KR20220054799A - 편광자 보호용 수지 조성물 및 해당 조성물로부터 형성된 보호층을 구비하는 편광판 - Google Patents

편광자 보호용 수지 조성물 및 해당 조성물로부터 형성된 보호층을 구비하는 편광판 Download PDF

Info

Publication number
KR20220054799A
KR20220054799A KR1020227005783A KR20227005783A KR20220054799A KR 20220054799 A KR20220054799 A KR 20220054799A KR 1020227005783 A KR1020227005783 A KR 1020227005783A KR 20227005783 A KR20227005783 A KR 20227005783A KR 20220054799 A KR20220054799 A KR 20220054799A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
polarizer
weight
parts
resin composition
Prior art date
Application number
KR1020227005783A
Other languages
English (en)
Inventor
사토시 미타
준이치 나가세
타이얀 지앙
Original Assignee
닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 닛토덴코 가부시키가이샤 filed Critical 닛토덴코 가부시키가이샤
Publication of KR20220054799A publication Critical patent/KR20220054799A/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/04—Oxygen-containing compounds
    • C08K5/09—Carboxylic acids; Metal salts thereof; Anhydrides thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F230/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
    • C08F230/04—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal
    • C08F230/06—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal containing boron
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)

Abstract

본 발명은, 편광자 단부로부터의 색빠짐을 방지하고, 점착제층과의 투묘력이 우수한 보호층을 형성 가능한 편광자 보호용 수지 조성물, 및 해당 수지 조성물로부터 형성된 보호층을 구비하는 편광판을 제공한다. 본 발명의 편광자 보호용 수지 조성물은, (A) 50중량부를 초과하는 아크릴계 단량체와, 0중량부 초과 50중량부 미만의 식 (1)로 나타내는 단량체를 중합하는 것에 의해 얻어지는 중합체와, (B) 아비에트산 및 그의 유도체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함한다. 이 편광자 보호용 수지 조성은, 중합체 (A) 100중량부에 대하여, 아비에트산 및 그의 유도체 (B)를 0.3중량부~15중량부 포함한다:
Figure pct00010

식 중, X는 비닐기, (메트)아크릴기, 스티릴기, (메트)아크릴아미드기, 비닐에테르기, 에폭시기, 옥세탄기, 히드록실기, 아미노기, 알데히드기 및 카복실기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 반응성기를 포함하는 관능기를 나타내고, R1 및 R2는 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 가질 수 있는 지방족 탄화수소기, 치환기를 가질 수 있는 아릴기 또는 치환기를 가질 수 있는 헤테로환기를 나타내며, R1 및 R2는 서로 연결하여 환을 형성할 수 있다.

