KR20220059485A - 유기발광 다이오드에 사용하기 위한 물질의 조성물 - Google Patents

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가오리 후지사와
요시타케 스즈키
마사타카 야마시타
슈오-시엔 청
유석 양
히로아키 오자와
하야토 가키조에
유 이나다
아야타카 엔도
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가부시키가이샤 큐럭스
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Abstract

본 개시는 OLED에 유용한 물질인 식 (I)의 화합물에 관한다. X1, X2, X3은 N 또는 C(R5)이고, Ar1 및 Ar2은 아릴, 헤테로아릴 또는 시아노이고, L1은 단일결합, 아릴렌 또는 헤테로아릴렌이며, R1, R2, R3, R4는 디아릴아미노, 카르바졸릴, 헤테로아릴, H 또는 알킬이다.

Description

유기발광 다이오드에 사용하기 위한 물질의 조성물
관련 출원
본 출원은 2019년 9월 5일에 출원한 미국 가출원 제62/896,096호 및 2020년 3월 26일에 출원한 미국 가출원 제62/994,956호에 대한 우선권을 주장하며, 상기 가출원은 본원에 원용되어 있다.
유기 발광 다이오드(OLED)는 유기 화합물 필름이 두 도체 사이에 배치된 발광 다이오드(LED)로, 상기 필름은 전류와 같은 여기에 반응하여 빛을 방출한다. OLED는 조명 및 디스플레이, 예를 들어 텔레비전 화면, 컴퓨터 모니터, 휴대폰, 태블릿에 유용하게 쓰인다.
OLED 디스플레이의 고질적인 문제는 유기 화합물의 수명이 제한적이라는 것이다. 특히 청색광을 방출하는 OLED는 녹색 또는 적색 OLED에 비해 현저히 빠른 속도로 열화한다.
OLED 재료는 전자와 정공의 재결합에 의해 생성된 분자 여기 상태(여기자)의 방사성붕괴에 의존한다. 여기의 특성으로 인해 전자와 정공 간의 상호 작용이 일어나 여기 상태를 발광 일중항(총 스핀 0)과 비발광 삼중항(총 스핀 1)으로 분할한다. 전자와 정공의 재결합은 4개의 스핀 상태(일중항 1개 및 및 삼중항 3개)의 통계적 혼합을 야기하므로 기존의 OLED는 이론상 최대 효율이 25%가 된다.
이제까지 OLED 재료의 설계는 정상 비발광 삼중항에서 남은 에너지를 채취하는 것에 중점을 두었다. 정상 비발광 삼중항 상태에서 빛을 방출하는 효율적인 형광체를 얻기 위한 근래의 연구에서 녹색 및 적색 OLED가 만들어졌다. 그러나 청색을 비롯한 다른 색상은 더 높은 에너지 여기 상태를 필요로 하므로 OLED의 열화 과정을 가속화한다.
삼중항-일중항 전이율의 기초제한계수는 매개변수 |Hfi/δEST|2으로, 여기서 H fi는 미세 또는 스핀 궤도 상호 작용에 따른 결합 에너지이고, δEST는 일중항 상태와 삼중항 상태의 에너지 분할이다. 기존의 인광 OLED는 스핀-궤도(SO) 상호 작용으로 인한 일중항과 삼중항 상태의 혼합에 의존하며, Hfi를 증가시키고 중금속 원자와 유기 리간드 사이에 최저 방출 준위를 형성한다. 이로써 더 높은 일중항 및 삼중항 상태에서 에너지를 얻게 되고, 인광(여기된 삼중항에서의 상대적 단기간 방출)으로 이어진다. 삼중항의 수명이 줄어들면 전하 및 기타 여기자에 의한 삼중항의 여기자 소멸을 감소시킨다. 근래의 연구는 인광재료의 성능이 한계에 도달했음을 시사하고 있다.
본 개시는 OLED용 신규 물질에 관한다. 일부 실시형태에서, 해당 물질을 함유하는 OLED는 수명이 길고 개선된 성질을 보인다.
한 양태에서, 본 개시는 식 (I)의 화합물에 있어서,
Figure pct00001
(I)
X1, X2, X3 중 하나는 N이고,
X1, X2, X3 중 나머지 둘은 독립적으로 N 또는 C(R5)이며,
R5는 수소, 중수소, 할로겐, 시아노, 치환 또는 미치환 알킬, 치환 또는 미치환 알콕시, 치환 또는 미치환 아릴, 치환 또는 미치환 아릴록시, 치환 또는 미치환 헤테로아릴, 치환 또는 미치환 헤테로아릴록시, 혹은 실릴이며,
Ar1 및 Ar2는 치환 또는 미치환 아릴, 치환 또는 미치환 헤테로아릴, 시아노로부터 독립적으로 선택되고,
L1은 단일결합, 치환 또는 미치환 아릴렌, 치환 또는 미치환 헤테로아릴렌으로부터 선택되고,
R1, R2, R3, R4 중 하나는 D이고,
R1, R2, R3, R4 중 또다른 하나는 Ar3이며,
R1, R2, R3, R4 중 나머지 둘은 H, 치환 또는 미치환 알킬, D, Ar3에서 독립적으로 선택되고,
Ar3은 치환 또는 미치환 아릴, N을 고리 구성 원자로 가지지 않는 치환 또는 미치환 헤테로아릴로부터 독립적으로 선택되고, 여기에서 아릴 및 헤테로아릴의 각 인스턴스는 중수소, 치환 또는 미치환 알킬, 치환 또는 미치환 아릴, N을 고리 구성 원자로 가지지 않는 치환 또는 미치환 헤테로아릴로부터 독립적으로 선택되는 하나 이상의 치환기로 치환될 수 있고, 이들 치환기 중 두 개 이상은 함께 고리계를 형성할 수 있으며,
D는 치환 또는 미치환 1-카르바졸릴, 치환 또는 미치환 2-카르바졸릴, 치환 또는 미치환 3-카르바졸릴, 치환 또는 미치환 4-카르바졸릴, 또는 식 (II)로 나타나는 기로부터 독립적으로 선택되고,
Figure pct00002
(II)
R11, R12, R13, R14, R15, R16, R17, R18은 수소, 중수소, 치환 또는 미치환 알킬, 치환 또는 미치환 알콕시, 치환 또는 미치환 아미노, 치환 또는 미치환 아릴, 치환 또는 미치환 아릴록시, 치환 또는 미치환 헤테로아릴, 치환 또는 미치환 헤테로아릴록시, 실릴로부터 독립적으로 선택되고, R11, R12, R13, R14, R15, R16, R17, R18 중 둘 이상은 함께 고리계를 형성할 수 있거나, R15 및 R16은 함께 단일결합을 형성할 수 있고,
L11은 단일결합, 치환 또는 미치환 아릴렌, 치환 또는 미치환 헤테로아릴렌으로부터 선택되는, 화합물을 제공한다.
한 양태에서, 본 개시는 식 (I)의 화합물을 포함하는 발광재료를 제공한다. 한 양태에서, 본 개시는 식 (I)의 화합물을 포함하는 지연 형광방출체를 제공한다. 한 양태에서, 본 개시는 식 (I) 화합물을 포함하는 유기발광 다이오드(OLED)를 제공한다. 한 양태에서, 본 개시는 식 (I)의 화합물을 포함하는 스크린 또는 디스플레이를 제공한다.
한 양태에서, 본 개시는 OLED 디스플레이의 제조방법에 있어서, 마더 패널의 베이스 기판 상에 배리어층을 형성하는 단계와, 상기 배리어층 상에 셀 패널 단위로 복수의 표시부를 형성하는 단계와, 상기 셀 패널의 각 표시부에 봉지층을 형성하는 단계와, 식 (I)의 화합물을 포함하는 유기필름을 상기 셀 패널 사이의 계면 부분에 적용하는 단계를 포함한다.
실시예는 본 발명의 설명을 목적으로 하며, 본 발명을 제한하지 않는다. 당업자는 본 개시의 범위 또는 취지를 일탈하지 않는 한도 내에서 본 개시를 수정하거나 변형할 수 있음을 이해할 것이다. 예를 들어 한 실시형태의 일부로서 예시하거나 설명한 특징을 다른 실시형태에 적용하여 새로운 실시형태를 얻어도 좋다. 따라서 본 개시는 하기에 첨부한 청구항과 그와 동등한 내용의 범주에 속하는 수정 및 변형까지 모두 포함하게 된다. 본 개시의 그 외 목적, 특징, 양태를 다음의 상세한 설명에 개시하거나, 혹은 개시한 내용에서 도출할 수 있다. 당업자는 본 논의가 예시적인 실시예의 설명에 지나지 않으며, 본 개시의 광의의 양태를 제한하는 것으로 해석해서는 안 된다는 사실을 이해할 것이다.
본 출원에서 쓰이는 용어의 정의는 WO2019/195104의 13페이지 16행~25페이지 9행을 참조할 수 있다. OLED의 원칙은 WO2019/195104의 25페이지 11행~26페이지 27행을 참조한다. 식 (I)에 나타난 화합물의 전자 특성 및 예시적인 용도는 WO2019/195104의 58페이지 24행~87페이지 9행 및 도 1에서 찾아볼 수 있다. WO2019/195104의 설명과 도 1은 본원에 원용되어 있다. 미국 가출원 제62/896,096호의 5페이지 27행~19페이지 22행, 43페이지 1행~64페이지 30행 역시 본원에 원용되어 있다.
본 개시의 화합물
Figure pct00003
(I)
식 (I)에서, X1, X2, X3 중 하나는 N이고, X1, X2, X3 중 나머지 둘은 독립적으로 N 또는 C(R5)이다. R5는 수소, 중수소, 할로겐, 시아노, 치환 또는 미치환 알킬, 치환 또는 미치환 알콕시, 치환 또는 미치환 아릴, 치환 또는 미치환 아릴록시, 치환 또는 미치환 헤테로아릴, 치환 또는 미치환 헤테로아릴록시, 혹은 실릴이다.
일부 실시형태에서, X1, X2, X3은 모두 N이다. 일부 실시형태에서, X1 및X2는 N이며, X3 는is C(R5)이다. 일부 실시형태에서, X2 및 X3은 N이며, X1은 C(R5)이다. 일부 실시형태에서, X1는 N이고 X2 및 X3은 각각 독립적으로 C(R5)이다. 일부 실시형태에서, X2는 N이고, X1 및 X3은 독립적으로 C(R5)이다. 일부 실시형태에서, R5는 치환 또는 미치환 알킬이다. 일부 실시형태에서, R5는 미치환 알킬이다.
식 (I)에서, L1은 단일결합, 치환 또는 미치환 아릴렌, 치환 또는 미치환 헤테로아릴렌으로부터 선택된다. 일부 실시형태에서, 아릴렌과 헤테로아릴렌의 각 인스턴스는 중수소, 치환 또는 미치환 알킬, 치환 또는 미치환 아릴, 치환 또는 미치환 헤테로아릴로부터 독립적으로 선택되는 하나 이상의 치환기로 치환될 수 있고, 이들 치환기 중 두 개 이상은 함께 고리계를 형성할 수 있다. 일부 실시형태에서, 본원의 고리계는 치환 또는 미치환 방향족 고리, 혹은 치환 또는 미치환 지방족 고리이다. 일부 실시형태에서, L1은 단일결합, 미치환 페닐렌, 또는 적어도 1종의 알킬로 치환된 페닐렌이다. 일부 실시형태에서, L1은 단일결합이다. 일부 실시형태에서, L1은 치환 또는 미치환 페닐렌기이며, 바람직하게는 치환 또는 미치환 1,2-페닐렌기이고, 보다 바람직하게는 알킬 치환 또는 미치환 1,2-페닐렌기이다. 일부 실시형태에서, L1은 다음 중에서 선택된다.
Figure pct00004
Figure pct00005
Figure pct00006
Figure pct00007
Figure pct00008
*은 결합 위치를 가리킨다.
식 (1)에서, Ar1 및 Ar2는 치환 또는 미치환 아릴, 치환 또는 미치환 헤테로아릴, 시아노로부터 독립적으로 선택된다.
일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 아릴이며, 바람직하게는 미치환 아릴, 혹은 알킬, 아릴 또는 시아노로 치환된 아릴이다. 일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 미치환 아릴, 예를 들어 미치환 페닐이다. 일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 헤테로아릴이다. 일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2는 시아노이다. 일부 실시형태에서, Ar1은 시아노이고 Ar2는 치환 또는 미치환 아릴이다. 아릴 및 헤테로아릴의 각 인스턴스는 중수소, 치환 또는 미치환 알킬, 치환 또는 미치환 아릴, 치환 또는 미치환 헤테로아릴로부터 독립적으로 선택되는 하나 이상의 치환기로 치환될 수 있고, 이들 치환기 중 두 개 이상은 함께 고리계를 형성할 수 있다. 일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2는 동일하다. 일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 다음 중에서 선택된다.
Figure pct00009
Figure pct00010
Figure pct00011
Figure pct00012
Figure pct00013
*는 결합위치를 가리킨다.
일부 실시형태에서,
Figure pct00014
는
Figure pct00015
이다.
일부 실시형태에서,
Figure pct00016
는
Figure pct00017
이다.
일부 실시형태에서,
Figure pct00018
는
Figure pct00019
이다.
일부 실시형태에서,
Figure pct00020
는
Figure pct00021
이다.
일부 실시형태에서,
Figure pct00022
는
Figure pct00023
이다.
식 (I)에서, R1, R2, R3, R4 중 하나는 D이고, R1, R2, R3, R4 중 또다른 하나는 Ar3이며, R1, R2, R3, R4 중 나머지 둘은 H, 치환 또는 미치환 알킬, D, Ar3에서 독립적으로 선택된다.
일부 실시형태에서, R1은 H, 치환 또는 미치환 알킬, 또는 D이다. 일부 실시형태에서, R1은 H 또는 D이다. 일부 실시형태에서, R1은 H이다. 일부 실시형태에서, R1은 D이다. 일부 실시형태에서, R1은 Ar3이다. 일부 실시형태에서, R1은 치환 또는 미치환 알킬이다. 일부 실시형태에서, R2는 H 또는 Ar3이다. 일부 실시형태에서, R2는 H이다. 일부 실시형태에서, R2는 Ar3이다. 일부 실시형태에서, R2는 D이다. 일부 실시형태에서, R2는 식 (I)의 벤젠 고리에 탄소원자로 결합한 기이다. 일부 실시형태에서, R3은 식 (I)의 벤젠 고리에 탄소원자로 결합한 기이다. 일부 실시형태에서, R3은 Ar3 또는 D이다. 일부 실시형태에서, R3은 Ar3이다. 일부 실시형태에서, R3은 D이다. 일부 실시형태에서, R3은 H이다. 일부 실시형태에서, R4는 Ar3이다. 일부 실시형태에서, R4는 D이다. 일부 실시형태에서, R4는 H이다. 일부 실시형태에서, R4는 식 (I)의 벤젠 고리에 탄소원자로 결합한 기이다.
