KR20220012161A - 노광 장치 - Google Patents

노광 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20220012161A
KR20220012161A KR1020210022379A KR20210022379A KR20220012161A KR 20220012161 A KR20220012161 A KR 20220012161A KR 1020210022379 A KR1020210022379 A KR 1020210022379A KR 20210022379 A KR20210022379 A KR 20210022379A KR 20220012161 A KR20220012161 A KR 20220012161A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
conveyor belt
exposure
belt
guide
Prior art date
Application number
KR1020210022379A
Other languages
English (en)
Inventor
사토루 미도리카와
Original Assignee
가부시키가이샤 오크세이사쿠쇼
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시키가이샤 오크세이사쿠쇼 filed Critical 가부시키가이샤 오크세이사쿠쇼
Publication of KR20220012161A publication Critical patent/KR20220012161A/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70775—Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65H—HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL, e.g. SHEETS, WEBS, CABLES
    • B65H20/00—Advancing webs
    • B65H20/10—Advancing webs by a feed band against which web is held by fluid pressure, e.g. suction or air blast
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70283—Mask effects on the imaging process
    • G03F7/70291—Addressable masks, e.g. spatial light modulators [SLMs], digital micro-mirror devices [DMDs] or liquid crystal display [LCD] patterning devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65H—HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL, e.g. SHEETS, WEBS, CABLES
    • B65H23/00—Registering, tensioning, smoothing or guiding webs
    • B65H23/02—Registering, tensioning, smoothing or guiding webs transversely
    • B65H23/032—Controlling transverse register of web
    • B65H23/0322—Controlling transverse register of web by acting on edge regions of the web
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65H—HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL, e.g. SHEETS, WEBS, CABLES
    • B65H2406/00—Means using fluid
    • B65H2406/30—Suction means
    • B65H2406/32—Suction belts
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65H—HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL, e.g. SHEETS, WEBS, CABLES
    • B65H2701/00—Handled material; Storage means
    • B65H2701/10—Handled articles or webs
    • B65H2701/19—Specific article or web

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Electronic Switches (AREA)
  • Magnetic Resonance Imaging Apparatus (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Abstract

[과제] 노광 유닛과 기판의 상대 이동에 관한 직선성을 확보하여 노광 시의 오차를 감소시킨다.
[해결수단] 기판을 반송하는 컨베이어 벨트와, 컨베이어 벨트의 상면에 대해서 기판을 밀착시키는 흡착 수단과, 기판을 노광하는 노광 유닛과, 컨베이어 벨트의 반송 방향과 직교하는 방향의 변위를 억제하는 가이드부를 갖춘 노광 장치이다.

Description

노광 장치{EXPOSURE DEVICE}
본 발명은, PCB나 LCD 패널 등의 기판의 노광(露光) 공정에서 이용되는 다이렉트 노광 장치에 적용할 수 있는 노광 장치에 관한 것이다.
프린트 배선판, 반도체 웨이퍼, LCD 유리 기판 등의 기판을 제조하는 포토리소그래피(photolithography) 공정에서, 포토마스크(photomask)를 이용하지 않는 다이렉트 노광 장치(마스크리스 노광 장치)가 알려져 있다. 이러한 다이렉트 노광 방식에 의하면, 포토마스크가 불필요하게 되기 때문에, 코스트적으로 유리하며, 또, 고정밀도 노광이 가능하다고 여겨지고 있다. 다이렉트 노광 장치에서는, 기판과 노광 유닛을 상대 이동시키면서 노광함으로써, 광변조소자(DMD(디지털·마이크로미러·디바이스) 등)의 투영 상(像) 보다 넓은 범위의 노광을 가능하게 하고 있다.