Description

편광자 보호용 수지 조성물 및 해당 조성물로부터 형성된 보호층을 구비하는 편광판
본 발명은 편광자 보호용 수지 조성물 및 해당 조성물로부터 형성된 보호층을 구비하는 편광판에 관한 것이다.
편광자는 대표적으로는, 폴리비닐알코올(PVA)계 수지 필름을 요오드 등의 이색성(二色性) 물질로 염색하는 것에 의해 제조된다(예컨대, 특허문헌 1 및 2). 편광자는 습열 환경하에서는 흡습에 의해 요오드 착체가 파괴되고, 요오드가 용출하는 것에 의해, 편광도가 저하되어 투과율이 상승하는(색이 빠지는) 것이 알려져 있다. 수분은 편광판의 단부로부터 침입하기 때문에, 편광자의 단부에서 색빠짐이 현저해지는 경향이 있다.
편광자는 대표적으로는, 편광자와 해당 편광자의 양측에 구비된 보호층을 포함하는 편광판으로서 이용된다. 근래, 박형화의 요구로부터 편광자 및 보호층의 박형화, 및 해당 편광자의 편측에만 보호층을 구비한 편광판이 제안되어 있다. 이와 같은 구성에서는 단부로부터의 수분의 흡수가 보다 빨라지고, 단부의 색빠짐이 보다 현저해질 수 있다. 또한, 보호층의 두께가 얇은 경우, 내구성이 저하되어 편광자를 적절히 보호할 수 없게 되는 경우가 있다. 높은 내구성의 보호층으로서, 에폭시 수지를 이용한 보호층이 제안되고 있다(예컨대, 특허문헌 3~5). 그러나, 높은 내구성의 보호층은 경도가 높고, 점착제층을 개재하여 다른 부재와 적층하는 경우, 충분한 투묘력이 얻어지지 않는 경우가 있다. 그 때문에, 리워크 시의 패널 표면에 대한 풀 잔여물, 가공 시의 점착제층의 결손, 및 점착제층의 벗겨짐 등의 문제가 생길 수 있다.
일본 특허공보 제5048120호 일본 공개특허공보 2013-156391호 일본 공개특허공보 2016-085369호 일본 공개특허공보 2016-004205호 일본 특허공보 제5454857호
본 발명은 상기 종래의 과제를 해결하기 위해 이루어진 것이며, 그의 주된 목적은, 편광자 단부로부터의 색빠짐을 방지하고, 점착제층과의 투묘력(投錨力)이 우수한 보호층을 형성 가능한 편광자 보호용 수지 조성물, 및 해당 수지 조성물로부터 형성된 보호층을 구비하는 편광판을 제공하는 것에 있다.
본 발명의 편광자 보호용 수지 조성물은, (A) 50중량부를 초과하는 아크릴계 단량체와, 0중량부 초과 50중량부 미만의 식 (1)로 나타내는 단량체를 중합하는 것에 의해 얻어지는 중합체와,
(B) 아비에트산 및 그의 유도체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함한다. 이 편광자 보호용 수지 조성물은, 중합체 (A) 100중량부에 대하여, 아비에트산 및 그의 유도체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종 (B)를 0.3중량부~15중량부 포함한다:
Figure pct00001
식 중, X는 비닐기, (메트)아크릴기, 스티릴기, (메트)아크릴아미드기, 비닐에테르기, 에폭시기, 옥세탄기, 히드록실기, 아미노기, 알데히드기 및 카복실기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 반응성기를 포함하는 관능기를 나타내고, R1 및 R2는 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 가질 수 있는 지방족 탄화수소기, 치환기를 가질 수 있는 아릴기 또는 치환기를 가질 수 있는 헤테로환기를 나타내며, R1 및 R2는 서로 연결하여 환을 형성할 수 있다.
하나의 실시형태에서는, 상기 아비에트산 및 그의 유도체 (B)는 디히드록시아비에트산 및 테트라히드로아비에트산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종이다.
하나의 실시형태에서는, 상기 중합체 (A)의 중량평균 분자량은 10,000 이상이다.
하나의 실시형태에서는, 상기 반응성기는 (메트)아크릴기 및 (메트)아크릴아미드기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종이다.
본 발명의 다른 국면에서는, 편광판이 제공된다. 이 편광판은, 편광자와, 해당 편광자의 적어도 한쪽 면에, 상기 편광자 보호용 수지 조성물로부터 형성된 보호층을 구비한다.
하나의 실시형태에서는, 상기 보호층의 두께는 0.1㎛~8㎛이다.
하나의 실시형태에서는, 상기 편광자의 요오드 함유량은 2중량%~25중량%이다.
하나의 실시형태에서는, 상기 편광자의 두께는 8㎛ 이하이다.
본 발명에 의하면, 편광자 단부로부터의 색빠짐을 방지하고, 점착제층과의 투묘력이 우수한 보호층을 형성 가능한 편광자 보호용 수지 조성물, 및 해당 수지 조성물로 형성된 보호층을 구비하는 편광판이 제공된다. 본 발명의 편광자 보호용 수지 조성물로부터 형성된 층(보호층)은, 편광자와 충분히 밀착되어, 들뜸, 벗겨짐 등의 외관 불량의 발생을 방지할 수 있다. 또한, 단부로부터의 수분의 침입을 방지하고, 편광자의 단부로부터의 색빠짐을 방지할 수 있다. 또한, 상기 보호층은 점착제층과의 투묘력이 우수하다. 그 때문에, 리워크 시의 패널 표면에 대한 풀 잔여물, 및, 편광판 가공 시의 점착제층의 결손 등의 문제를 방지할 수 있다.
도 1은 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 편광판의 개략 단면도이다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시형태에 대하여 설명하지만, 본 발명은 이들 실시형태로는 한정되지 않는다.
A. 편광자 보호용 수지 조성물
본 발명의 편광자 보호용 수지 조성물은, 50중량부를 초과하는 아크릴계 단량체와, 0중량부 초과 50중량부 미만의 식 (1)로 나타내는 단량체를 중합하는 것에 의해 얻어지는 중합체 (A)(이하, 중합체 (A)라고도 함)와, 아비에트산 및 그의 유도체를 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종 (B)(이하, 아비에트산 및 그의 유도체 (B))라고도 함)을 포함한다. 편광자 보호용 수지 조성물은, 중합체 (A) 100중량부에 대하여, 아비에트산 및 그의 유도체 (B)를 0.3중량부~15중량부 포함한다:
Figure pct00002
식 중, X는 비닐기, (메트)아크릴기, 스티릴기, (메트)아크릴아미드기, 비닐에테르기, 에폭시기, 옥세탄기, 히드록실기, 아미노기, 알데히드기 및 카복실기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 반응성기를 포함하는 관능기를 나타내고, R1 및 R2는 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 가질 수 있는 지방족 탄화수소기, 치환기를 가질 수 있는 아릴기 또는 치환기를 가질 수 있는 헤테로환기를 나타내며, R1 및 R2는 서로 연결하여 환을 형성할 수 있다.
편광자 보호용 수지 조성물은, 중합체 (A)와 아비에트산 및 그의 유도체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종 (B)를 포함한다. 상기 중합체 (A)와 아비에트산 및 그의 유도체 (B)를 포함하는 것에 의해, 편광자 보호용 수지 조성물을 이용하여 형성된 보호층에서는, 아비에트산 및 그의 유도체 (B)가 보호층의 표면에 편재할 수 있다. 이것은, 편광자 위에 보호층을 형성하는 과정에서 소수성이 높은 아비에트산 및 그의 유도체 (B)가 편광자 측이 아니라 공기 측에 편석하는 성질에 의한 것으로 추측된다. 또한, 아비에트산 및 그의 유도체 (B)를 아크릴 수지로 대표되는 고분자 재료에 첨가하면, 아비에트산 및 그의 유도체 (B)가 고분자의 간극에 침입하여 분자간력을 저하시키기 때문에, 고분자 재료의 탄성률이 저하될 수 있다. 이에 의해, 상기 편광자 보호용 수지 조성물을 이용하여 형성된 보호층의 표면(편광자와는 접하고 있지 않은 측의 표면)의 깊이 수십㎚의 탄성률이 저하되어, 점착제층과의 투묘력이 향상될 수 있다. 또한, 이 보호층은 편광자와의 밀착성도 우수하다. 그 때문에, 편광자 단부로부터 침입한 수분에 의한 편광자의 색빠짐도 방지할 수 있다. 아비에트산 및 그의 유도체 (B)는, 편광자 보호층 표면의 수십㎚에 편재하고 있기 때문에, 편광자 보호층으로서의 기능에 대한 영향은 작다. 그 때문에, 편광자 보호층 형성용 수지 조성물이 아비에트산 및 그의 유도체 (B)를 포함하는 경우이더라도, 편광자의 색빠짐 방지 효과가 충분히 발휘된다.
A-1. 중합체 (A)
중합체 (A)는, 50중량부를 초과하는 아크릴계 단량체와, 0중량부 초과 50중량부 미만의 식 (1)로 나타내는 단량체를 중합하는 것에 의해 얻어진다:
Figure pct00003
식 중, X는 비닐기, (메트)아크릴기, 스티릴기, (메트)아크릴아미드기, 비닐에테르기, 에폭시기, 옥세탄기, 히드록실기, 아미노기, 알데히드기 및 카복실기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 반응성기를 포함하는 관능기를 나타내고, R1 및 R2는 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 가질 수 있는 지방족 탄화수소기, 치환기를 가질 수 있는 아릴기 또는 치환기를 가질 수 있는 헤테로환기를 나타내며, R1 및 R2는 서로 연결하여 환을 형성할 수 있다.
중합체 (A)는 대표적으로는 하기 식으로 나타내는 구조를 갖는다. 식 (1)로 나타내는 단량체와 아크릴계 단량체 성분을 중합하는 것에 의해, 중합체 (A)가 측쇄에 붕소를 포함하는 치환기(예컨대, 하기 식 중 k의 반복 단위)를 갖는다. 이에 의해, 편광자와 편광자 보호용 수지 조성물을 이용하여 형성되는 층(보호층)과의 밀착성이 향상될 수 있다. 이 붕소를 포함하는 치환기는 중합체에 연속하여 포함되어 있어도 되고, 랜덤으로 포함되어 있어도 된다. 중합체 (A)는 1종만을 이용하여도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용하여도 된다.
Figure pct00004
식 중, R6은 임의의 관능기를 나타내고, j 및 k는 1 이상의 정수를 나타낸다.
중합체 (A)의 중량평균 분자량은, 바람직하게는 10,000 이상이고, 보다 바람직하게는 20,000 이상이며, 더욱 바람직하게는 35,000 이상이고, 특히 바람직하게는 50,000 이상이다. 또한, 중합체 (A)의 중량평균 분자량은, 바람직하게는 250,000 이하이고, 보다 바람직하게는 200,000 이하이며, 더욱 바람직하게는 150,000 이하이다. 중합체 (A)의 중량평균 분자량이 상기 범위인 것에 의해, 편광자 보호용 수지 조성물을 이용하여 형성되는 층(보호층)의 내크랙성이 향상될 수 있다. 중량평균 분자량은, 예컨대, GPC(용매: 디메틸포름아미드(DMF))에 의해 측정할 수 있다.
중합체 (A)의 유리전이온도는 바람직하게는 50℃ 이상이고, 보다 바람직하게는 60℃ 이상이며, 더욱 바람직하게는 80℃ 이상이다. 또한, 중합체 (A)의 유리전이온도는 바람직하게는 300℃ 이하이다. 유리전이온도가 상기 범위인 것에 의해, 편광자 보호용 수지 조성물을 이용하여 형성되는 층(보호층)의 내크랙성이 향상될 수 있다.
중합체 (A)는, 50중량부를 초과하는 아크릴계 단량체와, 0중량부 초과 50중량부 미만의 식 (1)로 나타내는 단량체와, 중합 개시제와, 임의의 다른 단량체를 포함하는 단량체 조성물을, 임의의 적절한 중합 방법에 의해 중합하는 것에 의해 얻어진다. 중합 방법으로서는, 바람직하게는 용액 중합이 이용된다. 용액 중합에 의해 중합체 (A)를 중합하는 것에 의해, 보다 고분자량의 중합체를 얻을 수 있다.
A-1-1. 아크릴계 단량체
아크릴계 단량체로서는 임의의 적절한 아크릴계 단량체를 이용할 수 있다. 예컨대, 직쇄 또는 분기 구조를 갖는 (메트)아크릴산 에스테르계 단량체, 및 환상 구조를 갖는 (메트)아크릴산 에스테르계 단량체를 들 수 있다. 본 명세서에서, (메트)아크릴이란, 아크릴 및/또는 메타크릴을 말한다.