일부 실시형태에서, R2, R3, R4 중 적어도 하나는 D이다. 일부 실시형태에서, R3 및 R4 중 적어도 하나는 D이다. 일부 실시형태에서, R2 및 R3 중 적어도 하나는 D이다. 일부 실시형태에서, R2, R3, R4 중 적어도 둘은 각각 독립적으로 D이다. 일부 실시형태에서, R2 및 R3은 D이다. 일부 실시형태에서, R3 및 R4는 D이다. 일부 실시형태에서, R2 및 R4는 D이다. 일부 실시형태에서, R1 및 R3은 D이다. 일부 실시형태에서, R2, R3, R4 중 적어도 둘은 D이며, 이들은 동일하다. 일부 실시형태에서, R2, R3, R4 중 적어도 하나는 Ar3이다. 일부 실시형태에서, R2는Ar3이다. 일부 실시형태에서, R3은 Ar3이다. 일부 실시형태에서, R4는 Ar3이다. 일부 실시형태에서, R1, R2, R3, R4 중 단 하나만이 Ar3이다. 일부 바람직한 실시형태에서, R1, R2, R3, R4 중 R3만이 Ar3이다. 일부 실시형태에서, R1, R2, R3, R4 중 R2만이Ar3이다. 일부 실시형태에서, R1, R2, R3, R4 중 R4만이Ar3이다. 일부 실시형태에서, R1, R2, R3, R4 중에서 하나만이 H이다. 일부 바람직한 실시형태에서, R1, R2, R3, R4 중 R1만이 H이다. 일부 실시형태에서, R1, R2, R3, R4 중 하나만이 D이다. 일부 실시형태에서, R1, R2, R3, R4 중 R1만이 D이다. 일부 실시형태에서, R1, R2, R3, R4 중 R2만이 D이다. 일부 실시형태에서, R1, R2, R3, R4 중 하나만이 치환 또는 미치환 알킬이다. 일부 실시형태에서, R1, R2, R3, R4 중 둘은 H이다. 일부 바람직한 실시형태에서, R1, R2, R3, R4 중 R1 및 R4만이 H이다. 일부 바람직한 실시형태에서, R1, R2, R3, R4 중 R2 및 R3만이 H이다. 일부 실시형태에서, R2은 H이다.
R1, R2, R3, R4 중 둘 이상이 Ar3인 경우, 일부 실시형태에서, 둘 이상의 Ar3은 동일하며, 또다른 일부 실시형태에서, 둘 이상의 Ar3은 서로 상이하다. R1, R2, R3, R4 중 둘 이상이 D인 경우, 일부 실시형태에서, 둘 이상의 D는 동일하며, 또다른 일부 실시형태에서, 둘 이상의 D는 서로 상이하다. 일부 실시형태에서, R1은 H이고, R2 및 R3은 각각 독립적으로 D이며, R4는 Ar3이다. 일부 실시형태에서, R1은 H이고, R2 및 R4는 각각 독립적으로 D이며, R3은 Ar3이다. 일부 실시형태에서, R1은 H이고, R3 및 R4는 각각 독립적으로 D이며, R2는 Ar3이다. 일부 실시형태에서, R2는 H이고, R1 및 R3은 각각 독립적으로 D이며, R4는 Ar3이다. 일부 실시형태에서, R1은 H이고, R2 및 R3은 D이고 서로 동일하며, R4는 Ar3이다. 일부 실시형태에서, R1은 H이고, R2 및 R4는 D이고 서로 동일하며, R3은 Ar3이다. 일부 실시형태에서, R1은 H이고, R3 및 R4는 D이고 서로 동일하며, R2는 Ar3이다. 일부 실시형태에서, R2는 H이고, R1 및 R3은 D이고 서로 동일하며, R4는 Ar3이다. 일부 실시형태에서, R1 및 R4는 H이고, R2는 D이며, R3은 Ar3이다. 일부 실시형태에서, R2 및 R4는 H이고, R1은 D이며, R3은 Ar3이다.
식 (I)에서, Ar3은 치환 또는 미치환 아릴, N을 고리 구성 원자로 가지지 않는 치환 또는 미치환 헤테로아릴로부터 독립적으로 선택된다. 아릴 및 헤테로아릴의 각 인스턴스는 중수소, 치환 또는 미치환 알킬, 치환 또는 미치환 아릴, N을 고리 구성 원자로 가지지 않는 치환 또는 미치환 헤테로아릴로부터 독립적으로 선택되는 하나 이상의 치환기로 치환될 수 있고, 이들 치환기 중 두 개 이상은 함께 고리계를 형성할 수 있다.
일부 실시형태에서, Ar3은 각각 독립적으로 중수소, 치환 또는 미치환 알킬, 치환 또는 미치환 아릴, 치환 또는 미치환 헤테로아릴로부터 독립적으로 선택되는 하나 이상의 치환기로 치환되는 아릴일 수 있고, 이들 치환기 중 두 개 이상은 함께 고리계를 형성할 수 있다. 일부 실시형태에서, Ar3은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 페닐이다. 일부 실시형태에서, Ar3은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 나프틸이다. 일부 실시형태에서, Ar3은 미치환 페닐이다. 일부 실시형태에서, Ar3은 각각 독립적으로 미치환 알킬, 미치환 아릴 또는 시아노로 치환된 페닐이다. 일부 실시형태에서, Ar3은 치환 또는 미치환 페닐, 치환 또는 미치환 비페닐, 치환 또는 미치환 터페닐로부터 독립적으로 선택된다.
일부 실시형태에서, Ar3은 각각 독립적으로 페닐, 3-메틸페닐, 4-메틸페닐, 3-에틸페닐, 4-에틸페닐, 3-시아노페닐, 4-시아노페닐, 3,5-디페닐페닐, 1-나프틸 또는 2-나프틸이다. 일부 실시형태에서, Ar3은 상기 Ar1~Ar25로부터 독립적으로 선택된다.
식 (I)에서, D는 치환 또는 미치환 1-카르바졸릴, 치환 또는 미치환 2-카르바졸릴, 치환 또는 미치환 3-카르바졸릴, 치환 또는 미치환 4-카르바졸릴, 또는 식 (II)로 나타나는 기로부터 독립적으로 선택된다.
Figure pct00024
(II)
식 (II)에서, R11, R12, R13, R14, R15, R16, R17, R18은 수소, 중수소, 치환 또는 미치환 알킬, 치환 또는 미치환 알콕시, 치환 또는 미치환 아미노, 치환 또는 미치환 아릴, 치환 또는 미치환 아릴록시, 치환 또는 미치환 헤테로아릴, 치환 또는 미치환 헤테로아릴록시, 실릴로부터 독립적으로 선택되고, R11, R12, R13, R14, R15, R16, R17, R18 중 둘 이상은 함께 고리계를 형성할 수 있거나, R15 및 R16은 함께 단일결합을 형성할 수 있다.
일부 실시형태에서, R11, R12, R13, R14, R15, R16, R17, R18 중 둘 이상으로 형성된 고리계는 치환 또는 미치환 방향족 고리이다. 일부 실시형태에서, 고리계는 치환 또는 미치환 벤젠 고리, 치환 또는 미치환 나프탈렌 고리, 혹은 치환 또는 미치환 안트라센 고리이다. 일부 실시형태에서, 방향족 고리는 수소, 중수소, 치환 또는 미치환 알킬, 치환 또는 미치환 알콕시, 치환 또는 미치환 아미노, 치환 또는 미치환 아릴, 치환 또는 미치환 아릴록시, 치환 또는 미치환 헤테로아릴, 치환 또는 미치환 헤테로아릴록시, 실릴로부터 독립적으로 선택된 하나 이상의 치환기로 치환된다.
식 (II)에서, L11은 단일결합, 치환 또는 미치환 아릴렌, 치환 또는 미치환 헤테로아릴렌로부터 선택된다. 일부 실시형태에서, 아릴렌 및 헤테로아릴렌의 각 인스턴스는 중수소, 치환 또는 미치환 알킬, 치환 또는 미치환 아릴, 치환 또는 미치환 헤테로아릴로부터 독립적으로 선택된 하나 이상의 치환기로 치환되며, 치환기 중 둘 이상은 함께 고리계를 형성할 수 있다. 일부 실시형태에서, 상기 고리계는 치환 또는 미치환 방향족 고리거나, 치환 또는 미치환 지방족 고리이다. 일부 실시형태에서, L11은 단일결합, 미치환 페닐렌, 또는 적어도 하나의 알킬로 치환된 페닐렌이다.
일부 실시형태에서, D는
Figure pct00025
이다.
일부 실시형태에서, D는
Figure pct00026
이다.
일부 실시형태에서, D는
Figure pct00027
이다.
일부 실시형태에서, D는
Figure pct00028
이다.
일부 실시형태에서, D는
Figure pct00029
이다.
일부 실시형태에서, XD는 O이다. 일부 실시형태에서, XD는 S이다. 일부 실시형태에서, XD는 NRD'이다. 일부 실시형태에서, XD는 C(O)이다. 일부 실시형태에서, XD는 치환 또는 미치환 메틸렌이다. 일부 실시형태에서, XD는 치환 또는 미치환 에틸렌이다. 일부 실시형태에서, XD는 치환 또는 미치환 비닐렌이다. 일부 실시형태에서, XD는 치환 또는 미치환 o-아릴렌이다. 일부 실시형태에서, XD는 치환 또는 미치환 o-헤테로아릴렌이다. 일부 실시형태에서, 메틸렌, 에틸렌, 비닐렌, o-아릴렌, o-헤테로아릴렌은 중수소, 치환 또는 미치환 알킬, 치환 또는 미치환 아릴, 치환 또는 미치환 헤테로아릴로 치환할 수 있다. 일부 실시형태에서, XD의 인스턴스 2개 이상은 함께 고리계를 형성할 수 있다.
일부 실시형태에서, RD는 수소이다. 일부 실시형태에서, RD는 중수소이다. 일부 실시형태에서, RD는 치환 또는 미치환 알킬이다. 일부 실시형태에서, RD는 치환 또는 미치환 알콕시이다. 일부 실시형태에서, RD는 치환 또는 미치환 아미노이다. 일부 실시형태에서, RD는 치환 또는 미치환 아릴이다. 일부 실시형태에서, RD는 치환 또는 미치환 아릴록시이다. 일부 실시형태에서, RD는 치환 또는 미치환 헤테로아릴이다. 일부 실시형태에서, RD는 치환 또는 미치환 헤테로아릴록시이다. 일부 실시형태에서, RD는 실릴이다. 일부 실시형태에서, RD의 인스턴스 2개 이상은 함께 고리계를 형성할 수 있다.
일부 실시형태에서, RD'는 수소이다. 일부 실시형태에서, RD'는 중수소이다. 일부 실시형태에서, RD'는 치환 또는 미치환 알킬이다. 일부 실시형태에서, RD'는 치환 또는 미치환 아미노이다. 일부 실시형태에서, RD'는 치환 또는 미치환 아릴이다. 일부 실시형태에서, RD'는 치환 또는 미치환 헤테로아릴이다. 일부 실시형태에서, RD' 및 RD의 인스턴스 2개 이상은 함께 고리계를 형성할 수 있다.
일부 실시형태에서, LD는 단일결합이다. 일부 실시형태에서, LD is 치환 또는 미치환 아릴렌. 일부 실시형태에서, LD는 치환 또는 미치환 헤테로아릴렌이다.
일부 실시형태에서, LD가 치환되는 경우 치환기는 중수소, 치환 또는 미치환 알킬, 치환 또는 미치환 아릴, 치환 또는 미치환 헤테로아릴로부터 독립적으로 선택되고, 치환기 중 두 개 이상은 함께 고리계를 형성할 수 있다.
일부 실시형태에서, D는 다음 중에서 선택된다.
Figure pct00030
Figure pct00031
Figure pct00032
Figure pct00033
Figure pct00034
Figure pct00035
Figure pct00036
Figure pct00037
Figure pct00038
Figure pct00039
Figure pct00040
Figure pct00041
Figure pct00042
Figure pct00043
Figure pct00044
Figure pct00045
Figure pct00046
Figure pct00047
Figure pct00048
Figure pct00049
Figure pct00050
Figure pct00051
Figure pct00052
*는 결합위치를 가리킨다. Ph는 미치환 페닐이다. Tol은 p-톨릴이다.
일부 실시형태에서, 알킬은 C1-C20 알킬이다. 일부 실시형태에서, 알킬은 C1-C12 알킬이다. 일부 실시형태에서, 알킬은 C1-C6 알킬이다. 일부 실시형태에서, 알킬은 C1-C3 알킬이다. 일부 실시형태에서, 아릴은 C6-C40 아릴이다. 일부 실시형태에서, 아릴은 C6-C25 아릴이다. 일부 실시형태에서, 아릴은 C6-C14 아릴이다. 일부 실시형태에서, 아릴은 C6-C10 아릴이다. 일부 실시형태에서, 헤테로아릴은 C2-C40 헤테로아릴이다. 일부 실시형태에서, 헤테로아릴은 고리 구성 원자 5~40개를 가진다. 일부 실시형태에서, 헤테로아릴은 고리 구성 원자 5~25개를 가진다. 일부 실시형태에서, 헤테로아릴은 고리 구성 원자 5~10개를 가진다. 일부 실시형태에서, 알콕시는 C1-C20 알콕시이다. 일부 실시형태에서, 알콕시는 C1-C12 알콕시이다. 일부 실시형태에서, 알콕시는 C1-C6 알콕시이다. 일부 실시형태에서, 알콕시는 C1-C3 알콕시이다. 일부 실시형태에서, 아릴록시는 C6-C40 아릴록시이다. 일부 실시형태에서, 아릴록시는 C6-C25 아릴록시이다. 일부 실시형태에서, 아릴록시는 C6-C14 아릴록시이다. 일부 실시형태에서, 아릴록시는 C6-C10 아릴록시이다. 일부 실시형태에서, 헤테로아릴록시는 C3-C40 헤테로아릴록시이다. 일부 실시형태에서, 헤테로아릴록시는 고리 구성 원자 5~40개를 가진다. 일부 실시형태에서, 헤테로아릴록시는 고리 구성 원자 5~25개를 가진다. 일부 실시형태에서, 헤테로아릴록시는 고리 구성 원자 5~10개를 가진다.