상대 이동 수단에 대해서는, 직동(直動) 가이드를 이용해 장척(長尺) 기판을 홀딩(保持, holding)하는 노광 스테이지를 직선 이동시키는 기구가 일반적이다. 노광 스테이지 보다 넓은(반송 방향으로 긴) 범위에 패턴을 노광하는 경우에는, 좁은 범위의 패턴을 이어 맞추어 실시하도록 한다(예를 들면, 특허문헌 1 참조). 또, 넓은 범위에 패턴을 연속적으로 노광 가능한 노광 장치로서, 벨트 컨베이어에 의해 장척 기판을 반송(搬送)하는 다이렉트 노광 장치가 제안되고 있다(예를 들면, 특허문헌 2 참조).
[특허문헌 1] 일본 특허공개 2016-224301호 공보 [특허문헌 2] 일본 특허공개 2006-098720호 공보
특허문헌 1에 기재의 노광 장치는, 패턴의 이어 맞추는 부분에서 위치 편차가 생기기 쉽고, 또, 노광 스테이지의 왕복 이동을 위해서 대기 시간이 발생하여, 생산성이 저하한다. 한편, 특허문헌 2의 노광 장치에서는, 벨트의 사행(蛇行, meandering)한 양이 그대로 패턴의 위치나 형상의 오차로서 나타난다. 벨트 컨베이어에 의한 기판의 이동에는 50㎛ 정도의 불규칙한 사행이 있으므로, 그 만큼 노광 위치에 오차가 생긴다.
따라서, 본 발명은, 벨트 컨베이어에 의해 거리의 제한없이 기판에 패턴을 노광하고, 또한, 기판과 노광부와의 상대 이동의 직선성을 확보 가능한 노광 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은, 기판을 반송하는 컨베이어 벨트와, 컨베이어 벨트의 상면(上面)에 대해서 기판을 밀착시키는 흡착(吸着) 수단과, 기판을 노광하는 노광 유닛과, 컨베이어 벨트의 반송 방향과 직교하는 방향의 변위(變位)를 억제하는 가이드부를 갖춘 노광 장치이다.
또, 본 발명은, 기판을 반송하는 컨베이어 벨트와, 컨베이어 벨트의 상면에 대해서 기판을 밀착시키는 흡착 수단과, 기판을 노광하는 노광 유닛과, 컨베이어 벨트의 적어도 일측면 근방과 접합된 가이드 슬라이더와, 컨베이어 벨트의 일측면의 근방에 설치되어 컨베이어 벨트의 일측면이 형성하는 형상을 따라서 가이드 슬라이더를 안내하는 가이드부를 갖춘 노광 장치이다.
본 발명의 적어도 하나의 실시 형태에 의하면, 벨트 컨베이어에 의해 반송될 때의 기판과 노광부와의 상대 이동의 직선성을 확보할 수 있다. 덧붙여, 여기에 기재된 효과는 반드시 한정되는 것이 아니며, 본 발명 중에 기재된 어느 효과여도 무방하다. 또, 예시된 효과에 의해 본 발명의 내용이 한정되어 해석되는 것은 아니다.
[도 1] 도 1은, 본 발명의 일 실시 형태의 전체의 개략적 구성을 도시한 정면도이다.
[도 2] 도 2는, 본 발명의 일 실시 형태의 일부의 확대 평면도이다.
이하, 본 발명의 실시 형태 등에 대해 도면을 참조하면서 설명한다. 덧붙여, 이하에 설명하는 실시 형태 등은 본 발명의 바람직한 구체 예이며, 본 발명의 내용이 이러한 실시 형태 등으로 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 실시의 형태에 따른 다이렉트 노광 장치(1)는, 도 1에 도시한 바와 같이, 노광 수단으로서의 노광 유닛(10)과, 가요성(可撓性) 기록 매체인 대상(帶狀)의 장척 기판(예를 들면, 플렉서블 프린트 배선 기판)(W)을 반송하는 벨트 컨베이어 유닛(20)에 의해 구성되어 있다. 일 실시 형태는, 롤투롤(Roll to Roll) 방식의 노광 장치이다.