직쇄 또는 분기 구조를 갖는 (메트)아크릴산 에스테르계 단량체로서는, 예컨대, (메트)아크릴산 메틸, (메트)아크릴산 에틸, (메트)아크릴산 n-프로필, (메트)아크릴산 이소프로필, (메트)아크릴산 n-부틸, (메트)아크릴산 이소부틸, (메트)아크릴산 t-부틸, (메트)아크릴산 메틸2-에틸헥실, (메트)아크릴산 2-히드록시에틸 등을 들 수 있다. 바람직하게는, (메트)아크릴산 메틸이 이용된다. (메트)아크릴산 에스테르계 단량체는, 1종만을 이용하여도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용하여도 된다.
환상 구조를 갖는 (메트)아크릴산 에스테르계 단량체로서는, 예컨대, (메트)아크릴산 시클로헥실, (메트)아크릴산 벤질, (메트)아크릴산 이소보르닐, (메트)아크릴산 1-아다만틸, (메트)아크릴산 디시클로펜텐일, (메트)아크릴산 디시클로펜텐일옥시에틸, (메트)아크릴산 디시클로펜탄일, 비페닐(메트)아크릴레이트, o-비페닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, o-비페닐옥시에톡시에틸(메트)아크릴레이트, m-비페닐옥시에틸아크릴레이트, p-비페닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, o-비페닐옥시-2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, p-비페닐옥시-2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, m-비페닐옥시-2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, N-(메트)아크릴로일옥시에틸-o-비페닐=카바메이트, N-(메트)아크릴로일옥시에틸-p-비페닐=카바메이트, N-(메트)아크릴로일옥시에틸-m-비페닐=카바메이트, o-페닐페놀글리시딜에테르아크릴레이트 등의 비페닐기 함유 모노머, 터페닐(메트)아크릴레이트, o-터페닐옥시에틸(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 바람직하게는, (메트)아크릴산 1-아다만틸, (메트)아크릴산 디시클로펜탄일이 이용된다. 이들 단량체를 이용하는 것에 의해, 유리전이온도가 높은 중합체가 얻어진다. 이들 단량체는 1종만을 이용하여도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용하여도 된다. 또한, 본 명세서에서, (메트)아크릴로일이란, 아크릴로일기 및/또는 메타크릴로일기를 말한다.
또한, 상기 (메트)아크릴산 에스테르계 단량체 대신에, (메트)아크릴로일기를 갖는 실세스퀴옥산 화합물을 이용하여도 된다. 실세스퀴옥산 화합물을 이용하는 것에 의해, 유리전이온도가 높은 아크릴계 중합체가 얻어진다. 실세스퀴옥산 화합물은, 다양한 골격 구조, 예컨대, 바구니형 구조, 사다리형 구조, 랜덤 구조 등의 골격을 갖는 것이 알려져 있다. 실세스퀴옥산 화합물은, 이들 구조를 1종만을 갖는 것이어도 되고, 2종 이상을 갖는 것이어도 된다. 실세스퀴옥산 화합물은 1종만을 이용하여도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용하여도 된다.
(메트)아크릴로일기를 갖는 실세스퀴옥산 화합물로서, 예컨대, 도아고세이 주식회사 SQ 시리즈의 MAC 그레이드, 및 AC 그레이드를 이용할 수 있다. MAC 그레이드는 메타크릴로일기를 함유하는 실세스퀴옥산 화합물이며, 구체적으로는, 예컨대, MAC-SQ TM-100, MAC-SQ SI-20, MAC-SQ HDM 등을 들 수 있다. AC 그레이드는 아크릴로일기를 함유하는 실세스퀴옥산 화합물이며, 구체적으로는, 예컨대 AC-SQ TA-100, AC-SQ SI-20 등을 들 수 있다.
아크릴계 단량체는 50중량부를 초과하여 이용된다. 아크릴계 단량체는, 후술하는 단량체와의 합계가 100중량부가 되도록 이용된다.
A-1-2. 단량체
단량체로서는, 식 (1)로 나타내는 단량체가 이용된다. 이와 같은 단량체를 이용하는 것에 의해, 중합체 (A)의 측쇄에 붕소를 포함하는 치환기가 도입된다. 그 때문에, 대표적으로는 PVA계 수지로 구성되는 편광자와, 편광자 보호용 수지 조성물을 이용하여 형성되는 층(보호층)과의 밀착성이 향상될 수 있다. 또한, 편광자 보호용 수지 조성물을 이용하여 형성되는 층(보호층) 자체의 내수성도 향상되어, 편광자의 단부로부터의 색빠짐을 방지할 수 있다. 단량체는 1종만을 이용하여도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용하여도 된다.
Figure pct00005
식 중, X는 비닐기, (메트)아크릴기, 스티릴기, (메트)아크릴아미드기, 비닐에테르기, 에폭시기, 옥세탄기, 히드록실기, 아미노기, 알데히드기 및 카복실기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 반응성기를 포함하는 관능기를 나타내고, R1 및 R2는 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 가질 수 있는 지방족 탄화수소기, 치환기를 가질 수 있는 아릴기 또는 치환기를 가질 수 있는 헤테로환기를 나타내며, R1 및 R2는 서로 연결하여 환을 형성할 수 있다.
상기 지방족 탄화수소기로서는, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1~20의 직쇄 또는 분기의 알킬기, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 3~20의 환상 알킬기, 탄소수 2~20의 알케닐기를 들 수 있다. 상기 아릴기로서는, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 6~20의 페닐기, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 10~20의 나프틸기 등을 들 수 있다. 헤테로환기로서는, 치환기를 가질 수 있는 적어도 1개의 헤테로 원자를 포함하는 5원환기 또는 6원환기를 들 수 있다. 또한, R1 및 R2는 서로 연결하여 환을 형성할 수 있다. R1 및 R2는, 바람직하게는 수소 원자, 또는 탄소수 1~3의 직쇄 또는 분기의 알킬기이며, 보다 바람직하게는 수소 원자이다.
상기 X로 나타내는 관능기가 포함하는 반응성기는, 비닐기, (메트)아크릴기, 스티릴기, (메트)아크릴아미드기, 비닐에테르기, 에폭시기, 옥세탄기, 히드록실기, 아미노기, 알데히드기, 및 카복실기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종이다. 바람직하게는, 반응성기는 (메트)아크릴기 및/또는 (메트)아크릴아미드기이다. 이들 반응성기를 갖는 것에 의해, 편광자와 편광자 보호용 수지 조성물을 이용하여 형성되는 층(보호층)과의 밀착성이 향상될 수 있다.
하나의 실시형태에서는, 상기 X로 나타내는 관능기는 하기 식으로 나타내는 관능기인 것이 바람직하다.
Figure pct00006
식 중, Z는 비닐기, (메트)아크릴기, 스티릴기, (메트)아크릴아미드기, 비닐에테르기, 에폭시기, 옥세탄기, 히드록실기, 아미노기, 알데히드기 및 카복실기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 반응성기를 포함하는 관능기를 나타내고, Y는 페닐렌기 또는 알킬렌기를 나타낸다.
일반식 (1)로 나타내는 단량체로서는, 구체적으로는 이하의 화합물을 이용할 수 있다.
Figure pct00007
식 (1)로 나타내는 단량체는, 0중량부 초과 50중량부 미만의 함유량으로 이용된다. 바람직하게는 0.01중량부 이상 50중량부 미만이고, 보다 바람직하게는 0.05중량부~20중량부이며, 더욱 바람직하게는 0.1중량부~10중량부이다. 단량체의 함유량이 50중량부를 초과하면, 단부로부터의 색빠짐이 발생하기 쉬워질 수 있다.
A-1-3. 중합 개시제
중합 개시제로서는, 임의의 적절한 중합 개시제를 이용할 수 있다. 예컨대, 벤조일퍼옥사이드, 라우로일퍼옥사이드, 나트륨퍼옥사이드 등의 퍼옥사이드; t-부틸하이드로퍼옥사이드, 큐멘 하이드로퍼옥사이드 등의 하이드로퍼옥사이드; 아조비스이소부티로니트릴 등의 아조 화합물; 등을 들 수 있다. 중합 개시제는 1종만을 이용하여도 되고, 2종 이상을 이용하여도 된다.
중합 개시제의 함유량은 임의의 적절한 양을 이용할 수 있다. 중합 개시제의 함유량은, 바람직하게는 0.1중량부~5중량부이고, 보다 바람직하게는 0.3중량부~2중량부이다.
A-1-4. 중합 방법
상기와 같이, 중합체 (A)는 바람직하게는 아크릴계 단량체 및 단량체를 용액 중합하는 것에 의해 얻어진다. 용액 중합에서 사용하는 용매로서는, 임의의 적절한 용매를 이용할 수 있다. 예컨대, 물; 메틸알코올, 에틸알코올, 이소프로필알코올 등의 알코올; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 시클로헥산, n-헥산 등의 방향족 또는 지방족 탄화수소; 초산에틸 등의 에스테르 화합물, 아세톤, 메틸에틸케톤 등의 케톤 화합물; 테트라히드로퓨란, 디옥산 등의 환상 에테르 화합물 등을 들 수 있다. 이들 용매는 1종만을 이용하여도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용하여도 된다. 또한, 유기 용매와 물을 병용하여도 된다.
중합 반응은 임의의 적절한 온도 및 시간으로 행할 수 있다. 예컨대, 50℃~100℃, 바람직하게는 60℃~80℃의 범위에서 중합 반응을 행할 수 있다. 또한, 반응 시간은, 예컨대 1시간~8시간이고, 바람직하게는 3시간~5시간이다.
A-2. 아비에트산 및 그의 유도체 (B)
아비에트산 및 그의 유도체 (B)로서는, 임의의 적절한 아비에트산 및 그의 유도체 (B)를 이용할 수 있다. 아비에트산의 유도체로서는, 구체적으로는 디히드로아비에트산, 및 테트라히드로아비에트산 등의 수소화 유도체; 데히드로아비에트산, 데히드로아비에트산 글리시딜에스테르, 아크릴화 데히드로아비에트산, 데히드로아비에트산 클로라이드, 데히드로아비에트산 금속염, 데히드로아비에트산 폴리에틸렌글리콜(PEG) 부가체, 데히드로아비에틸아민 등의 탈수소화 유도체; 네오아비에트산, 팔루스트르산, 레보피마르산, 말레오피마르산 등의 열이성화 유도체 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 디히드로아비에트산 및/또는 테트라히드로아비에트산이 이용된다. 디히드로아비에트산 및/또는 테트라히드로아비에트산을 이용하는 것에 의해, 아비에트산 및 그의 유도체 (B)를 첨가하는 것에 의한 착색의 영향을 억제할 수 있다. 아비에트산 및 그의 유도체 (B)는 1종만을 이용하여도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용하여도 된다.
아비에트산 및 그의 유도체 (B)의 함유량은, 중합체 (A) 100중량부에 대하여, 0.3중량부~15중량부이며, 바람직하게는 0.5중량부~12중량부, 보다 바람직하게는 1중량부~10중량부, 더욱 바람직하게는 3중량부~8중량부이다. 아비에트산 및 그의 유도체 (B)의 함유량이 상기 범위인 것에 의해, 형성되는 보호층의 점착제층과의 투묘력이 향상될 수 있다. 또한, 편광자의 단부로부터의 색빠짐을 방지할 수 있다.
아비에트산 및 그의 유도체 (B)로서는, 시판품을 이용하여도 된다. 시판품으로서는, 아라카와 가가쿠 고교사 제조의 상품명 파인 크리스탈 PE-590, 파인 크리스탈 KE-311, 파인 크리스탈 KE-359 등의 파인 크리스탈 시리즈를 들 수 있다.
아비에트산 및 그의 유도체 (B)의 연화점은 바람직하게는 85℃ 이상이고, 보다 바람직하게는 90℃ 이상이며, 더욱 바람직하게는 100℃ 이상이다. 연화점이 상기 범위인 것에 의해, 내열성이 우수한 보호층을 형성 가능한 보호층 형성용 수지 조성물이 얻어진다.
