KR20220004186A - 대기 유해 물질의 부착 억제 방법 - Google Patents
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Abstract
평균 일차 입자경 dA 가 800 ㎚ 이하인 금속 산화물 (A) 를 0.03 ㎎/㎠ 이상, 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법, 및 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서, 그 외용제가 성분 (AI) 및 성분 (BI), 성분 (BII), 또는 성분 (BIII) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BI), 성분 (BII), 또는 성분 (BIII) 의 함유량의 질량비가 각각 특정한 범위인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI) : 평균 일차 입자경 dAI 가 800 ㎚ 이하인 소수화 처리된 금속 산화물
성분 (BI) : 에스테르유
성분 (BII) : 불휘발성의 탄화수소유
성분 (BIII) : 불휘발성의 실리콘유
성분 (AI) : 평균 일차 입자경 dAI 가 800 ㎚ 이하인 소수화 처리된 금속 산화물
성분 (BI) : 에스테르유
성분 (BII) : 불휘발성의 탄화수소유
성분 (BIII) : 불휘발성의 실리콘유
Description
본 발명은 대기 유해 물질의 부착 억제 방법에 관한 것이다.
최근, 삼나무, 노송나무 등의 화분, 매연, 분진 등의 대기 오염 물질, 황사 등의 대기 중에 부유하는 유해 물질 (이하, 「대기 유해 물질」 이라고도 한다) 이, 인체에 여러 가지 건강 피해를 초래하기 때문에 문제가 되고 있다. 대기 유해 물질 중에서도, PM2.5 라고 불리는 직경 2.5 ㎛ 이하의 입자상 물질은, 그 성분이 탄소 성분, 황산염, 질산염, 암모늄염 등으로 구성되어 있고, PM2.5 나 황사는 흡입에 의해 순환기계나 호흡기계의 질환을 일으키는 것이 알려져 있다. 또, PM2.5 나 황사, 화분은, 피부에 부착 또는 침투함으로써 피부 트러블의 원인이 되는 것이 지적되고 있다. 예를 들어, Shiraiwa 외에, 네이처 케미스트리 (Nature Chemistry) 3, 291-295 (2011) (비특허문헌 1) 에는, PM2.5 가 피부에 데미지를 미치는 것에 관한 학술 보고가 있다. 그 때문에, 대기 유해 물질로부터 피부를 보호하는 화장료에 대한 요망이 강해지고 있다.
예를 들어, 국제 공개 2014/136993호 (특허문헌 1) 에는, 대기 오염 물질 등의 외적 자극으로부터 피부를 보호하는 스킨 케어 화장료로서, 특정량의 메타규산알루민산마그네슘과, 특정량의 자외선 방어제를 함유하는 스킨 케어 화장료가 기재되어 있다.
본 발명은 다음의 [1] ∼ [4] 에 관한 것이다.
[1] 평균 일차 입자경 dA 가 800 ㎚ 이하인 금속 산화물 (A) 를 0.03 ㎎/㎠ 이상, 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
[2] 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI) 및 성분 (BI) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BI) 의 함유량의 질량비 [(BI)/(AI)] 가 9 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI) : 평균 일차 입자경 dAI 가 800 ㎚ 이하인 소수화 처리된 금속 산화물
성분 (BI) : 에스테르유
[3] 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI) 및 성분 (BII) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BII) 의 함유량의 질량비 [(BII)/(AI)] 가 3.5 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI) : 평균 일차 입자경 dAI 가 800 ㎚ 이하인 소수화 처리된 금속 산화물
성분 (BII) : 불휘발성의 탄화수소유
[4] 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI) 및 성분 (BIII) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BIII) 의 함유량의 질량비 [(BIII)/(AI)] 가 0.85 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI) : 평균 일차 입자경 dAI 가 800 ㎚ 이하인 소수화 처리된 금속 산화물
성분 (BIII) : 불휘발성의 실리콘유
도 1 은, 대기 유해 물질의 부착 억제 효과의 평가 방법을 나타내는 개략도이다.
도 2 는, 실시예 1-1 ∼ 1-9 및 비교예 1-1 에 있어서의 금속 산화물 (A) 의 도포량에 대한 대기 유해 물질의 부착 억제율의 결과를 나타내는 도면이다.
도 2 는, 실시예 1-1 ∼ 1-9 및 비교예 1-1 에 있어서의 금속 산화물 (A) 의 도포량에 대한 대기 유해 물질의 부착 억제율의 결과를 나타내는 도면이다.
특허문헌 1 의 기술에서는, 메타규산알루민산마그네슘이 그 흡착능에 의해 대기 오염 물질을 흡착하여 피부에 도달시키지 않아, 산성 물질이 부착되어도 pH 완충능에 의해 중화시킬 수 있고, 이러한 외적 자극에 의한 피부 데미지를 경감시키는 것이 기재되어 있다. 또, 자외선 방어제는 피부를 자외선으로부터 유효하게 방어하는 것이 기재되어 있다. 이와 같은 기술은, 대기 오염 물질이 피부에 미치는 영향을 경감시킬 수 있지만, 대기 오염 물질의 피부에 대한 부착을 방지하는 것은 아니며, 개선의 여지가 있다. 또, 무기 분체를 외용제에 배합하는 경우, 외용제를 피부에 도포할 때에 뻑뻑함 등의 감촉의 악화가 발생하는 경우가 있다. 그 때문에, 도포시의 양호한 사용감도 요구된다.
본 발명은, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 효과적으로 억제할 수 있는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법에 관한 것이다.
또, 본 발명은, 외용제를 피부에 도포할 때에 양호한 사용감을 갖고, 또한 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 효과적으로 억제할 수 있는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법에 관한 것이다.
본 발명자들은, 특허문헌 1 에 나타내는 바와 같이 대기 오염 물질을 흡착시키는 것이 아니라, 특정한 평균 일차 입자경을 갖는 금속 산화물을 특정량 피부에 도포하여, 나노 사이즈의 요철을 피부 표면에 형성함으로써, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제할 수 있는 것에 주목하여, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법을 제공할 수 있는 것을 알아내었다.
또, 본 발명자들은, 특허문헌 1 에 나타내는 바와 같이 대기 오염 물질을 흡착시키는 것이 아니라, 평균 일차 입자경이 특정한 범위인 소수화 처리된 금속 산화물과, 에스테르유, 불휘발성의 탄화수소유 또는 불휘발성의 실리콘유를 각각 특정한 질량비로 함유하는 외용제를 피부에 도포함으로써, 도포시의 감촉을 악화시키는 일 없이, 나노 사이즈의 요철을 피부 표면에 형성하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제할 수 있는 것에 주목하여, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법을 제공할 수 있는 것을 알아내었다.
즉, 본 발명은, 다음의 [1] ∼ [4] 에 관한 것이다.
[1] 평균 일차 입자경 dA 가 800 ㎚ 이하인 금속 산화물 (A) 를 0.03 ㎎/㎠ 이상, 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법 (이하, 「제 1 발명」 이라고 한다).
[2] 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI) 및 성분 (BI) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BI) 의 함유량의 질량비 [(BI)/(AI)] 가 9 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법 (이하, 「제 2 발명」 이라고 한다).
성분 (AI) : 평균 일차 입자경 dAI 가 800 ㎚ 이하인 소수화 처리된 금속 산화물
성분 (BI) : 에스테르유
[3] 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI) 및 성분 (BII) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BII) 의 함유량의 질량비 [(BII)/(AI)] 가 3.5 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법 (이하, 「제 3 발명」 이라고 한다).
성분 (AI) : 평균 일차 입자경 dAI 가 800 ㎚ 이하인 소수화 처리된 금속 산화물
성분 (BII) : 불휘발성의 탄화수소유
[4] 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI) 및 성분 (BIII) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BIII) 의 함유량의 질량비 [(BIII)/(AI)] 가 0.85 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법 (이하, 「제 4 발명」 이라고 한다).
성분 (AI) : 평균 일차 입자경 dAI 가 800 ㎚ 이하인 소수화 처리된 금속 산화물
성분 (BIII) : 불휘발성의 실리콘유
제 1 발명의 방법에 의하면, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 효과적으로 억제할 수 있다.
또, 제 2 ∼ 제 4 발명의 방법에 의하면, 외용제를 피부에 도포할 때에 양호한 사용감을 갖고, 또한 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 효과적으로 억제할 수 있다.
본 발명에 있어서 「대기 유해 물질」 이란, 삼나무, 노송나무 등의 화분 ; 황산화물, 매진, 질소산화물 등의 매연, 분진, 자동차 배출 가스, 벤젠, 트리클로로에틸렌, 테트라클로로에틸렌 등의 유해 대기 오염 물질, 휘발성 유기 화합물 (VOC) 등을 포함하는 입자 등의 대기 오염 물질 ; 황사 등의 대기 중에 부유하는 유해 물질 (PM2.5 를 포함한다) 을 의미한다.
또, 본 발명에 있어서 「소수화 처리된 금속 산화물」 이란, 그 표면이 소수화 처리되어 이루어지는 금속 산화물을 말한다.
또한, 이하의 기재에 있어서, 본 발명에 있어서의 대기 유해 물질에 대한 부착 억제 효과를 간단히 「부착 억제 효과」 로 표기한다.
제 1 발명의 부착 억제 방법은, 대기 유해 물질, 특히 미립자상의 대기 유해 물질에 대한 부착 억제 효과가 높다. 그 이유는 확실하지 않지만, 제 1 발명에 있어서는, 평균 일차 입자경이 소정의 범위인 금속 산화물을 특정량 피부에 도포함으로써, 피부 표면에 나노 사이즈의 요철이 형성되기 때문에, 대기 유해 물질이 금속 산화물에 접촉했을 때의 접촉 면적을 저감시킬 수 있어, 대기 유해 물질의 부착을 효과적으로 억제할 수 있는 것으로 생각된다.
제 2 ∼ 제 4 발명의 부착 억제 방법은, 외용제를 피부에 도포할 때에 양호한 사용감을 갖고, 대기 유해 물질, 특히 미립자상의 대기 유해 물질에 대한 부착 억제 효과가 높다. 그 이유는 확실하지 않지만, 이하와 같이 생각된다.
제 2 ∼ 제 4 발명에 있어서는, 평균 일차 입자경이 특정한 범위이고, 또한 그 표면이 소수화 처리되어 이루어지는 금속 산화물을 피부에 도포함으로써, 피부 표면에 나노 사이즈의 요철이 형성되기 때문에, 대기 유해 물질이 금속 산화물에 접촉했을 때의 접촉 면적을 저감시킬 수 있어, 대기 유해 물질의 부착을 효과적으로 억제할 수 있는 것으로 생각된다.
또, 제 2 ∼ 제 4 발명에 사용하는 외용제는, 소수화 처리된 금속 산화물과, 유제로서, 에스테르유, 불휘발성의 탄화수소유 또는 불휘발성의 실리콘유를 각각 특정한 질량비로 함유하기 때문에, 상기의 대기 유해 물질의 부착 억제 효과를 저해하는 일 없이, 에스테르유, 불휘발성의 탄화수소유 또는 불휘발성의 실리콘유의 윤활 효과에 의해 양호한 사용감이 발현되는 것으로 생각된다. 또, 소수화 처리된 금속 산화물은, 에스테르유, 불휘발성의 탄화수소유 또는 불휘발성의 실리콘유와 함께 피부 표면 상에서 매끄럽게 퍼지기 때문에, 양호한 사용감에도 기여하는 것으로 생각된다.
[대기 유해 물질의 부착 억제 방법 : 제 1 발명]
제 1 발명의 대기 유해 물질의 부착 억제 방법은, 평균 일차 입자경 dA 가 800 ㎚ 이하인 금속 산화물 (A) 를 0.03 ㎎/㎠ 이상, 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는 방법이다.
<금속 산화물 (A)>
금속 산화물 (A) 의 평균 일차 입자경 dA 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 800 ㎚ 이하이고, 바람직하게는 500 ㎚ 이하, 보다 바람직하게는 300 ㎚ 이하, 더욱 바람직하게는 200 ㎚ 이하, 보다 더 바람직하게는 80 ㎚ 이하, 보다 더 바람직하게는 50 ㎚ 이하이고, 그리고, 범용성의 관점에서, 바람직하게는 5 ㎚ 이상, 보다 바람직하게는 10 ㎚ 이상이다. 보다 구체적으로는, 평균 일차 입자경 dA 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 범용성의 관점에서, 바람직하게는 5 ∼ 800 ㎚, 보다 바람직하게는 5 ∼ 500 ㎚, 더욱 바람직하게는 5 ∼ 300 ㎚, 보다 더 바람직하게는 5 ∼ 200 ㎚, 보다 더 바람직하게는 5 ∼ 80 ㎚, 보다 더 바람직하게는 5 ∼ 50 ㎚, 보다 더 바람직하게는 10 ∼ 50 ㎚ 이다.
제 1 발명에 있어서의 평균 일차 입자경 dA 는, 투과형 전자 현미경 (TEM) 에 의한 관찰 화상으로부터 구할 수 있다. 구체적으로는 TEM 에 의해 관찰 배율 50,000 배의 조건으로 관찰하고, 관찰 화상 중의 300 개의 일차 입자의 최대 단경을 측정하고, 그 수평균값을 산출함으로써 구해진다. 여기서, 최대 단경이란, 금속 산화물 (A) 가 판상 이외의 형상을 갖는 경우에는, 장경과 직교하는 단경 중, 최대 길이를 갖는 단경을 의미한다. 또, 금속 산화물 (A) 가 판상인 경우에는, 상기와 동일한 조건으로 관찰되는 관찰 화상 중의 300 개의 일차 입자의 두께를 측정하고, 그 수평균값을 산출함으로써 구해진다. 구체적으로는 실시예에 기재된 방법에 의해 측정된다.
금속 산화물 (A) 는, 화장료 등의 외용제에 통상 사용되는 것이면 특별히 제한은 없다. 구체적으로는, 산화티탄, 산화아연, 산화세륨, 산화알루미늄 (알루미나), 산화마그네슘, 산화칼슘, 산화지르코늄, 산화철, 산화크롬 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 자외선 방어능을 부여할 수 있는 관점에서, 바람직하게는 산화티탄, 산화아연 및 산화세륨으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상이고, 보다 바람직하게는 산화티탄 및 산화아연으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상이다.
금속 산화물 (A) 가 산화티탄인 경우, 산화티탄의 결정 구조는, 아나타제형, 루틸형, 브루카이트형 중 어느 것이어도 되지만, 범용성의 관점에서, 바람직하게는 루틸형 또는 아나타제형이다.
금속 산화물 (A) 의 형상으로는, 구상, 방추상, 판상, 침상 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 구상, 방추상, 판상이 바람직하다.
금속 산화물 (A) 가 산화티탄인 경우에는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 방추상인 것이 바람직하다.
금속 산화물 (A) 가 산화아연인 경우에는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 구상 또는 판상인 것이 바람직하다.
금속 산화물 (A) 의 존재 형태는, 상기 평균 일차 입자경 dA 가 전술한 범위를 만족시키면, 일차 입자의 형태이어도 되고, 일차 입자가 응집된 응집체 (이차 입자) 가 포함되는 형태이어도 된다.
금속 산화물 (A) 는, 그 표면을 처리하고 있지 않은 것이어도 되고, 그 표면을 처리한 것이어도 되지만, 화장료 등의 외용제에 사용할 때의 금속 산화물 (A) 의 분산성을 높여, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 그 표면을 처리한 것이 바람직하다. 표면 처리로는, 소수화 처리 및 친수화 처리를 들 수 있다.
소수화 처리로는, 실리콘 처리 ; 알킬알콕시실란 처리 ; 지방산 처리 ; 퍼플루오로알킬인산에스테르, 퍼플루오로알코올, 퍼플루오로알킬알콕시실란 등의 불소 함유 화합물 처리 ; N-아실글루탐산 등의 아미노산 처리 ; 알킬인산에스테르 처리 등을 들 수 있다.
이들 중에서도, 화장료 중에서의 금속 산화물 (A) 의 분산성을 높여, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 실리콘 처리, 알킬알콕시실란 처리, 지방산 처리가 바람직하다.
실리콘 처리에 사용되는 표면 처리제로는, 메틸폴리실록산, 디메틸폴리실록산, 메틸페닐폴리실록산, 메틸하이드로젠폴리실록산, 메틸시클로폴리실록산, 도데카메틸시클로헥사실록산, 테트라데카메틸헥사실록산, 디메틸실록산/메틸(폴리옥시에틸렌)실록산/메틸(폴리옥시프로필렌)실록산 공중합체, 디메틸실록산/메틸(폴리옥시에틸렌)실록산 공중합체, 디메틸실록산/메틸(폴리옥시프로필렌)실록산 공중합체, 디메틸실록산/메틸세틸옥시실록산 공중합체, 디메틸실록산/메틸스테아록시실록산 공중합체, 아크릴산알킬/디메티콘 공중합체 등의 각종 실리콘유를 들 수 있다. 이들 중에서도, 화장료 중에서의 금속 산화물 (A) 의 분산성을 높여, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 메틸하이드로젠폴리실록산, 디메틸폴리실록산이 바람직하다.
알킬알콕시실란 처리에 사용되는 표면 처리제로는, 화장료 중에서의 금속 산화물 (A) 의 분산성을 높여, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 탄소수 6 이상 20 이하의 직사슬 또는 분기 사슬의 알킬기를 갖는 것이 바람직하고, 옥틸트리에톡시실란, 옥틸트리메톡시실란이 보다 바람직하다.
지방산 처리에 사용되는 표면 처리제로는, 탄소수 12 이상 22 이하의 직사슬 또는 분기 사슬의 지방산을 들 수 있다. 그 중에서도, 화장료 중에서의 금속 산화물 (A) 의 분산성을 높여, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 탄소수 14 이상 22 이하의 직사슬 또는 분기 사슬의 고급 지방산이 바람직하고, 탄소수 16 이상 20 이하의 직사슬 또는 분기 사슬의 고급 지방산이 보다 바람직하고, 스테아르산, 이소스테아르산이 더욱 바람직하다.
소수화 처리된 금속 산화물 (A) 의 시판품으로는, 테이카 (주) 제조의 「JR-800S」 (실리콘 처리 산화티탄), 「MPY-70M」 (실리콘 처리 산화티탄), 「MZ-504R3M」 (실리콘 처리 산화아연), 「MT-600KS」 (실리콘 처리 산화아연), 「MT-100TV」 (스테아르산 처리 산화티탄), 「MT-100Z」 (스테아르산 처리 산화티탄) ; 이시하라 산업 (주) 제조의 「MPT-171」 (스테아르산 처리 산화티탄) ; 다이토 화성 공업 (주) 의 「D-FZN」 (실리콘 처리 산화아연) ; 사카이 화학 공업 (주) 제조의 「STR-100A-LP」 (실리콘 처리 산화티탄), 「FINEX-50-LPTM」 (실리콘 처리 산화아연), 「FINEX-30-OTS」 (옥틸트리에톡시실란 처리 산화아연), 「STR-100C-LF」 (스테아르산 처리 산화티탄), 「STR-100W-OTS」 (옥틸트리에톡시실란 처리 산화티탄), 「FINEX-50-OTS」 (옥틸트리에톡시실란 처리 산화아연) 등을 들 수 있다.
친수화 처리로는, 함수 실리카 ; 알루미늄, 지르코니아 등의 금속의 함수 산화물, 산화물 또는 수산화물 ; 폴리아크릴산, 알긴산 또는 이들의 염 등의 수용성 폴리머 등에 의한 처리를 들 수 있다. 이들 중에서도, 함수 실리카 처리 및 수산화알루미늄 처리로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상이 바람직하다.
친수화 처리된 금속 산화물 (A) 의 시판품으로는, 테이카 (주) 제조의 「MT-100WP」 (함수 실리카 처리 산화티탄), 사카이 화학 공업 (주) 제조의 「STR-100W」 (함수 실리카 처리 산화티탄), 「STR-100C」 (수산화알루미늄 처리 산화티탄), 「FINEX-33W」 (함수 실리카 처리 산화아연) 등을 들 수 있다.
전술한 표면 처리제는, 1 종을 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
소수화 처리 또는 친수화 처리의 처리량은, 화장료 중에서의 금속 산화물 (A) 의 분산성을 높여, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 금속 산화물 (A) 에 대해, 바람직하게는 0.1 질량％ 이상이고, 그리고, 바람직하게는 40 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 30 질량％ 이하이다.
또한, 금속 산화물 (A) 가 그 표면을 소수화 처리 또는 친수화 처리한 것인 경우, 금속 산화물 (A) 의 질량, 도포량 및 평균 일차 입자경 dA 는, 표면 처리제를 포함한 질량, 도포량 및 평균 일차 입자경 dA 를 의미한다.
금속 산화물 (A) 가 산화티탄인 경우, 산화티탄 중의 TiO2 의 함유량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 60 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 70 질량％ 이상이고, 그리고, 바람직하게는 100 질량％ 이하이다.
금속 산화물 (A) 가 산화아연인 경우, 산화아연 중의 ZnO 의 함유량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 60 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 70 질량％ 이상이고, 그리고, 바람직하게는 100 질량％ 이하이다.
금속 산화물 (A) 는, 화장료 중에서의 금속 산화물 (A) 의 분산성을 높여, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 그 표면을 소수화 처리 또는 친수화 처리한 것임이 바람직하고, 그 표면을 소수화 처리한 것이 보다 바람직하고, 소수화 처리된 산화티탄 (이하, 「소수화 처리 산화티탄」 이라고도 한다) 및 소수화 처리된 산화아연 (이하, 「소수화 처리 산화아연」 이라고도 한다) 으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상이 더욱 바람직하고, 실리콘 처리 산화티탄, 실리콘 처리 산화아연, 지방산 처리 산화티탄, 지방산 처리 산화아연, 알킬알콕시실란 처리 산화티탄, 및 알킬알콕시실란 처리 산화아연으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상이 보다 더 바람직하고, 실리콘 처리 산화티탄, 실리콘 처리 산화아연, 지방산 처리 산화티탄, 및 알킬알콕시실란 처리 산화아연으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상이 보다 더 바람직하다.
제 1 발명에 있어서 금속 산화물 (A) 의 피부에 도포하는 방법으로는, 용제 등을 사용하지 않고, 그대로 도포할 수 있지만, 사용 형태 또는 목적에 따라, 화장료 등의 외용제에 일반적으로 사용되는 용제, 유제, 첨가제를 적절히 배합하여 도포할 수도 있다. 여기서, 「피부에 도포한다」 란, 피부 표면에 손 등으로 금속 산화물 (A) 를 직접 도포하는 것 뿐만 아니라, 분무 등에 의해 금속 산화물 (A) 를 피부 표면에 부착시키는 것을 포함한다.
제 1 발명에 있어서는, 피부에 도포할 때의 도막의 균일성을 향상시켜, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 미리 금속 산화물 (A) 를 용제 또는 유제와 교반, 혼합하고, 금속 산화물 (A) 를 용제 또는 유제 중에 분산시켜, 피부에 도포하는 것이 바람직하다.
금속 산화물 (A) 의 피부에 도포할 때에 사용하는 용제로는, 에탄올, 글리세린, 1,3-부틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 소르비톨 등의 탄소수 1 이상 6 이하의 1 가 또는 다가 알코올 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 범용성의 관점에서, 에탄올을 포함하는 것이 바람직하다.
용제의 배합량은, 금속 산화물 (A) 와 용제의 질량비 [금속 산화물 (A)/용제] 로서, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 0.02 이상, 보다 바람직하게는 0.03 이상, 더욱 바람직하게는 0.04 이상이고, 그리고, 바람직하게는 1 이하, 보다 바람직하게는 0.7 이하, 더욱 바람직하게는 0.5 이하이다.
금속 산화물 (A) 의 피부에 도포할 때에 사용하는 유제로는, 휘발성유가 바람직하다.
본 명세서에 있어서의 「휘발성」 이란, 이하의 방법에 의해 측정되는, 25 ℃, 6 시간에서의 증발량이 20 ％ 초과인 것을 의미한다.
측정 방법 : 직경 120 ㎜ 의 유리제 샬레 중에, 직경 90 ㎜ 의 여과지를 넣고, 여과지에 샘플을 1 g 을 얹고, 65 ％RH 의 실내 (25 ℃) 에 6 시간 보존한다. 보존 전후의 샘플의 질량을 측정하고, 하기 식에 의해 증발량을 산출한다.
증발량 (％) = (보존 전 샘플 질량 - 보존 후 샘플 질량)/보존 전 샘플 질량 × 100
휘발성유로는, 휘발성의 실리콘유, 휘발성의 탄화수소유 등을 들 수 있다.