장척 기판(W)은 포토레지스트 등의 감광 재료가 도포된 동장적층판(Copper Clad laminated) 등에 의한 시트 형상의 기판이며, 수십~수백 미터의 길이를 가진다. 노광 후에 현상이나 에칭, 재단 등의 공정을 거침으로써, 예를 들면, 플렉서블 프린트 배선 기판의 기재가 된다. 장척 기판(W)의 이동 방향(반송 방향(M))을 X방향, 장척 기판(W)과 직교하는 방향(두께 방향)을 Z방향, X방향 및 Z방향과 직교하는 방향을 Y방향으로 정의한다.
노광 유닛(10)은, 복수의 노광 헤드(11)를 갖추고, 장척 기판(W)으로부터 소정 거리 만큼 연직 상방으로 떨어진 장소에 규칙적으로 배치되어 있다. 각 노광 헤드에 대해 광원 및 조명 광학계가 배치되어 있고, 광원으로부터 방사된 광은, 각각 대응하는 조명 광학계를 통해 대응하는 노광 헤드(11)에 유도된다. 각 노광 헤드는, 복수의 마이크로미러를 2차원 배열시킨 DMD(Digital　Micro-mirror　Device)와, DMD의 상(像)을 장척 기판 위에 결상(結像)하는 결상 광학계를 갖추고 있다.
벨트 컨베이어 유닛(20)은, 도면을 향해 볼 때 좌측에서 우측을 향하는 방향(M)으로 장척 기판(W)을 반송하기 위해서 설치되어 있다. 컨베이어 벨트(21)는 통기성이 있는 구조의 금속 벨트, 예를 들면, 미소(微小)한 관통구멍이 다수 형성되어 있는 메쉬 형상의 스테인리스 벨트이다. 또, 컨베이어 벨트(21)는, 신장(stretching)이 어렵고 발진성(dust-raising)이 낮은 금속 벨트(스테인리스 벨트)인 것이 바람직하다.
컨베이어 벨트(21)의 상면(上面)에 장척 기판(W)이 재치(載置)되고, 파선으로 나타낸 기판 흡착 테이블(23)에 의해 컨베이어 벨트(21)에 대해서 장척 기판(W)이 밀착된다. 즉, 기판 흡착 테이블(23)에 의해 컨베이어 벨트(21)의 관통구멍을 통해서 흡기(吸氣)가 이루어져, 장척 기판(W)이 컨베이어 벨트(21)의 상면에 밀착된다. 컨베이어 벨트(21)는, 컨베이어 구동 롤러(22a) 및 컨베이어 구동 롤러(22b) 사이에 감겨 걸린 무단(無端) 벨트이다.
장척 기판(W)은, 기판 권출부(卷出部)(30)로부터 벨트 컨베이어 유닛(20)에 대해서 공급되고, 노광 후에 기판 권취부(40)에 의해 벨트 컨베이어 유닛(20)으로부터 권취(卷取)된다. 기판 권출부(30)에는, 미노광(未露光)의 장척 기판(W)이 감겨 있는 기판 권출롤(31)과, 버퍼로서의 기능을 가지는 댄서 롤러(dancer roller)(32)와, 기판 사행 보정 기구를 구성하는 롤러(33a 및 33b)가 포함되어 있다. 기판 권취부(40)에는, 노광 처리 후의 장척 기판(W)을 권취하는 기판 권취롤(41)과, 기판 버퍼로서의 댄서 롤러(42)가 포함되어 있다. 이 댄서 롤러들(32 및 42)이 장력 설정 수단으로서 기능함으로써, 반송 경로 상의 컨베이어 벨트(21) 상에서 장척 기판(W)이 느슨해지는 일 없이 안정적으로 반송된다.
더욱이, 노광 유닛(10)의 상류측에 얼라이먼트 카메라(50)가 배치되고, 기판 권취부(40)에 교정 스케일 유닛(51)이 배치되어 있다. 얼라이먼트 카메라(50)는, 장척 기판(W)의 단부(端部) 또는 마크를 검출해, 장척 기판(W)과 노광 유닛(10)의 상대 위치 편차량을 검출하여, 노광 유닛(10)에 의한 노광 처리를 보정하도록 한다. 교정 스케일 유닛(51)은, 노광량을 적정하게 하기 위해서 설치되어 있다. 장척 기판(W)은 복수의 지지 롤러에 의해 유지되지만, 얼라이먼트 카메라(50)와 노광 헤드(11)의 부근에서는, 벨트 컨베이어 유닛(20)에 의해 지지된다.
