KR20200098497A - 액정 조성물 및 액정 표시 소자 - Google Patents

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유이치 이노우에
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Abstract

본 발명이 해결하려고 하는 과제는, 고속 응답성, 높은 콘트라스트, 저소비 전력 등의 액정 표시 소자에 요구되는 제반 특성을 만족하면서, 자외선 조사 공정 시간을 단축할 수 있고, 신뢰성이 우수한 PSA형 또는 PSVA형 액정 표시 소자를 제조하기 위해 유용한 중합성 액정 조성물을 제공하는 것, 및, 이것을 이용한 액정 표시 소자를 제공하는 것에 있다. 액정 화합물을 1종 또는 2종 이상과 일반식 (i)로 표시되는 중합성 화합물을 1종 또는 2종 이상을 함유하고, 액정 화합물과 중합성 화합물을 포함하는 중합성 액정 조성물에 있어서의 중합성 화합물의 합계 함유량이 0.4질량% 이상 10.0질량% 이하인 중합성 액정 조성물을 제공하고, 또, 이것을 이용한 액정 표시 소자를 제공한다.

Description

액정 조성물 및 액정 표시 소자
본 발명은 중합성 화합물을 함유하는 액정 조성물(중합성 액정 조성물) 및 이것을 사용한 액정 표시 소자에 관한 것이다.
PSA(Polymer Sustained Alignment)형 액정 표시 장치는, 액정 분자의 프리틸트각을 제어하기 위해 셀 내에 폴리머 구조물을 형성한 구조를 갖는 것이고, 고속 응답성이나 높은 콘트라스트로부터 액정 표시 소자로서 개발이 진행되고 있다.
PSA형 액정 표시 소자의 제조는, 중합성 화합물을 함유하는 액정 조성물(중합성 액정 조성물)을 기판 사이에 주입하고, 전압을 인가하여 액정 분자를 배향시킨 상태에서 자외선을 조사하고, 중합성 화합물을 중합시켜 액정 분자의 배향을 고정함으로써 행해진다. 이 때에, 미반응 중합성 화합물이 소자 내에 잔존하면, 여러 가지 문제가 발생하기 때문에, 종종 중합성 화합물을 소비하기 위해 장시간의 자외선 조사나 상이한 파장의 자외선을 복수회 조사하는 등을 행하는 경우가 있다.
PSA형 액정 표시 소자에 있어서 프리틸트각은, 액정 분자의 배향 방향을 제어하고, 액정 표시 소자의 응답 시간의 개선에 관계되는 중요한 요소이기 때문에, 중합성 화합물을 중합시키고, 프리틸트각을 형성하는 공정은 매우 중요하다. 이 프리틸트각을 형성할 때까지의 시간이 짧으면, 또, 미반응 중합성 화합물을 소비하기 위한 복수회의 자외선 조사 시간이 짧거나 불필요하면, 제조 공정 시간의 단축이 가능해진다.
또한, 큰 적산 조사 에너지가 필요하게 되면, 제조 장치의 대형화, 제조 효율의 저하를 초래하게 됨과 더불어, 자외선에 의한 액정 조성물의 열화 등이 발생해 버린다.
PSA형 액정 표시 소자에 있어서, 자외선 조사에 의해 신뢰성이 저하해 버리거나, 경시적으로 프리틸트각이 변화해 버리면, 표시 특성을 저하시켜 버린다. 이 때문에, 이들이 일어나지 않는 액정 조성물의 개발이 요망되고 있다.
예를 들어 지금까지, 중합 속도를 빠르게 함으로써, 액정 재료의 열화를 저감시키는 것을 목적으로 하여, 액정 조성물에 첨가하는 중합성 화합물을 특정 구조로 하는 방법이 검토되어 왔다. 예를 들어, 특허문헌 1에서는, 환 구조로서 터페닐 구조를 갖는 중합성 화합물을 이용하여 표시 소자를 구성하는 것, 특허문헌 2에서는, 아세틸렌 구조를 갖는 중합성 화합물을 이용하여 표시 소자를 구성하는 것이 개시되어 있다. 그러나, 이들 화합물을 이용해도, 그 개선 효과는 충분하지 않았다.
상기 특허문헌 1이나 상기 특허문헌 2의 실시예에서도 나타나 있듯이, 이하와 같은 터페닐 골격을 구비한 화합물(A)나 아세틸렌 구조를 갖는 화합물(B)를 사용함으로써, 자외선 조사 시의 중합성 화합물의 중합 속도를 향상시키는 시도가 이루어져왔다.
그러나, 화합물(A)나 화합물(B)를 중합성 화합물로서 이용한 표시 소자는, 중합성 화합물의 잔류량은 충분히 적고, 중합 속도는 비교적 빠르지만, 자외선 조사 후에 있어서의 액정 표시 소자의 신뢰성이 충분하지 않은 등 개선 과제가 있었다.
Figure pct00001
일본국 특허공표 2013-509457호 공보 일본국 특허출원 2012-530144호 공보
본 발명이 해결하려고 하는 과제는, 고속 응답성, 높은 콘트라스트, 저소비 전력 등의 액정 표시 소자에 요구되는 제반 특성을 만족하면서, 자외선 조사 공정 후의 신뢰성이 우수한 PSA형 또는 PSVA형 액정 표시 소자를 제조하기 위해 유용한 중합성 액정 조성물을 제공하는 것, 및, 이것을 이용한 액정 표시 소자를 제공하는 것에 있다.
본 발명자들이 예의 검토한 결과, 액정 화합물과, 특정의 화학 구조를 갖는 중합성 화합물을 특정의 함유량으로 함유하는 중합성 액정 조성물에 의해, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉 본 발명은, 액정 화합물을 1종 또는 2종 이상과 일반식 (i)로 표시되는 중합성 화합물을 1종 또는 2종 이상을 함유하고, 액정 화합물과 중합성 화합물을 포함하는 중합성 액정 조성물에 있어서의 중합성 화합물의 합계 함유량이 0.4질량% 이상 10.0질량% 이하인 중합성 액정 조성물을 제공하고, 또, 이것을 이용한 액정 표시 소자를 제공한다.
Figure pct00002
(식 중,
Pi1 및 Pi2는 각각 독립적으로, 메타크릴레이트기 또는 아크릴레이트기를 나타내고,
Spi1 및 Spi2는 각각 독립적으로, 스페이서기 또는 단결합을 나타내고,
Msi1은 그 구조 내에 포함되는 π 전자의 수와 그 구조 내에 포함되는 산소 원자의 비공유 전자쌍을 형성하는 전자의 수의 합계가 14 이상이며, 일반식 (Ms-1)
Figure pct00003
(식 중, Ai1은, 식 (Bi1)~(Bi4)
Figure pct00004
(구조 내의 1 또는 2 이상의 수소 원자가 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~8의 알콕시기 및/또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기로 치환되어도 된다.)
로 표시되는 구조를 나타내고,
ni1은 1, 2, 3 또는 4를 나타내고, Ai1이 복수 존재하는 경우에는 그들은 동일해도 되고 상이해도 된다.)
로 표시되는 구조이다.)
본 발명의 액정 조성물은, 굴절률 이방성(Δ) 및 네마틱상-등방성 액체상 전이 온도(Tni)를 저하시키는 일 없이, 작은 회전 점성(γ1)을 나타내고, 자외선 조사 후의 신뢰성이 저하되지 않으며, 또한 중합성 화합물의 석출이 없다.
본 발명의 액정 조성물을 이용한 액정 표시 소자는 프리틸트각 변화량이 크고, 단시간의 자외선 조사로 충분한 프리틸트각을 형성 가능하기 때문에, 배향 불량이나 소부(燒付)라고 하는 표시 불량이 없거나 또는 억제된, 우수한 표시 품위를 나타냄과 더불어 제조 공정에 있어서의 자외선 조사 시간을 단축 가능해진다.
본 발명의 액정 조성물은 짧은 시간에 프리틸트각을 형성할 수 있으므로, 액정 조성물이 자외선에 의한 열화를 억제할 수 있다.
또, 일반식 (i)로 표시되는 중합성 화합물의 함유량을 조정함으로써, 일반식 (i)로 표시되는 중합성 화합물을 자외선 조사에 의해 경화한 후의 액정 표시 소자의 UV 조사 후의 전압 유지율(VHR)의 저하가 억제되고, 또 중합성 화합물의 잔존량을 억제할 수 있다.
본 발명의 중합성 액정 조성물은, 상기와 같은 특성을 갖고 있으며, 본 발명의 중합성 액정 조성물을 사용한 액정 표시 소자는 응답 속도가 빠르고, 높은 VHR을 갖고, 표시 불량이 없거나 극히 적기 때문에 매우 유용하다.
이하, %는 특별한 기재가 있는 경우를 제외하고 질량%를 의미한다.
본원의 중합성 액정 조성물은 1종 또는 2종 이상의 액정 화합물과 1종 또는 2종 이상의 중합성 화합물을 함유하고, 중합성 액정 조성물에 있어서의 중합성 화합물의 합계 함유량이 0.4% 이상 10.0% 이하인데, 0.45% 이상 10.0% 이하가 바람직하고, 0.48% 이상 10.0% 이하가 바람직하며, 0.5% 이상 8.5% 이하가 바람직하고, 0.52% 이상 8.3% 이하가 바람직하며, 0.54% 이상 8.0% 이하가 바람직하고, 0.54% 이상 6.0% 이하가 바람직하며, 0.54% 이상 4.0% 이하가 바람직하고, 0.54% 이상 3.0% 이하가 바람직하며, 0.54% 이상 2.0% 이하가 바람직하고, 0.54% 이상 1.0% 이하가 바람직하며, 0.54% 이상 0.8% 이하가 바람직하고, 0.56% 이상 0.8% 이하가 바람직하며, 함유량의 바람직한 상한값은, 10.0%이고, 9.0%이며, 9.5%이고, 8.0%이며, 7.0%이고, 5.0%이며, 3.0%이고, 2.0%이며, 1.5%이고, 1.2%이며, 1.0%이고, 0.8%이며, 0.7%이고, 0.6%이며, 함유량의 바람직한 하한값은, 0.4%이고, 0.45%이며, 0.48%이고, 0.5%이며, 0.52%이고, 0.55%이며, 0.56%이고, 0.57%이며, 0.58%이고, 0.6%이다.
중합성 화합물로서, 일반식 (i)로 표시되는 중합성 화합물을 1종 또는 2종 이상 함유하는데, 중합성 화합물의 합계 함유량에 있어서의 일반식 (i)로 표시되는 중합성 화합물의 합계 함유량은, 30% 이상 100% 이하가 바람직하고, 35% 이상 100% 이하가 바람직하며, 40% 이상 100% 이하가 바람직하고, 42% 이상 100% 이하가 바람직하며, 44% 이상 100% 이하가 바람직하고, 46% 이상 100% 이하가 바람직하며, 48% 이상 100% 이하가 바람직하고, 50% 이상 100% 이하가 바람직하며, 55% 이상 100% 이하가 바람직하고, 60% 이상 100% 이하가 바람직하며, 65% 이상 100% 이하가 바람직하고, 70% 이상 100% 이하가 바람직하며, 75% 이상 100% 이하가 바람직하고, 80% 이상 100% 이하가 바람직하며, 함유량의 바람직한 하한값은, 30%이고, 35%이며, 40%이고, 45%이며, 50%이고, 55%이며, 60%이고, 65%이며, 70%이고, 75%이며, 80%이고, 85%이며, 90%이고, 95%이며, 실질적으로 100%이다.
당해 액정 표시 소자는 신뢰성이 중요한데, 신뢰성은 제조 직후의 액정 표시 소자의 전압 유지율(VHR), 제조 직후의 액정 표시 소자에 열이력을 가한 후의 VHR, 제조 직후의 액정 표시 소자에 UV 조사를 행한 후의 VHR을 측정함으로써 평가할 수 있다. 신뢰성이 우수한 액정 표시 소자는, 소부 등의 표시 불량이 적거나, 발생하지 않는다.
통상, PSA형 또는 PSVA형 액정 표시 소자에 이용하는 중합성 액정 조성물은, 중합성 화합물을 0.3% 정도 함유하는 것이다. 그러나, 본원의 일반식 (i)로 표시되는 화합물을 이용하면, 그 함유량을 0.3%에서부터 증가시켜도, 중합성 액정 조성물로부터의 중합성 화합물의 석출이 일어나지 않는다. 또, 중합성 화합물의 함유량을 증가시키면, 자외선 조사에 의한 경화 시에, 미반응 중합성 화합물이 잔존해 버리고, 잔존한 중합성 화합물을 모두 소비하기 위해, 자외선의 조사 시간을 길게 하거나, 파장이 상이한 자외선을 재차 조사하는 등의 공정이 필요해지는데, 일반식 (i)로 표시되는 화합물을 이용함으로써, 그 필요가 불필요해지거나, 저감된다. 또, 일반식 (i)로 표시되는 화합물의 함유량을 증가시키면, 액정 조성물 중의 불순물을 그 경화물 중에 끌어들이는 효과가 기대되고, 자외선 조사 후의 신뢰성이 향상된다. 또, 함유량의 증가에 의해, 경시적인 프리틸트각의 변화도 억제할 수 있다.
액정 표시 소자는 액정 조성물 중의 불순물(액정 화합물의 제조 중에 발생하는 화합물, 자외선 조사에 의한 액정 화합물의 열화 등의 액정 표시 소자 제조 중에 발생하는 화합물, 미반응 중합성 화합물, 배향막 등으로부터 용출하는 불순물 등)에 의해 그 신뢰성이 저하된다. 본 발명에 있어서는, 상술한 각 함유량을 최적화함으로써 액정 표시 소자로 했을 때에 우수한 신뢰성을 발휘한다.
일반식 (i)에 있어서, Pi1 및 Pi2는 모두 메타크릴레이트기여도 되고, 모두 아크릴레이트기여도 되고, 한쪽이 메타크릴레이트기이고, 다른쪽이 아크릴레이트기여도 된다.
Spi1 및 Spi2는 각각 독립적으로, 단결합 또는 탄소 원자수 1~30의 알킬렌기를 나타내고, 당해 알킬렌기 중의 -CH2-는 산소 원자끼리가 직접 연결되지 않는 한에 있어서 -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CH=CH- 또는 -C≡C-로 치환되어 있어도 되고, 당해 알킬렌기 중의 수소 원자는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는데, 직쇄의 탄소 원자수 1~10의 알킬렌기 또는 단결합이 바람직하다.
Msi1은 그 구조 내에 포함되는 π 전자의 수와 그 구조 내에 포함되는 산소 원자의 비공유 전자쌍의 수의 합계가 14 이상이 바람직하고, 16 이상이 바람직하다. 또한, Pi1, Pi2, Spi1 및 Spi2 중의 π 전자 및 산소 원자의 비공유 전자쌍은 합계에 포함되지 않는다.
Msi1은, 식 (Bi11), 식 (Bi12) 또는 식 (Bi41)
Figure pct00005
(구조 내의 1 또는 2 이상의 수소 원자가 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~8의 알콕시기 및/또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기로 치환되어도 된다.)
로 표시되는 구조가 바람직하고, 식 (Bi11), 식 (Bi12) 또는 식 (Bi41) 상의 치환기로서는, 갖고있지 않거나, 1개 또는 2개가 바람직하고, 불소 원자, 메틸기, 에틸기, 메톡시기 또는 에톡시기가 바람직하다.
일반식 (i)로 표시되는 화합물로서는, 하기의 일반식 (i-1-1)~(i-4-14)가 바람직하다.
Figure pct00006
Figure pct00007
Figure pct00008
Figure pct00009
Figure pct00010
Figure pct00011
(식 중, Pi11, Pi12, Pi21, Pi22, Pi41, Pi42, Spi11, Spi12, Spi21, Spi22, Spi41 및 Spi42는, 일반식 (i)에 있어서의 Pi1, Pi2, Spi1 및 Spi2와 같은 의미를 나타낸다.)
본 발명의 중합성 액정 조성물은, 일반식 (N-1), (N-2) 및 (N-3)으로 표시되는 화합물로부터 선택되는 화합물을 1종류 또는 2종류 이상 함유하는 것이 바람직하다. 이들 화합물은 유전적으로 음의 화합물(Δε의 부호가 음이고, 그 절대값이 2보다 크다.)에 해당한다.
Figure pct00012
(식 중, RN11, RN12, RN21, RN22, RN31 및 RN32는 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타내고, 당해 알킬기 중의 1개 또는 비인접한 2개 이상의 -CH2-는 각각 독립적으로 -CH=CH-, -C≡C-, -O-, -CO-, -COO- 또는 -OCO-에 의해 치환되어 있어도 되고,
AN11, AN12, AN21, AN22, AN31 및 AN32는 각각 독립적으로
(a) 1,4-시클로헥실렌기(이 기 중에 존재하는 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 -O-로 치환되어도 된다.),
(b) 1,4-페닐렌기(이 기 중에 존재하는 1개의 -CH= 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH=는 -N=으로 치환되어도 된다.),
(c) 나프탈렌-2,6-디일기, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기 또는 데카히드로나프탈렌-2,6-디일기(나프탈렌-2,6-디일기 또는 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기 중에 존재하는 1개의 -CH= 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH=는 -N=으로 치환되어도 된다.) 및
(d) 1,4-시클로헥세닐렌기
로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기를 나타내고, 상기의 기 (a), 기 (b), 기 (c) 및 기 (d)는 각각 독립적으로 시아노기, 불소 원자 또는 염소 원자로 치환되어 있어도 되고,
ZN11, ZN12, ZN21, ZN22, ZN31 및 ZN32는 각각 독립적으로 단결합, -CH2CH2-, -(CH2)4-, -OCH2-, -CH2O-, -COO-, -OCO-, -OCF2-, -CF2O-, -CH=N-N=CH-, -CH=CH-, -CF=CF- 또는 -C≡C-를 나타내고,
XN21은 수소 원자 또는 불소 원자를 나타내고,
TN31은 -CH2- 또는 산소 원자를 나타내고,
nN11, nN12, nN21, nN22, nN31 및 nN32는 각각 독립적으로 0~3의 정수를 나타내는데, nN11+nN12, nN21+nN22 및 nN31+nN32는 각각 독립적으로 1, 2 또는 3이고, AN11~AN32, ZN11~ZN32가 복수 존재하는 경우는, 그들은 동일해도 되고 상이해도 된다.)
일반식 (N-1), (N-2) 및 (N-3)으로 표시되는 화합물은, Δε이 음이고 그 절대값이 3보다 큰 화합물인 것이 바람직하다.
일반식 (N-1), (N-2) 및 (N-3) 중, RN11, RN12, RN21, RN22, RN31 및 RN32는 각각 독립적으로, 탄소 원자수 1~8의 알킬기, 탄소 원자수 1~8의 알콕시기, 탄소 원자수 2~8의 알케닐기 또는 탄소 원자수 2~8의 알케닐옥시기가 바람직하고, 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 1~5의 알콕시기, 탄소 원자수 2~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 2~5의 알케닐옥시기가 바람직하며, 탄소 원자수 1~5의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 더 바람직하고, 탄소 원자수 2~5의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~3의 알케닐기가 더 바람직하며, 탄소 원자수 3의 알케닐기(프로페닐기)가 특히 바람직하다.
또, 그것이 결합하는 환 구조가 페닐기(방향족)인 경우에는, 직쇄상의 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 직쇄상의 탄소 원자수 1~4의 알콕시기 및 탄소 원자수 4~5의 알케닐기가 바람직하고, 그것이 결합하는 환 구조가 시클로헥산, 피란 및 디옥산 등의 포화한 환 구조인 경우에는, 직쇄상의 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 직쇄상의 탄소 원자수 1~4의 알콕시기 및 직쇄상의 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 바람직하다. 네마틱상을 안정화시키기 위해서는 탄소 원자 및 존재하는 경우 산소 원자의 합계가 5 이하인 것이 바람직하고, 직쇄상인 것이 바람직하다.
알케닐기로서는, 식 (R1)~식 (R5) 중 어느 하나로 표시되는 기로부터 선택되는 것이 바람직하다. (각 식 중의 검은 점은 환 구조 중의 탄소 원자를 나타낸다.)
Figure pct00013
AN11, AN12, AN21, AN22, AN31 및 AN32는 각각 독립적으로 Δn을 크게 하는 것이 요구되는 경우에는 방향족인 것이 바람직하고, 응답 속도를 개선하기 위해서는 지방족인 것이 바람직하며, 트랜스-1,4-시클로헥실렌기, 1,4-페닐렌기, 2-플루오로-1,4-페닐렌기, 3-플루오로-1,4-페닐렌기, 3,5-디플루오로-1,4-페닐렌기, 2,3-디플루오로-1,4-페닐렌기, 1,4-시클로헥세닐렌기, 1,4-비시클로[2.2.2]옥틸렌기, 피페리딘-1,4-디일기, 나프탈렌-2,6-디일기, 데카히드로나프탈렌-2,6-디일기 또는 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기를 나타내는 것이 바람직하고, 하기의 구조를 나타내는 것이 보다 바람직하며,
Figure pct00014
트랜스-1,4-시클로헥실렌기, 1,4-시클로헥세닐렌기 또는 1,4-페닐렌기를 나타내는 것이 보다 바람직하다.
ZN11, ZN12, ZN21, ZN22, ZN31 및 ZN32는 각각 독립적으로 -CH2O-, -CF2O-, -CH2CH2-, -CF2CF2- 또는 단결합을 나타내는 것이 바람직하고, -CH2O-, -CH2CH2- 또는 단결합이 더 바람직하며, -CH2O- 또는 단결합이 특히 바람직하다.
XN21은 불소 원자가 바람직하다.
TN31은 산소 원자가 바람직하다.
nN11+nN12, nN21+nN22 및 nN31+nN32는 1 또는 2가 바람직하고, nN11이 1이고 nN12가 0인 조합, nN11이 2이고 nN12가 0인 조합, nN11이 1이고 nN12가 1인 조합, nN11이 2이고 nN12가 1인 조합, nN21이 1이고 nN22가 0인 조합, nN21이 2이고 nN22가 0인 조합, nN31이 1이고 nN32가 0인 조합, nN31이 2이고 nN32가 0인 조합이 바람직하다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (N-1)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 10%이며, 20%이고, 30%이며, 40%이고, 50%이며, 55%이고, 60%이며, 65%이고, 70%이며, 75%이고, 80%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 95%이고, 85%이며, 75%이고, 65%이며, 55%이고, 45%이며, 35%이고, 25%이며, 20%이다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (N-2)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 10%이며, 20%이고, 30%이며, 40%이고, 50%이며, 55%이고, 60%이며, 65%이고, 70%이며, 75%이고, 80%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 95%이고, 85%이며, 75%이고, 65%이며, 55%이고, 45%이며, 35%이고, 25%이며, 20%이다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (N-3)으로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 10%이며, 20%이고, 30%이며, 40%이고, 50%이며, 55%이고, 60%이며, 65%이고, 70%이며, 75%이고, 80%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 95%이고, 85%이며, 75%이고, 65%이며, 55%이고, 45%이며, 35%이고, 25%이며, 20%이다.
본 발명의 조성물의 점도를 낮게 유지하고, 응답 속도가 빠른 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값이 낮고 상한값이 낮은 것이 바람직하다. 또한, 본 발명의 조성물의 Tni를 높게 유지하고, 온도 안정성이 양호한 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값이 낮고 상한값이 낮은 것이 바람직하다. 또, 구동 전압을 낮게 유지하기 위해 유전율 이방성을 크게 하고 싶을 때는, 상기의 하한값이 높고 상한값이 높은 것이 바람직하다.
일반식 (N-1)로 표시되는 화합물로서, 하기의 일반식 (N-1a)~(N-1g)로 표시되는 화합물군을 들 수 있다.
Figure pct00015
(식 중, RN11 및 RN12는 일반식 (N-1)에 있어서의 RN11 및 RN12와 같은 의미를 나타내고, nNa11은 0 또는 1을 나타내고, nNb11은 1 또는 2를 나타내고, nNc11은 0 또는 1을 나타내고, nNd11은 1 또는 2를 나타내고, nNe11은 1 또는 2를 나타내고, nNf12는 1 또는 2를 나타내고, nNg11은 1 또는 2를 나타내고, ANe11은 트랜스-1,4-시클로헥실렌기 또는 1,4-페닐렌기를 나타내고, ANg11은 트랜스-1,4-시클로헥실렌기, 1,4-시클로헥세닐렌기 또는 1,4-페닐렌기를 나타내는데 적어도 1개는 1,4-시클로헥세닐렌기를 나타내고, ZNe11은 단결합 또는 에틸렌을 나타내는데 분자 내에 존재하는 적어도 1개는 에틸렌을 나타내고, 분자 내에 복수 존재하는 ANe11, ZNe11, 및/또는 ANg11은 동일해도 되고 상이해도 된다.)
보다 구체적으로는, 일반식 (N-1)로 표시되는 화합물은 일반식 (N-1-1)~(N-1-21)로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하다.
일반식 (N-1-1)로 표시되는 화합물은 하기의 화합물이다.
Figure pct00016
(식 중, RN111 및 RN112는 각각 독립적으로, 일반식 (N-1)에 있어서의 RN11 및 RN12와 같은 의미를 나타낸다.)
RN111은 탄소 원자수 1~5의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 바람직하고, 프로필기, 펜틸기 또는 비닐기가 바람직하다. RN112는 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 4~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기가 바람직하고, 에톡시기 또는 부톡시기가 바람직하다.
일반식 (N-1-1)로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있지만, 2 이상의 화합물을 조합하여 사용할 수도 있다. 조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조합하여 사용한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이고, 2종류이며, 3종류이고, 4종류이며, 5종류 이상이다.
Δε의 개선을 중시하는 경우에는 함유량을 높은 편으로 설정하는 것이 바람직하고, 저온에서의 용해성을 중시하는 경우는 함유량을 높은 편으로 설정하면 효과가 높고, TNI를 중시하는 경우는 함유량을 낮은 편으로 설정하면 효과가 높다. 또한, 적하흔이나 소부 특성을 개량하는 경우는, 함유량의 범위를 중간으로 설정하는 것이 바람직하다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (N-1-1)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 5%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 17%이고, 20%이며, 23%이고, 25%이며, 27%이고, 30%이며, 33%이고, 35%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 50%이고, 40%이며, 38%이고, 35%이며, 33%이고, 30%이며, 28%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 13%이고, 10%이며, 8%이고, 7%이며, 6%이고, 5%이며, 3%이다.
또한, 일반식 (N-1-1)로 표시되는 화합물은, 식 (N-1-1.1)~식 (N-1-1.23)으로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (N-1-1.1)~(N-1-1.4)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하며, 식 (N-1-1.1) 및 식 (N-1-1.3)으로 표시되는 화합물이 바람직하다.
Figure pct00017
식 (N-1-1.1)~(N-1-1.22)로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있고, 조합하여 사용할 수도 있는데, 본 발명의 조성물의 총량에 대한 단독 또는 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 5%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 17%이고, 20%이며, 23%이고, 25%이며, 27%이고, 30%이며, 33%이고, 35%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 50%이고, 40%이며, 38%이고, 35%이며, 33%이고, 30%이며, 28%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 13%이고, 10%이며, 8%이고, 7%이며, 6%이고, 5%이며, 3%이다.
일반식 (N-1-2)로 표시되는 화합물은 하기의 화합물이다.
Figure pct00018
(식 중, RN121 및 RN122는 각각 독립적으로, 일반식 (N-1)에 있어서의 RN11 및 RN12와 같은 의미를 나타낸다.)
RN121은 탄소 원자수 1~5의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 바람직하고, 에틸기, 프로필기, 부틸기 또는 펜틸기가 바람직하다. RN122는 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 4~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기가 바람직하고, 메틸기, 프로필기,메톡시기, 에톡시기 또는 프로폭시기가 바람직하다.
일반식 (N-1-2)로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있지만, 2 이상의 화합물을 조합하여 사용할 수도 있다. 조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조합하여 사용한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이고, 2종류이며, 3종류이고, 4종류이며, 5종류 이상이다.
Δε의 개선을 중시하는 경우에는 함유량을 높은 편으로 설정하는 것이 바람직하고, 저온에서의 용해성을 중시하는 경우는 함유량을 낮은 편으로 설정하면 효과가 높고, TNI를 중시하는 경우는 함유량을 높은 편으로 설정하면 효과가 높다. 또한, 적하흔이나 소부 특성을 개량하는 경우는, 함유량의 범위를 중간으로 설정하는 것이 바람직하다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (N-1-2)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 5%이고, 7%이며, 10%이고, 13%이며, 15%이고, 17%이며, 20%이고, 23%이며, 25%이고, 27%이며, 30%이고, 33%이며, 35%이고, 37%이며, 40%이고, 42%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 50%이고, 48%이며, 45%이고, 43%이며, 40%이고, 38%이며, 35%이고, 33%이며, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 7%이고, 6%이며, 5%이다.