제 1 발명에 있어서의 휘발성의 실리콘유로는, 25 ℃ 에 있어서의 동점도가 5 ㎟/s 미만인 실리콘유가 바람직하다. 25 ℃ 에 있어서의 동점도는, ASTM D 445-46T 또는 JIS Z 8803 에 준하여, 우베로데 점도계에 의해 측정할 수 있다.
휘발성의 실리콘유로는, 직사슬형 오르가노폴리실록산, 고리형 오르가노폴리실록산을 들 수 있다.
직사슬형 오르가노폴리실록산의 구체예로는, 옥타메틸트리실록산, 데카메틸테트라실록산, 도데카메틸펜타실록산, 1,1,1,3,5,5,5-헵타메틸-3-[(트리메틸실릴)옥시]-트리실록산을 들 수 있다.
고리형 오르가노폴리실록산으로는, 탄소수가 1 이상 5 이하인 알킬기를 치환기로서 갖는 4 ∼ 6 원 (員) 고리의 고리형 실록산을 들 수 있고, 구체예로서, 옥타메틸시클로테트라실록산, 데카메틸시클로펜타실록산 등을 들 수 있다.
휘발성의 실리콘유의 시판품으로는, 신에츠 화학 공업 (주) 제조의 「KF-96A-1cs」 (옥타메틸트리실록산), 「KF-96L-1.5cs」 (데카메틸테트라실록산), 「KF-96L-2cs」 (도데카메틸펜타실록산), 「KF-995」 (데카메틸시클로펜타실록산), 「TMF-1.5」 (1,1,1,3,5,5,5-헵타메틸-3-[(트리메틸실릴)옥시]-트리실록산) ; 도레이·다우코닝 (주) 제조의 「SH200C Fluid 1cs」 (옥타메틸트리실록산), 「SH200C Fluid 1.5cs」 (데카메틸테트라실록산), 「SH200C Fluid 2cs」 (도데카메틸펜타실록산), 「SH245 Fluid」 (데카메틸시클로펜타실록산) ; 모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈사 제조의 「TSF405」 (데카메틸시클로펜타실록산) 등을 들 수 있다.
제 1 발명에 있어서의 휘발성의 탄화수소유로는, 탄소수 8 이상 16 이하의 포화 또는 불포화의 탄화수소유가 바람직하고, 예를 들어, n-데칸, n-운데칸, n-도데칸 등의 파라핀계 탄화수소유 ; 이소데칸, 이소도데칸, 수첨 폴리이소부텐 (경질 유동 이소파라핀) 등의 이소파라핀계 탄화수소유 ; 시클로데칸, 시클로도데칸 등의 고리형 파라핀 탄화수소유 등을 들 수 있다.
유제의 배합량은, 금속 산화물 (A) 와 유제의 질량비 [금속 산화물 (A)/유제] 로서, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 0.02 이상, 보다 바람직하게는 0.03 이상, 더욱 바람직하게는 0.04 이상이고, 그리고, 바람직하게는 1 이하, 보다 바람직하게는 0.7 이하, 더욱 바람직하게는 0.5 이하이다.
금속 산화물 (A) 의 피부 표면에 대한 도포량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 0.03 ㎎/㎠ 이상이고, 바람직하게는 0.04 ㎎/㎠ 이상, 보다 바람직하게는 0.05 ㎎/㎠ 이상, 더욱 바람직하게는 0.07 ㎎/㎠ 이상, 보다 더 바람직하게는 0.10 ㎎/㎠ 이상, 보다 더 바람직하게는 0.15 ㎎/㎠ 이상이고, 그리고, 경제성 및 외용제로서 사용할 때의 사용감의 관점에서, 바람직하게는 0.8 ㎎/㎠ 이하, 보다 바람직하게는 0.7 ㎎/㎠ 이하이다. 보다 구체적으로는, 금속 산화물 (A) 의 피부 표면에 대한 도포량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 그리고 경제성 및 외용제로서 사용할 때의 사용감의 관점에서, 바람직하게는 0.03 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 바람직하게는 0.04 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 더욱 바람직하게는 0.05 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.07 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.10 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.15 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.15 ∼ 0.7 ㎎/㎠ 이다.
제 1 발명에 있어서 금속 산화물 (A) 는, 예를 들어, 피부, 모발에 적용하는 외용제에 배합하여 도포할 수 있다. 상기 외용제는, 부착 억제 효과의 관점에서, 바람직하게는 화장료이고, 보다 바람직하게는 피부 화장료이다.
제 1 발명에 관련된 외용제의 형태로는, 수상 일상 (一相) 을 분산매로 하는 수성형, 유상 일상을 분산매로 하는 유성형, 수중 유적형 (O/W 형), 유중 수적형 (W/O 형) 등을 들 수 있고, 적절히 선택할 수 있다.
상기 외용제의 제형에는 특별히 제한은 없고, 액체상, 기포상, 페이스트상, 크림상, 고형상 등의 임의의 제형으로 할 수 있다. 상기 외용제가, 액체상, 기포상, 페이스트상, 크림상, 고형상인 것은, 통상 그대로 도포, 분무 등에 의해 시용할 수 있다.
상기 외용제는, 금속 산화물 (A) 외에, 외용제의 용도에 따라 사용되는 미용 성분이나 약효 성분, 또는 피부 화장료 등의 외용제에 통상 사용되는 성분을, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 적절히 함유해도 된다. 당해 성분으로는, 금속 산화물 (A) 이외의, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 계면 활성제, 증점제, 유제, pH 조정제, 살균제, 항염증제, 방부제, 착색제, 킬레이트제, 보습제, 펄제, 세라미드류, 제한제, 향료 등을 들 수 있다.
제 1 발명에 있어서, 외용제 중의 금속 산화물 (A) 의 함유량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 1 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 5 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 7 질량％ 이상이고, 그리고, 경제성 및 외용제로서 사용할 때의 사용감의 관점에서, 바람직하게는 50 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 40 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 35 질량％ 이하이다.
제 1 발명에 관련된 외용제가 수중 유적 (O/W) 형인 경우, 금속 산화물 (A) 의 피부 표면에 대한 도포량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 0.03 ㎎/㎠ 이상이고, 바람직하게는 0.04 ㎎/㎠ 이상, 보다 바람직하게는 0.05 ㎎/㎠ 이상, 더욱 바람직하게는 0.07 ㎎/㎠ 이상, 보다 더 바람직하게는 0.10 ㎎/㎠ 이상, 보다 더 바람직하게는 0.15 ㎎/㎠ 이상이고, 그리고, 경제성 및 외용제로서 사용할 때의 사용감의 관점에서, 바람직하게는 0.8 ㎎/㎠ 이하, 보다 바람직하게는 0.7 ㎎/㎠ 이하, 더욱 바람직하게는 0.5 ㎎/㎠ 이하, 보다 더 바람직하게는 0.3 ㎎/㎠ 이하이다. 보다 구체적으로는, 금속 산화물 (A) 의 피부 표면에 대한 도포량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 그리고 경제성 및 외용제로서 사용할 때의 사용감의 관점에서, 바람직하게는 0.03 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 바람직하게는 0.04 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 더욱 바람직하게는 0.05 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.07 ∼ 0.7 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.10 ∼ 0.5 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.10 ∼ 0.3 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.15 ∼ 0.3 ㎎/㎠ 이다.
제 1 발명에 관련된 외용제가 유중 수적 (W/O) 형인 경우, 금속 산화물 (A) 의 피부 표면에 대한 도포량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 0.03 ㎎/㎠ 이상이고, 바람직하게는 0.04 ㎎/㎠ 이상, 보다 바람직하게는 0.05 ㎎/㎠ 이상, 더욱 바람직하게는 0.07 ㎎/㎠ 이상, 보다 더 바람직하게는 0.10 ㎎/㎠ 이상, 보다 더 바람직하게는 0.15 ㎎/㎠ 이상이고, 그리고, 경제성 및 외용제로서 사용할 때의 사용감의 관점에서, 바람직하게는 0.8 ㎎/㎠ 이하, 보다 바람직하게는 0.7 ㎎/㎠ 이하이다. 보다 구체적으로는, 금속 산화물 (A) 의 피부 표면에 대한 도포량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 그리고 경제성 및 외용제로서 사용할 때의 사용감의 관점에서, 바람직하게는 0.03 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 바람직하게는 0.04 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 더욱 바람직하게는 0.05 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.07 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.10 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.15 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.15 ∼ 0.7 ㎎/㎠ 이다.
[대기 유해 물질의 부착 억제 방법 : 제 2 ∼ 제 4 발명]
제 2 발명의 대기 유해 물질의 부착 억제 방법은, 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI) 및 성분 (BI) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BI) 의 함유량의 질량비 [(BI)/(AI)] 가 9 이하이다.
성분 (AI) : 평균 일차 입자경 dAI 가 800 ㎚ 이하인 소수화 처리된 금속 산화물
성분 (BI) : 에스테르유
제 3 발명의 대기 유해 물질의 부착 억제 방법은, 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI) 및 성분 (BII) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BII) 의 함유량의 질량비 [(BII)/(AI)] 가 3.5 이하이다.
성분 (AI) : 평균 일차 입자경 dAI 가 800 ㎚ 이하인 소수화 처리된 금속 산화물
성분 (BII) : 불휘발성의 탄화수소유
제 4 발명의 대기 유해 물질의 부착 억제 방법은, 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI) 및 성분 (BIII) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BIII) 의 함유량의 질량비 [(BIII)/(AI)] 가 0.85 이하이다.
성분 (AI) : 평균 일차 입자경 dAI 가 800 ㎚ 이하인 소수화 처리된 금속 산화물
성분 (BIII) : 불휘발성의 실리콘유
<외용제>
제 2 ∼ 제 4 발명에서 사용하는 외용제는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 상기 성분 (AI), 및 성분 (BI), 성분 (BII) 또는 성분 (BIII) 를 함유한다.
[성분 (AI) : 소수화 처리된 금속 산화물]
성분 (AI) 는, 평균 일차 입자경 dAI 가 800 ㎚ 이하인 소수화 처리된 금속 산화물 (이하, 「소수화 처리 금속 산화물」 이라고도 한다) 이다.
성분 (AI) 의 평균 일차 입자경 dAI 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 800 ㎚ 이하이고, 바람직하게는 500 ㎚ 이하, 보다 바람직하게는 300 ㎚ 이하, 더욱 바람직하게는 200 ㎚ 이하, 보다 더 바람직하게는 80 ㎚ 이하, 보다 더 바람직하게는 50 ㎚ 이하이고, 그리고, 범용성의 관점에서, 바람직하게는 5 ㎚ 이상, 보다 바람직하게는 10 ㎚ 이상이다. 보다 구체적으로는, 그 평균 일차 입자경 dAI 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 범용성의 관점에서, 바람직하게는 5 ∼ 800 ㎚, 보다 바람직하게는 5 ∼ 500 ㎚, 더욱 바람직하게는 5 ∼ 300 ㎚, 보다 더 바람직하게는 5 ∼ 200 ㎚, 보다 더 바람직하게는 5 ∼ 80 ㎚, 보다 더 바람직하게는 5 ∼ 50 ㎚, 보다 더 바람직하게는 10 ∼ 50 ㎚ 이다.
제 2 ∼ 제 4 발명에 있어서의 평균 일차 입자경 dAI 는, 전술한 평균 일차 입자경 dA 와 동일하게 투과형 전자 현미경 (TEM) 에 의한 관찰 화상으로부터 구할 수 있다. 여기서, 최대 단경이란, 성분 (AI) 가 판상 이외의 형상을 갖는 경우에는, 장경과 직교하는 단경 중, 최대 길이를 갖는 단경을 의미한다. 또, 성분 (AI) 가 판상인 경우에는, 상기와 동일한 조건으로 관찰되는 관찰 화상 중의 300 개의 일차 입자의 두께를 측정하고, 그 수평균값을 산출함으로써 구해진다. 구체적으로는 실시예에 기재된 방법에 의해 측정된다.
성분 (AI) 의 금속 산화물은, 화장료 등의 외용제에 통상 사용되는 것이면 특별히 제한은 없다. 구체적으로는, 산화티탄, 산화아연, 산화세륨, 산화알루미늄 (알루미나), 산화마그네슘, 산화칼슘, 산화지르코늄, 산화철, 산화크롬 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 자외선 방어능을 부여할 수 있는 관점에서, 바람직하게는 산화티탄, 산화아연 및 산화세륨에서 선택되는 1 종 이상이고, 보다 바람직하게는 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상이다.
성분 (AI) 의 금속 산화물이 산화티탄인 경우, 산화티탄의 결정 구조는, 아나타제형, 루틸형, 브루카이트형 중 어느 것이어도 되지만, 범용성의 관점에서, 바람직하게는 루틸형 또는 아나타제형이다.
성분 (AI) 의 형상으로는, 구상, 방추상, 판상, 침상 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 구상, 방추상, 판상이 바람직하다.
성분 (AI) 의 금속 산화물이 산화티탄인 경우에는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 방추상인 것이 바람직하다.
성분 (AI) 의 금속 산화물이 산화아연인 경우에는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 구상 또는 판상인 것이 바람직하다.
성분 (AI) 의 존재 형태는, 상기 평균 일차 입자경 dAI 가 전술한 범위를 만족시키면, 일차 입자의 형태이어도 되고, 일차 입자가 응집된 응집체 (이차 입자) 가 포함되는 형태이어도 된다.
본 발명에서 사용하는 외용제는, 소수화 처리된 성분 (AI) 를 함유함으로써, 성분 (BI), 성분 (BII) 또는 성분 (BIII) 를 포함하는 외용제 중의 성분 (AI) 의 분산성이 향상되어, 부착 억제 효과를 향상시킬 수 있다.
소수화 처리로는, 지방산 처리 ; 알킬알콕시실란 처리 ; 실리콘 처리 ; 퍼플루오로알킬인산에스테르, 퍼플루오로알코올, 퍼플루오로알킬알콕시실란 등의 불소 함유 화합물 처리 ; N-아실글루탐산 등의 아미노산 처리 ; 알킬인산에스테르 처리 등을 들 수 있다.
이들 중에서도, 성분 (BI), 성분 (BII) 또는 성분 (BIII) 를 포함하는 외용제 중의 성분 (AI) 의 분산성을 높여, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 지방산 처리, 알킬알콕시실란 처리, 실리콘 처리가 바람직하다.
즉, 성분 (AI) 는, 성분 (BI), 성분 (BII) 또는 성분 (BIII) 를 포함하는 외용제 중의 성분 (AI) 의 분산성을 높여, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상이다.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 800 ㎚ 이하인 지방산 처리된 금속 산화물
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 800 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 금속 산화물
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 800 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 금속 산화물
성분 (AI-1) 의 지방산 처리에 사용되는 표면 처리제로는, 탄소수 12 이상 22 이하의 직사슬 또는 분기 사슬의 지방산을 들 수 있다. 그 중에서도, 성분 (BI), 성분 (BII) 또는 성분 (BIII) 를 포함하는 외용제 중의 성분 (AI) 의 분산성을 높여, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 탄소수 14 이상 22 이하의 직사슬 또는 분기 사슬의 고급 지방산이 바람직하고, 탄소수 16 이상 20 이하의 직사슬 또는 분기 사슬의 고급 지방산이 보다 바람직하고, 스테아르산, 이소스테아르산이 더욱 바람직하다.
성분 (AI-2) 의 알킬알콕시실란 처리에 사용되는 표면 처리제로는, 성분 (BI), 성분 (BII) 또는 성분 (BIII) 를 포함하는 외용제 중의 성분 (AI) 의 분산성을 높여, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 탄소수 6 이상 20 이하의 직사슬 또는 분기 사슬의 알킬기를 갖는 것이 바람직하고, 옥틸트리에톡시실란, 옥틸트리메톡시실란이 보다 바람직하다.
성분 (AI-3) 의 실리콘 처리에 사용되는 표면 처리제로는, 메틸폴리실록산, 디메틸폴리실록산, 메틸페닐폴리실록산, 메틸하이드로젠폴리실록산, 메틸시클로폴리실록산, 도데카메틸시클로헥사실록산, 테트라데카메틸헥사실록산, 디메틸실록산/메틸(폴리옥시에틸렌)실록산/메틸(폴리옥시프로필렌)실록산 공중합체, 디메틸실록산/메틸(폴리옥시에틸렌)실록산 공중합체, 디메틸실록산/메틸(폴리옥시프로필렌)실록산 공중합체, 디메틸실록산/메틸세틸옥시실록산 공중합체, 디메틸실록산/메틸스테아록시실록산 공중합체, 아크릴산알킬/디메티콘 공중합체 등의 각종 실리콘유를 들 수 있다. 이들 중에서도, 성분 (BI), 성분 (BII) 또는 성분 (BIII) 를 포함하는 외용제 중의 성분 (AI) 의 분산성을 높여, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 메틸하이드로젠폴리실록산, 디메틸폴리실록산이 바람직하다.
전술한 표면 처리제는, 1 종을 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
소수화 처리의 처리량은, 성분 (BI), 성분 (BII) 또는 성분 (BIII) 를 포함하는 외용제 중의 성분 (AI) 의 분산성을 높여, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 성분 (AI) 에 대해, 바람직하게는 0.1 질량％ 이상이고, 그리고, 바람직하게는 40 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 30 질량％ 이하이다.
또한, 제 2 ∼ 제 4 발명에 있어서, 성분 (AI) 의 질량, 도포량 및 평균 일차 입자경 dAI 는, 표면 처리제를 포함한 질량, 도포량 및 평균 일차 입자경 dAI 를 의미한다.
성분 (AI) 가 소수화 처리된 산화티탄인 경우, 소수화 처리된 산화티탄 중의 TiO2 의 함유량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 60 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 70 질량％ 이상이고, 그리고, 바람직하게는 100 질량％ 미만이다.
성분 (AI) 가 소수화 처리된 산화아연인 경우, 소수화 처리된 산화아연 중의 ZnO 의 함유량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 60 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 70 질량％ 이상이고, 그리고, 바람직하게는 100 질량％ 미만이다.
제 2 발명에 있어서, 성분 (AI) 는, 성분 (BI) 를 포함하는 외용제 중의 성분 (AI) 의 분산성을 높여, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는, 성분 (AI-1) 로서 지방산 처리 산화티탄 및 지방산 처리 산화아연, 성분 (AI-2) 로서 알킬알콕시실란 처리 산화티탄 및 알킬알콕시실란 처리 산화아연, 그리고 성분 (AI-3) 으로서 실리콘 처리 산화티탄 및 실리콘 처리 산화아연에서 선택되는 1 종 이상이고, 보다 바람직하게는, 성분 (AI-2) 로서 알킬알콕시실란 처리 산화티탄 및 알킬알콕시실란 처리 산화아연, 그리고 성분 (AI-3) 으로서 실리콘 처리 산화티탄 및 실리콘 처리 산화아연에서 선택되는 1 종 이상이고, 더욱 바람직하게는, 성분 (AI-2) 로서 알킬알콕시실란 처리 산화티탄 및 알킬알콕시실란 처리 산화아연에서 선택되는 1 종 이상이다.
제 3 발명에 있어서, 성분 (AI) 는, 성분 (BII) 를 포함하는 외용제 중의 성분 (AI) 의 분산성을 높여, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는, 성분 (AI-1) 로서 지방산 처리 산화티탄 및 지방산 처리 산화아연, 성분 (AI-2) 로서 알킬알콕시실란 처리 산화티탄 및 알킬알콕시실란 처리 산화아연, 그리고 성분 (AI-3) 으로서 실리콘 처리 산화티탄 및 실리콘 처리 산화아연에서 선택되는 1 종 이상이고, 보다 바람직하게는, 성분 (AI-1) 로서 지방산 처리 산화티탄 및 지방산 처리 산화아연, 그리고 성분 (AI-2) 로서 알킬알콕시실란 처리 산화티탄 및 알킬알콕시실란 처리 산화아연에서 선택되는 1 종 이상이고, 더욱 바람직하게는, 성분 (AI-2) 로서 알킬알콕시실란 처리 산화티탄 및 알킬알콕시실란 처리 산화아연에서 선택되는 1 종 이상이다.
제 4 발명에 있어서, 성분 (AI) 는, 성분 (BIII) 를 포함하는 외용제 중의 성분 (AI) 의 분산성을 높여, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는, 성분 (AI-1) 로서 지방산 처리 산화티탄 및 지방산 처리 산화아연, 성분 (AI-2) 로서 알킬알콕시실란 처리 산화티탄 및 알킬알콕시실란 처리 산화아연, 그리고 성분 (AI-3) 으로서 실리콘 처리 산화티탄 및 실리콘 처리 산화아연에서 선택되는 1 종 이상이고, 보다 바람직하게는, 성분 (AI-1) 로서 지방산 처리 산화티탄 및 지방산 처리 산화아연, 그리고 성분 (AI-2) 로서 알킬알콕시실란 처리 산화티탄 및 알킬알콕시실란 처리 산화아연에서 선택되는 1 종 이상이고, 더욱 바람직하게는, 성분 (AI-2) 로서 알킬알콕시실란 처리 산화티탄 및 알킬알콕시실란 처리 산화아연에서 선택되는 1 종 이상이다.
성분 (AI-1) 의 시판품으로는, 사카이 화학 공업 (주) 제조의 「STR-100C-LF」 (스테아르산 처리 산화티탄) ; 이시하라 산업 (주) 제조의 「MPT-171」 (스테아르산 처리 산화티탄) ; 테이카 (주) 의 「MT-100TV」 (스테아르산 처리 산화티탄), 「MT-100Z」 (스테아르산 처리 산화티탄) 등을 들 수 있다.
성분 (AI-2) 의 시판품으로는, 사카이 화학 공업 (주) 제조의 「STR-100C-OTS」 (옥틸트리에톡시실란 처리 산화티탄), 「STR-100W-OTS」 (옥틸트리에톡시실란 처리 산화티탄), 「FINEX-50-OTS」 (옥틸트리에톡시실란 처리 산화아연) 「FINEX-30-OTS」 (옥틸트리에톡시실란 처리 산화아연) 등을 들 수 있다.
성분 (AI-3) 의 시판품으로는, 사카이 화학 공업 (주) 제조의 「STR-100A-LP」 (실리콘 처리 산화티탄), 「FINEX-50-LPTM」 (실리콘 처리 산화아연) ; 테이카 (주) 제조의 「JR-800S」 (실리콘 처리 산화티탄), 「MPY-70M」 (실리콘 처리 산화티탄), 「MICRO ZINC OXIDE MZ-504R3M」 (실리콘 처리 산화아연), 「MT-600KS」 (실리콘 처리 산화아연) ; 다이토 화성 공업 (주) 의 「D-FZN」 (실리콘 처리 산화아연) 등을 들 수 있다.
[성분 (BI) : 에스테르유]
제 2 발명에 관련된 외용제는, 성분 (AI) 및 성분 (BI) 를 함유한다.
성분 (BI) 는, 유제이고, 에스테르유이다. 에스테르유로는, 합성 에스테르유, 천연 유지 등을 들 수 있다.
성분 (BI) 로는, 1 가 카르복실산과 1 가 알코올의 에스테르, 1 가 카르복실산과 다가 알코올의 에스테르, 다가 카르복실산과 1 가 알코올의 에스테르 등을 들 수 있다.
1 가 카르복실산과 1 가 알코올의 에스테르로서, 하기 일반식 (1) 로 나타내는 에스테르를 들 수 있다.
R1-COO-R2
(1)
상기 일반식 (1) 에 있어서, R1 은, 수산기가 치환되어 있어도 되고, 탄소수 1 이상 25 이하의 직사슬 또는 분기 사슬의 알킬기 또는 알케닐기, 또는 탄소수 6 이상 24 이하의 방향족 함유 탄화수소기를 나타내고, R2 는, 탄소수 1 이상 30 이하의 직사슬 또는 분기 사슬의 알킬기 또는 알케닐기를 나타낸다.
R1 이 알킬기 또는 알케닐기인 경우, 탄소수는, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 7 이상, 보다 바람직하게는 9 이상, 더욱 바람직하게는 11 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점에서, 바람직하게는 23 이하, 보다 바람직하게는 21 이하, 더욱 바람직하게는 19 이하이다.
R1 이 방향족 함유 탄화수소기인 경우, 탄소수는, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 8 이상, 보다 바람직하게는 10 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점에서, 바람직하게는 22 이하, 보다 바람직하게는 20 이하이다.
R2 의 탄소수는, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 2 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점에서, 바람직하게는 28 이하, 보다 바람직하게는 20 이하, 더욱 바람직하게는 18 이하이다.
또, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, R1 및 R2 의 적어도 일방이, 분기 알킬기인 것이 바람직하다.