일부 바람직한 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 R1은 H이고, R2 및 R3은 각각 독립적으로 D이며, R4는 Ar3이고, X1 내지 X3은 N이고, Ar1 및 Ar2 은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 아릴이라는 조건을 만족하는 군(이하 "1군")으로부터 선택된다. 1군의 일부 실시형태에서, L1은 단일결합이다. 일부 실시형태에서, R2 및 R3은 동일하다. 일부 실시형태에서, R2 및 R3은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, R2 및 R3은 각각 독립적으로 2개의 아릴기가 서로 결합하지 않은 치환 또는 미치환 디아릴아미노이다. 일부 실시형태에서, R4는 치환 또는 미치환 아릴이다. 일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2은 동일하다.
일부 바람직한 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 R1은 H이고, R2 및 R3은 각각 독립적으로 D이며, R4는 Ar3이고, X1 및 X3은 N이고, X2는 C(R5)이고, Ar1 및 Ar2 은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 아릴이라는 조건을 만족하는 군(이하 "2군")으로부터 선택된다. 2군의 일부 실시형태에서, L1은 단일결합이다. 일부 실시형태에서, R2 및 R3은 동일하다. 일부 실시형태에서, R2 및 R3은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, R2 및 R3은 각각 독립적으로 2개의 아릴기가 서로 결합하지 않은 치환 또는 미치환 디아릴아미노이다. 일부 실시형태에서, R4는 치환 또는 미치환 아릴이다. 일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2은 동일하다. 일부 실시형태에서, R5는 H 또는 미치환 알킬이다.
일부 바람직한 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 R1은 H이고, R2 및 R3은 각각 독립적으로 D이며, R4는 Ar3이고, X1 및 X2는 N이고, X3은 C(R5)이고, Ar1 및 Ar2 은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 아릴이라는 조건을 만족하는 군(이하 "3군")으로부터 선택된다. 3군의 일부 실시형태에서, L1은 단일결합이다. 일부 실시형태에서, R2 및 R3은 동일하다. 일부 실시형태에서, R2 및 R3은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, R2 및 R3은 각각 독립적으로 2개의 아릴기가 서로 결합하지 않은 치환 또는 미치환 디아릴아미노이다. 일부 실시형태에서, R4는 치환 또는 미치환 아릴이다. 일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2은 동일하다. 일부 실시형태에서, R5는 H 또는 미치환 알킬이다.
일부 바람직한 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 R1은 H이고, R2 및 R3은 각각 독립적으로 D이며, R4는 Ar3이고, X1은 N이고, X2 및 X3은 각각 독립적으로 C(R5)이고, Ar1 및 Ar2 은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 아릴이라는 조건을 만족하는 군(이하 "4군")으로부터 선택된다. 4군의 일부 실시형태에서, L1은 단일결합이다. 일부 실시형태에서, R2 및 R3은 동일하다. 일부 실시형태에서, R2 및 R3은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, R2 및 R3은 각각 독립적으로 2개의 아릴기가 서로 결합하지 않은 치환 또는 미치환 디아릴아미노이다. 일부 실시형태에서, R4는 치환 또는 미치환 아릴이다. 일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2은 동일하다. 일부 실시형태에서, R5는 H 또는 미치환 알킬이다. 일부 실시형태에서 X2 및 X3은 동일하다.
일부 바람직한 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 R1은 H이고, R2는 Ar3이고, R3 및 R4는 각각 독립적으로 D이며, X1 내지 X3은 N이고, Ar1 및 Ar2 은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 아릴이라는 조건을 만족하는 군(이하 "5군")으로부터 선택된다. 5군의 일부 실시형태에서, L1은 단일결합이다. 일부 실시형태에서, R3 및 R4는 동일하다. 일부 실시형태에서, R3 및 R4는 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, R3 및 R4는 각각 독립적으로 2개의 아릴기가 서로 결합하지 않은 치환 또는 미치환 디아릴아미노이다. 일부 실시형태에서, R2는 치환 또는 미치환 아릴이다. 일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2은 동일하다.
일부 바람직한 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 R1은 H이고, R2는 Ar3이고, R3 및 R4는 각각 독립적으로 D이며, X1 및 X2는 N이고, X3은 C(R5)이며, Ar1 및 Ar2 은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 아릴이라는 조건을 만족하는 군(이하 "6군")으로부터 선택된다. 6군의 일부 실시형태에서, L1은 단일결합이다. 일부 실시형태에서, R3 및 R4는 동일하다. 일부 실시형태에서, R3 및 R4는 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, R3 및 R4는 각각 독립적으로 2개의 아릴기가 서로 결합하지 않은 치환 또는 미치환 디아릴아미노이다. 일부 실시형태에서, R2는 치환 또는 미치환 아릴이다. 일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2은 동일하다. 일부 실시형태에서, R5는 H 또는 미치환 알킬이다.
일부 바람직한 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 R1은 H이고, R2는 Ar3이고, R3 및 R4는 각각 독립적으로 D이며, X1 및 X3은 N이고, X2는 C(R5)이며, Ar1 및 Ar2 은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 아릴이라는 조건을 만족하는 군(이하 "7군")으로부터 선택된다. 7군의 일부 실시형태에서, L1은 단일결합이다. 일부 실시형태에서, R3 및 R4는 동일하다. 일부 실시형태에서, R3 및 R4는 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, R3 및 R4는 각각 독립적으로 2개의 아릴기가 서로 결합하지 않은 치환 또는 미치환 디아릴아미노이다. 일부 실시형태에서, R2는 치환 또는 미치환 아릴이다. 일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2은 동일하다. 일부 실시형태에서, R5는 H 또는 미치환 알킬이다.
일부 바람직한 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 R1은 H이고, R2는 Ar3이고, R3 및 R4는 각각 독립적으로 D이며, X1은 C(R5)이며, X2 및 X3은 N이고, Ar1 및 Ar2 은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 아릴이라는 조건을 만족하는 군(이하 "8군")으로부터 선택된다. 8군의 일부 실시형태에서, L1은 단일결합이다. 일부 실시형태에서, R3 및 R4는 동일하다. 일부 실시형태에서, R3 및 R4는 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, R3 및 R4는 각각 독립적으로 2개의 아릴기가 서로 결합하지 않은 치환 또는 미치환 디아릴아미노이다. 일부 실시형태에서, R2는 치환 또는 미치환 아릴이다. 일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2은 동일하다. 일부 실시형태에서, R5는 H 또는 미치환 알킬이다. 일부 실시형태에서, X2 및 X3은 동일하다.
일부 바람직한 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 R1은 H이고, R3는 Ar3이고, R2 및 R4는 각각 독립적으로 D이며, X1 내지 X3은 N이고, Ar1 및 Ar2 은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 아릴이라는 조건을 만족하는 군(이하 "9군")으로부터 선택된다. 9군의 일부 실시형태에서, L1은 단일결합이다. 일부 실시형태에서, R2 및 R4는 동일하다. 일부 실시형태에서, R2 및 R4는 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, R2 및 R4는 각각 독립적으로 2개의 아릴기가 서로 결합하지 않은 치환 또는 미치환 디아릴아미노이다. 일부 실시형태에서, R3은 치환 또는 미치환 아릴이다. 일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2은 동일하다. 일부 실시형태에서, R5는 H 또는 미치환 알킬이다.
일부 바람직한 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 R1은 H이고, R3는 Ar3이고, R2 및 R4는 각각 독립적으로 D이며, X1 및 X3은 N이고, X2는 C(R5)이며, Ar1 및 Ar2 은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 아릴이라는 조건을 만족하는 군(이하 "10군")으로부터 선택된다. 10군의 일부 실시형태에서, L1은 단일결합이다. 일부 실시형태에서, R2 및 R4는 동일하다. 일부 실시형태에서, R2 및 R4는 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, R2 및 R4는 각각 독립적으로 2개의 아릴기가 서로 결합하지 않은 치환 또는 미치환 디아릴아미노이다. 일부 실시형태에서, R3은 치환 또는 미치환 아릴이다. 일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2은 동일하다. 일부 실시형태에서, R5는 H 또는 미치환 알킬이다.
일부 바람직한 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 R1은 H이고, R3는 Ar3이고, R2 및 R4는 각각 독립적으로 D이며, X1 및 X2는 N이고, X3은 C(R5)이며, Ar1 및 Ar2 은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 아릴이라는 조건을 만족하는 군(이하 "11군")으로부터 선택된다. 11군의 일부 실시형태에서, L1은 단일결합이다. 일부 실시형태에서, R2 및 R4는 동일하다. 일부 실시형태에서, R2 및 R4는 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, R2 및 R4는 각각 독립적으로 2개의 아릴기가 서로 결합하지 않은 치환 또는 미치환 디아릴아미노이다. 일부 실시형태에서, R3은 치환 또는 미치환 아릴이다. 일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2은 동일하다. 일부 실시형태에서, R5는 H 또는 미치환 알킬이다.
일부 바람직한 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 R1은 H이고, R3는 Ar3이고, R2 및 R4는 각각 독립적으로 D이며, X1은 N이고, X2 및 X3은 각각 독립적으로 C(R5)이며, Ar1 및 Ar2 은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 아릴이라는 조건을 만족하는 군(이하 "12군")으로부터 선택된다. 12군의 일부 실시형태에서, L1은 단일결합이다. 일부 실시형태에서, R2 및 R4는 동일하다. 일부 실시형태에서, R2 및 R4는 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, R2 및 R4는 각각 독립적으로 2개의 아릴기가 서로 결합하지 않은 치환 또는 미치환 디아릴아미노이다. 일부 실시형태에서, R3은 치환 또는 미치환 아릴이다. 일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2은 동일하다. 일부 실시형태에서, R5는 H 또는 미치환 알킬이다. 일부 실시형태에서, X2 및 X3은 동일하다.
일부 바람직한 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 R1은 H이고, R3는 Ar3이고, R2 및 R4는 각각 독립적으로 D이며, X1 및 X3은 각각 독립적으로 C(R5)이며, X2는 N이고, Ar1 및 Ar2 은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 아릴이라는 조건을 만족하는 군(이하 "13군")으로부터 선택된다. 13군의 일부 실시형태에서, L1은 단일결합이다. 일부 실시형태에서, R2 및 R4는 동일하다. 일부 실시형태에서, R2 및 R4는 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, R2 및 R4는 각각 독립적으로 2개의 아릴기가 서로 결합하지 않은 치환 또는 미치환 디아릴아미노이다. 일부 실시형태에서, R3은 치환 또는 미치환 아릴이다. 일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2은 동일하다. 일부 실시형태에서, R5는 H 또는 미치환 알킬이다. 일부 실시형태에서, X1 및 X3은 동일하다.
일부 바람직한 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 R1은 H이고, R2 내지 R4 중 하나 혹은 둘은 카르보리닐이고 나머지는 각각 독립적으로 D이며, L1은 단일결합이고, Ar1 및 Ar2 은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 아릴이라는 조건을 만족하는 군(이하 "14군")으로부터 선택된다. 14군의 일부 실시형태에서, X1 내지 X3은 N이다. 일부 실시형태에서, X1 및 X2는 N이고, X3은 C(R5)이다. 일부 실시형태에서, X1은 N이고, X2 및 X3은 각각 독립적으로 C(R5)이며, 바람직하게는 X2 및 X3은 동일하다. 일부 실시형태에서, R5는 H 또는 미치환 알킬이다. 일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2은 동일하다. 일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2은 서로 상이하다. 일부 실시형태에서, R2 내지 R4 중 둘 이상은 동일하다. 일부 실시형태에서, R2 내지 R4는 서로 상이하다.
일부 바람직한 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 R1 및 R4는 H이고, R2는 D이고, R3은 Ar3이며, X1 내지 X3은 N이고, Ar1 및 Ar2 은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 아릴이라는 조건을 만족하는 군(이하 "15군")으로부터 선택된다. 15군의 일부 실시형태에서, L1은 단일결합이다. 일부 실시형태에서, R2는 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, R2는 치환 또는 미치환 벤조푸란, 치환 또는 미치환 벤조티오펜, 혹은 치환 또는 미치환 인데인과 융합된 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2는 동일하다.
일부 바람직한 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 R1 및 R2는 H이고, R3은 Ar3이며, R4는 D이고, X1 내지 X3은 N이고, Ar1 및 Ar2 은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 아릴이라는 조건을 만족하는 군(이하 "16군")으로부터 선택된다. 16군의 일부 실시형태에서, L1은 단일결합이다. 일부 실시형태에서, R4는 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, R4는 치환 또는 미치환 벤조푸란, 치환 또는 미치환 벤조티오펜, 혹은 치환 또는 미치환 인데인과 융합된 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2는 동일하다.
일부 바람직한 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 R1은 D이고, R2 및 R4는 H이고, R3은 Ar3이며, X1 내지 X3은 N이고, Ar1 및 Ar2 은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 아릴이라는 조건을 만족하는 군(이하 "17군")으로부터 선택된다. 17군의 일부 실시형태에서, L1은 단일결합이다. 일부 실시형태에서, R1은 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, R1은 치환 또는 미치환 벤조푸란, 치환 또는 미치환 벤조티오펜, 혹은 치환 또는 미치환 인데인과 융합된 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2는 동일하다.
일부 바람직한 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 R1 및 R3은 H이고, R2는 Ar3이며, R4는 D이고, X1 내지 X3은 N이고, Ar1 및 Ar2 은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 아릴이라는 조건을 만족하는 군(이하 "18군")으로부터 선택된다. 18군의 일부 실시형태에서, L1은 단일결합이다. 일부 실시형태에서, R4는 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, R4는 치환 또는 미치환 벤조푸란, 치환 또는 미치환 벤조티오펜, 혹은 치환 또는 미치환 인데인과 융합된 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2는 동일하다.
일부 바람직한 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 R1 및 R4는 H이고, R2는 Ar3이며, R3은 D이고, X1 내지 X3은 N이고, Ar1 및 Ar2 은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 아릴이라는 조건을 만족하는 군(이하 "19군")으로부터 선택된다. 19군의 일부 실시형태에서, L1은 단일결합이다. 일부 실시형태에서, R3은 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, R3은 치환 또는 미치환 벤조푸란, 치환 또는 미치환 벤조티오펜, 혹은 치환 또는 미치환 인데인과 융합된 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2는 동일하다.
