내고, 이 값이 클수록 자외선 부근의 파장 영역에 특이적인 흡수가 있는 것을 나타낸다. A(380)/A(420)의 값은 5 이상인 것이 바람직하고, 20 이상인 것이 보다 바람직하며, 50 이상인 것이 더욱 바람직하고, 100 이상인 것이 특히 바람직하다.The value of A(380)/A(420) indicates the size of absorption at a wavelength of 380 nm with respect to the size of absorption at a wavelength of 420 nm. indicates. The value of A(380)/A(420) is preferably 5 or more, more preferably 20 or more, still more preferably 50 or more, and particularly preferably 100 or more.

본 발명의 점착제층의 두께는, 통상 200 ㎛ 미만이고, 바람직하게는 100 ㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 20 ㎛ 이하이고, 더욱 바람직하게는 12 ㎛ 이하 또는12 ㎛ 미만이며, 보다 더 바람직하게는 10 ㎛ 이하이고, 특히 바람직하게는 7 ㎛ 이하이다. 또한, 통상 0.1 ㎛ 이상이고, 바람직하게는 0.5 ㎛ 이상이며, 보다 바람직하게는 1 ㎛ 이상이고, 더욱 바람직하게는 2 ㎛ 이상이다.The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is usually less than 200 µm, preferably 100 µm or less, more preferably 20 µm or less, still more preferably 12 µm or less or less than 12 µm, still more preferably It is 10 micrometers or less, Especially preferably, it is 7 micrometers or less. Moreover, it is 0.1 micrometer or more normally, Preferably it is 0.5 micrometer or more, More preferably, it is 1 micrometer or more, More preferably, it is 2 micrometers or more.

본 발명에 의하면, 예컨대 12 ㎛ 미만의 박막의 점착층에 있어서도 충분히 자외선을 흡수할 수 있기 때문에, 표시 장치의 박막화의 관점에서 유리하다.According to the present invention, for example, even in the adhesive layer of a thin film having a thickness of less than 12 µm, ultraviolet rays can be sufficiently absorbed, which is advantageous from the viewpoint of thinning the display device.

본 발명의 점착제층의 겔 분율은, 통상 50∼99.9 질량%이고, 60∼99 질량%인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 70∼95 질량%, 더욱 바람직하게는 75∼90 질량%이다.The gel fraction of the adhesive layer of this invention is 50-99.9 mass % normally, It is preferable that it is 60-99 mass %, More preferably, it is 70-95 mass %, More preferably, it is 75-90 mass %.

<점착제층 부착 광학 필름><Optical film with adhesive layer>

본 발명의 점착제 조성물 및 상기 점착제 조성물로 형성되는 점착제층은, 예컨대 광학 필름의 접합 등에 사용할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention and the pressure-sensitive adhesive layer formed from the pressure-sensitive adhesive composition can be used, for example, for bonding optical films.

본 발명의 점착제층의 적어도 한쪽 면에 광학 필름이 적층된 점착제층 부착 광학 필름도 본 발명에 포함된다.The optical film with an adhesive layer in which the optical film was laminated|stacked on at least one surface of the adhesive layer of this invention is also contained in this invention.

본 발명의 점착제층 부착 광학 필름은, 상기 점착제 조성물을, 용제에 용해 또는 분산하여 용제 함유의 점착제 조성물로 하고, 계속해서, 이것을, 광학 필름의 표면에 도포하여, 건조시킨 후에 활성 에너지선 조사를 행함으로써 형성할 수 있다. 또한, 박리 필름 상에 동일하게 하여 점착제층을 형성하고, 이 점착제층을 광학 필름의 표면에 적층(전사)함으로써도 얻을 수 있다.The optical film with an adhesive layer of this invention melt|dissolves or disperse|distributes the said adhesive composition in a solvent to make a solvent-containing adhesive composition, Then, apply this to the surface of an optical film, and after drying, active energy ray irradiation It can be formed by performing Moreover, it can obtain also by carrying out similarly to a peeling film, forming an adhesive layer, and laminating|stacking (transferring) this adhesive layer on the surface of an optical film.

광학 필름은, 광선을 투과, 반사, 흡수하는 등의 광학 기능을 갖는 필름이다.An optical film is a film which has optical functions, such as permeation|transmission, reflection, and absorbing light.

광학 필름은 단층의 필름이어도 좋고, 다층의 필름이어도 좋다. 광학 필름은, 예컨대, 편광 필름, 위상차 필름, 휘도 향상 필름, 방현 필름, 반사 방지 필름, 확산 필름, 집광 필름 등을 들 수 있고, 편광 필름, 위상차 필름 또는 이들의 적층 필름인 것이 바람직하다.A single layer film may be sufficient as an optical film, and a multilayer film may be sufficient as it. The optical film includes, for example, a polarizing film, a retardation film, a brightness enhancing film, an anti-glare film, an antireflection film, a diffusion film, a light collecting film, and the like, and is preferably a polarizing film, retardation film, or laminated film thereof.

집광 필름은, 광로 제어 등을 목적으로 이용되는 것이며, 프리즘 어레이 시트나 렌즈 어레이 시트, 도트 부설 시트 등일 수 있다.The condensing film is used for the purpose of controlling an optical path or the like, and may be a prism array sheet, a lens array sheet, a dot laying sheet, or the like.

휘도 향상 필름은, 편광판을 적용한 액정 표시 장치에 있어서의 휘도를 향상시킬 목적으로 사용된다. 구체적으로는, 굴절률의 이방성이 서로 상이한 박막 필름을 복수 매 적층하여 반사율에 이방성이 발생하도록 설계된 반사형 편광 분리 시트, 콜레스테릭 액정 폴리머의 배향 필름이나 그 배향 액정층을 기재 필름 상에 지지한 원편광 분리 시트 등을 들 수 있다.A brightness improvement film is used for the purpose of improving the brightness|luminance in the liquid crystal display device to which the polarizing plate is applied. Specifically, a reflective polarization separation sheet designed to generate anisotropy in reflectance by laminating a plurality of thin films with different anisotropy of refractive index, an alignment film of cholesteric liquid crystal polymer, or a liquid crystal layer thereof supported on a base film A circularly polarized light separation sheet etc. are mentioned.

편광 필름은, 그 흡수축에 평행한 진동면을 갖는 직선 편광을 흡수하고, 흡수축에 직교하는(투과축과 평행한) 진동면을 갖는 직선 편광을 투과하는 성질을 갖는 필름이며, 예컨대, 폴리비닐알코올계 수지 필름에 이색성 색소를 흡착 배향시킨 필름을 이용할 수 있다.The polarizing film is a film having a property of absorbing linearly polarized light having an oscillation plane parallel to the absorption axis and transmitting linearly polarized light having an oscillation plane perpendicular to the absorption axis (parallel to the transmission axis), for example, polyvinyl alcohol A film in which a dichroic dye is adsorbed and orientated to the system resin film can be used.

이색성 색소로서는, 예컨대, 요오드나 이색성 유기 염료 등을 들 수 있다.As a dichroic dye, an iodine, a dichroic organic dye, etc. are mentioned, for example.

폴리비닐알코올계 수지의 비누화도는, 통상 85 몰%∼100 몰%, 바람직하게는 98 몰% 이상이다. 폴리비닐알코올계 수지는, 변성되어 있어도 좋고, 예컨대, 알데히드로 변성된 폴리비닐포르말이나 폴리비닐아세탈 등이어도 좋다. 폴리비닐알코올계 수지의 중합도는, 통상 1,000∼10,000, 바람직하게는 1,500∼5,000이다.The saponification degree of polyvinyl alcohol-type resin is 85 mol% - 100 mol% normally, Preferably it is 98 mol% or more. The polyvinyl alcohol-based resin may be modified, for example, polyvinyl formal or polyvinyl acetal modified with aldehyde may be used. The polymerization degree of polyvinyl alcohol-type resin is 1,000-10,000 normally, Preferably it is 1,500-5,000.

통상, 폴리비닐알코올계 수지를 제막(製膜)한 것을 편광 필름의 원반(原反) 필름으로서 이용한다. 폴리비닐알코올계 수지는, 공지된 방법으로 제막할 수 있다. 원반 필름의 두께는, 통상 1∼150 ㎛이고, 연신하기 용이함 등을 고려하면, 바람직하게는 10 ㎛ 이상이다.Usually, what formed the polyvinyl alcohol-type resin into a film is used as a raw film of a polarizing film. Polyvinyl alcohol-type resin can be formed into a film by a well-known method. The thickness of a raw film is 1-150 micrometers normally, and when extending|stretching easiness etc. are considered, Preferably it is 10 micrometers or more.