상기 일반식 (1) 로 나타내는 에스테르의 구체예로는, 2-에틸헥산산미리스틸, 2-에틸헥산산세틸, 2-에틸헥산산스테아릴, 옥탄산이소데실, 옥탄산세틸, 옥탄산이소세틸, 이소노난산이소노닐, 이소노난산이소트리데실, 디메틸옥탄산헥실데실, 라우르산헥실, 미리스트산이소프로필, 미리스트산이소트리데실, 미리스트산2-헥실데실, 미리스트산미리스틸, 미리스트산옥틸도데실, 팔미트산이소프로필, 팔미트산2-에틸헥실, 팔미트산2-헥실데실, 팔미트산2-헵틸운데실, 스테아르산부틸, 스테아르산2-에틸헥실, 스테아르산스테아릴, 스테아르산이소세틸, 스테아르산세틸, 이소스테아르산이소세틸, 이소스테아르산콜레스테릴, 올레산데실, 올레산올레일, 올레산옥틸도데실, 아세트산라놀린, 하이드록시스테아르산콜레스테릴, 라놀린 지방산 이소프로필, 라놀린 지방산 콜레스테릴, 피마자유 지방산 메틸 (리시놀레산메틸), 락트산세틸, 락트산미리스틸, 및 벤조산알킬 (알킬의 탄소수 12 ∼ 15) 에서 선택되는 1 종 이상을 들 수 있다.
1 가 카르복실산과 1 가 알코올의 에스테르로서, 하기 일반식 (2) 로 나타내는 에스테르도 들 수 있다.
R3-COO-(AO)n-R4
(2)
상기 일반식 (2) 에 있어서, R3 은, 수산기가 치환되어 있어도 되고, 탄소수 1 이상 25 이하의 직사슬 또는 분기 사슬의 알킬기 또는 알케닐기를 나타내고, R4 는 탄소수 6 이상 24 이하의 방향족 함유 탄화수소기를 나타낸다. AO 는, 탄소수 2 이상 4 이하의 알킬렌옥시기를 나타내고, n 은 1 이상 50 이하의 평균 부가 몰수를 나타낸다.
R3 은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 탄소수가 7 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점에서, 바람직하게는 23 이하, 보다 바람직하게는 21 이하, 더욱 바람직하게는 19 이하의 알킬기이다.
R4 는, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 탄소수가 6 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점에서, 바람직하게는 22 이하, 보다 바람직하게는 20 이하, 더욱 바람직하게는 18 이하의 방향족 함유 탄화수소기, 보다 더 바람직하게는 벤질기이다.
AO 기는, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 프로필렌옥시기이고, 상기와 동일한 관점에서, n 은, 바람직하게는 1 이상 10 이하, 보다 바람직하게는 1 이상 5 이하이다.
상기 일반식 (2) 로 나타내는 에스테르의 구체예로는, 미리스트산과 벤질알코올의 프로필렌옥사이드 3 몰 부가체의 에스테르 (크로다사 제조의 「크로다몰 STS」), 2-에틸헥산산과 벤질알코올의 프로필렌옥사이드 3 몰 부가체의 에스테르 (크로다사 제조의 「크로다몰 SFX」) 등을 들 수 있다.
1 가 카르복실산과 다가 알코올의 에스테르로서, 하기 일반식 (3) 으로 나타내는 에스테르를 들 수 있다.
R5-(OCOR6)p
(3)
상기 일반식 (3) 에 있어서, R5 는 다가 알코올 잔기를 나타내고, 바람직하게는 탄소수 2 이상 10 이하의 직사슬 또는 분기 사슬의 탄화수소기이고, R6 은 탄소수 1 이상 25 이하의 1 가 카르복실산 잔기를 나타내고, p 는 2 이상 10 이하의 정수를 나타낸다.
또한, R5 는 에테르 결합을 가져도 된다. 또, p 는, 바람직하게는 상기 다가 알코올이 갖는 하이드록시기와 동일한 수이다.
R6 은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 탄소수가 7 이상, 보다 바람직하게는 9 이상, 더욱 바람직하게는 11 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점에서, 바람직하게는 23 이하, 보다 바람직하게는 21 이하, 더욱 바람직하게는 19 이하의 알킬기이다.
상기 일반식 (3) 으로 나타내는 에스테르로서, 디카프르산네오펜틸글리콜, 디2-에틸헥산산네오펜틸글리콜, 디(카프릴산/카프르산)프로판디올, 디이소스테아르산프로판디올, 디2-에틸헥산산에틸렌글리콜, 트리(카프릴산/카프르산)글리세릴, 트리2-에틸헥실산글리세릴, 트리2-헵틸운데칸산글리세릴, 트리미리스트산글리세릴, 트리2-에틸헥실산트리메틸올프로판, 트리이소스테아르산트리메틸올프로판, 테트라2-에틸헥산산펜타에리트리톨, 지방산 디펜타에리트리톨, 천연 유지를 들 수 있다.
천연 유지로는 피마자유, 카카오유, 밍크유, 아보카도유, 올리브유, 해바라기유, 동백유, 행인유, 아몬드유, 밀 배아유, 테오브로마그란디플로룸 종자유, 포도 종자유, 바바스유, 호호바유, 마카다미아 너트유, 유차유, 시어지유, 당동백 종자유, 메도우폼유를 들 수 있다.
다가 카르복실산과 1 가 알코올의 에스테르로는, 하기 일반식 (4) 로 나타내는 에스테르도 들 수 있다.
R7-(COOR8)q
(4)
상기 일반식 (4) 에 있어서, R7 은 탄소수 2 이상 10 이하의 다가 카르복실산 잔기이고, R8 은 탄소수 1 이상 25 이하의 1 가 알코올 잔기를 나타내고, q 는 2 이상 10 이하의 정수이다. 또, q 는, 바람직하게는 상기 다가 카르복실산이 갖는 카르복시기와 동일한 수이다.
R8 은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 3 이상, 보다 바람직하게는 7 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점에서, 바람직하게는 23 이하, 보다 바람직하게는 21 이하, 더욱 바람직하게는 19 이하이다.
구체적으로는, 말산디이소스테아릴, 숙신산디2-에틸헥실, 아디프산디이소부틸, 아디프산디2-헵틸운데실, 아디프산디2-헥실데실, 세바크산디2-에틸헥실, 세바크산디이소프로필 등을 들 수 있다.
성분 (BI) 는, 자외선에 의한 피부의 손상을 방어하는 관점에서, 그 구조에 따라 자외선 흡수능을 갖는 에스테르계 자외선 흡수제이어도 된다.
에스테르계 자외선 흡수제로는, 살리실산호모멘틸, 살리실산옥틸, 살리실산트리에탄올아민 등의 살리실산계 자외선 흡수제 ; 파라아미노벤조산, 에틸디하이드록시프로필파라아미노벤조산, 파라아미노벤조산글리세릴, 디메틸파라아미노벤조산옥틸, 디메틸파라아미노벤조산아밀, 디메틸파라아미노벤조산2-에틸헥실 등의 파라아미노벤조산계 자외선 흡수제 ; 파라메톡시신남산2-에틸헥실 (예를 들어, BASF 재팬 (주) 제조의 「유비눌 MC80」), 디파라메톡시신남산모노-2-에틸헥산산글리세릴, 2,5-디이소프로필신남산메틸, 2,4,6-트리스[4-(2-에틸헥실옥시카르보닐)아닐리노]-1,3,5-트리아진(에틸헥실트리아존) (예를 들어, BASF 재팬 (주) 제조의 「유비눌 T150」), 트리메톡시신남산메틸비스(트리메틸실록시)실릴이소펜틸, 파라메톡시신남산이소프로필/디이소프로필신남산에스테르 혼합물, p-메톡시하이드로신남산디에탄올아민염 등의 신남산계 자외선 흡수제 ; 옥토클리렌 (예를 들어, DSM 뉴트리션 재팬 (주) 제조의 「파라솔 340」) ; 디메톡시벤질리덴디옥소이미다졸리딘프로피온산2-에틸헥실 (예를 들어, 아지노모토 (주) 제조의 「소프트쉐이드 DH」) ; 시녹세이트 ; 메틸-O-아미노벤조에이트 ; 디에틸아미노하이드록시벤조일벤조산헥실 (예를 들어, BASF 재팬 (주) 제조의 「유비눌 A plus」, 「유비눌 A Plus GRANULAR」) 등을 들 수 있다.
성분 (BI) 로는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 25 ℃ 에서 액체상의 에스테르유이다. 25 ℃ 에서 액체상의 에스테르유란, 융점이 25 ℃ 이하인 에스테르유이다. 즉, 성분 (BI) 는, 바람직하게는 1 기압하, 25 ℃ 에서 유동성을 갖는 에스테르유이다. 구체적으로는, 바람직하게는 상기 일반식 (1) 또는 상기 일반식 (3) 으로 나타내는 에스테르이고, 보다 바람직하게는 팔미트산이소프로필, 이소노난산이소노닐, 디카프르산네오펜틸글리콜, 디2-에틸헥산산네오펜틸글리콜, 및 트리2-에틸헥실산글리세릴에서 선택되는 1 종 이상이다.
성분 (BI) 로서 에스테르계 자외선 흡수제를 사용하는 경우, 성분 (BI) 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 파라메톡시신남산2-에틸헥실, 2,4,6-트리스[4-(2-에틸헥실옥시카르보닐)아닐리노]-1,3,5-트리아진, 및 디에틸아미노하이드록시벤조일벤조산헥실에서 선택되는 1 종 이상이다.
[성분 (BII) : 불휘발성의 탄화수소유]
제 3 발명에 관련된 외용제는, 성분 (AI) 및 성분 (BII) 를 함유한다.
성분 (BII) 는, 유제이고, 불휘발성의 탄화수소유이다.
제 3 발명에 있어서의 「불휘발성」 이란, 전술한 방법에 의해 측정되는, 25 ℃, 6 시간에서의 증발량이 20 ％ 미만인 것을 의미한다.
성분 (BII) 는, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 탄소수 18 이상의 포화 또는 불포화의 탄화수소가 바람직하다.
성분 (BII) 의 구체적으로는, 스쿠알렌, 스쿠알란, 유동 파라핀, 수첨 폴리이소부텐 (유동 이소파라핀, 중질 유동 이소파라핀), 유동 오조케라이트, α-올레핀 올리고머, 시클로파라핀, 폴리부텐, 프리스탄 등의 25 ℃ 에서 액체상의 탄화수소유 ; 바셀린, 세레신, 오조케라이트, 파라핀 왁스, 마이크로 크리스탈린 왁스, 폴리에틸렌 왁스 등의 25 ℃ 에서 고체상의 탄화수소유 등을 들 수 있다. 성분 (BII) 는, 1 종을 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
이들 중에서도, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 융점을 갖지 않고 25 ℃ 에서 액체상의 탄화수소유가 바람직하고, 25 ℃ 에 있어서의 동점도가 5 ㎟/s 이상 10 만 ㎟/s 이하인 탄화수소유가 보다 바람직하고, 수첨 폴리이소부텐이 더욱 바람직하고, 유동 이소파라핀이 보다 더 바람직하다.
성분 (BII) 의 25 ℃ 에 있어서의 동점도는, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 더욱 바람직하게는 6 ㎟/s 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점에서, 더욱 바람직하게는 1 만 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 5,000 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 1,000 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 500 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 300 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 100 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 50 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 30 ㎟/s 이하이다.
성분 (BII) 의 25 ℃ 에 있어서의 동점도는, 제 1 발명의 경우와 동일한 방법에 의해 측정할 수 있다.
성분 (BII) 의 시판품으로는, 니치유 (주) 제조의 「팔림 EX」 (유동 이소파라핀) 등을 들 수 있다.
[성분 (BIII) : 불휘발성의 실리콘유]
제 4 발명에 관련된 외용제는, 성분 (AI) 및 성분 (BIII) 를 함유한다.
성분 (BIII) 는, 유제이고, 불휘발성의 실리콘유이다.
제 4 발명에 있어서의 「불휘발성」 은, 제 3 발명에 있어서의 것과 동일하다.
성분 (BIII) 로는, 구체적으로는, 디메틸폴리실록산, 메틸페닐폴리실록산, 메틸하이드로젠폴리실록산, 디메치콘올 (양 말단에 하이드록시기로 봉쇄된 디메틸폴리실록산) 등의 직사슬형 오르가노폴리실록산 ; 아미노 변성 실리콘 (분자 내에 아미노기를 갖는 디메틸폴리실록산), 양 말단에 분기형 폴리글리세롤 사슬을 갖는 폴리글리세린 변성 실리콘 등의 변성 실리콘 ; 아미노 유도체 실리콘 ; 실리콘 왁스 등의 액체상, 반고체상, 고체상의 실리콘유를 들 수 있다. 성분 (BIII) 는, 1 종을 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
이들 중에서도, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 직사슬형 오르가노폴리실록산, 보다 바람직하게는 디메틸폴리실록산이다.
성분 (BIII) 는, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점 및 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 25 ℃ 에 있어서의 동점도가 5 ㎟/s 이상 10 만 ㎟/s 이하인 실리콘유가 바람직하다.
성분 (BIII) 의 25 ℃ 에 있어서의 동점도는, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 보다 바람직하게는 6 ㎟/s 이상이고, 그리고, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 보다 바람직하게는 1 만 ㎟/s 이하, 더욱 바람직하게는 5,000 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 1,000 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 500 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 300 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 100 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 50 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 30 ㎟/s 이하이다. 보다 구체적으로는, 성분 (BIII) 의 25 ℃ 에 있어서의 동점도는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 5 ∼ 10 만 ㎟/s, 보다 바람직하게는 5 ∼ 1 만 ㎟/s, 더욱 바람직하게는 5 ∼ 5,000 ㎟/s, 보다 더 바람직하게는 5 ∼ 1,000 ㎟/s, 보다 더 바람직하게는 5 ∼ 500 ㎟/s, 보다 더 바람직하게는 5 ∼ 300 ㎟/s, 보다 더 바람직하게는 5 ∼ 100 ㎟/s, 보다 더 바람직하게는 5 ∼ 50 ㎟/s, 보다 더 바람직하게는 5 ∼ 30 ㎟/s, 보다 더 바람직하게는 6 ∼ 30 ㎟/s 이다.
성분 (BIII) 의 25 ℃ 에 있어서의 동점도는, 제 1 발명의 경우와 동일한 방법에 의해 측정할 수 있다.
성분 (BIII) 의 시판품으로는, 신에츠 화학 공업 (주) 제조의 「KF-96A-6cs」 (디메틸폴리실록산), 「KF-96A-10cs」 (디메틸폴리실록산) 등을 들 수 있다.
제 2 발명에 관련된 상기 외용제는, 성분 (AI) 및 성분 (BI) 외에, 외용제의 용도에 따라 사용되는 미용 성분이나 약효 성분, 또는 피부 화장료 등의 외용제에 통상 사용되는 성분을, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 적절히 함유해도 된다. 당해 성분으로는, 성분 (AI) 및 성분 (BI) 이외의, 유제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 계면 활성제, 증점제, pH 조정제, 살균제, 항염증제, 방부제, 착색제, 킬레이트제, 보습제, 펄제, 세라미드류, 제한제, 향료 등을 들 수 있다.
[성분 (CI) : 성분 (BI) 이외의 불휘발성의 유제]
제 2 발명에 관련된 상기 외용제는, 성분 (CI) 로서 성분 (BI) 이외의 불휘발성의 유제를 추가로 함유해도 된다.
제 2 발명에 있어서의 「불휘발성」 이란, 제 3 발명에 있어서의 것과 동일하다.
성분 (CI) 로는, 탄화수소유, 실리콘유, 고급 지방산, 및 고급 알코올에서 선택되는 1 종 이상을 들 수 있다. 그 중에서도, 불휘발성의 탄화수소유 (CI-1) (이하, 「성분 (CI-1)」 이라고도 한다), 및 불휘발성의 실리콘유 (CI-2) (이하, 「성분 (CI-2)」 라고도 한다) 에서 선택되는 1 종 이상이 바람직하다.
성분 (CI-1) 로는, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 탄소수 18 이상의 포화 또는 불포화의 탄화수소가 바람직하다.
성분 (CI-1) 의 구체예 및 시판품으로는, 전술한 성분 (BII) 에서 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다. 성분 (CI-1) 은, 1 종을 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
성분 (CI-1) 은, 그들 중에서도, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 융점을 갖지 않고 25 ℃ 에서 액체상의 탄화수소유가 바람직하고, 25 ℃ 에 있어서의 동점도가 5 ㎟/s 이상 10 만 ㎟/s 이하인 탄화수소유가 보다 바람직하고, 수첨 폴리이소부텐이 더욱 바람직하고, 유동 이소파라핀이 보다 더 바람직하다.
성분 (CI-1) 의 25 ℃ 에 있어서의 동점도는, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 더욱 바람직하게는 6 ㎟/s 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점에서, 더욱 바람직하게는 1 만 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 5,000 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 1,000 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 500 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 300 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 100 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 50 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 30 ㎟/s 이하이다.
성분 (CI-1) 의 25 ℃ 에 있어서의 동점도는, 상기와 동일하게 측정할 수 있다.
성분 (CI-2) 는, 불휘발성의 실리콘유이고, 성분 (CI-2) 의 구체예 및 시판품은, 전술한 성분 (BIII) 에서 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다. 성분 (CI-2) 는, 1 종을 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
성분 (CI-2) 는, 그들 중에서도, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 직사슬형 오르가노폴리실록산, 보다 바람직하게는 디메틸폴리실록산이다.
성분 (CI-2) 로는, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점 및 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 25 ℃ 에 있어서의 동점도가 5 ㎟/s 이상 10 만 ㎟/s 이하인 실리콘유가 바람직하다.
성분 (CI-2) 의 25 ℃ 에 있어서의 동점도는, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 보다 바람직하게는 6 ㎟/s 이상이고, 그리고, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 보다 바람직하게는 1 만 ㎟/s 이하, 더욱 바람직하게는 5,000 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 1,000 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 500 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 300 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 100 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 50 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 30 ㎟/s 이하이다.
성분 (CI-2) 의 25 ℃ 에 있어서의 동점도는, 상기와 동일하게 측정할 수 있다.
제 3 발명에 관련된 상기 외용제는, 성분 (AI) 및 성분 (BII) 외에, 외용제의 용도에 따라 사용되는 미용 성분이나 약효 성분, 또는 피부 화장료 등의 외용제에 통상 사용되는 성분을, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 적절히 함유해도 된다. 당해 성분으로는, 성분 (AI) 및 성분 (BII) 이외의, 유제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 계면 활성제, 증점제, pH 조정제, 살균제, 항염증제, 방부제, 착색제, 킬레이트제, 보습제, 펄제, 세라미드류, 제한제, 향료 등을 들 수 있다.
[성분 (CII) : 성분 (BII) 이외의 불휘발성의 유제]
제 3 발명에 관련된 상기 외용제는, 성분 (CII) 로서 성분 (BII) 이외의 불휘발성의 유제를 추가로 함유해도 된다. 성분 (CII) 로는, 에스테르유, 실리콘유, 고급 지방산, 및 고급 알코올에서 선택되는 1 종 이상을 들 수 있다. 그 중에서도, 에스테르유 (CII-1) (이하, 「성분 (CII-1)」 이라고도 한다), 및 불휘발성의 실리콘유 (CII-2) (이하, 「성분 (CII-2)」 라고도 한다) 에서 선택되는 1 종 이상이 바람직하다.
성분 (CII-1) 로는, 합성 에스테르유, 천연 유지 등을 들 수 있고, 구체적으로는, 1 가 카르복실산과 1 가 알코올의 에스테르, 1 가 카르복실산과 다가 알코올의 에스테르, 다가 카르복실산과 1 가 알코올의 에스테르 등의 전술한 성분 (BI) 에서 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다.
성분 (CII-1) 로는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 25 ℃ 에서 액체상의 에스테르유이다. 25 ℃ 에서 액체상의 에스테르유란, 융점이 25 ℃ 이하인 에스테르유이다. 즉, 성분 (CII-1) 은, 바람직하게는 1 기압하, 25 ℃ 에서 유동성을 갖는 에스테르유이다. 구체적으로는, 바람직하게는 상기 일반식 (1) 또는 상기 일반식 (3) 으로 나타내는 에스테르이고, 보다 바람직하게는 팔미트산이소프로필, 이소노난산이소노닐, 디카프르산네오펜틸글리콜, 디2-에틸헥산산네오펜틸글리콜, 및 트리2-에틸헥실산글리세릴에서 선택되는 1 종 이상이다.
성분 (CII-1) 로서 에스테르계 자외선 흡수제를 사용하는 경우, 성분 (CII-1) 은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 파라메톡시신남산2-에틸헥실, 2,4,6-트리스[4-(2-에틸헥실옥시카르보닐)아닐리노]-1,3,5-트리아진, 및 디에틸아미노하이드록시벤조일벤조산헥실에서 선택되는 1 종 이상이다.
성분 (CII-2) 는, 불휘발성의 실리콘유이고, 성분 (CII-2) 의 구체예 및 시판품은, 전술한 성분 (BIII) 에서 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다. 성분 (CII-2) 는, 1 종을 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
성분 (CII-2) 는, 그들 중에서도, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 직사슬형 오르가노폴리실록산, 보다 바람직하게는 디메틸폴리실록산이다.
성분 (CII-2) 로는, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점, 및 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 25 ℃ 에 있어서의 동점도가 5 ㎟/s 이상 10 만 ㎟/s 이하인 실리콘유가 바람직하다.
성분 (CII-2) 의 25 ℃ 에 있어서의 동점도는, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 보다 바람직하게는 6 ㎟/s 이상이고, 그리고, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 보다 바람직하게는 1 만 ㎟/s 이하, 더욱 바람직하게는 5,000 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 1,000 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 500 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 300 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 100 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 50 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 30 ㎟/s 이하이다.
성분 (CII-2) 의 25 ℃ 에 있어서의 동점도는, 상기와 동일하게 측정할 수 있다.
제 4 발명에 관련된 상기 외용제는, 성분 (AI) 및 성분 (BIII) 외에, 외용제의 용도에 따라 사용되는 미용 성분이나 약효 성분, 또는 피부 화장료 등의 용제에 통상 사용되는 성분을, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 적절히 함유해도 된다. 당해 성분으로는, 성분 (AI) 및 성분 (BIII) 이외의, 유제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 계면 활성제, 증점제, pH 조정제, 살균제, 항염증제, 방부제, 착색제, 킬레이트제, 보습제, 펄제, 세라미드류, 제한제, 향료 등을 들 수 있다.
[성분 (CIII) : 성분 (BIII) 이외의 불휘발성의 유제]
제 4 발명에 관련된 상기 외용제는, 성분 (CIII) 로서 성분 (BIII) 이외의 불휘발성의 유제를 추가로 함유해도 된다. 성분 (CIII) 로는, 에스테르유, 탄화수소유, 고급 지방산, 및 고급 알코올에서 선택되는 1 종 이상을 들 수 있다. 그 중에서도, 에스테르유 (CIII-1) (이하, 「성분 (CIII-1)」 이라고도 한다), 및 불휘발성의 탄화수소유 (CIII-2) (이하, 「성분 (CIII-2)」 라고도 한다) 에서 선택되는 1 종 이상이 바람직하다.
성분 (CIII-1) 로는, 합성 에스테르유, 천연 유지 등을 들 수 있고, 구체적으로는, 1 가 카르복실산과 1 가 알코올의 에스테르, 1 가 카르복실산과 다가 알코올의 에스테르, 다가 카르복실산과 1 가 알코올의 에스테르 등의 전술한 성분 (BI) 에서 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다.
성분 (CIII-1) 로는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 25 ℃ 에서 액체상의 에스테르유이다. 25 ℃ 에서 액체상의 에스테르유란, 융점이 25 ℃ 이하인 에스테르유이다. 즉, 성분 (CIII-1) 은, 바람직하게는 1 기압하, 25 ℃ 에서 유동성을 갖는 에스테르유이다. 구체적으로는, 바람직하게는 상기 일반식 (1) 또는 상기 일반식 (3) 으로 나타내는 에스테르이고, 보다 바람직하게는 팔미트산이소프로필, 이소노난산이소노닐, 디카프르산네오펜틸글리콜, 디2-에틸헥산산네오펜틸글리콜, 및 트리2-에틸헥실산글리세릴에서 선택되는 1 종 이상이다.
성분 (CIII-1) 로서 에스테르계 자외선 흡수제를 사용하는 경우, 성분 (CIII-1) 은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 파라메톡시신남산2-에틸헥실, 2,4,6-트리스[4-(2-에틸헥실옥시카르보닐)아닐리노]-1,3,5-트리아진, 및 디에틸아미노하이드록시벤조일벤조산헥실에서 선택되는 1 종 이상이다.