아비에트산 및 그의 유도체 (B)의 산가는 바람직하게는 200 이하이고, 보다 바람직하게는 100 이하이며, 더욱 바람직하게는 20 이하이고, 특히 바람직하게는 10 이하이다. 산가가 상기 범위인 것에 의해, 편광자 보호용 수지 조성물을 이용하여 형성되는 보호층의 내습열성이 향상되고, 편광자의 습열에 의한 열화를 방지할 수 있다.
아비에트산 및 그의 유도체 (B)의 하젠 색수는 바람직하게는 200 이하이고, 보다 바람직하게는 150 이하이며, 더욱 바람직하게는 100 이하이다. 하젠 색수가 상기 범위인 것에 의해, 편광자 보호층 형성용 수지 조성물의 착색을 방지할 수 있다. 하젠 색수는 임의의 적절한 방법으로 측정할 수 있다.
A-3. 그 외의 성분
편광자 보호용 수지 조성물은, 상기 중합체 (A) 및 아비에트산 및 그의 유도체 (B) 이외에, 임의의 적절한 다른 성분을 포함하고 있어도 된다. 다른 성분으로서는 예컨대 용매, 및 첨가제를 들 수 있다. 용매로서는, 상기 중합체 (A)를 용액 중합할 때에 이용할 수 있는 용매를 이용하여도 되고, 다른 용매를 이용하여도 된다. 다른 용매로서는, 바람직하게는 초산에틸, 톨루엔, 메틸에틸케톤, 시클로펜타논이 이용된다. 이들 용매는 1종만을 이용하여도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용하여도 된다.
첨가제로서는, 임의의 적절한 첨가제를 이용할 수 있다. 예컨대, 계면활성제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 점착 부여제 등을 들 수 있다. 첨가제는 1종만을 이용하여도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용하여도 된다. 이들 첨가제는 임의의 적절한 양으로 이용할 수 있다.
A-4. 편광자 보호용 수지 조성물의 조제 방법
편광자 보호용 수지 조성물은 임의의 적절한 방법으로 조제할 수 있다. 예컨대, 중합체 (A), 아비에트산 및 그의 유도체 (B), 및 필요에 따라 임의의 적절한 첨가제를 임의의 적절한 용매 중에서 혼합하는 것에 의해 조제할 수 있다. 또한, 중합체 (A)를 용액 중합으로 중합한 경우에는, 중합체 (A)의 중합 용액에 아비에트산 및 그의 유도체 (B) 및 임의의 적절한 첨가제를 첨가하여 혼합하는 것에 의해 조제하여도 된다.
B. 편광판
본 발명의 편광판은, 편광자와, 편광자의 적어도 한쪽 면에 상기 편광자 보호용 수지 조성물로부터 형성된 보호층을 구비한다. 상기 편광자 보호용 수지 조성물로부터 형성되는 보호층은, 편광자와의 밀착성이 우수하다. 그 때문에, 편광자의 두께가 얇은 경우이더라도, 보호층의 편광자로부터의 들뜸, 벗겨짐 등의 외관 불량을 방지할 수 있다. 또한, 편광자의 단부로부터의 색빠짐도 방지할 수 있다. 또한, 상기 편광자 보호용 수지 조성물로부터 형성되는 보호층은, 보호층 위에 점착제층을 형성한 경우에 점착제층의 투묘력이 향상될 수 있다. 그 결과, 편광자와 보호층과의 밀착성과, 보호층 위에 형성된 점착제층의 투묘력을 양립한 편광판(보호층 부착 편광판)을 얻을 수 있다.
B-1. 편광판의 개요
도 1은 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 편광판의 개략 단면도이다. 도시예의 편광판(100)은 편광자(10)와, 해당 편광자의 적어도 한쪽 면에 형성된 보호층(20)을 구비한다. 이 보호층(20)은 상기 편광자 보호용 수지 조성물로부터 형성된 층이다. 보호층이 상기 편광자 보호용 수지 조성물로부터 형성되는 것에 의해, 보호층과 편광자와의 밀착성이 향상된다. 그 때문에, 편광판의 단부로부터의 수분의 침입을 방지하고, 단부로부터의 색빠짐을 방지할 수 있다. 또한, 보호층(20)은 내크랙성도 우수하기 때문에 편광자(10)를 적절히 보호할 수 있다. 또한, 이 보호층(20)은 편광자(10)의 편측에만 형성된 경우이더라도, 단부로부터의 편광자의 색빠짐을 방지할 수 있다. 그 때문에, 편광판(100)의 박형화에도 기여할 수 있다. 도시예에서는 편광자(10)의 한쪽 면에만 보호층(20)이 형성되어 있지만, 편광자(10)의 양측에 보호층(20)이 형성되어 있어도 된다. 또한, 편광자(10)의 한쪽 면에 보호층(20)이 형성되고, 편광자(10)의 다른쪽 면에는 다른 보호층이 형성되어 있어도 된다. 보호층(20)은 대표적으로는 편광자(10)에 직접(접착제층 또는 점착제층을 개재하지 않고) 형성된다. 보호층을 편광자에 직접 형성하는 것에 의해, 편광판의 박형화에 기여할 수 있다. 또한, 보호층을 직접 형성하는 것에 의해, 편광자와 보호층과의 밀착성이 향상될 수 있다.
편광판(100)은 목적에 따라, 보호층(20) 이외의 임의의 적절한 기능층을 추가로 포함하고 있어도 된다. 기능층으로서는, 위상차층, 광 확산층, 반사 방지층, 반사형 편광자 등을 들 수 있다. 기능층은 편광자(10)의 측에 적층되어 있어도 되고, 보호층(20)의 측에 적층되어 있어도 된다. 또한 복수의 기능층을 포함하고 있어도 된다.
B-2. 편광자
편광자는 대표적으로는 이색성 물질을 포함하는 수지 필름이다. 이색성 물질로서는, 예컨대 요오드, 유기 염료 등을 들 수 있다. 이색성 물질은 1종만을 이용하여도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용하여도 된다. 바람직하게는 요오드를 포함한다.
하나의 실시형태에서는, 편광자(10)는 바람직하게는 요오드 함유량이 2중량%~25중량%이다. 본 발명의 다른 실시형태에서는, 편광자(10)는 바람직하게는 요오드 함유량이 10중량%~25중량%이고, 보다 바람직하게는 15중량%~25중량%이다. 요오드 함유량이 높은 편광자에서는, 습열 환경하에서의 색빠짐이 보다 현저해질 수 있다. 그 때문에, 상기 편광자 보호용 수지 조성물을 이용하여 보호층을 형성하는 것에 의한 효과가 보다 발휘될 수 있다. 본 명세서에서 '요오드 함유량'이란, 편광자(PVA계 수지 필름) 중에 포함되는 모든 요오드의 양을 의미한다. 보다 구체적으로는, 편광자 중에서 요오드는 요오드 이온(I-), 요오드 분자(I2), 폴리요오드 이온(I3 -, I5 -) 등의 형태로 존재하는데, 본 명세서에서의 요오드 함유량은, 이들 형태를 모두 포함한 요오드의 양을 의미한다. 요오드 함유량은 예컨대, 형광 X선 분석의 검량선법에 의해 산출할 수 있다. 또한, 폴리요오드 이온은 편광자 중에서 PVA- 요오드 착체를 형성한 상태로 존재하고 있다. 이와 같은 착체가 형성되는 것에 의해, 가시광의 파장 범위에서 흡수 이색성이 발현할 수 있다. 구체적으로는, PVA와 3요오드화물 이온과의 착체(PVA·I3 -)는 470nm 부근에 흡광 피크를 갖고, PVA와 5요오드화물 이온과의 착체(PVA·I5 -)는 600nm 부근에 흡광 피크를 갖는다. 결과로서, 폴리요오드 이온은 그의 형태에 따라 가시광의 폭 넓은 범위에서 광을 흡수할 수 있다. 한편, 요오드 이온(I-)은 230nm 부근에 흡광 피크를 갖고, 가시광의 흡수에는 실질적으로는 관여하지 않는다. 따라서, PVA와의 착체의 상태로 존재하는 폴리요오드 이온이 주로 편광자의 흡수 성능에 관여할 수 있다.
편광자의 두께는 바람직하게는 8㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 0.6㎛ 이상 8㎛ 미만이다. 하나의 실시형태에서는, 편광자의 두께는 5㎛ 이하이다. 한편, 편광자의 두께는 바람직하게는 0.6㎛ 이상이고, 보다 바람직하게는 1.0㎛ 이상이다.
편광자의 단체 투과율은, 예컨대 30% 이상이다. 또한, 단체 투과율의 이론상의 상한은 50%이고, 실용적인 상한은 46%이다. 또한, 단체 투과율(Ts)은, JIS Z8701의 2도 시야(C광원)에 의해 측정하여 시감도 보정을 행한 Y값이며, 예컨대, 적분구 부착 분광 광도계(니혼 분코 주식회사 제조, 제품명: V7100)를 이용하여 측정할 수 있다.
또한, 편광자의 편광도는, 예컨대 99.0% 이상이고, 바람직하게는 99.5% 이상이며, 보다 바람직하게는 99.9% 이상이다. 상기와 같이, 본 발명의 편광판에서는, 단부로부터의 색빠짐을 방지할 수 있다. 그 때문에, 편광자의 편광도가 높은 경우이더라도, 편광도를 양호하게 유지할 수 있다.
B-2-1. 편광자의 제조 방법
편광자는 임의의 적절한 방법으로 제조할 수 있다. 예컨대, PVA계 수지 필름을, 팽윤 공정, 염색 공정, 가교 공정, 연신 공정, 세정 공정, 건조 공정에 제공하는 것에 의해 제조할 수 있다. 하나의 실시형태에서는, PVA계 수지 필름은 기재 위에 형성된 PVA계 수지층이어도 된다. 기재와 수지층과의 적층체는, 예컨대, 상기 PVA계 수지를 포함하는 도포액을 기재에 도포하는 방법, 기재에 PVA계 수지 필름을 적층하는 방법 등에 의해 얻을 수 있다. 기재로서는, 임의의 적절한 수지 기재를 이용할 수 있고, 예컨대 열가소성 수지 기재를 이용할 수 있다.
B-2-1-1. PVA계 수지 필름
PVA계 수지 필름을 형성하는 PVA계 수지로서는 예컨대, 폴리비닐알코올, 에틸렌-비닐알코올 공중합체를 들 수 있다. 폴리비닐알코올은 폴리 초산 비닐을 비누화하는 것에 의해 얻어진다. 에틸렌-비닐알코올 공중합체는 에틸렌-초산 비닐 공중합체를 비누화하는 것에 의해 얻어진다. PVA계 수지의 비누화도는 통상적으로 85몰% 이상 100몰% 미만이고, 바람직하게는 95.0몰%~99.99몰%, 더욱 바람직하게는 99.0몰%~99.99몰%이다. 비누화도는 JIS K 6726-1994에 준하여 구할 수 있다. 이와 같은 비누화도의 PVA계 수지를 이용하는 것에 의해, 내구성이 우수한 편광자를 얻을 수 있다.
PVA계 수지의 평균 중합도는 목적에 따라 적절히 선택될 수 있다. 평균 중합도는 통상적으로 1000~10000이고, 바람직하게는 1200~4500, 더욱 바람직하게는 1500~4300이다. 또한, 평균 중합도는 JIS K 6726-1994에 준하여 구할 수 있다.
PVA계 수지 필름의 두께는 소망하는 편광자의 두께에 따라 설정될 수 있다. PVA계 수지 필름의 두께는, 예컨대 0.5㎛~200㎛이다. 후술하는 염색 용액을 이용하는 것에 의해, 예컨대 PVA계 수지 필름이 10㎛ 미만이어도 단시간에 충분히 염색할 수 있어, 편광자로서 충분히 기능할 수 있는 특성을 부여할 수 있다.
상기와 같이 편광자는, 예컨대 PVA계 수지 필름을, 팽윤 공정, 염색 공정, 가교 공정, 연신 공정, 세정 공정, 건조 공정에 제공하는 것에 의해 제조할 수 있다. 각 공정은 임의의 적절한 타이밍으로 행하여진다. 또한, 필요에 따라 염색 공정 이외의 임의의 공정이 생략되어 있어도 되고, 또한 복수의 공정을 동시에 행하여도 되며, 각각의 공정을 복수 회 행하여도 된다. 이하, 각 공정에 대하여 설명한다.
B-2-1-2. 연신
연신 처리에서는, 대표적으로는, PVA계 수지 필름은, 원래 길이에 대하여 3배~7배로 1축 연신된다. 하나의 실시형태에서는, 상기 PVA계 수지 필름은 건식 연신에 제공된다. 건식 연신은 보다 넓은 온도 범위에서 연신 처리를 행할 수 있기 때문에 바람직하다. 건식 연신을 행할 때의 온도는, 예컨대 50℃~200℃, 바람직하게는 80℃~180℃, 보다 바람직하게는 90℃~160℃이다. 연신 방향은 필름의 긴 방향(MD 방향)이어도 되고, 필름의 폭 방향(TD 방향)이어도 된다. 또한, 연신 방향은 얻어지는 편광자의 흡수축 방향에 대응할 수 있다.
B-2-1-3. 염색
염색 공정은 PVA계 수지 필름을 이색성 물질로 염색하는 공정이다. 바람직하게는 이색성 물질을 흡착시키는 것에 의해 행한다. 당해 흡착 방법으로서는, 예컨대, 이색성 물질을 포함하는 염색액에 PVA계 수지 필름을 침지시키는 방법, PVA계 수지 필름에 당해 염색액을 도공하는 방법, 당해 염색액을 PVA계 수지 필름에 분무 하는 방법 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 염색액에 PVA계 수지 필름을 침지시키는 방법이다. 이색성 물질이 양호하게 흡착할 수 있기 때문이다.