일부 바람직한 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 R1 및 R3은 H이고, R2는 D이며, R4는 Ar3이고, X1 내지 X3은 N이고, Ar1 및 Ar2 은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 아릴이라는 조건을 만족하는 군(이하 "20군")으로부터 선택된다. 20군의 일부 실시형태에서, L1은 단일결합이다. 일부 실시형태에서, R2는 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, R2는 치환 또는 미치환 벤조푸란, 치환 또는 미치환 벤조티오펜, 혹은 치환 또는 미치환 인데인과 융합된 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2는 동일하다.
일부 바람직한 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 R1 및 R2는 H이고, R3은 D이며, R4는 Ar3이고, X1 내지 X3은 N이고, Ar1 및 Ar2 은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 아릴이라는 조건을 만족하는 군(이하 "21군")으로부터 선택된다. 21군의 일부 실시형태에서, L1은 단일결합이다. 일부 실시형태에서, R3은 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, R3은 치환 또는 미치환 벤조푸란, 치환 또는 미치환 벤조티오펜, 혹은 치환 또는 미치환 인데인과 융합된 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2는 동일하다.
일부 바람직한 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 R1은 D이고, R2는 Ar3이고, R3 및 R4는 H이며, X1 내지 X3은 N이고, Ar1 및 Ar2 은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환 아릴이라는 조건을 만족하는 군(이하 "22군")으로부터 선택된다. 22군의 일부 실시형태에서, L1은 단일결합이다. 일부 실시형태에서, R1은 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, R1은 치환 또는 미치환 벤조푸란, 치환 또는 미치환 벤조티오펜, 혹은 치환 또는 미치환 인데인과 융합된 치환 또는 미치환 9-카르바졸릴이다. 일부 실시형태에서, Ar1 및 Ar2는 동일하다.
일부 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 미국 가출원 제62/896,096호 및 미국 가출원 제62/994,956호의 표에 기재된 화합물로부터 선택된다. 구체적으로는, 식 (I)의 화합물은 본원에 원용되어 있는 미국 가출원 제62/994,956호의 화합물 1~화합물 4678로부터 선택된다.
일부 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 다음 표에 기재된 화합물로부터 선택된다.
Figure pct00053
Figure pct00054
Figure pct00055
Figure pct00056
식 (I)의 바람직한 구조는 실시예 2와 하기를 참조할 수 있다.
Figure pct00057
Figure pct00058
Figure pct00059
Figure pct00060
Figure pct00061
Figure pct00062
Figure pct00063
일부 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 적어도 하나의 중수소로 치환된다.
일부 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 발광재료이다. 일부 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 지연 형광을 방출할 수 있는 화합물이다.
본 개시의 일부 실시형태에서, 열적 또는 전자적 수단으로 여기되었을 때, 식 (I)의 화합물은 UV 영역, 가시 스펙트럼의 청색, 녹색, 황색, 주황색 또는 적색 영역(예: 약 420nm~약 500nm, 약 500nm~약 600nm, 또는 약 600nm~약 700nm), 혹은 근적외선 영역에서 빛을 방출할 수 있다. 본 개시의 일부 실시형태에서, 열적 또는 전자적 수단으로 여기되었을 때, 식 (I)의 화합물은 가시 스펙트럼의 적색 또는 주황색 영역(예: 약 620nm~약 780nm; 약 650nm)에서 빛을 방출할 수 있다. 본 개시의 일부 실시형태에서, 열적 또는 전자적 수단으로 여기되었을 때, 식 (I)의 화합물은 가시 스펙트럼의 주황색 또는 황색 영역(예: 약 570nm~약 620nm; 약 590nm; 약 570nm)에서 빛을 방출할 수 있다. 본 개시의 일부 실시형태에서, 열적 또는 전자적 수단으로 여기되었을 때, 식 (I)의 화합물은 가시 스펙트럼의 녹색 영역(예: 약 490nm~약 575nm; 약 510nm)에서 빛을 방출할 수 있다. 본 개시의 일부 실시형태에서, 열적 또는 전자적 수단으로 여기되었을 때, 식 (I)의 화합물은 가시 스펙트럼의 청색 영역(예: 약 400nm~약 490nm; 약 475nm)에서 빛을 방출할 수 있다.
개시된 화합물의 조제
식 (I)의 화합물은 당업자에게 공지된 임의의 방법으로 합성할 수 있다. 화합물은 일반적으로 가능한 출발물질로 합성한다. 일부 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 식 (III)의 전구체와 식 (IV)의 화합물을 반응시켜 합성한다.
Figure pct00064
식 (III)에서, R11, R12, R13, R14 중 하나는 Ar3이고, R11, R12, R13, R14 중 또다른 하나는 F이며, R11, R12, R13, R14 중 나머지 둘은 H, F, 치환 또는 미치환 알킬, Ar3로부터 독립적으로 선택된다. 식 (III)의 X1, X2, X3, Ar1, Ar2, L1, Ar3은 식 (I)에서 정의한 바와 같다. 일부 실시형태에서, R11, R12, R13, R14 중 하나만이 F이다. 일부 실시형태에서, R11 및 R12는 F이다. 일부 실시형태에서, R11 및 R13은 F이다. 일부 실시형태에서, R11 및 R14는 F이다. 일부 실시형태에서, R12 및 R13은 F이다. 일부 실시형태에서, R12 및 R14는 F이다. 일부 실시형태에서, R13 및 R14는 F이다. 일부 실시형태에서, R11, R12, R13은 F이다. 일부 실시형태에서, R11, R12, R14는 F이다. 일부 실시형태에서, R11, R13, R14는 F이다. 일부 실시형태에서, R12, R13, R14는 F이다. 식 (III)의 D은 식 (I)에서 정의한 바와 같다.
식 (III)의 플루오린은 반응을 통해 D로 교체된다. 주지의 반응 조건을 적절히 선택하여 적용해도 좋다. 반응의 상세한 내용은 후술하는 합성예(실시예 2)를 참조할 수 있다.
식 (III)의 화합물의 예시로는 화합물 1~화합물 4678에 나타나는 D1~D77을 각각 플루오린 원자로 치환하여 형성한 화합물 1b~화합물 4678b를 들 수 있다.
일부 실시형태에서, 식 (III)의 화합물은 식 (IIIa)의 구조를 가진다.
Figure pct00065
(IIIa)
식 (IIIa)에서, R11 및 R13 중 하나는 Ar3이고, R11 및 R13 중 다른 하나는 H, 치환 또는 미치환 알킬, 또는 Ar3이다. 식 (IIIa)의 X1, X2, X3, Ar1, Ar2, L1, Ar3은 식 (I)에서 정의한 바와 같다. 일부 실시형태에서, R11 및 R13은 각각 독립적으로 Ar3이다. 일부 실시형태에서, R11은 Ar3이고, R13은 H이다. 일부 실시형태에서, R11은 Ar3이고, R13은 치환 또는 미치환 알킬이다. 일부 실시형태에서, R11은 H이고, R13은 Ar3이다. 일부 실시형태에서, R11은 치환 또는 미치환 알킬이고, R13은 Ar3이다.
일부 실시형태에서, X1, X2, X3은 N이다. 일부 실시형태에서, X1, X2, X3 중 둘은 N이고, 나머지 하나는 C(R3)이다. 일부 실시형태에서, X1 및 X3은 N이고, X2는 C(R3)이다. 일부 실시형태에서, R3은 미치환 알킬기이다. 일부 실시형태에서, 식 (IIIa)의 화합물은 후술하는 실시예 2의 화합물 8a 및 12a로부터 선택된다.
개시 화합물을 포함하는 조성물
일부 실시형태에서, 식 (I)의 화합물은 하나 이상의 물질(예: 소분자, 중합체, 금속, 금속 착체 등)과 조합되거나, 내부에 분산되거나, 공유 결합되거나, 코팅되거나, 그 위에 형성되거나, 혹은 다른 방식으로 관련되는 것으로 고체 상태에서 필름 또는 층을 형성한다. 예를 들어, 식 (I)의 화합물은 전기활성 물질과 조합되어 필름을 형성해도 좋다. 일부 경우에, 식 (I)의 화합물은 정공 수송 중합체와 조합되어도 좋다. 일부 경우에, 식 (I)의 화합물은 전자 수송 중합체와 조합되어도 좋다. 일부 경우에, 식 (I)의 화합물은 정공 수송 중합체 및 전자 수송 중합체와 조합되어도 좋다. 일부 경우에, 식 (I)의 화합물은 정공 수송 부분 및 전자 수송 부분을 모두 포함하는 공중합체와 조합되어도 좋다. 이와 같은 실시형태에서, 필름 또는 층 내에 형성된 전자 및/또는 정공은 식 (I)의 화합물과 상호작용해도 좋다.
성막
일부 실시형태에서, 본 발명에 따른 식 (I)의 화합물을 습식공정으로 형성할 수 있다. 습식공정에서는 본 발명의 화합물을 함유하는 조성물을 용해시켜 제조한 용액을 표면에 도포하고 용매를 제거한 후 그 위에 필름을 형성한다. 습식공정은 스핀 코팅법, 슬릿 코팅법, 스프레이법, 잉크젯법(스프레이법), 그라비아 인쇄법, 오프셋 인쇄법, 플렉소그라피 인쇄법 등을 포함하되 이에 한정되지는 않는다. 습식공정에서는 본 발명의 화합물을 함유하는 조성물을 용해시킬 수 있는 적합한 유기용매를 선택하여 사용한다. 일부 실시형태에서, 유기용매에 대한 용해도를 높일 수 있는 치환기(예: 알킬기)를 조성물에 함유된 화합물에 도입할 수 있다.
일부 실시형태에서, 본 발명에 따른 화합물을 함유하는 필름을 건식공정으로 형성할 수 있다. 일부 실시형태에서, 건식공정은 진공증발법을 포함하되 이에 한정되지는 않는다. 진공증착법을 사용하는 경우, 필름을 구성하는 화합물은 개별 증발원으로부터 공증착되어도 좋고, 화합물의 혼합물의 단일 증발원으로부터 공증착할 수도 있다. 단일증발원을 사용하는 경우, 화합물의 분말을 혼합하여 조제한 혼합분말, 혼합분말을 압축하여 조제한 압축성형체, 또는 화합물을 가열, 용융 및 냉각하여 조제한 혼합물을 사용해도 좋다. 일부 실시형태에서, 단일 증발원에 포함된 복수의 화합물의 증발속도(중량감소율)가 서로 동일하거나 거의 동일한 조건 하에 공증착을 실시하면, 조성비가 증발원에 함유된 복수의 화합물의 조성비에 대응하는 필름을 형성할 수 있다. 복수의 화합물을 혼합하여 증착원의 조성비를 형성 대상 필름의 조성비와 동일하게 맞추는 것으로, 원하는 조성비를 가지는 필름을 간단하게 형성할 수 있다. 일부 실시양태에서, 공증착 대상 화합물이 동일한 중량감소율을 가지게 되는 온도를 확인하면, 해당 온도를 증착온도로 적용할 수 있다.
실시예
본 개시의 실시형태는 하기의 실시예에 기재한 절차에 따라 식 (I)로 나타나는 화합물을 조제하는 법을 제공한다. 당업자는 하기 조제 절차의 조건 및 공정의 주지의 변형을 적용하여 이들 화합물을 조제할 수 있다는 사실을 이해할 것이다. 아울러 상세하게 기술한 절차를 응용함으로써 당업자는 본 개시의 추가 화합물을 조제할 수 있다.
분석법에 대한 일반적인 정보
본 발명의 특징을 하기 실시예를 참조하여 보다 구체적으로 설명한다. 이하에 기재한 재료, 공정, 절차 등은 본 발명의 내용에서 벗어나지 않는 한 적절히 수정할 수 있다. 따라서, 본 발명의 범위는 하기에 기재한 특정한 예에 한정되는 것으로 해석해서는 안 된다. 시료의 특성은 NMR(Nuclear Magnetic Resonance 500MHz, Bruker 제조), LC/MS(액체 크로마토그래피 질량 분석기, Waters제조), AC3(RIKEN KEIKI 제조), 고성능 UV/Vis/NIR 분광 광도계(Lambda 950, PerkinElmer, Co., Ltd. 제조), 형광 분광 광도계(FluoroMax-4, Horiba, Ltd. 제조), 광 다채널 분석기(PMA-12 C10027-01, Hamamatsu Photonics K.K. 제조), 수명 측정 시스템(EAS-26C, 시스템 엔지니어 제조)으로 측정하였다.
실시예 1
상기 특징의 원리는 유기전계 발광 디바이스를 예로 들어 다음과 같이 설명할 수 있다. WO2019/195104의 실시예 1 (88페이지 7행~89페이지 9행) 및 미국 가출원 제 62/896,096호 (65페이지 25 행~66페이지 29행)의 실시예 1을 본원에서 원용한다.
실시예 2
본 발명의 화합물은 당업자에게 주지의 임의의 방법으로 합성할 수 있다. 해당 화합물은 일반적으로 입수할 수 있는 출발물질로부터 합성된다. 선형 또는 분지형 합성 경로를 따라 각종 모이어티를 조립할 수 있다.
화합물 1의 합성
Figure pct00066
1) 5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-2,3-디플루오로벤조니트릴 1a의 합성
5-브로모-2,3-디플루오로벤조니트릴 (4.67g, 21.4mmol), 비스(피나콜라토)디보론 (5.98g, 23.5mmol), KOAc (6.30g, 64.2mmol)을 디옥산 (21 mL)에 용해한 혼합물을 탈기하고 N2로 충전하였다. 이어서 Pd(dppf)Cl2 (0.47g, 0.64mmol)를 혼합물에 첨가하고 혼합물을 110ºC에서 4시간 동안 교반하였다. 반응혼합물을 냉각하고 물 (25 mL), 2-클로로-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진 (5.83g, 21.4mmol), 탄산나트륨 (3.40g, 32.1mmol)을 첨가하였다. 혼합물을 탈기하고 N2로 충전하였다. PdCl2(PPh3)2 (0.451g, 0.64mmol) 및 THF (25 ml)를 혼합물에 첨가하였다. 혼합물을 90ºC에서 15시간 동안 교반하였다. 반응혼합물을 염수로 세척하고 MgSO4로 건조한 후 감압 하에서 농축하였다. 그 결과 얻은 혼합물을 DCM에 용해하고 MeOH로 재침전시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (톨루엔)로 정제하고 재침전시켜 (톨루엔 및 MeOH) 흰색 고체인 화합물 1a (3.60g, 9.7mmol, 45%)를 얻었다.