성분 (CIII-2) 는, 불휘발성의 탄화수소유이고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 탄소수 18 이상의 포화 또는 불포화의 탄화수소가 바람직하다.
성분 (CIII-2) 의 구체예 및 시판품으로는, 전술한 성분 (BII) 에서 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다. 성분 (CIII-2) 는, 1 종을 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
성분 (CIII-2) 는, 그들 중에서도, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 융점을 갖지 않고 25 ℃ 에서 액체상의 탄화수소유가 바람직하고, 25 ℃ 에 있어서의 동점도가 5 ㎟/s 이상 10 만 ㎟/s 이하인 탄화수소유가 보다 바람직하고, 수첨 폴리이소부텐이 더욱 바람직하고, 유동 이소파라핀이 보다 더 바람직하다.
성분 (CIII-2) 의 25 ℃ 에 있어서의 동점도는, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 더욱 바람직하게는 6 ㎟/s 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점에서, 더욱 바람직하게는 1 만 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 5,000 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 1,000 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 500 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 300 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 100 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 50 ㎟/s 이하, 보다 더 바람직하게는 30 ㎟/s 이하이다.
성분 (CIII-2) 의 25 ℃ 에 있어서의 동점도는, 상기와 동일하게 측정할 수 있다.
[성분 (D) : 휘발성유]
제 2 ∼ 제 4 발명에 있어서, 상기 외용제는, 성분 (D) 로서 휘발성유를 추가로 함유해도 된다.
제 2 ∼ 제 4 발명에 있어서의 「휘발성」 이란, 전술한 방법에 의해 측정되는, 25 ℃, 6 시간에서의 증발량이 20 ％ 초과인 것을 의미한다.
성분 (D) 로는, 휘발성의 실리콘유, 휘발성의 탄화수소유 등을 들 수 있다.
제 2 ∼ 제 4 발명에 있어서의 휘발성의 실리콘유 및 휘발성 탄화수소유의 구체예 및 시판품은 제 1 발명에서 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있고, 바람직한 휘발성의 실리콘유 및 휘발성 탄화수소유도 제 1 발명에 있어서의 것과 동일하다.
[외용제의 제조]
제 2 ∼ 제 4 발명에 사용하는 외용제는, 외용제의 제형에 따라 공지된 방법을 적절히 사용함으로써 제조할 수 있다. 예를 들어, 성분 (AI), 성분 (BI), 성분 (BII) 또는 성분 (BIII) 및 필요에 따라 전술한 다른 성분을 배합하고, 디스퍼 등에 의해 교반, 혼합하는 방법을 들 수 있다.
상기 외용제가, 후술하는 유중 수적 (W/O) 형 또는 수중 유적형 (O/W) 인 경우에는, 수상과 유상을 각각 조제한 후, 양자를 혼합하는 방법을 사용할 수도 있다.
(외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량)
제 2 ∼ 제 4 발명에 있어서, 상기 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 1 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 2 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 3 질량％ 이상이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점, 및 경제성의 관점에서, 바람직하게는 40 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 35 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 30 질량％ 이하이다. 보다 구체적으로는, 그 성분 (AI) 의 함유량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 1 ∼ 40 질량％, 보다 바람직하게는 2 ∼ 35 질량％, 더욱 바람직하게는 3 ∼ 30 질량％ 이다.
(외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량)
제 2 ∼ 제 4 발명에 있어서, 상기 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 1 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 2 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 3 질량％ 이상이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점, 및 경제성의 관점에서, 바람직하게는 40 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 35 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 30 질량％ 이하이다. 보다 구체적으로는, 그 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 1 ∼ 40 질량％, 보다 바람직하게는 2 ∼ 35 질량％, 더욱 바람직하게는 3 ∼ 30 질량％ 이다.
제 2 발명에 있어서의 외용제 중의 각 성분의 함유량 및 질량비는, 이하와 같다.
(외용제 중의 성분 (BI) 의 함유량)
상기 외용제 중의 성분 (BI) 의 함유량은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.05 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 0.1 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 1 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 3 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 5 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 8 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 10 질량％ 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점, 및 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 60 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 50 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 40 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 30 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 25 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 20 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 18 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 16 질량％ 이하이다.
(질량비 [(BI)/(AI)])
상기 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BI) 의 함유량의 질량비 [(BI)/(AI)] 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 9 이하이고, 바람직하게는 8 이하, 보다 바람직하게는 6 이하, 더욱 바람직하게는 4 이하, 보다 더 바람직하게는 3 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.05 이상, 더욱 바람직하게는 0.1 이상이다. 보다 구체적으로는, 상기 질량비 [(BI)/(AI)] 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 9 이하 0.01 이상, 보다 바람직하게는 8 이하 0.01 이상, 더욱 바람직하게는 6 이하 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 4 이하 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 4 이하 0.1 이상, 보다 더 바람직하게는 3 이하 0.1 이상이다.
(질량비 [(BI)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]])
성분 (AI) 가, 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상인 경우, 상기 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BI) 의 함유량의 질량비 [(BI)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 9 이하, 보다 바람직하게는 8 이하, 더욱 바람직하게는 6 이하, 보다 더 바람직하게는 4 이하, 보다 더 바람직하게는 3 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.05 이상, 더욱 바람직하게는 0.1 이상이다. 보다 구체적으로는, 상기 질량비 [(BI)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 9 이하 0.01 이상, 보다 바람직하게는 8 이하 0.01 이상, 더욱 바람직하게는 6 이하 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 4 이하 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 4 이하 0.1 이상, 보다 더 바람직하게는 3 이하 0.1 이상이다.
상기 외용제가 추가로 성분 (CI-1) (불휘발성의 탄화수소유) 을 함유하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (CI-1) 의 함유량의 질량비 αI1 (= [(CI-1)/(AI)]) 은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 3.5 이하, 보다 바람직하게는 3 이하, 더욱 바람직하게는 2.5 이하, 보다 더 바람직하게는 2 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.03 이상, 더욱 바람직하게는 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 0.1 이상이다.
또, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BI) 와 성분 (CI-1) 의 합계 함유량의 질량비 βI1 (= [[(BI) + (CI-1)]/(AI)]) 은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 9 이하, 보다 바람직하게는 8 이하, 더욱 바람직하게는 6 이하, 보다 더 바람직하게는 4 이하, 보다 더 바람직하게는 3 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.05 이상, 더욱 바람직하게는 0.1 이상이다.
그리고, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 질량비 αI1 이 3.5 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βI1 이 9 이하 0.01 이상, 보다 바람직하게는 질량비 αI1 이 3 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βI1 이 8 이하 0.01 이상, 더욱 바람직하게는 질량비 αI1 이 2.5 이하 0.05 이상, 또한 질량비 βI1 이 6 이하 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 αI1 이 2 이하 0.1 이상, 또한 질량비 βI1 이 4 이하 0.1 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 αI1 이 2 이하 0.1 이상, 또한 질량비 βI1 이 3 이하 0.1 이상이다.
상기 외용제가 추가로 성분 (CI-1) 을 함유하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (CI-1) 의 함유량의 질량비 αII (= [(CI-1)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]]) 의 바람직한 수치 범위는, 질량비 αI1 의 바람직한 수치 범위와 동일하다.
또, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BI) 와 성분 (CI-1) 의 합계 함유량의 질량비 βII (= [[(BI) + (CI-1)]/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]]) 의 바람직한 수치 범위는, 질량비 βI1 의 바람직한 수치 범위와 동일하다.
그리고, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 질량비 αII 가 3.5 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βII 가 9 이하 0.01 이상, 보다 바람직하게는 질량비 αII 가 3 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βII 가 8 이하 0.01 이상, 더욱 바람직하게는 질량비 αII 가 2.5 이하 0.05 이상, 또한 질량비 βII 가 6 이하 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 αII 가 2 이하 0.1 이상, 또한 질량비 βII 가 4 이하 0.1 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 αII 가 2 이하 0.1 이상, 또한 질량비 βII 가 3 이하 0.1 이상이다.
상기 외용제가 추가로 성분 (CI-2) (불휘발성의 실리콘유) 를 함유하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (CI-2) 의 함유량의 질량비 αI2 (= [(CI-2)/(AI)]) 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 0.85 이하, 보다 바람직하게는 0.80 이하, 더욱 바람직하게는 0.75 이하, 보다 더 바람직하게는 0.70 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.02 이상, 더욱 바람직하게는 0.03 이상이다.
또, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BI) 와 성분 (CI-2) 의 합계 함유량의 질량비 βI2 (= [[(BI) + (CI-2)]/(AI)]) 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 9 이하, 보다 바람직하게는 8 이하, 더욱 바람직하게는 6 이하, 보다 더 바람직하게는 4 이하, 보다 더 바람직하게는 3 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.05 이상, 더욱 바람직하게는 0.1 이상이다.
그리고, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 질량비 αI2 가 0.85 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βI2 가 9 이하 0.01 이상, 보다 바람직하게는 질량비 αI2 가 0.80 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βI2 가 8 이하 0.01 이상, 더욱 바람직하게는 질량비 αI2 가 0.75 이하 0.02 이상, 또한 질량비 βI2 가 6 이하 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 αI2 가 0.70 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βI2 가 4 이하 0.1 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 αI2 가 0.70 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βI2 가 3 이하 0.1 이상이다.
상기 외용제가 추가로 성분 (CI-2) 를 함유하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (C2) 의 함유량의 질량비 αIII (= [(CI-2)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]]) 의 바람직한 수치 범위는, 질량비 αI2 의 바람직한 수치 범위와 동일하다.
또, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BI) 와 성분 (CI-2) 의 합계 함유량의 질량비 βIII (= [[(BI) + (CI-2)]/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]]) 의 바람직한 수치 범위는, 질량비 βI2 의 바람직한 수치 범위와 동일하다.
그리고, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 질량비 αIII 가 0.85 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βIII 가 9 이하 0.01 이상, 보다 바람직하게는 질량비 αIII 가 0.80 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βIII 가 8 이하 0.01 이상, 더욱 바람직하게는 질량비 αIII 가 0.75 이하 0.02 이상, 또한 질량비 βIII 가 6 이하 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 αIII 가 0.70 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βIII 가 4 이하 0.1 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 αIII 가 0.70 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βIII 가 3 이하 0.1 이상이다.
상기 외용제가 추가로 성분 (CI-1) 및 성분 (CI-2) 를 함유하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (CI-1) 과 성분 (CI-2) 의 합계 함유량의 질량비 αI(1-2) (= [[(CI-1) + (CI-2)]/(AI)]) 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 3.5 이하, 보다 바람직하게는 3 이하, 더욱 바람직하게는 2.5 이하, 보다 더 바람직하게는 2 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.03 이상, 더욱 바람직하게는 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 0.1 이상이다.
또, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BI) 와 성분 (CI-1) 과 성분 (CI-2) 의 합계 함유량의 질량비 βI(1-2) (= [[(BI) + (CI-1) + (CI-2)]/(AI)]) 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 9 이하, 보다 바람직하게는 8 이하, 더욱 바람직하게는 6 이하, 보다 더 바람직하게는 4 이하, 보다 더 바람직하게는 3 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.05 이상, 더욱 바람직하게는 0.1 이상이다.
그리고, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 상기 질량비 αI2 가 0.85 이하 0.01 이상, 또한 질량비 αI(1-2) 가 3.5 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βI(1-2) 가 9 이하 0.01 이상, 보다 바람직하게는 질량비 αI2 가 0.80 이하 0.01 이상, 또한 질량비 αI(1-2) 가 3 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βI(1-2) 가 8 이하 0.01 이상, 더욱 바람직하게는 질량비 αI2 가 0.75 이하 0.02 이상, 또한 질량비 αI(1-2) 가 2.5 이하 0.05 이상, 또한 질량비 βI(1-2) 가 6 이하 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 αI2 가 0.70 이하 0.03 이상, 또한 질량비 αI(1-2) 가 2 이하 0.1 이상, 또한 질량비 βI(1-2) 가 4 이하 0.1 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 αI2 가 0.70 이하 0.03 이상, 또한 질량비 αI(1-2) 가 2 이하 0.1 이상, 또한 질량비 βI(1-2) 가 3 이하 0.1 이상이다.
상기 외용제가 추가로 성분 (CI-1) 및 성분 (CI-2) 를 함유하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (CI-1) 과 성분 (CI-2) 의 합계 함유량의 질량비 αI(I-II) (= [[(C1) + (C2)]/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]]) 의 바람직한 수치 범위는, 질량비 αI(1-2) 의 바람직한 수치 범위와 동일하다.
또, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BI) 와 성분 (CI-1) 과 성분 (CI-2) 의 합계 함유량의 질량비 βI(I-II) (= [[(BI) + (CI-1) + (CI-2)]/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]]) 의 바람직한 수치 범위는, 질량비 βI(1-2) 의 바람직한 수치 범위와 동일하다.
그리고, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 상기 질량비 αIII 가 0.85 이하 0.01 이상, 또한 질량비 αI(I-II) 가 3.5 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βI(I-II) 가 9 이하 0.01 이상, 보다 바람직하게는 질량비 αIII 가 0.80 이하 0.01 이상, 또한 질량비 αI(I-II) 가 3 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βI(I-II) 가 8 이하 0.01 이상, 더욱 바람직하게는 질량비 αIII 가 0.75 이하 0.02 이상, 또한 질량비 αI(I-II) 가 2.5 이하 0.05 이상, 또한 질량비 βI(I-II) 가 6 이하 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 αIII 가 0.70 이하 0.03 이상, 또한 질량비 αI(I-II) 가 2 이하 0.1 이상, 또한 질량비 βI(I-II) 가 4 이하 0.1 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 αIII 가 0.70 이하 0.03 이상, 또한 질량비 αI(I-II) 가 2 이하 0.1 이상, 또한 질량비 βI(I-II) 가 3 이하 0.1 이상이다.
(성분 (CI-1) 의 함유량)
상기 외용제가 성분 (CI-1) 을 함유하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (CI-1) 의 함유량은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.1 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 1 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 3 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 5 질량％ 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점, 및 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 25 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 20 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 18 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 16 질량％ 이하이다.
(성분 (CI-2) 의 함유량)
상기 외용제가 성분 (CI-2) 를 함유하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (CI-2) 의 함유량은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.1 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 0.5 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 1 질량％ 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점, 및 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 15 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 10 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 8 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 6 질량％ 이하이다.
제 3 발명에 있어서의 외용제 중의 각 성분의 함유량 및 질량비는 이하와 같다.
(외용제 중의 성분 (BII) 의 함유량)
상기 외용제 중의 성분 (BII) 의 함유량은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.05 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 0.1 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 1 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 3 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 5 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 8 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 10 질량％ 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점, 및 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 60 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 50 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 40 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 30 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 25 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 20 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 18 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 16 질량％ 이하이다.
(질량비 [(BII)/(AI)])
상기 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BII) 의 함유량의 질량비 [(BII)/(AI)] (이하, 「xII1」 이라고 한다) 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 3.5 이하이고, 바람직하게는 3 이하, 보다 바람직하게는 2.5 이하, 더욱 바람직하게는 2 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.03 이상, 더욱 바람직하게는 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 0.1 이상이다. 보다 구체적으로는 xII1 은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 3.5 이하 0.01 이상, 보다 바람직하게는 3 이하 0.03 이상, 더욱 바람직하게는 2.5 이하 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 2 이하 0.1 이상이다.
(질량비 [(BII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]])
성분 (AI) 가, 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상인 경우, 상기 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BII) 의 함유량의 질량비 [(BII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] (이하, 「xIII」 라고 한다) 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 3.5 이하이고, 바람직하게는 3 이하, 보다 바람직하게는 2.5 이하, 더욱 바람직하게는 2 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.03 이상, 더욱 바람직하게는 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 0.1 이상이다. 보다 구체적으로는, xIII 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 3.5 이하 0.01 이상, 보다 바람직하게는 3 이하 0.03 이상, 더욱 바람직하게는 2.5 이하 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 2 이하 0.1 이상이다.
상기 외용제가 추가로 성분 (CII-1) (에스테르유) 을 함유하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (A) 의 함유량에 대한 성분 (BII) 와 성분 (CII-1) 의 합계 함유량의 질량비 βII1 (= [[(BII) + (CII-1)]/(AI)]) 은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 9 이하, 보다 바람직하게는 8 이하, 더욱 바람직하게는 6 이하, 보다 더 바람직하게는 4 이하, 보다 더 바람직하게는 3 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.05 이상, 더욱 바람직하게는 0.1 이상이다.
그리고, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 질량비 xII1 이 3.5 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βII1 이 9 이하 0.01 이상, 보다 바람직하게는 질량비 xII1 이 3 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βII1 이 8 이하 0.01 이상, 더욱 바람직하게는 질량비 xII1 이 2.5 이하 0.05 이상, 또한 질량비 βII1 이 6 이하 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 xII1 이 2 이하 0.1 이상, 또한 질량비 βII1 이 4 이하 0.1 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 xII1 이 2 이하 0.1 이상, 또한 질량비 βII1 이 3 이하 0.1 이상이다.
상기 외용제가 추가로 성분 (CII-1) 을 함유하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BII) 와 성분 (CI-1) 의 합계 함유량의 질량비 βIII (= [[(BII) + (CII-1)]/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]]) 의 바람직한 수치 범위는, 질량비 βII1 의 바람직한 수치 범위와 동일하다.
그리고, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 질량비 xIII 가 3.5 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βIII 가 9 이하 0.01 이상, 보다 바람직하게는 질량비 xIII 가 3 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βIII 가 8 이하 0.01 이상, 더욱 바람직하게는 질량비 xIII 가 2.5 이하 0.05 이상, 또한 질량비 βIII 가 6 이하 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 xIII 가 2 이하 0.1 이상, 또한 질량비 βIII 가 4 이하 0.1 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 xIII 가 2 이하 0.1 이상, 또한 질량비 βIII 가 3 이하 0.1 이상이다.
상기 외용제가 추가로 성분 (CII-2) (불휘발성의 실리콘유) 를 함유하는 경우, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (CII-2) 의 함유량의 질량비 αII2 (= [(CII-2)/(AI)]) 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 0.85 이하, 보다 바람직하게는 0.80 이하, 더욱 바람직하게는 0.75 이하, 보다 더 바람직하게는 0.70 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.02 이상, 더욱 바람직하게는 0.03 이상이다.
또, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BII) 와 성분 (CII-2) 의 합계 함유량의 질량비 βII2 (= [[(BII) + (CII-2)]/(AI)]) 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 3.5 이하, 보다 바람직하게는 3 이하, 더욱 바람직하게는 2.5 이하, 보다 더 바람직하게는 2 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.03 이상, 더욱 바람직하게는 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 0.1 이상이다.
그리고, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 질량비 αII2 가 0.85 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βII2 가 3.5 이하 0.01 이상, 보다 바람직하게는 질량비 αII2 가 0.80 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βII2 가 3 이하 0.03 이상, 더욱 바람직하게는 질량비 αII2 가 0.75 이하 0.02 이상, 또한 질량비 βII2 가 2.5 이하 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 αII2 가 0.70 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βII2 가 2 이하 0.1 이상이다.
상기 외용제가 추가로 성분 (CII-2) 를 함유하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (CII-2) 의 함유량의 질량비 αIIII (= [(CII-2)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]]) 의 바람직한 수치 범위는, 질량비 αII2 의 바람직한 수치 범위와 동일하다.
또, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BII) 와 성분 (CII-2) 의 합계 함유량의 질량비 βIIII (= [[(BII) + (CII-2)]/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]]) 의 바람직한 수치 범위는, 질량비 βII2 의 바람직한 수치 범위와 동일하다.
그리고, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 질량비 αIIII 가 0.85 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βIIII 가 3.5 이하 0.01 이상, 보다 바람직하게는 질량비 αIIII 가 0.80 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βIIII 가 3 이하 0.03 이상, 더욱 바람직하게는 질량비 αIIII 가 0.75 이하 0.02 이상, 또한 질량비 βIIII 가 2.5 이하 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 αIIII 가 0.70 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βIIII 가 2 이하 0.1 이상이다.
상기 외용제가 추가로 성분 (CII-1) 및 성분 (CII-2) 를 함유하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BII) 와 성분 (CII-1) 과 성분 (CII-2) 의 합계 함유량의 질량비 βII(1-2) (= [[(BII) + (CII-1) + (CII-2)]/(AI)]) 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 9 이하, 보다 바람직하게는 8 이하, 더욱 바람직하게는 6 이하, 보다 더 바람직하게는 4 이하, 보다 더 바람직하게는 3 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.05 이상, 더욱 바람직하게는 0.1 이상이다.
그리고, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 상기 질량비 αII2 가 0.85 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βII2 가 3.5 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βII(1-2) 가 9 이하 0.01 이상, 보다 바람직하게는 질량비 αII2 가 0.80 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βII2 가 3 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βII(1-2) 가 8 이하 0.01 이상, 더욱 바람직하게는 질량비 αII2 가 0.75 이하 0.02 이상, 또한 질량비 βII2 가 2.5 이하 0.05 이상, 또한 질량비 βII(1-2) 가 6 이하 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 αII2 가 0.70 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βII2 가 2 이하 0.1 이상, 또한 질량비 βII(1-2) 가 4 이하 0.1 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 αII2 가 0.70 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βII2 가 2 이하 0.1 이상, 또한 질량비 βII(1-2) 가 3 이하 0.1 이상이다.
상기 외용제가 추가로 성분 (CII-1) 및 성분 (CII-2) 를 함유하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BII) 성분과 성분 (CII-1) 과 성분 (CII-2) 의 합계 함유량의 질량비 βII(I-II) (= [[(BII) + (CII-1) + (CII-2)]/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]]) 의 바람직한 수치 범위는, 질량비 βII(1-2) 의 바람직한 수치 범위와 동일하다.
그리고, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 상기 질량비 αIIII 가 0.85 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βIIII 가 3.5 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βII(I-II) 가 9 이하 0.01 이상, 보다 바람직하게는 질량비 αIIII 가 0.80 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βIIII 가 3 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βII(I-II) 가 8 이하 0.01 이상, 더욱 바람직하게는 질량비 αIIII 가 0.75 이하 0.02 이상, 또한 질량비 βIIII 가 2.5 이하 0.05 이상, 또한 질량비 βII(I-II) 가 6 이하 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 αIIII 가 0.70 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βIIII 가 2 이하 0.1 이상, 또한 질량비 βII(I-II) 가 4 이하 0.1 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 αIIII 가 0.70 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βIIII 가 2 이하 0.1 이상, 또한 질량비 βII(I-II) 가 3 이하 0.1 이상이다.
(성분 (CII-1) 의 함유량)
상기 외용제가 성분 (CII-1) 을 함유하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (CII-1) 의 함유량은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.1 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 1 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 3 질량％ 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점, 및 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 25 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 20 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 18 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 16 질량％ 이하이다.
(성분 (CII-2) 의 함유량)
상기 외용제가 성분 (CII-2) 를 함유하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (CII-2) 의 함유량은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.1 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 0.5 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 1 질량％ 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점, 및 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 15 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 10 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 8 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 6 질량％ 이하이다.
제 4 발명에 있어서의 외용제 중의 각 성분의 함유량 및 질량비는 이하와 같다.
(외용제 중의 성분 (BIII) 의 함유량)
상기 외용제 중의 성분 (BIII) 의 함유량은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.05 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 0.1 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 0.5 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 1 질량％ 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점, 및 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 15 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 10 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 8 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 6 질량％ 이하이다.
(질량비 [(BIII)/(AI)])
상기 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BIII) 의 함유량의 질량비 [(BIII)/(AI)] (이하, 「xIII1」 이라고 한다) 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 0.85 이하이고, 바람직하게는 0.80 이하, 보다 바람직하게는 0.75 이하, 더욱 바람직하게는 0.70 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.02 이상, 더욱 바람직하게는 0.03 이상이다. 보다 구체적으로는, xIII1 은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.85 이하 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.80 이하 0.01 이상, 더욱 바람직하게는 0.75 이하 0.02 이상, 보다 더 바람직하게는 0.70 이하 0.03 이상이다.
(질량비 [(BIII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]])
성분 (AIII) 가, 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상인 경우, 상기 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BIII) 의 함유량의 질량비 [(BIII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] (이하, 「xIIII」 라고 한다) 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 0.85 이하이고, 바람직하게는 0.80 이하, 보다 바람직하게는 0.75 이하, 더욱 바람직하게는 0.70 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.02 이상, 더욱 바람직하게는 0.03 이상이다. 보다 구체적으로는, xIIII 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.85 이하 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.80 이하 0.01 이상, 더욱 바람직하게는 0.75 이하 0.02 이상, 보다 더 바람직하게는 0.70 이하 0.03 이상이다.