편광 필름은, 예컨대, 원반 필름에 대해, 일축 연신하는 공정, 이색성 색소로 필름을 염색하여 그 이색성 색소를 흡착시키는 공정, 붕산 수용액으로 필름을 처리하는 공정, 및 필름을 수세(水洗)하는 공정이 실시되고, 마지막으로 건조시켜 제조된다. 편광 필름의 두께는, 통상 1∼30 ㎛이고, 점착제층 부착 광학 필름의 박막화의 관점에서, 바람직하게는 20 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 15 ㎛ 이하, 특히 바람직하게는 10 ㎛ 이하이다.The polarizing film, for example, with respect to the raw film, a step of uniaxial stretching, a step of dyeing the film with a dichroic dye to adsorb the dichroic dye, a step of treating the film with an aqueous boric acid solution, and washing the film with water The process is carried out and finally dried. The thickness of a polarizing film is 1-30 micrometers normally, From a viewpoint of thinning of the optical film with an adhesive layer, Preferably it is 20 micrometers or less, More preferably, it is 15 micrometers or less, Especially preferably, it is 10 micrometers or less.

편광 필름의 적어도 한쪽 면은, 접착제를 통해 보호 필름이 형성되어 있는 편광판인 것이 바람직하다.It is preferable that at least one surface of a polarizing film is a polarizing plate in which the protective film is formed through the adhesive agent.

접착제로서는, 공지된 접착제가 이용되고, 수계 접착제여도 좋고, 활성 에너지선 경화형 접착제여도 좋다.As an adhesive agent, a well-known adhesive agent is used, a water-based adhesive agent may be sufficient and an active energy ray hardening-type adhesive agent may be sufficient.

수계 접착제로서는, 관용의 수계 접착제(예컨대, 폴리비닐알코올계 수지 수용액을 포함하는 접착제, 수계 이액형 우레탄계 에멀젼 접착제, 알데히드 화합물, 에폭시 화합물, 멜라민계 화합물, 메틸올 화합물, 이소시아네이트 화합물, 아민 화합물, 다가 금속염 등의 가교제 등)를 들 수 있다. 이들 중, 폴리비닐알코올계 수지 수용액을 포함하는 수계 접착제를 적합하게 이용할 수 있다. 또한, 수계 접착제를 사용하는 경우에는, 편광 필름과 보호 필름을 접합한 후, 수계 접착제 중에 포함되는 물을 제거하기 위해서 건조시키는 공정을 실시하는 것이 바람직하다. 건조 공정 후, 예컨대 20∼45℃ 정도의 온도에서 양생(養生)하는 양생 공정을 마련해도 좋다. 수계 접착제로 형성되는 접착제층은, 통상 0.001∼5 ㎛이다.As the water-based adhesive, a common water-based adhesive (eg, an adhesive containing a polyvinyl alcohol-based resin aqueous solution, a water-based two-part urethane emulsion adhesive, an aldehyde compound, an epoxy compound, a melamine compound, a methylol compound, an isocyanate compound, an amine compound, a polyvalent crosslinking agents such as metal salts); Among these, the aqueous adhesive agent containing the polyvinyl alcohol-type resin aqueous solution can be used suitably. Moreover, when using a water-system adhesive agent, after bonding a polarizing film and a protective film, in order to remove the water contained in a water-system adhesive agent, it is preferable to perform the process of drying. After the drying step, for example, a curing step of curing at a temperature of about 20 to 45°C may be provided. The adhesive layer formed with a water-based adhesive agent is 0.001-5 micrometers normally.

활성 에너지선 경화성 접착제란, 자외선이나 전자선 등의 활성 에너지선을 조사함으로써 경화하는 접착제를 말하고, 예컨대, 중합성 화합물 및 광중합 개시제를 포함하는 경화성 조성물, 광반응성 수지를 포함하는 경화성 조성물, 바인더 수지 및 광반응성 가교제를 포함하는 경화성 조성물 등을 들 수 있으며, 바람직하게는 자외선 경화성 접착제이다.Active energy ray-curable adhesive refers to an adhesive that is cured by irradiating active energy rays such as ultraviolet rays or electron beams, for example, a curable composition containing a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, a curable composition containing a photoreactive resin, a binder resin and A curable composition containing a photoreactive crosslinking agent, etc. are mentioned, Preferably it is an ultraviolet curable adhesive.

편광 필름과 보호 필름을 접합하는 방법으로서는, 이들 중 적어도 어느 한쪽의 접합면에 비누화 처리, 코로나 처리, 플라즈마 처리 등의 표면 활성화 처리를 실시하는 방법 등을 들 수 있다. 편광 필름의 양면에 보호 필름이 접합되는 경우, 이들 수지 필름을 접합하기 위한 접착제는, 동종의 접착제여도 좋고 이종(異種)의 접착제여도 좋다.As a method of bonding a polarizing film and a protective film, the method of giving surface activation processing, such as a saponification process, a corona treatment, a plasma processing, to at least any one bonding surface among these, etc. are mentioned. When a protective film is bonded on both surfaces of a polarizing film, the adhesive agent of the same kind may be sufficient as the adhesive agent for bonding these resin films, and the adhesive agent of a different type may be sufficient as it.

보호 필름으로서는, 투광성을 갖는 열가소성 수지로 형성되는 필름인 것이 바람직하다. 구체적으로는, 폴리올레핀계 수지; 셀룰로오스계 수지; 폴리에스테르계 수지; (메트)아크릴계 수지; 또는 이들의 혼합물, 공중합물 등을 포함하는 필름을 들 수 있다. 편광 필름의 양면에 보호 필름이 형성되는 경우, 이용되는 보호 필름은, 상이한 열가소성 수지를 포함하는 필름이어도 좋고, 동일한 열가소성 수지를 포함하는 필름이어도 좋다.As a protective film, it is preferable that it is a film formed from the thermoplastic resin which has translucency. Specifically, polyolefin resin; Cellulose-based resin; polyester-based resin; (meth)acrylic resin; or a film including a mixture or copolymer thereof. When a protective film is formed in both surfaces of a polarizing film, the film containing a different thermoplastic resin may be sufficient as the protective film used, and the film containing the same thermoplastic resin may be sufficient as it.

보호 필름이 편광 필름의 적어도 한쪽 면에 적층되는 경우, 보호 필름은 폴리올레핀계 수지, 셀룰로오스계 수지를 포함하는 보호 필름인 것이 바람직하다. 이들 필름을 이용함으로써, 편광 필름의 광학 특성을 손상시키지 않고 고온 환경에 있어서의 편광 필름의 수축을 유효하게 억제할 수 있다. 또한, 보호 필름도 산소 차폐층이어도 좋다.When a protective film is laminated|stacked on at least one side of a polarizing film, it is preferable that it is a protective film containing a polyolefin resin and a cellulose resin. By using these films, the shrinkage|contraction of the polarizing film in a high-temperature environment can be suppressed effectively, without impairing the optical characteristic of a polarizing film. Moreover, an oxygen shielding layer may be sufficient as a protective film.

편광판의 바람직한 구성으로서는, 편광 필름의 적어도 한쪽 면에 접착제층을 통해 보호 필름이 적층된 편광판이다. 보호 필름이 편광 필름의 한쪽 면에밖에 적층되지 않는 경우, 시인측에 적층되는 것이 보다 바람직하다. 시인측에 적층된 보호 필름은, 트리아세틸셀룰로오스계 수지 또는 시클로올레핀계 수지를 포함하는 보호 필름인 것이 바람직하다. 보호 필름은 미연신 필름이어도 좋고, 임의의 방향으로 연신되어 위상차를 갖고 있어도 좋다. 시인측에 적층된 보호 필름의 표면에는 하드 코트층이나 안티 글레어층 등의 표면 처리층이 형성되어 있어도 좋다.As a preferable structure of a polarizing plate, it is a polarizing plate by which the protective film was laminated|stacked on at least one surface of a polarizing film via an adhesive bond layer. When a protective film is laminated|stacked only on one side of a polarizing film, it is more preferable to laminate|stack on the visual recognition side. It is preferable that the protective film laminated|stacked on the visual recognition side is a protective film containing triacetyl cellulose resin or cycloolefin resin. An unstretched film may be sufficient as a protective film, and it may extend|stretch in arbitrary directions, and may have retardation. Surface treatment layers, such as a hard-coat layer and an anti-glare layer, may be formed in the surface of the protective film laminated|stacked on the visual recognition side.

보호 필름이 편광 필름의 양면에 적층되는 경우, 패널측(시인측과 반대측)의 보호 필름은, 트리아세틸셀룰로오스계 수지, 시클로올레핀계 수지 또는 아크릴계 수지를 포함하는 보호 필름 또는 위상차 필름인 것이 바람직하다. 위상차 필름은 후술하는 제로 리타데이션 필름이어도 좋다.When the protective film is laminated on both surfaces of the polarizing film, the protective film on the panel side (the side opposite to the viewing side) is preferably a protective film or retardation film containing a triacetyl cellulose-based resin, a cycloolefin-based resin, or an acrylic resin. . The retardation film mentioned later may be a zero retardation film.