상기 이색성 물질로서는, 상기와 같이, 요오드 및 이색성 염료를 들 수 있다. 바람직하게는 요오드이다. 이색성 물질로서 요오드를 이용하는 경우, 염색액으로서는 요오드 수용액이 바람직하게 이용된다. 요오드 수용액의 요오드의 함유량은 물 100중량부에 대하여, 바람직하게는 0.04중량부~5.0중량부이다. 하나의 실시형태에서는, 요오드 수용액에서의 요오드의 함유량은 물 100중량부에 대하여 바람직하게는 0.3중량부 이상이다. 요오드의 물에 대한 용해도를 높이기 위해, 요오드 수용액에 요오드화물을 배합하는 것이 바람직하다. 요오드화물로서는 요오드화 칼륨이 바람직하게 이용된다. 요오드화물의 함유량은 물 100중량부에 대하여, 바람직하게는 0.3중량부~15중량부이다.
염색 용액의 염색 시의 액체 온도는 임의의 적절한 값으로 설정할 수 있다. 예컨대, 20℃~50℃이다. 염색 용액에 PVA계 수지 필름을 침지시키는 경우, 침지 시간은, 예컨대, 1초~1분이다.
염색 용액에 포함되는 요오드화물의 함유량은, 용매 100중량부에 대하여 바람직하게는 1중량부~40중량부이며, 보다 바람직하게는 3중량부~30중량부이다. 요오드화물의 함유량이 상기의 범위이면, 염색 용액 중에 충분한 폴리요오드 이온을 형성할 수 있다. 요오드화물로서는 예컨대, 요오드화 칼륨, 요오드화 리튬, 요오드화 나트륨, 요오드화 아연, 요오드화 알루미늄, 요오드화 납, 요오드화 구리, 요오드화 바륨, 요오드화 칼슘, 요오드화 주석, 요오드화 티탄 등을 들 수 있다. 바람직하게는 요오드화 칼륨이다.
염색 용액의 용매로서는, 임의의 적절한 용매를 이용할 수 있고, 통상적으로, 물이 이용된다.
B-2-1-4. 팽윤
팽윤 공정은 통상적으로 염색 공정 전에 행하여진다. 하나의 실시형태에서는, 팽윤 공정은 동일한 침지욕 중에서 염색 공정과 함께 행하여져도 된다. 팽윤 공정은 예컨대 PVA계 수지 필름을 팽윤욕에 침지하는 것에 의해 행하여진다. 팽윤 욕으로서는, 임의의 적절한 액체를 이용할 수 있고, 예컨대, 증류수, 순수 등의 물이 이용된다. 팽윤욕은 물 이외의 임의의 적절한 다른 성분을 포함하고 있어도 된다. 다른 성분으로서는, 알코올 등의 용매, 계면활성제 등의 첨가제, 요오드화물 등을 들 수 있다. 요오드화물로서는 상기에서 예시한 것을 들 수 있다. 바람직하게는, 요오드화 칼륨이 이용된다. 팽윤욕의 온도는, 예컨대 20℃~45℃이다. 또한, 침지 시간은, 예컨대 10초~300초이다.
B-2-1-5. 가교
가교 공정에서는 통상적으로 가교제로서 붕소 화합물이 이용된다. 붕소 화합물로서는, 예컨대, 붕산, 붕사 등을 들 수 있다. 바람직하게는 붕산이다. 가교 공정에서는, 붕소 화합물은 통상적으로 수용액의 형태로 이용된다.
붕산 수용액을 이용하는 경우, 붕산 수용액의 붕산 농도는, 예컨대 2중량%~15중량%이고, 바람직하게는 3중량%~13중량%이다. 붕산 수용액에는 요오드화 칼륨 등의 요오드화물, 황산 아연, 염화 아연 등의 아연 화합물을 더욱 함유시켜도 된다.
가교 공정은 임의의 적절한 방법에 의해 행할 수 있다. 예컨대, 붕소 화합물을 포함하는 수용액에 PVA계 수지 필름을 침지하는 방법, 붕소 화합물을 포함하는 수용액을 PVA계 수지 필름에 도포하는 방법, 또는 붕소 화합물을 포함하는 수용액을 PVA계 수지 필름에 분무하는 방법을 들 수 있다. 붕소 화합물을 포함하는 수용액에 침지하는 것이 바람직하다.
가교에 이용하는 용액의 온도는, 예컨대 25℃ 이상이고, 바람직하게는 30℃~85℃, 더욱 바람직하게는 40℃~70℃이다. 침지 시간은, 예컨대 5초~800초이며, 바람직하게는 8초~500초이다.
B-2-1-6. 세정
세정 공정은, 물 또는 상기 요오드화물을 포함하는 수용액을 이용하여 행하여진다. 대표적으로는, 요오드화 칼륨 수용액에 PVA계 수지 필름을 침지시키는 것에 의해 행한다. 세정 공정에서의 수용액의 온도는, 예컨대 5℃~50℃이다. 침지 시간은, 예컨대, 1초~300초이다.
B-2-1-7. 건조
건조 공정은 임의의 적절한 방법에 의해 행할 수 있다. 예컨대, 자연 건조, 송풍 건조, 감압 건조, 가열 건조 등을 들 수 있고, 가열 건조가 바람직하게 이용된다. 가열 건조를 행하는 경우, 가열 온도는, 예컨대, 30℃~100℃이다. 또한, 건조 시간은 예컨대 10초~10분간이다.
B-3. 보호층
보호층(20)은 편광자(10)의 적어도 한쪽 면에 형성된다. 보호층(20)은 상기 편광자 보호용 수지 조성물을 이용하여 형성된다.
보호층(20)의 두께는, 편광자의 두께 및 상기 중합체의 유리전이온도에 따라 임의의 적절한 값으로 설정될 수 있다. 하나의 실시형태에서는, 보호층의 두께는 바람직하게는 0.1㎛~8㎛이고, 보다 바람직하게는 0.2㎛~3㎛, 더욱 바람직하게는 0.5㎛~1㎛이다. 보호층의 두께가 상기 범위인 것에 의해, 편광판의 박형화에 기여할 수 있다. 상기와 같이, 보호층(20)은 두께가 얇은 경우이더라도, 편광자(10)를 적절히 보호하여, 단부로부터의 색빠짐을 방지할 수 있다. 보호층(20)의 두께가 8㎛를 초과하면, 편광자와 보호층과의 밀착성이 저하되는 경우가 있다.
보호층(20)에서는, 아비에트산 및 그의 유도체 (B)가 보호층의 표면에 편재할 수 있다. 아비에트산 및 그의 유도체 (B)가 편재하는 층(아비에트산 편재층)의 깊이는, 바람직하게는 20nm 이하이고, 보다 바람직하게는 15nm 이하이며, 더욱 바람직하게는 10nm 이하이다. 아비에트산 편재층의 두께가 상기 범위인 것에 의해, 점착제층에 대한 투묘력이 향상될 수 있다. 아비에트산 편재층의 깊이는, 예컨대 5㎚ 이상이다. 본 명세서에서, 아비에트산 편재층이란, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석법으로 측정한 아비에트산 유래 성분(C20H33O2 -)의 이온 강도가 0.900 이상인 층을 말한다. 아비에트산 편재층의 깊이는, 보호층의 편광자와 접하고 있지 않은 측의 표면으로부터의 거리를 말한다. 구체적으로는, 아르곤 가스 클러스터 이온 빔을 조사하고, 보호층 표면을 긁으면서 비행 시간형 2차 이온 질량 분석법에 의해 아비에트산 및 그의 유도체 유래 성분의 이온 강도를 측정하는 것에 의해, 보호층 표면으로부터의 깊이 방향의 편석 정도를 측정할 수 있다.
보호층(20)의 단면의 탄성률은 바람직하게는 4GPa~8GPa이고, 보다 바람직하게는 5GPa~6GPa이다. 탄성률이 상기 범위인 것에 의해, 보호층에 대한 크랙의 발생을 방지할 수 있다. 그 때문에, 두께가 얇은 경우이더라도 편광자를 적절히 보호할 수 있다. 본 명세서에서, 보호층의 단면의 탄성률은 후술하는 실시예에 기재된 방법으로 측정할 수 있다.
보호층의 투습도는 바람직하게는 10g/m2·24h~2000g/m2·24h이고, 보다 바람직하게는 100g/m2·24h~1800g/m2·24h이며, 더욱 바람직하게는 150g/m2·24h~1500g/ m2·24h이다. 투습도가 상기 범위인 것에 의해, 수분이 침입하여, 편광자에 색빠짐이 생기는 것을 방지할 수 있다.
상기 보호층은 임의의 적절한 방법에 의해 형성할 수 있다. 예컨대, 상기 편광자에 상기 편광자 보호용 수지 조성물을 도포하는 것에 의해 형성할 수 있다. 도포 방법으로서는, 바 코터 도공, 에어 나이프 도공, 그라비어 도공, 그라비어 리버스 도공, 리버스 롤 도공, 립 도공, 다이 도공, 딥 도공, 오프셋 인쇄, 플렉소 인쇄, 스크린 인쇄 등 다양한 방법을 채용할 수 있다. 또한, 편광자의 편광자 보호용 수지 조성물을 도포하는 면에 임의의 적절한 표면 개질 처리를 실시하여도 된다.
실시예
이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
[제조예 1] 자외선 경화형 접착제의 조제
N-히드록시에틸아크릴아미드(HEAA) 40중량부와, 아크릴로일모폴린(ACMO) 60중량부와, 광개시제(BASF사 제조, 상품명: IRGACURE 819) 3중량부를 혼합하여, 자외선 경화형 접착제를 조제하였다.
[제조예 2] 편광자 1의 제작
열가소성 수지 기재로서, 흡수율 0.75%, Tg 75℃의 비정질의 이소프탈산 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트(IPA 공중합 PET) 필름(두께: 100㎛)을 이용하였다. 기재의 편면에 코로나 처리를 실시하고, 이 코로나 처리면에 폴리비닐알코올(중합도 4200, 비누화도 99.2몰%) 및 아세토아세틸 변성 PVA(중합도 1200, 아세토아세틸 변성도 4.6%, 비누화도 99.0몰% 이상, 니혼 고세이 가가쿠 고교사 제조, 상품명: 고세파이머 Z200)를 9:1의 비로 포함하는 수용액을 25℃에서 도포 및 건조하여, 두께 5㎛의 PVA계 수지층을 형성하여 적층체를 제작하였다.
얻어진 적층체를, 텐터 연신기를 이용하여, 140℃에서 적층체의 긴 방향과 직교하는 방향으로 4.5배 공중 연신하였다(연신 처리).
이어서, 적층체를, 액체 온도 30℃의 불용화욕(물 100중량부에 대하여, 붕산을 4중량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(불용화 처리).
이어서, 적층체를 30℃의 염색 용액(물 100중량부에 대하여, 요오드화 칼륨 12.0중량부, 및 고체 요오드 1.0중량부를 첨가한 수용액)에 6초간 침지시켜 염색하였다(염색 처리).
이어서, 액체 온도 60℃의 가교욕(물 100중량부에 대하여, 요오드화 칼륨을 3중량부 배합하고, 붕산을 3중량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액)에 35초간 침지시켰다(가교 처리).
그 후, 적층체를 액체 온도 25℃의 세정욕(물 100중량부에 대하여, 요오드화 칼륨 4중량부를 배합하여 얻어진 수용액)에 10초간 침지시켰다(세정 처리).
그 후, 60℃의 오븐에서 60초간 건조시켜, 두께 1.2㎛의 PVA계 수지층(편광자)을 포함하는 적층체 1을 얻었다.
얻어진 적층체 1의 편광자 측의 면에, 상기 자외선 경화형 접착제를 경화 후의 두께가 1㎛가 되도록 도포하고, 해당 도포면에 락톤환 구조를 갖는 (메트)아크릴 수지 필름 A(두께 40㎛)의 코로나 처리를 실시한 면을 첩합하고, 자외선 경화형 접착제를 경화시켰다. 그 후, 적층체로부터 PET 필름을 박리하여 편보호 편광자 적층체 1(보호층(40㎛)/접착제층(1㎛)/편광자(1.2㎛))을 얻었다.
[제조예 3] 편광자 2의 제작
기재로서, 장척상이며, 흡수율 0.75%, Tg 75℃의 비정질의 이소프탈산 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트(IPA 공중합 PET) 필름(두께: 100㎛)을 이용하였다. 기재의 편면에 코로나 처리를 실시하고, 이 코로나 처리면에, 폴리비닐알코올(중합도 4200, 비누화도 99.2몰%) 및 아세토아세틸 변성 PVA(중합도 1200, 아세토아세틸 변성도 4.6%, 비누화도 99.0몰% 이상, 니혼 고세이 가가쿠 고교사 제조, 상품명: 고세파이머 Z200)를 9:1의 비로 포함하는 수용액을 25℃에서 도포 및 건조하여, 두께 13㎛의 PVA계 수지층을 형성하여, 적층체를 제작하였다.
얻어진 적층체를, 130℃의 오븐 내에서 원주 속도가 상이한 롤 사이에서 종방향(긴 방향)으로 2.4배로 자유단 1축 연신하였다(공중 보조 연신).
이어서, 적층체를, 액체 온도 40℃의 불용화욕(물 100중량부에 대하여, 붕산을 4중량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(불용화 처리).
이어서, 적층체를 30℃의 염색 용액(물 100중량부에 대하여, 요오드화 칼륨 7.0중량부, 및 고체 요오드 1.0중량부를 첨가한 수용액)에, 얻어지는 편광자의 투과율이 42% 이상이 되도록 침지시켜 염색하였다(염색 처리).
이어서, 액체 온도 40℃의 가교욕(물 100중량부에 대하여, 요오드화 칼륨을 3중량부 배합하고, 붕산을 5중량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액)에 35초간 침지시켰다(가교 처리).