또한, 일반식 (N-1-2)로 표시되는 화합물은, 식 (N-1-2.1)~식 (N-1-2.22)로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (N-1-2.3)~식 (N-1-2.7), 식 (N-1-2.10), 식 (N-1-2.11), 식 (N-1-2.13) 및 식 (N-1-2.20)으로 표시되는 화합물인 것이 바람직하며, Δε의 개량을 중시하는 경우에는 식 (N-1-2.3)~식 (N-1-2.7)로 표시되는 화합물이 바람직하고, TNI의 개량을 중시하는 경우에는 식 (N-1-2.10), 식 (N-1-2.11) 및 식 (N-1-2.13)으로 표시되는 화합물인 것이 바람직하며, 응답 속도의 개량을 중시하는 경우에는 식 (N-1-2.20)으로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00019
식 (N-1-2.1)~식 (N-1-2.22)로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있고, 조합하여 사용할 수도 있는데, 본 발명의 조성물의 총량에 대한 단독 또는 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 5%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 17%이고, 20%이며, 23%이고, 25%이며, 27%이고, 30%이며, 33%이고, 35%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 50%이고, 40%이며, 38%이고, 35%이며, 33%이고, 30%이며, 28%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 13%이고, 10%이며, 8%이고, 7%이며, 6%이고, 5%이며, 3%이다.
일반식 (N-1-3)으로 표시되는 화합물은 하기의 화합물이다.
Figure pct00020
(식 중, RN131 및 RN132는 각각 독립적으로, 일반식 (N-1)에 있어서의 RN11 및 RN12와 같은 의미를 나타낸다.)
RN131은 탄소 원자수 1~5의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 바람직하고, 에틸기, 프로필기 또는 부틸기가 바람직하다. RN132는 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 3~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기가 바람직하고, 1-프로페닐기, 에톡시기, 프로폭시기 또는 부톡시기가 바람직하다.
일반식 (N-1-3)으로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있지만, 2 이상의 화합물을 조합하여 사용할 수도 있다. 조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조합하여 사용한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이고, 2종류이며, 3종류이고, 4종류이며, 5종류 이상이다.
Δε의 개선을 중시하는 경우에는 함유량을 높은 편으로 설정하는 것이 바람직하고, 저온에서의 용해성을 중시하는 경우는 함유량을 높은 편으로 설정하면 효과가 높고, TNI를 중시하는 경우는 함유량을 많은 편으로 설정하면 효과가 높다. 또한, 적하흔이나 소부 특성을 개량하는 경우는, 함유량의 범위를 중간으로 설정하는 것이 바람직하다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (N-1-3)으로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 5%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 17%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 35%이고, 30%이며, 28%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 13%이다.
또한, 일반식 (N-1-3)으로 표시되는 화합물은, 식 (N-1-3.1)~식 (N-1-3.21)로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (N-1-3.1)~(N-1-3.7) 및 식 (N-1-3.21)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하며, 식 (N-1-3.1), 식 (N-1-3.2), 식 (N-1-3.3), 식 (N-1-3.4) 및 식 (N-1-3.6)으로 표시되는 화합물이 바람직하다.
Figure pct00021
식 (N-1-3.1)~식 (N-1-3.4), 식 (N-1-3.6) 및 식 (N-1-3.21)로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있고, 조합하여 사용할 수도 있는데, 식 (N-1-3.1) 및 식 (N-1-3.2)의 조합, 식 (N-1-3.3), 식 (N-1-3.4) 및 식 (N-1-3.6)으로부터 선택되는 2종 또는 3종의 조합이 바람직하다. 본 발명의 조성물의 총량에 대한 단독 또는 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 5%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 17%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 35%이고, 30%이며, 28%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 13%이다.
일반식 (N-1-4)로 표시되는 화합물은 하기의 화합물이다.
Figure pct00022
(식 중, RN141 및 RN142는 각각 독립적으로, 일반식 (N-1)에 있어서의 RN11 및 RN12와 같은 의미를 나타낸다.)
RN141 및 RN142는 각각 독립적으로, 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 4~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기가 바람직하고, 메틸기, 프로필기, 에톡시기 또는 부톡시기가 바람직하다.
일반식 (N-1-4)로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있지만, 2 이상의 화합물을 조합하여 사용할 수도 있다. 조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조합하여 사용한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이고, 2종류이며, 3종류이고, 4종류이며, 5종류 이상이다.
Δε의 개선을 중시하는 경우에는 함유량을 높은 편으로 설정하는 것이 바람직하고, 저온에서의 용해성을 중시하는 경우는 함유량을 높은 편으로 설정하면 효과가 높고, TNI를 중시하는 경우는 함유량을 낮은 편으로 설정하면 효과가 높다. 또한, 적하흔이나 소부 특성을 개량하는 경우는, 함유량의 범위를 중간으로 설정하는 것이 바람직하다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (N-1-4)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 3%이고, 5%이며, 7%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 17%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 35%이고, 30%이며, 28%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 13%이고, 11%이며, 10%이고, 8%이다.
또한, 일반식 (N-1-4)로 표시되는 화합물은, 식 (N-1-4.1)~식 (N-1-4.14)로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (N-1-4.1)~(N-1-4.4)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하며, 식 (N-1-4.1), 식 (N-1-4.2) 및 식 (N-1-4.4)로 표시되는 화합물이 바람직하다
Figure pct00023
식 (N-1-4.1)~(N-1-4.14)로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있고, 조합하여 사용할 수도 있는데, 본 발명의 조성물의 총량에 대한 단독 또는 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 3%이고, 5%이며, 7%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 17%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 35%이고, 30%이며, 28%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 13%이고, 11%이며, 10%이고, 8%이다.
일반식 (N-1-5)로 표시되는 화합물은 하기의 화합물이다.
Figure pct00024
(식 중, RN151 및 RN152는 각각 독립적으로, 일반식 (N-1)에 있어서의 RN11 및 RN12와 같은 의미를 나타낸다.)
RN151 및 RN152는 각각 독립적으로, 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 4~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기가 바람직하고, 에틸기, 프로필기 또는 부틸기가 바람직하다.
일반식 (N-1-5)로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있지만, 2 이상의 화합물을 조합하여 사용할 수도 있다. 조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조합하여 사용한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이고, 2종류이며, 3종류이고, 4종류이며, 5종류 이상이다.
Δε의 개선을 중시하는 경우에는 함유량을 높은 편으로 설정하는 것이 바람직하고, 저온에서의 용해성을 중시하는 경우는 함유량을 낮은 편으로 설정하면 효과가 높고, TNI를 중시하는 경우는 함유량을 높은 편으로 설정하면 효과가 높다. 또한, 적하흔이나 소부 특성을 개량하는 경우는, 함유량의 범위를 중간으로 설정하는 것이 바람직하다.
자외선 조사 후의 중합성 화합물의 잔류량을 저감하기 위해서는 본 화합물의 함유량을 많게 하는 것이 바람직하다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (N-1-5)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 5%이고, 8%이며, 10%이고, 13%이며, 15%이고, 17%이며, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 35%이고, 33%이며, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이다.
또한, 일반식 (N-1-5)로 표시되는 화합물은, 식 (N-1-5.1)~식 (N-1-5.6)으로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (N-1-5.1), 식 (N-1-5.2) 및 식 (N-1-5.4)로 표시되는 화합물이 바람직하다.
Figure pct00025
식 (N-1-5.1), 식 (N-1-5.2) 및 식 (N-1-5.4)로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있고, 조합하여 사용할 수도 있는데, 본 발명의 조성물의 총량에 대한 단독 또는 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 5%이고, 8%이며, 10%이고, 13%이며, 15%이고, 17%이며, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 35%이고, 33%이며, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이다.
일반식 (N-1-10)으로 표시되는 화합물은 하기의 화합물이다.
Figure pct00026
(식 중, RN1101 및 RN1102는 각각 독립적으로, 일반식 (N-1)에 있어서의 RN11 및 RN12와 같은 의미를 나타낸다.)
RN1101은 탄소 원자수 1~5의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 바람직하고, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 비닐기 또는 1-프로페닐기가 바람직하다. RN1102는 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 4~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기가 바람직하고, 에톡시기, 프로폭시기 또는 부톡시기가 바람직하다.
일반식 (N-1-10)으로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있지만, 2 이상의 화합물을 조합하여 사용할 수도 있다. 조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조합하여 사용한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이고, 2종류이며, 3종류이고, 4종류이며, 5종류 이상이다.
Δε의 개선을 중시하는 경우에는 함유량을 높은 편으로 설정하는 것이 바람직하고, 저온에서의 용해성을 중시하는 경우는 함유량을 높은 편으로 설정하면 효과가 높고, TNI를 중시하는 경우는 함유량을 높은 편으로 설정하면 효과가 높다. 또한, 적하흔이나 소부 특성을 개량하는 경우는, 함유량의 범위를 중간으로 설정하는 것이 바람직하다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (N-1-10)으로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 5%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 17%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 35%이고, 30%이며, 28%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 13%이다.
또한, 일반식 (N-1-10)으로 표시되는 화합물은, 식 (N-1-10.1)~식 (N-1-10.14)로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (N-1-10.1)~(N-1-10.5)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하며, 식 (N-1-10.1) 및 식 (N-1-10.2)로 표시되는 화합물이 바람직하다.
Figure pct00027
식 (N-1-10.1) 및 식 (N-1-10.2)로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있고, 조합하여 사용할 수도 있는데, 본 발명의 조성물의 총량에 대한 단독 또는 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 5%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 17%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 35%이며, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이다.
일반식 (N-1-11)로 표시되는 화합물은 하기의 화합물이다.
Figure pct00028
(식 중, RN1111 및 RN1112는 각각 독립적으로, 일반식 (N-1)에 있어서의 RN11 및 RN12와 같은 의미를 나타낸다.)
RN1111은 탄소 원자수 1~5의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 바람직하고, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 비닐기 또는 1-프로페닐기가 바람직하다. RN1112는 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 4~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기가 바람직하고, 에톡시기, 프로폭시기 또는 부톡시기가 바람직하다.
일반식 (N-1-11)로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있지만, 2 이상의 화합물을 조합하여 사용할 수도 있다. 조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조합하여 사용한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이고, 2종류이며, 3종류이고, 4종류이며, 5종류 이상이다.
Δε의 개선을 중시하는 경우에는 함유량을 높은 편으로 설정하는 것이 바람직하고, 저온에서의 용해성을 중시하는 경우는 함유량을 낮은 편으로 설정하면 효과가 높고, TNI를 중시하는 경우는 함유량을 높은 편으로 설정하면 효과가 높다. 또한, 적하흔이나 소부 특성을 개량하는 경우는, 함유량의 범위를 중간으로 설정하는 것이 바람직하다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (N-1-11)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 5%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 17%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 35%이고, 30%이며, 28%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 13%이다.
또한, 일반식 (N-1-11)로 표시되는 화합물은, 식 (N-1-11.1)~식 (N-1-11.14)로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (N-1-11.1)~(N-1-11.14)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하며, 식 (N-1-11.2) 및 식 (N-1-11.4)로 표시되는 화합물이 바람직하다.
Figure pct00029
식 (N-1-11.2) 및 식 (N-1-11.4)로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있고, 조합하여 사용할 수도 있는데, 본 발명의 조성물의 총량에 대한 단독 또는 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 5%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 17%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 35%이고, 30%이며, 28%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 13%이다.
일반식 (N-1-12)로 표시되는 화합물은 하기의 화합물이다.
Figure pct00030
(식 중, RN1121 및 RN1122는 각각 독립적으로, 일반식 (N-1)에 있어서의 RN11 및 RN12와 같은 의미를 나타낸다.)
RN1121은 탄소 원자수 1~5의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 바람직하고, 에틸기, 프로필기 또는 부틸기가 바람직하다. RN1122는 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 4~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기가 바람직하고, 에톡시기, 프로폭시기 또는 부톡시기가 바람직하다.
일반식 (N-1-12)로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있지만, 2 이상의 화합물을 조합하여 사용할 수도 있다. 조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조합하여 사용한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이고, 2종류이며, 3종류이고, 4종류이며, 5종류 이상이다.
Δε의 개선을 중시하는 경우에는 함유량을 높은 편으로 설정하는 것이 바람직하고, 저온에서의 용해성을 중시하는 경우는 함유량을 높은 편으로 설정하면 효과가 높고, TNI를 중시하는 경우는 함유량을 많은 편으로 설정하면 효과가 높다. 또한, 적하흔이나 소부 특성을 개량하는 경우는, 함유량의 범위를 중간으로 설정하는 것이 바람직하다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (N-1-12)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 5%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 17%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 35%이고, 30%이며, 28%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 13%이다.
일반식 (N-1-13)으로 표시되는 화합물은 하기의 화합물이다.
Figure pct00031
(식 중, RN1131 및 RN1132는 각각 독립적으로, 일반식 (N-1)에 있어서의 RN11 및 RN12와 같은 의미를 나타낸다.)
RN1131은 탄소 원자수 1~5의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 바람직하고, 에틸기, 프로필기 또는 부틸기가 바람직하다. RN1132는 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 4~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기가 바람직하고, 에톡시기, 프로폭시기 또는 부톡시기가 바람직하다.
일반식 (N-1-13)으로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있지만, 2 이상의 화합물을 조합하여 사용할 수도 있다. 조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조합하여 사용한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이고, 2종류이며, 3종류이고, 4종류이며, 5종류 이상이다.
Δε의 개선을 중시하는 경우에는 함유량을 높은 편으로 설정하는 것이 바람직하고, 저온에서의 용해성을 중시하는 경우는 함유량을 높은 편으로 설정하면 효과가 높고, TNI를 중시하는 경우는 함유량을 많은 편으로 설정하면 효과가 높다. 또한, 적하흔이나 소부 특성을 개량하는 경우는, 함유량의 범위를 중간으로 설정하는 것이 바람직하다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (N-1-13)으로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 5%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 17%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 35%이고, 30%이며, 28%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 13%이다.
일반식 (N-1-14)로 표시되는 화합물은 하기의 화합물이다.
Figure pct00032
(식 중, RN1141 및 RN1142는 각각 독립적으로, 일반식 (N-1)에 있어서의 RN11 및 RN12와 같은 의미를 나타낸다.)
RN1141은 탄소 원자수 1~5의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 바람직하고, 에틸기, 프로필기 또는 부틸기가 바람직하다. RN1142는 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 4~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기가 바람직하고, 에톡시기, 프로폭시기 또는 부톡시기가 바람직하다.
일반식 (N-1-14)로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있지만, 2 이상의 화합물을 조합하여 사용할 수도 있다. 조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조합하여 사용한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이고, 2종류이며, 3종류이고, 4종류이며, 5종류 이상이다.
Δε의 개선을 중시하는 경우에는 함유량을 높은 편으로 설정하는 것이 바람직하고, 저온에서의 용해성을 중시하는 경우는 함유량을 높은 편으로 설정하면 효과가 높고, TNI를 중시하는 경우는 함유량을 많은 편으로 설정하면 효과가 높다. 또한, 적하흔이나 소부 특성을 개량하는 경우는, 함유량의 범위를 중간으로 설정하는 것이 바람직하다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (N-1-14)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 5%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 17%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 35%이고, 30%이며, 28%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 13%이다.
일반식 (N-1-15)로 표시되는 화합물은 하기의 화합물이다.
Figure pct00033
(식 중, RN1151 및 RN1152는 각각 독립적으로, 일반식 (N-1)에 있어서의 RN11 및 RN12와 같은 의미를 나타낸다.)
RN1151은 탄소 원자수 1~5의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 바람직하고, 에틸기, 프로필기 또는 부틸기가 바람직하다. RN1152는 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 4~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기가 바람직하고, 에톡시기, 프로폭시기 또는 부톡시기가 바람직하다.
일반식 (N-1-15)로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있지만, 2 이상의 화합물을 조합하여 사용할 수도 있다. 조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조합하여 사용한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이고, 2종류이며, 3종류이고, 4종류이며, 5종류 이상이다.
Δε의 개선을 중시하는 경우에는 함유량을 높은 편으로 설정하는 것이 바람직하고, 저온에서의 용해성을 중시하는 경우는 함유량을 높은 편으로 설정하면 효과가 높고, TNI를 중시하는 경우는 함유량을 많은 편으로 설정하면 효과가 높다. 또한, 적하흔이나 소부 특성을 개량하는 경우는, 함유량의 범위를 중간으로 설정하는 것이 바람직하다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (N-1-15)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 5%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 17%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 35%이고, 30%이며, 28%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 13%이다.
일반식 (N-1-16)으로 표시되는 화합물은 하기의 화합물이다.
Figure pct00034
(식 중, RN1161 및 RN1162는 각각 독립적으로, 일반식 (N-1)에 있어서의 RN11 및 RN12와 같은 의미를 나타낸다.)
RN1161은 탄소 원자수 1~5의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 바람직하고, 에틸기, 프로필기 또는 부틸기가 바람직하다. RN1162는 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 4~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기가 바람직하고, 에톡시기, 프로폭시기 또는 부톡시기가 바람직하다.
일반식 (N-1-16)으로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있지만, 2 이상의 화합물을 조합하여 사용할 수도 있다. 조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조합하여 사용한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이고, 2종류이며, 3종류이고, 4종류이며, 5종류 이상이다.
Δε의 개선을 중시하는 경우에는 함유량을 높은 편으로 설정하는 것이 바람직하고, 저온에서의 용해성을 중시하는 경우는 함유량을 높은 편으로 설정하면 효과가 높고, TNI를 중시하는 경우는 함유량을 많은 편으로 설정하면 효과가 높다. 또한, 적하흔이나 소부 특성을 개량하는 경우는, 함유량의 범위를 중간으로 설정하는 것이 바람직하다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (N-1-16)으로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 5%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 17%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 35%이고, 30%이며, 28%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 13%이다.
일반식 (N-1-17)로 표시되는 화합물은 하기의 화합물이다.
Figure pct00035
(식 중, RN1171 및 RN1172는 각각 독립적으로, 일반식 (N-1)에 있어서의 RN11 및 RN12와 같은 의미를 나타낸다.)
