KR20210121873A - 티오우레탄계 광학재료용 수지 조성물과 티오우레탄계 광학재료용 수지의 제조방법 - Google Patents

티오우레탄계 광학재료용 수지 조성물과 티오우레탄계 광학재료용 수지의 제조방법 Download PDF

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KR20210121873A
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Abstract

본 발명은 3개 이상의 메르캅토기를 갖는 폴리티올 화합물과 폴리이소시아네이트 화합물을 반응시켜 티오우레탄계 광학재료를 얻을 수 있는 수지 조성물과 제조방법에 관한 것으로, 특히 폴리티올 화합물의 품질에 따른 영향을 줄여 생산단가를 낮추면서도 첨가제를 통해 중합속도를 조절함으로써 고품질의 초고굴절 티오우레탄계 광학재료를 제조할 수 있는 수지 조성물과 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에서는, (a) 3개 이상의 메르캅토기를 가지는 폴리티올 화합물과, (b) 폴리이소시아네이트 화합물과, (c) 아래 화학식 1로 표시되는 카테콜 화합물을 포함하며, 상기 카테콜 화합물은 (a), (b), (c)를 합친 조성물 100중량% 중에 0.05~5중량%로 포함되는, 티오우레탄계 광학재료용 수지 조성물이 제공된다. 본 발명은 3개 이상의 메르캅토기를 갖는 폴리티올 화합물의 생산공정을 단순화하고 생산단가를 줄이면서도 고품질의 초고굴절 티오우레탄계 광학재료를 제조할 수 있으므로, 광학렌즈 분야에서 널리 활용될 수 있다.