1H-NMR (500 MHz, CDCl3, δ): 8.87-8.84 (m, 2H), 8.75 (d, J = 7.0 HZ, 4H), 7.68-7.65 (m, 2H), 7.56 (t, J = 8.0 HZ, 4H).
MS (ASAP): 371.2 [(M+H)+].
2) 6-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-2,3-디플루오로-[1,1'-비페닐]-4-카르보니트릴2a의 합성
화합물 1a (2.22g, 6.00mmol), K2CO3 (2.49g, 18.0mmol), 브로모벤젠 (1.13g, 7.2mmol), 2-에틸헥산산 (0.17g, 1.2mmol), 트리시클로헥실 포스핀 (0.25g, 0.90mmol), Pd(PPh3)2Cl2 (0.21g, 0.30mmol)를 크실렌 (18 ml)에 용해한 혼합물을 130ºC에서 15시간 동안 가열하였다. 용매를 제거하고 물로 세척하였다. 잔류물을 재침전 (MeOH) 및 컬럼 크로마토그래피 (헥산/톨루엔 = 7/3-1/2)로 정제하고, 해당 잔류물을 재결정화 (톨루엔/헥산)로 다시 정제하여 흰색 분말인 6-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-2,3-디플루오로-[1,1'-비페닐]-4-카르보니트릴2a (1.05g, 2.25mmol, 38%)를 얻었다.
1H-NMR (500MHz, CDCl3, δ): 8.87-8.70 (m, 5H), 7.64-7.55 (m, 9H), 7.23 (t, J = 6.5 HZ, 1H), 7.17-7.16 (m, 1H).
MS (ASAP): 447.3 [(M+H)+].
3) 5,6-디(9H-카르바졸-9-일)-4-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-[1,1'-비페닐]-2-카르보니트릴(화합물 1)의 합성
K2CO3 (1.77g, 12.8mmol), 9H-카르바졸 (1.43g, 8.52mmol), 6-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-2,3-디플루오로-[1,1'-비페닐]-4-카르보니트릴2 (0.95g, 2.13mmol)를 DMF (35 mL)에 용해한 혼합물을 100ºC에서 15시간 동안, 120ºC에서 4시간 동안 교반하였다. 반응혼합물을 MeOH 및 H2O로 ??칭하였다. 침전한 분말을 여과하고 MeOH로 세척한 다음 재침전 (DCM: MeOH) 및 컬럼 크로마토그래피 (DCM)로 정제하여 노란색 분말인 화합물 1 (1.30g, 1.75mmol)을 82%의 수율로 얻었다.
1H-NMR (500MHz, CDCl3, δ): 9.00 (s, 1H), 7.94 (d, J = 7.8 HZ, 4H), 7.61 (d, J = 7.0 Hz, 2H), 7.55 (d, J = 7.0 HZ, 2H), 7.47-7.44 (m, 2H), 7.29 (t, J = 7.6 HZ, 4H), 7.14 (d, J = 7.6 HZ, 2H), 7.09-7.07 (m, 2H), 6.99-6.93 (m, 13H).
MS (ASAP): 741.5 [(M+H)+].
화합물 21의 합성
Figure pct00067
1) 5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-2,3-디플루오로벤조니트릴 3a의 합성
5-브로모-2,3-디플루오로벤조니트릴 (4.67g, 21.4mmol), 비스(피나콜라토)디보론 (5.98g, 23.5mmol), KOAc (6.30g, 64.2mmol)을 디옥산 (21 mL)에 용해한 혼합물을 탈기하고 N2로 충전하였다. 이어서 Pd(dppf)Cl2 (0.47g, 0.64mmol)를 혼합물에 첨가하고, 해당 혼합물을 110ºC에서 4시간 동안 교반하였다. 반응혼합물을 냉각하고 물 (25 mL), 2-클로로-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진 (5.83g, 21.4mmol), 탄산나트륨 (3.40g, 32.1mmol)을 첨가하였다. 혼합물을 탈기하고 N2로 충전하였다. PdCl2(PPh3)2 (0.451g, 0.64mmol) 및 THF (25 ml)을 혼합물에 첨가하였다. 혼합물을 90ºC에서 15시간 동안 교반하였다. 반응혼합물을 염수로 세척하고 MgSO4로 건조한 다음감압 하에서 농축하였다. 그 결과 얻은 혼합물을 DCM에 용해하고 MeOH로 재침전시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (톨루엔)로 정제하고 재침전시켜 (톨루엔 및 MeOH) 흰색 고체인 화합물 3a (3.60g, 9.7mmol, 45%)를 얻었다.
1H-NMR (500 MHz, CDCl3, δ): 8.87-8.84 (m, 2H), 8.75 (d, J = 7.0 HZ, 4H), 7.68-7.65 (m, 2H), 7.56 (t, J = 8.0 HZ, 4H).
MS (ASAP): 371.2 [(M+H)+].
2)6-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-2,3-디플루오로-[1,1'-비페닐]-4-카르보니트릴4a의 합성
화합물 3a (2.22g, 6.00mmol), K2CO3 (2.49g, 18.0mmol), 브로모벤젠 (1.13g, 7.2mmol), 2-에틸헥산산 (0.17g, 1.2mmol), 트리시클로헥실 포스핀 (0.25g, 0.90mmol) Pd(PPh3)2Cl2 (0.21g, 0.30mmol)를 크실렌 (18 ml)에 용해한 혼합물을 130ºC에서 15시간 동안 가열하였다. 용매를 제거하고 물로 세척하였다. 잔류물을 재침전 (MeOH) 및 컬럼 크로마토그래피 (헥산/톨루엔 = 7/3-1/2)로 정제하고, 해당 잔류물을 재결정화 (톨루엔/헥산)로 다시 정제하여 흰색 분말인 6-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-2,3-디플루오로-[1,1'-비페닐]-4-카르보니트릴4a (1.05g, 2.25mmol, 38%)를 얻었다.
1H-NMR (500MHz, CDCl3, δ): 8.87-8.70 (m, 5H), 7.64-7.55 (m, 9H), 7.23 (t, J = 6.5 HZ, 1H), 7.17-7.16 (m, 1H).
MS (ASAP): 447.3 [(M+H)+].
3)4-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-5,6-비스(3-페닐-9H-카르바졸-9-일)-[1,1'-비페닐]-2-카르보니트릴3 (화합물 21)의 합성
K2CO3 (2.4g, 17.5mmol) 및 3-페닐-9H-카르바졸 (3.4g, 14.0mmol), 6-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-2,3-디플루오로-[1,1'-비페닐]-4-카르보니트릴4a (1.56g, 3.5mmol)를 NMP (35 mL)에 용해한 혼합물을 130ºC에서 15시간 동안 교반하였다. 반응혼합물을 MeOH 및 H2O로 ??칭하였다. 침전한 분말을 여과하고 MeOH로 세척한 다음 재침전 (DCM: MeOH, EtOAc) 및 컬럼 크로마토그래피 (헥산/CHCl3)로 정제하여 노란색 분말인 화합물 21 (1.56g, 1.75mmol)를 50%의 수율로 얻었다.
1H-NMR (500MHz, CDCl3, δ): (해당 화합물은 회전이성질체를 나타냈다) 9.06 (s, 0.3H), 9.05 (s, 0.7H), 7.99 (d, J = 7.9 HZ, 4H), 7.85-7.80 (m, 2H), 7.69-7.60 (m, 2H), 7.53-7.36 (m, 11H), 7.30-7.26 (m, 4H), 7.25-6.97(m, 16H).
MS (ASAP): 893.7 [(M+H)+].
화합물 227의 합성
Figure pct00068
Figure pct00069
1)5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-2,3-디플루오로벤조니트릴 5a의 합성
5-브로모-2,3-디플루오로벤조니트릴 (8.72g, 40.0mmol), 비스(피나콜라토)디보론 (11.2g, 44.0mmol), KOAc (19.6g, 64.2mmol)를 디옥산 (400 mL)에 용해한 혼합물을 탈기하고 N2로 충전하였다. 이어서 Pd(dppf)Cl2 (2.34g, 3.2mmol)을 혼합물에 첨가하고 해당 혼합물을 110ºC에서 15시간 동안 교반하였다. 용매를 제거하고 DCM/헥산에 용해한 후 실리카겔과 셀라이트로 여과하였다. 용매를 제거하여 중간체 8.9g을 얻었다. 중간체 (4.6g, 17.4mmol), 2-클로로-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진 (1.6g, 6.0mmol), 탄산나트륨 (15.9g, 15.0mmol)을 물(15mL) 및 THF (50ml)에 첨가하였다. 혼합물을 탈기하고 N2로 충전하였다. Pd(PPh3)2Cl2 (0.21g, 0.30mmol)을 혼합물에 첨가하였다. 해당 혼합물을 90ºC에서 15시간 동안 교반하였다. 반응혼합물을 염수로 세척하고 MgSO4로 건조한 후 감압 하에서 농축하였다. 그 결과 얻은 혼합물을 DCM에 용해하고 MeOH로 재침전시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피(헥산/톨루엔 = 1/0-7/3)로 정제하여 흰색 고체인 5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-2,3-디플루오로벤조니트릴 5a (1.37g, 3.7mmol, 62%)를 얻었다.
1H-NMR (500 MHz, CDCl3, δ): 8.85-8.81 (m, 2H), 8.73 (d, J = 7.0 HZ, 4H), 7.67-7.65 (m, 2H), 7.62-7.59 (m, 4H).
MS (ASAP): 371.2 [(M+H)+].
2)6-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-2,3-디플루오로-[1,1'-비페닐]-4-카르보니트릴6a
화합물 5a (2.5g, 3.50mmol), K2CO3 (2.8g, 20.4mmol), 브로모벤젠 (2.10g, 13.6mmol), 2-에틸헥산산 (0.20g, 1.36mmol), 트리시클로헥실 포스핀 (0.29g, 1.02mmol), Pd(PPh3)2Cl2 (0.24g, 0.34mmol)를 크실렌 (20 ml)에 용해한 혼합물을 130ºC에서 15시간 동안 가열하였다. 용매를 제거하고 물로 세척하였다. 잔류물을 재침전 (MeOH) 및 컬럼 크로마토그래피 (헥산/톨루엔 = 7/3-1/2)로 정제하고, 해당 잔류물을 재결정화 (톨루엔/헥산)로 다시 정제하여 흰색 분말인 6-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-2,3-디플루오로-[1,1'-비페닐]-4-카르보니트릴6a (0.33g, 0.74mmol, 11%)를 얻었다.
1H-NMR (500 MHz, CDCl3, δ): 8.50 (d, J = 5.0 HZ, 1H), 8.29 (d, J = 5.0 HZ, 4H), 7.57 (t, J = 7.0 HZ, 2H), 7.49-7.32 (m, 9H).
MS (ASAP): 447.3 [(M+H)+] .
3)2,3-디(9H-카르바졸-9-일)-6-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-[1,1'-비페닐]-4-카르보니트릴3 (화합물 227)
K2CO3 (1.47g, 8.8mmol), 9H-카르바졸 (1.47g, 8.80mmol), 6-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-2,3-디플루오로-[1,1'-비페닐]-4-카르보니트릴6a (0.99g, 2.22mmol)을 DMF (10 mL)에 용해한 혼합물을 120ºC에서 15시간 동안, 140ºC에서 4시간 동안 교반하였다. 반응혼합물을 MeOH 및 H2O로 ??칭하였다. 침전한 분말을 여과하고 MeOH로 세척한 다음 재침전 (DCM: MeOH) 및 컬럼 크로마토그래피 (톨루엔/헥산=1/1-2/1)로 정제하여 노란색 분말인 화합물 227 (1.06g, 1.43mmol)를 65%의 수율로 얻었다.
1H-NMR (500 MHz, CDCl3, δ): 8.94 (s, 1H), 8.36 (d, J = 8.0 HZ, 4H), 7.71 (d, J = 7.6 Hz, 2H), 7.58 (t, J = 7.6 HZ, 2H), 7.55-7.53 (m, 2H), 7.47 (t, J = 7.6 HZ, 4H), 7.08-7.03 (m, 6H), 6.97-6.96 (m, 2H), 6.90 (d, J = 3.0 HZ, 6H), 6.82-6.81 (m, 3H).
MS (ASAP): 741.6 [(M+H)+].
화합물 467의 합성
Figure pct00070
Figure pct00071
1)2,4-디플루오로-5-(5-메틸-4,6-디페닐피리미딘-2-일)벤조니트릴 7a의 합성
아세트산칼륨 (2.70g, 27.52mmol), 4,4,4',4',5,5,5',5'-옥타메틸-2,2'-비(1,3,2-디옥사보롤란) (3.84g, 15.14mmol), 1,1'-비스(디페닐포스피노)페로센]디클로로팔라듐(II) (0.30g, 3 mol%), 5-브로모-2,4-디플루오로벤조니트릴 (3.00g, 13.76 mmol)을 질소분위기 하에서 1,4-디옥산에 용해하였다. 혼합물 플라스크의 온도를 100℃로 올리고 하룻밤 동안 교반하였다. 출발화합물이 박층 크로마토그래피에서 사라진 후, 혼합물 플라스크의 온도를 실온으로 낮추었다. 2-클로로-5-메틸-4,6-디페닐피리미딘 (4.25g, 15.15mmol), 비스(트리페닐포스핀)팔라듐 (II) 디클로라이드 (3 mol%), 탄산칼륨 (5.70g, 41.31mmol, 2M 수용액)을 질소분위기를 유지하면서 같은 플라스크에 재치하였다. 혼합물 플라스크의 온도를 100℃로 올리고 질소분위기 하에서 하룻밤 동안 교반하였다. 반응을 실온에서 염수용액으로 ??칭하고 혼합물을 클로로포름으로 추출하여 MgSO4로 건조한 다음 진공증발기 시스템으로 농축하였다. 혼합물을 n-헥산/클로로포름을 용리액으로 사용하는 실리카겔 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 분말상 생성물인 2,4-디플루오로-5-(5-메틸-4,6-디페닐피리미딘-2-일)벤조니트릴 7a (2.80g, 수율 53.0%)를 얻었다.
1H-NMR (500 MHz, CDCl3, δ): 2.43 (s, 3H), 7.09 (t, J = 8.0 HZ, 1H), 7.50-7.55 (m, 6H), 7.71 (d, J = 7.5 HZ, 4H), 8.57 (t, J = 8.0 HZ, 1H),
MS (APCI): 384.20 [(M+H)+].