이와 같이, 장척 기판(W)은, 컨베이어 벨트(21)에 흡착된 상태를 유지하여, 일정한 반송 방향으로 연속해서 반송된다. 컨베이어 벨트(21)를 연속적으로 구동하면서 노광 처리할 수 있도록 구성되어 있으므로, 항상 노광 처리를 계속하는 것을 가능하게 하여, 생산성을 높일 수 있다. 또, 장척 기판(W)이 평면성이 높은 컨베이어 벨트(21)에 밀착되어 있으므로, 노광 유닛(10)의 노광 헤드와의 상대 위치 관계를 일정하게 유지할 수 있다.
도 2는 벨트 컨베이어 유닛(20)을 위에서 본 평면도이다. 덧붙여, 노광 헤드(11)와 얼라이먼트 카메라(50)는 벨트 컨베이어 유닛(20)에 속한 구성요소는 아니지만, 참고를 위해 기재하고 있다. 또, 도 1에서는, 환상 가이드 레일(25)을 고정하는 프레임(24)을 생략하고 있다.
컨베이어 구동 모터(DMa 및 DMb)는 컨베이어 구동 롤러(22a 및 22b)를 회전시켜, 컨베이어 벨트(21)를 이동(회전)시킨다. 컨베이어 벨트(21)의 이동량은 컨베이어 구동 모터(DMa 및 DMb)의 회전량을 검출함으로써 산출할 수 있다. 이 컨베이어 벨트(21)의 이동량은, 노광 유닛(10)이 DMD를 제어할 때의 상대 위치 정보로서 이용된다.
엣지 포지션 컨트롤러(EPC)를 갖춘 벨트 컨베이어라도, 일반적으로 Y방향(컨베이어 벨트(21)의 폭방향)으로 50㎛ 정도의 불규칙한 벨트 사행이 존재한다. 한편, 다이렉트 노광 장치는, 예를 들면, 노광 위치 정밀도(精度) ±5㎛ 이하, 선폭 변화 ±1㎛ 이하를 허용 오차로 한다. 따라서, 노광 위치 정밀도나 선폭 정밀도의 저하를 막기 위해서 컨베이어 벨트(21)의 이동의 직선성을 확보하는 가이드 기구가 필요하다.
본 발명의 일 실시 형태에서는, 컨베이어 벨트(21)의 일측면의 근방에 프레임(24)이 설치되고, 프레임(24)에 대해서, 컨베이어 벨트(21)의 궤도에 따른 형상의 환상 가이드 레일(25)이 장착되어 있다. 즉, 환상 가이드 레일(25)은, 컨베이어 벨트(21)의 일측면이 형성하는 환상(環狀)의 형상과 동일 또는 상사형(相似形)으로 되어 있다. 환상 가이드 레일(25)에 대해서 가이드부로서의 금속제의 가이드 슬라이더(S)가 슬라이드 자재로 장착되어 있다. 복수의 가이드 슬라이더(S)는, 예를 들면, 볼베어링(Ball Bearing)에 의한 직동 축수(軸受)를 통해 금속제의 환상 가이드 레일(25)을 축으로 하여 장착되어 있다.
컨베이어 벨트(21)의 장척 기판(W)이 재치되는 영역 외인 측면 근방부와 가이드 슬라이더(S)가 접합부로서의 벨트 접합 쇠장식(C)에 의해 결합된다. 벨트 접합 쇠장식(C)은, 가이드 슬라이더(S)와 일체 구조여도 무방하고, 별도 부품이어도 무방하다. 따라서, 컨베이어 벨트(21)는 Y방향의 변위(사행)가 규제되는 한편, 환상 가이드 레일(25)을 따라서 X방향(및 Z방향)으로는, 이동 자재로 된다.