그 후, 적층체를, 액체 온도 70℃의 붕산 수용액(붕산 농도: 4.0중량%)에 침지시키면서, 원주 속도가 상이한 롤 사이에서 종 방향(긴 방향)으로 총 연신 배율이 5.5배가 되도록 1축 연신을 행하였다(수중 연신).
그 후, 적층체를 액체 온도 20℃의 세정욕(물 100중량부에 대하여, 요오드화 칼륨을 4중량부 배합하여 얻어진 수용액)에 3초간 침지시켰다(세정 처리).
이어서, 60℃의 오븐에서 60초간 건조시켜, 두께 5㎛의 PVA계 수지층(편광자)을 포함하는 적층체 2를 얻었다.
얻어진 적층체 2를 이용한 것 이외에는 제조예 2와 마찬가지로 하여, 편광자 적층체 2(보호층(40㎛)/접착제층(1㎛)/편광자(5㎛))를 얻었다.
[제조예 4] 중합체 (A)-1의 조제
메타크릴산 메틸(MMA, 후지 필름 와코 쥰야쿠사 제조, 상품명: 메타크릴산 메틸 모노머) 99.0중량부, 일반식 (1)로 나타내는 단량체(일반식 (1e)의 단량체) 1.0중량부, 중합 개시제(후지 필름 와코 쥰야쿠사 제조, 상품명: 2,2'-아조비스(이소부티로니트릴)) 0.2중량부를 톨루엔 100중량부에 용해하였다. 이어서, 질소 분위기하에서 70℃로 가열하면서 5시간 중합 반응을 행하여, 중합체 (A)-1(고형분 농도: 50중량%)을 얻었다. 얻어진 중합체 (A)-1의 중량평균 분자량은 50,000이었다.
[제조예 5] 중합체 (A)-2의 조제
메타크릴산 메틸(MMA, 후지 필름 와코 쥰야쿠사 제조, 상품명: 메타크릴산 메틸 모노머) 97.0중량부, 일반식 (1)로 나타내는 단량체(일반식 (1e)의 단량체) 3.0중량부, 중합 개시제(후지 필름 와코 쥰야쿠사 제조, 상품명: 2,2'-아조비스(이소부티로니트릴)) 0.2중량부를 톨루엔 200중량부에 용해하였다. 이어서, 질소 분위기하에서 70℃로 가열하면서 5시간 중합 반응을 행하여, 중합체 (A)-2(고형분 농도: 33중량%)를 얻었다. 얻어진 중합체 (A)-2의 중량평균 분자량은 85,000이었다.
[제조예 6] 중합체 (A)-3의 조제
일반식 (1)로 나타내는 단량체(일반식 (1e)의 단량체) 대신에, 일반식 (1b)로 나타내는 단량체를 이용한 것 이외에는 제조예 4와 마찬가지로 하여 중합체 (A)-3(고형분 농도: 50중량%)을 얻었다. 얻어진 중합체 (A)-3의 중량평균 분자량은 50,000이었다.
[제조예 7] 중합체 (A)-4의 조제
일반식 (1)로 나타내는 단량체(일반식 (1e)의 단량체) 대신에, 일반식 (1c)로 나타내는 단량체를 이용한 것 이외에는 제조예 4와 마찬가지로 하여 중합체 (A)-4(고형분 농도: 50중량%)를 얻었다. 얻어진 중합체 (A)-4의 중량평균 분자량은 50,000이었다.
[제조예 8] 중합체 (A)-5의 조제
일반식 (1)로 나타내는 단량체(일반식 (1e)의 단량체) 대신에, 일반식 (1d)로 나타내는 단량체를 이용한 것 이외에는 제조예 4와 마찬가지로 하여 중합체 (A)-5(고형분 농도: 50중량%)를 얻었다. 얻어진 중합체 (A)-5의 중량평균 분자량은 50,000이었다.
[제조예 9] 중합체 (A)-6의 조제
일반식 (1)로 나타내는 단량체(일반식 (1e)의 단량체) 대신에, 일반식 (1a)로 나타내는 단량체를 이용한 것 이외에는, 제조예 4와 마찬가지로 하여 중합체 (A)-6(고형분 농도: 50중량%)을 얻었다. 얻어진 중합체 (A)-6의 중량평균 분자량은 50,000이었다.
[제조예 10] 중합체 (A)-7의 조제
일반식 (1)로 나타내는 단량체(일반식 (1e)의 단량체) 대신에, 일반식 (1a)로 나타내는 단량체를 이용한 것 이외에는, 제조예 5와 마찬가지로 하여 중합체 (A)-7(고형분 농도: 33중량%)을 얻었다. 얻어진 중합체 (A)-7의 중량평균 분자량은 85,000이었다.
[제조예 11] 아크릴계 점착제의 조제
교반 날개, 온도계, 질소 가스 도입관, 냉각기를 구비한 4구 플라스크에 부틸아크릴레이트 99중량부, 및 아크릴산 4-히드록시부틸 1중량부를 함유하는 모노머 혼합물을 도입하였다. 또한, 상기 모노머 혼합물(고형분) 100중량부에 대하여, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.1중량부를 초산에틸과 함께 도입하고, 부드럽게 교반하면서 질소 가스를 도입하여 질소 치환한 후, 플라스크 내의 액체 온도를 60℃ 부근으로 유지하여 7시간 중합 반응을 행하였다. 그 후, 얻어진 반응액에, 초산에틸을 첨가하여 고형분 농도를 30%로 조정하였다. 이와 같이 하여, 중량평균 분자량 140만의 아크릴계 폴리머(베이스 폴리머)의 용액을 조제하였다.
상기 아크릴계 폴리머의 용액의 고형분 100중량부에 대하여, 가교제로서 트리메틸올프로판크실릴렌디이소시아네이트(미쓰이 가가쿠사 제조, 상품명: 타케네이트 D110N) 0.095중량부 및 디벤조일퍼옥사이드 0.3중량부, 실란 커플링제로서 오가노실란(소켄 가가쿠사 제조, 상품명: A100) 0.2중량부 및 티올기 함유 실란 커플링제(신에쓰 가가쿠 고교사 제조, 상품명: X41-1810) 0.2중량부, 및 산화 방지제(BASF사 제조, 상품명: Irganox1010) 0.3중량부를 배합하여, 아크릴계 점착제(용액)를 얻었다.
[실시예 1] 편광판 1의 제작
100중량부의 중합체 (A)-1과, 5중량부의 아비에트산 A1(아라카와 가가쿠 고교사 제조, 상품명: 파인 크리스탈 PE-590)을 혼합하여, 편광자 보호용 수지 조성물을 조제하였다. 얻어진 편광자 보호용 수지 조성물을 편광자 적층체 1의 편광자 측 표면에 건조 후의 두께가 0.7㎛가 되도록 도포하여 보호층을 형성하여, 편광판 1을 얻었다.
[실시예 2] 편광판 2의 제작
100중량부의 중합체 (A)-2와, 0.5중량부의 아비에트산 A1을 이용하여, 편광자 보호용 수지 조성물을 조제한 것, 및 건조 후의 보호층의 두께가 0.4㎛가 되도록 도포하여 보호층을 형성한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 편광판 2를 얻었다.
[실시예 3] 편광판 3의 제작
아비에트산 A1의 함유량을 3중량부로 한 것 이외에는 실시예 2와 마찬가지로 하여 편광판 3을 얻었다.
[실시예 4] 편광판 4의 제작
아비에트산 A1의 함유량을 5중량부로 한 것 이외에는 실시예 2와 마찬가지로 하여 편광판 4를 얻었다.
[실시예 5] 편광판 5의 제작
아비에트산 A1의 함유량을 10중량부로 한 것 이외에는 실시예 2와 마찬가지로 하여 편광판 5를 얻었다.
[실시예 6] 편광판 6의 제작
편광자 적층체 1 대신에, 편광자 적층체 2를 이용한 것 이외에는 실시예 4와 마찬가지로 하여 편광판 6을 얻었다.
[실시예 7] 편광판 7의 제작
아비에트산 A1 대신에, 아비에트산 A2(아라카와 가가쿠 고교사 제조, 상품명: 파인 크리스탈 KE-311)를 이용한 것 이외에는 실시예 6과 마찬가지로 하여 편광판 7을 얻었다.
[실시예 8] 편광판 8의 제작
중합체 (A)-1 대신에, 중합체 (A)-3을 이용한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 편광판 8을 얻었다.
[실시예 9] 편광판 9의 제작
중합체 (A)-1 대신에, 중합체 (A)-4를 이용한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 편광판 9를 얻었다.
[실시예 10] 편광판 10의 제작
중합체 (A)-1 대신에, 중합체 (A)-5를 이용한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 편광판 10을 얻었다.
[실시예 11] 편광판 11의 제작
중합체 (A)-1 대신에, 중합체 (A)-6을 이용한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 편광판 11을 얻었다.
[실시예 12] 편광판 12의 제작
중합체 (A)-1 대신에, 중합체 (A)-7을 이용한 것 이외에는 실시예 6과 마찬가지로 하여 편광판 12를 얻었다.
(비교예 1) 편광판 C1의 제작
아비에트산 A1을 첨가하지 않았던 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 편광판 C1을 얻었다.
(비교예 2) 편광판 C2의 제작
아비에트산 A1을 첨가하지 않았던 것 이외에는 실시예 2와 마찬가지로 하여 편광판 C2를 얻었다.
(비교예 3) 편광판 C3의 제작
아비에트산 A1을 첨가하지 않았던 것 이외에는 실시예 6과 마찬가지로 하여 편광판 C3을 얻었다.
(비교예 4) 편광판 C4의 제작
아비에트산 A1의 함유량을 30중량부로 한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 편광판 C4를 얻었다.
[평가]
(점착제층 부착 편광판의 제작)
제조예 11에서 얻어진 아크릴계 점착제 조성물을, 실리콘계 박리제로 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(세퍼레이터)의 표면에 파운틴 코터로 균일하게 도공하고, 이어서 155℃의 공기 순환식 항온 오븐에서 2분간 건조하여, 세퍼레이터 표면에 두께 20㎛의 점착제층을 형성하였다. 이어서, 이 점착제층을 실시예 또는 비교예에서 얻어진 편광판의 편광자 보호층 표면 측에 전사하여, 점착제층 부착 편광판을 얻었다. 얻어진 점착제층 부착 편광판을 이용하여 이하의 평가를 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
1. 단부 색빠짐
상기 점착제층 부착 편광판(보호 필름/접착제/편광자/보호층/점착제/세퍼레이터)을 (50㎜×50㎜)로 절취하였다. 이어서, 세퍼레이터를 박리하고, 점착제층을 개재하여 무알칼리 유리에 첩합하였다. 이어서, 온도 60도, 습도 90%의 조건에 72시간 두었다. 그 후, 편광자의 색빠짐의 유무를 광학 현미경(올림푸스(Olympus)사 제조, 제품명: MX61L)으로 확인하였다. 편광자의 단부로부터의 색빠짐의 길이를 광학 현미경의 배율 10배로 촬영한 화상으로부터 색빠짐양을 측정하였다. 색빠짐 부분 중, 길이가 가장 긴 것을 편광자의 색빠짐 부분의 길이(㎛)로 하였다.
판정(판정 1)은 판정 대상(보호층이 아비에트산 및 그의 유도체를 포함하지 않는 것만이 상이한 비교예)의 색빠짐과 비교하여, 색빠짐 부분의 길이의 증가량이 20% 미만인 것을 양호로 하고, 20%를 초과하는 것을 불가로 하였다.
2. 투묘력
상기 점착제층 부착 편광 필름을 25mm×150mm의 크기로 컷팅하고, 이것의 점착제층면과, 50㎛ 두께의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름 표면에 인듐-산화 주석을 증착시킨 증착 필름의 증착면이 접하도록 첩합하였다. 그 후, PET 필름의 단부를 손으로 박리하고, 점착제층이 PET 필름 측에 부착되어 있는 것을 확인한 후, 인장 시험기(시마즈 제작소 제조, 상품명: AG-1)를 이용하여 180°방향으로 300mm/분의 속도로 박리하였을 때의 응력(N/25mm)을 측정(25℃)하였다. 또한, 투묘력은 편광판에 점착제를 도포하고, 점착제층을 형성 후 24시간 이내에 측정하였다. 판정(판정 2)은 응력이 6N/25mm 이상인 것을 양호로 하고, 6N/25mm 미만인 것을 불가로 하였다.
Figure pct00008
실시예 1~12 및 비교예 4에서 얻어진 편광판의 보호층에서는, 보호층 표면으로부터 깊이 20nm 이하의 범위에 아비에트산 및 그의 유도체 (B)가 편석하고 있었다. 실시예 1~12에서 얻어진 편광판은 보호층의 두께가 얇은 경우이더라도 편광자의 단부로부터의 색빠짐이 방지되어 있었다. 또한, 보호층의 점착제층에 대한 투묘력도 우수한 것이었다.
본 발명의 편광자 보호용 수지 조성물은 편광자와의 밀착성이 우수하고, 박형이더라도, 단부의 색빠짐이 방지된 편광판을 제공할 수 있다. 본 발명의 편광판은 액정 텔레비전, 액정 디스플레이, 휴대 전화, 디지털 카메라, 비디오 카메라, 휴대용 게임기, 카 내비게이션, 복사기, 프린터, 팩스, 시계, 전자 레인지 등의 액정 패널에 폭넓게 적용시킬 수 있다.
10 편광자
20 보호층
100 편광판