Description

티오우레탄계 광학재료용 수지 조성물과 티오우레탄계 광학재료용 수지의 제조방법 {Thiourethane based resin composition for optical materials and method of manufacturing thiourethane based optical material resin}
본 발명은 3개 이상의 메르캅토기를 갖는 폴리티올 화합물과 폴리이소시아네이트 화합물을 반응시켜 티오우레탄계 광학재료를 얻을 수 있는 수지 조성물과 제조방법에 관한 것으로, 특히 폴리티올 화합물의 품질에 따른 영향을 줄여 생산단가를 낮추면서도 첨가제를 통해 중합속도를 조절함으로써 고품질의 초고굴절 티오우레탄계 광학재료를 제조할 수 있는 수지 조성물과 제조방법에 관한 것이다.
플라스틱 광학재료는, 무기 재료로 이루어지는 광학재료에 비해 가볍고 쉽게 깨지지 않으며, 염색이 가능하다. 최근에는 다양한 수지의 플라스틱 재료들이 광학재료에 이용되고 있으며 그 요구 물성 또한 날로 높아지고 있다.
폴리티올 화합물과 폴리이소시아네이트 화합물을 사용하여 제조된 티오우레탄계 광학재료는 굴절률, 투명성, 아베수, 투과율, 인강강도 등의 광학특성이 우수하여 광학렌즈 소재로 널리 이용되고 있다.
티오우레탄계 광학재료에서 1.67 정도의 고굴절률 렌즈를 얻기 위해서는 폴리티올 성분으로 3개 이상의 메르캅토기를 갖는 폴리티올 화합물이 주로 사용된다. 그런데 3개 이상의 메르캅토기를 갖는 폴리티올 화합물은 제조과정이 까다롭고, 부산물이 혼입되기 쉬운데 부산물 중에는 폴리이소시아네이트 화합물과의 반응활성에 상당한 영향을 미치는 성분들이 있다. 특히 부산물로 메르캅토기로 일부가 변환되지 않고 알코올계, 아민계, 폴리티올 올리고머 등으로 치환된 화합물이 혼입될 경우 폴리이소시아네이트 화합물과의 중합 반응에 영향을 미쳐 중합 초기에 너무 빠른 경화와 급격한 점도 상승을 초래하여 제대로 중합이 이루어지지 않게 된다.
종래에는 이러한 불순물의 함유량을 억제하는 방법으로 그 영향을 최소화했다. 국제 공개특허 WO2007-129449호에서는 폴리티올 화합물의 제조 시 출발물질인 2-메르캅토에탄올에 포함되는 특정 불순물의 함량을 일정 범위 이하로 제한함으로써 폴리티올 화합물의 품질을 높이는 방법을 개시하고 있다. 국제 공개특허 WO2007-129450호에서는 폴리티올 화합물의 제조 시 티오요소에 포함되는 칼슘 함유량을 일정 범위 이하로 제한함으로써 폴리티올 화합물의 품질을 높이는 방법을 개시하고 있다. 한국 공개특허 10-2015-32250호에서는 폴리티올 화합물의 제조 시 특정 질소 함유 화합물의 함량을 일정 범위 이하로 제한함으로써 렌즈의 맥리, 착색 등을 억제하고 품질이 좋은 렌즈를 얻는 것을 개시하고 있다.
[특허문헌 1] 일본 공개특허 1990-270859 [특허문헌 2] 국제 공개특허 WO2007-129449 [특허문헌 3] 국제 공개특허 WO2007-129450 [특허문헌 4] 한국 공개특허 10-2015-32250
3개 이상의 메르캅토기를 갖는 폴리티올 화합물의 제조 시 메르캅토기의 일부가 메르캅토기로 변환되지 않고 알코올계, 아민계, 폴리티올 올리고머 등으로 부생성되는 화합물(B)을 충분히 제거하기 위해서는 많은 양의 농염산과 물로 세척하는 과정이 필요하다.
본 발명에서는, 이렇게 부생성된 화합물(B)이 3개 이상의 메르캅토기를 갖는 폴리티올 화합물 중에 1.5중량% 이상으로 혼입될 때, 폴리이소시아네이트 화합물과의 반응 시 중합 조절이 되지 않고 반응 초기에 급격한 경화 및 점도 상승이 일어나 중합이 제대로 되지 않는다는 것을 확인하였다. 그리고 화합물(B)의 함유량을 1.5중량% 미만으로 제거하기 위해서는, 농염산 세척 5회 이상과 수세척 3회 이상이 필요하였다. 이러한 세척과정을 거쳐 얻은, 3개 이상의 메르캅토기를 갖는 폴리티올 화합물은 굴절률 1.60의 고굴절 안경렌즈는 몰론, 1.67의 초고굴절 티오우레탄계 안경렌즈 제조에서도 폴리이소시아네이트 화합물과의 반응 시 너무 빠른 경화나 급격한 점도 상승 없이 중합이 진행되어 투명성이 좋은 렌즈를 얻을 수 있었으며, 다만 열정성이 다소 떨어지는 문제는 있었으나 상품화에는 문제가 없는 수준이었다. 그러나 이런 수준의 폴리티올을 얻기 위한 다량의 농염산 세척과 수세척은 많은 폐수를 발생시키고 생산단가의 상승을 초래하게 된다.
본 발명에서는 폴리티올 화합물의 품질에 따른 영향을 줄여 생산단가를 낮추면서도 첨가제를 통해 중합속도를 조절함으로써 고품질의 초고굴절 티오우레탄계 광학재료를 제조할 수 있는 수지 조성물과 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
구체적으로 본 발명에서는, 3개 이상의 메르캅토기를 갖는 폴리티올 화합물의 합성 시 메르캅토기의 일부가 메르캅토기로 변환되지 않고 알코올계, 아민계, 폴리티올 올리고머 등으로 부생성되는 화합물(B)을 1.5중량% 미만으로 억제하지 않고도, 즉 화합물(B)이 1.5중량% 이상으로 포함되어 있어도 폴리이소시아네이트 화합물과의 반응 시 급격한 경화 및 점도 상승 문제를 해결할 수 있는 중합조절제가 포함된 수지 조성물과 수지의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명에서는, 수지 조성물 중에 아래 화학식 1로 표시되는 카테콜 화합물이 포함되면, 3개 이상의 메르캅토기를 가지는 폴리티올 화합물 중에 부생성된 화합물(B)이 1.5중량% 이상으로 포함되어 있어도 폴리이소시아네이트 화합물의 반응 시 중합속도가 조절되어 너무 빠른 경화 및 급격한 점도 상승 문제를 해결할 수 있음을 예기치 않게 발견하였다.
Figure pat00001
(R1, R2, R3, R4는 서로 독립적으로 H 또는 C1~12의 탄소원자를 가지는 알킬, 아릴, 알킬아릴, 아릴알킬, 지환족 중 어느 하나이다)
본 발명에서 "3개 이상의 메르캅토기를 가지는 폴리티올 화합물"은 특별히 한정하지 않는 한, "3개 이상의 메르캅토기를 가지는 폴리티올 화합물(A)"과 이 폴리티올 화합물(A)의 합성과정에서 생성된 부산물인, "상기 메르캅토기 중 적어도 하나가 메르캅토기로 변환되지 않은 화합물(B)"을 모두 포함하는 의미로 정의된다.
본 발명에서는,
(a) 3개 이상의 메르캅토기를 가지는 폴리티올 화합물과,
(b) 폴리이소시아네이트 화합물과,
(c) 아래 화학식 1로 표시되는 카테콜 화합물을 포함하며,
상기 카테콜 화합물은 (a), (b), (c)를 합친 조성물 100중량% 중에 0.05~5중량%로 포함되는 것을 특징으로 하는, 티오우레탄계 광학재료용 수지 조성물을 제공한다.
또한, 본 발명에서는,
3개 이상의 메르캅토기를 가지는 폴리티올 화합물, 폴리이소시아네이트 화합물 및 아래 화학식 1로 표시되는 카테콜 화합물을 포함하는 광학재료용 수지 조성물을 주형에서 중합시키는 단계를 포함하며,
상기 카테콜 화합물은 상기 광학재료용 수지 조성물 100중량% 중에 0.05~5중량%로 포함되는 것을 특징으로 하는, 티오우레탄계 광학재료용 수지의 제조방법을 제공한다.
[화학식 1]
Figure pat00002
(R1, R2, R3, R4는 서로 독립적으로 H 또는 C1~12의 탄소원자를 가지는 알킬, 아릴, 알킬아릴, 아릴알킬, 지환족 중 어느 하나이다)
상기 3개 이상의 메르캅토기를 가지는 폴리티올 화합물에는, 상기 메르캅토기 중 적어도 하나가 메르캅토기로 변환되지 않은 화합물(B)이 1.5중량% 이상으로 포함될 수 있다. 상기 화합물(B)은, 상기 메르캅토기 중 적어도 하나에 하이드록시기 또는 하이드록시기를 포함하는 화합물이 치환되어 있는 알코올 화합물; 아민기 또는 아민기를 포함하는 화합물이 치환되어 있는 아민 화합물; 폴리티올 올리고머 중 어느 하나 이상을 포함할 수 있다.
상기 3개 이상의 메르캅토기를 가지는 폴리티올 화합물은 바람직하게는 아래 화학식 2 내지 6으로 표시되는 화합물 중 어느 하나이다.
[화학식 2]
Figure pat00003
[화학식 3]
Figure pat00004
[화학식 4]
Figure pat00005
[화학식 5]
Figure pat00006
