KR20210143831A - 광학 재료, 광학 재료용 중합성 조성물, 플라스틱 렌즈, 아이웨어, 적외선 센서 및 적외선 카메라 - Google Patents
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Abstract
본 개시의 광학 재료는, (싸이오)유레테인 수지와, 근적외선 흡수제를 포함하고, 두께 2mm에서 측정한 CIE1976(L*, a*, b*) 색 공간에 있어서, a*가 -10 이상 0 이하이며, L*이 70 이상이고, 가시광 흡수 분광 스펙트럼에 있어서 주 흡수 피크(P)의 피크 정점(Pmax)의 흡광도의 2/3의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 150nm 이상 400nm 이하이다.
Description
본 개시는, 근적외선 흡수제를 포함하는 광학 재료, 광학 재료용 중합성 조성물, 플라스틱 렌즈, 아이웨어, 적외선 센서 및 적외선 카메라에 관한 것이다.
종래부터, 특정의 파장역을 컷하는 안경 렌즈가 개발되고 있다.
특허문헌 1에는, 환상 올레핀계 수지와 유리 필러를 포함하는 투명 기판의 적어도 한쪽 면에, 굴절률이 상이한 2개의 유전체층을 교대로 적층하여 이루어지는 근적외선 반사막을 갖는 근적외선 컷 필터가 개시되어 있다.
특허문헌 2에는, 복수의 파장 범위의 광을 소정의 분광 투과율로 하는 근적외선 컷 필터가 개시되어 있다. 이 근적외선 컷 필터는, 환상 올레핀계 수지 등의 투명 수지와 프탈로사이아닌계 화합물 등의 근적외선 흡수제를 포함하는 것이 기재되어 있다.
특허문헌 3∼7에는, 소정의 프탈로사이아닌 색소와 수지를 포함하는 수지 조성물 등이 개시되어 있다. 특허문헌 7에는, 수지 조성물로부터 보호 안경용 렌즈를 얻을 수 있다고 기재되어 있다.
특허문헌 8 및 9에는, 프탈로사이아닌 색소와 유레테인 수지 또는 폴리싸이오유레테인 수지로 이루어지는 원적외선 컷 렌즈가 개시되어 있다.
그러나, 특허문헌에 기재된 종래의 기술에 있어서는 이하의 점에 개선의 여지가 있었다.
특허문헌 1, 2의 근적외선 컷 필터는, 근적외선을 컷할 수 있지만, 필터에 탁함이 생겨 투명성이 저하되는 경우가 있었다.
그래서, 수지에 근적외선 흡수제를 첨가한 광학 재료의 검토를 진행시킨 바, 근적외선 흡수제가 수지에 용해되지 않거나, 첨가량을 늘리면 광학 재료에 탁함이 생겨 투명성이 저하되거나, 또는 착색에 의해 색감(의장성(意匠性))이 나빠지는 경향이 있었다. 이와 같이, 근적외선 흡수제를 이용한 광학 재료에 있어서는, 근적외선 컷 효과와 의장성은 트레이드오프의 관계에 있었다.
본 개시에 따른 일 실시형태가 해결하려고 하는 과제는, 근적외선 컷률이 높고, 또한 의장성도 우수한 광학 재료를 제공하는 것이다.
본 발명자들은 예의 검토의 결과, 근적외선 흡수제와 소정의 수지를 함유하고, 또한 CIE1976 색 공간에 있어서 L*, a*를 특정의 범위로 하는 것에 의해, 높은 근적외선 컷률과 의장성을 양립시킬 수 있는 것을 발견하여, 본 개시의 발명을 완성시켰다.
즉, 본 개시에 따른 태양은, 이하의 태양을 포함한다.
[1] (싸이오)유레테인 수지와,
근적외선 흡수제를 포함하고,
두께 2mm에서 측정한 CIE1976(L*, a*, b*) 색 공간에 있어서, a*가 -10 이상 0 이하이며, L*이 70 이상이고, 가시광 흡수 분광 스펙트럼에 있어서 주 흡수 피크(P)의 피크 정점(Pmax)의 흡광도의 2/3의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 150nm 이상 400nm 이하인 것을 특징으로 하는 광학 재료.
[2] 두께 2mm에 있어서의 파장 900nm∼1000nm의 분광 투과율이 10% 이상 80% 이하인, [1]에 기재된 광학 재료.
[3] 두께 2mm에 있어서의 시감 투과율이 45% 이상인, [1]에 기재된 광학 재료.
[4] 상기 근적외선 흡수제는, 900nm∼1000nm의 파장 영역 내에서 분광 투과율 곡선의 극소치를 갖고, 상기 극소치가 분광 투과율 50% 미만인, [1]∼[3] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료.
[5] 상기 근적외선 흡수제가, 프탈로사이아닌 화합물을 포함하는, [1]∼[4] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료.
[6] 상기 프탈로사이아닌 화합물이, 톨루엔 용액으로 측정된 가시광 흡수 분광 스펙트럼에 있어서, 900nm∼1000nm 사이에 주 흡수 피크(P)를 갖고, 상기 피크(P)의 피크 정점(Pmax: 피크 중에서 최대 흡광 계수를 나타내는 점)의 흡광 계수(ml/g·cm)가 10000 이상 20000 이하이며, 상기 피크(P)의 (Pmax)의 흡광도의 1/2의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 400nm 이하이고, 또한 상기 피크(P)의 (Pmax)의 흡광도의 2/3의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 300nm 이하의 범위인, [5]에 기재된 광학 재료.
[7] 상기 프탈로사이아닌 화합물이, 화학식(1)로 표시되는 화합물을 적어도 1종 포함하는, [5] 또는 [6]에 기재된 광학 재료.
[화학식 1]
(화학식(1) 중, X는 수소 원자 또는 할로젠 원자를 나타내고, R1은 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, R2는 알킬기를 나타내고, R3은 수소 원자 또는 COR1을 나타낸다. l은 1∼7, m은 0∼13, n은 1∼8, p는 1∼14, z는 0∼13의 정수를 나타내고, 2l+m+z+p=16이다. M은 2가의 금속 원자, 3가 혹은 4가의 치환 금속 또는 옥시 금속을 나타낸다.)
[8] 상기 근적외선 흡수제를 3ppm 이상 200ppm 이하 포함하는, [1]∼[7] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료.
[9] 상기 (싸이오)유레테인 수지는, 폴리아이소사이아네이트 화합물 유래의 구성 단위와, 폴리싸이올 화합물 유래의 구성 단위 및 폴리올 화합물 유래의 구성 단위 중 적어도 한쪽으로 이루어지고,
상기 폴리아이소사이아네이트 화합물은, 2,5-비스(아이소사이아네이토메틸)바이사이클로-[2.2.1]-헵테인, 2,6-비스(아이소사이아네이토메틸)바이사이클로-[2.2.1]-헵테인, m-자일릴렌 다이아이소사이아네이트, 2,4-톨릴렌 다이아이소사이아네이트, 2,6-톨릴렌 다이아이소사이아네이트, 다이사이클로헥실메테인 다이아이소사이아네이트, 1,3-비스(아이소사이아네이토메틸)사이클로헥세인, 1,4-비스(아이소사이아네이토메틸)사이클로헥세인, 아이소포론 다이아이소사이아네이트, 1,6-헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트, 및 1,5-펜타메틸렌 다이아이소사이아네이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종이고,
상기 폴리싸이올 화합물은, 4-머캅토메틸-1,8-다이머캅토-3,6-다이싸이아옥테인, 5,7-다이머캅토메틸-1,11-다이머캅토-3,6,9-트라이싸이아운데케인, 4,7-다이머캅토메틸-1,11-다이머캅토-3,6,9-트라이싸이아운데케인, 4,8-다이머캅토메틸-1,11-다이머캅토-3,6,9-트라이싸이아운데케인, 펜타에리트리톨 테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 비스(머캅토에틸) 설파이드, 펜타에리트리톨 테트라키스(2-머캅토아세테이트), 2,5-비스(머캅토메틸)-1,4-다이싸이에인, 1,1,3,3-테트라키스(머캅토메틸싸이오)프로페인, 4,6-비스(머캅토메틸싸이오)-1,3-다이싸이에인, 및 2-(2,2-비스(머캅토메틸싸이오)에틸)-1,3-다이싸이에테인으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종이고,
상기 폴리올 화합물은, 에틸렌 글라이콜, 다이에틸렌 글라이콜, 트라이에틸렌 글라이콜, 프로필렌 글라이콜, 1,3-프로페인다이올, 1,2-사이클로펜테인다이올, 1,3-사이클로펜테인다이올, 1,2-사이클로헥세인다이올, 1,3-사이클로헥세인다이올, 및 1,4-사이클로헥세인다이올로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인, [1]∼[8] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료.