위상차 필름이란, 광학 이방성을 나타내는 광학 필름이며, 예컨대, 폴리비닐알코올, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리아릴레이트, 폴리이미드, 폴리올레핀, 폴리시클로올레핀, 폴리스티렌, 폴리술폰, 폴리에테르술폰, 폴리비닐리덴플루오라이드/폴리메틸메타크릴레이트, 아세틸셀룰로오스, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 비누화물, 폴리염화비닐 등을 포함하는 고분자 필름을 1.01∼6배 정도로 연신함으로써 얻어지는 연신 필름 등을 들 수 있다. 연신 필름 중에서도, 아세틸셀룰로오스, 폴리에스테르, 폴리카보네이트 필름이나 시클로올레핀계 수지 필름을 일축 연신 또는 이축 연신한 고분자 필름인 것이 바람직하다. 또한, 위상차 필름은, 액정성 화합물을 기재에 도포·배향에 의해 광학 이방성을 발현시킨 위상차 필름이어도 좋다.The retardation film is an optical film exhibiting optical anisotropy, for example, polyvinyl alcohol, polycarbonate, polyester, polyarylate, polyimide, polyolefin, polycycloolefin, polystyrene, polysulfone, polyethersulfone, polyvinylidene fluoride. and a stretched film obtained by stretching a polymer film containing ride/polymethyl methacrylate, acetyl cellulose, saponified ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl chloride, etc. to about 1.01 to 6 times. It is preferable that it is the polymer film which uniaxially or biaxially stretched the acetyl cellulose, polyester, a polycarbonate film, or a cycloolefin resin film among a stretched film. In addition, the retardation film may be the retardation film in which optical anisotropy was expressed by application|coating and orientation of a liquid crystalline compound to a base material.

또한, 본 명세서에 있어서, 위상차 필름은, 제로 리타데이션 필름을 포함하고, 일축성 위상차 필름, 저광탄성률 위상차 필름, 광시야각 위상차 필름 등으로 칭해지는 필름도 포함한다.In addition, in this specification, retardation film includes a zero retardation film, and also includes the film called a uniaxial retardation film, a low photoelastic-modulus retardation film, a wide viewing angle retardation film, etc.

제로 리타데이션 필름이란, 정면 리타데이션 Re와 두께 방향의 리타데이션 Rth가, 모두 -15∼15 ㎚이고, 광학적으로 등방인 필름을 말한다. 제로 리타데이션 필름으로서는, 셀룰로오스계 수지, 폴리올레핀계 수지(쇄상 폴리올레핀계 수지, 폴리시클로올레핀계 수지 등) 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지를 포함하는 수지 필름을 들 수 있고, 리타데이션값의 제어가 용이하고, 입수도 용이하다고 하는 점에서, 셀룰로오스계 수지 또는 폴리올레핀계 수지가 바람직하다. 제로 리타데이션 필름은, 보호 필름으로서도 이용할 수 있다. 제로 리타데이션 필름으로서는, 후지 필름(주)에서 판매되고 있는 "Z-TAC"(상품명), 코니카 미놀타 옵토(주)에서 판매되고 있는 "제로태크(등록 상표)", 닛폰 제온(주)에서 판매되고 있는 "ZF-14"(상품명) 등을 들 수 있다.The zero retardation film refers to an optically isotropic film having both the front retardation Re and the retardation R th in the thickness direction of -15 to 15 nm. Examples of the zero retardation film include a resin film containing a cellulose-based resin, a polyolefin-based resin (chain polyolefin-based resin, polycycloolefin-based resin, etc.) or a polyethylene terephthalate-based resin, and the retardation value can be easily controlled and , a cellulosic resin or polyolefin resin is preferable at the point that it is also easy to obtain. The zero retardation film can be used also as a protective film. As a zero retardation film, "Z-TAC" (trade name) sold by Fujifilm Co., Ltd., "Zerotac (registered trademark)" sold by Konica Minolta Opto Co., Ltd., sold by Nippon Xeon Co., Ltd. "ZF-14" (brand name), etc. which are being used are mentioned.

본 발명의 광학 필름에 있어서, 위상차 필름은, 액정성 화합물의 도포·배향에 의해 광학 이방성을 발현시킨 위상차 필름이 바람직하다.The optical film of this invention WHEREIN: As for retardation film, the retardation film which expressed optical anisotropy by application|coating and orientation of a liquid crystalline compound is preferable.

액정성 화합물의 도포·배향에 의해 광학 이방성을 발현시킨 필름으로서는, 이하의 제1 형태∼제5 형태를 들 수 있다.As a film in which optical anisotropy was expressed by application|coating and orientation of a liquid crystalline compound, the following 1st aspect - 5th aspect is mentioned.

제1 형태: 봉상(棒狀) 액정 화합물이 지지 기재에 대해 수평 방향으로 배향된 위상차 필름1st form: retardation film in which the rod-shaped liquid crystal compound was oriented in the horizontal direction with respect to the supporting base material

제2 형태: 봉상 액정 화합물이 지지 기재에 대해 수직 방향으로 배향된 위상차 필름Second form: retardation film in which the rod-shaped liquid crystal compound is oriented in a direction perpendicular to the supporting substrate

제3 형태: 봉상 액정 화합물이 면내에서 나선형으로 배향의 방향이 변화하고 있는 위상차 필름3rd form: retardation film in which the direction of orientation of the rod-shaped liquid crystal compound is changed in a spiral in plane

제4 형태: 원반상(圓盤狀) 액정 화합물이 경사 배향되어 있는 위상차 필름4th aspect: the retardation film in which the disk-shaped liquid crystal compound is diagonally oriented

제5 형태: 원반상 액정 화합물이 지지 기재에 대해 수직 방향으로 배향된 이축성의 위상차 필름Fifth form: a biaxial retardation film in which a discotic liquid crystal compound is oriented in a direction perpendicular to a supporting substrate

예컨대, 유기 일렉트로루미네선스 디스플레이에 이용되는 광학 필름으로서는, 제1 형태, 제2 형태, 제5 형태가 적합하게 이용된다. 또는 이들 형태의 위상차 필름을 적층시켜 이용해도 좋다.For example, as an optical film used for an organic electroluminescent display, a 1st form, a 2nd form, and a 5th form are used suitably. Or you may laminate|stack and use the retardation film of these forms.

위상차 필름이, 중합성 액정 화합물의 배향 상태에 있어서의 중합체를 포함하는 층(이하, 「광학 이방성 층」이라고 칭하는 경우가 있음)인 경우, 위상차 필름은 역파장 분산성을 갖는 것이 바람직하다. 역파장 분산성이란, 단파장에서의 액정 배향 면내 위상차값 쪽이 장파장에서의 액정 배향 면내 위상차값보다 작아지는 광학 특성이고, 바람직하게는, 위상차 필름이 하기 식 (7) 및 식 (8)을 만족시키는 것이다. 또한, Re(λ)는 파장 λ ㎚의 광에 대한 면내 위상차값을 나타낸다.When the retardation film is a layer containing a polymer in the orientation state of the polymerizable liquid crystal compound (hereinafter, sometimes referred to as an "optically anisotropic layer"), the retardation film preferably has reverse wavelength dispersion. Reverse wavelength dispersion is an optical property in which the liquid crystal alignment in-plane retardation value at a short wavelength becomes smaller than the liquid crystal alignment in-plane retardation value at a long wavelength, and preferably, the retardation film satisfies the following formulas (7) and (8) will make it In addition, Re(λ) represents an in-plane retardation value with respect to light having a wavelength of λ nm.

Re(450)/Re(550)≤1 (7)Re(450)/Re(550)≤1 (7)

1≤Re(630)/Re(550) (8)1≤Re(630)/Re(550) (8)

본 발명의 광학 필름에 있어서, 위상차 필름이 제1 형태이고 또한 역파장 분산성을 갖는 경우, 표시 장치에서의 흑표시 시의 착색이 저감되기 때문에 바람직하고, 상기 식 (7)에 있어서 0.82≤Re(450)/Re(550)≤0.93이면 보다 바람직하다. 또한 120≤Re(550)≤150이 바람직하다.In the optical film of the present invention, when the retardation film is the first form and has reverse wavelength dispersion, it is preferable because coloring at the time of black display in a display device is reduced, and 0.82≤Re in the above formula (7) (450)/Re(550) ? 0.93 is more preferable. Further, 120≤Re(550)≤150 is preferable.