RN1171은 탄소 원자수 1~5의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 바람직하고, 에틸기, 프로필기 또는 부틸기가 바람직하다. RN1172는 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 4~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기가 바람직하고, 에톡시기, 프로폭시기 또는 부톡시기가 바람직하다.
일반식 (N-1-17)로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있지만, 2 이상의 화합물을 조합하여 사용할 수도 있다. 조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조합하여 사용한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이고, 2종류이며, 3종류이고, 4종류이며, 5종류 이상이다.
Δε의 개선을 중시하는 경우에는 함유량을 높은 편으로 설정하는 것이 바람직하고, 저온에서의 용해성을 중시하는 경우는 함유량을 높은 편으로 설정하면 효과가 높고, TNI를 중시하는 경우는 함유량을 많은 편으로 설정하면 효과가 높다. 또한, 적하흔이나 소부 특성을 개량하는 경우는, 함유량의 범위를 중간으로 설정하는 것이 바람직하다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (N-1-17)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 5%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 17%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 35%이고, 30%이며, 28%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 13%이다.
일반식 (N-1-18)로 표시되는 화합물은 하기의 화합물이다.
Figure pct00036
(식 중, RN1181 및 RN1182는 각각 독립적으로, 일반식 (N-1)에 있어서의 RN11 및 RN12와 같은 의미를 나타낸다.)
RN1181은 탄소 원자수 1~5의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 프로필기 또는 부틸기가 바람직하다. RN1182는 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 4~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기가 바람직하고, 에톡시기, 프로폭시기 또는 부톡시기가 바람직하다.
일반식 (N-1-18)로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있지만, 2 이상의 화합물을 조합하여 사용할 수도 있다. 조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조합하여 사용한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이고, 2종류이며, 3종류이고, 4종류이며, 5종류 이상이다.
Δε의 개선을 중시하는 경우에는 함유량을 높은 편으로 설정하는 것이 바람직하고, 저온에서의 용해성을 중시하는 경우는 함유량을 높은 편으로 설정하면 효과가 높고, TNI를 중시하는 경우는 함유량을 많은 편으로 설정하면 효과가 높다. 또한, 적하흔이나 소부 특성을 개량하는 경우는, 함유량의 범위를 중간으로 설정하는 것이 바람직하다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (N-1-18)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 5%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 17%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 35%이고, 30%이며, 28%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 13%이다.
또한, 일반식 (N-1-18)로 표시되는 화합물은, 식 (N-1-18.1)~식 (N-1-18.5)로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (N-1-18.1)~(N-1-11.3)으로 표시되는 화합물인 것이 바람직하며, 식 (N-1-18.2) 및 식 (N-1-18.3)으로 표시되는 화합물이 바람직하다.
Figure pct00037
일반식 (N-1-20)으로 표시되는 화합물은 하기의 화합물이다.
Figure pct00038
(식 중, RN1201 및 RN1202는 각각 독립적으로, 일반식 (N-1)에 있어서의 RN11 및 RN12와 같은 의미를 나타낸다.)
RN1201 및 RN1202는 각각 독립적으로, 탄소 원자수 1~5의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 바람직하고, 에틸기, 프로필기 또는 부틸기가 바람직하다.
일반식 (N-1-20)으로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있지만, 2 이상의 화합물을 조합하여 사용할 수도 있다. 조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조합하여 사용한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이고, 2종류이며, 3종류이고, 4종류이며, 5종류 이상이다.
Δε의 개선을 중시하는 경우에는 함유량을 높은 편으로 설정하는 것이 바람직하고, 저온에서의 용해성을 중시하는 경우는 함유량을 높은 편으로 설정하면 효과가 높고, TNI를 중시하는 경우는 함유량을 많은 편으로 설정하면 효과가 높다. 또한, 적하흔이나 소부 특성을 개량하는 경우는, 함유량의 범위를 중간으로 설정하는 것이 바람직하다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (N-1-20)으로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 5%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 17%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 35%이고, 30%이며, 28%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 13%이다.
일반식 (N-1-21)로 표시되는 화합물은 하기의 화합물이다.
Figure pct00039
(식 중, RN1211 및 RN1212는 각각 독립적으로, 일반식 (N-1)에 있어서의 RN11 및 RN12와 같은 의미를 나타낸다.)
RN1211 및 RN1212는 각각 독립적으로, 탄소 원자수 1~5의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 바람직하고, 에틸기, 프로필기 또는 부틸기가 바람직하다.
일반식 (N-1-21)로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있지만, 2 이상의 화합물을 조합하여 사용할 수도 있다. 조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조합하여 사용한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이고, 2종류이며, 3종류이고, 4종류이며, 5종류 이상이다.
Δε의 개선을 중시하는 경우에는 함유량을 높은 편으로 설정하는 것이 바람직하고, 저온에서의 용해성을 중시하는 경우는 함유량을 높은 편으로 설정하면 효과가 높고, TNI를 중시하는 경우는 함유량을 많은 편으로 설정하면 효과가 높다. 또한, 적하흔이나 소부 특성을 개량하는 경우는, 함유량의 범위를 중간으로 설정하는 것이 바람직하다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (N-1-21)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 5%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 17%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 35%이고, 30%이며, 28%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 13%이다.
일반식 (N-1-22)로 표시되는 화합물은 하기의 화합물이다.
Figure pct00040
(식 중, RN1221 및 RN1222는 각각 독립적으로, 일반식 (N-1)에 있어서의 RN11 및 RN12와 같은 의미를 나타낸다.)
RN1221 및 RN1222는 각각 독립적으로, 탄소 원자수 1~5의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 바람직하고, 에틸기, 프로필기 또는 부틸기가 바람직하다.
일반식 (N-1-22)로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있지만, 2 이상의 화합물을 조합하여 사용할 수도 있다. 조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조합하여 사용한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이고, 2종류이며, 3종류이고, 4종류이며, 5종류 이상이다.
Δε의 개선을 중시하는 경우에는 함유량을 높은 편으로 설정하는 것이 바람직하고, 저온에서의 용해성을 중시하는 경우는 함유량을 높은 편으로 설정하면 효과가 높고, TNI를 중시하는 경우는 함유량을 많은 편으로 설정하면 효과가 높다. 또한, 적하흔이나 소부 특성을 개량하는 경우는, 함유량의 범위를 중간으로 설정하는 것이 바람직하다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (N-1-22)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 5%이며, 10%이고, 13%이며, 15%이고, 17%이며, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 35%이고, 30%이며, 28%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 13%이고, 10%이며, 5%이다.
또한, 일반식 (N-1-22)로 표시되는 화합물은, 식 (N-1-22.1)~식 (N-1-22.12)로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (N-1-22.1)~(N-1-22.5)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하며, 식 (N-1-22.1)~(N-1-22.4)로 표시되는 화합물이 바람직하다.
Figure pct00041
일반식 (N-3)으로 표시되는 화합물은 일반식 (N-3-2)로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00042
(식 중, RN321 및 RN322는 각각 독립적으로, 일반식 (N-1)에 있어서의 RN11 및 RN12와 같은 의미를 나타낸다.)
RN321 및 RN322는 탄소 원자수 1~5의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 바람직하고, 프로필기 또는 펜틸기가 바람직하다.
일반식 (N-3-2)로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있지만, 2 이상의 화합물을 조합하여 사용할 수도 있다. 조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조합하여 사용한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이고, 2종류이며, 3종류이고, 4종류이며, 5종류 이상이다.
Δε의 개선을 중시하는 경우에는 함유량을 높은 편으로 설정하는 것이 바람직하고, 저온에서의 용해성을 중시하는 경우는 함유량을 높은 편으로 설정하면 효과가 높고, TNI를 중시하는 경우는 함유량을 낮은 편으로 설정하면 효과가 높다. 또한, 적하흔이나 소부 특성을 개량하는 경우는, 함유량의 범위를 중간으로 설정하는 것이 바람직하다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (N-3-2)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 3%이고, 5%이며, 10%이고, 13%이며, 15%이고, 17%이며, 20%이고, 23%이며, 25%이고, 27%이며, 30%이고, 33%이며, 35%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 50%이고, 40%이며, 38%이고, 35%이며, 33%이고, 30%이며, 28%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 13%이고, 10%이며, 8%이고, 7%이며, 6%이고, 5%이다.
또한, 일반식 (N-3-2)로 표시되는 화합물은, 식 (N-3-2.1)~식 (N-3-2.3)으로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00043
본 발명의 조성물은, 일반식 (J)로 표시되는 화합물을 1종류 또는 2종류 이상 함유하는 것이 바람직하다. 이들 화합물은 유전적으로 양의 화합물(Δε이 2보다 크다.)에 해당한다.
Figure pct00044
(식 중, RJ1은 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타내고, 당해 알킬기 중의 1개 또는 비인접한 2개 이상의 -CH2-는 각각 독립적으로 -CH=CH-, -C≡C-, -O-, -CO-, -COO- 또는 -OCO-에 의해 치환되어 있어도 되고,
nJ1은, 0, 1, 2, 3 또는 4를 나타내고,
AJ1, AJ2 및 AJ3은 각각 독립적으로,
(a) 1,4-시클로헥실렌기(이 기 중에 존재하는 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 -O-로 치환되어도 된다.)
(b) 1,4-페닐렌기(이 기 중에 존재하는 1개의 -CH= 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH=는 -N=으로 치환되어도 된다.) 및
(c) 나프탈렌-2,6-디일기, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기 또는 데카히드로나프탈렌-2,6-디일기(나프탈렌-2,6-디일기 또는 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기 중에 존재하는 1개의 -CH= 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH=는 -N=으로 치환되어도 된다.)
로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기를 나타내고, 상기의 기 (a), 기 (b) 및 기 (c)는 각각 독립적으로 시아노기, 불소 원자, 염소 원자, 메틸기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 되고,
ZJ1 및 ZJ2는 각각 독립적으로 단결합, -CH2CH2-, -(CH2)4-, -OCH2-, -CH2O-, -OCF2-, -CF2O-, -COO-, -OCO- 또는 -C≡C-를 나타내고,
nJ1이 2, 3 또는 4이고 AJ2가 복수 존재하는 경우는, 그들은 동일해도 되고 상이해도 되며, nJ1이 2, 3 또는 4이고 ZJ1이 복수 존재하는 경우는, 그들은 동일해도 되고 상이해도 되며,
XJ1은, 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 시아노기, 트리플루오로메틸기, 플루오로메톡시기, 디플루오로메톡시기, 트리플루오로메톡시기 또는 2,2,2-트리플루오로에틸기를 나타낸다.)
일반식 (J) 중, RJ1은, 탄소 원자수 1~8의 알킬기, 탄소 원자수 1~8의 알콕시기, 탄소 원자수 2~8의 알케닐기 또는 탄소 원자수 2~8의 알케닐옥시기가 바람직하고, 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 1~5의 알콕시기, 탄소 원자수 2~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 2~5의 알케닐옥시기가 바람직하며, 탄소 원자수 1~5의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 더 바람직하고, 탄소 원자수 2~5의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~3의 알케닐기가 더 바람직하며, 탄소 원자수 3의 알케닐기(프로페닐기)가 특히 바람직하다.
신뢰성을 중시하는 경우에는 RJ1은 알킬기인 것이 바람직하고, 점성의 저하를 중시하는 경우에는 알케닐기인 것이 바람직하다.
또, 그것이 결합하는 환 구조가 페닐기(방향족)인 경우에는, 직쇄상의 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 직쇄상의 탄소 원자수 1~4의 알콕시기 및 탄소 원자수 4~5의 알케닐기가 바람직하고, 그것이 결합하는 환 구조가 시클로헥산, 피란 및 디옥산 등의 포화한 환 구조인 경우에는, 직쇄상의 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 직쇄상의 탄소 원자수 1~4의 알콕시기 및 직쇄상의 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 바람직하다. 네마틱상을 안정화시키기 위해서는 탄소 원자 및 존재하는 경우 산소 원자의 합계가 5 이하인 것이 바람직하고, 직쇄상인 것이 바람직하다.
알케닐기로서는, 식 (R1)~식 (R5) 중 어느 하나로 표시되는 기로부터 선택되는 것이 바람직하다. (각 식 중의 검은 점은 알케닐기가 결합하고 있는 환 구조 중의 탄소 원자를 나타낸다.)
Figure pct00045
AJ1, AJ2 및 AJ3은 각각 독립적으로 Δn을 크게 하는 것이 요구되는 경우에는 방향족인 것이 바람직하고, 응답 속도를 개선하기 위해서는 지방족인 것이 바람직하며, 트랜스-1,4-시클로헥실렌기, 1,4-페닐렌기, 1,4-시클로헥세닐렌기, 1,4-비시클로[2.2.2]옥틸렌기, 피페리딘-1,4-디일기, 나프탈렌-2,6-디일기, 데카히드로나프탈렌-2,6-디일기 또는 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기를 나타내는 것이 바람직하고, 그들은 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되고, 하기의 구조를 나타내는 것이 보다 바람직하며,
Figure pct00046
하기의 구조를 나타내는 것이 보다 바람직하다.
Figure pct00047
ZJ1 및 ZJ2는 각각 독립적으로 -CH2O-, -OCH2-, -CF2O-, -CH2CH2-, -CF2CF2- 또는 단결합을 나타내는 것이 바람직하고, -OCH2-, -CF2O-, -CH2CH2- 또는 단결합이 더 바람직하고, -OCH2-, -CF2O- 또는 단결합이 특히 바람직하다.
XJ1은 불소 원자 또는 트리플루오로메톡시기가 바람직하고, 불소 원자가 바람직하다.
nJ1은, 0, 1, 2 또는 3이 바람직하고, 0, 1 또는 2가 바람직하며, Δε의 개선에 중점을 두는 경우에는 0 또는 1이 바람직하고, TNI를 중시하는 경우에는 1 또는 2가 바람직하다.
조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 원하는 성능에 따라 조합하여 사용한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이고, 2종류이며, 3종류이다. 또한, 본 발명의 다른 실시형태에서는 4종류이고, 5종류이며, 6종류이고, 7종류 이상이다.
본 발명의 조성물에 있어서, 일반식 (J)로 표시되는 화합물의 함유량은, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율, 프로세스 적합성, 적하흔, 소부, 유전율 이방성 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조정할 필요가 있다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 일반식 (J)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 10%이며, 20%이고, 30%이며, 40%이고, 50%이며, 55%이고, 60%이며, 65%이고, 70%이며, 75%이고, 80%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 예를 들어 본 발명의 하나의 형태에서는 95%이고, 85%이며, 75%이고, 65%이며, 55%이고, 45%이며, 35%이고, 25%이다.
본 발명의 조성물의 점도를 낮게 유지하고, 응답 속도가 빠른 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 본 발명의 조성물의 TNI를 높게 유지하고, 온도 안정성이 양호한 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또, 구동 전압을 낮게 유지하기 위해 유전율 이방성을 크게 하고 싶을 때는, 상기의 하한값을 높은 편으로 하고, 상한값을 높은 편으로 하는 것이 바람직하다.
신뢰성을 중시하는 경우에는 RJ1은 알킬기인 것이 바람직하고, 점성의 저하를 중시하는 경우에는 알케닐기인 것이 바람직하다.
일반식 (J)로 표시되는 화합물로서는 일반식 (M)으로 표시되는 화합물이 바람직하다.
본 발명의 조성물은, 일반식 (M)으로 표시되는 화합물을 1종류 또는 2종류 이상 함유하는 것이 바람직하다. 이들 화합물은 유전적으로 양의 화합물(Δε이 2보다 크다.)에 해당한다.
Figure pct00048
(식 중, RM1은 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타내고, 당해 알킬기 중의 1개 또는 비인접한 2개 이상의 -CH2-는 각각 독립적으로 -CH=CH-, -C≡C-, -O-, -CO-, -COO- 또는 -OCO-에 의해 치환되어 있어도 되고,
nM1는, 0, 1, 2, 3 또는 4를 나타내고,
AM1 및 AM2는 각각 독립적으로,
(a) 1,4-시클로헥실렌기(이 기 중에 존재하는 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 -O- 또는 -S-로 치환되어도 된다.) 및
(b) 1,4-페닐렌기(이 기 중에 존재하는 1개의 -CH= 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH=는 -N=으로 치환되어도 된다.)
로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기를 나타내고, 상기의 기 (a) 및 기 (b) 상의 수소 원자는 각각 독립적으로 시아노기, 불소 원자 또는 염소 원자로 치환되어 있어도 되고,
ZM1 및 ZM2는 각각 독립적으로 단결합, -CH2CH2-, -(CH2)4-, -OCH2-, -CH2O-, -OCF2-, -CF2O-, -COO-, -OCO- 또는 -C≡C-를 나타내고,
nM1이 2, 3 또는 4이고 AM2가 복수 존재하는 경우는, 그들은 동일해도 되고 상이해도 되며, nM1이 2, 3 또는 4이고 ZM1이 복수 존재하는 경우는, 그들은 동일해도 되고 상이해도 되며,
XM1 및 XM3은 각각 독립적으로 수소 원자, 염소 원자 또는 불소 원자를 나타내고,
XM2는, 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 시아노기, 트리플루오로메틸기, 플루오로메톡시기, 디플루오로메톡시기, 트리플루오로메톡시기 또는 2,2,2-트리플루오로에틸기를 나타낸다.
일반식 (M) 중, RM1은, 탄소 원자수 1~8의 알킬기, 탄소 원자수 1~8의 알콕시기, 탄소 원자수 2~8의 알케닐기 또는 탄소 원자수 2~8의 알케닐옥시기가 바람직하고, 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 1~5의 알콕시기, 탄소 원자수 2~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 2~5의 알케닐옥시기가 바람직하며, 탄소 원자수 1~5의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 더 바람직하고, 탄소 원자수 2~5의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~3의 알케닐기가 더 바람직하며, 탄소 원자수 3의 알케닐기(프로페닐기)가 특히 바람직하다.
신뢰성을 중시하는 경우에는 RM1은 알킬기인 것이 바람직하고, 점성의 저하를 중시하는 경우에는 알케닐기인 것이 바람직하다.
또, 그것이 결합하는 환 구조가 페닐기(방향족)인 경우에는, 직쇄상의 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 직쇄상의 탄소 원자수 1~4의 알콕시기 및 탄소 원자수 4~5의 알케닐기가 바람직하고, 그것이 결합하는 환 구조가 시클로헥산, 피란 및 디옥산 등의 포화한 환 구조인 경우에는, 직쇄상의 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 직쇄상의 탄소 원자수 1~4의 알콕시기 및 직쇄상의 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 바람직하다. 네마틱상을 안정화시키기 위해서는 탄소 원자 및 존재하는 경우 산소 원자의 합계가 5 이하인 것이 바람직하고, 직쇄상인 것이 바람직하다.
알케닐기로서는, 식 (R1)~식 (R5) 중 어느 하나로 표시되는 기로부터 선택되는 것이 바람직하다. (각 식 중의 검은 점은 알케닐기가 결합하고 있는 환 구조 중의 탄소 원자를 나타낸다.)
Figure pct00049
AM1 및 AM2는 각각 독립적으로 Δn을 크게 하는 것이 요구되는 경우에는 방향족인 것이 바람직하고, 응답 속도를 개선하기 위해서는 지방족인 것이 바람직하며, 트랜스-1,4-시클로헥실렌기, 1,4-페닐렌기, 2-플루오로-1,4-페닐렌기, 3-플루오로-1,4-페닐렌기, 3,5-디플루오로-1,4-페닐렌기, 2,3-디플루오로-1,4-페닐렌기, 1,4-시클로헥세닐렌기, 1,4-비시클로[2.2.2]옥틸렌기, 피페리딘-1,4-디일기, 나프탈렌-2,6-디일기, 데카히드로나프탈렌-2,6-디일기 또는 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기를 나타내는 것이 바람직하고, 하기의 구조를 나타내는 것이 보다 바람직하며,
Figure pct00050
하기의 구조를 나타내는 것이 보다 바람직하다.
Figure pct00051
ZM1 및 ZM2는 각각 독립적으로 -CH2O-, -CF2O-, -CH2CH2-, -CF2CF2- 또는 단결합을 나타내는 것이 바람직하고, -CF2O-, -CH2CH2- 또는 단결합이 더 바람직하며, -CF2O- 또는 단결합이 특히 바람직하다.
nM1은, 0, 1, 2 또는 3이 바람직하고, 0, 1 또는 2가 바람직하며, Δε의 개선에 중점을 두는 경우에는 0 또는 1이 바람직하고, TNI를 중시하는 경우에는 1 또는 2가 바람직하다.
조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 원하는 성능에 따라 조합하여 사용한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이고, 2종류이며, 3종류이다. 또한, 본 발명의 다른 실시형태에서는 4종류이고, 5종류이며, 6종류이고, 7종류 이상이다.
본 발명의 조성물에 있어서, 일반식 (M)으로 표시되는 화합물의 함유량은, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율, 프로세스 적합성, 적하흔, 소부, 유전율 이방성 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조정할 필요가 있다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (M)으로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 10%이며, 20%이고, 30%이며, 40%이고, 50%이며, 55%이고, 60%이며, 65%이고, 70%이며, 75%이고, 80%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 예를 들어 본 발명의 하나의 형태에서는 95%이고, 85%이며, 75%이고, 65%이며, 55%이고, 45%이며, 35%이고, 25%이다.
본 발명의 조성물의 점도를 낮게 유지하고, 응답 속도가 빠른 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 본 발명의 조성물의 TNI를 높게 유지하고, 온도 안정성이 양호한 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또, 구동 전압을 낮게 유지하기 위해 유전율 이방성을 크게 하고 싶을 때는, 상기의 하한값을 높은 편으로 하고, 상한값을 높은 편으로 하는 것이 바람직하다.
일반식 (M)으로 표시되는 화합물은, 예를 들어 일반식 (M-1)로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00052
(식 중, RM11은 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 2~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기를 나타내고, XM11~XM15는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 불소 원자를 나타내고, YM11은 불소 원자 또는 OCF3을 나타낸다.)
조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 원하는 성능에 따라 조합하여 사용한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이고, 2종류이며, 3종류 이상이다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (M-1)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 5%이고, 8%이며, 10%이고, 13%이며, 15%이고, 18%이며, 20%이고, 22%이며, 25%이고, 30%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
본 발명의 조성물의 점도를 낮게 유지하고, 응답 속도가 빠른 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 본 발명의 조성물의 TNI를 높게 유지하고, 온도 안정성이 양호한 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또, 구동 전압을 낮게 유지하기 위해 유전율 이방성을 크게 하고 싶을 때는, 상기의 하한값을 높은 편으로 하고, 상한값을 높은 편으로 하는 것이 바람직하다.