[10] 폴리아이소사이아네이트 화합물과, 폴리싸이올 화합물 및 폴리올 화합물 중 적어도 한쪽의 조합으로 이루어지는 중합성 화합물과,
900nm∼1000nm의 파장 영역 내에서 분광 투과율 곡선의 극소치를 갖고, 상기 극소치가 분광 투과율 50% 미만인 근적외선 흡수제
를 포함하는, [1]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[11] 상기 근적외선 흡수제가, 프탈로사이아닌 화합물을 포함하는, [10]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[12] 상기 프탈로사이아닌 화합물이, 화학식(1)로 표시되는 화합물을 적어도 1종 포함하는, [11]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[화학식 2]
(화학식(1) 중, X는 수소 원자 또는 할로젠 원자를 나타내고, R1은 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, R2는 알킬기를 나타내고, R3은 수소 원자 또는 COR1을 나타낸다. l은 1∼7, m은 0∼13, n은 1∼8, p는 1∼14, z는 0∼13의 정수를 나타내고, 2l+m+z+p=16이다. M은 2가의 금속 원자, 3가 혹은 4가의 치환 금속 또는 옥시 금속을 나타낸다.)
[13] 상기 근적외선 흡수제를 3ppm 이상 200ppm 이하 포함하는, [10]∼[12] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[14] 상기 폴리아이소사이아네이트 화합물은, 2,5-비스(아이소사이아네이토메틸)바이사이클로-[2.2.1]-헵테인, 2,6-비스(아이소사이아네이토메틸)바이사이클로-[2.2.1]-헵테인, m-자일릴렌 다이아이소사이아네이트, 2,4-톨릴렌 다이아이소사이아네이트, 2,6-톨릴렌 다이아이소사이아네이트, 다이사이클로헥실메테인 다이아이소사이아네이트, 1,3-비스(아이소사이아네이토메틸)사이클로헥세인, 1,4-비스(아이소사이아네이토메틸)사이클로헥세인, 아이소포론 다이아이소사이아네이트, 1,6-헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트, 및 1,5-펜타메틸렌 다이아이소사이아네이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종이고,
상기 폴리싸이올 화합물은, 4-머캅토메틸-1,8-다이머캅토-3,6-다이싸이아옥테인, 5,7-다이머캅토메틸-1,11-다이머캅토-3,6,9-트라이싸이아운데케인, 4,7-다이머캅토메틸-1,11-다이머캅토-3,6,9-트라이싸이아운데케인, 4,8-다이머캅토메틸-1,11-다이머캅토-3,6,9-트라이싸이아운데케인, 펜타에리트리톨 테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 비스(머캅토에틸) 설파이드, 펜타에리트리톨 테트라키스(2-머캅토아세테이트), 2,5-비스(머캅토메틸)-1,4-다이싸이에인, 1,1,3,3-테트라키스(머캅토메틸싸이오)프로페인, 4,6-비스(머캅토메틸싸이오)-1,3-다이싸이에인, 및 2-(2,2-비스(머캅토메틸싸이오)에틸)-1,3-다이싸이에테인으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종이고,
상기 폴리올 화합물은, 에틸렌 글라이콜, 다이에틸렌 글라이콜, 트라이에틸렌 글라이콜, 프로필렌 글라이콜, 1,3-프로페인다이올, 1,2-사이클로펜테인다이올, 1,3-사이클로펜테인다이올, 1,2-사이클로헥세인다이올, 1,3-사이클로헥세인다이올, 및 1,4-사이클로헥세인다이올로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인, [10]∼[13] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[15] [1]∼[9] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료로 이루어지는 플라스틱 렌즈.
[16] [15]에 기재된 플라스틱 렌즈를 구비하는 아이웨어.
[17] [15]에 기재된 플라스틱 렌즈를 구비하는 적외선 센서 또는 적외선 카메라.
본 개시에 의하면, 근적외선 컷률이 높고, 또한 의장성도 우수한 광학 재료를 제공할 수 있다.
도 1은 실시예 5에서 얻어진 평판 렌즈의 분광 투과율 곡선을 나타낸다.
도 2는 비교예 3에서 얻어진 평판 렌즈의 분광 투과율 곡선을 나타낸다.
도 3은 비교예 9에서 얻어진 평판 렌즈의 분광 투과율 곡선을 나타낸다.
도 4는 비교예 12에서 얻어진 평판 렌즈의 분광 투과율 곡선을 나타낸다.
도 2는 비교예 3에서 얻어진 평판 렌즈의 분광 투과율 곡선을 나타낸다.
도 3은 비교예 9에서 얻어진 평판 렌즈의 분광 투과율 곡선을 나타낸다.
도 4는 비교예 12에서 얻어진 평판 렌즈의 분광 투과율 곡선을 나타낸다.
이하, 본 개시의 실시형태에 대하여 구체적으로 설명한다.
본 실시형태의 광학 재료는, (싸이오)유레테인 수지와, 근적외선 흡수제를 포함한다.
본 실시형태의 광학 재료는, 두께 2mm에서 측정한 CIE1976(L*, a*, b*) 색 공간에 있어서, a*가 -10 이상 0 이하, L*이 70 이상, 바람직하게는 a*가 -8 이상 0 이하, L*이 73 이상, 보다 바람직하게는 a*가 -7 이상 0 이하, L*이 75 이상, 더 바람직하게는 a*가 -4 이상 0 이하, L*이 85 이상, 특히 바람직하게는 a*가 -3 이상 0 이하, L*이 90 이상이다.
본 실시형태의 광학 재료는, 추가로, 두께 2mm에서 측정한 가시광 흡수 분광 스펙트럼에 있어서, 주 흡수 피크(P)의 피크 정점(Pmax)의 흡광도의 2/3의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 150nm 이상 400nm 이하이다.
본 실시형태에 있어서는, 근적외선 흡수제와 (싸이오)유레테인 수지를 함유하고, 또한 CIE1976 색 공간에 있어서 L*, a*를 상기 범위로 하며, 추가로 피크 정점(Pmax)의 흡광도의 2/3의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 상기 범위인 것에 의해, 높은 근적외선 컷률과 의장성을 양립시킬 수 있다.
본 실시형태의 광학 재료는, 본 개시에 있어서의 효과의 관점에서, 두께 2mm에 있어서의 파장 900nm∼1000nm의 분광 투과율이 10% 이상 80% 이하, 바람직하게는 15% 이상 70% 이하, 보다 바람직하게는 20% 이상 60% 이하이다.
본 실시형태의 광학 재료는, 탁함이나 착색이 억제되어 있어 의장성이 우수한 점에서, 두께 2mm에 있어서의 전광선 투과율을 45% 이상, 바람직하게는 65% 이상, 보다 바람직하게는 70% 이상, 더 바람직하게는 75% 이상으로 할 수 있고, 또한 시감 투과율을 45% 이상, 바람직하게는 65% 이상, 보다 바람직하게는 70% 이상, 더 바람직하게는 75% 이상으로 할 수 있다.
본 개시에 있어서, 각종 광학 특성의 측정은, 구체적으로는, 실시예에 기재된 방법으로 행하면 된다.
[근적외선 흡수제]
본 실시형태에 있어서의 근적외선 흡수제는, 본 개시에 있어서의 효과를 얻을 수 있으면 그 구조는 특별히 한정되지 않고, 종래 공지의 근적외선 흡수제로부터 선택하여 이용할 수 있다.
본 실시형태에 있어서의 근적외선 흡수제로서는, 예를 들면, 높은 근적외선 컷률을 실현하기 위해서, 900nm∼1000nm의 파장 영역 내에서 분광 투과율 곡선의 극소치를 갖고, 극소치가 분광 투과율 50% 미만인 것을 이용할 수 있다.
본 실시형태에 있어서는, 이와 같은 특성을 구비하는 근적외선 흡수제를 이용하는 것에 의해, 넓은 근적외선 영역에 있어서 높은 컷률을 실현할 수 있다.
상기 근적외선 흡수제는, 특별히 한정은 없지만, 프탈로사이아닌 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.
상기 프탈로사이아닌 화합물로서는, 톨루엔 용액으로 측정된 가시광 흡수 분광 스펙트럼에 있어서, 900nm∼1000nm 사이에 주 흡수 피크(P)를 갖고, 상기 피크(P)의 피크 정점(Pmax: 피크 중에서 최대 흡광 계수를 나타내는 점)의 흡광 계수(ml/g·cm)가 10000 이상 20000 이하이며, 상기 피크(P)의 (Pmax)의 흡광도의 1/2의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 400nm 이하이고, 또한 상기 피크(P)의 (Pmax)의 흡광도의 2/3의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 300nm 이하의 범위인 화합물을 이용할 수 있다.
한편, 근적외선 흡수제에 관련된 가시광 흡수 분광 스펙트럼은, 광로 길이 10mm에서, 톨루엔 용액을 이용하여 측정한다. 톨루엔 용액의 농도는, 적절히 조정하면 되고, 예를 들면, 3.3질량ppm∼36.5질량ppm으로 해도 된다.
상기 프탈로사이아닌 화합물로서는, 화학식(1)로 표시되는 화합물을 들 수 있고, 적어도 1종을 이용할 수 있다.