Claims (8)

  1. (A) 50중량부를 초과하는 아크릴계 단량체와, 0중량부 초과 50중량부 미만의 식 (1)로 나타내는 단량체를 중합하는 것에 의해 얻어지는 중합체와,
    (B) 아비에트산 및 그의 유도체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종
    을 포함하는 편광자 보호용 수지 조성물로서,
    상기 (A) 100중량부에 대하여, (B)를 0.3중량부~15중량부 포함하는, 편광자 보호용 수지 조성물:
    Figure pct00009

    식 중, X는 비닐기, (메트)아크릴기, 스티릴기, (메트)아크릴아미드기, 비닐에테르기, 에폭시기, 옥세탄기, 히드록실기, 아미노기, 알데히드기 및 카복실기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 반응성기를 포함하는 관능기를 나타내고, R1 및 R2는 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 가질 수 있는 지방족 탄화수소기, 치환기를 가질 수 있는 아릴기 또는 치환기를 가질 수 있는 헤테로환기를 나타내며, R1 및 R2는 서로 연결하여 환을 형성할 수 있다.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 아비에트산 및 그의 유도체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종 (B)가 디히드록시아비에트산 및 테트라히드로아비에트산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인, 편광자 보호용 수지 조성물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 중합체 (A)의 중량평균 분자량이 10,000 이상인, 편광자 보호용 수지 조성물.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 반응성기가 (메트)아크릴기 및 (메트)아크릴아미드기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인, 편광자 보호용 수지 조성물.
  5. 편광자와,
    상기 편광자의 적어도 한쪽 면에, 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 편광자 보호용 수지 조성물로부터 형성된 보호층
    을 구비하는, 편광판.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 보호층의 두께가 0.1㎛~8㎛인, 편광판.
  7. 제5항 또는 제6항에 있어서,
    상기 편광자의 요오드 함유량이 2중량%~25중량%인, 편광판.
  8. 제5항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 편광자의 두께가 8㎛ 이하인 편광판.
KR1020227005783A 2019-08-29 2020-07-03 편광자 보호용 수지 조성물 및 해당 조성물로부터 형성된 보호층을 구비하는 편광판 KR20220054799A (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2019-156777 2019-08-29
JP2019156777 2019-08-29
PCT/JP2020/026223 WO2021039122A1 (ja) 2019-08-29 2020-07-03 偏光子保護用樹脂組成物および該組成物から形成された保護層を備える偏光板