상기 폴리이소시아네이트 화합물은, 바람직하게는 이소포론디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄-4,4-디이소시아네이트(H12MDI), 헥사메틸렌디이소시아네이트, 메틸시클로헥산디이소시아네이트, 2,5-비스(이소사이노토메틸)-비시클로[2,2,1]헵탄, 2,6-비스(이소사이노토메틸)-비시클로[2,2,1]헵탄, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 1,4-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 톨릴렌디이소시아네이트, 페닐렌디이소시아네이트, 1,3,5-트리스(6-이소시아나토-헥실)-[1,3,5]-트리지아난-2,4,6-트리온(HDI 트라이머), o,m,p-크실리렌디이소시아네이트(o,m,p-자일릴렌디이소시아네이트) 및 테트라메틸자일릴렌디이소시아네이트(TMXDI)로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물이다.
본 발명에서는 폴리티올 화합물의 품질에 따른 영향을 줄여 생산단가를 낮추면서도 첨가제를 통해 중합속도를 조절함으로써 고품질의 초고굴절 티오우레탄계 광학재료를 제조할 수 있다.
본 발명에서는 3개 이상의 메르캅토기를 갖는 폴리티올 화합물의 합성 시 다량의 농염산과 물을 사용한 세척을 크게 줄여 적은 양의 농염산과 수세척으로 얻은 폴리티올 화합물을 사용하면서도 폴리이소시아네이트 화합물과의 혼합물에 카테콜을 포함시킴으로써 폴리티올 화합물의 품질에 따른 영향을 줄이고 중합속도를 조절하여 급격한 경화 및 점도 상승 문제를 해결한다. 그 결과 본 발명에 따르면, 폐수 발생과 생산단가를 크게 줄이면서 굴절률 1.67 정도의 초고굴절 티오우레탄계 렌즈를 투명성과 색상, 열안정성이 우수하고 중합불균형이 없는 고품질의 상태로 얻을 수 있다.
본 발명의 티오우레탄계 광학재료용 수지 조성물은
(a) 3개 이상의 메르캅토기를 가지는 폴리티올 화합물과,
(b) 폴리이소시아네이트 화합물과,
(c) 아래 화학식 1로 표시되는 카테콜 화합물을 포함한다.
[화학식 1]
Figure pat00007
(R1, R2, R3, R4는 서로 독립적으로 H 또는 C1~12의 탄소원자를 가지는 알킬, 아릴, 알킬아릴, 아릴알킬, 지환족 중 어느 하나이다)
상기 3개 이상의 메르캅토기를 가지는 폴리티올 화합물은, 예를 들면, 1,2,3-프로판트리티올, 테트라키스(메르캅토메틸)메탄, 트리메티롤프로판트리스(2-메르캅토아세테이트), 트리메티롤프로판트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 트리메티롤에탄트리스(2-메르캅토아세테이트), 트리메티롤에탄트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨테트라키스(2-메르캅토아세테이트), 펜타에리스리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 1,2,3-트리스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,2,3-트리스(2-메르캅토에틸티오)프로판, 1,2,3-트리스(3-메르캅토프로필티오)프로판, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 테트라키스(메르캅토메틸티오메틸)메탄, 테트라키스(2-메르캅토에틸티오메틸)메탄, 테트라키스(3-메르캅토프로필티오메틸)메탄, 비스(2,3-디메르캅토프로필)술피드, 및 이들의 티오글리콜산 및 메르캅토프로피온산의 에스테르, 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,1,2,2-테트라키스(메르캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티아시클로헥산, 트리스(메르캅토메틸티오)메탄, 트리스(메르캅토에틸티오)메탄 등의 지방족 폴리티올 화합물; 1,3,5-트리메르캅토벤젠, 1,3,5-트리스(메르캅토메틸)벤젠, 1,3,5-트리스(메르캅토메틸렌옥시)벤젠, 1,3,5-트리스(메르캅토에틸렌옥시)벤젠, 등의 방향족 폴리티올 화합물 등이나, 이들 예시된 화합물에 한정되지는 않는다.
상기 3개 이상의 메르캅토기를 가지는 폴리티올 화합물은, 바람직하게는 아래 화학식 2 내지 6으로 표시되는 화합물 중 어느 하나이다.
[화학식 2]
Figure pat00008
[화학식 3]
Figure pat00009
[화학식 4]
Figure pat00010
[화학식 5]
Figure pat00011
상기와 같이 3개 이상의 메르캅토기를 갖는 폴리티올 화합물은 제조과정이 까다롭고, 제조과정에서 다른 치환기를 갖는 부산물이 생성되기 쉽다. 생성된 부산물 중에는 폴리이소시아네이트 화합물과의 반응 활성에 상당한 영향을 미치는 성분들이 있는데, 특히 메르캅토기로 일부가 변환되지 않고 알코올계, 아민계, 폴리티올 올리고머 등으로 치환된 화합물(B)은 폴리이소시아네이트 화합물과의 중합 반응에 큰 영향을 미쳐 중합 초기에 너무 빠른 경화와 점도 상승을 초래한다.
본 발명에서는, 3개 이상의 메르캅토기를 갖는 폴리티올 화합물 중에 상기 부생성된 화합물(B)이 1.5중량% 이상으로 포함될 때, 폴리이소시아네이트 화합물과의 반응 시 너무 빠른 경화와 급격한 점도 상승을 유발해 중합이 제대로 진행되지 않는다는 것을 확인하였다. 또한, 이런 문제가 발생하지 않도록 하기 위해서는 3개 이상의 메르캅토기를 갖는 폴리티올 화합물을 합성한 후 상기 부생성된 화합물(B)의 함유량이 1.5중량% 미만이 되도록 제거하는 과정이 필요하다는 것을 확인하였다. 상기 화합물(B)의 함유량이 1.5중량% 미만이 되도록 하기 위해서는 3개 이상의 메르캅토기를 갖는 폴리티올 화합물을 합성한 후 적어도 농염산 세척 5회 이상과 수세척 3회 이상이 필요하였다. 그러나 이러한 세척 과정은 다량의 농염산을 사용함으로써 광학재료의 생산비용을 상승시키는 요인이 되고 많은 폐수를 발생시켜 환경적으로도 문제가 된다.
본 발명에서는 적은 양의 농염산과 수세척으로 얻은 폴리티올 화합물을 그대로 사용한다. 본 발명에서 사용하는 3개 이상의 메르캅토기를 갖는 폴리티올 화합물에는 상기 부생성된 화합물(B)이 1.5중량% 이상으로 함유되나 폴리이소시아네이트 화합물과 혼합물을 만들 때 카테콜을 함께 포함시켜 중합속도를 조절함으로써 너무 빠른 경화 및 급격한 점도 상승 문제를 해결한다.
본 발명의 수지 조성물에 포함되는 카테콜 화합물은 아래 화학식 1로 표시된다.
[화학식 1]
Figure pat00012
(R1, R2, R3, R4는 서로 독립적으로 H 또는 C1~12의 탄소원자를 가지는 알킬, 아릴, 알킬아릴, 아릴알킬, 지환족 중 어느 하나이다)
상기 카테콜 화합물은 상기 (a), (b), (c), (d)를 합친 조성물 100중량% 중에 0.05~5중량%로 포함되는 것이 바람직하다. 5중량% 보다 높은 양으로 포함될 경우 광학렌즈용 수지 조성물에 완전히 용해되지 않아 광학렌즈 내면에 카테콜이 석출되는 점박이 문제가 발생할 수 있으며, 0.05중량% 보다 낮은 양으로 포함될 때는 폴리티올과 폴리이소시아네이트의 반응에서 중합조절 효과를 발휘하기 어렵다. 상기 카테콜 화합물은 보다 바람직하게는 조성물 중에 0.1~4중량%로 포함되며, 가장 바람직하게는 0.3~2중량%로 포함될 수 있다.
본 발명의 수지 조성물에 포함되는 상기 폴리이소시아네이트 화합물은, 2개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 화합물 중 광학재료에 사용될 수 있는 화합물이면 모두 가능하다. 예를 들면, 알킬렌 디이소시아네이트 화합물, 지환족 디이소시아네이트 화합물, 방향족 디이소시아네이트 화합물, 헤테로고리 디이소시아네이트 화합물, 황을 함유한 지방족 디이소시아네이트 화합물 등이 사용될 수 있다.
바람직하게는 이소포론디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄-4,4-디이소시아네이트(H12MDI), 헥사메틸렌디이소시아네이트, 메틸시클로헥산디이소시아네이트, 2,5-비스(이소사이노토메틸)-비시클로[2,2,1]헵탄, 2,6-비스(이소사이노토메틸)-비시클로[2,2,1]헵탄, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 1,4-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 톨릴렌디이소시아네이트, 페닐렌디이소시아네이트, 1,3,5-트리스(6-이소시아나토-헥실)-[1,3,5]-트리지아난-2,4,6-트리온(HDI 트라이머), o,m,p-크실리렌디이소시아네이트(o,m,p-자일릴렌디이소시아네이트) 및 테트라메틸자일릴렌디이소시아네이트(TMXDI)로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 폴리이소시아네이트가 단독으로 또는 함께 사용될 수 있다.