[화학식 3]
화학식(1) 중, X는 수소 원자 또는 할로젠 원자를 나타내고, R1은 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, R2는 알킬기를 나타내고, R3은 수소 원자 또는 COR1을 나타낸다. l은 1∼7, m은 0∼13, n은 1∼8, p는 1∼14, z는 0∼13의 정수를 나타내고, 2l+m+z+p=16이다. M은 2가의 금속 원자, 3가 혹은 4가의 치환 금속 또는 옥시 금속을 나타낸다.
본 개시에 있어서의 상기 프탈로사이아닌계 화합물에 있어서, X가 할로젠 원자인 것으로서는, 염소 원자, 브로민 원자, 불소 원자, 아이오딘 원자 등을 들 수 있지만, 염소 원자, 브로민 원자, 또는 불소 원자가 바람직하고, 염소 원자가 바람직하다.
X로서는 수소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 또는 불소 원자가 바람직하고, 수소 원자 또는 염소 원자가 보다 바람직하다.
R1이 알킬기인 것으로서는, 탄소수 1∼18의 직쇄 또는 분기 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1∼16의 직쇄 또는 분기 알킬기가 보다 바람직하다. 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, iso-프로필기, n-뷰틸기, iso-뷰틸기, sec-뷰틸기, n-펜틸기, iso-펜틸기, n-헥실기, n-사이클로헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 2-에틸헥실기, n-노닐기, n-데실기, n-운데실기, n-도데실기, n-트라이데실기, n-테트라데실기, n-펜타데실기, 2-헥실노난일기, n-헥사데실기, n-헵타데실기, n-옥타데실기 등을 들 수 있다.
R1이 아릴기인 것으로서는, 페닐기 또는 나프틸기가 바람직하고, 페닐기가 보다 바람직하다.
R2로서는, 탄소수 1∼12의 직쇄 또는 분기 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1∼10의 직쇄 또는 분기 알킬기가 보다 바람직하다. 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, iso-프로필기, n-뷰틸기, iso-뷰틸기, sec-뷰틸기, n-펜틸기, iso-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 2-에틸헥실기, n-노닐기, n-데실기, n-도데실기 등을 들 수 있다.
n은 1∼8의 정수이지만, 1∼5가 바람직하고, 1∼3이 보다 바람직하다.
R3은 수소 원자 또는 COR1이지만, 바람직하게는 수소 원자이다.
M이 2가의 금속인 것의 예로서는, Cu(II), Zn(II), Fe(II), Ni(II), Ru(II), Rh(II), Pd(II), Mn(II), Mg(II), Ti(II), Be(II), Ca(II), Ba(II), Cd(II), Hg(II), Pd(II), Sn(II) 등을 들 수 있다.
M이 1치환의 3가 금속인 것의 예로서는, Al-Cl, Al-Br, Al-F, Al-I, Ga-Cl, Ga-I, Ga-Br, In-Cl, In-Br, In-I, In-F, Tl-Cl, Tl-Br, Tl-I, Tl-F, Al-C6H5, Al-C6H4(CH3), In-C6H5, In-C6H4(CH3), Al(OH), Mn(OH), Mn(OC6H5), Mn[OSi(CH3)3], Fe-Cl, Ru-Cl 등을 들 수 있다.
M이 2치환의 4가 금속인 것의 예로서는, CrCl2, SiCl2, SiBr2, SiF2, SiI2, ZrCl2, GeCl2, GeBr2, GeF2, GeBr2, GeF2, TiCl2, TiBr2, TiF2, Si(OH)2, Ge(OH)2, Zr(OH)2, Mn(OH)2, Sn(OH)2, TiR2, CrR2, SnR2, GeR2[R은 알킬기, 페닐기, 나프틸기, 및 그의 유도체를 나타낸다], Si(OR')2, Sn(OR')2, Ge(OR')2, Ti(OR')2, Cr(OR')2[R'는 알킬기, 페닐기, 나프틸기, 트라이알킬실릴기, 다이알킬알콕시실릴기 및 그의 유도체를 나타낸다], Sn(SR'')2, Ge(SR'')2[R''는 알킬기, 페닐기, 나프틸기, 및 그의 유도체를 나타낸다] 등을 들 수 있다.
M이 옥시 금속인 것의 예로서는, VO, MnO, TiO 등을 들 수 있다.
M으로서는 Cu, AlCl, TiO, 또는 VO가 바람직하고, Cu가 보다 바람직하다.
l은 1∼7의 정수이지만, 2∼6이 바람직하고, 3∼5가 보다 바람직하며, 4가 더 바람직하다. m은 0∼13의 정수이지만, 0∼8이 바람직하고, 2∼6이 보다 바람직하며, 4가 더 바람직하다. p는 1∼14의 정수이지만, 1∼8이 바람직하고, 2∼6이 보다 바람직하며, 4가 더 바람직하다. z는 0∼13의 정수이지만, 0∼4가 바람직하고, 0∼2가 보다 바람직하며, 0이 더 바람직하다. 2l+m+z+p=16이다.
바람직한 프탈로사이아닌 색소의 구체예로서는, 예를 들면 일본 특허공개 2006-282646호 공보의 표 1에 기재되어 있다. 보다 바람직하게는, 후술하는 화학식(1a)로 표시되는 화합물이다.
화학식(1)로 표시되는 프탈로사이아닌 화합물은, 본 개시에 있어서의 효과의 관점에서, 중심 금속 M을 제외한 중량 평균 분자량이, 900 이상 5000 이하인 것이 바람직하고, 1200 이상 4000 이하인 것이 보다 바람직하다.
본 실시형태에 있어서의 상기 근적외선 흡수제는, 전술한 프탈로사이아닌 화합물로부터 선택되는 화합물을 포함하는 것에 의해, 넓은 영역의 근적외선을 효율적으로 컷할 수 있다. 한편, 본 실시형태에 있어서의 근적외선 흡수제로서는, 전술한 프탈로사이아닌 화합물로부터 선택되는 화합물을 1종류만 포함하는 것으로 해도 넓은 영역의 근적외선을 효율적으로 컷할 수 있지만, 다른 근적외선 흡수제를 추가로 포함해도 된다.
본 실시형태의 광학 재료는, 본 개시에 있어서의 효과의 관점에서, 상기 근적외선 흡수제를 바람직하게는 3ppm 이상 200ppm 이하, 보다 바람직하게는 3ppm 이상 100ppm 이하, 더 바람직하게는 3ppm 이상 80ppm 이하, 특히 바람직하게는 3ppm 이상 50ppm 이하 포함할 수 있다.
본 실시형태의 광학 재료는, (싸이오)유레테인 수지를 포함한다.
(싸이오)유레테인 수지는, 폴리아이소사이아네이트 화합물 유래의 구성 단위와, 폴리싸이올 화합물 유래의 구성 단위 및 폴리올 화합물 유래의 구성 단위 중 적어도 한쪽으로 이루어진다.
이들 화합물에 대해서는 후술한다.
<광학 재료용 중합성 조성물>
본 실시형태의 광학 재료용 중합성 조성물은, 근적외선 흡수제와, 중합성 화합물을 포함한다.
근적외선 흡수제는, 전술한 것을 이용할 수 있고, 중합성 조성물 중에 바람직하게는 3ppm 이상 200ppm 이하, 보다 바람직하게는 3ppm 이상 100ppm 이하, 더 바람직하게는 3ppm 이상 80ppm 이하, 특히 바람직하게는 3ppm 이상 50ppm 이하의 양으로 포함된다.
중합성 화합물로서는, 폴리아이소사이아네이트 화합물과, 폴리싸이올 화합물 및 폴리올 화합물 중 적어도 한쪽의 조합을 들 수 있다.
(폴리아이소사이아네이트 화합물)
상기 폴리아이소사이아네이트 화합물로서는, 지방족 아이소사이아네이트 화합물, 지환족 아이소사이아네이트 화합물, 방향족 아이소사이아네이트 화합물, 헤테로환 아이소사이아네이트 화합물, 방향지방족 아이소사이아네이트 화합물 등을 들 수 있고, 1종 또는 2종 이상 혼합하여 이용된다. 이들 아이소사이아네이트 화합물은, 이량체, 삼량체, 프리폴리머를 포함해도 된다. 이들 아이소사이아네이트 화합물로서는, WO2011/055540호에 예시된 화합물을 들 수 있다.
상기 폴리아이소사이아네이트 화합물은, 2,5-비스(아이소사이아네이토메틸)바이사이클로-[2.2.1]-헵테인, 2,6-비스(아이소사이아네이토메틸)바이사이클로-[2.2.1]-헵테인, m-자일릴렌 다이아이소사이아네이트, 2,4-톨릴렌 다이아이소사이아네이트, 2,6-톨릴렌 다이아이소사이아네이트, 다이사이클로헥실메테인 다이아이소사이아네이트, 1,3-비스(아이소사이아네이토메틸)사이클로헥세인, 1,4-비스(아이소사이아네이토메틸)사이클로헥세인, 아이소포론 다이아이소사이아네이트, 1,6-헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트, 및 1,5-펜타메틸렌 다이아이소사이아네이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하고,
2,5-비스(아이소사이아네이토메틸)바이사이클로-[2.2.1]-헵테인, 2,6-비스(아이소사이아네이토메틸)바이사이클로-[2.2.1]-헵테인, 및 비스(아이소사이아네이토메틸)사이클로헥세인으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 보다 바람직하다.