상기 외용제가 추가로 성분 (CIII-1) (에스테르유) 을 함유하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BIII) 와 성분 (CIII-1) 의 합계 함유량의 질량비 βIII1 (= [[(BIII) + (CIII-1)]/(AI)]) 은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 9 이하, 보다 바람직하게는 8 이하, 더욱 바람직하게는 6 이하, 보다 더 바람직하게는 4 이하, 보다 더 바람직하게는 3 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.05 이상, 더욱 바람직하게는 0.1 이상이다.
그리고, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 질량비 xIII1 이 0.85 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βIII1 이 9 이하 0.01 이상, 보다 바람직하게는 질량비 xIII1 이 0.80 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βIII1 이 8 이하 0.01 이상, 더욱 바람직하게는 질량비 xIII1 이 0.75 이하 0.02 이상, 또한 질량비 βIII1 이 6 이하 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 xIII1 이 0.70 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βIII1 이 4 이하 0.1 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 xIII1 이 0.70 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βIII1 이 3 이하 0.1 이상이다.
상기 외용제가 추가로 성분 (CIII-1) 을 함유하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BIII) 와 성분 (CIII-1) 의 합계 함유량의 질량비 βIIII (= [[(BIII) + (CIII-1)]/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]]) 의 바람직한 수치 범위는, 질량비 βIII1 의 바람직한 수치 범위와 동일하다.
그리고, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 질량비 xIIII 가 0.85 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βIIII 가 9 이하 0.01 이상, 보다 바람직하게는 질량비 xIIII 가 0.80 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βIIII 가 8 이하 0.01 이상, 더욱 바람직하게는 질량비 xIIII 가 0.75 이하 0.02 이상, 또한 질량비 βIIII 가 6 이하 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 xIIII 가 0.70 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βIIII 가 4 이하 0.1 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 xIIII 가 0.70 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βIIII 가 3 이하 0.1 이상이다.
상기 외용제가 추가로 성분 (CIII-2) (불휘발성의 탄화수소유) 를 함유하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BIII) 와 성분 (CIII-2) 의 합계 함유량의 질량비 βIII2 (= [[(BIII) + (CIII-2)]/(AI)]) 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 3.5 이하, 보다 바람직하게는 3 이하, 더욱 바람직하게는 2.5 이하, 보다 더 바람직하게는 2 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.03 이상, 더욱 바람직하게는 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 0.1 이상이다.
그리고, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 질량비 xIII1 이 0.85 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βIII2 가 3.5 이하 0.01 이상, 보다 바람직하게는 질량비 xIII1 이 0.80 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βIII2 가 3 이하 0.03 이상, 더욱 바람직하게는 질량비 xIII1 이 0.75 이하 0.02 이상, 또한 질량비 βIII2 가 2.5 이하 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 xIII1 이 0.70 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βIII2 가 2 이하 0.1 이상이다.
상기 외용제가 추가로 성분 (CIII-2) 를 함유하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BIII) 와 성분 (CIII-2) 의 합계 함유량의 질량비 βIIIII (= [[(BIII) + (CIII-2)]/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]]) 의 바람직한 수치 범위는, 질량비 βIII2 의 바람직한 수치 범위와 동일하다.
그리고, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 질량비 xIIII 가 0.85 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βIIIII 가 3.5 이하 0.01 이상, 보다 바람직하게는 질량비 xIIII 가 0.80 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βIIIII 가 3 이하 0.03 이상, 더욱 바람직하게는 질량비 xIIII 가 0.75 이하 0.02 이상, 또한 질량비 βIIIII 가 2.5 이하 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 xIIII 가 0.70 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βIIIII 가 2 이하 0.1 이상이다.
상기 외용제가 추가로 성분 (CIII-1) 및 성분 (CIII-2) 를 함유하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BIII) 와 성분 (CIII-1) 과 성분 (CIII-2) 의 합계 함유량의 질량비 βIII(1-2) (= [[(BIII) + (CIII-1) + (CIII-2)]/(AI)]) 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 9 이하, 보다 바람직하게는 8 이하, 더욱 바람직하게는 6 이하, 보다 더 바람직하게는 4 이하, 보다 더 바람직하게는 3 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.05 이상, 더욱 바람직하게는 0.1 이상이다.
그리고, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 상기 질량비 xIII1 이 0.85 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βIII2 가 3.5 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βIII(1-2) 가 9 이하 0.01 이상, 보다 바람직하게는 질량비 xIII1 이 0.80 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βIII2 가 3 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βIII(1-2) 가 8 이하 0.01 이상, 더욱 바람직하게는 질량비 xIII1 이 0.75 이하 0.02 이상, 또한 질량비 βIII2 가 2.5 이하 0.05 이상, 또한 질량비 βIII(1-2) 가 6 이하 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 xIII1 이 0.70 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βIII2 가 2 이하 0.1 이상, 또한 질량비 βIII(1-2) 가 4 이하 0.1 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 xIII1 이 0.70 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βIII2 가 2 이하 0.1 이상, 또한 질량비 βIII(1-2) 가 3 이하 0.1 이상이다.
상기 외용제가 추가로 성분 (CIII-1) 및 성분 (CIII-2) 를 함유하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BIII) 와 성분 (CIII-1) 과 성분 (CIII-2) 의 합계 함유량의 질량비 βIII(I-II) (= [[(BIII) + (CIII-1) + (CIII-2)]/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]]) 의 바람직한 수치 범위는, 질량비 βIII(1-2) 의 바람직한 수치 범위와 동일하다.
그리고, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 상기 질량비 xIIII 가 0.85 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βIIIII 가 3.5 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βIII(I-II) 가 9 이하 0.01 이상, 보다 바람직하게는 질량비 xIIII 가 0.80 이하 0.01 이상, 또한 질량비 βIIIII 가 3 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βIII(I-II) 가 8 이하 0.01 이상, 더욱 바람직하게는 질량비 xIIII 가 0.75 이하 0.02 이상, 또한 질량비 βIIIII 가 2.5 이하 0.05 이상, 또한 질량비 βIII(I-II) 가 6 이하 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 xIIII 가 0.70 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βIIIII 가 2 이하 0.1 이상, 또한 질량비 βIII(I-II) 가 4 이하 0.1 이상, 보다 더 바람직하게는 질량비 xIIII 가 0.70 이하 0.03 이상, 또한 질량비 βIIIII 가 2 이하 0.1 이상, 또한 질량비 βIII(I-II) 가 3 이하 0.1 이상이다.
(성분 (CIII-1) 의 함유량)
상기 외용제가 성분 (CIII-1) 을 함유하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (CIII-1) 의 함유량은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.1 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 1 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 3 질량％ 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점, 및 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 25 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 20 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 18 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 16 질량％ 이하이다.
(성분 (CIII-2) 의 함유량)
상기 외용제가 성분 (CIII-2) 를 함유하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (CIII-2) 의 함유량은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.1 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 1 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 3 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 5 질량％ 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점, 및 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 25 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 20 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 18 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 16 질량％ 이하이다.
(성분 (D) 의 함유량)
제 2 발명에 있어서, 상기 외용제가 성분 (D) 를 함유하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (D) 의 함유량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 20 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 25 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 30 질량％ 이상이고, 그리고, 바람직하게는 95 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 90 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 85 질량％ 이하이다.
제 3 발명 및 제 4 발명에 있어서, 상기 외용제가 성분 (D) 를 함유하는 경우, 상기 외용제 중의 성분 (D) 의 함유량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 20 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 25 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 30 질량％ 이상이고, 그리고, 바람직하게는 97 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 95 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 93 질량％ 이하이다.
제 2 ∼ 제 4 발명에 사용하는 외용제의 형태로는, 유상 일상을 분산매로 하는 유성형, 수중 유적형 (이하, 「O/W 형」 이라고도 한다), 유중 수적형 (이하, 「W/O 형」 이라고도 한다) 등을 들 수 있고, 적절히 선택할 수 있다.
제 2 ∼ 제 4 발명에 있어서 외용제는, 예를 들어, 피부, 모발에 적용하는 외용제로서 도포할 수 있다. 상기 외용제는, 부착 억제 효과의 관점에서, 바람직하게는 화장료이고, 보다 바람직하게는 피부 화장료이다.
상기 외용제의 제형에는 특별히 제한은 없고, 액체상, 기포상, 페이스트상, 크림상, 고형상 등의 임의의 제형으로 할 수 있다.
제 2 ∼ 제 4 발명에 있어서, 상기 외용제의 형태가 유성형인 경우, 각 성분의 함유량 및 각 질량비는 전술한 바와 같다. 또, 상기 외용제가 W/O 형 또는 O/W 형인 경우, 각 성분의 함유량 및 각 질량비는, 이하와 같다.
(유중 수적 (W/O) 형인 경우의 각 성분의 함유량 및 질량비)
제 2 ∼ 제 4 발명에 있어서, 상기 외용제가 W/O 형인 경우, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 1 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 2 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 3 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 5 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 8 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 10 질량％ 이상이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점, 및 경제성의 관점에서, 바람직하게는 40 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 35 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 30 질량％ 이하이다.
제 2 ∼ 제 4 발명에 있어서, 상기 외용제가 W/O 형인 경우, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 1 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 2 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 3 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 5 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 8 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 10 질량％ 이상이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점, 및 경제성의 관점에서, 바람직하게는 40 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 35 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 30 질량％ 이하이다.
제 2 발명에 있어서, 상기 외용제가 W/O 형인 경우, 외용제 중의 각 성분의 함유량 및 질량비는 이하와 같다.
상기 외용제가 W/O 형인 경우, 그 외용제 중의 성분 (BI) 의 함유량은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.05 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 0.1 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 1 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 3 질량％ 이상이고, 그리고, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 30 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 25 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 20 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 18 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 16 질량％ 이하이다.
상기 외용제가 W/O 형인 경우, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BI) 의 함유량의 질량비 [(BI)/(AI)] 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 9 이하이고, 바람직하게는 8 이하, 보다 바람직하게는 6 이하, 더욱 바람직하게는 4 이하, 보다 더 바람직하게는 3 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.05 이상, 더욱 바람직하게는 0.1 이상이다.
상기 외용제가 W/O 형이며, 성분 (AI) 가, 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상인 경우, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BI) 의 함유량의 질량비 [(BI)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 9 이하, 보다 바람직하게는 8 이하, 더욱 바람직하게는 6 이하, 보다 더 바람직하게는 4 이하, 보다 더 바람직하게는 3 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.05 이상, 더욱 바람직하게는 0.1 이상이다.
상기 외용제가 W/O 형인 경우이며 그 외용제가 성분 (CI-1) 을 포함하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (CI-1) 의 함유량은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.1 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 1 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 3 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 5 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 8 질량％ 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점, 및 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 25 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 20 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 16 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 12 질량％ 이하이다.
상기 외용제가 W/O 형인 경우이며 그 외용제가 성분 (CI-2) 를 포함하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (CI-2) 의 함유량은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.1 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 0.5 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 1 질량％ 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점, 및 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 15 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 10 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 8 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 6 질량％ 이하이다.
제 3 발명에 있어서, 상기 외용제가 W/O 형인 경우, 외용제 중의 각 성분의 함유량 및 질량비는 이하와 같다.
상기 외용제가 W/O 형인 경우, 상기 외용제 중의 성분 (BII) 의 함유량은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.05 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 0.1 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 1 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 3 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 5 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 8 질량％ 이상이고, 그리고, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 30 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 25 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 20 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 16 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 12 질량％ 이하이다.
상기 외용제가 W/O 형인 경우, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BII) 의 함유량의 질량비 [(BII)/(AI)] 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 3.5 이하이고, 바람직하게는 3 이하, 보다 바람직하게는 2.5 이하, 더욱 바람직하게는 2 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.03 이상, 더욱 바람직하게는 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 0.1 이상이다.
상기 외용제가 W/O 형이며, 성분 (AI) 가, 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상인 경우, 상기 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BII) 의 함유량의 질량비 [(BII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 3.5 이하이고, 바람직하게는 3 이하, 보다 바람직하게는 2.5 이하, 더욱 바람직하게는 2 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.03 이상, 더욱 바람직하게는 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 0.1 이상이다.
상기 외용제가 W/O 형인 경우이며 그 외용제가 성분 (CII-1) 을 포함하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (CII-1) 의 함유량은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.1 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 1 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 3 질량％ 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점, 및 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 25 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 20 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 18 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 16 질량％ 이하이다.
상기 외용제가 W/O 형인 경우이며 그 외용제가 성분 (CII-2) 를 포함하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (CII-2) 의 함유량은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.1 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 0.5 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 1 질량％ 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점, 및 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 15 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 10 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 8 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 6 질량％ 이하이다.
제 4 발명에 있어서, 상기 외용제가 W/O 형인 경우, 외용제 중의 각 성분의 함유량 및 질량비는 이하와 같다.
상기 외용제가 W/O 형인 경우, 상기 외용제 중의 성분 (BIII) 의 함유량은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.05 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 0.1 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 0.5 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 1 질량％ 이상이고, 그리고, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 끈적임 등의 사용감의 관점에서, 바람직하게는 15 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 10 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 8 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 6 질량％ 이하이다.
상기 외용제가 W/O 형인 경우, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BIII) 의 함유량의 질량비 [(BIII)/(AI)] 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 0.85 이하이고, 바람직하게는 0.80 이하, 보다 바람직하게는 0.75 이하, 더욱 바람직하게는 0.70 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.02 이상, 더욱 바람직하게는 0.03 이상이다.
상기 외용제가 W/O 형이며, 성분 (AI) 가, 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상인 경우, 상기 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BIII) 의 함유량의 질량비 [(BIII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 는, 0.85 이하이고, 바람직하게는 0.80 이하, 보다 바람직하게는 0.75 이하, 더욱 바람직하게는 0.70 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.02 이상, 더욱 바람직하게는 0.03 이상이다.
상기 외용제가 W/O 형인 경우이며 그 외용제가 성분 (CIII-1) 을 포함하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (CIII-1) 의 함유량은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.1 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 1 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 3 질량％ 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점, 및 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 25 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 20 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 18 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 16 질량％ 이하이다.
상기 외용제가 W/O 형인 경우이며 그 외용제가 성분 (CIII-2) 를 포함하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (CIII-2) 의 함유량은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.1 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 1 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 3 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 5 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 8 질량％ 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점, 및 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 25 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 20 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 16 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 12 질량％ 이하이다.
제 2 ∼ 제 4 발명에 있어서, 상기 외용제가 W/O 형인 경우이며 그 외용제가 성분 (D) 를 포함하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (D) 의 함유량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 20 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 25 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 30 질량％ 이상이고, 그리고, 바람직하게는 70 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 60 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 50 질량％ 이하이다.
(수중 유적 (O/W) 형인 경우의 각 성분의 함유량 및 질량비)
제 2 ∼ 제 4 발명에 있어서, 상기 외용제가 O/W 형인 경우, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 1 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 2 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 3 질량％ 이상이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점, 및 경제성의 관점에서, 바람직하게는 40 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 35 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 30 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 20 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 15 질량％ 이하이다.
제 2 ∼ 제 4 발명에 있어서, 상기 외용제가 O/W 형인 경우, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 1 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 2 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 3 질량％ 이상이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점, 및 경제성의 관점에서, 바람직하게는 40 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 35 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 30 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 20 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 15 질량％ 이하이다.
제 2 발명에 있어서, 상기 외용제가 O/W 형인 경우, 외용제 중의 각 성분의 함유량 및 질량비는 이하와 같다.
상기 외용제가 O/W 형인 경우, 그 외용제 중의 성분 (BI) 의 함유량은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.05 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 0.1 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 1 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 3 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 5 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 8 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 10 질량％ 이상이고, 그리고, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 끈적임 등의 외용제로서의 사용감의 관점에서, 바람직하게는 30 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 25 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 20 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 18 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 16 질량％ 이하이다.
상기 외용제가 O/W 형인 경우, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BI) 의 함유량의 질량비 [(BI)/(AI)] 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 9 이하이고, 바람직하게는 8 이하, 보다 바람직하게는 6 이하, 더욱 바람직하게는 4 이하, 보다 더 바람직하게는 3 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.05 이상, 더욱 바람직하게는 0.1 이상, 보다 더 바람직하게는 0.2 이상이다.
상기 외용제가 O/W 형이며, 성분 (AI) 가, 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상인 경우, 상기 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BI) 의 함유량의 질량비 [(BI)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 9 이하, 보다 바람직하게는 8 이하, 더욱 바람직하게는 6 이하, 보다 더 바람직하게는 4 이하, 보다 더 바람직하게는 3 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.05 이상, 더욱 바람직하게는 0.1 이상, 보다 더 바람직하게는 0.2 이상이다.
상기 외용제가 O/W 형이며 그 외용제가 성분 (CI-1) 을 포함하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (CI-1) 의 함유량은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.1 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 1 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 3 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 5 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 8 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 10 질량％ 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점, 및 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 25 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 20 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 16 질량％ 이하이다.
상기 외용제가 O/W 형이며 그 외용제가 성분 (CI-2) 를 포함하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (CI-2) 의 함유량은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.1 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 0.5 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 1 질량％ 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점, 및 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 15 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 10 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 8 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 6 질량％ 이하이다.
제 3 발명에 있어서, 상기 외용제가 O/W 형인 경우, 외용제 중의 각 성분의 함유량 및 질량비는 이하와 같다.
상기 외용제가 O/W 형인 경우, 상기 외용제 중의 성분 (BII) 의 함유량은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.05 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 0.1 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 1 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 3 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 5 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 8 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 10 질량％ 이상이고, 그리고, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 끈적임 등의 사용감의 관점에서, 바람직하게는 30 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 25 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 20 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 16 질량％ 이하이다.
상기 외용제가 O/W 형인 경우, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BII) 의 함유량의 질량비 [(BII)/(AI)] 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 3.5 이하이고, 바람직하게는 3 이하, 보다 바람직하게는 2.5 이하, 더욱 바람직하게는 2 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.03 이상, 더욱 바람직하게는 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 0.1 이상이다.
상기 외용제가 O/W 형이며, 성분 (AI) 가, 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상인 경우, 상기 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BII) 의 함유량의 질량비 [(BII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 3.5 이하, 보다 바람직하게는 3 이하, 더욱 바람직하게는 2.5 이하, 보다 더 바람직하게는 2 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.03 이상, 더욱 바람직하게는 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 0.1 이상이다.
상기 외용제가 O/W 형이며 그 외용제가 성분 (CII-1) 을 포함하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (CII-1) 의 함유량은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.1 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 1 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 3 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 5 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 8 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 10 질량％ 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점, 및 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 25 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 20 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 18 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 16 질량％ 이하이다.
상기 외용제가 O/W 형이며 그 외용제가 성분 (CII-2) 를 포함하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (CII-2) 의 함유량은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.1 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 0.5 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 1 질량％ 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점, 및 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 15 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 10 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 8 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 6 질량％ 이하이다.
제 4 발명에 있어서, 상기 외용제가 O/W 형인 경우, 외용제 중의 각 성분의 함유량 및 질량비는 이하와 같다.
상기 외용제가 O/W 형인 경우, 상기 외용제 중의 성분 (BIII) 의 함유량은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.05 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 0.1 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 0.5 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 1 질량％ 이상이고, 그리고, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점, 및 끈적임 등의 사용감의 관점에서, 바람직하게는 15 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 10 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 8 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 6 질량％ 이하이다.
상기 외용제가 O/W 형인 경우, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BIII) 의 함유량의 질량비 [(BIII)/(AI)] 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 0.85 이하이고, 바람직하게는 0.80 이하, 보다 바람직하게는 0.75 이하, 더욱 바람직하게는 0.70 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.03 이상, 더욱 바람직하게는 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 0.10 이상이다.
상기 외용제가 O/W 형이며, 성분 (AI) 가, 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상인 경우, 상기 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BIII) 의 함유량의 질량비 [(BIII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 는, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 0.85 이하이고, 바람직하게는 0.80 이하, 보다 바람직하게는 0.75 이하, 더욱 바람직하게는 0.70 이하이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.01 이상, 보다 바람직하게는 0.03 이상, 더욱 바람직하게는 0.05 이상, 보다 더 바람직하게는 0.10 이상이다.
상기 외용제가 O/W 형이며 그 외용제가 성분 (CIII-1) 을 포함하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (CIII-1) 의 함유량은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.1 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 1 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 3 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 5 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 8 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 10 질량％ 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점, 및 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 25 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 20 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 18 질량％ 이하, 보다 더 바람직하게는 16 질량％ 이하이다.
상기 외용제가 O/W 형이며 그 외용제가 성분 (CIII-2) 를 포함하는 경우, 그 외용제 중의 성분 (CIII-2) 의 함유량은, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점에서, 바람직하게는 0.1 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 1 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 3 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 5 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 8 질량％ 이상, 보다 더 바람직하게는 10 질량％ 이상이고, 그리고, 상기와 동일한 관점, 및 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 25 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 20 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 16 질량％ 이하이다.
제 2 ∼ 제 4 발명에 있어서, 상기 외용제가 O/W 형인 경우로서 그 외용제가 성분 (D) 를 포함하는 경우, 상기 외용제 중의 성분 (D) 의 함유량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 0.01 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 0.03 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 0.05 질량％ 이상이고, 그리고, 바람직하게는 7 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 5 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 3 질량％ 이하이다.
[도포 방법]
제 2 ∼ 제 4 발명에 있어서 외용제를 피부에 도포하는 방법으로는, 외용제의 사용 형태 또는 목적에 따라, 공지된 방법에 의해 도포할 수 있다. 여기서, 「피부에 도포한다」 란, 피부 표면에 손 등으로 외용제를 직접 도포하는 것 뿐만 아니라, 분무 등에 의해 외용제를 피부 표면에 부착시키는 것을 포함한다. 상기 외용제가, 액체상, 기포상, 페이스트상, 크림상, 고체상인 것은, 통상 그대로 도포, 분무 등에 의해 시용할 수 있다.
(성분 (AI) 의 도포량)
제 2 ∼ 제 4 발명에 있어서, 성분 (AI) 의 피부 표면에 대한 도포량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 0.03 ㎎/㎠ 이상, 보다 바람직하게는 0.04 ㎎/㎠ 이상, 더욱 바람직하게는 0.05 ㎎/㎠ 이상, 보다 더 바람직하게는 0.07 ㎎/㎠ 이상이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점, 및 경제성의 관점에서, 바람직하게는 0.8 ㎎/㎠ 이하, 보다 바람직하게는 0.7 ㎎/㎠ 이하, 더욱 바람직하게는 0.6 ㎎/㎠ 이하이다. 보다 구체적으로는, 성분 (AI) 의 피부 표면에 대한 도포량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 그리고 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점, 및 경제성의 관점에서, 바람직하게는 0.03 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 바람직하게는 0.04 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 더욱 바람직하게는 0.05 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.07 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.07 ∼ 0.7 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.07 ∼ 0.6 ㎎/㎠ 이다.
제 2 ∼ 제 4 발명에 있어서, 성분 (AI) 가, 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상인 경우, 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부 표면에 대한 합계 도포량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 0.03 ㎎/㎠ 이상, 보다 바람직하게는 0.04 ㎎/㎠ 이상, 더욱 바람직하게는 0.05 ㎎/㎠ 이상, 보다 더 바람직하게는 0.07 ㎎/㎠ 이상이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점, 및 경제성의 관점에서, 바람직하게는 0.8 ㎎/㎠ 이하, 보다 바람직하게는 0.7 ㎎/㎠ 이하, 더욱 바람직하게는 0.6 ㎎/㎠ 이하이다. 보다 구체적으로는, 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부 표면에 대한 합계 도포량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 그리고 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점, 및 경제성의 관점에서, 바람직하게는 0.03 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 바람직하게는 0.04 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 더욱 바람직하게는 0.05 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.07 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.07 ∼ 0.7 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.07 ∼ 0.6 ㎎/㎠ 이다.
제 2 ∼ 제 4 발명에 있어서, 상기 외용제가 W/O 형인 경우, 성분 (AI) 의 피부 표면에 대한 도포량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 0.03 ㎎/㎠ 이상, 보다 바람직하게는 0.04 ㎎/㎠ 이상, 더욱 바람직하게는 0.05 ㎎/㎠ 이상, 보다 더 바람직하게는 0.07 ㎎/㎠ 이상, 보다 더 바람직하게는 0.10 ㎎/㎠ 이상, 보다 더 바람직하게는 0.20 ㎎/㎠ 이상이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점, 및 경제성의 관점에서, 바람직하게는 0.8 ㎎/㎠ 이하, 보다 바람직하게는 0.7 ㎎/㎠ 이하, 더욱 바람직하게는 0.6 ㎎/㎠ 이하이다. 보다 구체적으로는, 성분 (AI) 의 피부 표면에 대한 도포량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 그리고 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점, 및 경제성의 관점에서, 바람직하게는 0.03 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 바람직하게는 0.04 ∼ 0.8 ㎎/㎠,더욱 바람직하게는 0.05 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.07 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.10 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.20 ∼ 0.7 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.20 ∼ 0.6 ㎎/㎠ 이다.