또한, 상기 폴리이소시아네이트와 함께 1종 또는 2종 이상의 다른 이소(티오)시아네이트 화합물이 같이 사용될 수 있다. 이러한 이소(티오)시아네이트 화합물로는, 2,2-디메틸펜탄디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥산디이소시아네이트, 부텐디이소시아네이트, 1,3-부타디엔-1,4-디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,6,11-운데카트리이소시아네이트, 1,3,6-헥사메틸렌트리이소시아네이트, 1,8-디이소시아네이트-4-이소시아네이토메틸옥탄, 비스(이소시아네이토에틸)카보네이트, 비스(이소시아네이토에틸)에테르를 포함하는 지방족 이소시아네이트 화합물;
1,2-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 1,3-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 1,4-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 시클로헥산디이소시아네이트, 메틸시클로헥산디이소시아네이트, 디시클로헥실디메틸메탄이소시아네이트, 2,2-디메틸디시클로헥실메탄이소시아네이트를 포함하는 지환족 이소시아네이트 화합물;
비스(이소시아네이토부틸)벤젠, 비스(이소시아네이토메틸)나프탈렌, 비스(이소시아네이토메틸)디페닐에테르, 페닐렌디이소시아네이트, 에틸페닐렌디이소시아네이트, 이소프로필페닐렌디이소시아네이트, 디메틸페닐렌디이소시아네이트, 디에틸페닐렌디이소시아네이트, 디이소프로필페닐렌디이소시아네이트, 트리메틸벤젠트리이소시아네이트, 벤젠트리이소시아네이트, 비페닐디이소시아네이트, 톨루이딘디이소시아네이트, 4,4-디페닐메탄디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐메탄-4,4-디이소시아네이트, 비벤질-4,4-디이소시아네이트, 비스(이소시아네이토페닐)에틸렌, 3,3-디메톡시비페닐-4,4-디이소시아네이트, 헥사히드로벤젠디이소시아네이트, 헥사히드로디페닐메탄-4,4-디이소시아네이트를 포함하는 방향족 이소시아네이트 화합물;
비스(이소시아네이토에틸)설피드, 비스(이소시아네이토프로필)설피드, 비스(이소시아네이토헥실)설피드, 비스(이소시아네이토메틸)설폰, 비스(이소시아네이토메틸)디설피드, 비스(이소시아네이토프로필)디설피드, 비스(이소시아네이토메틸티오)메탄, 비스(이소시아네이토에틸티오)메탄, 비스(이소시아네이토에틸티오)에탄, 비스(이소시아네이토메틸티오)에탄, 1,5-디이소시아네이토-2-이소시아네이토메틸- 3-티아펜탄를 포함하는 함황 지방족 이소시아네이트 화합물;
디페닐설피드-2,4-디이소시아네이트, 디페닐설피드-4,4-디이소시아네이트, 3,3-디메톡시-4,4-디이소시아네이토디벤질티오에테르, 비스(4-이소시아네이토메틸벤젠)설피드, 4,4-메톡시벤젠티오에틸렌글리콜-3,3-디이소시아네이트, 디페닐디설피드-4,4-디이소시아네이트, 2,2-디메틸디페닐디설피드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐디설피드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐디설피드-6,6-디이소시아네이트, 4,4-디메틸디페닐디설피드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메톡시 디페닐디설피드-4,4-디이소시아네이트, 4,4-디메톡시디페닐디설피드-3,3-디이소시아네이트를 포함하는 함황 방향족 이소시아네이트 화합물; 및
2,5-디이소시아네이토티오펜, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)티오펜, 2,5-디이소시아네이토테트라히드로티오펜, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)테트라히드로티오펜, 3,4-비스(이소시아네이토메틸)테트라히드로티오펜, 2,5-디이소시아네이토-1,4-디티안, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)-1,4-디티안, 4,5-디이소시아네이토-1,3-디티오란, 4,5-비스(이소시아네이토메틸)-1,3-디티오란, 4,5-비스(이소시아네이토메틸)-2-메틸-1,3-디티오란을 포함하는 함황 복소환 이소시아네이트 화합물로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 이소(티오)시아네이트 화합물을 사용할 수 있다.
본 발명의 수지 조성물은, 상기 3개 이상의 메르캅토기를 가지는 폴리티올 화합물 외에 다른 폴리티올 화합물을 더 포함할 수 있다. 다른 폴리티올 화합물은 1분자 중에 2개의 티올기를 가지는 화합물이 사용될 수 있으며, 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 메탄디티올, 1,2-에탄디티올, 1,2-프로판디티올, 1,3-프로판디티올, 1,4-부탄디티올, 1,5-펜탄디티올, 1,6-헥산디티올, 1,2-시클로헥산디티올, 3,4-디메톡시부탄-1,2-디티올, 2-메틸시클로헥산-2,3-디티올, 비스(메르캅토메틸)설파이드, 비스(메르캅토메틸)디설파이드, 비스(메르캅토에틸)설파이드, 비스(2-메르캅토에틸)설파이드, 1,3-페닐렌디메탄티올 등이 사용될 수 있다.
상기 티오우레탄계 광학재료용 모노머 조성물은, 이밖에 필요에 따라, 중합촉매, 내부 이형제, 자외선 흡수제, 염료, 안정제, 블루잉제, 가교제, 광안정제, 산화방지제, 충전제 등의 성분을 더 포함할 수 있다. 또한, 여기에, 티오우레탄수지 조성물과 공중합이 가능한, 에폭시화합물, 티오에폭시화합물, 비닐기 혹은 불포화기를 갖는 화합물 및 금속화합물 등을 더 혼합하여 중합하는 것도 가능하다.
상기 중합촉매로는, 바람직하게는 주석할로겐 화합물, 아민, 제4급 암모늄염, 제4급 포스포늄염, 제3급 술포늄염, 제2급 요오드늄염, 포스핀 화합물 중에서 선택된 1종 이상을 사용한다. 보다 바람직하게는 주석할로겐 화합물, 제4급 암모늄염, 제4급 포스포늄염, 포스핀 화합물 중에서 선택된 1종 이상을 사용할 수 있다. 주석할로겐 화합물로는, 바람직하게는 디부틸주석디클로라이드, 디메틸주석디클로라이드 중 어느 하나를 사용할 수 있다. 제4급 암모늄염으로는, 예를 들어, 테트라-n-부틸암모늄브로마이드, 테트라페닐암모늄브로마이드, 트리에틸벤질암모늄클로라이드, 세틸디메틸벤질암모늄클로라이드, 1-n-도데실피리디늄클로라이드 등을 사용할 수 있다. 제4급 포스포늄염으로는, 예를 들어, 테트라-n-부틸포스포늄브로마이드, 테트라페닐포스포늄브로마이드 등을 사용할 수 있다. 포스핀 화합물로는 트리페닐포스핀 등을 사용할 수 있다. 특히 바람직하게는 상기 중합촉매는 제4급 포스포늄염이며, 테트라-n-부틸포스포늄브로마이드, 테트라페닐포스포늄브로마이드 중 어느 하나를 포함한다. 이들 중합 촉매는 단독으로 사용하거나 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 내부 이형제로는 인산에스테르 화합물, 실리콘계 계면활성제, 불소계 계면활성제 등을 각각 단독으로 또는 2종 이상 함께 사용할 수 있다. 바람직하게는 내부이형제로 인산에스테르화합물을 사용한다. 인산에스테르화합물은 포스포러스펜톡사이드(P2O5)에 2~3몰의 알코올 화합물을 부가하여 제조하는데, 이때 사용하는 알코올의 종류에 따라 여러 가지 형태의 산성인산에스테르화합물이 있을 수 있다. 대표적인 것으로는 지방족 알코올에 에틸렌옥사이드 혹은 프로필렌 옥사이드가 부가되거나 노닐페놀기 등에 에틸렌 옥사이드 혹은 프로필렌 옥사이드가 부가된 종류들이다. 본 발명의 중합성 조성물에, 에틸렌 옥사이드 혹은 프로필렌 옥사이드가 부가된 산성인산에스테르화합물이 내부이형제로 포함될 경우, 이형성이 좋고 품질이 우수한 광학재료를 얻을 수 있어 바람직하다. 