벨트 접합 쇠장식(C)은 가이드 슬라이더(S)로부터 돌출한 돌기 부분을 가지고, 컨베이어 벨트(21)에 설치되어 있는 통기구에 돌기 부분이 감합(嵌合)(계지(係止))됨으로써, 컨베이어 벨트(21)와 가이드 슬라이더(S)를 접합하고 있다. 이러한 구조로 하면, 컨베이어 벨트(21)와 가이드 슬라이더(S)의 접합 상태를 해제하는 것이 용이하게 되고, 컨베이어 벨트(21)의 소모에 따른 교환 작업이 용이해진다. 덧붙여, 감합을 대신하여 접착이나 용접, 볼트에 의한 체결(締結) 등으로 컨베이어 벨트(21)와 가이드 슬라이더(S)를 접합하는 것도 가능하다.
환상 가이드 레일(25)은, 적어도 도 1 중의 D구간(컨베이어 구동 롤러(22a 및 22b) 사이에서, 장척 기판(W)이 컨베이어 벨트(21)의 상면에 밀착되는 구간)에서는, 가이드 슬라이더(S)의 베어링이 여압(pressurization)되는 구조로 되어 있어, 컨베이어 벨트를 정밀도(精度) 좋게 직선 이동시키도록 이루어져 있다. D구간 이외에서는, 가이드 슬라이더(S)가 환상 가이드 레일(25)로부터 탈락하지 않고 홀딩할 수 있으면 무방하고, 여압을 부여할 필요는 없다.
상술한 본 발명의 일 실시 형태에 의하면, 장척 기판(W)이 컨베이어 벨트(21)의 상면에 밀착되는 구간(D)에서, 장척 기판(W)과 노광 헤드(11)의 상대 이동의 직선성을 확보할 수 있어, 노광 시의 오차를 작은 것으로 할 수 있다. 덧붙여, 환상 가이드 레일을 컨베이어 벨트(21)의 양측면의 근방에 설치해, 컨베이어 벨트(21)의 양단을 가이드 하도록 해도 무방하다.
본 발명의 노광 장치는, 무제한 길이(長)의 패턴 노광을 실시하는 것이 가능하다. 무제한 길이는, 공급하는 기판의 길이 이외의 요인으로부터 제한되어질 수 없는 길이이고, 예를 들면, 노광 장치는 6m에 걸쳐 패턴을 묘화(drawing)한다. 그 때에는, 노광 장치는 이하의 스텝으로 노광 동작을 실시한다.
스텝 1: 얼라이먼트 카메라(50)가, 장척 기판(W)의 단부 또는 마크를 검출해, 장척 기판(W)과 노광 유닛(10)의 상대 위치 편차량을 검출한다. 기판 단부 또는 마크의 검출은, 장척 기판(W)을 정지시킨 상태에서 실시해도 무방하고, 컨베이어 벨트(21)를 주회(周回)시켜 장척 기판(W)을 반송 방향(M)으로 이동시키면서 검출해도 무방하다.
스텝 2: 기판(W)과 노광 유닛(10)의 상대 위치 편차량에 근거하여, 묘화 좌표의 보정을 실시한다. 동시에, 기판에 맞춰서 묘화 패턴의 스케일링(scaling)을 실시한다.
스텝 3: 기판 흡착 테이블(23)을 작동시키면서 컨베이어 벨트(21)를 주회시켜 장척 기판(W)을 반송 방향(M)으로 이동시키고, 컨베이어 벨트(21)의 이동에 따라 노광 유닛(10)의 DMD에 묘화 패턴 데이터를 전송하여 순차 변조시킨다. 노광 유닛(10)의 광원에서 나온 광이 DMD에 의해 변조되어, 노광 헤드(11)의 출사단으로부터 장척 기판(W)에 투영됨으로써, 장척 기판(W)의 포토레지스트에 대해서 패턴 노광을 실시한다. 컨베이어 벨트(21)의 주회에 의해 장척 기판을 이동시키므로, 무제한 길이의 패턴 노광이 가능하다.