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20220054799A true KR20220054799A (ko) 2022-05-03

Family

ID=74685833

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020227005783A KR20220054799A (ko) 2019-08-29 2020-07-03 편광자 보호용 수지 조성물 및 해당 조성물로부터 형성된 보호층을 구비하는 편광판

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP7480155B2 (ko)
KR (1) KR20220054799A (ko)
CN (1) CN114302924A (ko)
TW (1) TW202108708A (ko)
WO (1) WO2021039122A1 (ko)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5048120B2 (ja) 2010-03-31 2012-10-17 住友化学株式会社 偏光性積層フィルムの製造方法、および偏光板の製造方法
JP2013156391A (ja) 2012-01-30 2013-08-15 Konica Minolta Inc ロール状円偏光板の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス表示装置及び横電界型スイッチングモード型液晶表示装置
JP5454857B2 (ja) 2008-02-04 2014-03-26 住友化学株式会社 偏光板
JP2016004205A (ja) 2014-06-18 2016-01-12 チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド 偏光板およびこれを用いた表示装置
JP2016085369A (ja) 2014-10-27 2016-05-19 三星エスディアイ株式会社Ｓａｍｓｕｎｇ ＳＤＩ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． 偏光板及びこれを備える画像表示装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101834562B1 (ko) * 2012-12-11 2018-04-13 동우 화인켐 주식회사 편광자 제조용 가교제 및 이를 이용한 편광자의 제조방법
KR20150001276A (ko) * 2013-06-27 2015-01-06 동우 화인켐 주식회사 편광자의 제조방법 및 편광자
TW201520043A (zh) * 2013-10-09 2015-06-01 富士軟片股份有限公司 偏光板、影像顯示裝置
KR102041878B1 (ko) * 2013-11-06 2019-11-07 동우 화인켐 주식회사 편광자의 제조방법
JP6186011B2 (ja) * 2014-01-23 2017-08-23 富士フイルム株式会社 偏光板および画像表示装置
EP3201292B1 (en) * 2014-09-30 2018-08-01 Transitions Optical, Inc. Ultraviolet light absorbers
KR102121279B1 (ko) * 2014-11-06 2020-06-10 동우 화인켐 주식회사 편광자의 제조방법
JP6412807B2 (ja) * 2015-01-19 2018-10-24 富士フイルム株式会社 偏光板及び液晶表示装置
JP2016169297A (ja) * 2015-03-12 2016-09-23 日東電工株式会社 架橋剤および硬化性樹脂組成物、偏光フィルムおよびその製造方法、光学フィルムならびに画像表示装置
JP6353391B2 (ja) * 2015-03-30 2018-07-04 富士フイルム株式会社 偏光板および表示装置
WO2018003664A1 (ja) * 2016-06-27 2018-01-04 富士フイルム株式会社 機能性膜、偏光板、及び表示装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5454857B2 (ja) 2008-02-04 2014-03-26 住友化学株式会社 偏光板
JP5048120B2 (ja) 2010-03-31 2012-10-17 住友化学株式会社 偏光性積層フィルムの製造方法、および偏光板の製造方法
JP2013156391A (ja) 2012-01-30 2013-08-15 Konica Minolta Inc ロール状円偏光板の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス表示装置及び横電界型スイッチングモード型液晶表示装置
JP2016004205A (ja) 2014-06-18 2016-01-12 チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド 偏光板およびこれを用いた表示装置
JP2016085369A (ja) 2014-10-27 2016-05-19 三星エスディアイ株式会社Ｓａｍｓｕｎｇ ＳＤＩ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． 偏光板及びこれを備える画像表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2021039122A1 (ko) 2021-03-04
TW202108708A (zh) 2021-03-01
JP7480155B2 (ja) 2024-05-09
WO2021039122A1 (ja) 2021-03-04
CN114302924A (zh) 2022-04-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101883795B1 (ko) 편광 필름의 제조 방법
CN105467492B (zh) 偏振板
JP7348986B2 (ja) 偏光子保護用樹脂組成物および該組成物から形成された保護層を備える偏光板
KR20180123577A (ko) 편광 필름, 점착제층 형성 편광 필름, 및 화상 표시 장치
JP6254891B2 (ja) 偏光板の製造方法
KR102010125B1 (ko) 편광자 보호 필름, 그 제조 방법, 편광판, 광학 필름 및 화상 표시 장치
KR20220075221A (ko) 위상차층 및 점착제층 구비 편광판 및 그것을 사용한 유기 일렉트로루미네센스 표시 장치
KR102093814B1 (ko) 점착제층 부착 편보호 편광 필름의 제조 방법
WO2022097594A1 (ja) 偏光板およびそれを用いた画像表示装置
JP7480155B2 (ja) 偏光子保護用樹脂組成物および該組成物から形成された保護層を備える偏光板
CN107924016B (zh) 单侧保护偏振膜、带粘合剂层的偏振膜及图像显示装置
WO2021039123A1 (ja) 偏光子保護用樹脂組成物および該組成物から形成された保護層を備える偏光板
WO2021084979A1 (ja) 偏光子保護用樹脂組成物および該組成物から形成された保護層を備える偏光板
KR20190064648A (ko) 코팅층이 형성된 편광판의 제조 방법
KR102579020B1 (ko) 편광 필름, 점착제층 부착 편광 필름, 및 화상 표시 장치
TWI603109B (zh) Polarizing film manufacturing method
KR20190082668A (ko) 편광판 및 이를 포함하는 화상 표시 장치