내부이형제로 사용되는 인산에스테르 화합물은, 바람직하게는, 폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드가 5몰 부가된 것 5중량%, 4몰 부가된 것 80중량%, 3몰 부가된 것 10중량%, 1몰 부가된 것 5중량%), 폴리옥시에티렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드 9몰 부가된 것 3중량%, 8몰 부가된 것 80중량%, 9몰 부가된 것 5중량%, 7몰 부가된 것 6중량%, 6몰 부가된 것 6중량%), 폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드 13몰 부가된 것 3중량%, 12몰 부가된 것 80중량%, 11몰 부가된 것 8중량%, 9몰 부가된 것 3중량%, 4몰 부가된 것 6중량%), 폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르포스페이트(에틸렌옥사이드가 17몰 부가된 것 3중량%, 16몰 부가된 것 79중량%, 15몰 부가된 것 10중량%, 14몰 부가된 것 4중량%, 13몰 부가된 것 4중량%), 폴리옥시에틸렌노닐페놀에테르 포스페이트(에틸렌옥사이드가 21몰 부가된 것 5중량%, 20몰 부가된 것 76중량%, 19몰 부가된 것 7중량%, 18몰 부가된 것 6중량%, 17몰 부가된 것 4중량%), 젤렉유엔™(Zelec UN™) 등의 에틸렌옥사이드 혹은 프로필렌옥사이드가 부가되어 있는 산성인산에스테르화합물이 각각 단독으로 또는 2종 이상 함께 사용될 수 있다. 내부이형제는, 바람직하게는 전체 모노머 조성물 중에 0.001~10중량%로 포함된다.
자외선 흡수제로는 광학재료에 사용되는 공지의 자외선 흡수제가 제한 없이 사용될 수 있다. 예를 들면, 에틸-2-시아노-3,3-디페닐아크릴레이트, 2-(2'-히드록시-5-메틸페닐)-2H-벤조트리아졸; 2-(2'-히드록시-3',5'-디-t-부틸페닐)-5-클로로-2H-벤조트리아졸; 2-(2'-히드록시-3'-t-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로-2H-벤조트리아졸; 2-(2'-히드록시-3',5'-디-t-아밀페닐)-2H-벤조트리아졸; 2-(2'-히드록시-3',5'-디-t-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸; 2-(2'-히드록시-5'-t-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸; 2-(2'-히드록시-5'-t-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸; 2,4-디히드록시벤조페논; 2-히드록시-4-메톡시벤조페논; 2-히드록시-4-옥틸옥시벤조페논; 4-도데실옥시-2-히드록시벤조페논; 4-벤조록시-2-히드록시벤조페논; 2,2',4,4'-테트라히드록시벤조페논; 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논 등이 단독으로 또는 2종 이상 혼합 사용될 수 있다.
바람직하게는, 400㎚ 이하의 파장역에서 양호한 자외선 흡수능을 가지고, 본 발명의 조성물에 양호한 용해성을 갖는, 2-(2'-히드록시-3'-t-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로-2H-벤조트리아졸과 2-(2'-히드록시-5'-t-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸 등을 사용할 수 있다. 이와 같은 자외선 흡수제는 광학재료용 조성물 100g에 대해 0.6g 이상으로 사용될 때 400nm 이상의 차단이 가능하다.
본 발명에서는, 상기와 같은 티오우레탄계 광학재료용 수지 조성물을 주형에서 중합시키는 단계를 포함하는 티오우레탄계 광학재료용 수지의 제조방법이 제공된다.
먼저, 폴리티올 화합물과 폴리이소시아네이트 화합물을 혼합하여 균일 용액 상태의 수지 조성물을 만드는데, 이때 상기 화학식 1로 표시되는 카테콜 화합물을 수지 조성물 100중량% 중에 0.05~5중량%로 포함시킨다. 수지 조성물에 대한 설명은 앞부분과 동일하므로 생략한다.
위와 같이 준비된 균일 용액 상태의 수지 조성물을 몰드에 넣고 중합시켜 광학재료용 수지를 제조한다. 바람직하게는, 수지 조성물을 몰드에 넣기 전에 감압 탈포를 시킨 후 테이프로 몰딩한 유리몰드에 주입하고 약 24~48시간에 걸쳐 저온에서 고온으로 서서히 열을 가하여 경화시킨다.
이렇게 제조되는 티오우레탄계 수지는, 1.67의 초고굴절율을 갖고 저분산이고, 투명성과 색상이 좋으며, 내열성, 내구성이 뛰어나다. 이렇게 얻어진 티오우레탄계 수지는 렌즈나 프리즘 등의 광학재료 용도에 적합하며, 특히 안경 렌즈, 카메라 렌즈 등의 렌즈 용도에 매우 적합하다.
본 발명에 따라 얻어진 광학재료는, 필요에 따라 반사방지, 고경도 부여, 내마모성 향상, 내약품성 향상, 방운성 부여, 혹은 패션성 부여 등의 개량을 목적으로, 표면 연마, 대전방지 처리, 하드코트 처리, 무반사 코트 처리, 염색처리, 조광 처리 등의 물리적, 화학적 처리를 더 실시할 수 있다.
[ 실시예 ]
이하 구체적인 실시예들을 통해 본 발명을 보다 상세히 설명한다. 그러나 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것으로서, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
합성예 1
1,2- 비스 [(2- 메르캅토에틸 ) 티오 ]-3- 메르캅토프로판(GST)의 합성
교반기, 환류 냉각수분 분리기, 질소 가스퍼지관 및 온도계를 부착한 10리터 5구 반응 플라스크 내에 순도 99.9% 이상의 2-메르캅토에탄올 676g(8.65mol), 물 340g을 장입한다. 30℃에서, 25중량%의 수산화나트륨 수용액 691.2g(1.08mol)을 30분에 걸쳐 적하 장입 한 후, 에피클로로히드린 399.6g(4.32mol)를 40℃ 부근에서 3시간 걸쳐 적가하였고, 40℃에서 1시간 동안 숙성을 행하였다. 반응기 내부가 25℃에 도달하면 35중량% 염산 수 1800g(17.28mol), 티오요소 987.6g(12.97mol)를 장입하고, 110℃ 환류하에서 3시간 숙성하여 티우로늄염화를 행하였다. 20℃로 냉각한 후, 톨루엔 1880g, 25중량%의 암모니아 수용액 1324.4g(19.47mol)를 장입하고 가수분해를 행하여 1,2-비스[(2-메르캅토에틸)티오]-3-메르캅토프로판을 주성분으로 하는 폴리티올의 톨루엔 용액을 얻었다. 상기 톨루엔 용액을, 농염산 35%(수용액) 250g으로 산세척을 1회하고 및 탈이온 3차 증류수 200g으로 세척을 2회 행하고, 가열 감압하에서 톨루엔 및 미량의 수분을 제거하였다. 그 후 여과하여 1,2-비스[(2-메르캅토에틸)티오]-3-메르캅토프로판을 주성분으로 하는 폴리티올 1074.8g을 얻었다. 얻어진 GST 화합물을 무게의 40배로 희석하여 GC 기기로 측정한 결과, 메르캅토기의 일부가 변환되지 않은 알코올계, 아민계, 폴리티올 올리고마 등의 화합물이 1.51중량% 포함되어 있었다.
합성예 2
1,2- 비스 [(2- 메르캅토에틸 ) 티오 ]-3- 메르캅토프로판(GST)의 합성
교반기, 환류 냉각수분 분리기, 질소 가스퍼지관 및 온도계를 부착한 10리터 5구 반응 플라스크 내에 순도 99.9% 이상의 2-메르캅토에탄올 676g(8.65mol), 물 340g을 장입한다. 30℃에서, 25중량%의 수산화나트륨 수용액 691.2g(1.08mol)을 30분에 걸쳐 적하 장입한 후, 에피클로로히드린 399.6g(4.32mol)를 40℃ 부근에서 3시간에 걸쳐 적가하였고, 40℃에서 1시간 동안 숙성을 행하였다. 반응기 내부 온도가 25℃에 도달하면 35중량% 염산 수 1800g(17.28mol), 티오요소 987.6g(12.97mol)를 장입하고, 110℃ 환류하에서 3시간 숙성하여 티우로늄염화를 행하였다. 20℃로 냉각시킨 후, 톨루엔 1880g, 25중량%의 암모니아 수용액 1324.4g(19.47mol)를 장입하고 가수분해를 행하여 1,2-비스[(2-메르캅토에틸)티오]-3-메르캅토프로판을 주성분으로 하는 폴리티올의 톨루엔 용액을 얻었다. 상기 톨루엔 용액을, 농염산 35%(수용액) 250g에 산세척을 5회 하고 및 탈이온 3차 증류수로 세척을 3회 행하고, 가열 감압하에서 톨루엔 및 미량의 수분을 제거하였다. 그 후 여과하여 1,2-비스[(2-메르캅토에틸)티오]-3-메르캅토프로판을 주성분으로 하는 폴리티올 1070.2g을 얻었다. 얻어진 GST 화합물을 무게의 40배로 희석하여 GC 기기로 측정한 결과, 메르캅토기의 일부가 변환되지 않은 알코올계, 아민계, 폴리티올 올리고마 등의 화합물이 1.02중량% 포함되어 있었다.