2)2,6-디플루오로-5-(5-메틸-4,6-디페닐피리미딘-2-일)-[1,1'-비페닐]-3-카르보니트릴8a의 합성
아세트산팔라듐(II) (3 mol%), 2,4-디플루오로-5-(5-메틸-4,6-디페닐피리미딘-2-일)벤조니트릴 7a (7.82mmol, 3.00g), 브로모벤젠 (23.47mmol, 3.69g), 탄산칼륨 (23.47mmol, 3.24g), 2-에틸헥산산 (1.56mmol, 0.23g), 트리시클로헥실포스핀 (0.70mmol, 0.20g)을 질소분위기 하에서 3구 둥근바닥 플라스크에 재치하였다. 1분간 질소가스를 흘려넣은 후 크실렌에 용해하였다. 혼합물의 온도를 100
Figure pct00072
로 올리고 하룻밤 동안 교반하였다. 반응을 실온에서 염수용액으로 ??칭하고 혼합물을 클로로포름으로 추출하여 MgSO4로 건조한 다음 진공증발기 시스템으로 농축하였다. 혼합물을 n-헥산/클로로포름을 용리액으로 사용하는 실리카겔 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 흰색 분말상 생성물인 2,6-디플루오로-5-(5-메틸-4,6-디페닐피리미딘-2-일)-[1,1'-비페닐]-3-카르보니트릴8a (2.68g, 수율 74.0%)를 얻었다.
1H-NMR (500 MHz, CDCl3, δ): 2.46 (s, 3H), 7.46-7.55 (m, 11H), 7.71 (d, J = 7.5 HZ, 4H), 8.51 (t, J = 7.5 HZ, 1H),
MS (APCI): 460.15 [(M+H)+].
3)2,6-디(9H-카르바졸-9-일)-5-(5-메틸-4,6-디페닐피리미딘-2-일)-[1,1'-비페닐]-3-카르보니트릴(화합물 467)의 합성
탄산칼륨 (1.35g, 9.79mmol), 2,6-디플루오로-5-(5-메틸-4,6-디페닐피리미딘-2-일)-[1,1'-비페닐]-3-카르보니트릴8a (1.50g, 3.26mmol), 9H-카르바졸 (1.64g, 9.79mmol)을 3구 둥근바닥 플라스크에 재치하였다. 혼합물을 진공 시스템으로 건조하고 DMF를 용매로서 질소분위기 하에 플라스크에 부었다. 반응혼합물을 온도 160
Figure pct00073
를 유지하며 하룻밤 동안 교반하였다. 반응을 NH4Cl 수용액으로 ??칭하고 혼합물을 클로로포름으로 추출하였다. 분리한 유기층을 MgSO4로 건조하고 용매를 진공증발기 시스템으로 농축하였다. 반응생성물을 톨루엔 및 헥산 (1:4)의 혼합물을 용리액으로 이용하는 컬럼 크로마토그래피로 단리하였다. 최종생성물로서 화합물 467 (2.0g, 97.4%)을 얻었다.
1H-NMR (500 MHz, CDCl3, δ): 2.09 (s, 3H), 6.44 (t, J = 7.5 HZ, 2H), 6.52 (t, J = 7.5 HZ, 1H), 6.59 (d, J = 7.5 HZ, 2H), 6.98 (d, J = 8.0 HZ, 4H), 7.06 (d, J = 8.5 HZ, 2H), 7.13 (t, J = 7.5 HZ, 2H), 7.20 (t, J = 8.0 HZ, 4H), 7.28-7.38 (m, 9H), 7.84 (d, J = 8.0 HZ, 2H), 7.97 (d, J = 7.5 HZ, 2H), 8.59 (s, 1H),
MS (APCI): 754.43 [(M+H)+].
화합물 475의 합성
Figure pct00074
Figure pct00075
Figure pct00076
1)5-(4,6-디클로로피리딘-2-일)-2,4-디플루오로벤조니트릴 9a의 합성
5-브로모-2,4-디플루오로벤조니트릴 (4.36g, 20.0mmol), 비스(피나콜라토)디보론 (5.59g, 22.0mmol), KOAc (5.89g, 60.0mmol)를 디옥산 (20 mL)에 용해한 혼합물을 탈기하고 N2로 충전하였다. 이어서 Pd(dppf)Cl2 (0.44g, 0.60mmol)를 혼합물에 첨가하고 혼합물을 110ºC에서 4시간 동안 교반하였다. 반응혼합물에 물 (10mL), THF (10ml), 2,4,6-트리클로로피리딘 (10.9g, 60.0mmol), 탄산나트륨 (5.30g, 50.0mmol)을 첨가하였다. 해당 혼합물을 탈기하고 N2로 충전하였다. Pd(PPh3)2Cl2 (0.70g, 1.0mmol)을 혼합물에 첨가하고, 해당 혼합물을 80ºC에서 15시간 동안 교반하였다. 반응혼합물을 감압 하에서 농축하였다. 그 결과 얻은 혼합물을 DCM에 용해하고 MeOH로 재침전시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (헥산/톨루엔 = 1/1-1/2)로 정제하여 흰색 고체인 5-(4,6-디클로로피리딘-2-일)-2,4-디플루오로벤조니트릴 9a (2.78g, 9.8mmol, 49%)를 얻었다.
1H-NMR (500 MHz, CDCl3, δ): 8.50 (t, J = 7.5 HZ, 1H), 7.76 (s, 1H), 7.41 (s, 1H), 7.12 (t, J = 9.0 HZ, 1H).
MS (APCI): 285.1 [(M+H)+].
2)5-(4,6-디페닐피리딘-2-일)-2,4-디플루오로벤조니트릴 10a의 합성
5-(4,6-디클로로피리딘-2-일)-2,4-디플루오로벤조니트릴 9a (1.62g, 5.70mmol), 페닐보론산 (2.78g, 22.8mmol), 탄산나트륨 (3.02g, 28.5mmol)을 물 (2 mL) 및 THF (10 ml)에 첨가하였다. 혼합물을 탈기하고 N2로 충전하였다. Pd(PPh3)2Cl2 (0.20g, 0.29mmol)을 혼합물에 첨가하고, 해당 혼합물을 80ºC에서 15시간 동안 교반하였다. 반응혼합물을 감압 하에서 농축하였다. 그 결과 얻은 혼합물을 DCM에 용해하고 MeOH로 재침전시켰다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (헥산/톨루엔 = 1/1-1/2)로 정제하여 흰색 고체인 5-(4,6-디페닐피리딘-2-일)-2,4-디플루오로벤조니트릴 10a (1.45g, 3.9mmol, 69%)을 얻었다.
1H-NMR (500 MHz, CDCl3, δ): 8.69 (t, J = 7.5 Hz, 1H), 8.15 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 7.98 (s, 1H), 7.95 (s, 1H), 7.74 (d, J = 7.5 Hz, 2H), 7.55 (t, J = 7.5 Hz, 2H), 7.52-7.48 (m, 4H), 7.13 (t, J = 9.0 Hz, 1H).
MS (APCI): 369.18 [(M+H)+].
3)5-(4,6-디페닐피리딘-2-일)-2,6-디플루오로-[1,1'-비페닐]-3-카르보니트릴11a의 합성
화합물 10a (1.49g, 4.0mmol), K2CO3 (1.66g, 12.0mmol), 브로모벤젠 (0.94g, 6.0mmol), 2-에틸헥산산 (0.20g, 1.4mmol), 트리시클로헥실 포스핀 (0.10g, 0.36mmol), Pd(PPh3)2Cl2 (0.08g, 0.12mmol)를 크실렌 (12ml)에 용해한 혼합물을 110ºC에서 15시간 동안 가열하였다. MeOH를 반응혼합물에 첨가하고 여과하였다. 잔류물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 (헥산/톨루엔 = 4/6-3/7)로 정제하여 흰색 분말인 5-(4,6-디페닐피리딘-2-일)-2,6-디플루오로-[1,1'-비페닐]-3-카르보니트릴11a (1.18g, 2.65mmol, 67%)를 얻었다.
1H-NMR (500 MHz, CDCl3, δ): 8.63 (t, J = 6.5 HZ, 1H), 8.17 (d, J = 8.0 HZ, 2H), 7.98 (s, 1H), 7.96 (s, 1H), 7.72 (d, J = 8.0 HZ, 2H), 7.56-7.50 (t, J = 7.0 HZ, 11H).
MS (APCI): 445.3 [M+H+].
4)2,6-디(9H-카르바졸-9-일)-5-(4,6-디페닐피리딘-2-일)-[1,1'-비페닐]-3-카르보니트릴4 (화합물 475)의 합성
K2CO3 (1.73g, 12.5mmol), 9H-카르바졸 (1.67g, 10.0mmol), 5-(4,6-디페닐피리딘-2-일)-2,6-디플루오로-[1,1'-비페닐]-3-카르보니트릴11a (1.11g, 2.50mmol)를 DMF (25mL)에 용해한 혼합물을 110ºC에서 15시간 동안 교반하였다. 반응혼합물울 MeOH 및 H2O로 ??칭하였다. 침전한 분말을 여과하고 MeOH로 세척한 후, 재침전 (DCM: MeOH) 및 컬럼 크로마토그래피 (톨루엔)로 정제하여 흰색 분말인 화합물 475 (1.04g, 1.41mmol)를 56%의 수율로 얻었다.
1H-NMR (500 MHz, CDCl3, δ): 8.71 (s, 1H), 7.99 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 7.89 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 7.81 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 7.58 (s, 1H), 7.45-7.41 (m, 3H), 7.36 (t, J = 7.5 Hz, 2H), 7.28 (t, J = 7.5 Hz, 1H), 7.25-7.10 (m, 12H), 6.85 (s, 1H), 6.81 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 6.62 (d, J = 7.5 Hz, 2H), 6.53 (t, J = 7.5 Hz, 1H), 6.42 (t, J = 7.5 Hz, 2H).
MS (APCI): 739.4 [(M+H)+].
화합물 483의 합성
Figure pct00077
5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-2,6-비스(9H-피리도[2,3-b]인돌-9-일)-[1,1'-비페닐]-3-카르보니트릴(화합물 483)의 합성
탄산칼륨 (6.72mmol, 0.93g), 5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-2,6-디플루오로-[1,1'-비페닐]-3-카르보니트릴12a (2.24mmol, 1.00g), 9H-피리도[2,3-b]인돌 (5.60mmol, 0.94g)을 3구 둥근바닥 플라스크에 재치하였다. 혼합물을 진공 시스템으로 건조하고 N,N-디메틸포름아미드를 용매로서 질소분위기 하에 플라스크에 부었다. 반응혼합물을 온도 100
Figure pct00078
를 유지하며 하룻밤 동안 교반하였다. 반응을 염수로 ??칭하고 혼합물을 클로로포름으로 추출하였다. 분리한 유기층을 MgSO4로 건조하고 용매를 진공증발기 시스템으로 농축하였다. 반응생성물을 클로로포름 및 헥산 (1:4)의 혼합물을 용리액으로 이용하는 컬럼 크로마토그래피로 단리하여 화합물 483 (0.90g, 54%)을 얻었다.
1H-NMR (500 MHz, CDCl3, δ): 6.43 (m, 2H), 6.78 (m, 1H), 6.99-7.00 (m, 1H), 7.12-7.18 (m, 3H), 7.29 (d, J = 6.5 HZ, 3H), 7.32 (t, J = 7.5 HZ, 6H), 7.48 (t, J = 7.5 HZ, 3H), 7.76 (d, J = 8.0 HZ, 1H), 7.89 (d, J = 8.0 HZ, 1H), 8.00 (d, J = 7.5 HZ, 6H), 8.28 (d, J = 8.0 HZ, 2H), 8.56 (d, J = 5.0 HZ, 1H), 9.05 (s, 1H) ,
MS (APCI): 743.42 [(M+H)+].
화합물 485의 합성
Figure pct00079
Cs2CO3 (4.84g, 14.9mmol) 및 γ-카르볼린 (2.00g, 11.9mmol)을 DMF (50mL)에 용해한 혼합물을 실온에서 1시간 동안 교반한 다음 화합물 13a (2.21g, 4.95mmol)를 첨가하였다. 해당 혼합물을 100
Figure pct00080
에서 24시간 동안 교반하였다. 반응혼합물을 H2O로 ??칭하였다. 침전한 생성물을 여과하고 MeOH로 세척한 후 재침전 (EtOAc: Hex)으로 정제하여 노란색 분말인 화합물 485 (1.30g, 1.75mmol)를 35.3%의 수율로 얻었다.
1H-NMR (500 MHz, CDCl3, δ): 9.26 (s, 1H), 9.06 (s, 1H), 9.03 (s, 1H), 8.47 (d, J = 5.5 HZ, 1H), 8.39 (d, J = 5.5 HZ, 1H), 8.11 (d, J = 7.5 HZ, 1H), 7.99 (d, J = 7.5 HZ, 4H), 7.88 (d, J = 7.5 HZ, 1H), 7.53-7.49 (m, 3H), 7.40-7.30 (m, 6H), 7.23-7.17 (m, 3H), 7.03(t, J = 6.5 HZ, 2H), 6.62-6.59 (m, 3H), 6.51-6.48 (m, 2H).
MS (ASAP): 742.3 [M+].
화합물 1245의 합성
Figure pct00081
1)3-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-2,5-디플루오로벤조니트릴 14a의 합성
아세트산칼륨 (4.50g, 45.87mmol), 4,4,4',4',5,5,5',5'-옥타메틸-2,2'-비(1,3,2-디옥사보롤란) (6.41g, 25.23mmol), 1,1'-비스(디페닐포스피노)페로센]디클로로팔라듐(II) (0.50g, 3 mol%), 3-브로모-2,5-디플루오로벤조니트릴 (5.00g, 22.94 mmol)을 질소분위기 하에서 1,4-디옥산에 용해하였다. 혼합물 플라스크의 온도를 100℃로 올리고 하룻밤 동안 교반하였다. 출발화합물이 박층 크로마토그래피에서 사라진 후, 혼합물 플라스크의 온도를 실온으로 낮추었다. 2-클로로-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진 (6.32g, 24.90mmol), 비스(트리페닐포스핀)팔라듐(II) 디클로라이드 (3 mol%), 탄산나트륨 (3.59g, 33.95mmol, 2M 수용액)을 질소분위기를 유지하면서 같은 플라스크에 재치하였다. 혼합물 플라스크의 온도를 100℃로 올리고 질소분위기 하에서 하룻밤 동안 교반하였다. 반응을 실온에서 염수용액으로 ??칭하고 혼합물을 클로로포름으로 추출하여 MgSO4로 건조한 다음 진공증발기 시스템으로 농축하였다. 혼합물을 n-헥산/클로로포름을 용리액으로 사용하는 실리카겔 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 분말상 생성물인 3-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-2,5-디플루오로벤조니트릴 14a를 얻었다 (3.20g, 수율 38.2%).