위상차 필름이, 광학 이방성 층을 갖는 필름인 경우의 중합성 액정 화합물로서는, 액정 편람(액정 편람 편집 위원회편, 마루젠(주) 2000년 10월 30일 발행)의 「3.8.6 네트워크(완전 가교형)」, 「6.5.1 액정 재료 b. 중합성 네마틱 액정 재료」에 기재된 화합물 중에서 중합성 기를 갖는 화합물, 및 일본 특허 공개 제2010-31223호 공보, 일본 특허 공개 제2010-270108호 공보, 일본 특허 공개 제2011-6360호 공보, 일본 특허 공개 제2011-207765호 공보, 일본 특허 공개 제2011-162678호 공보, 일본 특허 공개 제2016-81035호 공보, 국제 공개 제2017/043438호 및 일본 특허 공개 제2011-207765호 공보에 기재된 중합성 액정 화합물 등을 들 수 있다.As a polymeric liquid crystal compound in the case where the retardation film is a film having an optically anisotropic layer, "3.8.6 network (completely crosslinked) type)”, “6.5.1 liquid crystal material b. A compound having a polymerizable group among the compounds described in "Polymerizable Nematic Liquid Crystal Material", and Japanese Patent Laid-Open Nos. 2010-31223, 2010-270108, and 2011-6360, Japanese Patent Laid-Open Nos. Polymeric liquid crystal described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-207765, Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-162678, Unexamined-Japanese-Patent No. 2016-81035, International Unexamined-Japanese-Patent No. 2017/043438, and Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-207765. compounds, and the like.

중합성 액정 화합물의 배향 상태에 있어서의 중합체로부터 위상차 필름을 제조하는 방법은, 예컨대, 일본 특허 공개 제2010-31223호 공보에 기재된 방법 등을 들 수 있다.As for the method of manufacturing retardation film from the polymer in the orientation state of a polymeric liquid crystal compound, the method etc. of Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-31223 are mentioned, for example.

제2 형태의 경우, 정면 위상차값 Re(550)은 0∼10 ㎚의 범위로, 바람직하게는 0∼5 ㎚의 범위로 조정하면 되고, 두께 방향의 위상차값 Rth는, -10∼-300 ㎚의 범위로, 바람직하게는 -20∼-200 ㎚의 범위로 조정하면 된다. 두께 방향의 굴절률 이방성을 의미하는 두께 방향의 위상차값 Rth는, 면내의 진상축(進相軸)을 경사축으로 하여 50도 경사시켜 측정되는 위상차값 R50과 면내의 위상차값 R0으로부터 산출할 수 있다. 즉, 두께 방향의 위상차값 Rth는, 면내의 위상차값 R0, 진상축을 경사축으로 하여 50도 경사시켜 측정한 위상차값 R50, 위상차 필름의 두께 d, 및 위상차 필름의 평균 굴절률 n0으로부터, 이하의 식 (10)∼(12)에 의해 nx, ny 및 nz를 구하고, 이들을 식 (9)에 대입하여, 산출할 수 있다.In the case of the second aspect, the front retardation value Re (550) is in the range of 0 to 10 nm, preferably in the range of 0 to 5 nm, and the retardation value R th in the thickness direction is -10 to -300 What is necessary is just to adjust in the range of nm, Preferably it is the range of -20 to -200 nm. The retardation value R th in the thickness direction, which means refractive index anisotropy in the thickness direction, is calculated from the in-plane phase difference value R 0 and the phase difference value R 50 measured by tilting the in-plane fast axis by 50 degrees as the inclination axis can do. That is, the retardation value R th in the thickness direction is the in-plane retardation value R 0 , the retardation value R 50 measured by tilting the fast axis by 50 degrees using the inclination axis, the thickness d of the retardation film, and the average refractive index n 0 of the retardation film. , n x , n y and n z are obtained by the following formulas (10) to (12), and can be calculated by substituting them into the formula (9).

Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d (9)R th =[(n x +n y )/2-n z ]×d (9)

R0=(nx-ny)×d (10)R 0 =(n x -n y )×d (10)

R50=(nx-ny')×d/cos(φ) (11)R 50 =(n x -n y ')×d/cos(φ) (11)

(nx+ny+nz)/3=n0 (12)(n x +n y +n z )/3=n 0 (12)

여기서,here,

φ=sin-1〔sin(40°)/n0〕φ=sin -1 [sin(40°)/n 0 ]

ny'=ny×nz/〔ny 2×sin2(φ)+nz 2×cos2(φ)〕1/2 n y '=n y × n z /[n y 2 ×sin 2 (φ)+n z 2 ×cos 2 (φ)] 1/2

액정성 화합물의 도포·배향에 의해 광학 이방성을 발현시킨 필름이나, 무기 층상(層狀) 화합물의 도포에 의해 광학 이방성을 발현시킨 필름으로서는, 온도 보상형 위상차 필름이라고 칭해지는 필름, JX 닛코 닛세키 에너지(주)에서 판매되고 있는 "NH 필름"(상품명; 봉상 액정이 경사 배향된 필름), 후지 필름(주)에서 판매되고 있는 "WV 필름"(상품명; 원반상 액정이 경사 배향된 필름), 스미토모 가가쿠(주)에서 판매되고 있는 "VAC 필름"(상품명; 완전 이축 배향형의 필름), 스미토모 가가쿠(주)에서 판매되고 있는 "new VAC 필름"(상품명; 이축 배향형의 필름) 등을 들 수 있다.As a film in which optical anisotropy was expressed by application and orientation of a liquid crystalline compound, and a film in which optical anisotropy was expressed by application of an inorganic layered compound, a film called a temperature compensation retardation film, JX Nikko Niseki "NH Film" sold by Energy Co., Ltd. (trade name; film in which rod-shaped liquid crystal is oriented obliquely), "WV film" sold by Fujifilm (trade name; film in which disc-shaped liquid crystal is oriented obliquely), "VAC Film" sold by Sumitomo Chemical Co., Ltd. (trade name; fully biaxially oriented film), "new VAC film" sold by Sumitomo Chemical Co., Ltd. (brand name; biaxially oriented film), etc. can be heard

위상차 필름은, 2 이상의 층을 갖는 다층 필름이어도 좋다. 예컨대, 위상차 필름의 한쪽 면 또는 양면에 보호 필름이 적층된 것이나, 2 이상의 위상차 필름이 점착제 또는 접착제를 통해 적층된 것을 들 수 있다.The retardation film may be a multilayer film having two or more layers. For example, a protective film laminated on one side or both sides of the retardation film, or two or more retardation films laminated through an adhesive or an adhesive may be used.

본 발명의 점착제층에 박리 필름이 형성된 적층체, 본 발명의 점착제층 부착 광학 필름, 및 광학 적층체의 층 구성의 일례를, 도 1∼도 5에 도시한다.An example of the laminated body in which the peeling film was formed in the adhesive layer of this invention, the optical film with an adhesive layer of this invention, and an optical laminated body is shown in FIGS. 1-5.

도 1에 기재된 점착제층에 박리 필름이 형성된 적층체(10)는, 본 발명의 점착제 조성물로 형성된 점착제층(1) 면의 일시적인 보호를 위해서, 점착제층(1) 면에 박리 필름(세퍼레이트 필름)(2)을 접착하고 있는 상태이다.The laminate 10 in which the release film is formed on the pressure-sensitive adhesive layer described in FIG. 1 is a release film (separate film) on the pressure-sensitive adhesive layer 1 surface for temporary protection of the pressure-sensitive adhesive layer 1 surface formed from the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention. (2) is attached.

도 2에 기재된 점착제층 부착 광학 필름(10A)은, 보호 필름(3), 접착제층(4), 편광 필름(5), 본 발명의 점착제 조성물로 형성된 점착제층(1), 박리 필름(2)을 포함하는 점착제층 부착 광학 필름이다. 보호 필름(3), 접착제층(4), 및 편광 필름(5)은, 편광판(100)(광학 필름(40))을 구성한다. 보호 필름(3)은 위상차를 갖고 있어도 좋다. 또한, 보호 필름(3) 위에 하드 코트층 등이 더 적층되어 있어도 좋다.The optical film 10A with an adhesive layer of FIG. 2 is the protective film 3, the adhesive bond layer 4, the polarizing film 5, the adhesive layer 1 formed from the adhesive composition of this invention, and the peeling film 2 It is an optical film with an adhesive layer containing. The protective film 3, the adhesive bond layer 4, and the polarizing film 5 comprise the polarizing plate 100 (optical film 40). The protective film 3 may have a phase difference. Moreover, on the protective film 3, the hard-coat layer etc. may be laminated|stacked further.