제 2 ∼ 제 4 발명에 있어서, 상기 외용제가 W/O 형인 경우이며, 성분 (AI) 가, 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상인 경우, 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부 표면에 대한 합계 도포량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 0.03 ㎎/㎠ 이상, 보다 바람직하게는 0.04 ㎎/㎠ 이상, 더욱 바람직하게는 0.05 ㎎/㎠ 이상, 보다 더 바람직하게는 0.07 ㎎/㎠ 이상, 보다 더 바람직하게는 0.10 ㎎/㎠ 이상, 보다 더 바람직하게는 0.20 ㎎/㎠ 이상이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점, 및 경제성의 관점에서, 바람직하게는 0.8 ㎎/㎠ 이하, 보다 바람직하게는 0.7 ㎎/㎠ 이하, 더욱 바람직하게는 0.6 ㎎/㎠ 이하이다. 보다 구체적으로는, 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부 표면에 대한 합계 도포량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 그리고 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점, 및 경제성의 관점에서, 바람직하게는 0.03 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 바람직하게는 0.04 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 더욱 바람직하게는 0.05 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.07 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.10 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.20 ∼ 0.7 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.20 ∼ 0.6 ㎎/㎠ 이다.
제 2 ∼ 제 4 발명에 있어서, 상기 외용제가 O/W 형인 경우, 성분 (AI) 의 피부 표면에 대한 도포량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 0.03 ㎎/㎠ 이상, 보다 바람직하게는 0.04 ㎎/㎠ 이상, 더욱 바람직하게는 0.05 ㎎/㎠ 이상, 보다 더 바람직하게는 0.07 ㎎/㎠ 이상이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점, 및 경제성의 관점에서, 바람직하게는 0.8 ㎎/㎠ 이하, 보다 바람직하게는 0.7 ㎎/㎠ 이하, 더욱 바람직하게는 0.6 ㎎/㎠ 이하, 보다 더 바람직하게는 0.3 ㎎/㎠ 이하이다. 보다 구체적으로는, 성분 (AI) 의 피부 표면에 대한 도포량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 그리고 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점, 및 경제성의 관점에서, 바람직하게는 0.03 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 바람직하게는 0.04 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 더욱 바람직하게는 0.05 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.07 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.07 ∼ 0.7 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.07 ∼ 0.6 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.07 ∼ 0.3 ㎎/㎠ 이다.
제 2 ∼ 제 4 발명에 있어서, 상기 외용제가 O/W 형인 경우이며, 성분 (AI) 가, 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상인 경우, 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부 표면에 대한 합계 도포량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 0.03 ㎎/㎠ 이상, 보다 바람직하게는 0.04 ㎎/㎠ 이상, 더욱 바람직하게는 0.05 ㎎/㎠ 이상, 보다 더 바람직하게는 0.07 ㎎/㎠ 이상이고, 그리고, 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점, 및 경제성의 관점에서, 바람직하게는 0.8 ㎎/㎠ 이하, 보다 바람직하게는 0.7 ㎎/㎠ 이하, 더욱 바람직하게는 0.6 ㎎/㎠ 이하, 보다 더 바람직하게는 0.3 ㎎/㎠ 이하이다. 보다 구체적으로는, 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부 표면에 대한 합계 도포량은, 부착 억제 효과를 향상시키는 관점에서, 그리고 피부에 도포할 때의 사용감을 양호한 것으로 하는 관점, 및 경제성의 관점에서, 바람직하게는 0.03 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 바람직하게는 0.04 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 더욱 바람직하게는 0.05 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.07 ∼ 0.8 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.07 ∼ 0.7 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.07 ∼ 0.6 ㎎/㎠, 보다 더 바람직하게는 0.07 ∼ 0.3 ㎎/㎠ 이다.
상기 서술한 실시형태에 관해, 본 발명은 또한 이하의 실시양태를 개시한다.
<1> 평균 일차 입자경 dA 가 300 ㎚ 이하인 금속 산화물 (A) 를 0.07 ㎎/㎠ 이상, 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<2> 금속 산화물 (A) 가 산화티탄 및 산화아연으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상인, 상기 <1> 에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<3> 금속 산화물 (A) 가 그 표면을 소수화 처리 또는 친수화 처리한 것인, 상기 <1> 또는 <2> 에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<4> 금속 산화물 (A) 가 그 표면을 소수화 처리한 것인, 상기 <1> ∼ <3> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<5> 소수화 처리가 실리콘 처리, 알킬알콕시실란 처리 및 지방산 처리로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상인, <4> 에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<6> 금속 산화물 (A) 의 평균 일차 입자경 dA 가 80 ㎚ 이하인, 상기 <1> ∼ <5> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<7> 금속 산화물 (A) 의 평균 일차 입자경 dA 가 50 ㎚ 이하인, 상기 <1> ∼ <6> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<8> 금속 산화물 (A) 의 평균 일차 입자경 dA 가 5 ㎚ 이상인, 상기 <1> ∼ <7> 중 어느 하나 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<9> 금속 산화물 (A) 를 0.15 ㎎/㎠ 이상, 피부에 도포하는, 상기 <1> ∼ <8> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<10> 금속 산화물 (A) 를 0.8 ㎎/㎠ 이하, 피부에 도포하는, 상기 <1> ∼ <9> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<11> 금속 산화물 (A) 로서, 평균 일차 입자경 dA 가 5 ㎚ 이상 300 ㎚ 이하인, 소수화 처리된 산화티탄 및 산화아연으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상을 0.07 ㎎/㎠ 이상 0.8 ㎎/㎠ 이하, 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<12> 금속 산화물 (A) 로서, 평균 일차 입자경 dA 가 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하인, 소수화 처리된 산화티탄 및 산화아연으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상을 0.07 ㎎/㎠ 이상 0.8 ㎎/㎠ 이하, 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<13> 금속 산화물 (A) 로서, 평균 일차 입자경 dA 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인, 소수화 처리된 산화티탄 및 산화아연으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상을 0.15 ㎎/㎠ 이상 0.8 ㎎/㎠ 이하, 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<14> 소수화 처리가 실리콘 처리, 알킬알콕시실란 처리 및 지방산 처리로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상인, 상기 <11> ∼ <13> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<15> 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상, 및 성분 (BI) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BI) 의 함유량의 질량비 [(BI)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 9 이하 0.01 이상인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하인 지방산 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (BI) : 에스테르유
<16> 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상, 및 성분 (BI) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BI) 의 함유량의 질량비 [(BI)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 9 이하 0.01 이상인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 지방산 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (BI) : 에스테르유
<17> 질량비 [(BI)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 6 이하 0.05 이상인, 상기 <15> 또는 <16> 에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<18> 질량비 [(BI)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 4 이하 0.1 이상인, 상기 <15> 또는 <16> 에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<19> 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부에 대한 합계 도포량이 0.03 ㎎/㎠ 이상 0.8 ㎎/㎠ 이하인, 상기 <15> ∼ <18> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<20> 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부에 대한 합계 도포량이 0.05 ㎎/㎠ 이상 0.8 ㎎/㎠ 이하인, 상기 <15> ∼ <18> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<21> 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부에 대한 합계 도포량이 0.07 ㎎/㎠ 이상 0.7 ㎎/㎠ 이하인, 상기 <15> ∼ <18> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<22> 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 1 질량％ 이상 40 질량％ 이하인, 상기 <15> ∼ <21> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<23> 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 2 질량％ 이상 35 질량％ 이하인, 상기 <15> ∼ <21> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<24> 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 3 질량％ 이상 30 질량％ 이하인, 상기 <15> ∼ <21> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<25> 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상, 및 성분 (BI) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BI) 의 함유량의 질량비 [(BI)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 6 이하 0.05 이상이고, 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부에 대한 합계 도포량이 0.03 ㎎/㎠ 이상 0.8 ㎎/㎠ 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하인 지방산 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (BI) : 에스테르유
<26> 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상, 및 성분 (BI) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BI) 의 함유량의 질량비 [(BI)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 4 이하 0.05 이상이고, 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부에 대한 합계 도포량이 0.03 ㎎/㎠ 이상 0.8 ㎎/㎠ 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 지방산 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (BI) : 에스테르유
<27> 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상, 및 성분 (BI) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (B) 의 함유량의 질량비 [(BI)/[(A1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 6 이하 0.05 이상이고, 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 1 질량％ 이상 40 질량％ 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하인 지방산 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (BI) : 에스테르유
<28> 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상, 및 성분 (BI) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BI) 의 함유량의 질량비 [(BI)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 4 이하 0.05 이상이고, 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 1 질량％ 이상 40 질량％ 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 지방산 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (BI) : 에스테르유
<29> 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상, 성분 (BI), 및 성분 (CI-1) 을 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BI) 의 함유량의 질량비 [(BI)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 4 이하 0.1 이상이고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (CI-1) 의 함유량의 질량비 [(CI-1)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 2 이하 0.1 이상이고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BI) 및 성분 (CI-1) 의 합계 함유량의 질량비 [[(BI) + (CI-1)]/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 4 이하 0.1 이상이고, 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 1 질량％ 이상 40 질량％ 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 지방산 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (BI) : 에스테르유
성분 (CI-1) : 불휘발성의 탄화수소유
<30> 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상, 성분 (BI), 및 성분 (CI-2) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BI) 의 함유량의 질량비 [(BI)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 4 이하 0.1 이상이고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (CI-2) 의 함유량의 질량비 [(CI-2)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 0.70 이하 0.03 이상이고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BI) 및 성분 (CI-2) 의 합계 함유량의 질량비 [[(BI) + (CI-2)]/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 4 이하 0.1 이상이고, 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 1 질량％ 이상 40 질량％ 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 지방산 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (BI) : 에스테르유
성분 (CI-2) : 불휘발성의 실리콘유
<31> 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상, 성분 (BI), 성분 (CI-1) 및 성분 (CI-2) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BI) 의 함유량의 질량비 [(BI)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 4 이하 0.1 이상이고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (CI-2) 의 함유량의 질량비 [(CI-2)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 0.70 이하 0.03 이상이고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (CI-1) 및 성분 (CI-2) 의 합계 함유량의 질량비 [[(CI-1) + (CI-2)]/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 2 이하 0.1 이상이고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BI), 성분 (CI-1) 및 성분 (CI-2) 의 합계 함유량의 질량비 [[(BI) + (CI-1) + (CI-2)]/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 4 이하 0.1 이상이고, 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 1 질량％ 이상 40 질량％ 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 지방산 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (BI) : 에스테르유
성분 (CI-1) : 불휘발성의 탄화수소유
성분 (CI-2) : 불휘발성의 실리콘유
<32> 외용제가 유중 수적형이며, 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 10 질량％ 이상 40 질량％ 이하인, 상기 <25> ∼ <31> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<33> 외용제가 수중 유적형이며, 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 1 질량％ 이상 15 질량％ 이하인, 상기 <25> ∼ <31> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<34> 외용제 중의 성분 (BI) 의 함유량이 1 질량％ 이상 18 질량％ 이하인, <25> ∼ <33> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<35> 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부에 대한 합계 도포량이 0.05 ㎎/㎠ 이상 0.8 ㎎/㎠ 이하인, 상기 <25> ∼ <34> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<36> 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부에 대한 합계 도포량이 0.07 ㎎/㎠ 이상 0.7 ㎎/㎠ 이하인, 상기 <25> ∼ <34> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<37> 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상, 및 성분 (BII) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (B) 의 함유량의 질량비 [(B)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 3.5 이하 0.01 이상인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하인 지방산 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (BII) : 불휘발성의 탄화수소유
<38> 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상, 및 성분 (BII) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BII) 의 함유량의 질량비 [(BII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 3.5 이하 0.01 이상인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 지방산 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (BII) : 불휘발성의 탄화수소유
<39> 질량비 [(BII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 2.5 이하 0.05 이상인, 상기 <37> 또는 <38> 에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<40> 질량비 [(BII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 2 이하 0.1 이상인, 상기 <37> 또는 <38> 에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<41> 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부에 대한 합계 도포량이 0.03 ㎎/㎠ 이상 0.8 ㎎/㎠ 이하인, 상기 <37> ∼ <40> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<42> 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부에 대한 합계 도포량이 0.05 ㎎/㎠ 이상 0.8 ㎎/㎠ 이하인, 상기 <37> ∼ <40> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<43> 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부에 대한 합계 도포량이 0.07 ㎎/㎠ 이상 0.7 ㎎/㎠ 이하인, 상기 <37> ∼ <40> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<44> 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 1 질량％ 이상 40 질량％ 이하인, 상기 <37> ∼ <43> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<45> 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 2 질량％ 이상 35 질량％ 이하인, 상기 <37> ∼ <43> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<46> 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 3 질량％ 이상 30 질량％ 이하인, 상기 <37> ∼ <43> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<47> 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상, 및 성분 (BII) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BII) 의 함유량의 질량비 [(BII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 2.5 이하 0.05 이상이고, 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부에 대한 합계 도포량이 0.03 ㎎/㎠ 이상 0.8 ㎎/㎠ 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하인 지방산 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (BII) : 불휘발성의 탄화수소유
<48> 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상, 및 성분 (BII) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BII) 의 함유량의 질량비 [(BII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 2 이하 0.1 이상이고, 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부에 대한 합계 도포량이 0.03 ㎎/㎠ 이상 0.8 ㎎/㎠ 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 지방산 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (BII) : 불휘발성의 탄화수소유
<49> 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상, 및 성분 (BII) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BII) 의 함유량의 질량비 [(BII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 2.5 이하 0.05 이상이고, 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 1 질량％ 이상 40 질량％ 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하인 지방산 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (BII) : 불휘발성의 탄화수소유
<50> 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상, 및 성분 (BII) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BII) 의 함유량의 질량비 [(BII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 2 이하 0.1 이상이고, 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 1 질량％ 이상 40 질량％ 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 지방산 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (BII) : 불휘발성의 탄화수소유
<51> 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상, 성분 (BII), 및 성분 (CII-1) 을 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (B) 의 함유량의 질량비 [(BII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 2 이하 0.1 이상이고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BII) 및 성분 (CII-1) 의 합계 함유량의 질량비 [[(BII) + (CII-1)]/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 4 이하 0.1 이상이고, 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 1 질량％ 이상 40 질량％ 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 지방산 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (BII) : 불휘발성의 탄화수소유
성분 (CII-1) : 에스테르유
<52> 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상, 성분 (BII), 및 성분 (CII-2) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BII) 의 함유량의 질량비 [(BII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 2 이하 0.1 이상이고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (CII-2) 의 함유량의 질량비 [(CII-2)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 0.70 이하 0.03 이상이고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BII) 및 성분 (CII-2) 의 합계 함유량의 질량비 [[(BII) + (CII-2)]/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 2 이하 0.1 이상이고, 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 1 질량％ 이상 40 질량％ 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 지방산 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (BII) : 불휘발성의 탄화수소유
성분 (CII-2) : 불휘발성의 실리콘유
<53> 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상, 성분 (BII), 성분 (CII-1) 및 성분 (CII-2) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BIII) 의 함유량의 질량비 [(BII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 2 이하 0.1 이상이고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (CII-2) 의 함유량의 질량비 [(CII-2)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 0.70 이하 0.03 이상이고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BIII) 및 성분 (CIII-2) 의 합계 함유량의 질량비 [[(BII) + (CII-2)]/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 2 이하 0.1 이상이고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BII), 성분 (CII-1) 및 성분 (CII-2) 의 합계 함유량의 질량비 [[(BII) + (CII-1) + (CII-2)]/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 4 이하 0.1 이상이고, 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 1 질량％ 이상 40 질량％ 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 지방산 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (BII) : 불휘발성의 탄화수소유
성분 (CII-1) : 에스테르유
성분 (CII-2) : 불휘발성의 실리콘유
<54> 외용제가 유중 수적형이며, 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 10 질량％ 이상 40 질량％ 이하인, <47> ∼ <53> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<55> 외용제가 수중 유적형이며, 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 1 질량％ 이상 15 질량％ 이하인, <47> ∼ <53> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<56> 외용제 중의 성분 (BII) 의 함유량이 1 질량％ 이상 18 질량％ 이하인, <47> ∼ <55> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<57> 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부에 대한 합계 도포량이 0.05 ㎎/㎠ 이상 0.8 ㎎/㎠ 이하인, 상기 <47> ∼ <56> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<58> 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부에 대한 합계 도포량이 0.07 ㎎/㎠ 이상 0.7 ㎎/㎠ 이하인, 상기 <47> ∼ <56> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<59> 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상, 및 성분 (BIII) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BIII) 의 함유량의 질량비 [(BIII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 0.85 이하 0.01 이상인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하인 지방산 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (BIII) : 불휘발성의 실리콘유
<60> 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상, 및 성분 (BIII) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BIII) 의 함유량의 질량비 [(BIII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 0.85 이하 0.01 이상인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 지방산 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (BIII) : 불휘발성의 실리콘유
<61> 질량비 [(BIII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 0.75 이하 0.02 이상인, 상기 <59> 또는 <60> 에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<62> 질량비 [(BIII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 0.70 이하 0.03 이상인, 상기 <59> 또는 <60> 에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<63> 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부에 대한 합계 도포량이 0.03 ㎎/㎠ 이상 0.8 ㎎/㎠ 이하인, 상기 <59> ∼ <62> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<64> 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부에 대한 합계 도포량이 0.05 ㎎/㎠ 이상 0.8 ㎎/㎠ 이하인, 상기 <59> ∼ <62> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<65> 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부에 대한 합계 도포량이 0.07 ㎎/㎠ 이상 0.7 ㎎/㎠ 이하인, 상기 <59> ∼ <62> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<66> 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 1 질량％ 이상 40 질량％ 이하인, 상기 <59> ∼ <65> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<67> 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 2 질량％ 이상 35 질량％ 이하인, 상기 <59> ∼ <65> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<68> 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 3 질량％ 이상 30 질량％ 이하인, 상기 <59> ∼ <65> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<69> 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상, 및 성분 (BIII) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BIII) 의 함유량의 질량비 [(BIII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 0.75 이하 0.02 이상이고, 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부에 대한 합계 도포량이 0.03 ㎎/㎠ 이상 0.8 ㎎/㎠ 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하인 지방산 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (BIII) : 불휘발성의 실리콘유
<70> 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상, 및 성분 (BIII) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BIII) 의 함유량의 질량비 [(BIII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 0.70 이하 0.03 이상이고, 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부에 대한 합계 도포량이 0.03 ㎎/㎠ 이상 0.8 ㎎/㎠ 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 지방산 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (BIII) : 불휘발성의 실리콘유
<71> 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상, 및 성분 (BIII) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BIII) 의 함유량의 질량비 [(BIII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 0.75 이하 0.02 이상이고, 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 1 질량％ 이상 40 질량％ 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하인 지방산 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (BIII) : 불휘발성의 실리콘유
<72> 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상, 및 성분 (BIII) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BIII) 의 함유량의 질량비 [(BIII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 0.70 이하 0.03 이상이고, 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 1 질량％ 이상 40 질량％ 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 지방산 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (BIII) : 불휘발성의 실리콘유
<73> 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상, 성분 (BIII), 및 성분 (CIII-1) 을 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BIII) 의 함유량의 질량비 [(BIII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 0.70 이하 0.03 이상이고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (B) 및 성분 (C1) 의 합계 함유량의 질량비 [[(BIII) + (CIII-1)]/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 4 이하 0.1 이상이고, 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 1 질량％ 이상 40 질량％ 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 지방산 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (BIII) : 불휘발성의 실리콘유
성분 (CIII-1) : 에스테르유
<74> 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상, 성분 (BIII), 및 성분 (CIII-2) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BIII) 의 함유량의 질량비 [(BIII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 0.70 이하 0.03 이상이고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BIII) 및 성분 (CIII-2) 의 합계 함유량의 질량비 [[(BIII) + (CIII-2)]/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 2 이하 0.1 이상이고, 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 1 질량％ 이상 40 질량％ 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 지방산 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (BIII) : 불휘발성의 실리콘유
성분 (CIII-2) : 불휘발성의 탄화수소유
<75> 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상, 성분 (BIII), 성분 (CIII-1) 및 성분 (CIII-2) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BIII) 의 함유량의 질량비 [(BIII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 0.70 이하 0.03 이상이고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BIII) 및 성분 (CIII-2) 의 합계 함유량의 질량비 [[(BIII) + (CIII-2)]/[(AI-1) + (AI-2) + (A3)]] 가 2 이하 0.1 이상이고, 그 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BIII), 성분 (CIII-1) 및 성분 (CIII-2) 의 합계 함유량의 질량비 [[(BIII) + (CIII-1) + (CIII-2)]/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 4 이하 0.1 이상이고, 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 1 질량％ 이상 40 질량％ 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 지방산 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상
성분 (BIII) : 불휘발성의 실리콘유
성분 (CIII-1) : 에스테르유
성분 (CIII-2) : 불휘발성의 탄화수소유
<76> 외용제가 유중 수적형이며, 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 10 질량％ 이상 40 질량％ 이하인, 상기 <69> ∼ <75> 의 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<77> 외용제가 수중 유적형이며, 외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 1 질량％ 이상 15 질량％ 이하인, 상기 <69> ∼ <75> 의 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<78> 외용제 중의 성분 (BIII) 의 함유량이 1 질량％ 이상 6 질량％ 이하인, 상기 <69> ∼ <77> 의 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<79> 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부에 대한 합계 도포량이 0.05 ㎎/㎠ 이상 0.8 ㎎/㎠ 이하인, 상기 <69> ∼ <78> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
<80> 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부에 대한 합계 도포량이 0.07 ㎎/㎠ 이상 0.7 ㎎/㎠ 이하인, 상기 <69> ∼ <78> 중 어느 하나에 기재된 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
실시예
이하의 실시예 및 비교예에 있어서, 「부」 및 「％」 는 특별히 기재하지 않는 한 「질량부」 및 「질량％」 이다.
(금속 산화물 (A) 의 평균 일차 입자경 dA 및 성분 (AI) 의 평균 일차 입자경 dAI)
금속 산화물 (A) 또는 성분 (AI) 가 판상 이외의 형상을 갖는 경우에는, 미리 조제한 금속 산화물 (A) 또는 성분 (AI) 의 분산액을 투과형 전자 현미경 (TEM) (닛폰 전자 (주) 제조, 상품명 「JEM1400Plus」) 의 시료대에 얹고, 풍건시킨 후, TEM 에 의해 관찰 배율 50,000 배의 조건으로 관찰한 화상 중의 300 개의 일차 입자의 최대 단경을 측정하고, 그 수평균값을 평균 일차 입자경 dA 또는 평균 일차 입자경 dAI 로 하였다. 여기서, 최대 단경이란, 장경과 직교하는 단경 중, 최대 길이를 갖는 단경을 의미한다.
금속 산화물 (A) 또는 성분 (AI) 가 판상인 경우에는, 상기와 동일한 방법 및 관찰 배율의 조건으로 관찰한 화상 중의 300 개의 일차 입자의 두께를 측정하고, 그 수평균값을 평균 일차 입자경 dA 또는 평균 일차 입자경 dAI 로 하였다.
또한, 금속 산화물 (A) 또는 성분 (AI) 의 분산액은, 금속 산화물 (A) 또는 성분 (AI) 5 g 에 용매로서 에탄올 95 g 을 첨가하고 초음파 분산시켜 조제하였다.
(25 ℃ 에 있어서의 동점도)
25 ℃ 에 있어서의 동점도는, ASTM D 445-46T 또는 JIS Z 8803 에 준하여, 우베로데 점도계를 사용하여 측정하였다.
실시예 및 비교예에서는, 이하의 표 1 에 나타내는 금속 산화물 (A) 또는 표 2 에 나타내는 성분 (AI) 의 시판품을 사용하였다.
실시예 1-1 ∼ 1-9, 비교예 1-1
표 3 에 나타내는 조성으로, 금속 산화물 (A) 와 휘발성유를 실온에서 교반, 혼합하여, 실시예 1-1 ∼ 1-9 및 비교예 1-1 에서 사용하는 시료를 각각 얻었다. 휘발성유는, 도데카메틸펜타실록산 (신에츠 화학 공업 (주) 제조의 「KF-96L-2cs」, 25 ℃ 에 있어서의 동점도 : 2 ㎟/s) 을 사용하였다.
얻어진 시료의 대기 유해 물질의 부착 억제 효과를 이하에 나타내는 방법 (1) 에 의해 평가하였다. 결과를 표 3 에 나타낸다.