1H-NMR (500 MHz, CDCl3, δ): 7.54-7.57 (m, 1H), 7.59 (t, J = 7.5 HZ, 4H), 7.65 (t, J = 7.5 HZ, 2H), 8.48-8.51 (m, 1H), 8.73 (d, J = 8.0 HZ, 4H).
MS (APCI): 384.20 [(M+H)+].
2) 4-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-3,6-디플루오로-[1,1'-비페닐]-2-카르보니트릴15a의 합성
아세트산팔라듐(II) (3 mol%), 3-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-2,5-디플루오로벤조니트릴 14a (2.70mmol, 1.00g), 브로모벤젠 (8.10mmol, 1.27g), 탄산칼륨 (10.80mmol, 1.50g), 2-에틸헥산산 (0.54mmol, 0.08g), 트리시클로헥실포스핀 (0.24mmol, 0.07g)을 질소분위기 하에서 3구 둥근바닥 플라스크에 재치하였다. 1분간 질소가스를 흘려넣은 후 크실렌에 용해하였다. 혼합물의 온도를 100
Figure pct00082
로 올리고 하룻밤 동안 교반하였다. 반응을 실온에서 염수용액으로 ??칭하고 혼합물을 클로로포름으로 추출하여 MgSO4로 건조한 다음 진공증발기 시스템으로 농축하였다. 혼합물을 n-헥산/클로로포름을 용리액으로 사용하는 실리카겔 컬럼 크로마토그래피로 정제하여 흰색 분말상 생성물인 4-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-3,6-디플루오로-[1,1'-비페닐]-2-카르보니트릴15a (1.2g, 수율 99.5%)를 얻었다.
1H-NMR (500 MHz, CDCl3, δ): 7.17 (t, J = 7.5 HZ, 1H), 7.56-7.66 (m, 10H), 8.56-8.60 (m, 1H), 8.75 (d, J = 7.5 HZ, 4H),
MS (APCI): 447.43 [(M+H)+].
3) 3,6-디(9H-카르바졸-9-일)-4-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-[1,1'-비페닐]-2-카르보니트릴(화합물 1245)의 합성
탄산칼륨 (0.46g, 3.36mmol), 4-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-3,6-디플루오로-[1,1'-비페닐]-2-카르보니트릴15a (0.50g, 1.12mmol), 9H-카르바졸 (0.56g, 3.36mmol)을 3구 둥근바닥 플라스크에 재치하였다. 혼합물을 진공 시스템으로 건조한 다음 DMF를 용매로서 질소분위기 하에 플라스크에 부었다. 반응혼합물을 하룻밤 동안 160
Figure pct00083
를 유지하며 교반하였다. 반응을 NH4Cl 수용액으로 ??칭하고 혼합물을 클로로포름으로 추출하였다. 분리한 유기층을 MgSO4로 건조하고 용매를 진공증발기 시스템으로 농축하였다. 반응생성물을 톨루엔 및 헥산 (1:4)의 혼합물을 용리액으로 이용하는 컬럼 크로마토그래피로 단리하여 최종생성물을 얻었다 (화합물 1245) (0.58g, 70%).
1H-NMR (500 MHz, CDCl3, δ): 7.07-7.14 (m, 3H), 7.28-7.31 (m, 12H), 7.36-7.48 (m, 8H), 7.93 (d, J = 7.5 HZ, 4H), 8.02 (d, J = 7.5 HZ, 2H), 8.07 (d, J = 7.5 HZ, 2H), 8.85 (s, 1H).
MS (APCI): 741.67 [(M+H)+].
화합물 416의 합성
Figure pct00084
5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-2,4-비스(3-메틸-6-tolyl-9H-카르바졸-9-일)-3-페닐벤조니트릴 (화합물416)의 합성
5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-2,4-디플루오로-3-페닐벤조니트릴 13a (0.73 mg, 1.63mmol), K2CO3 (0.81 mg, 5.84mmol), 9H-3-메틸-6-톨릴-카르바졸 (1.04g, 3.83mmol)의 혼합물을 첨가하고 110ºC에서 20시간 동안 교반하였다. 물 및 MeOH를 반응혼합물에 첨가한 다음 전파된 고체를 여과하고 물 및 MeOH로 세척하였다. 잔류물을 컬럼 크로마토그래피 (헥산/톨루엔=3/7)로 정제하고 톨루엔 및 헥산으로 재결정화하여 화합물 416 (1.1g, 3.0mmol, 78%)을 얻었다. 1H-NMR (400 MHz, CDCl3, δ): 8.91 (s, 1H), 8.15 (d, J = 10.4 Hz, 1H), 8.00-7.97 (m, 5H), 7.85 (d, J = 10.4 Hz, 1H), 7.63 (s, 1H), 7.60-7.52 (m, 3H), 7.50-7.45 (m, 5H), 7.31 (t, J = 7.6 Hz, 4H), 7.19-7.16 (m, 2H), 7.18-7.00 (m, 5H), 7.25-7.20 (m, 3H), 6.72 (d, J = 7.6 Hz, 2H), 6.62-6.59 (m, 1H), 6.52 (t, J =7.6 Hz, 2H), 2.52 (s, 1.5H), 2.49 (s, 1.5H), 2.41 (s, 6H), 2.40 (s, 1.5H) and 2.39 (s, 1.5H) . MS (ASAP): 949.50 (M+H+). Calcd for C68H48N6, 948.39.
화합물 1757의 합성
Figure pct00085
5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-3,4-비스(벤조푸로[3,2-c]카르바졸-5-일)-2-페닐벤조니트릴 (화합물 1757)의 합성
5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-3,4-디플루오로-2-페닐벤조니트릴 14a (76 mg, 1.71mmol), K2CO3 (0.93g, 6.84mmol), 5H-벤조푸로[3,2-c]카르바졸 (1.76g, 6.84mmol)을 DMF(30mL)에 용해한 혼합물을 첨가하고 110ºC에서 12시간 동안 교반하였다. 물 및 MeOH를 반응혼합물에 첨가한 다음 전파된 고체를 여과하고 물 및 MeOH로 세척하였다. 잔류물을 컬럼 크로마토그래피 (헥산/CHCl3=3/2)로 정제하고 톨루엔 및 헥산으로 재결정화하여 5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-3,4-비스(벤조푸로[3,2-c]카르바졸-5-일)-2-페닐벤조니트릴 1757 (0.64g, 0.69mmol, 41%)을 얻었다.
1H-NMR (400 MHz, CDCl3, δ): 9.09 (s, 0.5H), 9.09 (s, 0.5H), 8.06-8.02 (m, 1H), 7.97-7.97 (m, 1H), 7.89 (d, J = 8.4 Hz, 4H), 7.83-7.74(m, 2H), 7.58-7.47 (m, 4H), 7.39-7.28 (m, 5H), 7.26-7.20 (m, 2H), 7.18-7.13 (m, 8H), 7.11-6.97 (m, 8H).
MS (ASAP): 921.53 (M+H+). Calcd for C64H36N6O2, 920.29.
화합물 1756의 합성
Figure pct00086
5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-3,4-비스(벤조푸로[2,3-b]카르바졸-7-일)-2-페닐벤조니트릴 (화합물 1756)의 합성
5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-3,4-디플루오로-2-페닐벤조니트릴 15a (50 mg, 0.11mmol), K2CO3 (46 mg, 0.34mmol), 7H-벤조푸로[2,3-b]카르바졸 (86 mg, 0.37mmol)을 DMF(1mL)에 용해한 혼합물을 첨가하고 110ºC에서 12시간 동안 교반하였다. 물 및 MeOH를 반응혼합물에 첨가한 다음 전파된 고체를 여과하고 물 및 MeOH로 세척하였다. 잔류물을 컬럼 크로마토그래피 (톨루엔/헥산=4/1)로 정제하고 CHCl3 및 헥산으로 재결정화하여 5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-3,4-비스(벤조푸로[2,3-b]카르바졸-7-일)-2-페닐벤조니트릴 1756 (52 mg, 0.06mmol, 50%)을 얻었다.
1H-NMR (400 MHz, CDCl3, δ): 9.14 (s, 1H), 8.12-8.09 (m, 1H), 8.06-8.03 (m, 1H), 7.97-7.75 (m, 7H), 7.66-7.57 (m, 2H), 7.53-7.47 (m, 1H), 7.47-7.32 (m, 2H), 7.29-7.12 (m, 14H), 7.09-6.96 (m, 4H), 6.94-6.87 (m, 3H).
MS (ASAP): 921.44 (M+H+). Calcd for C64H36N6O2, 920.29.
화합물 1753의 합성
Figure pct00087
5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-3,4-비스(벤조푸로[3,2-a]카르바졸-12-일)-2-페닐벤조니트릴 (화합물 1753)의 합성
5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-3,4-디플루오로-2-페닐벤조니트릴 16a (50 mg, 0.11mmol), K2CO3 (46 mg, 0.34mmol), 12H-벤조푸로[3,2-a]카르바졸 (86 mg, 0.37mmol)의 혼합물을 첨가하고 165ºC에서 12시간 동안 교반하였다. 물 및 MeOH를 반응혼합물에 첨가한 다음 전파된 고체를 여과하고 물 및 MeOH로 세척하였다. 잔류물을 컬럼 크로마토그래피 (톨루엔/헥산=4/1)로 정제하고 CHCl3 및 헥산으로 재결정화하여 5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-3,4-비스(벤조푸로[3,2-a]카르바졸-12-일)-2-페닐벤조니트릴 1753 (52 mg, 0.06mmol, 50%)을 얻었다.
1H-NMR (400 MHz, CDCl3, δ): 9.57 (s, 1H), 8.67 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.99 (d, J = 8.0 Hz, 4H), 7.73-7.54 (m, 5H), 7.49-7.33 (m, 7H), 7.18-7.11 (m, 4H), 7.09-7.23 (m, 4H), 6.99-6.85 (m, 4H), 6.72-7.65 (m, 3H), 6.52 (t, J = 8.0 Hz, 2H), 6.35 (d, J = 8.0 Hz, 1H).
MS (ASAP): 921.50 (M+H+). Calcd for C64H36N6O2, 920.29.
화합물 1754의 합성
Figure pct00088
5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-3,4-비스(벤조푸로[2,3-a]카르바졸-12-일)-2-페닐벤조니트릴 (화합물 1754)의 합성
5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-3,4-디플루오로-2-페닐벤조니트릴 17a (50 mg, 0.11mmol), K2CO3 (46 mg, 0.34mmol), 12H-벤조푸로[2,3-a]카르바졸 (86 mg, 0.37mmol)의 혼합물을 첨가하고 150ºC에서 12시간 동안 교반하였다. 물 및 MeOH를 반응혼합물에 첨가한 다음 전파된 고체를 여과하고 물 및 MeOH로 세척하였다. 잔류물을 컬럼 크로마토그래피 (톨루엔/헥산=4/1)로 정제하고 CHCl3 및 헥산으로 재결정화하여 5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-3,4-비스(벤조푸로[2,3-a]카르바졸-12-일)-2-페닐벤조니트릴 1754 (72 mg, 0.08mmol, 69%)를 얻었다.
1H-NMR (400 MHz, CDCl3, δ): 9.40 (s, 0.5H), 9.21 (s, 0.5H), 7.95 (d, J = 8.0Hz, 0.5H), 7.84-7.80 (m, 2.5H), 7.78-7.56 (m, 3H), 7.70 (t, J = 8.4Hz, 1H), 7.64-7.50 (m, 6H), 7.48-7.44 (m, 2H), 7.42-7.35 (m, 3H), 7.34-7.28 (m, 1H), 7.25-7.23 (m, 1H), 7.21-7.14 (m, 5H), 7.12-7.00 (m, 5H), 6.97-6.83 (m, 1H), 6.82-6.69 (m, 3H), 6.48 (t, J = 8.4, 1H).
MS (ASAP): 921.39 (M+H+). Calcd for C64H36N6O2, 920.29.
화합물 1758의 합성
Figure pct00089
5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-3,4-비스(벤조푸로[2,3-c]카르바졸-8-일)-2-페닐벤조니트릴 (화합물 1758)의 합성
5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-3,4-디플루오로-2-페닐벤조니트릴 18a (50 mg, 0.11mmol), K2CO3 (46 mg, 0.34mmol), 8H-벤조푸로[2,3-c]카르바졸 (86 mg, 0.37mmol)의 혼합물을 첨가하고 150ºC에서 12시간 동안 교반하였다. 물 및 MeOH를 반응혼합물에 첨가한 다음 전파된 고체를 여과하고 물 및 MeOH로 세척하였다. 잔류물을 컬럼 크로마토그래피 (CHCl3/헥산=4/1)로 정제하고 CHCl3 및 헥산으로 재결정화하여 5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-3,4-비스(벤조푸로[2,3-c]카르바졸--8-일)-2-페닐벤조니트릴 1758 (41 mg, 0.04mmol, 40%)을 얻었다.
1H-NMR (400 MHz, CDCl3, δ): 9.10 (s, 0.5H), 9.09 (s, 0.5H), 8.28 (d, J = 8.0 1H), 8.19-8.13 (m, 2H), 8.11-8.07 (m, 1H), 7.87 (d, J = 7.2Hz, 4H), 7.50 (t, J = 8.8Hz, 2H), 7.41-7.37 (m, 2H), 7.35-7.28 (m, 4H), 7.27-7.25 (m, 3H), 7.23-7.21 (m, 2H), 7.20-6.95 (m, 14H).
MS (ASAP): 921.46 (M+H+). Calcd for C64H36N6O2, 920.29.
화합물 1730의 합성
Figure pct00090
5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-3,4-비스(벤조티에노[2,3-b]카르바졸-7-일)-2-페닐벤조니트릴 (화합물 1730)의 합성
5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-3,4-디플루오로-2-페닐벤조니트릴 19a (45 mg, 0.10mmol), K2CO3 (41 mg, 0.30mmol), 7H-벤조티에노[2,3-b]카르바졸 (83 mg, 0.30mmol)의 혼합물을 첨가하고 110ºC에서 12시간 동안 교반하였다. 물 및 MeOH를 반응혼합물에 첨가한 다음 전파된 고체를 여과하고 물 및 MeOH로 세척하였다. 잔류물을 컬럼 크로마토그래피 (DCM/헥산=1/1)로 정제하고 CHCl3 및 헥산으로 재결정화하여 5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-3,4-비스(벤조티에노[2,3-b]카르바졸-7-일))-2-페닐벤조니트릴 1730 (66 mg, 0.06mmol, 69%).을 얻었다.