(폴리싸이올 화합물)
상기 폴리싸이올 화합물은, 2 이상의 머캅토기를 갖는 화합물이고, WO2016/125736호에 예시된 화합물을 들 수 있다.
본 실시형태에 있어서, 본 개시에 있어서의 효과의 관점에서, 상기 폴리싸이올 화합물은, 4-머캅토메틸-1,8-다이머캅토-3,6-다이싸이아옥테인, 5,7-다이머캅토메틸-1,11-다이머캅토-3,6,9-트라이싸이아운데케인, 4,7-다이머캅토메틸-1,11-다이머캅토-3,6,9-트라이싸이아운데케인, 4,8-다이머캅토메틸-1,11-다이머캅토-3,6,9-트라이싸이아운데케인, 펜타에리트리톨 테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 비스(머캅토에틸) 설파이드, 펜타에리트리톨 테트라키스(2-머캅토아세테이트), 2,5-비스(머캅토메틸)-1,4-다이싸이에인, 1,1,3,3-테트라키스(머캅토메틸싸이오)프로페인, 4,6-비스(머캅토메틸싸이오)-1,3-다이싸이에인, 및 2-(2,2-비스(머캅토메틸싸이오)에틸)-1,3-다이싸이에테인으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하고,
4-머캅토메틸-1,8-다이머캅토-3,6-다이싸이아옥테인, 펜타에리트리톨 테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨 테트라키스(2-머캅토아세테이트), 및 2,5-비스(머캅토메틸)-1,4-다이싸이에인으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 보다 바람직하다.
상기 폴리올 화합물은, 1종 이상의 지방족 또는 지환족 알코올이어도 된다.
구체적으로는, 직쇄 또는 분지쇄의 지방족 알코올, 지환족 알코올, 이들 알코올에 대해서 에틸렌 옥사이드, 프로필렌 옥사이드, 또는 ε-카프로락톤을 부가시킨 알코올 등을 들 수 있고, 구체적으로는 WO2016/125736호에 예시된 화합물을 이용할 수 있다.
상기 폴리올 화합물은, 바람직하게는, 에틸렌 글라이콜, 다이에틸렌 글라이콜, 트라이에틸렌 글라이콜, 프로필렌 글라이콜, 1,3-프로페인다이올, 1,2-사이클로펜테인다이올, 1,3-사이클로펜테인다이올, 1,2-사이클로헥세인다이올, 1,3-사이클로헥세인다이올, 및 1,4-사이클로헥세인다이올로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종이다.
임의의 첨가제로서, 중합 촉매, 내부 이형제, 블루잉제, 자외선 흡수제 등을 들 수 있다. 본 실시형태에 있어서, 폴리유레테인 및 폴리싸이오유레테인을 얻을 때에는, 중합 촉매를 이용해도 되고, 이용하지 않아도 된다.
내부 이형제로서는, 산성 인산 에스터를 들 수 있다. 산성 인산 에스터로서는, 인산 모노에스터, 인산 다이에스터 등을 들 수 있고, 각각 단독으로 또는 2종류 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 블루잉제로서는, 가시광 영역 중 등색 내지 황색의 파장역에 흡수대를 갖고, 수지로 이루어지는 광학 재료의 색상을 조정하는 기능을 갖는 것을 들 수 있다. 블루잉제는, 더 구체적으로는, 청색 내지 자색을 나타내는 물질을 포함한다.
자외선 흡수제로서는, 2,2'-다이하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-아크릴로일옥시벤조페논, 2-하이드록시-4-아크릴로일옥시-5-tert-뷰틸벤조페논, 2-하이드록시-4-아크릴로일옥시-2',4'-다이클로로벤조페논 등의 벤조페논계 자외선 흡수제,
2-[4-[(2-하이드록시-3-도데실옥시프로필)옥시]-2-하이드록시페닐] 4,6-비스(2,4-다이메틸페닐)-1,3,5-트라이아진, 2-[4-(2-하이드록시-3-트라이데실옥시프로필)옥시]-2-하이드록시페닐]-4,6-비스(2,4-다이메틸페닐)-1,3,5-트라이아진, 2-[4-[(2-하이드록시-3-(2'-에틸)헥실)옥시]-2-하이드록시페닐]-4,6-비스(2,4-다이메틸페닐)-1,3,5-트라이아진, 2,4-비스(2-하이드록시-4-뷰틸옥시페닐)-6-(2,4-비스-뷰틸옥시페닐)-1,3,5-트라이아진, 2-(2-하이드록시-4-[1-옥틸옥시카보닐에톡시]페닐)-4,6-비스(4-페닐페닐)-1,3,5-트라이아진 등의 트라이아진계 자외선 흡수제,
2-(2H-벤조트라이아졸-2-일)-4-메틸페놀, 2-(2H-벤조트라이아졸-2-일)-4-tert-옥틸페놀, 2-(2H-벤조트라이아졸-2-일)-4,6-비스(1-메틸-1-페닐에틸)페놀, 2-(2H-벤조트라이아졸-2-일)-4,6-다이-tert-펜틸페놀, 2-(5-클로로-2H-벤조트라이아졸-2-일)-4-메틸-6-tert-뷰틸페놀, 2-(5-클로로-2H-벤조트라이아졸-2-일)-2,4-tert-뷰틸페놀, 2,2'-메틸렌비스[6-(2H-벤조트라이아졸-2-일)-4-(1,1,3,3-테트라메틸뷰틸)페놀] 등의 벤조트라이아졸계 자외선 흡수제 등을 들 수 있다.
상기 중에서도, 자외선 흡수제로서는, 바람직하게는 2-(2H-벤조트라이아졸-2-일)-4-tert-옥틸페놀, 2-(5-클로로-2H-벤조트라이아졸-2-일)-4-메틸-6-tert-뷰틸페놀 등의 벤조트라이아졸계 자외선 흡수제이다. 이들 자외선 흡수제는 단독이어도 되고 2종 이상을 병용할 수도 있다.
광학 재료용 조성물은, 상기의 성분을 소정의 방법으로 혼합하는 것에 의해 얻을 수 있다.
조성물 중의 각 성분의 혼합 순서나 혼합 방법은, 각 성분을 균일하게 혼합할 수 있으면 특별히 한정되지 않고, 공지의 방법으로 행할 수 있다.
[광학 재료]
본 실시형태의 광학 재료는, 본 실시형태의 광학 재료용 조성물을 중합 경화하여 얻을 수 있다.
광학 재료로서는, 플라스틱 안경 렌즈, 고글, 시력 교정용 안경 렌즈, 촬상 기기용 렌즈, 액정 프로젝터용 프레넬 렌즈, 렌티큘러 렌즈, 콘택트 렌즈, 적외선 센서용 렌즈, 적외선 카메라용 렌즈, 아이웨어(선글라스, 패션 렌즈 등) 등의 각종 플라스틱 렌즈, 발광 다이오드(LED)용 봉지재, 광도파로, 광학용 접착제(예를 들면, 광학 렌즈, 광도파로 등의 접합에 이용되는 광학용 접착제), 광학 렌즈 등에 이용하는 근적외선 흡수막, 액정 표시 장치 부재(기판, 도광판, 필름, 시트 등)에 이용하는 투명성 코팅, 차의 프런트 글라스, 바이크의 헬멧의 방풍, 투명성 기판 등을 들 수 있다.
한편, 본 실시형태의 광학 재료는, 자외선 흡수제를 포함할 수 있다. 광학 재료로서는, 플라스틱 렌즈, 적외선 센서용 렌즈, 적외선 카메라용 렌즈, 아이웨어, 이들 광학 렌즈 등에 이용하는 근적외선 흡수막 등이 바람직하다.
이하, 광학 재료의 바람직한 태양인 플라스틱 렌즈에 대하여 상세히 설명한다.
[플라스틱 렌즈]
플라스틱 렌즈로서는, 이하의 구성을 들 수 있다.
(a) 본 실시형태의 광학 재료용 조성물로 이루어지는 렌즈 기재를 구비하는 플라스틱 렌즈
(b) 렌즈 기재(단, 본 실시형태의 광학 재료용 조성물로부터 얻어지는 렌즈 기재를 제외한다) 표면의 적어도 한쪽 면 상에, 본 실시형태의 광학 재료용 조성물로 이루어지는 필름 또는 코팅층을 구비하는 플라스틱 렌즈
(c) 본 실시형태의 광학 재료용 조성물로 이루어지는 필름의 양면 상에, 렌즈 기재(단, 본 실시형태의 광학 재료용 조성물로부터 얻어지는 렌즈 기재를 제외한다)가 적층되어 있는 플라스틱 렌즈
본 실시형태에 있어서는, 이들 플라스틱 렌즈를 적합하게 이용할 수 있다.