또한, 일반식 (M-1)로 표시되는 화합물은, 구체적으로는 식 (M-1.1)~식 (M-1.4)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (M-1.1) 또는 식 (M-1.2)로 표시되는 화합물이 바람직하며, 식 (M-1.2)로 표시되는 화합물이 더 바람직하다. 또, 식 (M-1.1) 또는 식 (M-1.2)로 표시되는 화합물을 동시에 사용하는 것도 바람직하다.
Figure pct00053
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (M-1.1)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 5%이고, 6%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (M-1.2)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 5%이고, 6%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 13%이고, 10%이며, 8%이다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (M-1.1) 및 식 (M-1.2)로 표시되는 화합물의 합계의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 5%이고, 6%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 13%이고, 10%이며, 8%이다.
또한, 일반식 (M)으로 표시되는 화합물은, 예를 들어 일반식 (M-2)로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00054
(식 중, RM21은 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 2~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기를 나타내고, XM21 및 XM22는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 불소 원자를 나타내고, YM21은 불소 원자, 염소 원자 또는 OCF3을 나타낸다.)
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (M-2)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 5%이고, 8%이며, 10%이고, 13%이며, 15%이고, 18%이며, 20%이고, 22%이며, 25%이고, 30%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
본 발명의 조성물의 점도를 낮게 유지하고, 응답 속도가 빠른 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 본 발명의 조성물의 TNI를 높게 유지하고, 소부가 발생하기 어려운 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또, 구동 전압을 낮게 유지하기 위해 유전율 이방성을 크게 하고 싶을 때는, 상기의 하한값을 높은 편으로 하고, 상한값을 높은 편으로 하는 것이 바람직하다.
또한, 일반식 (M-2)로 표시되는 화합물은, 식 (M-2.1)~식 (M-2.5)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (M-2.3) 또는/및 식 (M-2.5)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00055
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (M-2.2)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 5%이고, 6%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (M-2.3)으로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 5%이고, 6%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 13%이고, 10%이며, 8%이다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (M-2.5)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 5%이고, 6%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 13%이고, 10%이며, 8%이다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (M-2.2), (M-2.3) 및 식 (M-2.5)로 표시되는 화합물의 합계의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 5%이고, 6%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 13%이고, 10%이며, 8%이다.
함유량은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해 1% 이상인 것이 바람직하고, 5% 이상이 보다 바람직하며, 8% 이상이 더 바람직하고, 10% 이상이 더 바람직하며, 14% 이상이 더 바람직하고, 16% 이상이 특히 바람직하다. 또, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성 등을 고려하여, 최대 비율을 30% 이하로 국한시키는 것이 바람직하고, 25% 이하가 더 바람직하며, 22% 이하가 보다 바람직하고, 20% 미만이 특히 바람직하다.
본 발명의 조성물에 사용되는 일반식 (M)으로 표시되는 화합물은, 일반식 (M-3)으로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00056
(식 중, RM31은 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 2~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기를 나타내고, XM31~XM36은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 불소 원자를 나타내고, YM31은 불소 원자, 염소 원자 또는 OCF3을 나타낸다.)
조합할 수 있는 화합물에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등을 고려하여 1종~2종류 이상 조합하는 것이 바람직하다.
일반식 (M-3)으로 표시되는 화합물의 함유량은, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 특성을 고려하여 실시형태마다 상한값과 하한값이 있다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (M-3)으로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
또한, 본 발명의 조성물에 사용되는 일반식 (M-3)으로 표시되는 화합물은, 구체적으로는 식 (M-3.1)~식 (M-3.8)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 그중에서도 식 (M-3.1) 및/또는 식 (M-3.2)로 표시되는 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.
Figure pct00057
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (M-3.1)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (M-3.2)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (M-3.1) 및 식 (M-3.2)로 표시되는 화합물의 합계의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
또한, 일반식 (M)으로 표시되는 화합물은, 일반식 (M-4)로 표시되는 군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00058
(식 중, RM41은 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 2~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기를 나타내고, XM41~XM48은 각각 독립적으로 불소 원자 또는 수소 원자를 나타내고, YM41은 불소 원자, 염소 원자 또는 OCF3을 나타낸다.)
조합할 수 있는 화합물에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등을 고려하여 1종, 2종 또는 3종류 이상 조합하는 것이 바람직하다.
일반식 (M-4)로 표시되는 화합물의 함유량은, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 특성을 고려하여 실시형태마다 상한값과 하한값이 있다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (M-4)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
본 발명의 조성물이, 셀 갭이 작은 액정 표시 소자용으로 이용되는 경우는, 일반식 (M-4)로 표시되는 화합물의 함유량을 많은 편으로 하는 것이 적합하다. 구동 전압이 작은 액정 표시 소자용으로 이용되는 경우는, 일반식 (M-4)로 표시되는 화합물의 함유량을 많은 편으로 하는 것이 적합하다. 또, 저온의 환경에서 이용되는 액정 표시 소자용으로 이용되는 경우는 일반식 (M-4)로 표시되는 화합물의 함유량을 적은 편으로 하는 것이 적합하다. 응답 속도가 빠른 액정 표시 소자에 이용되는 조성물인 경우는, 일반식 (M-4)로 표시되는 화합물의 함유량을 적은 편으로 하는 것이 적합하다.
또한, 본 발명의 조성물에 사용되는 일반식 (M-4)로 표시되는 화합물은, 구체적으로는 식 (M-4.1)~식 (M-4.4)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 그중에서도 식 (M-4.2)~식 (M-4.4)로 표시되는 화합물을 함유하는 것이 바람직하며, 식 (M-4.2)로 표시되는 화합물을 함유하는 것이 보다 바람직하다.
Figure pct00059
또한, 일반식 (M)으로 표시되는 화합물은, 일반식 (M-5)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00060
(식 중, RM51은 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 2~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기를 나타내고, XM51 및 XM52는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 불소 원자를 나타내고, YM51은 불소 원자, 염소 원자 또는 OCF3을 나타낸다.)
조합할 수 있는 화합물의 종류에 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등을 고려하여, 실시형태마다 적절히 조합하여 사용한다. 예를 들어, 본 발명의 하나의 실시형태에서는 1종류, 다른 실시형태에서는 2종류, 또 다른 실시형태에서는 3종류, 또 다른 실시형태에서는 4종류, 또 다른 실시형태에서는 5종류, 또 다른 실시형태에서는 6종류 이상 조합한다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (M-5)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 5%이고, 8%이며, 10%이고, 13%이며, 15%이고, 18%이며, 20%이고, 22%이며, 25%이고, 30%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 50%이고, 45%이며, 40%이고, 35%이며, 33%이고, 30%이며, 28%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 13%이고, 10%이며, 8%이고, 5%이다.
본 발명의 조성물의 점도를 낮게 유지하고, 응답 속도가 빠른 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 본 발명의 조성물의 TNI를 높게 유지하고, 소부가 발생하기 어려운 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또, 구동 전압을 낮게 유지하기 위해 유전율 이방성을 크게 하고 싶을 때는, 상기의 하한값을 높은 편으로 하고, 상한값을 높은 편으로 하는 것이 바람직하다.
또한, 일반식 (M-5)로 표시되는 화합물은, 식 (M-5.1)~식 (M-5.4)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (M-5.1)~식 (M-5.4)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00061
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 5%이고, 8%이며, 10%이고, 13%이며, 15%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
또한, 일반식 (M-5)로 표시되는 화합물은, 식 (M-5.11)~식 (M-5.17)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (M-5.11), 식 (M-5.13) 및 식 (M-5.17)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00062
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 5%이고, 8%이며, 10%이고, 13%이며, 15%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
또한, 일반식 (M-5)로 표시되는 화합물은, 식 (M-5.21)~식 (M-5.28)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (M-5.21), 식 (M-5.22), 식 (M-5.23) 및 식 (M-5.25)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00063
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 5%이고, 8%이며, 10%이고, 13%이며, 15%이고, 18%이며, 20%이고, 22%이며, 25%이고, 30%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 40%이고, 35%이며, 33%이고, 30%이며, 28%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 13%이고, 10%이며, 8%이고, 5%이다.
또한, 일반식 (M)으로 표시되는 화합물은, 일반식 (M-6)으로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00064
(식 중, RM61은 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 2~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기를 나타내고, XM61~XM64는 각각 독립적으로 불소 원자 또는 수소 원자를 나타내고, YM61은 불소 원자, 염소 원자 또는 OCF3을 나타낸다.)
조합할 수 있는 화합물의 종류에 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등을 고려하여 실시형태마다 적절히 조합한다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (M-6)으로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
본 발명의 조성물이, 구동 전압이 작은 액정 표시 소자용으로 이용되는 경우는, 일반식 (M-6)으로 표시되는 화합물의 함유량을 많은 편으로 하는 것이 적합하다. 또 응답 속도가 빠른 액정 표시 소자에 이용되는 조성물인 경우는, 일반식 (M-6)으로 표시되는 화합물의 함유량을 적은 편으로 하는 것이 적합하다.
또한, 일반식 (M-6)으로 표시되는 화합물은 구체적으로는 식 (M-6.1)~식 (M-6.4)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 그중에서도 식 (M-6.2) 및 식 (M-6.4)로 표시되는 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.
Figure pct00065
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
또한, 일반식 (M-6)으로 표시되는 화합물은 구체적으로는 식 (M-6.11)~식 (M-6.14)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 그중에서도 식 (M-6.12) 및 식 (M-6.14)로 표시되는 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.
Figure pct00066
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
또한, 일반식 (M-6)으로 표시되는 화합물은 구체적으로는 식 (M-6.21)~식 (M-6.24)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 그중에서도 식 (M-6.21), 식 (M-6.22) 및 식 (M-6.24)로 표시되는 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.
Figure pct00067
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
또한, 일반식 (M-6)으로 표시되는 화합물은 구체적으로는 식 (M-6.31)~식 (M-6.34)로 표시되는 화합물이 바람직하다. 그중에서도 식 (M-6.31) 및 식 (M-6.32)로 표시되는 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.
Figure pct00068
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
또한, 일반식 (M-6)으로 표시되는 화합물은 구체적으로는 식 (M-6.41)~식 (M-6.44)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 그중에서도 식 (M-6.42)로 표시되는 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.
Figure pct00069
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
또한, 일반식 (M)으로 표시되는 화합물은, 일반식 (M-7)로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00070
(식 중, XM71~XM76은 각각 독립적으로 불소 원자 또는 수소 원자를 나타내고, RM71은 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 2~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기를 나타내고, YM71은 불소 원자 또는 OCF3을 나타낸다.)
조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 이들 화합물 중에서 1종~2종류 함유하는 것이 바람직하고, 1종~3종류 함유하는 것이 보다 바람직하며, 1종~4종류 함유하는 것이 더 바람직하다.
일반식 (M-7)로 표시되는 화합물의 함유량은, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 특성을 고려하여 실시형태마다 상한값과 하한값이 있다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (M-7)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
본 발명의 조성물이, 셀 갭이 작은 액정 표시 소자용으로 이용되는 경우는, 일반식 (M-7)로 표시되는 화합물의 함유량을 많은 편으로 하는 것이 적합하다. 구동 전압이 작은 액정 표시 소자용으로 이용되는 경우는, 일반식 (M-7)로 표시되는 화합물의 함유량을 많은 편으로 하는 것이 적합하다. 또, 저온의 환경에서 이용되는 액정 표시 소자용으로 이용되는 경우는 일반식 (M-7)로 표시되는 화합물의 함유량을 적은 편으로 하는 것이 적합하다. 응답 속도가 빠른 액정 표시 소자에 이용되는 조성물인 경우는, 일반식 (M-7)로 표시되는 화합물의 함유량을 적은 편으로 하는 것이 적합하다.
또한, 일반식 (M-7)로 표시되는 화합물은, 식 (M-7.1)~식 (M-7.4)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (M-7.2)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00071
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
또한, 일반식 (M-7)로 표시되는 화합물은, 식 (M-7.11)~식 (M-7.14)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (M-7.11) 및 식 (M-7.12)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00072
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
또한, 일반식 (M-7)로 표시되는 화합물은, 식 (M-7.21)~식 (M-7.24)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (M-7.21) 및 식 (M-7.22)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00073
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
또한, 일반식 (M)으로 표시되는 화합물은, 일반식 (M-8)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00074
(식 중, XM81~XM84는 각각 독립적으로 불소 원자 또는 수소 원자를 나타내고, YM81은 불소 원자, 염소 원자 또는 -OCF3을 나타내고, RM81은 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 2~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기를 나타내고, AM81 및 AM82는 각각 독립적으로, 1,4-시클로헥실렌기, 1,4-페닐렌기 또는
Figure pct00075
를 나타내는데, 1,4-페닐렌기 상의 수소 원자는 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 된다.)
본 발명의 조성물의 총량에 대한 일반식 (M-8)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
본 발명의 조성물의 점도를 낮게 유지하고, 응답 속도가 빠른 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 소부가 발생하기 어려운 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또, 구동 전압을 낮게 유지하기 위해 유전율 이방성을 크게 하고 싶을 때는, 상기의 하한값을 높은 편으로 하고, 상한값을 높은 편으로 하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 조성물에 사용되는 일반식 (M-8)로 표시되는 화합물은, 구체적으로는 식 (M-8.1)~식 (M-8.4)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 그중에서도 식 (M-8.1) 및 식 (M-8.2)로 표시되는 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.
Figure pct00076
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
또한, 본 발명의 조성물에 사용되는 일반식 (M-8)로 표시되는 화합물은, 구체적으로는 식 (M-8.11)~식 (M-8.14)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 그중에서도 식 (M-8.12)로 표시되는 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.
Figure pct00077
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
또한, 본 발명의 조성물에 사용되는 일반식 (M-8)로 표시되는 화합물은, 구체적으로는 식 (M-8.21)~식 (M-8.24)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 그중에서도 식 (M-8.22)로 표시되는 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.
Figure pct00078
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
또한, 본 발명의 조성물에 사용되는 일반식 (M-8)로 표시되는 화합물은, 구체적으로는 식 (M-8.31)~식 (M-8.34)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 그중에서도 식 (M-8.32)로 표시되는 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.
Figure pct00079
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
또한, 본 발명의 조성물에 사용되는 일반식 (M-8)로 표시되는 화합물은, 구체적으로는 식 (M-8.41)~식 (M-8.44)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 그중에서도 식 (M-8.42)로 표시되는 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.
Figure pct00080
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
또한, 본 발명의 조성물에 사용되는 일반식 (M-8)로 표시되는 화합물은, 구체적으로는 식 (M-8.51)~식 (M-8.54)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 그중에서도 식 (M-8.52)로 표시되는 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.
Figure pct00081
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
또한, 일반식 (M)으로 표시되는 화합물은, 그 구조 중에 하기의 부분 구조를 갖고 있어도 된다.
Figure pct00082
(식 중의 검은 점은 상기 부분 구조가 결합하고 있는 환 구조 중의 탄소 원자를 나타낸다.)
상기 부분 구조를 갖는 화합물로서, 일반식 (M-10)~(M-18)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
일반식 (M-10)으로 표시되는 화합물은 하기의 것이다.
Figure pct00083
(식 중, XM101 및 XM102는 각각 독립적으로 불소 원자 또는 수소 원자를 나타내고, YM101은 불소 원자, 염소 원자 또는 -OCF3을 나타내고, RM101은 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 2~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기를 나타내고, WM101 및 WM102는 각각 독립적으로, -CH2- 또는 -O-를 나타낸다.)
본 발명의 조성물의 총량에 대한 일반식 (M-10)으로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
본 발명의 조성물의 점도를 낮게 유지하고, 응답 속도가 빠른 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 소부가 발생하기 어려운 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또, 구동 전압을 낮게 유지하기 위해 유전율 이방성을 크게 하고 싶을 때는, 상기의 하한값을 높은 편으로 하고, 상한값을 높은 편으로 하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 조성물에 사용되는 일반식 (M-10)으로 표시되는 화합물은, 구체적으로는 식 (M-10.1)~식 (M-10.4)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00084
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
일반식 (M-11)로 표시되는 화합물은 하기의 것이다.
Figure pct00085
(식 중, XM111~XM114는 각각 독립적으로 불소 원자 또는 수소 원자를 나타내고, YM111은 불소 원자, 염소 원자 또는 -OCF3을 나타내고, RM111은 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 2~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기를 나타낸다.)
본 발명의 조성물의 총량에 대한 일반식 (M-11)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
본 발명의 조성물의 점도를 낮게 유지하고, 응답 속도가 빠른 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 소부가 발생하기 어려운 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또, 구동 전압을 낮게 유지하기 위해 유전율 이방성을 크게 하고 싶을 때는, 상기의 하한값을 높은 편으로 하고, 상한값을 높은 편으로 하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 조성물에 사용되는 일반식 (M-11)로 표시되는 화합물은, 구체적으로는 식 (M-11.1)~식 (M-11.8)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 그중에서도 식 (M-11.1)~식 (M-11.4)로 표시되는 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.
Figure pct00086