도 3에 기재된 점착제층 부착 광학 필름(10B)은, 보호 필름(3), 접착제층(4), 편광 필름(5), 접착제층(7), 보호 필름(6), 본 발명의 점착제 조성물로 형성된 점착제층(1), 위상차 필름(8)을 포함하는 점착제층 부착 광학 필름이다. 보호 필름(3), 접착제층(4), 편광 필름(5), 접착제층(7), 및 보호 필름(6)은, 편광판(100)(광학 필름(40))을 구성한다.The optical film 10B with an adhesive layer described in FIG. 3 is the protective film 3, the adhesive bond layer 4, the polarizing film 5, the adhesive bond layer 7, the protective film 6, The adhesive composition of this invention It is an optical film with an adhesive layer containing the formed adhesive layer (1) and retardation film (8). The protective film 3, the adhesive bond layer 4, the polarizing film 5, the adhesive bond layer 7, and the protective film 6 comprise the polarizing plate 100 (optical film 40).

도 4에 기재된 광학 적층체(10C) 및 도 5에 기재된 광학 적층체(10D)는, 보호 필름(3), 접착제층(4), 편광 필름(5), 본 발명의 점착제 조성물로 형성된 점착제층(1), 위상차 필름(110)(광학 필름(40)), 점착제층(1a), 발광 소자(30)(액정 셀, 유기 EL 셀)를 포함하는 광학 적층체이다. 보호 필름(3), 접착제층(4), 및 편광 필름(5)은, 편광판(100)(광학 필름(40))을 구성한다. 점착제층(1a)은, 공지된 점착제 조성물로 형성된 점착제층이어도 좋고, 본 발명의 점착제 조성물로 형성된 점착제층이어도 좋다.The optical laminated body 10C of FIG. 4 and the optical laminated body 10D of FIG. 5 are the adhesive layer formed from the protective film 3, the adhesive bond layer 4, the polarizing film 5, and the adhesive composition of this invention. (1), it is an optical laminated body containing the retardation film 110 (optical film 40), the adhesive layer 1a, and the light emitting element 30 (liquid crystal cell, organic electroluminescent cell). The protective film 3, the adhesive bond layer 4, and the polarizing film 5 comprise the polarizing plate 100 (optical film 40). The adhesive layer formed from the well-known adhesive composition may be sufficient as the adhesive layer 1a, and the adhesive layer formed from the adhesive composition of this invention may be sufficient as it.

도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 위상차 필름이 다층 필름인 경우, 도 4에 도시된 바와 같이, 투과광에 1/4 파장분의 위상차를 부여하는 1/4 파장 위상차층(70)과 투과광에 1/2 파장분의 위상차를 부여하는 1/2 파장 위상차층(50)을, 접착제층 또는 점착제층(60)을 통해 적층한 위상차 필름(110)(광학 필름(40))을 포함하는 구성을 들 수 있다. 또한, 도 5에 도시된 바와 같이, 1/4 파장 위상차층(50a)과 포지티브 C층(80)을, 접착제층 또는 점착제층(60)을 통해 적층한 위상차 필름(110)(광학 필름(40))을 포함하는 구성도 들 수 있다.As shown in FIGS. 4 and 5 , when the retardation film is a multilayer film, as shown in FIG. 4 , a quarter-wave retardation layer 70 that imparts a retardation of 1/4 wavelength to the transmitted light and the transmitted light A configuration comprising a retardation film 110 (optical film 40) in which a half-wave retardation layer 50 that imparts a retardation of half a wavelength is laminated through an adhesive layer or an adhesive layer 60 can be heard In addition, as shown in FIG. 5 , a retardation film 110 (optical film 40) in which a quarter-wave retardation layer 50a and a positive C layer 80 are laminated through an adhesive layer or an adhesive layer 60 )) may be included.

도 4의 1/4 파장분의 위상차를 부여하는 1/4 파장 위상차층(70), 및 투과광에 1/2 파장분의 위상차를 부여하는 1/2 파장 위상차층(50)은 상기 제1 형태의 광학 필름이어도 제5 형태의 광학 필름이어도 좋다. 도 4의 구성의 경우, 적어도 한쪽이 제5 형태인 것이 보다 바람직하다.4, the quarter-wave retardation layer 70 imparting a phase difference of 1/4 wavelength and the 1/2-wave retardation layer 50 imparting a phase difference of 1/2 wavelength to transmitted light are in the first embodiment of the optical film or the optical film of the fifth aspect. In the case of the structure of FIG. 4, it is more preferable that at least one is a 5th aspect.

도 5의 구성의 경우, 1/4 파장 위상차층(50a)은 상기 제1 형태의 광학 필름인 것이 바람직하고, 또한 식 (7), 식 (8)을 만족시키는 것이 보다 바람직하다.In the case of the structure of FIG. 5, it is preferable that it is an optical film of the said 1st form, and, as for the quarter-wave retardation layer 50a, it is more preferable that Formula (7) and Formula (8) are satisfied.

<액정 표시 장치><Liquid crystal display device>

본 발명의 점착제 조성물, 및 상기 점착제 조성물로 형성되는 점착제층을 포함하는 점착제층 부착 광학 필름은, 유기 EL 소자, 액정 셀 등의 표시 소자에 적층시킨 광학 적층체로서, 유기 EL 표시 장치나 액정 표시 장치 등의 표시 장치에 이용할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention, and an optical film with a pressure-sensitive adhesive layer comprising a pressure-sensitive adhesive layer formed from the pressure-sensitive adhesive composition is an optical laminate laminated on a display element such as an organic EL element and a liquid crystal cell, an organic EL display device or a liquid crystal display It can be used for display apparatuses, such as an apparatus.

실시예Example

이하, 실시예 및 비교예를 나타내어 본 발명을 더 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 예에 의해 한정되는 것이 아니다. 예 중, 함유량 내지 사용량을 나타내는 % 및 부는, 특별히 언급이 없는 한 질량 기준이다.Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated more concretely, this invention is not limited by these examples. In the examples, % and parts indicating the content or the amount used are based on mass unless otherwise specified.

<극대 흡수 파장 및 그램 흡광 계수 ε 측정><Measurement of maximum absorption wavelength and gram extinction coefficient ε>

「FUV002B」(후지 필름 가부시키가이샤 제조)의 2-부타논 용액(0.006 g/L)을 1 ㎝의 석영 셀에 넣고, 석영 셀을 분광 광도계 UV-2450(가부시키가이샤 시마즈 세이사쿠쇼 제조)에 세팅하며, 더블빔법에 의해 1 ㎚ 스텝마다 300∼800 ㎚의 파장 범위의 흡광도를 측정하였다. 얻어진 흡광도의 값과, 용액 중의 「FUV002B」의 농도, 석영 셀의 광로 길이로부터, 파장마다의 그램 흡광 계수를 산출하였다.A 2-butanone solution (0.006 g/L) of "FUV002B" (manufactured by FUJIFILM Corporation) was placed in a 1 cm quartz cell, and the quartz cell was subjected to spectrophotometer UV-2450 (manufactured by Shimadzu Corporation). , and the absorbance in the wavelength range of 300 to 800 nm was measured for every 1 nm step by the double beam method. The gram extinction coefficient for each wavelength was calculated from the obtained absorbance value, the concentration of "FUV002B" in the solution, and the optical path length of the quartz cell.

ε(λ)=A(λ)/CLε(λ)=A(λ)/CL

〔식 중, ε(λ)는 파장 λ ㎚에 있어서의 「FUV002B」의 그램 흡광 계수(L/(g·㎝))를 나타내고, A(λ)는 파장 λ ㎚에 있어서의 흡광도를 나타내며, C는 용액 중의 「FUV002B」의 농도(g/L)를 나타내고, L은 석영 셀의 광로 길이(㎝)를 나타낸다.〕[Wherein, ε(λ) represents the gram extinction coefficient (L/(g·cm)) of “FUV002B” at a wavelength of λ nm, A(λ) represents the absorbance at a wavelength of λ nm, C represents the concentration (g/L) of "FUV002B" in the solution, and L represents the optical path length (cm) of the quartz cell.]

「FUV002B」의 극대 흡수 파장은 370 ㎚였다. 「FUV002B」의 ε(380)은, 108.9 L/(g·㎝), ε(420)은 0.2 L/(g·㎝), ε(380)/ε(420)은 544.5였다.The maximum absorption wavelength of "FUV002B" was 370 nm. ε(380) of “FUV002B” was 108.9 L/(g·cm), ε(420) was 0.2 L/(g·cm), and ε(380)/ε(420) was 544.5.