이하, 각각의 실시형태에 대하여 설명한다.
(실시형태 a)
본 실시형태의 광학 재료용 조성물로 이루어지는 렌즈 기재를 구비하는 플라스틱 렌즈를 제조하는 방법은, 특별히 한정되지 않지만, 바람직한 제조 방법으로서 렌즈 주형(注型)용 주형(鑄型)을 이용한 주형(注型) 중합을 들 수 있다. 렌즈 기재는, 폴리유레테인 수지, 폴리싸이오유레테인 수지로 구성할 수 있고, 근적외선 흡수제와, 이들 수지의 모노머(광학 재료용 수지 모노머)를 포함하는 본 실시형태의 광학 재료용 조성물을 이용할 수 있다.
구체적으로는, 개스킷 또는 테이프 등으로 보지된 성형 몰드의 캐비티 내에 광학 재료용 조성물을 주입한다. 이때, 얻어지는 플라스틱 렌즈에 요구되는 물성에 따라서는, 필요에 따라서, 감압하에서의 탈포 처리나 가압, 감압 등의 여과 처리 등을 행하는 것이 바람직한 경우가 많다.
그리고, 조성물이 주입된 후, 렌즈 주형용 주형을 오븐 중 또는 수중 등의 가열 가능 장치 내에서 소정의 온도 프로그램으로 가열하여 경화 성형한다. 수지 성형체는, 필요에 따라서, 어닐링 등의 처리를 행해도 된다.
본 실시형태에 있어서, 수지를 성형할 때에는, 상기 「임의의 첨가제」에 더하여, 목적에 따라서 공지의 성형법과 마찬가지로, 쇄연장제, 가교제, 광안정제, 산화 방지제, 유용(油溶) 염료, 충전제, 밀착성 향상제 등의 여러 가지 첨가제를 가해도 된다.
또, 본 실시형태에 있어서의 플라스틱 렌즈는, 그 목적이나 용도에 맞추어, 본 실시형태의 광학 재료용 조성물로 이루어지는 렌즈 기재 상에 여러 가지 코팅층을 갖고 있어도 된다. 코팅층에는 근적외선 흡수제를 포함할 수 있다. 근적외선 흡수제를 포함하는 코팅층은, 근적외선 흡수제를 포함하는 코팅 재료(조성물)를 이용하여 조제할 수 있거나, 또는 코팅층을 형성한 후, 근적외선 흡수제를 물 또는 용매 중에 분산시켜 얻어진 분산액에, 코팅층 부가 플라스틱 렌즈를 침지하여 근적외선 흡수제를 코팅층 중에 함침시키는 것에 의해 조제할 수 있다.
(실시형태 b)
본 실시형태에 있어서의 플라스틱 렌즈는, 렌즈 기재 표면의 적어도 한쪽 면 상에, 본 실시형태의 광학 재료용 조성물로 이루어지는 필름 또는 층을 구비해도 된다. 렌즈 기재는, 본 실시형태의 광학 재료용 조성물로 형성된 것이 아니어도 되며, 여러 가지 렌즈 기재를 이용할 수 있다.
본 실시형태에 있어서의 플라스틱 렌즈의 제조 방법으로서는, 예를 들면, (b-1) 렌즈 기재를 제조하고, 이어서 상기 렌즈 기재의 적어도 한쪽 면 상에, 본 실시형태의 광학 재료용 조성물로 이루어지는 필름 또는 시트를 첩합(貼合)하는 방법, (b-2) 후술하는 바와 같은 개스킷 또는 테이프 등으로 보지된 성형 몰드의 캐비티 내에 있어서, 본 실시형태의 광학 재료용 조성물로 이루어지는 필름 또는 시트를 몰드의 한쪽 내벽을 따라 배치하고, 이어서 캐비티 내에 광학 재료용 조성물을 주입하여, 경화시키는 방법 등을 들 수 있다.
상기 (b-1)의 방법에 있어서 이용되는, 본 실시형태의 광학 재료용 조성물로 이루어지는 필름 또는 시트는, 특별히 한정되지 않고, 공지의 성형 방법에 의해 얻을 수 있다.
렌즈 기재는, 공지의 광학용 수지로부터 얻을 수 있고, 광학용 수지로서는 여러 가지의 것을 이용할 수 있다.
본 실시형태의 광학 재료용 조성물로 이루어지는 필름 또는 시트를, 렌즈 기재의 면 상에 첩합하는 방법은 공지의 방법을 이용할 수 있다.
상기 (b-2)의 방법에 있어서의 주형 중합은, 실시형태 a에 있어서의 플라스틱 렌즈의 방법과 마찬가지로 행할 수 있고, 주형 중합에 이용하는 조성물로서는, 광학 재료용 수지 모노머를 포함하는 조성물(근적외선 흡수제를 포함하지 않는다)을 들 수 있다.
또, 본 실시형태에 있어서의 플라스틱 렌즈는, 그 목적이나 용도에 맞추어, 광학 재료용 조성물로 이루어지는 렌즈 기재 상 또는 「필름 또는 층」 상에 여러 가지 코팅층을 갖고 있어도 된다. 실시형태 a에 있어서의 플라스틱 렌즈와 마찬가지로, 코팅층에는 근적외선 흡수제를 포함할 수 있다.
(실시형태 c)
본 실시형태에 있어서의 플라스틱 렌즈는, 본 실시형태의 광학 재료용 조성물로 이루어지는 필름의 양면 상에, 렌즈 기재(본 실시형태의 광학 재료용 조성물로부터 얻어지는 렌즈 기재를 제외한다)가 적층되어도 된다.
본 실시형태에 있어서의 플라스틱 렌즈의 제조 방법으로서는, 예를 들면, (c-1) 렌즈 기재를 제조하여, 본 실시형태의 광학 재료용 조성물로 이루어지는 필름 또는 시트의 양면 상에 첩합하는 방법, (c-2) 개스킷 또는 테이프 등으로 보지된 성형 몰드의 캐비티 내에 있어서, 본 실시형태의 광학 재료용 조성물로 이루어지는 필름 또는 시트를, 몰드의 내벽으로부터 이간(離間)된 상태로 배치하고, 이어서 캐비티 내에 광학 재료용 조성물을 주입하여, 경화시키는 방법 등을 들 수 있다.
상기 (c-1)의 방법에 있어서 이용되는, 본 실시형태의 광학 재료용 조성물로 이루어지는 필름 또는 시트, 및 렌즈 기재는, 실시형태 b에 있어서의 플라스틱 렌즈의 (b-1)의 방법과 마찬가지의 것을 이용할 수 있다.
본 실시형태의 광학 재료용 조성물로 이루어지는 필름 또는 시트를, 렌즈 기재의 면 상에 첩합하는 방법은 공지의 방법을 이용할 수 있다.
상기 (c-2)의 방법은 구체적으로 이하와 같이 행할 수 있다.
실시형태 a에 있어서의 플라스틱 렌즈의 제조 방법에서 이용한, 렌즈 주형용 주형의 공간 내에, 본 실시형태의 광학 재료용 조성물로 이루어지는 필름 또는 시트를, 이 양면이, 대향하는 프런트 측의 몰드 내면과 병행이 되도록 설치한다.
이어서, 렌즈 주형용 주형의 공간 내에 있어서, 몰드와 편광 필름 사이의 2개의 공극부에, 소정의 주입 수단에 의해, 광학 재료용 수지 모노머를 포함하는 조성물(근적외선 흡수제를 포함하지 않는다)을 주입한다.
그리고, 조성물이 주입된 후, 렌즈 주형용 주형을 오븐 중 또는 수중 등의 가열 가능 장치 내에서 소정의 온도 프로그램으로 가열하여 경화 성형한다. 수지 성형체는, 필요에 따라서, 어닐링 등의 처리를 행해도 된다.
또, 본 실시형태에 있어서의 플라스틱 렌즈는, 그 목적이나 용도에 맞추어, 렌즈 기재 상에 여러 가지 코팅층을 갖고 있어도 된다. 실시형태 a에 있어서의 플라스틱 렌즈와 마찬가지로, 코팅층에는 근적외선 흡수제를 포함할 수 있다.
[플라스틱 안경 렌즈]
본 실시형태의 플라스틱 렌즈를 이용하여, 플라스틱 안경 렌즈를 얻을 수 있다. 한편, 필요에 따라서, 편면 또는 양면에 코팅층을 입혀 이용해도 된다.
코팅층으로서, 구체적으로는, 프라이머층, 하드 코팅층, 반사 방지층, 방담 코팅층, 방오염층, 발수층 등을 들 수 있다. 이들 코팅층은 각각 단독으로 이용할 수도 있고 복수의 코팅층을 다층화하여 사용할 수도 있다. 양면에 코팅층을 입히는 경우, 각각의 면에 동일한 코팅층을 입혀도, 상이한 코팅층을 입혀도 된다.