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
일반식 (M-12)로 표시되는 화합물은 하기의 것이다.
Figure pct00087
(식 중, XM121 및 XM122는 각각 독립적으로 불소 원자 또는 수소 원자를 나타내고, YM121은 불소 원자, 염소 원자 또는 -OCF3을 나타내고, RM121은 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 2~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기를 나타내고, WM121 및 WM122는 각각 독립적으로, -CH2- 또는 -O-를 나타낸다.)
본 발명의 조성물의 총량에 대한 일반식 (M-12)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
본 발명의 조성물의 점도를 낮게 유지하고, 응답 속도가 빠른 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 소부가 발생하기 어려운 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또, 구동 전압을 낮게 유지하기 위해 유전율 이방성을 크게 하고 싶을 때는, 상기의 하한값을 높은 편으로 하고, 상한값을 높은 편으로 하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 조성물에 사용되는 일반식 (M-12)로 표시되는 화합물은, 구체적으로는 식 (M-12.1)~식 (M-12.12)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 그중에서도 식 (M-12.5)~식 (M-12.8)로 표시되는 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.
Figure pct00088
Figure pct00089
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
일반식 (M-13)으로 표시되는 화합물은 하기의 것이다.
Figure pct00090
(식 중, XM131~XM134는 각각 독립적으로 불소 원자 또는 수소 원자를 나타내고, YM131은 불소 원자, 염소 원자 또는 -OCF3을 나타내고, RM131은 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 2~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기를 나타내고, WM131 및 WM132는 각각 독립적으로, -CH2- 또는 -O-를 나타낸다.)
본 발명의 조성물의 총량에 대한 일반식 (M-13)으로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
본 발명의 조성물의 점도를 낮게 유지하고, 응답 속도가 빠른 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 소부가 발생하기 어려운 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또, 구동 전압을 낮게 유지하기 위해 유전율 이방성을 크게 하고 싶을 때는, 상기의 하한값을 높은 편으로 하고, 상한값을 높은 편으로 하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 조성물에 사용되는 일반식 (M-13)으로 표시되는 화합물은, 구체적으로는 식 (M-13.1)~식 (M-13.8)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00091
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
일반식 (M-14)로 표시되는 화합물은 하기의 것이다.
Figure pct00092
(식 중, XM141~XM144는 각각 독립적으로 불소 원자 또는 수소 원자를 나타내고, YM141은 불소 원자, 염소 원자 또는 -OCF3을 나타내고, RM141은 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 2~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기를 나타내고, WM141 및 WM142는 각각 독립적으로, -CH2- 또는 -O-를 나타낸다.)
본 발명의 조성물의 총량에 대한 일반식 (M-14)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
본 발명의 조성물의 점도를 낮게 유지하고, 응답 속도가 빠른 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 소부가 발생하기 어려운 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또, 구동 전압을 낮게 유지하기 위해 유전율 이방성을 크게 하고 싶을 때는, 상기의 하한값을 높은 편으로 하고, 상한값을 높은 편으로 하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 조성물에 사용되는 일반식 (M-14)로 표시되는 화합물은, 구체적으로는 식 (M-14.1)~식 (M-14.8)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 그중에서도 식 (M-14.5) 및 식 (M-14.8)로 표시되는 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.
Figure pct00093
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
일반식 (M-15)로 표시되는 화합물은 하기의 것이다.
Figure pct00094
(식 중, XM151 및 XM152는 각각 독립적으로 불소 원자 또는 수소 원자를 나타내고, YM151은 불소 원자, 염소 원자 또는 -OCF3을 나타내고, RM151은 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 2~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기를 나타내고, WM151 및 WM152는 각각 독립적으로, -CH2- 또는 -O-를 나타낸다.)
본 발명의 조성물의 총량에 대한 일반식 (M-15)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
본 발명의 조성물의 점도를 낮게 유지하고, 응답 속도가 빠른 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 소부가 발생하기 어려운 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또, 구동 전압을 낮게 유지하기 위해 유전율 이방성을 크게 하고 싶을 때는, 상기의 하한값을 높은 편으로 하고, 상한값을 높은 편으로 하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 조성물에 사용되는 일반식 (M-15)로 표시되는 화합물은, 구체적으로는 식 (M-15.1)~식 (M-15.14)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 그중에서도 식 (M-15.5)~식 (M-15.8), 식 (M-15.11)~식 (M-15.14)로 표시되는 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.
Figure pct00095
Figure pct00096
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
일반식 (M-16)으로 표시되는 화합물은 하기의 것이다.
Figure pct00097
(식 중, XM161~XM164는 각각 독립적으로 불소 원자 또는 수소 원자를 나타내고, YM161은 불소 원자, 염소 원자 또는 -OCF3을 나타내고, RM161은 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 2~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기를 나타낸다.)
본 발명의 조성물의 총량에 대한 일반식 (M-16)으로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
본 발명의 조성물의 점도를 낮게 유지하고, 응답 속도가 빠른 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 소부가 발생하기 어려운 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또, 구동 전압을 낮게 유지하기 위해 유전율 이방성을 크게 하고 싶을 때는, 상기의 하한값을 높은 편으로 하고, 상한값을 높은 편으로 하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 조성물에 사용되는 일반식 (M-16)으로 표시되는 화합물은, 구체적으로는 식 (M-16.1)~식 (M-16.8)으로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 그중에서도 식 (M-16.1)~식 (M-16.4)로 표시되는 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.
Figure pct00098
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
일반식 (M-17)로 표시되는 화합물은 하기의 것이다.
Figure pct00099
(식 중, XM171~XM174는 각각 독립적으로 불소 원자 또는 수소 원자를 나타내고, YM171은 불소 원자, 염소 원자 또는 -OCF3을 나타내고, RM171은 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 2~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기를 나타내고, WM171 및 WM172는 각각 독립적으로, -CH2- 또는 -O-를 나타낸다.)
본 발명의 조성물의 총량에 대한 일반식 (M-17)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
본 발명의 조성물의 점도를 낮게 유지하고, 응답 속도가 빠른 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 소부가 발생하기 어려운 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또, 구동 전압을 낮게 유지하기 위해 유전율 이방성을 크게 하고 싶을 때는, 상기의 하한값을 높은 편으로 하고, 상한값을 높은 편으로 하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 조성물에 사용되는 일반식 (M-17)로 표시되는 화합물은, 구체적으로는 식 (M-17.1)~식 (M-17.12)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00100
Figure pct00101
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
일반식 (M-18)로 표시되는 화합물은 하기의 것이다.
Figure pct00102
(식 중, XM181~XM186은 각각 독립적으로 불소 원자 또는 수소 원자를 나타내고, YM181은 불소 원자, 염소 원자 또는 -OCF3을 나타내고, RM181은 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 2~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기를 나타낸다.)
본 발명의 조성물의 총량에 대한 일반식 (M-18)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
본 발명의 조성물의 점도를 낮게 유지하고, 응답 속도가 빠른 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 소부가 발생하기 어려운 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값을 낮은 편으로 하고, 상한값을 낮은 편으로 하는 것이 바람직하다. 또, 구동 전압을 낮게 유지하기 위해 유전율 이방성을 크게 하고 싶을 때는, 상기의 하한값을 높은 편으로 하고, 상한값을 높은 편으로 하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 조성물에 사용되는 일반식 (M-18)로 표시되는 화합물은, 구체적으로는 식 (M-18.1)~식 (M-18.12)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 그중에서도 식 (M-18.5)~식 (M-18.8)로 표시되는 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.
Figure pct00103
Figure pct00104
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 4%이고, 5%이며, 8%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 28%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 5%이다.
본 발명의 액정 조성물은, 일반식 (L)로 표시되는 화합물을 1종류 또는 2종류 이상 함유하는 것이 바람직하다. 일반식 (L)로 표시되는 화합물은 유전적으로 거의 중성인 화합물(Δε의 값이 -2~2)에 해당한다.
본 발명의 액정 조성물은, 일반식 (L)로 표시되는 화합물을 1종류 또는 2종류 이상 함유하는 것이 바람직하다. 일반식 (L)로 표시되는 화합물은 유전적으로 거의 중성인 화합물(Δε의 값이 -2~2)에 해당한다. 이 때문에, 분자 내에 갖는, 할로겐 등의 극성기의 개수를 2개 이하로 하는 편이 바람직하고, 1개 이하로 하는 편이 바람직하며, 갖지 않는 편이 바람직하다.
Figure pct00105
(식 중, RL1 및 RL2는 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타내고, 당해 알킬기 중의 1개 또는 비인접한 2개 이상의 -CH2-는 각각 독립적으로 -CH=CH-, -C≡C-, -O-, -CO-, -COO- 또는 -OCO-에 의해 치환되어 있어도 되고,
nL1은 0, 1, 2 또는 3을 나타내고,
AL1, AL2 및 AL3은 각각 독립적으로
(a) 1,4-시클로헥실렌기(이 기 중에 존재하는 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 -O-로 치환되어도 된다.)
(b) 1,4-페닐렌기(이 기 중에 존재하는 1개의 -CH= 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH=는 -N=으로 치환되어도 된다.) 및
(c) 나프탈렌-2,6-디일기, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기 또는 데카히드로나프탈렌-2,6-디일기(나프탈렌-2,6-디일기 또는 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기 중에 존재하는 1개의 -CH= 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH=는 -N=으로 치환되어도 된다.)
로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기를 나타내고, 상기의 기 (a), 기 (b) 및 기 (c)는 각각 독립적으로 시아노기, 불소 원자 또는 염소 원자로 치환되어 있어도 되고,
ZL1 및 ZL2는 각각 독립적으로 단결합, -CH2CH2-, -(CH2)4-, -OCH2-, -CH2O-, -COO-, -OCO-, -OCF2-, -CF2O-, -CH=N-N=CH-, -CH=CH-, -CF=CF- 또는 -C≡C-를 나타내고,
nL1이 2 또는 3이고 AL2가 복수 존재하는 경우는, 그들은 동일해도 되고 상이해도 되며, nL1이 2 또는 3이고 ZL2이 복수 존재하는 경우는, 그들은 동일해도 되고 상이해도 되는데, 일반식 (N-1), (N-2) 및 (N-3)으로 표시되는 화합물 및 일반식 (J)로 표시되는 화합물을 제외한다.)
일반식 (L)로 표시되는 화합물은 단독으로 이용해도 되지만, 조합하여 사용할 수도 있다. 조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 원하는 성능에 따라 적절히 조합하여 사용한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이다. 혹은 본 발명의 다른 실시형태에서는 2종류이고, 3종류이며, 4종류이고, 5종류이며, 6종류이고, 7종류이며, 8종류이고, 9종류이며, 10종류 이상이다.
본 발명의 조성물에 있어서, 일반식 (L)로 표시되는 화합물의 함유량은, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율, 프로세스 적합성, 적하흔, 소부, 유전율 이방성 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조정할 필요가 있다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (L)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 10%이며, 20%이고, 30%이며, 40%이고, 50%이며, 55%이고, 60%이며, 65%이고, 70%이며, 75%이고, 80%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 95%이고, 85%이며, 75%이고, 65%이며, 55%이고, 45%이며, 35%이고, 25%이다.
본 발명의 조성물의 점도를 낮게 유지하고, 응답 속도가 빠른 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값이 높고 상한값이 높은 것이 바람직하다. 또한, 본 발명의 조성물의 Tni를 높게 유지하고, 온도 안정성이 양호한 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값이 높고 상한값이 높은 것이 바람직하다. 또, 구동 전압을 낮게 유지하기 위해 유전율 이방성을 크게 하고 싶을 때는, 상기의 하한값이 낮고 상한값이 낮은 것이 바람직하다.
신뢰성을 중시하는 경우에는 RL1 및 RL2는 모두 알킬기인 것이 바람직하고, 화합물의 휘발성을 저감시키는 것을 중시하는 경우에는 알콕시기인 것이 바람직하고, 점성의 저하를 중시하는 경우에는 적어도 한쪽은 알케닐기인 것이 바람직하다.
분자 내에 존재하는 할로겐 원자는 0, 1, 2 또는 3개가 바람직하고, 0 또는 1이 바람직하고, 다른 액정 분자와의 상용성을 중시하는 경우에는 1이 바람직하다.
RL1 및 RL2는, 그것이 결합하는 환 구조가 페닐기(방향족)인 경우에는, 직쇄상의 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 직쇄상의 탄소 원자수 1~4의 알콕시기 및 탄소 원자수 4~5의 알케닐기가 바람직하고, 그것이 결합하는 환 구조가 시클로헥산, 피란 및 디옥산 등의 포화한 환 구조인 경우에는, 직쇄상의 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 직쇄상의 탄소 원자수 1~4의 알콕시기 및 직쇄상의 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 바람직하다. 네마틱상을 안정화시키기 위해서는 탄소 원자 및 존재하는 경우 산소 원자의 합계가 5 이하인 것이 바람직하고, 직쇄상인 것이 바람직하다.
알케닐기로서는, 식 (R1)~식 (R5) 중 어느 하나로 표시되는 기로부터 선택되는 것이 바람직하다. (각 식 중의 검은 점은 환 구조 중의 탄소 원자를 나타낸다.)
Figure pct00106
nL1은 응답 속도를 중시하는 경우에는 0이 바람직하고, 네마틱상의 상한 온도를 개선하기 위해서는 2 또는 3이 바람직하고, 이들의 밸런스를 잡기 위해서는 1이 바람직하다. 또, 조성물로서 요구되는 특성을 만족하기 위해서는 상이한 값의 화합물을 조합하는 것이 바람직하다.
AL1, AL2 및 AL3은 Δn을 크게 하는 것이 요구되는 경우에는 방향족인 것이 바람직하고, 응답 속도를 개선하기 위해서는 지방족인 것이 바람직하며, 각각 독립적으로 트랜스-1,4-시클로헥실렌기, 1,4-페닐렌기, 2-플루오로-1,4-페닐렌기, 3-플루오로-1,4-페닐렌기, 3,5-디플루오로-1,4-페닐렌기, 1,4-시클로헥세닐렌기, 1,4-비시클로[2.2.2]옥틸렌기, 피페리딘-1,4-디일기, 나프탈렌-2,6-디일기, 데카히드로나프탈렌-2,6-디일기 또는 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기를 나타내는 것이 바람직하고, 하기의 구조를 나타내는 것이 보다 바람직하며,
Figure pct00107
트랜스-1,4-시클로헥실렌기 또는 1,4-페닐렌기를 나타내는 것이 보다 바람직하다.
ZL1 및 ZL2는 응답 속도를 중시하는 경우에는 단결합인 것이 바람직하다.
일반식 (L)로 표시되는 화합물은 분자 내의 할로겐 원자수가 0개 또는 1개인 것이 바람직하다.
일반식 (L)로 표시되는 화합물은 일반식 (L-1)~(L-7)로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하다.
일반식 (L-1)로 표시되는 화합물은 하기의 화합물이다.
Figure pct00108
(식 중, RL11 및 RL12는 각각 독립적으로, 일반식 (L)에 있어서의 RL1 및 RL2와 같은 의미를 나타낸다.)
RL11 및 RL12는, 직쇄상의 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 직쇄상의 탄소 원자수 1~4의 알콕시기 및 직쇄상의 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 바람직하다.
일반식 (L-1)로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있지만, 2 이상의 화합물을 조합하여 사용할 수도 있다. 조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조합하여 사용한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이고, 2종류이며, 3종류이고, 4종류이며, 5종류 이상이다.
바람직한 함유량의 하한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 1%이고, 2%이며, 3%이고, 5%이며, 7%이고, 10%이며, 15%이고, 20%이며, 25%이고, 30%이며, 35%이고, 40%이며, 45%이고, 50%이며, 55%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 95%이고, 90%이며, 85%이고, 80%이며, 75%이고, 70%이며, 65%이고, 60%이며, 55%이고, 50%이며, 45%이고, 40%이며, 35%이고, 30%이며, 25%이다.
본 발명의 조성물의 점도를 낮게 유지하고, 응답 속도가 빠른 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값이 높고 상한값이 높은 것이 바람직하다. 또한, 본 발명의 조성물의 Tni를 높게 유지하고, 온도 안정성이 양호한 조성물이 필요한 경우는 상기의 하한값이 중용이고 상한값이 중용인 것이 바람직하다. 또, 구동 전압을 낮게 유지하기 위해 유전율 이방성을 크게 하고 싶을 때는, 상기의 하한값이 낮고 상한값이 낮은 것이 바람직하다.
일반식 (L-1)로 표시되는 화합물은 일반식 (L-1-1)로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00109
(식 중 RL12는 일반식 (L-1)에 있어서의 의미와 같은 의미를 나타낸다.)
일반식 (L-1-1)로 표시되는 화합물은, 식 (L-1-1.1)~식 (L-1-1.3)으로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (L-1-1.2) 또는 식 (L-1-1.3)으로 표시되는 화합물인 것이 바람직하며, 특히, 식 (L-1-1.3)으로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00110
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (L-1-1.3)으로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 3%이고, 5%이며, 7%이고, 10%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 20%이고, 15%이며, 13%이고, 10%이며, 8%이고, 7%이며, 6%이고, 5%이며, 3%이다.
일반식 (L-1)로 표시되는 화합물은 일반식 (L-1-2)로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00111
(식 중 RL12는 일반식 (L-1)에 있어서의 의미와 같은 의미를 나타낸다.)
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (L-1-2)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 5%이며, 10%이고, 15%이며, 17%이고, 20%이며, 23%이고, 25%이며, 27%이고, 30%이며, 35%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 60%이고, 55%이며, 50%이고, 45%이며, 42%이고, 40%이며, 38%이고, 35%이며, 33%이고, 30%이다.
또한, 일반식 (L-1-2)로 표시되는 화합물은, 식 (L-1-2.1)~식 (L-1-2.4)로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (L-1-2.2)~식 (L-1-2.4)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다. 특히, 식 (L-1-2.2)로 표시되는 화합물은 본 발명의 조성물의 응답 속도를 특히 개선하기 때문에 바람직하다. 또, 응답 속도보다 높은 Tni를 구할 때는, 식 (L-1-2.3) 또는 식 (L-1-2.4)로 표시되는 화합물을 이용하는 것이 바람직하다. 식 (L-1-2.3) 및 식 (L-1-2.4)로 표시되는 화합물의 함유량은, 저온에서의 용해도를 양호하게 하기 위해 30% 이상으로 하는 것은 바람직하지 않다.
Figure pct00112
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (L-1-2.2)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 10%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이며, 23%이고, 25%이며, 27%이고, 30%이며, 33%이고, 35%이며, 38%이고, 40%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 60%이고, 55%이며, 50%이고, 45%이며, 43%이고, 40%이며, 38%이고, 35%이며, 32%이고, 30%이며, 27%이고, 25%이며, 22%이다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (L-1-1.3)으로 표시되는 화합물 및 식 (L-1-2.2)로 표시되는 화합물의 합계의 바람직한 함유량의 하한값은, 10%이고, 15%이며, 20%이고, 25%이며, 27%이고, 30%이며, 35%이고, 40%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 60%이고, 55%이며, 50%이고, 45%이며, 43%이고, 40%이며, 38%이고, 35%이며, 32%이고, 30%이며, 27%이고, 25%이며, 22%이다.
일반식 (L-1)로 표시되는 화합물은 일반식 (L-1-3)으로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00113
(식 중 RL13 및 RL14는 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~8의 알킬기 또는 탄소 원자수 1~8의 알콕시기를 나타낸다.)
RL13 및 RL14는, 직쇄상의 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 직쇄상의 탄소 원자수 1~4의 알콕시기 및 직쇄상의 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 바람직하다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (L-1-3)으로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 5%이며, 10%이고, 13%이며, 15%이고, 17%이며, 20%이고, 23%이며, 25%이고, 30%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 60%이고, 55%이며, 50%이고, 45%이며, 40%이고, 37%이며, 35%이고, 33%이며, 30%이고, 27%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 17%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이다.
또한, 일반식 (L-1-3)으로 표시되는 화합물은, 식 (L-1-3.1)~식 (L-1-3.13)으로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (L-1-3.1), 식 (L-1-3.3) 또는 식 (L-1-3.4)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다. 특히, 식 (L-1-3.1)로 표시되는 화합물은 본 발명의 조성물의 응답 속도를 특히 개선하기 때문에 바람직하다. 또, 응답 속도보다 높은 Tni를 구할 때는, 식 (L-1-3.3), 식 (L-1-3.4), 식 (L-1-3.11) 및 식 (L-1-3.12)로 표시되는 화합물을 이용하는 것이 바람직하다. 식 (L-1-3.3), 식 (L-1-3.4), 식 (L-1-3.11) 및 식 (L-1-3.13)으로 표시되는 화합물의 합계 함유량은, 저온에서의 용해도를 양호하게 하기 위해 20% 이상으로 하는 것은 바람직하지 않다.
Figure pct00114
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (L-1-3.1)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 3%이고, 5%이며, 7%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 20%이고, 17%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 7%이고, 6%이다.
일반식 (L-1)로 표시되는 화합물은 일반식 (L-1-4) 및/또는 (L-1-5)로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00115