무제한 길이의 패턴 노광 동작은, 묘화 데이터의 처리 시간의 확보를 위해서, 도중에 일시 정지하도록 해도 무방하다. 또, 무제한 길이의 패턴 노광을 실시하는 도중에, 얼라이먼트 카메라(50)가 도중에 설치된 복수의 마크의 위치를 확인하도록 해도 무방하다. 혹은, 노광 중에는 얼라이먼트 카메라(50)가 항상 기판 단면의 위치를 확인하도록 해도 무방하다.
이상, 본 발명의 실시 형태에 대해 구체적으로 설명했지만, 상술의 각 실시 형태로 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상에 근거한 각종 변형이 가능하다. 또, 변형의 양태는, 임의로 선택된 하나 또는 복수를 적당하게 조합할 수도 있다. 또, 상술의 실시 형태의 구성, 방법, 공정, 형상, 재료 및 수치 등은, 본 발명의 주지를 일탈하지 않는 한 서로 조합하는 것이 가능하다.
예를 들면, 본 발명은, 마스크를 사용하는 노광 장치에 대해서도 적용할 수 있다. 또, 본 발명은, 장척 기판을 노광하는 구성에 한정하지 않고, 구형(矩形)(패널 상)으로 절분(切分)된 기판이라도, 장척 기판과 마찬가지로 컨베이어 상에 재치해 노광하는 것이 가능하다. 그 경우, 기판 권출부(30), 기판 권취부(40)의 대신에, 기판 반송기(핸들러), 스칼라 로봇 등의 반송 수단이 설치된다. 게다가, 상술한 일 실시 형태에서는, 컨베이어 벨트(21)가 무단 벨트이고, 환상 가이드 레일(25)이 환상(環狀)으로 되어 있지만, 이들의 일방 또는 양방이 롤투롤(Roll to Roll) 방식이어도 무방하다.
W: 장척 기판,
10: 노광 유닛,
20: 벨트 컨베이어 유닛,
21: 컨베이어 벨트,
23: 기판 흡착 테이블,
25: 환상 가이드 레일,
S: 가이드 슬라이더,
C: 벨트 접합 쇠장식

Claims (8)

  1. 기판을 반송하는 컨베이어 벨트와,
    상기 컨베이어 벨트의 상면에 대해서 상기 기판을 밀착시키는 흡착 수단과,
    상기 기판을 노광하는 노광 유닛과,
    상기 컨베이어 벨트의 반송 방향과 직교하는 방향의 변위를 억제하는 가이드부
    를 갖춘 노광 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 가이드부가, 컨베이어 벨트의 적어도 일측면의 근방에 설치되고,
    상기 컨베이어 벨트의 일측면 근방과 접합된 가이드 슬라이더가, 상기 가이드부에 슬라이드 자유롭게 장착된, 노광 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 기판이 장척(長尺)의 기판인, 노광 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 컨베이어 벨트가, 복수의 롤러 사이에 감겨 걸린 무단 벨트인, 노광 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 가이드부가, 상기 무단 벨트의 일측면이 형성하는 환상(環狀)의 형상과 거의 동일하게 된, 노광 장치.
  6. 제2항에 있어서,
    상기 흡착 수단은, 상기 컨베이어 벨트에 형성된 복수의 관통구멍을 통해서 상기 기판을 흡착하도록 이루어지고,
    상기 가이드 슬라이더가 가지는 돌기가 상기 관통구멍에 계지되도록 이루어진, 노광 장치.
  7. 제2항에 있어서,
    상기 가이드 슬라이더가, 베어링을 통해 상기 가이드부에 장착되고,
    상기 기판을 상기 컨베이어 벨트에 대해 밀착시키는 구간에서, 상기 베어링에 여압(pressurization)을 부여하도록 한, 노광 장치.
  8. 기판을 반송하는 컨베이어 벨트와,
    상기 컨베이어 벨트의 상면에 대해서 상기 기판을 밀착시키는 흡착 수단과,
    상기 기판을 노광하는 노광 유닛과,
    상기 컨베이어 벨트의 적어도 일측면 근방과 접합된 가이드 슬라이더와,
    상기 컨베이어 벨트의 일측면의 근방에 설치되어, 상기 컨베이어 벨트의 일측면이 형성하는 형상을 따라서 상기 가이드 슬라이더를 안내하는 가이드부
    를 갖춘 노광 장치.