이들 코팅층은 각각, 본 실시형태에 있어서 이용되는 근적외선 흡수제, 적외선으로부터 눈을 지킬 목적으로 적외선 흡수제, 렌즈의 내후성을 향상시킬 목적으로 광안정제나 산화 방지제, 렌즈의 패션성을 높일 목적으로 염료나 안료, 또한 포토크로믹 염료나 포토크로믹 안료, 대전 방지제, 그 외, 렌즈의 성능을 높이기 위한 공지의 첨가제를 병용해도 된다. 도포에 의한 코팅을 행하는 층에 관해서는 도포성의 개선을 목적으로 한 각종 레벨링제를 사용해도 된다.
프라이머층은 통상, 후술하는 하드 코팅층과 렌즈 사이에 형성된다. 프라이머층은, 그 위에 형성하는 하드 코팅층과 렌즈의 밀착성을 향상시키는 것을 목적으로 하는 코팅층이고, 경우에 따라 내충격성을 향상시키는 것도 가능하다. 프라이머층에는 얻어진 렌즈에 대한 밀착성이 높은 것이면 어떠한 소재라도 사용할 수 있지만, 통상, 유레테인계 수지, 에폭시계 수지, 폴리에스터계 수지, 멜라민계 수지, 폴리바이닐 아세탈을 주성분으로 하는 프라이머 조성물 등이 사용된다. 프라이머 조성물은 조성물의 점도를 조정할 목적으로 렌즈에 영향을 미치지 않는 적당한 용제를 이용해도 된다. 물론, 무용제로 사용해도 된다.
프라이머층은 도포법, 건식법의 어느 방법에 의해서도 형성할 수 있다. 도포법을 이용하는 경우, 프라이머 조성물을, 스핀 코팅, 딥 코팅 등 공지의 도포 방법으로 렌즈에 도포한 후, 고화(固化)하는 것에 의해 프라이머층이 형성된다. 건식법으로 행하는 경우는, CVD법이나 진공 증착법 등의 공지의 건식법으로 형성된다. 프라이머층을 형성함에 있어서, 밀착성의 향상을 목적으로 하여, 필요에 따라서 렌즈의 표면은, 알칼리 처리, 플라즈마 처리, 자외선 처리 등의 전처리를 행해 두어도 된다.
하드 코팅층은, 렌즈 표면에 내찰상성, 내마모성, 내습성, 내온수성, 내열성, 내후성 등 기능을 주는 것을 목적으로 한 코팅층이다.
하드 코팅층은, 일반적으로는 경화성을 갖는 유기 규소 화합물과, Si, Al, Sn, Sb, Ta, Ce, La, Fe, Zn, W, Zr, In 및 Ti의 원소군으로부터 선택되는 원소의 산화물 미립자의 1종 이상, 및 이들 원소군으로부터 선택되는 2종 이상의 원소의 복합 산화물로 구성되는 미립자의 1종 이상 중 적어도 한쪽을 포함하는 하드 코팅 조성물이 사용된다.
하드 코팅 조성물에는 상기 성분 이외에 아민류, 아미노산류, 금속 아세틸아세토네이트 착체, 유기산 금속염, 과염소산류, 과염소산류의 염, 산류, 금속 염화물 및 다작용성 에폭시 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개를 포함하는 것이 바람직하다. 하드 코팅 조성물에는 렌즈에 영향을 미치지 않는 적당한 용제를 이용해도 되고, 무용제로 이용해도 된다.
하드 코팅층은, 통상, 하드 코팅 조성물을 스핀 코팅, 딥 코팅 등 공지의 도포 방법으로 도포한 후, 경화하여 형성된다. 경화 방법으로서는, 열경화, 에너지선(자외선, 가시광선 등) 조사에 의한 경화 방법 등을 들 수 있다. 간섭 무늬의 발생을 억제하기 위해, 하드 코팅층의 굴절률은, 렌즈와의 굴절률의 차가 ±0.1의 범위에 있는 것이 바람직하다.
반사 방지층은, 통상, 필요에 따라서 상기 하드 코팅층 위에 형성된다. 반사 방지층에는 무기계 및 유기계가 있고, 무기계의 경우, SiO2, TiO2 등의 무기 산화물을 이용하여, 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법, 이온 빔 어시스트법, CVD법 등의 건식법에 의해 형성된다. 유기계의 경우, 유기 규소 화합물과, 내부 공동(空洞)을 갖는 실리카계 미립자를 포함하는 조성물을 이용하여, 습식에 의해 형성된다.
반사 방지층은 단층 및 다층이 있고, 단층으로 이용하는 경우는 하드 코팅층의 굴절률보다도 굴절률이 적어도 0.1 이상 낮아지는 것이 바람직하다. 효과적으로 반사 방지 기능을 발현하기 위해서는 다층막 반사 방지막으로 하는 것이 바람직하고, 그 경우, 저굴절률막과 고굴절률막을 교대로 적층한다. 이 경우도 저굴절률막과 고굴절률막의 굴절률차는 0.1 이상인 것이 바람직하다. 고굴절률막으로서는, ZnO, TiO2, CeO2, Sb2O5, SnO2, ZrO2, Ta2O5 등의 막이 있고, 저굴절률막으로서는, SiO2막 등을 들 수 있다.
반사 방지층 위에는, 필요에 따라서 방담층, 방오염층, 발수층을 형성시켜도 된다. 방담층, 방오염층, 발수층 등을 형성하는 방법으로서는, 반사 방지 기능에 악영향을 가져오는 것이 아니면, 그 처리 방법, 처리 재료 등에 대해서는 특별히 한정되지 않고, 공지의 방담 처리 방법, 방오염 처리 방법, 발수 처리 방법, 재료 등을 사용할 수 있다.
예를 들면, 방담 처리 방법 또는 방오염 처리 방법으로는, 표면을 계면활성제로 덮는 방법, 표면에 친수성의 막을 부가하여 흡수성으로 하는 방법, 표면을 미세한 요철로 덮어 흡수성을 높이는 방법, 광촉매 활성을 이용하여 흡수성으로 하는 방법, 초발수성 처리를 실시하여 수적(水滴)의 부착을 막는 방법 등을 들 수 있다. 또, 발수 처리 방법으로는, 불소 함유 실레인 화합물 등을 증착, 스퍼터링 등에 의해 발수 처리층을 형성하는 방법, 불소 함유 실레인 화합물을 용매에 용해한 뒤, 코팅하여 발수 처리층을 형성하는 방법 등을 들 수 있다.
이상, 본 개시의 실시형태에 대하여 기술했지만, 이들은 본 개시의 예시이며, 본 개시에 있어서의 효과를 해치지 않는 범위에서, 상기 이외의 다양한 구성을 채용할 수 있다.
실시예
이하에, 실시예에 의해 본 개시를 더 상세히 설명하지만, 본 개시는 이들에 한정되는 것은 아니다. 한편, 본 개시의 실시예에 있어서 이용한 평가 방법, 재료는 이하와 같다.
[분광 투과율, 및 시감 투과율의 측정 방법]
측정 기기로서, 시마즈 제작소제 시마즈 분광 광도계 UV-1800을 사용하고, 2mm 두께의 평판 렌즈를 이용하여 자외-가시광 스펙트럼을 측정하여, 분광 투과율 곡선을 얻었다. 얻어진 분광 투과율 곡선을 기초로 시감 투과율을 산출했다.
[L*, a*, b*의 측정 방법]
분광 측색계(코니카 미놀타사제 CM-5)를 이용하여, 하기 측정 조건에서, 2mm 두께의 평판 렌즈의 CIE1976(L*, a*, b*) 표색계에 있어서의 L*, a*, b*를 측정했다.
∼측정 조건∼
광원: C 광원
측정 방법: 투과 측정
측정 면적: 직경 30mm의 원형
시각: 2° 시야
[YI의 측정 방법]
2mm 두께의 평판 렌즈를 코니카 미놀타사제의 분광 측색계 CM-5로 YI를 측정했다.
[헤이즈, 및 전광선 투과율 측정 방법]
2mm 두께의 평판 렌즈를 닛폰 덴쇼쿠 공업사제의 HazeMeter NDH2000으로 헤이즈, 및 전광선 투과율을 측정했다.
실시예에 있어서는 이하에 나타나는 근적외선 흡수제를 이용했다.
· 근적외선 흡수제 A
[화학식 4]
화학식(1a)로 표시되는 근적외선 흡수제 A의 톨루엔 용액으로 측정된 가시광 흡수 분광 스펙트럼에 있어서, 935nm에 주 흡수 피크(P)를 갖고, 상기 피크(P)의 피크 정점(Pmax: 피크 중에서 최대 흡광 계수를 나타내는 점)의 흡광 계수(ml/g·cm)가 1.58×104이며, 또한 상기 피크(P)의 (Pmax)의 흡광도의 1/2의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 379nm이고, 또한 상기 피크(P)의 (Pmax)의 흡광도의 2/3의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 252nm였다.
한편, 가시광 흡수 분광 스펙트럼은, 광로 길이 10mm에서, 36.5질량ppm의 톨루엔 용액을 이용하여 측정했다.