(식 중 RL15 및 RL16은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~8의 알킬기 또는 탄소 원자수 1~8의 알콕시기를 나타낸다.)
RL15 및 RL16은, 직쇄상의 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 직쇄상의 탄소 원자수 1~4의 알콕시기 및 직쇄상의 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 바람직하다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (L-1-4)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 5%이며, 10%이고, 13%이며, 15%이고, 17%이며, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 17%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (L-1-5)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 5%이며, 10%이고, 13%이며, 15%이고, 17%이며, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 17%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이다.
또한, 일반식 (L-1-4) 및 (L-1-5)로 표시되는 화합물은, 식 (L-1-4.1)~식 (L-1-5.3)으로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (L-1-4.2) 또는 식 (L-1-5.2)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00116
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (L-1-4.2)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 3%이고, 5%이며, 7%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 20%이고, 17%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이며, 7%이고, 6%이다.
식 (L-1-1.3), 식 (L-1-2.2), 식 (L-1-3.1), 식 (L-1-3.3), 식 (L-1-3.4), 식 (L-1-3.11) 및 식 (L-1-3.12)로 표시되는 화합물로부터 선택되는 2종 이상의 화합물을 조합하는 것이 바람직하고, 식 (L-1-1.3), 식 (L-1-2.2), 식 (L-1-3.1), 식 (L-1-3.3), 식 (L-1-3.4) 및 식 (L-1-4.2)로 표시되는 화합물로부터 선택되는 2종 이상의 화합물을 조합하는 것이 바람직하며, 이들 화합물의 합계 함유량의 바람직한 함유량의 하한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 1%이고, 2%이며, 3%이고, 5%이며, 7%이고, 10%이며, 13%이고, 15%이며, 18%이고, 20%이며, 23%이고, 25%이며, 27%이고, 30%이며, 33%이고, 35%이며, 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 80%이고, 70%이며, 60%이고, 50%이며, 45%이고, 40%이며, 37%이고, 35%이며, 33%이고, 30%이며, 28%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이다. 조성물의 신뢰성을 중시하는 경우에는, 식 (L-1-3.1), 식 (L-1-3.3) 및 식 (L-1-3.4)로 표시되는 화합물로부터 선택되는 2종 이상의 화합물을 조합하는 것이 바람직하고, 조성물의 응답 속도를 중시하는 경우에는, 식 (L-1-1.3), 식 (L-1-2.2)로 표시되는 화합물로부터 선택되는 2종 이상의 화합물을 조합하는 것이 바람직하다.
일반식 (L-1)로 표시되는 화합물은 일반식 (L-1-6)으로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00117
(식 중 RL17 및 RL18은 각각 독립적으로 메틸기 또는 수소 원자를 나타낸다.)
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (L-1-6)으로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 5%이며, 10%이고, 15%이며, 17%이고, 20%이며, 23%이고, 25%이며, 27%이고, 30%이며, 35%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 60%이고, 55%이며, 50%이고, 45%이며, 42%이고, 40%이며, 38%이고, 35%이며, 33%이고, 30%이다.
또한, 일반식 (L-1-6)으로 표시되는 화합물은, 식 (L-1-6.1)~식 (L-1-6.3)으로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00118
일반식 (L-2)로 표시되는 화합물은 하기의 화합물이다.
Figure pct00119
(식 중, RL21 및 RL22는 각각 독립적으로, 일반식 (L)에 있어서의 RL1 및 RL2와 같은 의미를 나타낸다.)
RL21은 탄소 원자수 1~5의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 바람직하고, RL22는 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 4~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기가 바람직하다.
일반식 (L-2)로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있지만, 2 이상의 화합물을 조합하여 사용할 수도 있다. 조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조합하여 사용한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이고, 2종류이며, 3종류이고, 4종류이며, 5종류 이상이다.
저온에서의 용해성을 중시하는 경우는 함유량을 높은 편으로 설정하면 효과가 높고, 반대로, 응답 속도를 중시하는 경우는 함유량을 낮은 편으로 설정하면 효과가 높다. 또한, 적하흔이나 소부 특성을 개량하는 경우는, 함유량의 범위를 중간으로 설정하는 것이 바람직하다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (L-2)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 3%이고, 5%이며, 7%이고, 10%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 20%이고, 15%이며, 13%이고, 10%이며, 8%이고, 7%이며, 6%이고, 5%이며, 3%이다.
또한, 일반식 (L-2)로 표시되는 화합물은, 식 (L-2.1)~식 (L-2.6)으로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (L-2.1), 식 (L-2.3), 식 (L-2.4) 및 식 (L-2.6)으로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00120
일반식 (L-3)으로 표시되는 화합물은 하기의 화합물이다.
Figure pct00121
(식 중, RL31 및 RL32는 각각 독립적으로, 일반식 (L)에 있어서의 RL1 및 RL2와 같은 의미를 나타낸다.)
RL31 및 RL32는 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 4~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기가 바람직하다.
일반식 (L-3)으로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있지만, 2 이상의 화합물을 조합하여 사용할 수도 있다. 조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조합하여 사용한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이고, 2종류이며, 3종류이고, 4종류이며, 5종류 이상이다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (L-3)으로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 3%이고, 5%이며, 7%이고, 10%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 본 발명의 조성물의 총량에 대해, 20%이고, 15%이며, 13%이고, 10%이며, 8%이고, 7%이며, 6%이고, 5%이며, 3%이다.
높은 복굴절율을 얻는 경우는 함유량을 높은 편으로 설정하면 효과가 높고, 반대로, 높은 Tni를 중시하는 경우는 함유량을 낮은 편으로 설정하면 효과가 높다. 또한, 적하흔이나 소부 특성을 개량하는 경우는, 함유량의 범위를 중간으로 설정하는 것이 바람직하다.
또한, 일반식 (L-3)으로 표시되는 화합물은, 식 (L-3.1)~식 (L-3.7)로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (L-3.2)~식 (L-3.5)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00122
일반식 (L-4)로 표시되는 화합물은 하기의 화합물이다.
Figure pct00123
(식 중, RL41 및 RL42는 각각 독립적으로, 일반식 (L)에 있어서의 RL1 및 RL2와 같은 의미를 나타낸다.)
RL41은 탄소 원자수 1~5의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 바람직하고, RL42는 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 4~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기가 바람직하다.)
일반식 (L-4)로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있지만, 2 이상의 화합물을 조합하여 사용할 수도 있다. 조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조합하여 사용한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이고, 2종류이며, 3종류이고, 4종류이며, 5종류 이상이다.
본 발명의 조성물에 있어서, 일반식 (L-4)로 표시되는 화합물의 함유량은, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율, 프로세스 적합성, 적하흔, 소부, 유전율 이방성 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조정할 필요가 있다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (L-4)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 3%이고, 5%이며, 7%이고, 10%이며, 14%이고, 16%이며, 20%이고, 23%이며, 26%이고, 30%이며, 35%이고, 40%이다. 본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (L-4)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 상한값은, 50%이고, 40%이며, 35%이고, 30%이며, 20%이고, 15%이며, 10%이고, 5%이다.
일반식 (L-4)로 표시되는 화합물은, 예를 들어 식 (L-4.1)~식 (L-4.3)으로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00124
저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 요구되는 성능에 따라, 식 (L-4.1)로 표시되는 화합물을 함유하고 있어도 되고, 식 (L-4.2)로 표시되는 화합물을 함유하고 있어도 되고, 식 (L-4.1)로 표시되는 화합물과 식 (L-4.2)로 표시되는 화합물 양쪽을 함유하고 있어도 되고, 식 (L-4.1)~식 (L-4.3)으로 표시되는 화합물을 전부 포함하고 있어도 된다. 본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (L-4.1) 또는 식 (L-4.2)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 3%이고, 5%이며, 7%이고, 9%이며, 11%이고, 12%이며, 13%이고, 18%이며, 21%이고, 바람직한 상한값은, 45%이고, 40%이며, 35%이고, 30%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이다.
식 (L-4.1)로 표시되는 화합물과 식 (L-4.2)로 표시되는 화합물 양쪽을 함유하는 경우는, 본 발명의 조성물의 총량에 대한 두 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 15%이고, 19%이며, 24%이고, 30%이며, 바람직한 상한값은, 45%이고, 40%이며, 35%이고, 30%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이다.
일반식 (L-4)로 표시되는 화합물은, 예를 들어 식 (L-4.4)~식 (L-4.6)으로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (L-4.4)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00125
저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 요구되는 성능에 따라, 식 (L-4.4)로 표시되는 화합물을 함유하고 있어도 되고, 식 (L-4.5)로 표시되는 화합물을 함유하고 있어도 되고, 식 (L-4.4)로 표시되는 화합물과 식 (L-4.5)로 표시되는 화합물 양쪽을 함유하고 있어도 된다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (L-4.4) 또는 식 (L-4.5)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 3%이고, 5%이며, 7%이고, 9%이며, 11%이고, 12%이며, 13%이고, 18%이며, 21%이다. 바람직한 상한값은, 45%이고, 40%이며, 35%이고, 30%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이며, 10%이고, 8%이다.
식 (L-4.4)로 표시되는 화합물과 식 (L-4.5)로 표시되는 화합물 양쪽을 함유하는 경우는, 본 발명의 조성물의 총량에 대한 두 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 15%이고, 19%이며, 24%이고, 30%이며, 바람직한 상한값은, 45%이고, 40%이며, 35%이고, 30%이며, 25%이고, 23%이며, 20%이고, 18%이며, 15%이고, 13%이다.
일반식 (L-4)로 표시되는 화합물은, 식 (L-4.7)~식 (L-4.10)으로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 특히, 식 (L-4.9)로 표시되는 화합물이 바람직하다.
Figure pct00126
일반식 (L-5)로 표시되는 화합물은 하기의 화합물이다.
Figure pct00127
(식 중, RL51 및 RL52는 각각 독립적으로, 일반식 (L)에 있어서의 RL1 및 RL2와 같은 의미를 나타낸다.)
RL51은 탄소 원자수 1~5의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 바람직하고, RL52는 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 4~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기가 바람직하다.
일반식 (L-5)로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있지만, 2 이상의 화합물을 조합하여 사용할 수도 있다. 조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조합하여 사용한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이고, 2종류이며, 3종류이고, 4종류이며, 5종류 이상이다.
본 발명의 조성물에 있어서, 일반식 (L-5)로 표시되는 화합물의 함유량은, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율, 프로세스 적합성, 적하흔, 소부, 유전율 이방성 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조정할 필요가 있다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (L-5)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 3%이고, 5%이며, 7%이고, 10%이며, 14%이고, 16%이며, 20%이고, 23%이며, 26%이고, 30%이며, 35%이고, 40%이다. 본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (L-5)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 상한값은, 50%이고, 40%이며, 35%이고, 30%이며, 20%이고, 15%이며, 10%이고, 5%이다.
일반식 (L-5)로 표시되는 화합물은, 식 (L-5.1) 또는 식 (L-5.2)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 특히, 식 (L-5.1)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 3%이고, 5%이며, 7%이다. 이들 화합물의 바람직한 함유량의 상한값은, 20%이고, 15%이며, 13%이고, 10%이며, 9%이다.
Figure pct00128
일반식 (L-5)로 표시되는 화합물은, 식 (L-5.3) 또는 식 (L-5.4)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 3%이고, 5%이며, 7%이다. 이들 화합물의 바람직한 함유량의 상한값은, 20%이고, 15%이며, 13%이고, 10%이며, 9%이다.
Figure pct00129
일반식 (L-5)로 표시되는 화합물은, 식 (L-5.5)~식 (L-5.7)로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 화합물인 것이 바람직하고, 특히 식 (L-5.7)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 3%이고, 5%이며, 7%이다. 이들 화합물의 바람직한 함유량의 상한값은, 20%이고, 15%이며, 13%이고, 10%이며, 9%이다.
Figure pct00130
일반식 (L-6)으로 표시되는 화합물은 하기의 화합물이다.
Figure pct00131
(식 중, RL61 및 RL62는 각각 독립적으로, 일반식 (L)에 있어서의 RL1 및 RL2와 같은 의미를 나타내고, XL61 및 XL62는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 불소 원자를 나타낸다.)
RL61 및 RL62는 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~5의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~5의 알케닐기가 바람직하고, XL61 및 XL62 중 한쪽이 불소 원자 다른쪽이 수소 원자인 것이 바람직하다.
일반식 (L-6)으로 표시되는 화합물은 단독으로 사용할 수도 있지만, 2 이상의 화합물을 조합하여 사용할 수도 있다. 조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조합하여 사용한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이고, 2종류이며, 3종류이고, 4종류이며, 5종류 이상이다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (L-6)으로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 3%이고, 5%이며, 7%이고, 10%이며, 14%이고, 16%이며, 20%이고, 23%이며, 26%이고, 30%이며, 35%이고, 40%이다. 본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (L-6)으로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 상한값은, 50%이고, 40%이며, 35%이고, 30%이며, 20%이고, 15%이며, 10%이고, 5%이다. Δn을 크게 하는 것에 중점을 두는 경우에는 함유량을 많게 하는 편이 바람직하고, 저온에서의 석출에 중점을 둔 경우에는 함유량은 적은 편이 바람직하다.
일반식 (L-6)으로 표시되는 화합물은, 식 (L-6.1)~식 (L-6.9)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00132
조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 이들 화합물 중에서 1종~3종류 함유하는 것이 바람직하고, 1종~4종류 함유하는 것이 더 바람직하다. 또, 선택하는 화합물의 분자량 분포가 넓은 것도 용해성에 유효하기 때문에, 예를 들어, 식 (L-6.1) 또는 (L-6.2)로 표시되는 화합물에서 1종류, 식 (L-6.4) 또는 (L-6.5)로 표시되는 화합물에서 1종류, 식 (L-6.6) 또는 식 (L-6.7)로 표시되는 화합물에서 1종류, 식 (L-6.8) 또는 (L-6.9)로 표시되는 화합물에서 1종류의 화합물을 선택하고, 이들을 적절히 조합하는 것이 바람직하다. 그중에서도, 식 (L-6.1), 식 (L-6.3), 식 (L-6.4), 식 (L-6.6) 및 식 (L-6.9)로 표시되는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 일반식 (L-6)으로 표시되는 화합물은, 예를 들어 식 (L-6.10)~식 (L-6.17)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 그중에서도, 식 (L-6.11)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00133
본 발명의 조성물의 총량에 대한 이들 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 3%이고, 5%이며, 7%이다. 이들 화합물의 바람직한 함유량의 상한값은, 20%이고, 15%이며, 13%이고, 10%이며, 9%이다.
일반식 (L-7)로 표시되는 화합물은 하기의 화합물이다.
Figure pct00134
(식 중, RL71 및 RL72는 각각 독립적으로 일반식 (L)에 있어서의 RL1 및 RL2와 같은 의미를 나타내고, AL71 및 AL72는 각각 독립적으로 일반식 (L)에 있어서의 AL2 및 AL3과 같은 의미를 나타내는데, AL71 및 AL72 상의 수소 원자는 각각 독립적으로 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되고, ZL71은 일반식 (L)에 있어서의 ZL2와 같은 의미를 나타내고, XL71 및 XL72는 각각 독립적으로 불소 원자 또는 수소 원자를 나타낸다.)
식 중, RL71 및 RL72는 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 2~5의 알케닐기 또는 탄소 원자수 1~4의 알콕시기가 바람직하고, AL71 및 AL72는 각각 독립적으로 1,4-시클로헥실렌기 또는 1,4-페닐렌기가 바람직하며, AL71 및 AL72 상의 수소 원자는 각각 독립적으로 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되고, ZL71은 단결합 또는 COO-가 바람직하고, 단결합이 바람직하며, XL71 및 XL72는 수소 원자가 바람직하다.
조합할 수 있는 화합물의 종류에 특별히 제한은 없지만, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율 등의 요구되는 성능에 따라 조합한다. 사용하는 화합물의 종류는, 예를 들어 본 발명의 하나의 실시형태로서는 1종류이고, 2종류이며, 3종류이고, 4종류이다.
본 발명의 조성물에 있어서, 일반식 (L-7)로 표시되는 화합물의 함유량은, 저온에서의 용해성, 전이 온도, 전기적인 신뢰성, 복굴절율, 프로세스 적합성, 적하흔, 소부, 유전율 이방성 등의 요구되는 성능에 따라 적절히 조정할 필요가 있다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (L-7)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 하한값은, 1%이고, 2%이며, 3%이고, 5%이며, 7%이고, 10%이며, 14%이고, 16%이며, 20%이다. 본 발명의 조성물의 총량에 대한 식 (L-7)로 표시되는 화합물의 바람직한 함유량의 상한값은, 30%이고, 25%이며, 23%이고, 20%이며, 18%이고, 15%이며, 10%이고, 5%이다.
본 발명의 조성물은 높은 Tni의 실시형태가 요망되는 경우는 식 (L-7)로 표시되는 화합물의 함유량을 많은 편으로 하는 것이 바람직하고, 저점도의 실시형태가 요망되는 경우는 함유량을 적은 편으로 하는 것이 바람직하다.
또한, 일반식 (L-7)로 표시되는 화합물은, 식 (L-7.1)~식 (L-7.4)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (L-7.2)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00135
또한, 일반식 (L-7)로 표시되는 화합물은, 식 (L-7.11)~식 (L-7.13)으로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (L-7.11)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00136
또한, 일반식 (L-7)로 표시되는 화합물은, 식 (L-7.21)~식 (L-7.23)으로 표시되는 화합물이다. 식 (L-7.21)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00137
또한, 일반식 (L-7)로 표시되는 화합물은, 식 (L-7.31)~식 (L-7.34)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (L-7.31) 또는/및 식 (L-7.32)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00138
또한, 일반식 (L-7)로 표시되는 화합물은, 식 (L-7.41)~식 (L-7.44)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 식 (L-7.41) 또는/및 식 (L-7.42)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00139
또한, 일반식 (L-7)로 표시되는 화합물은, 식 (L-7.51)~식 (L-7.53)으로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00140
본 발명의 조성물의 총량에 대한 일반식 (L), (N-1), (N-2), (N-3) 및 (J)로 표시되는 화합물의 합계의 바람직한 함유량의 하한값은, 80%이고, 85%이며, 88%이고, 90%이며, 92%이고, 93%이며, 94%이고, 95%이며, 96%이고, 97%이며, 98%이고, 99%이며, 100%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 100%이고, 99%이며, 98%이고, 95%이다. 단, Δε의 절대값이 큰 조성물을 얻는 관점에서는, 일반식 (N-1), (N-2), (N-3) 또는 (J)로 표시되는 화합물 중 어느 한쪽은 5% 이하인 것이 바람직하고, 3% 이하인 것이 바람직하며, 0%인 것이 바람직하다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 일반식 (L-1)~(L-8), 일반식 (M-1)~(M-18)로 표시되는 화합물의 합계의 바람직한 함유량의 하한값은, 80%이고, 85%이며, 88%이고, 90%이며, 92%이고, 93%이며, 94%이고, 95%이며, 96%이고, 97%이며, 98%이고, 99%이며, 100%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 100%이고, 99%이며, 98%이고, 95%이다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 일반식 (L-1)~(L-8), 일반식 (N-1a)~(N-1g)로 표시되는 화합물의 합계의 바람직한 함유량의 하한값은, 80%이고, 85%이며, 88%이고, 90%이며, 92%이고, 93%이며, 94%이고, 95%이며, 96%이고, 97%이며, 98%이고, 99%이며, 100%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 100%이고, 99%이며, 98%이고, 95%이다.
본 발명의 조성물의 총량에 대한 일반식 (L-1)~(L-8), 일반식 (N-1-1)~(N-1-21)로 표시되는 화합물의 합계의 바람직한 함유량의 하한값은, 80%이고, 85%이며, 88%이고, 90%이며, 92%이고, 93%이며, 94%이고, 95%이며, 96%이고, 97%이며, 98%이고, 99%이며, 100%이다. 바람직한 함유량의 상한값은, 100%이고, 99%이며, 98%이고, 95%이다.
자외선 조사 후의 중합성 화합물의 함유량을 저감하기 위해서는, 일반식 (N-1-5) 및 (L-6)으로 표시되는 화합물의 함유량을 많게 하는 것이 바람직하고, 바람직한 함유량의 하한값은, 10%이고, 13%이며, 15%이다. 마찬가지로 일반식 (M-4), (M-7), (M-8.51)~(M-8.54) 및 (L-6)으로 표시되는 화합물의 함유량을 많게 하는 것이 바람직하고, 바람직한 함유량의 하한값은, 15%이고, 20%이며, 25%이다.
본원 발명의 조성물은, 분자 내에 과산(-CO-OO-) 구조 등의 산소 원자끼리 결합한 구조를 갖는 화합물을 함유하지 않는 것이 바람직하다.
조성물의 신뢰성 및 장기 안정성을 중시하는 경우에는 카르보닐기를 갖는 화합물의 함유량을 상기 조성물의 총질량에 대해 5% 이하로 하는 것이 바람직하고, 3% 이하로 하는 것이 보다 바람직하며, 1% 이하로 하는 것이 더 바람직하고, 실질적으로 함유하지 않는 것이 가장 바람직하다.