실시예 1-10 ∼ 1-13, 실시예 1-15, 비교예 1-2
표 4 에 나타내는 금속 산화물 (A) 3.5 부 및 에탄올 96.5 부를 교반, 혼합하여, 실시예 1-10 ∼ 1-13, 실시예 1-15 및 비교예 1-2 에서 사용하는 시료를 각각 얻었다.
얻어진 시료의 대기 유해 물질의 부착 억제 효과를 이하에 나타내는 방법 (1) 에 의해 평가하였다. 결과를 표 4 에 나타낸다.
실시예 1-14
표 4 에 나타내는 금속 산화물 (A) 5 부 및 에탄올 95 부를 교반, 혼합하여, 실시예 1-14 에서 사용하는 시료를 얻었다.
얻어진 시료의 대기 유해 물질의 부착 억제 효과를 이하에 나타내는 방법 (1) 에 의해 평가하였다. 결과를 표 4 에 나타낸다.
<대기 유해 물질의 부착 억제 효과의 평가 방법 (1)>
실시예 및 비교예에서 얻은 시료를, 표 3 및 표 4 에 나타내는 금속 산화물 (A) 의 도포량이 되도록, 피부의 대체로서 백색 인공 피혁 (상품명 「라포레 S2923」, (주) 오카모토 신화 제조) 에 도포하고, 실온에서 하룻밤 방치하여 건조시켰다.
평가용 대기 유해 물질의 송풍 환경 중에 금속 화합물 (A) 가 도포된 인공 피혁 표면을 노출시키고, 측색계를 사용하여 L*a*b* 값을 측정하고, 노출 전후의 색차 ΔE 를 이하의 방법에 의해 측정하였다.
[색차 ΔE 의 측정]
측색계 (상품명 「CM-2002」, 코니카 미놀타 (주) 제조) 를 사용하여, 평가용 대기 유해 물질을 노출시키기 전의 금속 산화물 (A) 가 도포된 인공 피혁 표면의 L1*, a1*, b1* 값을 측정하였다.
별도로, 글로브 백 (품번 「3-118-01」, 애즈원 (주) 제조) 내에, 송풍기 (상품명 「실키 윈드 9ZF002RH02」, 사이즈 : 129 × 106 × 83 ㎜, 리듬 시계 공업 (주) 제조), 망체 (Test sieves 시험용 체 JIS Z 8801, 프레임 치수 : φ100 × 45 H, 눈금 간격 : 106 ㎛, 도쿄 스크린 (주) 제조) 를 고정시켰다. 망체의 설치 높이는 17 ㎝ 로 하였다.
시험 샘플의 금속 산화물 (A) 가 도포된 인공 피혁 (5 ㎝ × 4 ㎝) 을 그 인공 피혁의 하단의 높이가 11 ㎝ 의 위치가 되도록 지지체에 첩부 (貼付) 하였다. 그 지지체의 인공 피혁의 도포 표면과 송풍기 사이의 거리를 15 ㎝ 로 하고, 도 1 에 나타내는 바와 같이 송풍기의 송풍 방향에 대해 인공 피혁의 도포 표면을 수직으로, 송풍기의 날개의 중심 높이와 인공 피혁의 중심 높이가 동일해지도록 설치하였다.
글로브 백 내의 온도를 25 ℃, 상대습도를 57 ％RH 로 하고, 망체에서 막힘 제거 브러시 (상품명 「JNB-5」, 브러시 직경 53 ㎛, 도쿄 스크린 (주) 제조) 를 사용하고, 평가용 대기 유해 물질로서 흑연 분말 (상품명 「J-CPB」, 평균 입경 : 5.5 ㎛, 닛폰 흑연 공업 (주) 제조) 50 ㎎ 을 분급하면서, 송풍 눈금을 1 로 설정한 송풍기의 취출구의 앞에 1 분간 낙하시켜, 평가용 대기 유해 물질의 송풍 환경 중에 금속 산화물 (A) 가 도포된 인공 피혁 표면을 노출시켰다.
이어서, 상기 측색계를 사용하여 노출시킨 인공 피혁 표면의 L2*, a2*, b2* 값을 측정하고, 하기 식 (1-I) 로부터 색차 ΔE 값을 구하였다.
ΔE = [(L1* - L2*)2 + (a1* - a2*)2 + (b1* - b2*)2]0.5
(1-I)
이상의 조작을 각 시료에 대해 3 회 실시하고, 시험 샘플의 금속 산화물 (A) 를 도포한 인공 피혁의 색차 ΔE 의 평균값을 ΔEt 로 하였다. 또한, 표준 샘플로서 금속 산화물 (A) 를 도포하고 있지 않은 인공 피혁에 대해서도 상기와 동일한 조작을 3 회 실시하고, 색차 ΔE 의 평균값을 ΔEs 로 하고, 하기 식 (1-II) 로부터 부착 억제율을 산출하였다. 부착 억제율이 높을수록 대기 유해 물질의 부착 억제 효과가 우수하다.
대기 유해 물질의 부착 억제율 (％) = 100 × (ΔEs - ΔEt)/ΔEs
(1-II)
표 3 으로부터, 실시예 1-1 ∼ 1-9 는, 평균 일차 입자경 dA 가 소정의 범위인 금속 산화물 (A) 를 0.03 ㎎/㎠ 이상 도포했기 때문에, 비교예 1-1 과 비교하여, 높은 부착 억제 효과를 갖는 것을 알 수 있다.
표 4 로부터, 실시예 1-10 ∼ 1-15 는, 평균 일차 입자경 dA 가 800 ㎚ 이하인 금속 산화물 (A) 를 소정의 도포량으로 도포했기 때문에, 비교예 1-2 와 비교하여, 높은 부착 억제 효과를 갖는 것을 알 수 있다.
실시예 2-1 ∼ 2-13, 비교예 2-1 ∼ 2-8, 참고예 2-1 ∼ 2-4
표 5 ∼ 9 에 나타내는 조성으로 성분 (AI) 또는 성분 (AI'), 성분 (BI) 및 성분 (D) 를 실온에서 교반, 혼합하여, 실시예 2-1 ∼ 2-13, 비교예 2-1 ∼ 2-8 의 외용제를 얻었다.
성분 (BI) 로서 팔미트산이소프로필 (카오 (주) 제조, 상품명 「엑세팔 IPP」), 성분 (D) 로서 도데카메틸펜타실록산 (신에츠 화학 공업 (주) 제조, 상품명 「KF-96L-2cs」, 25 ℃ 에 있어서의 동점도 : 2 ㎟/s) 을 사용하였다.
또, 성분 (AI') 로서, 메틸실록산 망상 중합체 (모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈·재팬 합동 회사 제조 「토스펄 145A」 (진구상 실리콘 미립자, 평균 입자경 : 4.5 ㎛ (카탈로그값))) 및 실리카 입자 (AGC 에스아이텍 (주) 「선스페어 NP-30」 (평균 입자경 : 4 ㎛ (카탈로그값))) 를 사용하였다.
또한, 참고예 2-1 ∼ 2-4 에 있어서는, 성분 (BI) 를 사용하지 않고 표 5 ∼ 8 에 나타내는 조성으로 성분 (AI) 와 성분 (D) 를 교반, 혼합하여 외용제로서 사용하였다.
얻어진 외용제를 사용하여 대기 유해 물질의 부착 억제 효과를 이하에 나타내는 방법 (2) 에 의해 평가하였다. 결과를 표 5 ∼ 9 에 나타낸다.
<대기 유해 물질의 부착 억제 효과의 평가 방법 (2)>
상기에서 얻어진 외용제를, 성분 (AI) 또는 성분 (AI') 의 도포량이 0.12 ㎎/㎠ 가 되도록, 피부의 대체로서 백색 인공 피혁 (상품명 「라포레 S2923」, (주) 오카모토 신화 제조) 에 도포하고, 실온에서 하룻밤 방치하여 건조시켰다.
평가용 대기 유해 물질의 송풍 환경 중에 외용제가 도포된 인공 피혁 표면을 노출시키고, 측색계를 사용하여 L*a*b* 값을 측정하고, 노출 전후의 색차 ΔE 를 이하의 방법에 의해 측정하였다.
[색차 ΔE 의 측정]
측색계 (상품명 「CM-2002」, 코니카 미놀타 (주) 제조) 를 사용하여, 평가용 대기 유해 물질을 노출시키기 전의 외용제가 도포된 인공 피혁 표면의 L1*, a1*, b1* 값을 측정하였다.
별도로, 글로브 백 (품번 「3-118-01」, 애즈원 (주) 제조) 내에, 송풍기 (상품명 「실키 윈드 9ZF002RH02」, 사이즈 : 129 × 106 × 83 ㎜, 리듬 시계 공업 (주) 제조), 망체 (Test sieves 시험용 체 JIS Z 8801, 프레임 치수 : φ100 × 45 H, 눈금 간격 : 106 ㎛, 도쿄 스크린 (주) 제조) 를 고정시켰다. 망체 설치 높이는 17 ㎝ 로 하였다.
시험 샘플의 외용제가 도포된 인공 피혁 (5 ㎝ × 4 ㎝) 을 그 인공 피혁의 하단의 높이가 11 ㎝ 의 위치가 되도록 지지체에 첩부하였다. 그 지지체의 인공 피혁의 도포 표면과 송풍기 사이의 거리를 15 ㎝ 로 하고, 도 1 에 나타내는 바와 같이 송풍기의 송풍 방향에 대해 인공 피혁의 도포 표면을 수직으로, 송풍기의 날개의 중심 높이와 인공 피혁의 중심 높이가 동일해지도록 설치하였다.
글로브 백 내의 온도를 25 ℃, 상대습도를 57 ％RH 로 하고, 망체에서 막힘 제거 브러시 (상품명 「JNB-5」, 브러시 직경 53 ㎛, 도쿄 스크린 (주) 제조) 를 사용하고, 평가용 대기 유해 물질로서 흑연 분말 (상품명 「J-CPB」, 평균 입경 : 5.5 ㎛, 닛폰 흑연 공업 (주) 제조) 50 ㎎ 을 분급하면서, 송풍 눈금을 1 로 설정한 송풍기의 취출구의 앞에 1 분간 낙하시켜, 평가용 대기 유해 물질의 송풍 환경 중에 외용제가 도포된 인공 피혁 표면을 노출시켰다.
이어서, 상기 측색계를 사용하여 노출시킨 인공 피혁 표면의 L2*, a2*, b2* 값을 측정하고, 하기 식 (2-I) 로부터 색차 ΔE 값을 구하였다.
ΔE = [(L1* - L2*)2 + (a1* - a2*)2 + (b1* - b2*)2]0.5
(2-I)
이상의 조작을 각 시험 샘플에 대해 3 회 실시하고, 시험 샘플의 외용제를 도포한 인공 피혁의 색차 ΔE 의 평균값을 ΔEt 로 하였다. 또한, 표준 샘플로서 외용제를 도포하고 있지 않은 인공 피혁에 대해서도 상기와 동일한 조작을 3 회 실시하고, 색차 ΔE 의 평균값을 ΔEs 로 하고, 하기 식 (2-II) 로부터 부착 억제율을 산출하였다. 부착 억제율이 높을수록 대기 유해 물질의 부착 억제 효과가 우수하다.
대기 유해 물질의 부착 억제율 (％) = 100 × (ΔEs - ΔEt)/ΔEs
(2-II)
표 5 ∼ 9 로부터, 실시예 2-1 ∼ 2-13 은, 성분 (AI) 및 성분 (BI) 를 함유하고, 성분 (AI) 에 대한 성분 (BI) 의 질량비 [(BI)/(AI)] 가 9 이하인 외용제를 도포함으로써, 비교예 2-1 ∼ 2-8 과 비교하여, 높은 부착 억제 효과를 갖는 것을 알 수 있다.
또, 참고예 2-1 ∼ 2-4 에 비해, 실시예 2-1 ∼ 2-13 의 외용제는, 성분 (BI) 를 포함하기 때문에, 사용감 (감촉) 도 양호하다.
실시예 2-14 ∼ 2-21
이하의 처방예 2-1 ∼ 2-8 에 나타내는 외용제를 조제하여, 각 외용제 2 ㎎/㎠ 를 백색 인공 피혁에 도포한 것 이외에는, 전술한 대기 유해 물질의 부착 억제 효과의 평가 방법 (2) 와 동일하게 평가를 실시하였다. 결과를 표 10 에 나타낸다.
또한, 처방예 중의 각 표기는 이하와 같다.
*1 : 사카이 화학 공업 (주) 제조 「STR-100C-LF」
*2 : 테이카 (주) 제조 「MICRO ZINC OXIDE MZ-504R3M」
*3 : 닛신 오일리오 그룹 (주) 제조 「에스테몰 N-01」
*4 : 니치유 (주) 제조 「팔림 EX」
*5 : 닛폰 서팩탄트 공업 (주) 제조 「닛콜 스쿠알란」
*6 : 신에츠 화학 공업 (주) 제조 「KF-96A-10CS」
*7 : 카오 (주) 제조 「스핑고리피드 E」
*8 : 신에츠 화학 공업 (주) 제조 「KF-6015」
*9 : 신에츠 화학 공업 (주) 제조 「KF-96L-2CS」
*10 : 모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈·재팬 합동 회사 제조 「토스펄 145A」
*11 : 미요시 화성 (주) 제조 「SI-탤크 JA-46R」
*12 : 카오 (주) 제조 「엑세팔 TGO」
*13 : 신에츠 화학 공업 (주) 제조 「KF-96A-6CS」
*14 : 사카이 화학 (주) 제조 「FINEX-30-OTS(K)」
*15 : BASF 재팬 (주) 제조 「유비눌 MC80」
*16 : BASF 재팬 (주) 제조 「TINOSORB S」
*17 : 카오 (주) 제조 「엑세팔 IPP」
*18 : 모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈·재팬 합동 회사 제조 「실리콘 TSF405A」
*19 : 이시하라 산업 (주) 제조 「MPT-171」
*20 : 고급 알코올 공업 (주) 제조 「세틸 알코올 NX」
*21 : 미요시 유지 (주) 제조 「몬텍스 A」
*22 : 카오 (주) 제조 「에멀겐 1620G」
*23 : Lubrizol Advanced Materials, Inc. 제조 「PEMULENTR-1」
*24 : Lubrizol Advanced Materials, Inc. 제조 「PEMULENTR-2」
*25 : 사카이 화학 공업 (주) 제조 「STR-100W-OTS」
*26 : BASF 재팬 (주) 제조 「유비눌 T150」
*27 : 카오 (주) 제조 「레오돌 TW-S120V」
*28 : 니치유 (주) 제조 「팔림 4」
*29 : 사카이 화학 공업 (주) 제조 「FINEX-50-LPTM」
*30 : 다이토 화성 공업 (주) 제조 「D-FZN(SI01)」
*31 : 닛신 오일리오 그룹 (주) 제조 「코스몰 525」
*32 : BASF 재팬 (주) 제조 「유비눌 A Plus GRANULAR」
*33 : 카오 (주) 제조 「레오돌 SP-S10V」
*34 : SEPPIC S. A. 사 제조 「SIMULGEL EG」
*35 : 신에츠 화학 공업 (주) 제조 「실리콘 X-52-1621」
*36 : 닛신 오일리오 그룹 (주) 제조 「사라코스 99」
처방예 2-1 (W/O 형 외용제, 질량비 [(BI)/(AI)] = 0.12, 질량비 [(CI-1)/(AI)] = 0.35)
(배합 성분 (양))
스테아르산 처리 산화티탄 (성분 (AI-1))*1
7 부
실리콘 처리 산화아연 (성분 (AI-3))*2
19 부
디카프르산네오펜틸글리콜 (성분 (BI))*3
3 부
유동 이소파라핀 (성분 (CI-1))*4
6 부
스쿠알란 (성분 (CI-1))*5
3 부
N-(헥사데실옥시하이드록시프로필)-N-하이드록시에틸헥사데카나미드*7
1.5 부
폴리옥시에틸렌/메틸폴리실록산 공중합체 (HLB : 4.5)*8
1.4 부
도데카메틸펜타실록산 (25 ℃ 동점도 : 2 ㎟/s) (성분 (D))*9
40.1 부
메틸실록산 망상 중합체*10
1 부
실리콘 피복 탤크*11
1.9 부
글리세린 (86 ％)
1 부
정제수 잔부
합계
100 부
처방예 2-2 (W/O 형 외용제, 질량비 [(BI)/(AI)] = 0.31, 질량비 [(CI-1)/(AI)] = 0.35, 질량비 [(CI-2)/(AI)] = 0.04)
(배합 성분 (양))
스테아르산 처리 산화티탄 (성분 (AI-1))*1
7 부
실리콘 처리 산화아연 (성분 (AI-3))*2
19 부
디카프르산네오펜틸글리콜 (성분 (BI))*3
3 부
트리2-에틸헥산산글리세릴 (성분 (BI))*12
5 부
유동 이소파라핀 (성분 (CI-1))*4
5 부
스쿠알란 (성분 (CI-1))*5
4 부
디메틸폴리실록산 (25 ℃ 동점도 : 10 ㎟/s) (성분 (CI-2))*6
1 부
N-(헥사데실옥시하이드록시프로필)-N-하이드록시에틸헥사데카나미드*7
1.5 부
폴리옥시에틸렌/메틸폴리실록산 공중합체 (HLB : 4.5)*8
1.4 부
도데카메틸펜타실록산 (25 ℃ 동점도 : 2 ㎟/s) (성분 (D))*9
35.1 부
메틸실록산 망상 중합체*10
3 부
실리콘 피복 탤크*11
1.9 부
글리세린 (86 ％)
1 부
정제수 잔부
합계
100 부
처방예 2-3 (W/O 형 외용제) (질량비 [(BI)/(AI)] = 0.12, 질량비 [(CI-1)/(AI)] = 0.35, 질량비 [(CI-2)/(AI)] = 0.23)
(배합 성분 (양))
스테아르산 처리 산화티탄 (성분 (AI-1))*1
7 부
실리콘 처리 산화아연 (성분 (AI-3))*2
19 부
디카프르산네오펜틸글리콜 (성분 (BI))*3
3 부
유동 이소파라핀 (성분 (CI-1))*4
7 부
스쿠알란 (성분 (CI-1))*5
2 부
디메틸폴리실록산 (25 ℃ 동점도 : 10 ㎟/s) (성분 (CI-2))*6
1 부
디메틸폴리실록산 (25 ℃ 동점도 : 6 ㎟/s) (성분 (CI-2))*13
5 부
N-(헥사데실옥시하이드록시프로필)-N-하이드록시에틸헥사데카나미드*7
1.5 부
폴리옥시에틸렌/메틸폴리실록산 공중합체 (HLB : 4.5)*8
1.4 부
도데카메틸펜타실록산 (25 ℃ 동점도 : 2 ㎟/s) (성분 (D))*9
35.1 부
글리세린 (86 ％)
1 부
정제수 잔부
합계
100 부
처방예 2-4 (W/O 형 외용제, 질량비 [(BI)/(AI)] = 0.97, 질량비 [(CI-2)/(AI)] = 0.27)
(배합 성분 (양))
옥틸트리에톡시실란 처리 산화아연 (성분 (AI-2))*14
15 부
파라메톡시신남산2-에틸헥실 (성분 (BI))*15
10 부
디카프르산네오펜틸글리콜 (성분 (BI))*3
3 부
팔미트산이소프로필 (성분 (BI))*17
1.5 부
디메틸폴리실록산 (25 ℃ 동점도 : 6 ㎟/s) (성분 (CI-2))*13
4 부
2,4-비스-[{4-(2-에틸헥실옥시)-2-하이드록시}-페닐]-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진*16
2 부
폴리옥시에틸렌/메틸폴리실록산 공중합체 (HLB : 4.5)*8
0.8 부
도데카메틸펜타실록산 (25 ℃ 동점도 : 2 ㎟/s) (성분 (D))*9
5 부
데카메틸시클로펜타실록산 (25 ℃ 동점도 : 4 ㎟/s) (성분 (D))*18
28.7 부
실리콘 피복 탤크*11
2 부
에탄올
11 부
1,3-부틸렌글리콜
2 부
정제수 잔부
합계
100 부
처방예 2-5 (O/W 형 외용제, 질량비 [(BI)/(AI)] = 3.0, 질량비 [(CI-2)/(AI)] = 0.25)
(배합 성분 (양))
스테아르산 처리 산화티탄 (성분 (AI-1))*19
4 부
팔미트산이소프로필 (성분 (BI))*17
4 부
파라메톡시신남산2-에틸헥실 (성분 (BI))*15
8 부
디메틸폴리실록산 (25 ℃ 동점도 : 10 ㎟/s) (성분 (CI-2))*6
1 부
2,4-비스-[{4-(2-에틸헥실옥시)-2-하이드록시}-페닐]-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진*16
1 부
세타놀*20
0.2 부
모노스테아르산글리세릴*21
0.3 부
아이소세테스-20*22
0.03 부
(아크릴레이트/아크릴산알킬 (C10-30))크로스폴리머*23
0.2 부
(아크릴레이트/아크릴산알킬 (C10-30))크로스폴리머*24
0.2 부
EDTA-2Na
0.01 부
페녹시에탄올
0.5 부
수산화칼륨 (48 ％)
0.4 부
에탄올
5 부
정제수 잔부
합계
100 부
처방예 2-6 (O/W 형 외용제, 질량비 [(BI)/(AI)] = 3.5, 질량비 [(CI-2)/(AI)] = 0.25)
(배합 성분 (양))
옥틸트리에톡시실란 처리 산화티탄 (성분 (AI-2))*25
4 부
팔미트산이소프로필 (성분 (BI))*17
4 부
파라메톡시신남산2-에틸헥실 (성분 (BI))*15
8 부
2,4,6-트리스[4-(2-에틸헥실옥시카르보닐)아닐리노]-1,3,5-트리아진 (성분 (BI))*26
2 부
디메틸폴리실록산 (25 ℃ 동점도 : 10 ㎟/s) (성분 (CI-2))*6
1 부
2,4-비스-[{4-(2-에틸헥실옥시)-2-하이드록시}-페닐]-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진*16
2 부
세타놀*20
0.2 부
모노스테아르산글리세릴*21
0.3 부
아이소세테스-20*22
0.03 부
모노스테아르산폴리옥시에틸렌소르비탄*27
0.1 부
(아크릴레이트/아크릴산알킬 (C10-30))크로스폴리머*23
0.2 부
(아크릴레이트/아크릴산알킬 (C10-30))크로스폴리머*24
0.2 부
경질 유동 이소파라핀 (성분 (D))*28
1 부
EDTA-2Na
0.01 부
페녹시에탄올
0.5 부
1,3-부틸렌글리콜
5 부
수산화칼륨 (48 ％)
0.6 부
에탄올
5 부
정제수 잔부
합계
100 부
처방예 2-7 (O/W 형 외용제, 질량비 [(BI)/(AI)] =1.3)
(배합 성분 (양))
실리콘 처리 산화아연 (성분 (AI-3))*29
8 부
실리콘 처리 산화아연 (성분 (AI-3))*30
3 부
디2-에틸헥산산네오펜틸글리콜 (성분 (BI))*31
4 부
파라메톡시신남산2-에틸헥실 (성분 (BI))*15
8 부
디에틸아미노하이드록시벤조일벤조산헥실에스테르 (성분 (BI))*32
2 부
2,4-비스-[{4-(2-에틸헥실옥시)-2-하이드록시}-페닐]-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진*16
2 부
베헤닐알코올
0.5 부
모노스테아르산소르비탄*33
1 부
모노스테아르산폴리옥시에틸렌소르비탄*27
1 부
아크릴산나트륨/아크릴로일디메틸타우린산나트륨 공중합체/이소헥사데칸/폴리소르베이트 80*34
2 부
메틸실록산 망상 중합체*35
0.5 부
1,3-부틸렌글리콜
1 부
EDTA-2Na
0.01 부
에틸알코올
10 부
정제수 잔부
합계
100 부
처방예 2-8 (O/W 형 외용제, 질량비 [(BI)/(AI)] = 1.5, 질량비 [(CI-2)/(AI)] = 0.50)
(배합 성분 (양))
스테아르산 처리 산화티탄 (성분 (AI-1))*19
8 부
이소노난산이소노닐 (성분 (BI))*36
7.6 부
디카프르산네오펜틸글리콜 (성분 (BI))*3
4 부
디메틸폴리실록산 (25 ℃ 동점도 : 6 ㎟/s) (성분 (CI-2))*13
4 부
모노스테아르산소르비탄*33
0.7 부
모노스테아르산폴리옥시에틸렌소르비탄*27
1 부
스테아릴알코올
1 부
(아크릴레이트/아크릴산알킬 (C10-30))크로스폴리머*23
0.07 부
(아크릴레이트/아크릴산알킬 (C10-30))크로스폴리머*24
0.25 부
수산화칼륨 (48 ％)
0.4 부
1,3-부틸렌글리콜
8 부
EDTA-2Na
0.02 부
정제수 잔부
합계
100 부
표 10 으로부터, 실시예 2-14 ∼ 2-21 은, 처방예 2-1 ∼ 2-8 에 나타내는 외용제를 도포함으로써, 부착 억제 효과를 갖는 것을 알 수 있다.