실시예 1
자일릴렌디이소시아네이트 520g, 촉매로 BTC 0.1g, 자외선 흡수제 HOPBT 12g 및 Zelec UN 0.7g을 15℃에서 혼합하고 용해시켰다. 용해 후, 1,2-비스[(2-메르캅토에틸)티오]-3-메르캅토프로판(GST) 480g, 카테콜 1.0g 및 유기염료 HTAQ(20ppm)과 PRD(10ppm)를 첨가하고 혼합 용해시켜 균일 용액으로 만들었다. 이 균일 용액을 600 Pa로 1 시간 탈포시켰다.
광학렌즈 제조
(1) 위와 같이 제조된 광학렌즈용 수지 조성물을 0.1μm 테프론(등록상표) 필터로 여과한 다음, 5분 동안 감압 탈포를 더 하고 폴리에스테르 점착테이프로 조립된 유리몰드에 주입하였다.
(2) 안경 렌즈용 수지조성물이 주입된 유리 몰드를 강제 순환식 오븐에서 25℃에서 120℃까지 20시간에 걸쳐서 가열 경화시킨 후, 70℃로 냉각하고 유리 몰드로부터 탈착하여 렌즈를 얻었다. 얻어진 렌즈는 지름 72㎜로 가공하고 알카리 수성 세척액에 초음파 세척한 다음, 120℃에서 3시간 어닐링 처리하였다. 아래와 같은 방법으로 물성을 측정하여 그 결과를 표 1에 나타내었다.
물성 실험방법
실시예에서 제조된 광학렌즈의 물성을 아래의 실험방법으로 측정하여 그 결과를 표 1에 기재하였다.
1) 점도 측정: 광학렌즈용 수지조성물의 점도는 FUNGI LAB 사의 Visco Basic-L 모델의 점도측정장치를 이용하여 15℃에서 시간 경과에 따른 점도의 변화를 측정하였다.
2) 굴절률 및 아베수: Atago사의 DR-M4 모델인 아베 굴절계를 사용하여 측정하였다.
3) 중합불균형: 100매의 안경렌즈를 USHIO USH-10D인 수은 아크램프(Mercury Arc Lamp) 아래 육안으로 관찰하고, 호상이 확인된 렌즈는 중합불균형이 있는 것으로 판정하여, 호상이 없는 것은 "◎"로 표시하고, 호상이 1~2개가 있는 것은 "○"로 표시하고, 호상이 3개 이상이 있는 것은 "×"로 표시하였다.
4) 투명성: 100매의 렌즈를 USHIO USH-10D인 수은 아크램프(Mercury Arc Lamp) 아래서 육안으로 관찰하여, 렌즈의 탁함이 1개 이하가 발견되면 "◎"로 표시하고, 2~3개가 발견되면 "○"로 표시하고, 4개 이상이 발견되면 "×"로 표시하였다.
5) 열안정성 : 경화된 광학렌즈를 100℃에서 12시간 동안 유지하고, 색상변화의 측정에서 APHA 값이 2 이하로 변하면 "◎"로 표시하고, APHA 값이 3~6으로 변하면 "○"로 표시하고, APHA 값이 7 이상으로 변하면 "×"로 표시하였다.
실시예 2~14
실시예 1과 같은 방법으로 표 1과 2에 기재된 조성에 따라 광학렌즈를 제조하고 물성을 실험하였으며, 그 결과를 표 1과 2에 에 기재하였다.
비교예 1~2
실시예 1과 같은 방법으로 표 2에 기재된 조성에 따라 광학렌즈를 제조하고 물성을 실험하였으며, 그 결과를 표 2에 기재하였다.
구 분 실 시 예
1 2 3 4 5 6 7 8
모노머조성물 (g) GST 480 480 480 480 480 480 480 480
합성예1 합성예1 합성예1 합성예1 합성예1 합성예1 합성예1 합성예1
XDI 520 520 520 520 520 520 520 520
자외선흡수제 (g) HOPBT 12 12 12 12 12 12 12 12
중합개시제
(g)		 BTC 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1
중합조절제
(g)		 CTH 1.0 2.0 4.0 6.0 8.0
MCTH 4.0
BCTH 4.0
BMCTH 4.0
점도
(mpa.s)
 1h 50 45 40 40 43 42 40 38
2h 75 65 55 50 52 50 45 40
3h 125 95 75 72 71 73 67 62
4h 230 157 118 115 117 116 110 99
5h 450 270 190 188 186 193 159 142
렌즈
물성		 굴절율
(nE, 20℃)		 1.695 1.695 1.695 1.695 1.695 1.695 1.695 1.695
아베수 32 32 32 32 32 32 32 32
중합불균형 ○ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎
투명성 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎
열안정성 ○ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎
구 분 실 시 예 비교예
9 10 11 12 13 14 1 2 3
모노머조성물
(g)		 GST 480 480 480 480 480 480 480 480 480
합성예1 합성예1 합성예1 합성예1 합성예1 합성예1 합성예1 합성예2 합성예1
XDI 520 520 520 520 520 520 520 520 520
자외선흡수제 (g) HOPBT 12 12 12 12 12 12 12 12 12
중합개시제
(g)		 BTC 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1
중합조절제
(g)		 CTH 10.0 20.0 30.0 0.0 0.0 60.0
MCTH 2.0
BCTH 5.0
BMCTH 7.0
점도(mpa.s)
 1h 37 35 33 46 39 38 100 35 32
2h 45 43 41 67 43 43 198 40 37
3h 50 48 45 97 68 47 500 50 40
4h 69 57 50 161 98 53 >1500 60 45
5h 110 79 74 275 138 134 75 50
렌즈
물성		 굴절율(nE, 20℃) 1.695 1.694 1.693 1.695 1.695 1.695 1.695 1.695 1.692
아베수 32 32 32 32 32 32 32 32 32
중합불균형 ○ ○ ○ ◎ ◎ ◎ × ◎ ×
투명성 ◎ ○ ○ ◎ ◎ ◎ ○ ◎ ×
열안정성 ◎ ○ ○ ◎ ◎ ◎ ○ × ×
[약어]
모노머
GST: 2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판-1-티올
(2,3-bis(2-mercaptoethylthio)propane-1-thiol)
XDI: 자일릴렌디이소시아네이트(Xylylene-diisocyanate)
이형제
ZELEC UN: Stepan 사에서 제조하는 산성 인산에스테르화합물로 상품명 ZELEC UNTM
자외선 흡수제
HOPBT: 2-(2'-히드록시-5'-t-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸
(2-(2'-hydroxy-5'-t-octylphenyl)benzotriazole)
유기염료
HTAQ:1-히드록시-4-(p-톨루딘)엔트로퀴논
[1-hydroxy-4-(p-toluidin)anthraquinone]
PRD: 퍼리논 염료(perinone dye)
중합개시제
BTC: 디부틸틴디클로라이드(Dibutyltindichloride)
중합조절제
CTH: 카테콜(Catechol)
MCTH: 4-메틸카테콜(4-Methylcatechol)
BCTH: 4-tert-부틸카테콜(4-tert-Butylcatechol)
BMCTH: 3-tert-부틸-5-메틸카테콜(3-tert-Butyl-5-methylcatechol)
본 발명은 3개 이상의 메르캅토기를 갖는 폴리티올 화합물의 합성 시 다량의 농염산과 물을 사용한 세척을 크게 줄여 폐수 발생과 생산단가를 크게 줄이면서도 광학재료용 수지 조성물에 카테콜을 포함시킴으로써 중합 속도를 조절해 고품질의 초고굴절 렌즈를 얻을 수 있다.
본 발명은 3개 이상의 메르캅토기를 갖는 폴리티올 화합물의 생산공정을 단순화하고 생산단가를 줄이면서도 고품질의 티오우레탄계 광학재료를 제조할 수 있으므로, 광학렌즈 분야에서 널리 활용될 수 있으며, 특히 초고굴절률을 갖고 무색 투명하며 내열성이 좋은 티오우레탄계 렌즈가 필요한 분야에서 크게 활용될 수 있다.