(중합예 1): 아크릴 수지(A1)의 조제(Polymerization Example 1): Preparation of acrylic resin (A1)

냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반기를 구비한 반응 용기에, 용매로서 아세트산에틸 81.8부, 아크릴산부틸 96부, 아크릴산 2-히드록시에틸메틸 3부, 및 아크릴산 1부의 혼합 용액을 투입하고, 질소 가스로 장치 내의 공기를 치환하여 산소 불함유로 하면서 내부 온도를 55℃로 올렸다. 그 후, 아조비스이소부티로니트릴(중합 개시제) 0.14부를 아세트산에틸 10부에 녹인 용액을 전량 첨가하였다. 개시제를 첨가한 후 1시간 이 온도에서 유지하고, 계속해서 내부 온도를 54∼56℃로 유지하면서 아세트산에틸을 첨가 속도 17.3부/hr로 반응 용기 내에 연속적으로 첨가하며, 아크릴 수지의 농도가 35%가 된 시점에서 아세트산에틸의 첨가를 멈추고, 또한 아세트산에틸의 첨가 개시로부터 12시간 경과할 때까지 이 온도에서 보온하였다. 마지막으로 아세트산에틸을 첨가하여 아크릴 수지의 농도가 20%가 되도록 조절하여, 아크릴 수지의 아세트산에틸 용액을 조제하였다. 얻어진 아크릴 수지는, GPC에 의한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 Mw가 147만, Mw/Mn이 5.5였다. 이것을 아크릴 수지(A1)로 한다. 또한, 얻어진 아크릴 수지(A1)는 파장 300 ㎚∼780 ㎚의 범위에 있어서 극대 흡수를 나타내지 않았다.A mixed solution of 81.8 parts of ethyl acetate, 96 parts of butyl acrylate, 3 parts of 2-hydroxyethylmethyl acrylate, and 1 part of acrylic acid was charged into a reaction vessel equipped with a cooling tube, a nitrogen introduction tube, a thermometer and a stirrer, and nitrogen By replacing the air in the device with gas, the internal temperature was raised to 55°C while not containing oxygen. Then, the whole amount of the solution which melt|dissolved 0.14 parts of azobisisobutyronitrile (polymerization initiator) in 10 parts of ethyl acetate was added. After adding the initiator, the temperature was maintained at this temperature for 1 hour, and ethyl acetate was continuously added into the reaction vessel at an addition rate of 17.3 parts/hr while maintaining the internal temperature at 54 to 56°C, and the concentration of the acrylic resin was 35% The addition of ethyl acetate was stopped at the time when the ethyl acetate was added, and the temperature was maintained at this temperature until 12 hours had elapsed from the start of the addition of ethyl acetate. Finally, ethyl acetate was added to adjust the concentration of the acrylic resin to 20% to prepare an ethyl acetate solution of the acrylic resin. As for the obtained acrylic resin, the weight average molecular weight Mw of polystyrene conversion by GPC was 1.47 million, and Mw/Mn was 5.5. Let this be an acrylic resin (A1). In addition, the obtained acrylic resin (A1) did not show maximum absorption in the range of wavelength 300nm - 780nm.

(실시예 1): 점착제 조성물(1)의 제작(Example 1): Preparation of the pressure-sensitive adhesive composition (1)

수지(A)로서의 아크릴 수지(A1)의 아세트산에틸 용액(수지 농도: 20%)의 고형분 100부에 대해, 가교제(F)(도소 가부시키가이샤 제조: 상품명 「코로네이트(Coronate) L」, 이소시아네이트계 화합물, 고형분 75%) 0.3부, 실란 화합물(G)(신에츠 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제조: 상품명 「KBM3066」) 0.28부, 라디칼 경화성 성분(E)(신나카무라 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제조: 상품명 「A-DPH-12E」, 6작용 (메트)아크릴레이트계 화합물) 10부, 개시제(D)(가부시키가이샤 ADEKA사 제조: 상품명 「NCI-730」, 옥심에스테르계 화합물인 광라디칼 발생제) 1.5부, 광선택 흡수 화합물(B)(후지 필름 가부시키가이샤 제조; 「FUV002B」) 2.5부, 광선택 흡수 화합물(C-1)(오츠카 가가쿠 가부시키가이샤 제조: 상품명 「RUVA-93」, 2-[2'-히드록시-5'-(메타크릴로일옥시에틸)페닐]벤조트리아졸) 10부를 혼합하고, 또한 고형분 농도가 14%가 되도록 아세트산에틸을 첨가하여 점착제 조성물(1)을 얻었다. 또한, 상기 가교제의 배합량은, 유효 성분으로서의 질량부수이다.With respect to 100 parts of solid content of the ethyl acetate solution (resin concentration: 20%) of the acrylic resin (A1) as the resin (A), the crosslinking agent (F) (manufactured by Tosoh Corporation: trade name "Coronate L", isocyanate system compound, solid content 75%) 0.3 parts, silane compound (G) (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.: trade name "KBM3066") 0.28 parts, radical curable component (E) (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.: Trade name "A-DPH-12E", hexafunctional (meth)acrylate compound) 10 parts, initiator (D) (made by ADEKA Corporation: trade name "NCI-730", a photoradical generator which is an oxime ester compound) ) 1.5 parts, photoselective absorption compound (B) (manufactured by FUJIFILM Corporation; "FUV002B") 2.5 parts, photoselective absorption compound (C-1) (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.: trade name "RUVA-93") , 2-[2'-hydroxy-5'-(methacryloyloxyethyl)phenyl]benzotriazole) 10 parts are mixed, and ethyl acetate is added so that the solid content concentration is 14%, the pressure-sensitive adhesive composition (1) got In addition, the compounding quantity of the said crosslinking agent is the number of parts by mass as an active ingredient.

실시예 2∼5 및 비교예 1∼11Examples 2 to 5 and Comparative Examples 1 to 11

표 1 또는 표 2에 나타내는 바와 같이 각 성분 및 각 성분의 함유량을 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 점착제 조성물(2)∼점착제 조성물(16)을 제작하였다. 또한, 가교제의 배합량은 유효 성분으로서의 질량부수이고, 아크릴 수지(A1)는 고형분의 질량부수이다.As shown in Table 1 or Table 2, except having changed each component and content of each component, it carried out similarly to Example 1, and produced the adhesive composition (2) - the adhesive composition (16). In addition, the compounding quantity of a crosslinking agent is mass parts as an active ingredient, and acrylic resin (A1) is mass parts of solid content.

Figure pct00004
Figure pct00004

또한, 표 1에 있어서의 약어는 각각 이하에 기재된 것을 나타낸다. 또한, RUVA-93, SB107, SB707 및 EU-1990에 있어서의 ε(380), ε(420)은 전술한 방법과 동일한 방법으로 측정하였다.In addition, the abbreviation in Table 1 shows what was described below, respectively. In addition, ε(380) and ε(420) in RUVA-93, SB107, SB707 and EU-1990 were measured by the same method as the above-mentioned method.

<수지(A)><Resin (A)>

아크릴 수지(A1): 중합예 1에서 제작한 아크릴 수지(A1)Acrylic resin (A1): Acrylic resin (A1) prepared in Polymerization Example 1

<광선택 흡수 화합물(B)><Photoselective Absorption Compound (B)>

FUV-002B: 후지 필름 가부시키가이샤 제조, 상품명: FUV002B, 극대 흡수 파장 λmax=370 ㎚, ε(380)=108.9, ε(420)=0.2, ε(380)/ε(420)=544.5FUV-002B: manufactured by FUJIFILM Corporation, trade name: FUV002B, maximum absorption wavelength λmax=370 nm, ε(380)=108.9, ε(420)=0.2, ε(380)/ε(420)=544.5

<광선택 흡수 화합물(C-1)><Photoselective Absorption Compound (C-1)>

RUVA-93: 오츠카 가가쿠 가부시키가이샤 제조, 상품명: RUVA-93, ε(380)=1.5, ε(420)=0, 분자 내에 중합성 기와 벤조트리아졸 골격을 갖고, 또한 극대 흡수 파장(λmax)이 337 ㎚이다.RUVA-93: manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., trade name: RUVA-93, ε(380)=1.5, ε(420)=0, has a polymerizable group and a benzotriazole skeleton in a molecule, and has a maximum absorption wavelength (λmax ) is 337 nm.