또, 참고예 2-1 ∼ 2-4 에 비해, 실시예 2-14 ∼ 2-21 에서 사용한 외용제는, 성분 (BI) 를 포함하기 때문에, 사용감 (감촉) 도 양호하다.
실시예 3-1 ∼ 3-22, 비교예 3-1 ∼ 3-10, 참고예 3-1 ∼ 3-4
표 11 ∼ 15 에 나타내는 조성으로 성분 (AI) 또는 성분 (AI'), 성분 (BII) 및 성분 (D) 를 실온에서 교반, 혼합하여, 실시예 3-1 ∼ 3-22, 비교예 3-1 ∼ 3-10 의 외용제를 얻었다.
성분 (BII) 로서 유동 이소파라핀 (니치유 (주) 제조, 상품명 「팔림 EX」, 수첨 폴리이소부텐), 성분 (D) 로서 도데카메틸펜타실록산 (신에츠 화학 공업 (주) 제조, 상품명 「KF-96L-2cs」, 25 ℃ 에 있어서의 동점도 : 2 ㎟/s) 을 사용하였다. 또, 성분 (AI') 은, 전술한 바와 같다.
또한, 참고예 3-1 ∼ 3-4 에 있어서는, 성분 (BII) 를 사용하지 않고 표 11 ∼ 14 에 나타내는 조성으로 성분 (AI) 와 성분 (D) 를 교반, 혼합하여 외용제로서 사용하였다.
얻어진 외용제를 사용하여 대기 유해 물질의 부착 억제 효과를 전술한 평가 방법 (2) 에서 나타내는 방법에 의해 평가하였다. 결과를 표 11 ∼ 15 에 나타낸다.
표 11 ∼ 15 로부터, 실시예 3-1 ∼ 3-22 는, 성분 (AI) 및 성분 (BII) 를 함유하고, 성분 (AI) 에 대한 성분 (BII) 의 질량비 [(BII)/(AI)] 가 3.5 이하인 외용제를 도포함으로써, 비교예 3-1 ∼ 3-10 과 비교하여, 높은 부착 억제 효과를 갖는 것을 알 수 있다.
또, 참고예 3-1 ∼ 3-4 에 비해, 실시예 3-1 ∼ 3-22 의 외용제는, 성분 (BII) 를 포함하기 때문에, 사용감 (감촉) 도 양호하다.
실시예 3-23 ∼ 3-26
이하의 처방예 3-1 ∼ 3-4 에 나타내는 외용제를 조제하고, 각 외용제 2 ㎎/㎠ 를 백색 인공 피혁에 도포한 것 이외에는, 전술한 대기 유해 물질의 부착 억제 효과의 평가 방법 (2) 와 동일하게 평가를 실시하였다. 결과를 표 16 에 나타낸다.
또한, 처방예 중의 *1 ∼ *13 의 각 표기는 전술한 바와 같다.
처방예 3-1 (W/O 형 외용제, 질량비 [(CII-1)/(AI)] = 0.12, 질량비 [(BII)/(AI)] = 0.35)
(배합 성분 (양))
스테아르산 처리 산화티탄 (성분 (AI-1))*1
7 부
실리콘 처리 산화아연 (성분 (AI-3))*2
19 부
디카프르산네오펜틸글리콜 (성분 (CII-1))*3
3 부
유동 이소파라핀 (성분 (BII))*4
6 부
스쿠알란 (성분 (BII))*5
3 부
N-(헥사데실옥시하이드록시프로필)-N-하이드록시에틸헥사데카나미드*7
1.5 부
폴리옥시에틸렌/메틸폴리실록산 공중합체 (HLB : 4.5)*8
1.4 부
도데카메틸펜타실록산 (25 ℃ 동점도 : 2 ㎟/s) (성분 (D))*9
40.1 부
메틸실록산 망상 중합체*10
1 부
실리콘 피복 탤크*11
1.9 부
글리세린 (86 ％)
1 부
정제수 잔부
합계
100 부
처방예 3-2 (W/O 형 외용제, 질량비 [(CII-1)/(AI)] = 0.31, 질량비 [(BII)/(AI)] = 0.35, 질량비 [(CII-2)/(AI)] = 0.04)
(배합 성분 (양))
스테아르산 처리 산화티탄 (성분 (AI-1))*1
7 부
실리콘 처리 산화아연 (성분 (AI-3))*2
19 부
디카프르산네오펜틸글리콜 (성분 (CII-1))*3
3 부
트리2-에틸헥산산글리세릴 (성분 (CII-1))*12
5 부
유동 이소파라핀 (성분 (BII))*4
5 부
스쿠알란 (성분 (BII))*5
4 부
디메틸폴리실록산 (25 ℃ 동점도 : 10 ㎟/s) (성분 (CII-2))*6
1 부
N-(헥사데실옥시하이드록시프로필)-N-하이드록시에틸헥사데카나미드*7
1.5 부
폴리옥시에틸렌/메틸폴리실록산 공중합체 (HLB : 4.5)*8
1.4 부
도데카메틸펜타실록산 (25 ℃ 동점도 : 2 ㎟/s) (성분 (D))*9
35.1 부
메틸실록산 망상 중합체*10
3 부
실리콘 피복 탤크*11
1.9 부
글리세린 (86 ％)
1 부
정제수 잔부
합계
100 부
처방예 3-3 (W/O 형 외용제) (질량비 [(CII-1)/(AI)] = 0.12, 질량비 [(BII)/(AI)] = 0.35, 질량비 [(CII-2)/(AI)] = 0.23)
(배합 성분 (양))
스테아르산 처리 산화티탄 (성분 (AI-1))*1
7 부
실리콘 처리 산화아연 (성분 (AI-3))*2
19 부
디카프르산네오펜틸글리콜 (성분 (CII-1))*3
3 부
유동 이소파라핀 (성분 (BII))*4
7 부
스쿠알란 (성분 (BII))*5
2 부
디메틸폴리실록산 (25 ℃ 동점도 : 10 ㎟/s) (성분 (CII-2))*6
1 부
디메틸폴리실록산 (25 ℃ 동점도 : 6 ㎟/s) (성분 (CII-2))*13
5 부
N-(헥사데실옥시하이드록시프로필)-N-하이드록시에틸헥사데카나미드*7
1.5 부
폴리옥시에틸렌/메틸폴리실록산 공중합체 (HLB : 4.5)*8
1.4 부
도데카메틸펜타실록산 (25 ℃ 동점도 : 2 ㎟/s) (성분 (D))*9
35.1 부
글리세린 (86 ％)
1 부
정제수 잔부
합계
100 부
처방예 3-4 (W/O 형 외용제, 질량비 [(BII)/(AI)] = 0.41, 질량비 [(CII-2)/(AI)] = 0.14)
(배합 성분 (양))
스테아르산 처리 산화티탄 (성분 (AI-1))*1
10 부
실리콘 처리 산화아연 (성분 (AI-3))*2
19 부
유동 이소파라핀 (성분 (BII))*4
10 부
스쿠알란 (성분 (BII))*5
2 부
디메틸폴리실록산 (25 ℃ 동점도 : 10 ㎟/s) (성분 (CII-2))*6
1 부
디메틸폴리실록산 (25 ℃ 동점도 : 6 ㎟/s) (성분 (CII-2))*13
3 부
N-(헥사데실옥시하이드록시프로필)-N-하이드록시에틸헥사데카나미드*7
1.5 부
폴리옥시에틸렌/메틸폴리실록산 공중합체 (HLB : 4.5)*8
1.4 부
도데카메틸펜타실록산 (25 ℃ 동점도 : 2 ㎟/s) (성분 (D))*9
35.1 부
글리세린 (86 ％)
1 부
정제수 잔부
합계
100 부
표 16 으로부터, 실시예 3-23 ∼ 3-26 은, 처방예 3-1 ∼ 3-4 에 나타내는 외용제를 도포함으로써, 부착 억제 효과를 갖는 것을 알 수 있다.
또, 참고예 3-1 ∼ 3-4 에 비해, 실시예 3-23 ∼ 3-26 에서 사용한 외용제는, 성분 (BII) 를 포함하기 때문에, 사용감 (감촉) 도 양호하다.
실시예 4-1 ∼ 4-12, 비교예 4-1 ∼ 4-9, 참고예 4-1 ∼ 4-4
표 17 ∼ 21 에 나타내는 조성으로 성분 (AI) 또는 성분 (AI'), 성분 (BIII) 및 성분 (D) 를 실온에서 교반, 혼합하여, 실시예 4-1 ∼ 4-12, 비교예 4-1 ∼ 4-9 의 외용제를 얻었다.
성분 (BIII) 로서 디메틸폴리실록산 (신에츠 화학 공업 (주) 제조, 「KF-96L-6cs」, 25 ℃ 에 있어서의 동점도 : 6 ㎟/s), 성분 (D) 로서 도데카메틸펜타실록산 (신에츠 화학 공업 (주) 제조, 상품명 「KF-96L-2cs」, 25 ℃ 에 있어서의 동점도 : 2 ㎟/s) 을 사용하였다. 또, 성분 (AI') 은, 전술한 바와 같다.
또한, 참고예 4-1 ∼ 4-4 에 있어서는, 성분 (BIII) 를 사용하지 않고 표 17 ∼ 20 에 나타내는 조성으로 성분 (AI) 와 성분 (D) 를 교반, 혼합하여 외용제로서 사용하였다.
얻어진 외용제를 사용하여 대기 유해 물질의 부착 억제 효과를 전술한 평가 방법 (2) 에 나타내는 방법에 의해 평가하였다. 결과를 표 17 ∼ 21 에 나타낸다.
표 17 ∼ 21 로부터, 실시예 4-1 ∼ 4-12 는, 성분 (AI) 및 성분 (BIII) 를 함유하고, 성분 (AI) 에 대한 성분 (BIII) 의 질량비 [(BIII)/(AI)] 가 0.85 이하인 외용제를 도포함으로써, 비교예 4-1 ∼ 4-9 와 비교하여, 높은 부착 억제 효과를 갖는 것을 알 수 있다.
또, 참고예 4-1 ∼ 4-4 에 비해, 실시예 4-1 ∼ 4-12 의 외용제는, 성분 (BIII) 를 포함하기 때문에, 사용감 (감촉) 도 양호하다.
실시예 4-13 ∼ 4-19
이하의 처방예 4-1 ∼ 4-7 에 나타내는 외용제를 조제하고, 각 외용제 2 ㎎/㎠ 를 백색 인공 피혁에 도포한 것 이외에는, 전술한 대기 유해 물질의 부착 억제 효과의 평가 방법 (2) 와 동일하게 평가를 실시하였다. 결과를 표 22 에 나타낸다.
또한, 처방예 중의 *1 ∼ *28, *33, *36 의 각 표기는 전술한 바와 같다.
처방예 4-1 (W/O 형 외용제, 질량비 [(CIII-1)/(AI)] = 0.31, 질량비 [(CIII-2)/(AI)] = 0.35, 질량비 [(BIII)/(AI)] = 0.04)
(배합 성분 (양))
스테아르산 처리 산화티탄 (성분 (AI-1))*1
7 부
실리콘 처리 산화아연 (성분 (AI-3))*2
19 부
디카프르산네오펜틸글리콜 (성분 (CIII-1))*3
3 부
트리2-에틸헥산산글리세릴 (성분 (CIII-1))*12
5 부
유동 이소파라핀 (성분 (CIII-2))*4
5 부
스쿠알란 (성분 (CIII-2))*5
4 부
디메틸폴리실록산 (25 ℃ 동점도 : 10 ㎟/s) (성분 (BIII))*6
1 부
N-(헥사데실옥시하이드록시프로필)-N-하이드록시에틸헥사데카나미드*7
1.5 부
폴리옥시에틸렌/메틸폴리실록산 공중합체 (HLB : 4.5)*8
1.4 부
도데카메틸펜타실록산 (25 ℃ 동점도 : 2 ㎟/s) (성분 (D))*9
35.1 부
메틸실록산 망상 중합체*10
3 부
실리콘 피복 탤크*11
1.9 부
글리세린 (86 ％)
1 부
정제수 잔부
합계
100 부
처방예 4-2 (W/O 형 외용제) (질량비 [(CIII-1)/(AI)] = 0.12, 질량비 [(CIII-2)/(AI)] = 0.35, 질량비 [(BIII)/(AI)] = 0.23)
(배합 성분 (양))
스테아르산 처리 산화티탄 (성분 (AI-1))*1
7 부
실리콘 처리 산화아연 (성분 (AI-3))*2
19 부
디카프르산네오펜틸글리콜 (성분 (CIII-1))*3
3 부
유동 이소파라핀 (성분 (CIII-2))*4
7 부
스쿠알란 (성분 (CIII-2))*5
2 부
디메틸폴리실록산 (25 ℃ 동점도 : 10 ㎟/s) (성분 (BIII))*6
1 부
디메틸폴리실록산 (25 ℃ 동점도 : 6 ㎟/s) (성분 (BIII))*13
5 부
N-(헥사데실옥시하이드록시프로필)-N-하이드록시에틸헥사데카나미드*7
1.5 부
폴리옥시에틸렌/메틸폴리실록산 공중합체 (HLB : 4.5)*8
1.4 부
도데카메틸펜타실록산 (25 ℃ 동점도 : 2 ㎟/s) (성분 (D))*9
35.1 부
글리세린 (86 ％)
1 부
정제수 잔부
합계
100 부
처방예 4-3 (W/O 형 외용제, 질량비 [(CIII-1)/(AI)] = 0.97, 질량비 [(BIII)/(AI)] = 0.27)
(배합 성분 (양))
옥틸트리에톡시실란 처리 산화아연 (성분 (AI-2))*14
15 부
파라메톡시신남산2-에틸헥실 (성분 (CIII-1))*15
10 부
디카프르산네오펜틸글리콜 (성분 (CIII-1))*3
3 부
팔미트산이소프로필 (성분 (CIII-1))*17
1.5 부
디메틸폴리실록산 (25 ℃ 동점도 : 6 ㎟/s) (성분 (BIII))*13
4 부
2,4-비스-[{4-(2-에틸헥실옥시)-2-하이드록시}-페닐]-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진*16
2 부
폴리옥시에틸렌/메틸폴리실록산 공중합체 (HLB : 4.5)*8
0.8 부
도데카메틸펜타실록산 (25 ℃ 동점도 : 2 ㎟/s) (성분 (D))*9
5 부
데카메틸시클로펜타실록산 (25 ℃ 동점도 : 4 ㎟/s) (성분 (D))*18
28.7 부
실리콘 피복 탤크*11
2 부
에탄올
11 부
1,3-부틸렌글리콜
2 부
정제수 잔부
합계
100 부
처방예 4-4 (W/O 형 외용제, 질량비 [(CIII-2)/(AI)] = 0.41, 질량비 [(BIII)/(AI)] = 0.14)
(배합 성분 (양))
스테아르산 처리 산화티탄 (성분 (AI-1))*1
10 부
실리콘 처리 산화아연 (성분 (AI-3))*2
19 부
유동 이소파라핀 (성분 (CIII-2))*4
10 부
스쿠알란 (성분 (CIII-2))*5
2 부
디메틸폴리실록산 (25 ℃ 동점도 : 10 ㎟/s) (성분 (BIII))*6
1 부
디메틸폴리실록산 (25 ℃ 동점도 : 6 ㎟/s) (성분 (BIII))*13
3 부
N-(헥사데실옥시하이드록시프로필)-N-하이드록시에틸헥사데카나미드*7
1.5 부
폴리옥시에틸렌/메틸폴리실록산 공중합체 (HLB : 4.5)*8
1.4 부
도데카메틸펜타실록산 (25 ℃ 동점도 : 2 ㎟/s) (성분 (D))*9
35.1 부
글리세린 (86 ％)
1 부
정제수 잔부
합계
100 부
처방예 4-5 (O/W 형 외용제, 질량비 [(CIII-1)/(AI)] = 3.0, 질량비 [(BIII)/(AI)] = 0.25)
(배합 성분 (양))
스테아르산 처리 산화티탄 (성분 (AI-1))*19
4 부
팔미트산이소프로필 (성분 (CIII-1))*17
4 부
파라메톡시신남산2-에틸헥실 (성분 (CIII-1))*15
8 부
디메틸폴리실록산 (25 ℃ 동점도 : 10 ㎟/s) (성분 (BIII))*6
1 부
2,4-비스-[{4-(2-에틸헥실옥시)-2-하이드록시}-페닐]-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진*16
1 부
세타놀*20
0.2 부
모노스테아르산글리세릴*21
0.3 부
아이소세테스-20*22
0.03 부
(아크릴레이트/아크릴산알킬 (C10-30))크로스폴리머*23
0.2 부
(아크릴레이트/아크릴산알킬 (C10-30))크로스폴리머*24
0.2 부
EDTA-2Na
0.01 부
페녹시에탄올
0.5 부
수산화칼륨 (48 ％)
0.4 부
에탄올
5 부
정제수 잔부
합계
100 부
처방예 4-6 (O/W 형 외용제, 질량비 [(CIII-1)/(AI)] = 3.5, 질량비 [(BIII)/(AI)] = 0.25)
(배합 성분 (양))
옥틸트리에톡시실란 처리 산화티탄 (성분 (AI-2))*25
4 부
팔미트산이소프로필 (성분 (CIII-1))*17
4 부
파라메톡시신남산2-에틸헥실 (성분 (CIII-1))*15
8 부
2,4,6-트리스[4-(2-에틸헥실옥시카르보닐)아닐리노]-1,3,5-트리아진 (성분 (CIII-1))*26
2 부
디메틸폴리실록산 (25 ℃ 동점도 : 10 ㎟/s) (성분 (BIII))*6
1 부
2,4-비스-[{4-(2-에틸헥실옥시)-2-하이드록시}-페닐]-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진*16
2 부
세타놀*20
0.2 부
모노스테아르산글리세릴*21
0.3 부
아이소세테스-20*22
0.03 부
모노스테아르산폴리옥시에틸렌소르비탄*27
0.1 부
(아크릴레이트/아크릴산알킬 (C10-30))크로스폴리머*23
0.2 부
(아크릴레이트/아크릴산알킬 (C10-30))크로스폴리머*24
0.2 부
경질 유동 이소파라핀 (성분 (D))*28
1 부
EDTA-2Na
0.01 부
페녹시에탄올
0.5 부
1,3-부틸렌글리콜
5 부
수산화칼륨 (48 ％)
0.6 부
에탄올
5 부
정제수 잔부
합계
100 부
처방예 4-7 (O/W 형 외용제, 질량비 [(CIII-1)/(AI)] = 1.5, 질량비 [(BIII)/(AI)] = 0.50)
(배합 성분 (양))
스테아르산 처리 산화티탄 (성분 (AI-1))*19
8 부
이소노난산이소노닐 (성분 (CIII-1))*36
7.6 부
디카프르산네오펜틸글리콜 (성분 (CIII-1))*3
4 부
디메틸폴리실록산 (25 ℃ 동점도 : 6 ㎟/s) (성분 (BIII))*13
4 부
모노스테아르산소르비탄*33
0.7 부
모노스테아르산폴리옥시에틸렌소르비탄*27
1 부
스테아릴알코올
1 부
(아크릴레이트/아크릴산알킬 (C10-30))크로스폴리머*23
0.07 부
(아크릴레이트/아크릴산알킬 (C10-30))크로스폴리머*24
0.25 부
수산화칼륨 (48 ％)
0.4 부
1,3-부틸렌글리콜
8 부
EDTA-2Na
0.02 부
정제수 잔부
합계
100 부
표 22 로부터, 실시예 4-13 ∼ 4-19 는, 처방예 4-1 ∼ 4-7 에 나타내는 외용제를 도포함으로써, 부착 억제 효과를 갖는 것을 알 수 있다.
또, 참고예 4-1 ∼ 4-4 에 비해, 실시예 4-13 ∼ 4-19 에서 사용한 외용제는, 성분 (BIII) 를 포함하기 때문에, 사용감 (감촉) 도 양호하다.
산업상 이용가능성
본 발명의 부착 억제 방법은, 대기 유해 물질의 부착 억제 효과가 높기 때문에, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착 억제 방법으로서 특히 유용하다.
1
평가 대상의 샘플
2 지지체
3 망체
4 평가용 대기 유해 물질
5 송풍기
2 지지체
3 망체
4 평가용 대기 유해 물질
5 송풍기
Claims (23)
- 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI) 및 성분 (BI) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BI) 의 함유량의 질량비 [(BI)/(AI)] 가 9 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI) : 평균 일차 입자경 dAI 가 800 ㎚ 이하인 소수화 처리된 금속 산화물
성분 (BI) : 에스테르유 - 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI) 및 성분 (BII) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BII) 의 함유량의 질량비 [(BII)/(AI)] 가 3.5 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI) : 평균 일차 입자경 dAI 가 800 ㎚ 이하인 소수화 처리된 금속 산화물
성분 (BII) : 불휘발성의 탄화수소유 - 외용제를 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법으로서,
그 외용제가 하기의 성분 (AI) 및 성분 (BIII) 를 함유하고, 그 외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량에 대한 성분 (BIII) 의 함유량의 질량비 [(BIII)/(AI)] 가 0.85 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI) : 평균 일차 입자경 dAI 가 800 ㎚ 이하인 소수화 처리된 금속 산화물
성분 (BIII) : 불휘발성의 실리콘유 - 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
성분 (AI) 의 금속 산화물이 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
성분 (AI) 의 피부에 대한 도포량이 0.03 ㎎/㎠ 이상인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법. - 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
외용제 중의 성분 (AI) 의 함유량이 1 질량％ 이상 40 질량％ 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법. - 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
성분 (AI) 의 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법. - 제 5 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
성분 (AI) 의 피부에 대한 도포량이 0.8 ㎎/㎠ 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법. - 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
성분 (AI) 가, 하기의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 에서 선택되는 1 종 이상인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
성분 (AI-1) : 평균 일차 입자경 dAI 가 800 ㎚ 이하인 지방산 처리된 금속 산화물
성분 (AI-2) : 평균 일차 입자경 dAI 가 800 ㎚ 이하인 알킬알콕시실란 처리된 금속 산화물
성분 (AI-3) : 평균 일차 입자경 dAI 가 800 ㎚ 이하인 실리콘 처리된 금속 산화물 - 제 9 항에 있어서,
외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BI) 의 함유량의 질량비 [(BI)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 9 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법. - 제 9 항에 있어서,
외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BII) 의 함유량의 질량비 [(BII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 3.5 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법. - 제 9 항에 있어서,
외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량에 대한 성분 (BIII) 의 함유량의 질량비 [(BIII)/[(AI-1) + (AI-2) + (AI-3)]] 가 0.85 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법. - 제 9 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부에 대한 합계 도포량이 0.03 ㎎/㎠ 이상인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법. - 제 9 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
외용제 중의 성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 합계 함유량이 1 질량％ 이상 40 질량％ 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법. - 제 9 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 금속 산화물이 산화티탄 및 산화아연에서 선택되는 1 종 이상인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법. - 제 9 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,
성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 평균 일차 입자경 dAI 가 5 ㎚ 이상인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법. - 제 13 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서,
성분 (AI-1), 성분 (AI-2) 및 성분 (AI-3) 의 피부에 대한 합계 도포량이 0.8 ㎎/㎠ 이하인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법. - 평균 일차 입자경 dA 가 800 ㎚ 이하인 금속 산화물 (A) 를 0.03 ㎎/㎠ 이상, 피부에 도포하여, 대기 유해 물질의 피부에 대한 부착을 억제하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
- 제 18 항에 있어서,
금속 산화물 (A) 가 산화티탄 및 산화아연으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법. - 제 18 항 또는 제 19 항에 있어서,
금속 산화물 (A) 가 그 표면을 소수화 처리 또는 친수화 처리한 것인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법. - 제 18 항 내지 제 20 항 중 어느 한 항에 있어서,
금속 산화물 (A) 가 그 표면을 소수화 처리한 것인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법. - 제 18 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서,
금속 산화물 (A) 의 평균 일차 입자경 dA 가 5 ㎚ 이상인, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법. - 제 18 항 내지 제 22 항 중 어느 한 항에 있어서,
금속 산화물 (A) 를 0.8 ㎎/㎠ 이하, 피부에 도포하는, 대기 유해 물질의 부착 억제 방법.
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