· 근적외선 흡수제 B
[화학식 5]
화학식(b)로 표시되는 근적외선 흡수제 B의 톨루엔 용액으로 측정된 가시광 흡수 분광 스펙트럼에 있어서, 720nm에 주 흡수 피크(P)를 갖고, 상기 피크(P)의 피크 정점(Pmax: 피크 중에서 최대 흡광 계수를 나타내는 점)의 흡광 계수(ml/g·cm)가 1.57×105이며, 상기 피크(P)의 (Pmax)의 흡광도의 1/2의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 28nm이고, 또한 상기 피크(P)의 (Pmax)의 흡광도의 2/3의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 20nm였다.
한편, 가시광 흡수 분광 스펙트럼은, 광로 길이 10mm에서, 3.7질량ppm의 톨루엔 용액을 이용하여 측정했다.
· 근적외선 흡수제 C
[화학식 6]
화학식(c)로 표시되는 근적외선 흡수제 C의 톨루엔 용액으로 측정된 가시광 흡수 분광 스펙트럼에 있어서, 830nm에 주 흡수 피크(P)를 갖고, 상기 피크(P)의 피크 정점(Pmax: 피크 중에서 최대 흡광 계수를 나타내는 점)의 흡광 계수(ml/g·cm)가 1.11×105이며, 상기 피크(P)의 (Pmax)의 흡광도의 1/2의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 47nm이고, 또한 상기 피크(P)의 (Pmax)의 흡광도의 2/3의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 35nm였다.
한편, 가시광 흡수 분광 스펙트럼은, 광로 길이 10mm에서, 5.2질량ppm의 톨루엔 용액을 이용하여 측정했다.
· 근적외선 흡수제 D
[화학식 7]
화학식(d)로 표시되는 근적외선 흡수제 D의 톨루엔 용액으로 측정된 가시광 흡수 분광 스펙트럼에 있어서, 1005nm에 주 흡수 피크(P)를 갖고, 상기 피크(P)의 피크 정점(Pmax: 피크 중에서 최대 흡광 계수를 나타내는 점)의 흡광 계수(ml/g·cm)가 7.22×104이며, 상기 피크(P)의 (Pmax)의 흡광도의 1/2의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 112nm이고, 또한 상기 피크(P)의 (Pmax)의 흡광도의 2/3의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 81nm였다.
한편, 가시광 흡수 분광 스펙트럼은, 광로 길이 10mm에서, 8.0질량ppm의 톨루엔 용액을 이용하여 측정했다.
· 근적외선 흡수제 E
[화학식 8]
화학식(e)로 표시되는 근적외선 흡수제 E의 톨루엔 용액으로 측정된 가시광 흡수 분광 스펙트럼에 있어서, 780nm에 주 흡수 피크(P)를 갖고, 상기 피크(P)의 피크 정점(Pmax: 피크 중에서 최대 흡광 계수를 나타내는 점)의 흡광 계수(ml/g·cm)가 1.75×105이며, 상기 피크(P)의 (Pmax)의 흡광도의 1/2의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 24nm이고, 또한 상기 피크(P)의 (Pmax)의 흡광도의 2/3의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 17nm였다.
한편, 가시광 흡수 분광 스펙트럼은, 광로 길이 10mm에서, 3.3질량ppm의 톨루엔 용액을 이용하여 측정했다.
[실시예 1]
다이뷰틸주석(II) 다이클로라이드 0.035질량부, 미쓰이 화학사제 MR 내부 이형제 0.1질량부, 자외선 흡수제 Tinuvin 329 1.5질량부, 2,5-비스(아이소사이아네이토메틸)바이사이클로-[2.2.1]-헵테인과 2,6-비스(아이소사이아네이토메틸)바이사이클로-[2.2.1]-헵테인의 혼합물 50.6질량부, 근적외선 흡수제 A를 0.0020질량부 투입하여 혼합 용액을 제작했다. 이 혼합 용액을 25℃에서 1시간 교반하여 완전히 용해시켰다. 그 후, 이 조합액(調合液)에, 4-머캅토메틸-1,8-다이머캅토-3,6-다이싸이아옥테인 25.5질량부와 펜타에리트리톨 테트라키스(3-머캅토프로피오네이트) 23.9질량부를 투입하고, 이것을 25℃에서 30분 교반하여, 균일 용액으로 했다. 이 용액을 400Pa에서 1시간 탈포를 행하고, 1μm PTFE 필터로 여과를 행한 후, 중심 두께 2mm, 직경 77mm의 평판용 유리 몰드에 주입했다. 이 유리 몰드를 25℃부터 120℃까지, 16시간에 걸쳐 승온했다. 실온까지 냉각시키고, 유리 몰드로부터 떼어 내어, 평판 렌즈를 얻었다. 얻어진 평판 렌즈를 다시 120℃에서 2시간 어닐링을 행했다.
이 어닐링 처리를 행한 평판 렌즈에 대하여 물성을 측정했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 2∼5]
근적외선 흡수제 A의 첨가량을 표 1에 기재된 양으로 한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 평판 렌즈를 얻었다. 얻어진 평판 렌즈의 물성의 측정 결과를 표 1에 나타낸다. 또, 실시예 5의 평판 렌즈의 분광 투과율 곡선을 도 1에 나타낸다.
[비교예 1∼7]
근적외선 흡수제 A를 근적외선 흡수제 B로 변경하고, 그 첨가량을 표 1에 기재된 양으로 한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 평판 렌즈를 얻었다. 얻어진 평판 렌즈의 물성의 측정 결과를 표 1에 나타낸다. 또, 비교예 3의 평판 렌즈의 분광 투과율 곡선을 도 2에 나타낸다.
[비교예 8∼10]
근적외선 흡수제 A를 근적외선 흡수제 C로 변경하고, 그 첨가량을 표 1에 기재된 양으로 한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 평판 렌즈를 얻었다. 얻어진 평판 렌즈의 물성의 측정 결과를 표 1에 나타낸다. 또, 비교예 9의 평판 렌즈의 분광 투과율 곡선을 도 3에 나타낸다.
[비교예 11∼13]
근적외선 흡수제 A를 근적외선 흡수제 D로 변경하고, 그 첨가량을 표 1에 기재된 양으로 한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 평판 렌즈를 얻었다. 얻어진 평판 렌즈의 물성의 측정 결과를 표 1에 나타낸다. 또, 비교예 12의 평판 렌즈의 분광 투과율 곡선을 도 4에 나타낸다.
[비교예 14]
근적외선 흡수제 A를 근적외선 흡수제 E로 변경하고, 그 첨가량을 0.00165질량부로 한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 25℃에서 1시간 교반했다. 그러나, 근적외선 흡수제 E는 용해되지 않았다.
[실시예 6]
다이메틸주석(II) 다이클로라이드를 0.452질량부, 조호쿠 화학공업사제 JP-506H를 0.18질량부, 자외선 흡수제 Tinuvin 329를 1질량부, 1,3-비스(아이소사이아네이토메틸)사이클로헥세인을 48질량부, 근적외선 흡수제 A를 0.01825질량부 투입하여 혼합 용액을 제작했다. 이 혼합 용액을 25℃에서 1시간 교반하여 완전히 용해시켰다. 그 후, 이 조합액에, 펜타에리트리톨 테트라키스(2-머캅토아세테이트)를 26.7질량부와, 2,5-비스(머캅토메틸)-1,4-다이싸이에인을 26.24질량부 투입하고, 이것을 25℃에서 30분 교반하여, 균일 용액으로 했다. 이 용액을 400Pa에서 1시간 탈포를 행하고, 1μm PTFE 필터로 여과를 행한 후, 중심 두께 2mm, 직경 77mm의 평판용 유리 몰드에 주입했다. 이 유리 몰드를 25℃부터 120℃까지, 16시간에 걸쳐 승온했다. 실온까지 냉각시키고, 유리 몰드로부터 떼어 내어, 평판 렌즈를 얻었다. 얻어진 평판 렌즈를 다시 120℃에서 2시간 어닐링을 행했다.
이 어닐링 처리를 행한 평판 렌즈에 대하여 물성을 측정했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[비교예 15]
근적외선 흡수제 A를 근적외선 흡수제 B로 변경하고, 그 첨가량을 0.00184질량부로 한 것 이외에는 실시예 6과 마찬가지로 평판 렌즈를 얻었다. 얻어진 평판 렌즈의 물성의 측정 결과를 표 1에 나타낸다.
[비교예 16]
근적외선 흡수제 A를 근적외선 흡수제 C로 변경하고, 그 첨가량을 0.0026질량부로 한 것 이외에는 실시예 6과 마찬가지로 평판 렌즈를 얻었다. 얻어진 평판 렌즈의 물성의 측정 결과를 표 1에 나타낸다.
[비교예 17]
근적외선 흡수제 A를 근적외선 흡수제 D로 변경하고, 그 첨가량을 0.00399질량부로 한 것 이외에는 실시예 6과 마찬가지로 평판 렌즈를 얻었다. 얻어진 평판 렌즈의 물성의 측정 결과를 표 1에 나타낸다.