<개시제(D)><Initiator (D)>

NCI-730: 가부시키가이샤 ADEKA사 제조, 상품명: NCI-730, 옥심에스테르계 광라디칼 발생제NCI-730: manufactured by ADEKA Corporation, trade name: NCI-730, oxime ester-based photoradical generator

PBG3057: TRONLY(창저우 강력 전자 신재료사(중국))사 제조, 상품명: TR-PBG-3057, 옥심에스테르계 광라디칼 발생제PBG3057: Manufactured by TRONLY (Changzhou Strong Electronic New Materials Co., Ltd. (China)), trade name: TR-PBG-3057, oxime ester-based photoradical generator

<라디칼성 경화성 성분(E)><Radically curable component (E)>

A-DPH-12E: 신나카무라 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제조, 상품명: A-DPH-12E, 6작용 (메트)아크릴레이트계 화합물A-DPH-12E: manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name: A-DPH-12E, hexafunctional (meth)acrylate compound

<가교제(F)><Crosslinking agent (F)>

코로네이트 L: 도소 가부시키가이샤 제조, 상품명: 코로네이트 L, 이소시아네이트계 가교제Coronate L: manufactured by Tosoh Corporation, trade name: Coronate L, isocyanate-based crosslinking agent

<실란 화합물(G)><Silane compound (G)>

KBM3066: 신에츠 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제조, 상품명: KBM3066, 실란 커플링제KBM3066: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: KBM3066, silane coupling agent

<자외선 흡수제><Ultraviolet absorbent>

SB107: 시프로 가세이 가부시키가이샤 제조, 벤조페논계 자외선 흡수제, 상품명: SEESORB107, 극대 흡수 파장 λmax=350 ㎚, ε(380)=22.4, ε(420)=1.6, ε(380)/ε(420)=14.0SB107: Cipro Chemicals Co., Ltd., benzophenone-based ultraviolet absorber, trade name: SEESORB107, maximum absorption wavelength λmax=350 nm, ε(380)=22.4, ε(420)=1.6, ε(380)/ε(420 )=14.0

SB707: 시프로 가세이 가부시키가이샤 제조, 벤조트리아졸계 자외선 흡수제, 상품명: SEESORB707, 극대 흡수 파장 λmax=343 ㎚, ε(380)=5.8, ε(420)=0.SB707: Cipro Chemicals Co., Ltd. make, benzotriazole-based ultraviolet absorber, trade name: SEESORB707, maximum absorption wavelength λmax=343 nm, ε(380)=5.8, ε(420)=0.

EU-1990: EUTEC사 제조, 상품명: EUSORB-1990, 극대 흡수 파장 λmax=373 ㎚, ε(380)=123.9, ε(420)=7.5, ε(380)/ε(420)=16.5EU-1990: manufactured by EUTEC, trade name: EUSORB-1990, maximum absorption wavelength λmax=373 nm, ε(380)=123.9, ε(420)=7.5, ε(380)/ε(420)=16.5

<점착제층의 제작><Preparation of adhesive layer>

상기에서 조제한 각 점착제 조성물을, 이형 처리가 실시된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 포함하는 세퍼레이트 필름〔린텍(주)에서 입수한 상품명 「PLR-382190」〕의 이형 처리면에, 어플리케이터를 이용하여 건조 후의 두께가 5 ㎛가 되도록 도포하고, 100℃에서 1분간 건조시켰다. 그 후, 세퍼레이트 필름측으로부터 자외선 조사 장치(퓨전 UV 시스템즈사 제조 「무전극 UV 램프 시스템 H 벌브」)를 이용하여 UV-A(파장 320∼390 ㎚)가 조도 500 ㎽, 적산 광량이 500 mJ이 되도록 조정하여, 자외선 조사함으로써 점착제층(점착제 시트)을 제작하였다.Each pressure-sensitive adhesive composition prepared above is applied to the release treatment surface of a separate film containing a polyethylene terephthalate film subjected to a release treatment [trade name "PLR-382190" obtained from Lintec Co., Ltd.], using an applicator to dry the thickness after drying It was applied so that it became 5 μm, and it was dried at 100° C. for 1 minute. Then, from the separate film side, using an ultraviolet irradiation device (“electrodeless UV lamp system H bulb” manufactured by Fusion UV Systems), UV-A (wavelength 320 to 390 nm) was irradiated with an illuminance of 500 mW and an accumulated light quantity of 500 mJ. It adjusted so that it might become possible, and the adhesive layer (pressure-sensitive adhesive sheet) was produced by irradiating with ultraviolet rays.

<점착제층의 흡광도 측정><Measurement of absorbance of adhesive layer>

얻어진 점착제층을 각각 유리에 접합하고, 세퍼레이트 필름을 박리한 후, 점착제층에 시클로올레핀 폴리머(COP) 필름(닛폰 제온 가부시키가이샤 제조 ZF-14)을 접합하여, COP 필름/점착제층/유리의 구성을 갖는 적층체를 제작하였다. 제작한 적층체를 분광 광도계 UV-2450(가부시키가이샤 시마즈 세이사쿠쇼 제조)에 세팅하고, 더블빔법에 의해 1 ㎚ 스텝 300∼800 ㎚의 파장 범위에서 흡광도를 측정하였다. 제작한 점착제층의 파장 300 ㎚에 있어서의 흡광도 A(300), 파장 330 ㎚에 있어서의 흡광도 A(330), 파장 350 ㎚에 있어서의 흡광도 A(350), 파장 380 ㎚에 있어서의 흡광도 A(380), 및 파장 420 ㎚에 있어서의 흡광도 A(420)을 표 2에 나타낸다. 또한, 파장 300 ㎚, 파장 330 ㎚, 파장 350 ㎚, 파장 380 ㎚ 및 파장 420 ㎚에 있어서의, 유리의 흡광도 및 COP 필름의 흡광도는 모두 0이다. 결과를 표 2에 나타낸다.Each of the obtained pressure-sensitive adhesive layers was bonded to glass and the separate film was peeled off, and then a cycloolefin polymer (COP) film (ZF-14 manufactured by Nippon Zeon Corporation) was bonded to the pressure-sensitive adhesive layer, and the COP film/adhesive layer/glass A laminate having the configuration was produced. The produced laminate was set in a spectrophotometer UV-2450 (manufactured by Shimadzu Corporation), and absorbance was measured in a wavelength range of 300 to 800 nm in 1 nm steps by a double beam method. Absorbance A (300) at a wavelength of 300 nm of the prepared pressure-sensitive adhesive layer, absorbance A (330) at a wavelength of 330 nm, absorbance A (350) at a wavelength of 350 nm, absorbance A at a wavelength of 380 nm ( 380) and the absorbance A (420) at a wavelength of 420 nm are shown in Table 2. In addition, the absorbance of glass and the absorbance of COP film in a wavelength of 300 nm, a wavelength of 330 nm, a wavelength of 350 nm, a wavelength of 380 nm, and a wavelength of 420 nm are all 0. A result is shown in Table 2.

<점착제층의 내블리드성 평가><Evaluation of the bleed resistance of the adhesive layer>

얻어진 점착제층의 면에 또한 세퍼레이트 필름을 적층시켜 양면 세퍼레이트 필름 부착 점착제층을 얻었다. 얻어진 양면 세퍼레이트 필름 부착 점착제층을 23∼25℃의 공기하에서 1개월 보관하였다. 보관 후의 양면 세퍼레이트 필름 부착 점착제층을 현미경을 이용하여 면내의 화합물의 결정 석출 유무를 확인하였다. 결정 석출이 없으면 「○」로 하고, 결정 석출이 있으면 「×」로 하였다. 평가 결과를 표 2에 나타낸다.A separate film was further laminated|stacked on the surface of the obtained adhesive layer, and the adhesive layer with a double-sided separate film was obtained. The obtained adhesive layer with a double-sided separate film was stored under 23-25 degreeC air for 1 month. The presence or absence of crystallization of the compound in the surface was confirmed for the adhesive layer with a double-sided separate film after storage using the microscope. When there was no crystallization, it was set as "○", and when there was crystallization, it was set as "x". Table 2 shows the evaluation results.

Figure pct00005
Figure pct00005

실시예의 점착제 조성물은, 파장 300 ㎚, 파장 330 ㎚, 파장 350 ㎚ 및 파장 380 ㎚의 어느 곳에 있어서도 0.6 이상의 흡광도를 나타내고, 양호한 자외선 흡수제 성능을 나타내었다. 또한, 파장 420 ㎚에 있어서의 흡광도는 0.10 미만(보다 바람직하게는 0.01 미만)으로 높은 투과율을 나타내었다. 또한, 본 발명의 점착제 조성물은 결정의 석출이 없고 양호한 내블리드성을 나타내었다.The adhesive composition of an Example showed the absorbance of 0.6 or more in any of wavelength 300nm, wavelength 330nm, wavelength 350nm, and wavelength 380nm, and showed favorable ultraviolet absorber performance. In addition, the absorbance at a wavelength of 420 nm was less than 0.10 (more preferably less than 0.01), indicating a high transmittance. In addition, the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention exhibited no crystal precipitation and good bleed resistance.

본 발명의 점착제 조성물로 형성되는 점착제층은, 파장 300 ㎚∼파장 380 ㎚ 부근에 대해 높은 흡광도를 나타내고, 한편 파장 420 ㎚의 광을 투과시키기 때문에, 표시 장치의 색채 표현을 저해하지 않고 양호한 자외선 흡수 성능을 갖는다. 또한, 내블리드성도 양호하다.The pressure-sensitive adhesive layer formed from the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention exhibits high absorbance at a wavelength of 300 nm to 380 nm and transmits light at a wavelength of 420 nm. have performance. In addition, the bleed resistance is also good.