Claims (10)

  1. (a) 3개 이상의 메르캅토기를 가지는 폴리티올 화합물과,
    (b) 폴리이소시아네이트 화합물과,
    (c) 아래 화학식 1로 표시되는 카테콜 화합물을 포함하며,
    상기 카테콜 화합물은 (a), (b), (c)를 합친 조성물 100중량% 중에 0.05~5중량%로 포함되는 것을 특징으로 하는, 티오우레탄계 광학재료용 수지 조성물.
    [화학식 1]
    Figure pat00013

    (R1, R2, R3, R4는 서로 독립적으로 H 또는 C1~12의 탄소원자를 가지는 알킬, 아릴, 알킬아릴, 아릴알킬, 지환족 중 어느 하나이다)
  2. 제1항에 있어서,
    상기 3개 이상의 메르캅토기를 가지는 폴리티올 화합물에는, 상기 메르캅토기 중 적어도 하나가 메르캅토기로 변환되지 않은 화합물(B)이 1.5중량% 이상으로 포함되어 있는 것을 특징으로 하는, 티오우레탄계 광학재료용 수지 조성물.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 화합물(B)은, 상기 메르캅토기 중 적어도 하나에 하이드록시기 또는 하이드록시기를 포함하는 화합물이 치환되어 있는 알코올 화합물; 아민기 또는 아민기를 포함하는 화합물이 치환되어 있는 아민 화합물; 폴리티올 올리고머 중 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는, 티오우레탄계 광학재료용 수지 조성물.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 3개 이상의 메르캅토기를 가지는 폴리티올 화합물은 아래 화학식 2 내지 6으로 표시되는 화합물 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는, 티오우레탄계 광학재료용 수지 조성물.
    [화학식 2]
    Figure pat00014