UV 조사에 의한 안정성을 중시하는 경우, 염소 원자가 치환하고 있는 화합물의 함유량을 상기 조성물의 총질량에 대해 15% 이하로 하는 것이 바람직하고, 10% 이하로 하는 것이 바람직하며, 8% 이하로 하는 것이 바람직하고, 5% 이하로 하는 것이 보다 바람직하며, 3% 이하로 하는 것이 바람직하고, 실질적으로 함유하지 않는 것이 더 바람직하다.
분자 내의 환 구조가 전부 6원환인 화합물의 함유량을 많게 하는 것이 바람직하고, 분자 내의 환 구조가 전부 6원환인 화합물의 함유량을 상기 조성물의 총질량에 대해 80% 이상으로 하는 것이 바람직하며, 90% 이상으로 하는 것이 보다 바람직하고, 95% 이상으로 하는 것이 더 바람직하며, 실질적으로 분자 내의 환 구조가 전부 6원환인 화합물만으로 조성물을 구성하는 것이 가장 바람직하다.
조성물의 산화에 의한 열화를 억제하기 위해서는, 환 구조로서 시클로헥세닐렌기를 갖는 화합물의 함유량을 적게 하는 것이 바람직하고, 시클로헥세닐렌기를 갖는 화합물의 함유량을 상기 조성물의 총질량에 대해 10% 이하로 하는 것이 바람직하며, 8% 이하로 하는 것이 바람직하고, 5% 이하로 하는 것이 보다 바람직하며, 3% 이하로 하는 것이 바람직하고, 실질적으로 함유하지 않는 것이 더 바람직하다.
점도의 개선 및 TNI의 개선을 중시하는 경우에는, 수소 원자가 할로겐으로 치환되어 있어도 되는 2-메틸벤젠-1,4-디일기를 분자 내에 갖는 화합물의 함유량을 적게 하는 것이 바람직하고, 상기 2-메틸벤젠-1,4-디일기를 분자 내에 갖는 화합물의 함유량을 상기 조성물의 총질량에 대해 10% 이하로 하는 것이 바람직하며, 8% 이하로 하는 것이 바람직하고, 5% 이하로 하는 것이 보다 바람직하며, 3% 이하로 하는 것이 바람직하고, 실질적으로 함유하지 않는 것이 더 바람직하다.
본원에 있어서 실질적으로 함유하지 않는다는 것은, 의도치않게 함유하는 것을 제외하고 함유하지 않는다는 의미이다.
본 발명의 제1 실시형태의 조성물에 함유되는 화합물이, 측쇄로서 알케닐기를 갖는 경우, 상기 알케닐기가 시클로헥산에 결합하고 있는 경우에는 당해 알케닐기의 탄소 원자수는 2~5인 것이 바람직하고, 상기 알케닐기가 벤젠에 결합하고 있는 경우에는 당해 알케닐기의 탄소 원자수는 4~5인 것이 바람직하며, 상기 알케닐기의 불포화 결합과 벤젠은 직접 결합하고 있지 않는 것이 바람직하다.
본 발명에 사용되는 액정 조성물의 평균 탄성 상수(KAVG)는 10~25가 바람직한데, 그 하한값으로서는, 10이 바람직하고, 10.5가 바람직하며, 11이 바람직하고, 11.5가 바람직하며, 12가 바람직하고, 12.3이 바람직하며, 12.5가 바람직하고, 12.8이 바람직하며, 13이 바람직하고, 13.3이 바람직하며, 13.5가 바람직하고, 13.8이 바람직하며, 14가 바람직하고, 14.3이 바람직하며, 14.5가 바람직하고, 14.8이 바람직하며, 15가 바람직하고, 15.3이 바람직하며, 15.5가 바람직하고, 15.8이 바람직하며, 16이 바람직하고, 16.3이 바람직하며 16.5가 바람직하고, 16.8이 바람직하며, 17이 바람직하고, 17.3이 바람직하며, 17.5가 바람직하고, 17.8이 바람직하며, 18이 바람직하고, 그 상한값으로서는, 25가 바람직하고, 24.5가 바람직하며, 24가 바람직하고, 23.5가 바람직하며, 23이 바람직하고, 22.8이 바람직하며, 22.5가 바람직하고, 22.3이 바람직하며, 22가 바람직하고, 21.8이 바람직하며, 21.5가 바람직하고, 21.3이 바람직하며, 21이 바람직하고, 20.8이 바람직하며, 20.5가 바람직하고, 20.3이 바람직하며, 20이 바람직하고, 19.8이 바람직하며, 19.5가 바람직하고, 19.3이 바람직하며, 19가 바람직하고, 18.8이 바람직하며, 18.5가 바람직하고, 18.3이 바람직하며, 18이 바람직하고, 17.8이 바람직하며, 17.5가 바람직하고, 17.3이 바람직하며, 17이 바람직하다. 소비 전력 삭감을 중시하는 경우에는 백 라이트의 광량을 억제하는 것이 유효하고, 액정 표시 소자는 광의 투과율을 향상시키는 것이 바람직하고, 그러기 위해서는 KAVG의 값을 낮은 편으로 설정하는 것이 바람직하다. 응답 속도의 개선을 중시하는 경우에는 KAVG의 값을 높은 편으로 설정하는 것이 바람직하다.
본원의 중합성 액정 조성물은, 일반식 (i)로 표시되는 중합성 화합물을 함유하는데, 추가로 일반식 (P)
Figure pct00141
(상기 일반식 (P) 중, Rp1은, 수소 원자, 불소 원자, 시아노기, 수소 원자, 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소 원자수 1~15의 알킬기, 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소 원자수 1~15의 알콕시기, 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소 원자수 1~15의 알케닐기, 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소 원자수 1~15의 알케닐옥시기 또는 -Spp2-Pp2를 나타내고,
Pp1 및 Pp2는 각각 독립적으로, 일반식 (Pp1-1)~식 (Pp1-9)
Figure pct00142
(식 중, Rp11 및 Rp12는 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소 원자수 1~5의 알킬기 또는 탄소 원자수 1~5의 할로겐화알킬기를 나타내고, Wp11은 단결합, -O-, -COO- 또는 메틸렌기를 나타내고, tp11은, 0, 1 또는 2를 나타내는데, 분자 내에 Rp11, Rp12, Wp11 및/또는 tp11이 복수 존재하는 경우, 그들은 동일해도 되고 상이해도 된다.)
중 어느 하나를 나타내고,
Spp1 및 Spp2는 각각 독립적으로, 스페이서기를 나타내고,
Zp1 및 Zp2는 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -S-, -CH2-, -OCH2-, -CH2O-, -CO-, -C2H4-, -COO-, -OCO-, -OCOOCH2-, -CH2OCOO-, -OCH2CH2O-, -CO-NRZP1-, -NRZP1-CO-, -SCH2-, -CH2S-, -CH=CRZP1-COO-, -CH=CRZP1-OCO-, -COO-CRZP1=CH-, -OCO-CRZP1=CH-, -COO-CRZP1=CH-COO-, -COO-CRZP1=CH-OCO-, -OCO-CRZP1=CH-COO-, -OCO-CRZP1=CH-OCO-, -(CH2)z-COO-, -(CH2)2-OCO-, -OCO-(CH2)2-, -(C=O)-O-(CH2)2-, -CH=CH-, -CF=CF-, -CF=CH-, -CH=CF-, -CF2-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2CH2-, -CH2CF2-, -CF2CF2- 또는 -C≡C-(식 중, RZP1은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~4의 알킬기를 나타내는데, 분자 내에 RZP1이 복수 존재하는 경우, 그들은 동일해도 되고 상이해도 된다.)
를 나타내고,
Ap2는, 1,4-페닐렌기, 1,4-시클로헥실렌기, 안트라센-2,6-디일기, 페난트렌-2,7-디일기, 피리딘-2,5-디일기, 피리미딘-2,5-디일기, 나프탈렌-2,6-디일기, 인단-2,5-디일기, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기 또는 1,3-디옥산-2,5-디일기를 나타내는데, Ap2는 무치환이거나 또는 탄소 원자수 1~12의 알킬기, 탄소 원자수 1~12의 할로겐화알킬기, 탄소 원자수 1~12의 알콕시기, 탄소 원자수 1~12의 할로겐화알콕시기, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기 또는 -Spp2-Pp2로 치환되어 있어도 되고,
Ap1은 식 (Ap1-11)~(Ap1-19)
Figure pct00143
(식 중, ★에서 Spp1 또는 mp1이 2 또는 3인 경우 Spp1 혹은 Zp1과 결합하고, ★★에서 Zp1과 결합하고, 구조 중의 1 또는 2 이상의 수소 원자는 탄소 원자수 1~12의 알킬기, 탄소 원자수 1~12의 할로겐화알킬기, 탄소 원자수 1~12의 알콕시기, 탄소 원자수 1~12의 할로겐화알콕시기, 할로겐 원자, 시아노기 또는 니트로기에 의해 치환되어 있어도 된다.)로 표시되는 기를 나타내고,
Ap3은 식 (Ap3-11)~(Ap3-19)
Figure pct00144
(식 중, ★에서 Zp2와 결합하고, ★★에서 Rp1 또는 mp3이 2 또는 3인 경우 Rp1 혹은 Zp2와 결합하고, 구조 중의 1 또는 2 이상의 수소 원자는 탄소 원자수 1~12의 알킬기, 탄소 원자수 1~12의 할로겐화알킬기, 탄소 원자수 1~12의 알콕시기, 탄소 원자수 1~12의 할로겐화알콕시기, 할로겐 원자, 시아노기 또는 니트로기에 의해 치환되어 있어도 된다.)로 표시되는 기를 나타내고,
mp2 및 mp3은 각각 독립적으로, 0, 1, 2 또는 3을 나타내고, mp1 및 mp4는 각각 독립적으로 1, 2 또는 3을 나타내는데, 분자 내에 Pp1, Spp1, Ap1, Zp1, Zp2, Ap3 및/또는 Rp1이 복수 존재하는 경우, 그들은 동일해도 되고 상이해도 되는데, 일반식 (i)로 표시되는 중합성 화합물을 제외한다.)로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 중합성 화합물을 1종 또는 2종 이상 함유하고 있어도 된다.
본 발명에 따른 일반식 (P)에 있어서, Rp1은 -Spp2-Pp2인 것이 바람직하다.
Pp1 및 Pp2는 각각 독립적으로 식 (Pp1-1)~식 (Pp1-3) 중 어느 하나인 것이 바람직하고, (Pp1-1)인 것이 바람직하다.
Rp11 및 Rp12는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기인 것이 바람직하다.
mp1+mp4는 2 이상인 것이 바람직하고, 2 또는 3이 바람직하다.
Zp1 및 Zp2는 각각 독립적으로, 단결합, -OCH2-, -CH2O-, -CO-, -C2H4-, -COO-, -OCO-, -COOC2H4-, -OCOC2H4-, -C2H4OCO-, -C2H4COO-, -CH=CH-, -CF2-, -CF2O-, -(CH2)2-COO-, -(CH2)2-OCO-, -OCO-(CH2)2-, -CH=CH-COO-, -COO-CH=CH-, -OCOCH=CH-, -COO-(CH2)2-, -OCF2- 또는 -C≡C-가 바람직하고, 단결합, -OCH2-, -CH2O-, -C2H4-, -COO-, -OCO-, -COOC2H4-, -OCOC2H4-, -C2H4OCO-, -C2H4COO-, -CH=CH-, -(CH2)2-COO-, -(CH2)2-OCO-, -OCO-(CH2)2-, -CH=CH-COO-, -COO-CH=CH-, -OCOCH=CH-, -COO-(CH2)2- 또는 -C≡C-가 바람직하며, 분자 내에 존재하는 1개만이 -OCH2-, -CH2O-, -C2H4-, -COO-, -OCO-, -COOC2H4-, -OCOC2H4-, -C2H4OCO-, -C2H4COO-, -CH=CH-, -(CH2)2-COO-, -(CH2)2-OCO-, -OCO-(CH2)2-, -CH=CH-COO-, -COO-CH=CH-, -OCOCH=CH-, -COO-(CH2)2- 또는 -C≡C-이고, 그 외가 전부 단결합인 것이 바람직하고, 분자 내에 존재하는 1개만이, -OCH2-, -CH2O-, -C2H4-, -COO- 또는 -OCO-이고, 그 외가 전부 단결합인 것이 바람직하며, 전부 단결합인 것이 바람직하다.
또, 분자 내에 존재하는 Zp1 및 Zp2 중 1개만이, -CH=CH-COO-, -COO-CH=CH-, -(CH2)2-COO-, -(CH2)2-OCO-, -O-CO-(CH2)2-, -COO-(CH2)2-로 이루어지는 군으로부터 선택되는 연결기이며, 그 외는 단결합인 것이 바람직하다.
Spp1 및 Spp2는 각각 독립적으로, 단결합 또는 탄소 원자수 1~30의 알킬렌기를 나타내고, 당해 알킬렌기 중의 -CH2-는 산소 원자끼리가 직접 연결되지 않는 한에 있어서 -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CH=CH- 또는 -C≡C-로 치환되어 있어도 되고, 당해 알킬렌기 중의 수소 원자는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는데, 직쇄의 탄소 원자수 1~10의 알킬렌기 또는 단결합이 바람직하다.
Ap2는, 1,4-페닐렌기, 1,4-시클로헥실렌기, 안트라센-2,6-디일기, 페난트렌-2,7-디일기 또는 나프탈렌-2,6-디일기가 바람직하고, 1,4-페닐렌기, 1,4-시클로헥실렌기, 페난트렌-2,7-디일기 또는 나프탈렌-2,6-디일기가 바람직하며, mp2+mp3이 0일 때에는 페난트렌-2,7-디일기가 바람직하고, mp2+mp3이 1, 2 또는 3일 때에는 1,4-페닐렌기 또는 1,4-시클로헥실렌기가 바람직하다. Ap2는, 액정 화합물과의 상용성을 개선하기 위해, 그 구조 중의 1 또는 2 이상의 수소 원자가 메틸기, 에틸기, 메톡시기, 에톡시기 또는 불소 원자로 치환되어 있어도 된다.
Ap1은 식 (Ap1-15), (Ap1-16), (Ap1-17) 또는 (Ap1-18)이 바람직하다. Ap1은, 액정 화합물과의 상용성을 개선하기 위해, 그 구조 중의 1 또는 2 이상의 수소 원자가 메틸기, 에틸기, 메톡시기, 에톡시기 또는 불소 원자로 치환되어 있어도 된다.
Ap3은 식 (Ap1-14), (Ap1-15), (Ap1-16), (Ap1-17) 또는 (Ap1-18)이 바람직하다. Ap3은, 액정 화합물과의 상용성을 개선하기 위해, 그 구조 중의 1 또는 2 이상의 수소 원자가 메틸기, 에틸기, 메톡시기, 에톡시기 또는 불소 원자로 치환되어 있어도 된다.
mp2+mp3은 0, 1, 2 또는 3이 바람직하고, 1 또는 2가 바람직하다.
일반식 (P)로 표시되는 화합물의 합계 함유량은, 본원의 일반식 (P)로 표시되는 화합물을 포함하는 조성물에 대해, 0.05~10% 포함하고 있는 것이 바람직하고, 0.1~8% 포함하고 있는 것이 바람직하며, 0.1~5% 포함하고 있는 것이 바람직하고, 0.1~3% 포함하고 있는 것이 바람직하며, 0.2~2% 포함하고 있는 것이 바람직하고, 0.2~1.3% 포함하고 있는 것이 바람직하며, 0.2~1% 포함하고 있는 것이 바람직하고, 0.2~0.56% 포함하고 있는 것이 바람직하다.
일반식 (P)로 표시되는 화합물의 합계 함유량의 바람직한 하한값은, 본원의 일반식 (P)로 표시되는 화합물을 포함하는 조성물에 대해, 0.01%이고, 0.03%이며, 0.05%이고, 0.08%이며, 0.1%이고, 0.15%이며, 0.2%이고, 0.25%이며, 0.3%이다.
일반식 (P)로 표시되는 화합물의 합계 함유량의 바람직한 상한값은, 본원의 일반식 (P)로 표시되는 화합물을 포함하는 조성물에 대해, 10%이고, 8%이며, 5%이고, 3%이며, 1.5%이고, 1.2%이며, 1%이고, 0.8%이며, 0.5%이다.
함유량이 적으면 일반식 (P)로 표시되는 화합물을 첨가하는 효과가 나타나기 어렵고, 액정 조성물의 배향 규제력이 약하거나 또는 경시적으로 약해져 버리는 등의 문제가 발생하고, 너무 많으면 경화 후에 잔존하는 양이 많아지거나, 경화에 시간이 걸리거나, 액정의 신뢰성이 저하하는 등의 문제가 발생한다. 이 때문에, 이들의 밸런스를 고려하여 함유량을 설정한다.
일반식 (P)로 표시되는 화합물은, 일반식 (P-1), 일반식 (P-2) 및 일반식 (P-3)으로 표시되는 화합물이 바람직하다.
Figure pct00145
(식 중, Pp11, Pp12, Pp21, Pp22, Pp31 및 Pp32는 각각 독립적으로, 일반식 (P)에 있어서의 Pp1과 같은 의미를 나타내고,
Spp11, Spp12, Spp21, Spp22, Spp31 및 Spp32는 각각 독립적으로, 일반식 (P)에 있어서의 Spp1과 같은 의미를 나타내고,
Ap11, Ap12, Ap13, Ap21, Ap22, Ap23 및 Ap32는 각각 독립적으로, 1,4-페닐렌기, 1,4-시클로헥실렌기, 안트라센-2,6-디일기, 페난트렌-2,7-디일기, 피리딘-2,5-디일기, 피리미딘-2,5-디일기, 나프탈렌-2,6-디일기, 인단-2,5-디일기, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기 또는 1,3-디옥산-2,5-디일기를 나타내는데, Ap11, Ap12, Ap13, Ap21, Ap22, Ap23 및 Ap32는 각각 독립적으로, 무치환이거나 또는 탄소 원자수 1~12의 알킬기, 탄소 원자수 1~12의 할로겐화알킬기, 탄소 원자수 1~12의 알콕시기, 탄소 원자수 1~12의 할로겐화알콕시기, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기 또는 일반식 (P)에 있어서의 -Spp2-Pp2로 치환되어 있어도 되고,
Zp21은, 단결합, -O-, -S-, -CH2-, -OCH2-, -CH2O-, -CO-, -C2H4-, -COO-, -OCO-, -OCOOCH2-, -CH2OCOO-, -OCH2CH2O-, -CO-NRZP1-, -NRZP1-CO-, -SCH2-, -CH2S-, -CH=CRZP1-COO-, -CH=CRZP1-OCO-, -COO-CRZP1=CH-, -OCO-CRZP1=CH-, -COO-CRZP1=CH-COO-, -COO-CRZP1=CH-OCO-, -OCO-CRZP1=CH-COO-, -OCO-CRZP1=CH-OCO-, -(CH2)z-COO-, -(CH2)2-OCO-, -OCO-(CH2)2-, -(C=O)-O-(CH2)2-, -CH=CH-, -CF=CF-, -CF=CH-, -CH=CF-, -CF2-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2CH2-, -CH2CF2-, -CF2CF2- 또는 -C≡C-(식 중, RZP1은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~4의 알킬기를 나타내는데, 분자 내에 RZP1이 복수 존재하는 경우, 그들은 동일해도 되고 상이해도 된다.)
를 나타낸다.)
Pp11, Pp12, Pp21, Pp22, Pp31 및 Pp32는, 각각 독립적으로 일반식 (P)에 있어서의 Pp1과 마찬가지로 식 (Pp1-1)~식 (Pp1-3) 중 어느 하나인 것이 바람직하고, (Pp1-1)인 것이 바람직하며, Rp11 및 Rp12는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기인 것이 바람직하다.
Spp11, Spp12, Spp21, Spp22, Spp31 및 Spp32는 각각 독립적으로, 단결합 또는 탄소 원자수 1~30의 알킬렌기를 나타내고, 당해 알킬렌기 중의 -CH2-는 산소 원자끼리가 직접 연결되지 않는 한에 있어서 -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CH=CH- 또는 -C≡C-로 치환되어 있어도 되고, 당해 알킬렌기 중의 수소 원자는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는데, 직쇄의 탄소 원자수 1~10의 알킬렌기 또는 단결합이 바람직하다.
Ap11, Ap12, Ap13, Ap21, Ap22, Ap23 및 Ap32는 각각 독립적으로, 1,4-페닐렌기, 1,4-시클로헥실렌기, 안트라센-2,6-디일기, 페난트렌-2,7-디일기 또는 나프탈렌-2,6-디일기가 바람직하고, 1,4-페닐렌기, 1,4-시클로헥실렌기, 페난트렌-2,7-디일기 또는 나프탈렌-2,6-디일기가 바람직하다. 일반식 (P-1) 및 (P-2)에 있어서는 각각 독립적으로 1,4-페닐렌기 또는 1,4-시클로헥실렌기가 바람직하고, 액정 화합물과의 상용성을 개선하기 위해, 그 구조 중의 1 또는 2 이상의 수소 원자가 메틸기, 에틸기, 메톡시기, 에톡시기 또는 불소 원자로 치환되어 있어도 된다. 일반식 (P-3)에 있어서는 페난트렌-2,7-디일기가 바람직하고, 액정 화합물과의 상용성을 개선하기 위해, 그 구조 중의 1 또는 2 이상의 수소 원자가 메틸기, 에틸기, 메톡시기, 에톡시기 또는 불소 원자로 치환되어 있어도 된다.
Zp21은, 단결합, -OCH2-, -CH2O-, -CO-, -C2H4-, -COO-, -OCO-, -COOC2H4-, -OCOC2H4-, -C2H4OCO-, -C2H4COO-, -CH=CH-, -CF2-, -CF2O-, -(CH2)2-COO-, -(CH2)2-OCO-, -OCO-(CH2)2-, -CH=CH-COO-, -COO-CH=CH-, -OCOCH=CH-, -COO-(CH2)2-, -OCF2- 또는 -C≡C-가 바람직하고, 단결합, -OCH2-, -CH2O-, -C2H4-, -COO-, -OCO-, -COOC2H4-, -OCOC2H4-, -C2H4OCO-, -C2H4COO-, -CH=CH-, -(CH2)2-COO-, -(CH2)2-OCO-, -OCO-(CH2)2-, -CH=CH-COO-, -COO-CH=CH-, -OCOCH=CH-, -COO-(CH2)2- 또는 -C≡C-가 바람직하며, 분자 내에 존재하는 1개만이 -OCH2-, -CH2O-, -C2H4-, -COO-, -OCO-, -COOC2H4-, -OCOC2H4-, -C2H4OCO-, -C2H4COO-, -CH=CH-, -(CH2)2-COO-, -(CH2)2-OCO-, -OCO-(CH2)2-, -CH=CH-COO-, -COO-CH=CH-, -OCOCH=CH-, -COO-(CH2)2- 또는 -C≡C-이고, 그 외가 전부 단결합인 것이 바람직하고, 분자 내에 존재하는 1개만이, -OCH2-, -CH2O-, -C2H4-, -COO- 또는 -OCO-이고, 그 외가 전부 단결합인 것이 바람직하며, 전부 단결합인 것이 바람직하다.
또, 분자 내에 존재하는 Zp21의 1개만이, -(CH2)2-COO-, -(CH2)2-OCO-, -O-CO-(CH2)2-, -COO-(CH2)2-로 이루어지는 군으로부터 선택되는 연결기이고, 그 외는 단결합인 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 일반식 (P-1)로 표시되는 화합물의 바람직한 예로서, 하기 식 (P-1-1)~식 (P-1-9)로 표시되는 중합성 화합물을 들 수 있다.
Figure pct00146
(식 중, Pp11, Pp12, Spp11 및 Spp12는, 일반식 (P-1)에 있어서의 Pp11, Pp12, Spp11 및 Spp12와 같은 의미를 나타낸다.)
본 발명에 따른 일반식 (P-2)로 표시되는 화합물의 바람직한 예로서, 하기 식 (P-2-1)~식 (P-2-12)로 표시되는 중합성 화합물을 들 수 있다.
Figure pct00147
(식 중, Pp21, Pp22, Spp21 및 Spp22는, 일반식 (P-2)에 있어서의 Pp21, Pp22, Spp21 및 Spp22와 같은 의미를 나타낸다.)
본 발명에 따른 일반식 (P-4)로 표시되는 화합물의 바람직한 예로서, 하기 식 (P-4-1)~식 (P-4-19)로 표시되는 중합성 화합물을 들 수 있다.
Figure pct00148
Figure pct00149
Figure pct00150
Figure pct00151
(식 중, Pp41, Pp42, Spp41 및 Spp42는, 일반식 (P-4)에 있어서의 Pp41, Pp42, Spp41 및 Spp42와 같은 의미를 나타낸다.)
상기의 중합성 액정 조성물을 이용하여 액정 표시 소자를 제조하는데, 액정 표시 소자는 액티브 매트릭스 구동용 액정 표시 소자인 것이 바람직하고, PSA 모드, PSVA 모드, PS-IPS 모드 또는 PS-FSS 모드용 액정 표시 소자인 것이 바람직하다.
[실시예]
이하에 실시예를 들어 본 발명을 더욱 상세하게 설명하는데, 본 발명은 이들 실시예로 한정되는 것은 아니다. 또, 이하의 실시예 및 비교예의 조성물에 있어서의 「%」는 「질량%」를 의미한다. 실시예에 있어서 화합물의 기재에 대해서 이하의 약호를 이용한다.
(측쇄)
-n -CnH2n+1 탄소수 n의 직쇄상의 알킬기
n- CnH2n+1- 탄소수 n의 직쇄상의 알킬기
-On -OCnH2n+1 탄소수 n의 직쇄상의 알콕시기
nO- CnH2n+1O- 탄소수 n의 직쇄상의 알콕시기
-V -CH=CH2
V- CH2=CH-
-V- -CH=CH-
-O1V -O-CH2-V
-V1 -CH=CH-CH3
1V- CH3-CH=CH-
-2V -CH2-CH2-CH=CH2
V2- CH2=CH-CH2-CH2-
-2V1 -CH2-CH2-CH=CH-CH3
1V2- CH3-CH=CH-CH2-CH2-
-F -F
-OCF3 -OCF3
(연결기)
-CF2O- -CF2-O-
-OCF2- -O-CF2-
-1O- -CH2-O-
-O1- -O-CH2-
-COO- -COO-
-OCO- -OCO-
(환 구조)
Figure pct00152
실시예 중, 측정한 특성은 이하와 같다.
Tni: 네마틱상-등방성 액체상 전이 온도(℃)
Δn: 20℃에 있어서의 굴절률 이방성
η: 20℃에 있어서의 점도(mPa·s)
γ1: 20℃에 있어서의 회전 점성(mPa·s)
Δε: 20℃에 있어서의 유전율 이방성
K33: 20℃에 있어서의 탄성 상수 K33(pN)
(액정 표시 소자의 제조 방법 및 평가 방법)
우선, 중합성 화합물을 함유하는 액정 조성물을 셀 갭 3.5μm로 수직 배향을 야기하는 폴리이미드 배향막을 도포한 후, 상기 폴리이미드 배향막을 러빙 처리한 ITO 부착 기판을 포함하는 액정 셀에 진공 주입법으로 주입했다. 수직 배향막 형성 재료로서, JSR Corporation사 제조의 JALS2096을 이용했다.
다음으로, 중합성 화합물을 함유하는 액정 조성물을 주입한 액정 셀에 형광 UV 램프를 이용하여, 중심 파장 365nm의 조건으로 측정한 조도가 3mW/cm2가 되도록 조정하고, 적산 광량 10J/cm2의 자외선을 조사했다. 그 후, 1V, 60Hz, 70℃의 조건으로 전압 유지율(VHR)을 측정하여, VHR(UV)[%]로 했다.
상술한 조건으로 자외선을 조사한 후의 액정 표시 소자 중의 중합성 화합물의 잔류량[ppm]을 측정했다. 이 중합성 화합물의 잔류량의 측정 방법을 설명한다. 우선 액정 표시 소자를 분해하여, 액정 조성물, 중합물, 미반응 중합성 화합물을 포함하는 용출 성분의 아세트니트릴 용액을 얻었다. 이것을 고속 액체 크로마토 그래프로 분석하고, 각 성분의 피크 면적을 측정했다. 지표로 하는 액정 화합물의 피크 면적과 미반응 중합성 화합물의 피크 면적비로부터, 잔존하는 중합성 화합물의 양을 결정했다. 이 값과 당초 첨가한 중합성 화합물의 양으로부터 중합성 화합물의 잔류량을 결정했다. 또한, 중합성 화합물의 잔류량의 검출 한계는 100ppm이었다. 중합성 화합물이 잔류한다는 것은 중합성 화합물의 중합 속도가 늦다는 것을 의미한다.
상술한 조건으로 자외선을 조사한 후의 액정 표시 소자를 이용하여, 프리틸트각의 변화에 의한 표시 불량(소부) 평가를 행했다. 우선, 액정 표시 소자의 프리틸트각을 측정하여, 프리틸트각(초기)으로 했다. 이 액정 표시 소자에 주파수 100Hz로 전압을 30V 인가하면서 백 라이트를 24시간 조사했다. 그 후, 프리틸트각을 측정하여, 프리틸트각(시험 후)으로 했다. 측정한 프리틸트각(초기)에서 프리틸트각(시험 후)을 뺀 값을 프리틸트각 변화량(=프리틸트각 변화의 절대값)[°]으로 했다. 프리틸트각은, SHINTECH, Inc.사 제조의 OPTIPRO를 이용하여 측정했다.
프리틸트각 변화량은, 0[°]에 가까울수록 프리틸트각의 변화에 의한 표시 불량이 발생할 가능성이 보다 낮아지고, 0.5[°] 이상이 되면, 프리틸트각의 변화에 의한 표시 불량이 발생할 가능성이 보다 높아진다.
중합성 화합물의 대표예로서 식 (RM-1)~(RM-6)을 이용했는데, 본 발명은 이들 중합성 화합물로 한정되는 것은 아니다.
Figure pct00153
(액정 조성물의 조제와 평가 결과)
LC-001~LC-013의 액정 조성물을 조제하고, 그 물성값을 측정했다. 액정 조성물의 구성과 그 물성값의 결과는 이하에 나타낸다.
Figure pct00154
Figure pct00155
Figure pct00156
(비교예 1~3, 실시예 1~5)
조제한 LC-001을 이용하여, LC-1-1~LC-1-3(비교예 1~3), LC-1-4~LC-1-8(실시예 1~5)을 조제하고, 테스트 셀에 진공 주입한 후, VHR(UV)과 중합성 화합물의 잔류량을 평가했다. 중합성 액정 조성물의 구성과 그 평가 결과를 하기에 나타낸다.
Figure pct00157
본 발명의 액정 조성물인 LC-1-4~LC-1-8의 VHR(UV)은, 분명하게 비교예 1 및 비교예 3보다 높은 값을 나타내고, 충분한 내UV성을 나타냈다. 중합성 화합물의 함유량을 증가시킴으로써, 액정 조성물 중의 불순물을 폴리머층에 끌어들이기 쉬워지기 때문에, 높은 VHR을 나타낸다.
경화 후의 중합성 화합물의 잔류량은, 비교예 1이 421ppm이고, 비교예 2가 539ppm이었다. 이와 같이 중합성 화합물의 함유량을 증가시키면, 미반응 중합성 화합물이 잔존하기 쉬워지고, 잔존한 중합성 화합물을 전부 소비하기 위해, 자외선의 조사 시간을 길게 하거나, 파장이 상이한 자외선을 재차 조사하는 등의 공정이 필요해진다. 한편, 본 발명의 액정 조성물인 실시예 1~5의 경화 후의 중합성 화합물의 잔류량은, 비교예 1 및 2보다 적다. 이와 같이, 일반식 (i)로 표시되는 화합물을 이용함으로써, 중합성 화합물의 함유량을 증가시켜도, 중합성 화합물의 중합 속도가 적당히 빠르기 때문에, 단시간의 자외선 조사로 중합성 화합물의 잔류량을 저감할 수 있다.
실시예 1~5에서 작성한 LC-1-4~LC-1-8을 사용한 액정 표시 소자의 프리틸트각 변화량은, 각각 0.1[°]이고, 프리틸트각 변화량이 충분히 작은 것을 확인할 수 있었다.
이상으로부터, 본 발명의 액정 조성물은, 내UV성이 충분히 높고, 중합성 화합물의 반응 속도가 적당히 빠르고, 프리틸트각의 변화에 의한 표시 불량이 발생하기 어려운 것을 확인할 수 있었다.
(실시예 6~28)
조제한 LC-001~LC-007을 이용하여, LC-1-9~LC-7-2를 조제하고, 테스트 셀에 진공 주입하여, 액정 표시 소자를 작성했다(실시예 5~28). 이들의 VHR(UV)과 중합성 화합물의 잔류량을 평가했다. 이하에 결과를 나타낸다.
Figure pct00158
Figure pct00159
Figure pct00160
Figure pct00161
본 발명의 중합성 액정 조성물을 이용한 실시예 6~28은, 실시예 1~5와 마찬가지로, UV 조사 후의 VHR이 충분히 높고, 중합성 화합물의 반응 속도가 적당히 빠른 것을 확인할 수 있었다.
(실시예 29~40)
조제한 LC-008~LC-013을 이용하는 것 이외에는 동일하게 하여, 실시예 29~40을 행하고, VHR(UV)과 중합성 화합물의 잔류량을 평가했다. 사용한 중합성 액정 조성물의 구성과 그 평가 결과를 하기에 나타낸다.
Figure pct00162
Figure pct00163
본 발명의 중합성 액정 조성물을 이용한 실시예 29~40은, 실시예 1~5와 마찬가지로, UV 조사 후의 VHR이 충분히 높고, 중합성 화합물의 반응 속도가 적당히 빠른 것이 확인되었다.