본 발명의 점착제 조성물로 형성되는 점착제층은, 두께가 12 ㎛ 미만의 얇은 층이어도, 충분한 자외선 흡수 성능을 갖고, 또한 양호한 내블리드성을 갖는다.Even if the adhesive layer formed from the adhesive composition of this invention is a thin layer of less than 12 micrometers in thickness, it has sufficient ultraviolet-ray absorption performance and has favorable bleed resistance.

본 발명의 점착제 조성물, 및 상기 점착제 조성물로 형성되는 점착제층을 포함하는 점착제층 부착 광학 필름은, 액정 패널 및 액정 표시 장치에 적합하게 이용된다.The adhesive composition of this invention and the optical film with an adhesive layer containing the adhesive layer formed from the said adhesive composition are used suitably for a liquid crystal panel and a liquid crystal display device.

1: 본 발명의 점착제 조성물로 형성된 점착제층
1a: 점착제층
2: 박리 필름
10: 적층체
10A, 10B: 점착제층 부착 광학 필름
10C, 10D: 광학 적층체
3, 6: 보호 필름
4, 7: 접착제층
5: 편광 필름
8: 위상차 필름
30: 발광 소자
40: 광학 필름
70, 50a: 1/4 파장 위상차층
60: 접착제층 또는 점착제층
50: 1/2 파장 위상차층
80: 포지티브 C층
100: 편광판
110: 위상차 필름1: A pressure-sensitive adhesive layer formed of the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention
1a: adhesive layer
2: release film
10: laminate
10A, 10B: optical film with adhesive layer
10C, 10D: optical laminate
3, 6: protective film
4, 7: adhesive layer
5: Polarizing film
8: retardation film
30: light emitting element
40: optical film
70, 50a: 1/4 wavelength retardation layer
60: adhesive layer or pressure-sensitive adhesive layer
50: 1/2 wavelength retardation layer
80: positive C layer
100: polarizer
110: retardation film

Claims (19)

수지(A),
파장 360 ㎚ 이상에 극대 흡수를 나타내고, 또한, 하기 식 (1) 및 식 (2)를 만족시키는 광선택 흡수 화합물(B), 및
분자 내에 중합성 기를 갖고, 또한 파장 300 ㎚ 이상 파장 360 ㎚ 미만에 극대 흡수를 나타내는 단량체(C-1) 및 파장 300 ㎚ 이상 파장 360 ㎚ 미만에 극대 흡수를 나타내는 수지(C-2)에서 선택되는 적어도 하나
를 포함하는 점착제 조성물.
ε(380)≥25 (1)
ε(380)/ε(420)≥20 (2)
[식 (1) 및 (2) 중, ε(380)은, 광선택 흡수 화합물(B)의 파장 380 ㎚에 있어서의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(420)은, 광선택 흡수 화합물(B)의 파장 420 ㎚에 있어서의 그램 흡광 계수를 나타낸다. 그램 흡광 계수의 단위는 L/(g·㎝)이다.]resin (A);
A photoselective absorption compound (B) that exhibits maximum absorption at a wavelength of 360 nm or more and satisfies the following formulas (1) and (2), and
It has a polymerizable group in the molecule and is selected from a monomer (C-1) that has a maximum absorption at a wavelength of 300 nm or more and less than 360 nm and a resin (C-2) that shows a maximum absorption at a wavelength of 300 nm or more and less than 360 nm. at least one
A pressure-sensitive adhesive composition comprising a.
ε(380)≥25 (1)
ε(380)/ε(420)≥20 (2)
[In formulas (1) and (2), ε(380) represents the gram extinction coefficient at a wavelength of 380 nm of the photoselective absorption compound (B), and ε(420) denotes the photoselective absorption compound (B) shows the gram extinction coefficient at a wavelength of 420 nm. The unit of the gram extinction coefficient is L/(g·cm).] 제1항에 있어서, 개시제(D)를 더 포함하는 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 1, further comprising an initiator (D). 제2항에 있어서, 개시제(D)가 라디칼 발생제인 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 2, wherein the initiator (D) is a radical generator. 제2항 또는 제3항에 있어서, 개시제(D)가 광라디칼 발생제인 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 2 or 3, wherein the initiator (D) is a photoradical generator. 제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 개시제(D)가 옥심에스테르계 광라디칼 발생제인 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to any one of claims 2 to 4, wherein the initiator (D) is an oxime ester-based photoradical generator. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 라디칼 경화성 성분(E)을 더 포함하는 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to any one of claims 1 to 5, further comprising a radical curable component (E). 제6항에 있어서, 라디칼 경화성 성분(E)이, (메트)아크릴레이트계 화합물을 포함하는 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 6, wherein the radical curable component (E) contains a (meth)acrylate-based compound. 제6항 또는 제7항에 있어서, 라디칼 경화성 성분(E)이, 다작용 (메트)아크릴레이트계 화합물을 포함하는 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 6 or 7, wherein the radical curable component (E) contains a polyfunctional (meth)acrylate-based compound. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 가교제(F)를 더 포함하는 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to any one of claims 1 to 8, further comprising a crosslinking agent (F). 제9항에 있어서, 가교제(F)가, 이소시아네이트계 가교제인 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 9, wherein the crosslinking agent (F) is an isocyanate-based crosslinking agent. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 수지(A)의 유리 전이 온도가 40℃ 이하인 점착제 조성물.The adhesive composition of any one of Claims 1-10 whose glass transition temperature of resin (A) is 40 degrees C or less. 제11항에 있어서, 유리 전이 온도가 40℃ 이하인 수지(A)가, (메트)아크릴계 수지인 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 11, wherein the resin (A) having a glass transition temperature of 40°C or less is a (meth)acrylic resin. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 기재된 점착제 조성물로 형성되는 점착제층.The pressure-sensitive adhesive layer formed from the pressure-sensitive adhesive composition according to any one of claims 1 to 12. 제13항에 있어서, 하기 식 (3)을 만족시키는 점착제층.
A(380)≥0.6 (3)
[식 (3) 중, A(380)은 파장 380 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타낸다.]The pressure-sensitive adhesive layer according to claim 13, which satisfies the following formula (3).
A(380)≥0.6 (3)
[In formula (3), A (380) represents the absorbance at a wavelength of 380 nm.] 제14항에 있어서, 또한, 하기 식 (4)를 만족시키는 점착제층.
A(380)/A(420)≥5 (4)
[식 (4) 중, A(380)은 파장 380 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타내고, A(420)은 파장 420 ㎚에 있어서의 흡광도를 나타낸다.]The pressure-sensitive adhesive layer according to claim 14, which further satisfies the following formula (4).
A(380)/A(420)≥5 (4)
[In formula (4), A (380) represents the absorbance at a wavelength of 380 nm, and A (420) represents the absorbance at a wavelength of 420 nm.] 제13항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 점착제층의 막 두께가 10 ㎛ 이하인 점착제층.The pressure-sensitive adhesive layer according to any one of claims 13 to 15, wherein the pressure-sensitive adhesive layer has a film thickness of 10 µm or less. 제13항 내지 제16항 중 어느 한 항에 기재된 점착제층의 적어도 한쪽 면에 광학 필름이 적층된 점착제층 부착 광학 필름.The optical film with an adhesive layer by which the optical film was laminated|stacked on at least one surface of the adhesive layer in any one of Claims 13-16. 제17항에 있어서, 광학 필름이 편광판인 점착제층 부착 광학 필름.The optical film with an adhesive layer according to claim 17, wherein the optical film is a polarizing plate. 제17항 또는 제18항에 기재된 점착제층 부착 광학 필름을 포함하는 화상 표시 장치.The image display device containing the optical film with an adhesive layer of Claim 17 or 18.
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008248131A (en) 2007-03-30 2008-10-16 Lintec Corp Adhesive for solar insolation shielding film, and solar insolation shielding film

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005187662A (en) * 2003-12-25 2005-07-14 Panac Co Ltd Ultraviolet absorbing adhesive and ultraviolet absorbing adhesive sheet
JP4997816B2 (en) * 2006-04-14 2012-08-08 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 UV blocking resin composition and use thereof
JP5576734B2 (en) * 2010-07-21 2014-08-20 新中村化学工業株式会社 UV-absorbing benzotriazole-based (co) polymer, paint containing the same, and film coated with the paint
WO2015029940A1 (en) * 2013-08-30 2015-03-05 三洋化成工業株式会社 Photosensitive composition, cured substance, and image display device
JP6688054B2 (en) * 2015-11-27 2020-04-28 三星エスディアイ株式会社Samsung SDI Co., Ltd. Adhesive composition, optical member and adhesive sheet
CN110832048A (en) * 2017-06-27 2020-02-21 住友化学株式会社 Adhesive composition and film with adhesive layer
KR20200024780A (en) * 2017-06-27 2020-03-09 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Adhesive sheet and film with adhesive layer

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008248131A (en) 2007-03-30 2008-10-16 Lintec Corp Adhesive for solar insolation shielding film, and solar insolation shielding film

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