    [화학식 3]
    Figure pat00015

    [화학식 4]
    Figure pat00016

    [화학식 5]
    Figure pat00017
  5. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 폴리이소시아네이트 화합물은 이소포론디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄-4,4-디이소시아네이트(H12MDI), 헥사메틸렌디이소시아네이트, 메틸시클로헥산디이소시아네이트, 2,5-비스(이소사이노토메틸)-비시클로[2,2,1]헵탄, 2,6-비스(이소사이노토메틸)-비시클로[2,2,1]헵탄, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 1,4-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 톨릴렌디이소시아네이트, 페닐렌디이소시아네이트, 1,3,5-트리스(6-이소시아나토-헥실)-[1,3,5]-트리지아난-2,4,6-트리온(HDI 트라이머), o,m,p-크실리렌디이소시아네이트(o,m,p-자일릴렌디이소시아네이트) 및 테트라메틸자일릴렌디이소시아네이트(TMXDI)로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물인 것을 특징으로 하는, 티오우레탄계 광학재료용 수지 조성물.
  6. 3개 이상의 메르캅토기를 가지는 폴리티올 화합물, 폴리이소시아네이트 화합물 및 아래 화학식 1로 표시되는 카테콜 화합물을 포함하는 광학재료용 수지 조성물을 주형에서 중합시키는 단계를 포함하며,
    상기 카테콜 화합물은 상기 광학재료용 수지 조성물 100중량% 중에 0.05~5중량%로 포함되는 것을 특징으로 하는, 티오우레탄계 광학재료용 수지의 제조방법.
    [화학식 1]
    Figure pat00018

    (R1, R2, R3, R4는 서로 독립적으로 H 또는 C1~12의 탄소원자를 가지는 알킬, 아릴, 알킬아릴, 아릴알킬, 지환족 중 어느 하나이다)
  7. 제6항에 있어서,
    상기 3개 이상의 메르캅토기를 가지는 폴리티올 화합물로, 상기 메르캅토기 중 적어도 하나가 메르캅토기로 변환되지 않은 화합물(B)이 1.5중량% 이상으로 포함되어 있는 폴리티올 화합물을 준비하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 티오우레탄계 광학재료용 수지의 제조방법.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 화합물(B)은, 상기 메르캅토기 중 적어도 하나에 하이드록시기 또는 하이드록시기를 포함하는 화합물이 치환되어 있는 알코올 화합물; 아민기 또는 아민기를 포함하는 화합물이 치환되어 있는 아민 화합물; 폴리티올 올리고머 중 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는, 티오우레탄계 광학재료용 수지의 제조방법.
  9. 제6항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 3개 이상의 메르캅토기를 가지는 폴리티올 화합물은 아래 화학식 2 내지 6으로 표시되는 화합물 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는, 티오우레탄계 광학재료용 수지의 제조방법.
    [화학식 2]
    Figure pat00019

    [화학식 3]
    Figure pat00020

    [화학식 4]
    Figure pat00021

    [화학식 5]
    Figure pat00022
  10. 제6항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 폴리이소시아네이트 화합물은 이소포론디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄-4,4-디이소시아네이트(H12MDI), 헥사메틸렌디이소시아네이트, 메틸시클로헥산디이소시아네이트, 2,5-비스(이소사이노토메틸)-비시클로[2,2,1]헵탄, 2,6-비스(이소사이노토메틸)-비시클로[2,2,1]헵탄, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 1,4-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 톨릴렌디이소시아네이트, 페닐렌디이소시아네이트, 1,3,5-트리스(6-이소시아나토-헥실)-[1,3,5]-트리지아난-2,4,6-트리온(HDI 트라이머), o,m,p-크실리렌디이소시아네이트(o,m,p-자일릴렌디이소시아네이트) 및 테트라메틸자일릴렌디이소시아네이트(TMXDI)로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물인 것을 특징으로 하는, 티오우레탄계 광학재료용 수지의 제조방법.
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