[비교예 18]
근적외선 흡수제 A를 근적외선 흡수제 E로 변경하고, 그 첨가량을 0.00165질량부로 한 것 이외에는 실시예 6과 마찬가지로 하여, 25℃에서 1시간 교반했다. 그러나, 근적외선 흡수제 E는 용해되지 않았다.
표 1에 기재된 모노머종은 이하와 같다.
a1: 2,5-비스(아이소사이아네이토메틸)바이사이클로-[2.2.1]-헵테인과 2,6-비스(아이소사이아네이토메틸)바이사이클로-[2.2.1]-헵테인의 혼합물
a2: 1,3-비스(아이소사이아네이토메틸)사이클로헥세인
b1: 4-머캅토메틸-1,8-다이머캅토-3,6-다이싸이아옥테인
b2: 펜타에리트리톨 테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)
b3: 펜타에리트리톨 테트라키스(2-머캅토아세테이트)
b4: 2,5-비스(머캅토메틸)-1,4-다이싸이에인
2019년 4월 26일에 출원된 일본 특허출원 2019-086172호의 개시는, 그 전체가 참조에 의해 본 명세서에 원용된다.
본 명세서에 기재된 모든 문헌, 특허출원, 및 기술규격은, 개개의 문헌, 특허출원, 및 기술규격이 참조에 의해 원용되는 것이 구체적이고 개개로 기록된 경우와 동일한 정도로, 본 명세서에 참조에 의해 원용된다.
Claims (17)
- (싸이오)유레테인 수지와,
근적외선 흡수제를 포함하고,
두께 2mm에서 측정한 CIE1976(L*, a*, b*) 색 공간에 있어서, a*가 -10 이상 0 이하이며, L*이 70 이상이고, 가시광 흡수 분광 스펙트럼에 있어서 주 흡수 피크(P)의 피크 정점(Pmax)의 흡광도의 2/3의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 150nm 이상 400nm 이하인 것을 특징으로 하는 광학 재료. - 제 1 항에 있어서,
두께 2mm에 있어서의 파장 900nm∼1000nm의 분광 투과율이 10% 이상 80% 이하인, 광학 재료. - 제 1 항에 있어서,
두께 2mm에 있어서의 시감 투과율이 45% 이상인, 광학 재료. - 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 근적외선 흡수제는, 900nm∼1000nm의 파장 영역 내에서 분광 투과율 곡선의 극소치를 갖고, 상기 극소치가 분광 투과율 50% 미만인, 광학 재료. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 근적외선 흡수제가, 프탈로사이아닌 화합물을 포함하는, 광학 재료. - 제 5 항에 있어서,
상기 프탈로사이아닌 화합물이, 톨루엔 용액으로 측정된 가시광 흡수 분광 스펙트럼에 있어서, 900nm∼1000nm 사이에 주 흡수 피크(P)를 갖고, 상기 피크(P)의 피크 정점(Pmax: 피크 중에서 최대 흡광 계수를 나타내는 점)의 흡광 계수(ml/g·cm)가 10000 이상 20000 이하이며, 상기 피크(P)의 (Pmax)의 흡광도의 1/2의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 400nm 이하이고, 또한 상기 피크(P)의 (Pmax)의 흡광도의 2/3의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 300nm 이하의 범위인, 광학 재료. - 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 근적외선 흡수제를 3ppm 이상 200ppm 이하 포함하는, 광학 재료. - 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (싸이오)유레테인 수지는, 폴리아이소사이아네이트 화합물 유래의 구성 단위와, 폴리싸이올 화합물 유래의 구성 단위 및 폴리올 화합물 유래의 구성 단위 중 적어도 한쪽으로 이루어지고,
상기 폴리아이소사이아네이트 화합물은, 2,5-비스(아이소사이아네이토메틸)바이사이클로-[2.2.1]-헵테인, 2,6-비스(아이소사이아네이토메틸)바이사이클로-[2.2.1]-헵테인, m-자일릴렌 다이아이소사이아네이트, 2,4-톨릴렌 다이아이소사이아네이트, 2,6-톨릴렌 다이아이소사이아네이트, 다이사이클로헥실메테인 다이아이소사이아네이트, 1,3-비스(아이소사이아네이토메틸)사이클로헥세인, 1,4-비스(아이소사이아네이토메틸)사이클로헥세인, 아이소포론 다이아이소사이아네이트, 1,6-헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트, 및 1,5-펜타메틸렌 다이아이소사이아네이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종이고,
상기 폴리싸이올 화합물은, 4-머캅토메틸-1,8-다이머캅토-3,6-다이싸이아옥테인, 5,7-다이머캅토메틸-1,11-다이머캅토-3,6,9-트라이싸이아운데케인, 4,7-다이머캅토메틸-1,11-다이머캅토-3,6,9-트라이싸이아운데케인, 4,8-다이머캅토메틸-1,11-다이머캅토-3,6,9-트라이싸이아운데케인, 펜타에리트리톨 테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 비스(머캅토에틸) 설파이드, 펜타에리트리톨 테트라키스(2-머캅토아세테이트), 2,5-비스(머캅토메틸)-1,4-다이싸이에인, 1,1,3,3-테트라키스(머캅토메틸싸이오)프로페인, 4,6-비스(머캅토메틸싸이오)-1,3-다이싸이에인, 및 2-(2,2-비스(머캅토메틸싸이오)에틸)-1,3-다이싸이에테인으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종이고,
상기 폴리올 화합물은, 에틸렌 글라이콜, 다이에틸렌 글라이콜, 트라이에틸렌 글라이콜, 프로필렌 글라이콜, 1,3-프로페인다이올, 1,2-사이클로펜테인다이올, 1,3-사이클로펜테인다이올, 1,2-사이클로헥세인다이올, 1,3-사이클로헥세인다이올, 및 1,4-사이클로헥세인다이올로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인, 광학 재료. - 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 재료의 제조에 이용되는 중합성 조성물로서,
폴리아이소사이아네이트 화합물과, 폴리싸이올 화합물 및 폴리올 화합물 중 적어도 한쪽의 조합으로 이루어지는 중합성 화합물과,
900nm∼1000nm의 파장 영역 내에서 분광 투과율 곡선의 극소치를 갖고, 상기 극소치가 분광 투과율 50% 미만인 근적외선 흡수제
를 포함하는 광학 재료용 중합성 조성물. - 제 10 항에 있어서,
상기 근적외선 흡수제가, 프탈로사이아닌 화합물을 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물. - 제 10 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 근적외선 흡수제를 3ppm 이상 200ppm 이하 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물. - 제 10 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 폴리아이소사이아네이트 화합물은, 2,5-비스(아이소사이아네이토메틸)바이사이클로-[2.2.1]-헵테인, 2,6-비스(아이소사이아네이토메틸)바이사이클로-[2.2.1]-헵테인, m-자일릴렌 다이아이소사이아네이트, 2,4-톨릴렌 다이아이소사이아네이트, 2,6-톨릴렌 다이아이소사이아네이트, 다이사이클로헥실메테인 다이아이소사이아네이트, 1,3-비스(아이소사이아네이토메틸)사이클로헥세인, 1,4-비스(아이소사이아네이토메틸)사이클로헥세인, 아이소포론 다이아이소사이아네이트, 1,6-헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트, 및 1,5-펜타메틸렌 다이아이소사이아네이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종이고,
상기 폴리싸이올 화합물은, 4-머캅토메틸-1,8-다이머캅토-3,6-다이싸이아옥테인, 5,7-다이머캅토메틸-1,11-다이머캅토-3,6,9-트라이싸이아운데케인, 4,7-다이머캅토메틸-1,11-다이머캅토-3,6,9-트라이싸이아운데케인, 4,8-다이머캅토메틸-1,11-다이머캅토-3,6,9-트라이싸이아운데케인, 펜타에리트리톨 테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 비스(머캅토에틸) 설파이드, 펜타에리트리톨 테트라키스(2-머캅토아세테이트), 2,5-비스(머캅토메틸)-1,4-다이싸이에인, 1,1,3,3-테트라키스(머캅토메틸싸이오)프로페인, 4,6-비스(머캅토메틸싸이오)-1,3-다이싸이에인, 및 2-(2,2-비스(머캅토메틸싸이오)에틸)-1,3-다이싸이에테인으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종이고,
상기 폴리올 화합물은, 에틸렌 글라이콜, 다이에틸렌 글라이콜, 트라이에틸렌 글라이콜, 프로필렌 글라이콜, 1,3-프로페인다이올, 1,2-사이클로펜테인다이올, 1,3-사이클로펜테인다이올, 1,2-사이클로헥세인다이올, 1,3-사이클로헥세인다이올, 및 1,4-사이클로헥세인다이올로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인, 광학 재료용 중합성 조성물. - 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 재료로 이루어지는 플라스틱 렌즈.
- 제 15 항에 기재된 플라스틱 렌즈를 구비하는 아이웨어.
- 제 15 항에 기재된 플라스틱 렌즈를 구비하는 적외선 센서 또는 적외선 카메라.
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