Claims (9)

  1. 액정 화합물을 1종 또는 2종 이상과 일반식 (i)로 표시되는 중합성 화합물을 1종 또는 2종 이상을 함유하고, 액정 화합물과 중합성 화합물을 포함하는 중합성 액정 조성물에 있어서의 중합성 화합물의 합계 함유량이 0.4질량% 이상 10.0질량% 이하인 중합성 액정 조성물.
    Figure pct00164

    (식 중,
    Pi1 및 Pi2는 각각 독립적으로, 메타크릴레이트기 또는 아크릴레이트기를 나타내고,
    Spi1 및 Spi2는 각각 독립적으로, 스페이서기 또는 단결합을 나타내고,
    Msi1은 그 구조 내에 포함되는 π 전자의 수와 그 구조 내에 포함되는 산소 원자의 비공유 전자쌍을 형성하는 전자의 수의 합계가 14 이상이며, 일반식 (Ms-1)
    Figure pct00165

    (식 중, Ai1은, 식 (Bi1)~(Bi4)
    Figure pct00166

    (구조 내의 1 또는 2 이상의 수소 원자가 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~8의 알콕시기 및/또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기로 치환되어도 된다.)
    로 표시되는 구조를 나타내고,
    ni1은 1, 2, 3 또는 4를 나타내고, Ai1이 복수 존재하는 경우에는 그들은 동일해도 되고 상이해도 된다.)
    로 표시되는 구조이다.)
  2. 청구항 1에 있어서,
    일반식 (i)에 있어서의, Msi1이 식 (Bi11), 식 (Bi12) 또는 식 (Bi41)로 표시되는 구조인 중합성 화합물을 1종 또는 2종 이상을 함유하는 중합성 액정 조성물.
    Figure pct00167

    (구조 내의 1 또는 2 이상의 수소 원자가 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~8의 알콕시기 및/또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기로 치환되어도 된다.)
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    일반식 (N-1), (N-2) 및 (N-3)
    Figure pct00168

    (식 중, RN11, RN12, RN21, RN22, RN31 및 RN32는, 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타내고, 당해 알킬기 중의 1개 또는 비인접한 2개 이상의 -CH2-는 각각 독립적으로 -CH=CH-, -C≡C-, -O-, -CO-, -COO- 또는 -OCO-에 의해 치환되어 있어도 되고,
    AN11, AN12, AN21, AN22, AN31 및 AN32는, 각각 독립적으로
    (a) 1,4-시클로헥실렌기(이 기 중에 존재하는 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 -O-로 치환되어도 된다.)
    (b) 1,4-페닐렌기(이 기 중에 존재하는 1개의 -CH= 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH=는 -N=으로 치환되어도 된다.)
    (c) 나프탈렌-2,6-디일기, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기 또는 데카히드로나프탈렌-2,6-디일기(나프탈렌-2,6-디일기 또는 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기 중에 존재하는 1개의 -CH= 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH=는 -N=으로 치환되어도 된다.) 및
    (d) 1,4-시클로헥세닐렌기
    로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기를 나타내고, 상기의 기 (a), 기 (b), 기 (c) 및 기 (d)는 각각 독립적으로 시아노기, 불소 원자 또는 염소 원자로 치환되어 있어도 되고,
    ZN11, ZN12, ZN21, ZN22, ZN31 및 ZN32는, 각각 독립적으로 단결합, -CH2CH2-, -(CH2)4-, -OCH2-, -CH2O-, -COO-, -OCO-, -OCF2-, -CF2O-, -CH=N-N=CH-, -CH=CH-, -CF=CF- 또는 -C≡C-를 나타내고,
    XN21은 수소 원자 또는 불소 원자를 나타내고,
    TN31은 -CH2- 또는 산소 원자를 나타내고,
    nN11, nN12, nN21, nN22, nN31 및 nN32는, 각각 독립적으로 0~3의 정수를 나타내는데, nN11+nN12, nN21+nN22 및 nN31+nN32는 각각 독립적으로, 1, 2 또는 3이고, AN11~AN32, ZN11~ZN32가 복수 존재하는 경우는, 그들은 동일해도 되고 상이해도 된다.)으로 표시되는 화합물로부터 선택되는 화합물을 1종류 또는 2종류 이상 함유하는 중합성 액정 조성물.
  4. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
    일반식 (J)
    Figure pct00169

    (식 중, RJ1은 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타내고, 당해 알킬기 중의 1개 또는 비인접한 2개 이상의 -CH2-는, 각각 독립적으로 -CH=CH-, -C≡C-, -O-, -CO-, -COO- 또는 -OCO-에 의해 치환되어 있어도 되고,
    nJ1은, 0, 1, 2, 3 또는 4를 나타내고,
    AJ1, AJ2 및 AJ3은, 각각 독립적으로
    (a) 1,4-시클로헥실렌기(이 기 중에 존재하는 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 -O-로 치환되어도 된다.)
    (b) 1,4-페닐렌기(이 기 중에 존재하는 1개의 -CH= 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH=는 -N=으로 치환되어도 된다.) 및
    (c) 나프탈렌-2,6-디일기, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기 또는 데카히드로나프탈렌-2,6-디일기(나프탈렌-2,6-디일기 또는 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기 중에 존재하는 1개의 -CH= 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH=는 -N=으로 치환되어도 된다.)
    로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기를 나타내고, 상기의 기 (a), 기 (b) 및 기 (c)는 각각 독립적으로 시아노기, 불소 원자, 염소 원자, 메틸기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 되고,
    ZJ1 및 ZJ2는, 각각 독립적으로 단결합, -CH2CH2-, -(CH2)4-, -OCH2-, -CH2O-, -OCF2-, -CF2O-, -COO-, -OCO- 또는 -C≡C-를 나타내고,
    nJ1이 2, 3 또는 4이고 AJ2가 복수 존재하는 경우는, 그들은 동일해도 되고 상이해도 되며, nJ1이 2, 3 또는 4이고 ZJ1이 복수 존재하는 경우는, 그들은 동일해도 되고 상이해도 되며,
    XJ1은, 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 시아노기, 트리플루오로메틸기, 플루오로메톡시기, 디플루오로메톡시기, 트리플루오로메톡시기 또는 2,2,2-트리플루오로에틸기를 나타낸다.)로 표시되는 화합물로부터 선택되는 화합물을 1종류 또는 2종류 이상 함유하는 중합성 액정 조성물.
  5. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
    일반식 (L)
    Figure pct00170

    (식 중, RL1 및 RL2는, 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타내고, 당해 알킬기 중의 1개 또는 비인접한 2개 이상의 -CH2-는 각각 독립적으로 -CH=CH-, -C≡C-, -O-, -CO-, -COO- 또는 -OCO-에 의해 치환되어 있어도 되고,
    nL1은 0, 1, 2 또는 3을 나타내고,
    AL1, AL2 및 AL3은, 각각 독립적으로
    (a) 1,4-시클로헥실렌기(이 기 중에 존재하는 1개의 -CH2- 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH2-는 -O-로 치환되어도 된다.)
    (b) 1,4-페닐렌기(이 기 중에 존재하는 1개의 -CH= 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH=는 -N=으로 치환되어도 된다.) 및
    (c) 나프탈렌-2,6-디일기, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기 또는 데카히드로나프탈렌-2,6-디일기(나프탈렌-2,6-디일기 또는 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기 중에 존재하는 1개의 -CH= 또는 인접하고 있지 않은 2개 이상의 -CH=는 -N=으로 치환되어도 된다.)
    로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기를 나타내고, 상기의 기 (a), 기 (b) 및 기 (c)는, 각각 독립적으로 시아노기, 불소 원자 또는 염소 원자로 치환되어 있어도 되고,
    ZL1 및 ZL2는, 각각 독립적으로 단결합, -CH2CH2-, -(CH2)4-, -OCH2-, -CH2O-, -COO-, -OCO-, -OCF2-, -CF2O-, -CH=N-N=CH-, -CH=CH-, -CF=CF- 또는 -C≡C-를 나타내고,
    nL1이 2 또는 3이고 AL2가 복수 존재하는 경우는, 그들은 동일해도 되고 상이해도 되며, nL1이 2 또는 3이고 ZL2가 복수 존재하는 경우는, 그들은 동일해도 되고 상이해도 된다.)로 표시되는 화합물로부터 선택되는 화합물을 1종류 또는 2종류 이상 함유하는 중합성 액정 조성물.
  6. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
    추가로 일반식 (P)
    Figure pct00171

    (상기 일반식 (P) 중, Rp1은, 수소 원자, 불소 원자, 시아노기, 수소 원자, 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소 원자수 1~15의 알킬기, 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소 원자수 1~15의 알콕시기, 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소 원자수 1~15의 알케닐기, 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소 원자수 1~15의 알케닐옥시기 또는 -Spp2-Pp2를 나타내고,
    Pp1 및 Pp2는 각각 독립적으로, 일반식 (Pp1-1)~식 (Pp1-9)
    Figure pct00172

    (식 중, Rp11 및 Rp12는 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소 원자수 1~5의 알킬기 또는 탄소 원자수 1~5의 할로겐화알킬기를 나타내고, Wp11은 단결합, -O-, -COO- 또는 메틸렌기를 나타내고, tp11은, 0, 1 또는 2를 나타내는데, 분자 내에 Rp11, Rp12, Wp11 및/또는 tp11이 복수 존재하는 경우, 그들은 동일해도 되고 상이해도 된다.)
    중 어느 하나를 나타내고,
    Spp1 및 Spp2는 각각 독립적으로, 스페이서기 또는 단결합을 나타내고,
    Zp1 및 Zp2는 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -S-, -CH2-, -OCH2-, -CH2O-, -CO-, -C2H4-, -COO-, -OCO-, -OCOOCH2-, -CH2OCOO-, -OCH2CH2O-, -CO-NRZP1-, -NRZP1-CO-, -SCH2-, -CH2S-, -CH=CRZP1-COO-, -CH=CRZP1-OCO-, -COO-CRZP1=CH-, -OCO-CRZP1=CH-, -COO-CRZP1=CH-COO-, -COO-CRZP1=CH-OCO-, -OCO-CRZP1=CH-COO-, -OCO-CRZP1=CH-OCO-, -(CH2)z-COO-, -(CH2)2-OCO-, -OCO-(CH2)2-, -(C=O)-O-(CH2)2-, -CH=CH-, -CF=CF-, -CF=CH-, -CH=CF-, -CF2-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2CH2-, -CH2CF2-, -CF2CF2- 또는 -C≡C-(식 중, RZP1은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~4의 알킬기를 나타내는데, 분자 내에 RZP1이 복수 존재하는 경우, 그들은 동일해도 되고 상이해도 된다.)
    를 나타내고,
    Ap2는, 1,4-페닐렌기, 1,4-시클로헥실렌기, 안트라센-2,6-디일기, 페난트렌-2,7-디일기, 피리딘-2,5-디일기, 피리미딘-2,5-디일기, 나프탈렌-2,6-디일기, 인단-2,5-디일기, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-2,6-디일기 또는 1,3-디옥산-2,5-디일기를 나타내는데, Ap2는 무치환이거나 또는 탄소 원자수 1~12의 알킬기, 탄소 원자수 1~12의 할로겐화알킬기, 탄소 원자수 1~12의 알콕시기, 탄소 원자수 1~12의 할로겐화알콕시기, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기 또는 -Spp2-Pp2로 치환되어 있어도 되고,
    Ap1은 식 (Ap1-11)~(Ap1-19)
    Figure pct00173

    (식 중, ★에서 Spp1 또는 mp1이 2 또는 3인 경우 Spp1 혹은 Zp1과 결합하고, ★★에서 Zp1과 결합하고, 구조 중의 1 또는 2 이상의 수소 원자는 탄소 원자수 1~12의 알킬기, 탄소 원자수 1~12의 할로겐화알킬기, 탄소 원자수 1~12의 알콕시기, 탄소 원자수 1~12의 할로겐화알콕시기, 할로겐 원자, 시아노기 또는 니트로기에 의해 치환되어 있어도 된다.)로 표시되는 기를 나타내고,
    Ap3은 식 (Ap3-11)~(Ap3-19)
    Figure pct00174

    (식 중, ★에서 Zp2와 결합하고, ★★에서 Rp1 또는 mp3이 2 또는 3인 경우 Rp1 혹은 Zp2와 결합하고, 구조 중의 1 또는 2 이상의 수소 원자는 탄소 원자수 1~12의 알킬기, 탄소 원자수 1~12의 할로겐화알킬기, 탄소 원자수 1~12의 알콕시기, 탄소 원자수 1~12의 할로겐화알콕시기, 할로겐 원자, 시아노기 또는 니트로기에 의해 치환되어 있어도 된다.)로 표시되는 기를 나타내고,
    mp2 및 mp3은 각각 독립적으로, 0, 1, 2 또는 3을 나타내고, mp1 및 mp4는 각각 독립적으로 1, 2 또는 3을 나타내는데, 분자 내에 Pp1, Spp1, Ap1, Zp1, Zp2, Ap3 및/또는 Rp1이 복수 존재하는 경우, 그들은 동일해도 되고 상이해도 되는데, 일반식 (i)로 표시되는 중합성 화합물을 제외한다.)로 표시되는 화합물군으로부터 선택되는 중합성 화합물을 1종 또는 2종 이상 함유하는 중합성 액정 조성물.
  7. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 기재된 중합성 액정 조성물을 이용한 액정 표시 소자.
  8. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 기재된 중합성 액정 조성물을 이용한 액티브 매트릭스 구동용 액정 표시 소자.
  9. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 기재된 중합성 액정 조성물을 이용한 PSA 모드, PSVA 모드, PS-IPS 모드 또는 PS-FSS 모드용 액정 표시 소자.
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110396412B (zh) * 2019-08-06 2022-02-08 晶美晟光电材料(南京)有限公司 液晶组合物及其应用
JP7380136B2 (ja) * 2019-11-27 2023-11-15 Dic株式会社 液晶組成物およびそれを用いた液晶表示素子
JP2021084948A (ja) * 2019-11-27 2021-06-03 Dic株式会社 重合性液晶組成物およびそれを用いた液晶表示素子
JP7392434B2 (ja) * 2019-12-02 2023-12-06 Dic株式会社 液晶組成物及び液晶表示素子
CN115216309A (zh) * 2021-04-15 2022-10-21 江苏和成显示科技有限公司 液晶组合物及其液晶显示器件
CN115216308A (zh) * 2021-04-15 2022-10-21 江苏和成显示科技有限公司 液晶组合物及其液晶显示器件
CN115216305A (zh) * 2021-04-15 2022-10-21 江苏和成显示科技有限公司 液晶组合物及其液晶显示器件

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012530144A (ja) 2009-06-16 2012-11-29 アミリス, インコーポレイテッド シクロヘキセン1,4−カルボキシレート
JP2013509457A (ja) 2009-10-28 2013-03-14 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 重合性化合物および液晶ディスプレイにおけるそれらの使用

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010084823A1 (ja) * 2009-01-22 2010-07-29 チッソ株式会社 液晶組成物および液晶表示素子
DE102010006691A1 (de) * 2009-02-06 2010-10-28 Merck Patent Gmbh Flüssigkristallines Medium und Flüssigkristallanzeige
US9644146B2 (en) * 2010-09-07 2017-05-09 Sharp Kabushiki Kaisha Composition for forming liquid crystal layer, liquid crystal display device, and method for producing liquid crystal display device
EP2508588B1 (en) * 2011-04-07 2015-02-11 Merck Patent GmbH Liquid-crystalline medium and liquid-crystal display
JP5834489B2 (ja) * 2011-05-18 2015-12-24 Dic株式会社 重合性ナフタレン化合物
EP3029127B1 (en) * 2014-12-01 2017-12-20 Merck Patent GmbH Liquid crystal medium
KR20170107436A (ko) * 2015-01-20 2017-09-25 제이엔씨 주식회사 액정 조성물 및 액정 표시 소자
WO2016152340A1 (ja) * 2015-03-24 2016-09-29 Jnc株式会社 液晶組成物および液晶表示素子
WO2016170948A1 (ja) * 2015-04-23 2016-10-27 Jnc株式会社 液晶組成物および液晶表示素子
KR20180074672A (ko) * 2015-10-23 2018-07-03 제이엔씨 주식회사 액정 조성물 및 액정 표시 소자
WO2017188002A1 (ja) * 2016-04-27 2017-11-02 Dic株式会社 液晶組成物及び液晶表示素子
JP2019056036A (ja) * 2017-09-20 2019-04-11 シャープ株式会社 ネガ型液晶材料、液晶セル及び液晶表示装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012530144A (ja) 2009-06-16 2012-11-29 アミリス, インコーポレイテッド シクロヘキセン1,4−カルボキシレート
JP2013509457A (ja) 2009-10-28 2013-03-14 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 重合性化合物および液晶ディスプレイにおけるそれらの使用

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