1H-NMR (400 MHz, CDCl3, δ): 9.07 (s, 0.5H), 9.06 (s, 0.5H), 8.28 (s, 0.5 H), 8.27 (s, 0.5 H), 8.22 (s, 0.5 H), 8.21 (s, 0.5 H), 8.00-7.91 (m, 6H), 7.70-7.56 (m, 5H), 7.51 (s, 0.5 H), 7.44 (s, 0.5 H), 7.40-7.27 (m, 7H), 7.26-7.23 (m, 2H), 7.19-7.10 (m, 6H), 7.09-6.91 (m, 6H).
MS (ASAP): 953.37 (M+H+). Calcd for C64H36N6S2, 952.24.
화합물 1731의 합성
Figure pct00091
5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-3,4-비스(벤조티에노[3,2-c]카르바졸-5-일)-2-페닐벤조니트릴 (화합물 1731)의 합성
5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-3,4-디플루오로-2-페닐벤조니트릴 20a (45 mg, 0.10mmol), K2CO3 (41 mg, 0.30mmol), 5H-벤조티에노[3,2-c]카르바졸 (83 mg, 0.30mmol)의 혼합물을 첨가하고 110ºC에서 12시간 동안 교반하였다. 물 및 MeOH를 반응혼합물에 첨가한 다음 전파된 고체를 여과하고 물 및 MeOH로 세척하였다. 잔류물을 컬럼 크로마토그래피 (DCM/헥산=1/1)로 정제하고 CHCl3 및 헥산으로 재결정화하여 5-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-3,4-비스(벤조티에노[3,2-c]카르바졸-5-일)-2-페닐벤조니트릴 1731 (36 mg, 0.04mmol, 37%)을 얻었다.
1H-NMR (400 MHz, CDCl3, δ): 9.11 (s, 0.5H), 9.11 (s, 0.5H), 8.04-8.01 (m, 1H), 7.91-7.84 (m, 5H), 7.82-7.74 (m, 4H), 7.71-7.66 (m, 2H), 7.39-7.29 (m, 5H), 7.26-7.23 (m, 2H), 7.21-6.97 (m, 16H).
MS (ASAP): 953.37 (M+H+). Calcd for C64H36N6S2, 952.24.
실시예 3
미첨가(neat) 필름의 제조
실시예 3에서는, 실시예 2에서 합성한 화합물 1, 21, 227, 416, 467, 475, 483, 485, 1245, 1730, 1731, 1753, 1754, 1756, 1757, 1758을 각각 10-3 Pa 이하의 진공도에서 석영기판에 증착하여 두께 70nm의 박막을 형성하였다. 미첨가(neat) 필름에 300K에서 파장 300nm의 빛을 조사하고 발광 스펙트럼을 측정하여 이를 형광으로 지정하였다.
도핑 필름의 제조
화합물 1 및 mCBP를 10-3 Pa 이하의 진공도에서 증기증착법을 이용해 별도의 증착원(source)로부터 석영기판에 증착하여 두께가 100nm, 화합물 1의 농도가 20중량%인 박막을 형성하였다.
화합물 1 대신 화합물 21, 227, 416, 467, 475, 483, 485, 1245, 1730, 1731, 1753, 1754, 1756, 1757, 1758을 사용하여 같은 방식으로 도핑 필름을 제조하였다.
도핑 필름에 300K에서 파장 300nm의 빛을 조사하고 발광 스펙트럼을 측정하여 이를 형광으로 지정하였다.
OLED의 제조
두께 100nm의 인듐 주석산화물(ITO)로 애노드를 형성한 유리기판에 1.0 x 10-4 Pa 이하의 진공도에서 진공증착법으로 박막을 적층하였다. 먼저 HAT-CN을 ITO에 10nm의 두께로 형성하고, 이어서 NPD를 30nm의 두께로, TrisPCz를 10nm의 두께로 형성하였다. mCBP은 두께 5nm로 형성하였으며, 그 위에 mCBP 및 화합물 1 (중량비 80:20)을 증기로 공증착하여 30nm 두께의 층을 형성하고 이를 발광층으로 지정하였다.
이어서 SF3-TRZ를 두께 10nm로 형성하고, 그 위에 SF3-TRZ 및 Liq (중량비 70:30)를 두께 30nm로 증기공증착하였다. 뒤이어 Liq를 두께 2nm로 진공증착하고, 알루미늄(Al)을 100nm 두께로 증기증착하여 캐소드를 형성함으로써, 유기발광전계 디바이스(디바이스 1)을 제조하였다.
Figure pct00092
Figure pct00093
디바이스 2 및 디바이스 3을 각각 화합물 1 대신 화합물 21 및 416을 사용하여 같은 방식으로 제조하였다. 그 외의 디바이스는 화합물 227, 467, 475, 483, 485, 1245, 1730, 1731, 1753, 1754, 1756, 1757, 1758을 사용하여 같은 방식으로 제조할 수 있다.
화합물 1 대신 비교화합물 1을 사용하여 비교 디바이스 1을 같은 방식으로 제조하였다.
Figure pct00094
비교화합물 1
OLED의 측정
형광은 디바이스 1, 디바이스 3, 비교 디바이스 1에서 관측되었다. 제조한 디바이스가 초기 휘도1000 cd/m2의 95%에 도달하는 시간(LT95)을 측정하였다. 디바이스 1~3은 비교 디바이스 1보다 LT95가 길었다. 디바이스 1, 2, 3의 LT95는 각각 비교 디바이스 1보다 29.9배, 66.4배, 75.1배 길었다. 이와 같은 결과에서 식 (I)의 화합물을 포함하는 OLED의 수명이 더 길다는 것을 알 수 있다.

Claims (28)

  1. Figure pct00095

    (I)
    X1, X2, X3 중 하나는 N이고;
    X1, X2, X3 중 나머지 둘은 독립적으로 N 또는 C(R5)이며;
    R5는 수소, 중수소, 할로겐, 시아노, 치환 또는 미치환 알킬, 치환 또는 미치환 알콕시, 치환 또는 미치환 아릴, 치환 또는 미치환 아릴록시, 치환 또는 미치환 헤테로아릴, 치환 또는 미치환 헤테로아릴록시, 혹은 실릴이며;
    Ar1 및 Ar2는 치환 또는 미치환 아릴, 치환 또는 미치환 헤테로아릴, 시아노로부터 독립적으로 선택되고;
    L1은 단일결합, 치환 또는 미치환 아릴렌, 치환 또는 미치환 헤테로아릴렌으로부터 선택되고;
    R1, R2, R3, R4 중 하나는 D이고;
    R1, R2, R3, R4 중 또다른 하나는 Ar3이며;
    R1, R2, R3, R4 중 나머지 둘은 H, 치환 또는 미치환 알킬, D, Ar3에서 독립적으로 선택되고;
    Ar3은 치환 또는 미치환 아릴, N을 고리 구성 원자로 가지지 않는 치환 또는 미치환 헤테로아릴로부터 독립적으로 선택되고, 여기에서 아릴 및 헤테로아릴의 각 인스턴스는 중수소, 치환 또는 미치환 알킬, 치환 또는 미치환 아릴, N을 고리 구성 원자로 가지지 않는 치환 또는 미치환 헤테로아릴로부터 독립적으로 선택되는 하나 이상의 치환기로 치환될 수 있고, 이들 치환기 중 두 개 이상은 함께 고리계를 형성할 수 있으며;
    D는 치환 또는 미치환 1-카르바졸릴, 치환 또는 미치환 2-카르바졸릴, 치환 또는 미치환 3-카르바졸릴, 치환 또는 미치환 4-카르바졸릴, 또는 식 (II)로 나타나는 기로부터 독립적으로 선택되고;
    Figure pct00096
    (II)
    R11, R12, R13, R14, R15, R16, R17, R18은 수소, 중수소, 치환 또는 미치환 알킬, 치환 또는 미치환 알콕시, 치환 또는 미치환 아미노, 치환 또는 미치환 아릴, 치환 또는 미치환 아릴록시, 치환 또는 미치환 헤테로아릴, 치환 또는 미치환 헤테로아릴록시, 실릴로부터 독립적으로 선택되고, R11, R12, R13, R14, R15, R16, R17, R18 중 둘 이상은 함께 고리계를 형성할 수 있거나, R15 및 R16은 함께 단일결합을 형성할 수 있고;
    L11은 단일결합, 치환 또는 미치환 아릴렌, 치환 또는 미치환 헤테로아릴렌으로부터 선택되는, 화합물.
  2. 제1항에 있어서, R1은 H인 화합물.
  3. 제1항에 있어서, R1은 D인 화합물.
  4. 제1항에 있어서, R1은 Ar3인 화합물.
  5. 제1항 내지 4항 중 어느 한 항에 있어서, R2는 H 또는 Ar3인 화합물.
  6. 제1항 내지 5항 중 어느 한 항에 있어서, R3은 탄소원자로 식 (I)에 결합된 기인 화합물.
  7. 제1항 내지 6항 중 어느 한 항에 있어서, R3은 Ar3인 화합물.
  8. 제1항 내지 6항 중 어느 한 항에 있어서, R3은 D인 화합물.
  9. 제1항 내지 8항 중 어느 한 항에 있어서, R4는 Ar3인 화합물.
  10. 제1항 내지 9항 중 어느 한 항에 있어서, R3 및 R4 중 적어도 하나는 D 또는 Ar3인 화합물.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, R1, R2, R3, R4 중 하나만이 Ar3인 화합물.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, Ar3은 독립적으로 치환 또는 미치환 아릴인 화합물.
  13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, R1, R2, R3, R4 중 하나만이 H인 화합물.
  14. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, R1, R2, R3, R4 중 둘이 독립적으로 D인 화합물.
  15. 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, R2 및 R4가 독립적으로 D인 화합물.
  16. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, D는
    Figure pct00097
    ,
    Figure pct00098
    ,
    Figure pct00099
    ,
    Figure pct00100
    ,
    Figure pct00101
    로부터 독립적으로 선택되고;
    여기에서,
    XD는 O, S, NRD', C(O), 치환 또는 미치환 메틸렌, 치환 또는 미치환 에틸렌, 치환 또는 미치환 비닐렌, 치환 또는 미치환 o-아릴렌, 치환 또는 미치환 o-헤테로아릴렌으로부터 독립적으로 선택되고, 여기에서, 메틸렌, 에틸렌, 비닐렌, o-아릴렌 또는 o-헤테로아릴렌의 각 인스터스는 중수소, 치환 또는 미치환 알킬, 치환 또는 미치환 아릴, 치환 또는 미치환 헤테로아릴로부터 독립적으로 선택되는 하나 이상의 치환기로 치환될 수 있으며, XD의 인스턴스 중 2개 이상은 함께 고리계를 형성할수 있고;
    RD는 수소, 중수소, 치환 또는 미치환 알킬, 치환 또는 미치환 알콕시, 치환 또는 미치환 아미노, 치환 또는 미치환 아릴, 치환 또는 미치환 아릴록시, 치환 또는 미치환 헤테로아릴, 치환 또는 미치환 헤테로아릴록시, 실릴로부터 독립적으로 선택되고, RD의 인스턴스 중 2개 이상은 함께 고리계를 형성할 수 있고;
    RD'는 수소, 중수소, 치환 또는 미치환 알킬, 치환 또는 미치환 아미노, 치환 또는 미치환 아릴, 치환 또는 미치환 헤테로아릴로부터 독립적으로 선택되고; RD' 및 RD의 인스턴스 중 2개 이상은 함께 고리계를 형성할 수 있고;
    LD는 단일결합, 치환 또는 미치환 아릴렌, 치환 또는 미치환 헤테로아릴렌으로부터 독립적으로 선택되고, 여기에서 아릴렌 및 헤테로아릴렌의 각 인스턴스는 중수소, 치환 또는 미치환 알킬, 치환 또는 미치환 아릴, 치환 또는 미치환 헤테로아릴로부터 독립적으로 선택되는 하나 이상의 치환기로 치환될 수 있으며, 이들 치환기 중 2개 이상은 함께 고리계를 형성할 수 있고;
    각 "*"는 식 (I)에 대한 부착지점을 나타내는, 화합물.
  17. 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, Ar1 및 Ar2 중 적어도 하나는 치환 또는 미치환 아릴인 화합물.
  18. 제1항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서, L1은 단일결합인 화합물.
  19. 제1항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서,
    Figure pct00102
    은
    Figure pct00103
    ,
    Figure pct00104
    ,
    Figure pct00105
    ,
    Figure pct00106
    ,
    Figure pct00107
    로부터 선택되고;
    각 "*"는 식 (I)의 벤조니트릴에 대한 부착지점을 나타내는, 화합물.
  20. 제1항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서,
    Figure pct00108
    은
    Figure pct00109
    인 화합물.
  21. 제1항 내지 제20항 중 어느 한 항에 기재된 화합물의 발광재료로서의 용도.
  22. 제1항 내지 제20항 중 어느 한 항에 기재된 화합물의 지연 형광방출체로서의 용도.
  23. 제1항 내지 제20항 중 어느 한 항에 기재된 화합물을 포함하는 유기전자디바이스.
  24. 제1항 내지 제20항 중 어느 한 항에 기재된 화합물을 포함하는 유기발광 다이오드(OLED).
  25. 제24항에 있어서, 애노드, 캐소드, 상기 애노드 및 상기 캐소드 사이에 있는 발광층을 포함하는 적어도 하나의 유기층을 포함하고, 상기 발광층은 호스트 물질 및 상기 화합물을 포함하는, 유기발광 다이오드(OLED).
  26. 제25항에 있어서, 상기 화합물은 발광재료인, 유기발광 다이오드(OLED).
  27. 제24항에 있어서, 애노드, 캐소드, 상기 애노드 및 상기 캐소드 사이에 있는 발광층을 포함하는 적어도 하나의 유기층을 포함하고; 상기 발광층은 상기 화합물 및 발광재료를 포함하고; OLED의 발광은 주로 상기 발광재료에서 발생하는, 유기발광 다이오드(OLED).
  28. 제24항에 있어서, 애노드, 캐소드, 상기 애노드 및 상기 캐소드 사이에 있는 발광층을 포함하는 적어도 하나의 유기층을 포함하고;
    상기 발광층은 호스트 물질, 보조 도펀트, 발광재료를 포함하고;
    상기 보조 도펀트는 상기 화합물이며;
    OLED의 발광은 주로 상기 발광재료에서 발생하는, 유기발광 다이오드(OLED).
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