KR1020210022379A 2020-07-22 2021-02-19 노광 장치 KR20220012161A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2020-124952 2020-07-22
JP2020124952A JP7446687B2 (ja) 2020-07-22 2020-07-22 ダイレクト露光装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20220012161A true KR20220012161A (ko) 2022-02-03

Family

ID=79586094

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020210022379A KR20220012161A (ko) 2020-07-22 2021-02-19 노광 장치

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP7446687B2 (ko)
KR (1) KR20220012161A (ko)
CN (1) CN113970879A (ko)
TW (1) TWI839598B (ko)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060098720A (ko) 2005-03-07 2006-09-19 엘지전자 주식회사 이동성 제한 방법
JP2016224301A (ja) 2015-06-01 2016-12-28 株式会社オーク製作所 マスクレス露光装置および露光方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03113339U (ko) * 1990-03-08 1991-11-19
JPH03116332U (ko) * 1990-03-14 1991-12-02
JP3632734B2 (ja) 1998-10-27 2005-03-23 富士ゼロックス株式会社 ベルト搬送装置及びこれを用いた画像形成装置
JP2002053239A (ja) 2000-08-04 2002-02-19 Noritsu Koki Co Ltd 搬送ベルトの蛇行防止装置
JP2006098720A (ja) 2004-09-29 2006-04-13 Fuji Photo Film Co Ltd 描画装置
JP4589198B2 (ja) * 2005-08-16 2010-12-01 富士フイルム株式会社 ワーク搬送装置とそれを備えた画像形成装置並びにワーク搬送方法
JP6456631B2 (ja) 2014-09-03 2019-01-23 理想科学工業株式会社 シート状物搬送装置及びインクジェット印刷装置
JP6818395B2 (ja) 2016-12-22 2021-01-20 株式会社オーク製作所 露光装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060098720A (ko) 2005-03-07 2006-09-19 엘지전자 주식회사 이동성 제한 방법
JP2016224301A (ja) 2015-06-01 2016-12-28 株式会社オーク製作所 マスクレス露光装置および露光方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW202205023A (zh) 2022-02-01
JP7446687B2 (ja) 2024-03-11
TWI839598B (zh) 2024-04-21
CN113970879A (zh) 2022-01-25
JP2022021416A (ja) 2022-02-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5144992B2 (ja) 露光装置
TWI503632B (zh) A conveyance method and apparatus, and an exposure method and apparatus
US8223319B2 (en) Exposure device
JP5117243B2 (ja) 露光装置
KR20120045023A (ko) 패턴형성장치, 패턴형성방법 및 디바이스 제조방법
WO2007049640A1 (ja) 露光方法及び露光装置
US10935894B2 (en) Movable body apparatus, exposure apparatus, manufacturing method of flat-panel display and device manufacturing method, and movement method of object
JP4845746B2 (ja) 搬送装置
JP5114061B2 (ja) 投影露光装置
CN107450276B (zh) 曝光装置
JPH10187937A (ja) 帯状ワークの投影露光装置
KR20220012161A (ko) 노광 장치
JP3541783B2 (ja) フィルム回路基板の周辺露光装置
WO2013065451A1 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
TWI741215B (zh) 曝光裝置
JP2004094142A (ja) 幅広露光機
JP3626163B2 (ja) 両面露光装置
JPH09274520A (ja) 帯状ワークの搬送・位置決め方法および装置
JP2891769B2 (ja) フィルム露光装置
JP7175149B2 (ja) 露光装置および露光方法
JP3653265B2 (ja) 露光装置
WO2022009456A1 (ja) 露光装置
CN110320765B (zh) 曝光装置
JP2008191404A (ja) 基板搬送装置、ステージ装置、及びパターン形成装置
KR20230078494A (ko) 노광 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal