KR20200090930A - 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하는 장치 - Google Patents
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Abstract
인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하기 위한 장치로서, 전자기 방사선 발생기; (a) 눈에 부착될 수 있는 흡입 링 및 시선 고정 타겟 중 적어도 하나를 포함하여, 시술 동안 눈의 움직임을 제한하는 눈의 움직임 제한부, 또는 (b) 눈의 움직임이 식별된 경우 레이저 빔이 눈의 움직임에 대응하여 이동되거나, 종료되거나 중단되도록 하기 위해, 시술 동안 xy 평면 또는 z 축 중 적어도 하나를 따라 눈의 움직임을 식별하는 눈의 움직임 식별부, (a), (b) 중 하나 이상; 및 상기 홍채의 전방 표면의 25 % 이상에 레이저 빔을 인가하기 위한 컴퓨터화된 스캐닝 시스템;을 포함하고; 상기 전자기 방사선 발생기는 각막을 통과하는 레이저 빔을 방출하도록 구성되고, 상기 레이저 빔은 홍채 전방으로 수렴하고, 홍채에 제 1 에너지 밀도를 전달하며, 안저가 레이저 빔에 우발적으로 노출되는 경우, 상기 레이저 빔은 상기 홍채의 후방으로 발산하여 상기 안저에 제 2 에너지 밀도를 전달하며, 상기 제 1 에너지 밀도는 상기 제 2 에너지 밀도보다 큰 것을 특징으로 한다.
Description
본 발명은 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하는 장치에 관한 것이다.
본 특허 출원은 2102년 4월 25일에 제출된 미국 특허 출원 13/456,111에 대하여 우선권을 주장하며, 이는 본 출원서에서 인용된 모든 다른 참조들과 함께 참조로서 여기에 통합된다.
인간의 홍채의 넓은 부위에 전자기 방사선의 균일한 인가를 요구하는 여러 가지 새로운 안과 시술이 있다. 이러한 시술의 예는 출원인에 특허된 미국특허 6,912,528(2005년 6월 28일 공표) 및 미국특허 8,206,379(2012년 6월 26일 공표)에 개시된 레이저 안구-색상 변경 방법과 출원인에 의해 제출된 미국 특허 출원 13/456,111에 개시된 녹내장 치료 방법을 포함한다. 이러한 시술의 다른 예는 출원인에 의해 개발된 새로운 노안 치료로서, 여기서는 동공수축근의 전방의 홍채 부위에 전자기 방사선이 인가하며, 그에 의해 동공의 사이즈를 줄여서 환자 시력의 심도 깊이를 증가시킨다.
홍채에 전자기 방사선을 균일하게 인가하기 위해서는, 전형적으로 전자기 방사선 경로가 예정된 패턴으로 홍채를 가로지르도록 하는 컴퓨터 스캔 시스템의 사용을 요구한다.
인간 홍채의 넓은 부위에 대한 전자기 방사선의 인가는 안저(이는 망막, 시신경 유두, 황반, 중심와, 및 후두극을 포함한다)를 포함하는 안와의 안쪽이 돌발적으로 전자기 방사선에 노출되는 실질적인 위험을 안고 있다. 이들 영역에 대한 노출은 영구적인 시각 장애 또는 상실을 야기할 수 있다.
전자기 방사선에 대한 돌발적인 노출로부터 안저를 보호하기 위한 여러 가지 방법들이 이미 존재한다. 이러한 방법의 하나는 전방 홍채에 전자기 방사선의 인가 동안 동공을 폐쇄하는 것을 포함한다. 예로서, 미국특허 8,206,379에서, 출원인은 전자기 방사선 경로가 전방 홍채를 가로질러서 이동할 때 전자기 방사선 경로를 차단하기 위한 물리적 폐쇄 역할을 하는 홍채의 콘택 렌즈에 대한 인가를 개시한다. 다른 방법은 동공을 피하는 예정된 인가 패턴을 수립하고 치료 동안 눈의 모든 움직임을 추적하며, 눈이 움직일 경우 노출을 중단하거나 차단(수동적 추적)하거나, 치료 패턴의 위치를 이동(능동적 추적)한다. 수동적 및 능동적 눈 추적 기술은 당업계에 잘 알려져 있고 용이하게 상업화될 수 있다. 예시로서, SensoMotoric Instruments GmbH(Teltow, German)는 그 SMI 수술 안내 능동적 눈-추적 기술을 각막 수술 안구내 렌즈 임플란트 수술과 같은 시술을 위한 컴퓨터-유도 레이저 시스템에 통합한다. 다른 예는 컴퓨터-유도 레이저 굴절 안구 수술과 관련하여 사용되는, Chronos Vision GmbH(Berlin, Germany)의 OneK + 능동적 눈 추적기이다.
돌발적인 안저 노출의 위험을 경감시키기 위한 이들 방법이 갖는 문제는 그들 중 어느 것도 그 시점에 100% 성공을 보장할 수 없다는 것이다. 콘택 렌즈는 수술 동안에 이동할 수 있고, 동공을 보호되지 않은 채로 남겨서 안저가 돌발적으로 노출되게 한다. 눈 추적은, 현재는 매우 진보하였지만, 안저 노출을 야기할 수 있는 기계상 및 계산상의 오류를 일으키기 쉽다. 더구나, 때때로 눈 추적 시스템의 반응 시간은 돌발적인 노출이 발생하기 전에 치료 패턴을 이동시킬 만큼 빠르지 않다.
따라서 컴퓨터-유도 시스템(computer-guidance system)을 통해, 안저가 돌발적으로 노출되지 않도록 하면서, 인간 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선의 균일한 인가를 제공하는 디바이스에 대한 요구가 있다.
본 발명의 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 일 실시예는 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하기 위한 장치를 제공한다. 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하기 위한 장치는, 레이저빔을 발생하는 레이저 디바이스를 포함하는 전자기 방사선 발생기; (a) 눈에 부착될 수 있는 흡입 링 및 시선 고정 타겟 중 적어도 하나를 포함하여, 시술 동안 눈의 움직임을 제한하는 눈의 움직임 제한부, 또는 (b) 눈의 움직임이 식별된 경우 레이저 빔이 눈의 움직임에 대응하여 이동되거나, 종료되거나 중단되도록 하기 위해, 시술 동안 xy 평면 또는 z 축 중 적어도 하나를 따라 눈의 움직임을 식별하는 눈의 움직임 식별부, (a), (b) 중 하나 이상; 및 상기 홍채의 전방 표면의 25 % 이상에 레이저 빔을 인가하기 위한 컴퓨터화된 스캐닝 시스템;을 포함하고; 상기 전자기 방사선 발생기는 각막을 통과하는 레이저 빔을 방출하도록 구성되고, 상기 레이저 빔은 홍채 전방으로 수렴하고, 홍채에 제 1 에너지 밀도를 전달하며, 안저가 레이저 빔에 우발적으로 노출되는 경우, 상기 레이저 빔은 상기 홍채의 후방으로 발산하여 상기 안저에 제 2 에너지 밀도를 전달하며, 상기 제 1 에너지 밀도는 상기 제 2 에너지 밀도보다 큰 것을 특징으로 한다.
전자기 방사선에 돌발적으로 노출되는 것으로부터 안저를 보호하기 위해 동공 폐쇄 또는 눈의 움직임 추적에만 의존하기 보다는, 본 발명에서는 또한 홍채에서의 에너지 밀도가 눈의 후방 부위에서의 에너지 밀도 보다 크도록 이루어진 프로파일을 가지는 전자기 방사선 경로를 이용한다. 이러한 에너지 밀도의 차이는 안저의 손상 없이 전방 홍채 치료 부위에서 효험이 있도록 한다.
본 발명의 하나의 실시예에서, 전자기 방사선은 광파를 포함한다. 본 실시예의 하나의 버전(version)에서는, 전자기 방사선이 레이저이고 전자기 방사선 경로는 레이저 빔이다. 컴퓨터 스캔 시스템이 홍채의 전방 표면에 레이저 빔을 인가한다. 레이저 빔의 프로파일은 가우시안(Gaussian)으로서, 빔 프로파일이 초점에 집중되고 나서 초점으로부터 발산하도록 이루어진다. 레이저 빔의 상기 프로파일로 인해, 전방 홍채에서의 에너지 밀도가 안저에서의 에너지 밀도 보다 크다. 본 실시예이 독립적 대안 버전에서는, 빔의 발산 각이 1.0-2.5 도, 2.5-5.0 도, 5.0-7.5 도, 7.5-10.0, 10.0-12.5 도, 12.5-15.0 도, 15.0-20.0 도, 또는 20.0 도 보다 크다.
컴퓨터 스캔 시스템은 당업계에 잘 알려져 있다. 스캔 시스템은 하나 이상의 컴퓨터 시스템을 이용하여 구현될 수 있다. 예시적인 컴퓨터 시스템은 소프트웨어, 모니터, 캐비넷, 키보드, 및 마우스를 포함할 수 있다. 캐비넷은, 프로세서, 메모리, 대용량 저장 장치 등과 같은 잘 알려진 컴퓨터 구성요소들을 수용할 수 있다. 상기 빔은, 이에 한정되지는 않지만, 나선형 패턴, 래스터(raster) 패턴, 또는 분리된 국부 패턴을 포함하여, 모든 형태나 패턴으로 안내될 수 있다.
이전 실시예의 다른 버전에서는, 전방 홍채가 2개의 치료구역으로 나뉘고, 각 구역은 동공에 대하여 동심이다. 제1치료구역은 대략 동공축소근의 외주로부터 동공의 외주까지 이른다. 제2치료구역은 대략 연곽(limbus)으로부터 동공수축근의 외주까지 이른다. 컴퓨터 스캔 시스템은 1차로 제1치료구역에 외주로부터 내주로 레이저 빔을 나선형 패턴으로 인가하고, 2차로 제2치료구역에 외주로부터 내주로 레이저 빔을 나선형 패턴으로 인가한다.
본 발명의 다른 실시예에서, 전자기 방사선이 음파를 포함한다. 본 실시예의 하나의 버전에서는, 전자기 방사선 발생기가 사세르(sound amplification by stimulated emission of radiation: SASER)이고, 전자기 방사선 경로는 사세르 빔이다. 컴퓨터 스캔 시스템이 홍채의 전방 표면에 사세르 빔을 인가한다. 사세르 빔의 프로파일은 가우시안이며, 그럼으로써 상기 빔 프로파일은 초점으로 집중되고 나서 초점으로부터 발산한다. 사세르 빔의 상기 프로파일로 인해, 전방 홍채에서의 에너지 밀도가 안저에서의 에너지 밀도 보다 크다.
본 발명의 다른 실시예에서, 전자기 방사선의 인가가 24-시간 주기 이내에 이전의 전자기 방사선 인가와 중첩된다. 상술한 레이저 실시예에서는, 예를 들어, 레이저 스폿이 24-시간 주기 이내에 이전에 인가된 레이저 스폿과 중첩되도록 인가된다. 다른 실시예에서는, 전자기 방사선이 24-시간 주기 이내에 이전의 그 어떤 전자기 방사선 인가와도 중첩되지 않도록 인가된다. 상술한 레이저 실시예에서는, 레이저 스폿이 24-시간 주기 이내에 이전에 인가된 그 어떤 레이저 스폿과도 중첩되지 않도록 인가된다. 또 다른 실시예에서, 전자기 방사선의 인가는 24-시간 주기 이내에 상기 인가와 이전의 모든 전자기 방사선 인가 사이에 비치료(untreated) 홍채 영역을 남긴다. 상술한 레이저 실시예에서는, 레이저 스폿이 24-시간 주기 이내에 그러한 스폿과 이전에 인가된 모든 레이저 스폿과의 사이에 비치료 홍채 영역을 남기도록 인가된다. 그리고, 또 다른 실시예에서는, 24-시간 주기 이내에, 몇몇 전자기 방사선 인가는 이전의 인가와 중첩되며, 다른 것들은 중첩되지 않는다. 상술한 레이저 실시예에서는, 24-시간 주기 이내에, 몇몇 레이저 스폿은 이전의 레이저 스폿과 중첩되고, 다른 것들은 중첩되지 않는다.
본 발명의 다른 실시예에서, 본 발명의 디바이스는 시술 동안 머리의 움직임을 제한하는 장치를 포함한다. 본 실시예의 하나의 버전에서, 머리의 움직임이 수술용 머리 고정기(surgical head restrain)를 이용하여 제한된다. 수술용 머리 고정기는 당업계에 잘 알려져 있다. 본 실시예의 다른 버전에서는, 시술 동안 머리의 움직임을 제한하기 위해 바이트 바(bite bar)가 이용된다. 머리 움직임을 제한하는 바이트 바의 사용은, 뇌영상법 과정에서의 바이트 바 사용을 포함하여, 당업계에 잘 알려져 있다. 본 실시예의 또 다른 버전에서는, 시술 동안 머리의 움직임을 제한하기 위해 머리 고정 타겟(head fixation target)이 이용된다. 이 머리 고정 타겟은 출원인에 의해 발명된 새로운 디바이스이다. 이는 어느 금속, 직물, 플라스틱, 또는 다른 어떤 재료로 이루어진 하나 이상의 로드(rod), 바, 스트랩을 이용하여 환자의 머리의 예정된 지점들에 압력을 가하며, 그럼으로써 모든 움직임에 관하여 환자에게 피드백(feedback)을 제공한다.
본 발명의 또 다른 실시예에서, 본 발명의 디바이스는 시술 동안 눈의 움직임을 제한하는 장치를 포함한다. 본 실시예의 하나의 버전에서, 눈의 움직임이 석션링(suction ring)을 이용하여 제한된다. 안과용 석션링은 당업계에 잘 알려져 있다. 다른 버전에서는, 움직임이 시선 고정 타겟을 이용하여 제한된다. 시선 고정은 당업계에 잘 알려져 있다. 시선 고정은, 이에 한정되지는 않지만, 3차원 대상물, 2차원 이미지, 또는 광(light)을 포함하여, 모든 고정 대상물을 활용할 수 있다. 출원인에 의해 발명된 본 실시예의 본 버전에 관한 하나의 새로운 변형예에서는, 광원이 튜브의 단부에 배치되며, 그럼으로써 환자는 광원을 보기 위해 튜브를 통하여 바라보아야 한다. 시선 고정 타겟을 제공하는 것에 더해, 환자가 축(axis)으로부터 벗어난다면 광원이 보이지 않기 때문에, 본 변형예는 또한 머리 고정 타겟을 제공한다. 출원인에 의해 발명된 본 실시예의 본 버전에 관한 다른 새로운 변형예에서는, 광원에 의해 생성된 광이 시술 동안 색상이 변경된다. 상기 광은, 예를 들어, 황색(amber), 붉은색, 녹색, 및 노란색을 순환할 수 있다. 색상이 변하는 고정 타겟은 망막 상의 이미지를 새롭게 하기 위한 눈의 비자발적인 경련이나 다른 움직임, 또는 그 대신 그러한 움직임을 억제하면서 생기는 불편함을 덜 유발하게 된다. 출원인에 의해 발명된 본 실시예의 본 버전에 대한 다른 새로운 변형예에서는, 광원에 의해 생성된 광은 시술 동안 강도가 변한다. 광은, 또는 예로서, 밝음, 중간, 및 어둑함을 순환할 수 있다. 강도가 변하는 고정 타겟도 또한 망막 상의 이미지를 새롭게 하기 위한 눈의 비자발적인 경련이나 다른 움직임, 또는 그 대신 그러한 움직임을 억제하면서 생기는 불편함을 덜 유발하게 된다. 출원인에 의해 발명된 본 실시예의 본 버전에 대한 또 다른 새로운 변형예에서는, 상기 고정 타겟이 동영상을 포함하며, 이 영상들은, 컬러 또는 흑백의, 2차원 또는 3차원의, 만화로 제작되거나 라이브 액션(live action)일 수 있다. 동영상 고정 타겟도 또한 망막 상의 이미지를 새롭게 하기 위한 눈의 비자발적인 경련이나 다른 움직임, 또는 그 대신 그러한 움직임을 억제하면서 생기는 불편함을 덜 유발하게 된다. 이들 실시예, 변형예, 또는 버전의 전부는, 시술 동안 치료되는 눈의 고정을 위해 치료되는 눈 또는 상대편 눈 앞에 배치될 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에서, 본 발명의 디바이스는 치료 동안 눈의 움직임을 감지하는 장치를 포함한다. 본 실시예의 하나의 버전에서, 능동적인 눈 추적이 이용되며, 그럼으로써 눈의 움직임이 식별되고, 전자기 경로가 눈의 움직임에 상응하여 이동된다. 이들 움직임은 홍채의 전방 표면을 따르는 이동(소위 x-y 평면을 따르는 이동), 깊이의 이동(소위 z축을 따르는 이동), 궤도 축 둘레의 회전, 또는 그 외의 것들로 구성될 수 있다. 능동적 눈 추적은 당업계에 잘 알려져 있다. 본 실시예의 다른 버전에서는, 수동적 눈 추적이 이용되며, 그럼으로써 눈의 움직임이 식별되고, 전자기 방사선 경로가 종료되거나 중단된다. 출원인에 의해 발명된 본 실시예의 본 버전에 대한 새로운 변형예에서는, 눈의 이동이 식별되고, 전자기 방사선 경로는 눈이 이전 위치로 복귀하거나 어느 다른 원하는 위치에 위치할 때까지 중단되며, 그러고 나서 전자기 방사선 경로가 재개된다. 본 실시예의 이들 버전에 대한 독립적인 대안 변형예에서, 전자기 방사선 경로는 (a) 전자기 방사선 소스에 대한 파워를 종료하거나 중단함으로써, (b) 전자기 방사선 소스를 끔으로써, (c) 전자기 방사선 경로를 상기 타겟 영역으로부터 벗어나서 다시 방사함으로써, (d) 셔터, 배플(baffle), 쉴드(shield) 또는 다른 차단 장치를 이용하여 전자기 방사선 경로를 중단시킴으로써, 또는 (e) (음향 -광학(acousto-optical) 변조기 또는 전기-광학(electro-optical) 변조기와 같은) 광 변조기 또는 에너지 변조기를 사용하여 전자기 방사선 경로를 중단시킴으로써 종료되거나 중단된다.
본 발명의 다른 목적, 특징, 및 장점들은 하기의 상세한 설명과 첨부한 도면을 참조하여 명확해질 것이며, 도면 전체에 걸쳐서 유사한 부호는 유사한 특징을 나타낸다.
도 1은 본 발명에 따른 실시예의 양태들을 나타내며, 여기서 전자기 방사선 경로의 프로파일은 홍채에서의 에너지 밀도가 눈의 후방 부위에서의 에너지 밀도보다 크다.
도 2는 본 발명에 따른 실시예의 양태들을 나타내며, 여기서 전방 홍채가 2개의 치료구역으로 나뉘고, 각 구역은 동공과 동심이다.
도 3은 본 발명에 따른 실시예의 양태들을 나타내며, 여기서 전자기 방사선의 인가는 이전 전자기 방사선의 인가와 중첩된다.
도 4는 본 발명에 따른 실시예의 양태들을 나타내며, 여기서 전자기 방사선은 이전의 어느 전자기 방사선과 중첩되지 않도록 인가된다.
도 5는 본 발명에 따른 실시예의 양태들을 나타내며, 여기서 전자기 방사선은 상기 인가와 이전의 모든 전자기 방사선 사이에 비치료 홍채 영역을 남기도록 인가된다.
도 6은 본 발명에 따른 실시예의 양태들을 나타내며, 여기서는 시술 동안에 머리의 움직임을 제한하는데 새로운 머리 고정 타겟이 이용된다.
도 1은 본 발명에 따른 실시예의 양태들을 나타내며, 여기서 전자기 방사선 경로의 프로파일은 홍채에서의 에너지 밀도가 눈의 후방 부위에서의 에너지 밀도보다 크다.
도 2는 본 발명에 따른 실시예의 양태들을 나타내며, 여기서 전방 홍채가 2개의 치료구역으로 나뉘고, 각 구역은 동공과 동심이다.
도 3은 본 발명에 따른 실시예의 양태들을 나타내며, 여기서 전자기 방사선의 인가는 이전 전자기 방사선의 인가와 중첩된다.
도 4는 본 발명에 따른 실시예의 양태들을 나타내며, 여기서 전자기 방사선은 이전의 어느 전자기 방사선과 중첩되지 않도록 인가된다.
도 5는 본 발명에 따른 실시예의 양태들을 나타내며, 여기서 전자기 방사선은 상기 인가와 이전의 모든 전자기 방사선 사이에 비치료 홍채 영역을 남기도록 인가된다.
도 6은 본 발명에 따른 실시예의 양태들을 나타내며, 여기서는 시술 동안에 머리의 움직임을 제한하는데 새로운 머리 고정 타겟이 이용된다.
전자기 방사선에 돌발적으로 노출되는 것으로부터 안저를 보호하기 위해 동공 폐쇄 또는 눈의 움직임 추적에만 의존하기 보다는, 본 발명에서는 또한 홍채에서의 에너지 밀도가 눈의 후방 부위에서의 에너지 밀도 보다 크도록 이루어진 프로파일을 가지는 전자기 방사선 경로를 이용한다. 예를 들어 도 1 참조. 이러한 에너지 밀도의 차이는 안저의 손상 없이 전방 홍채 치료 부위에서 효험이 있도록 한다.
본 개시물에서 사용된 바와 같은, "전자기 방사선"은 음향, 열, 광 또는 그 외 다른 것이든, 무선 주파수, 초음파, 마이크로파, 적외선, 가시광선, 자외선, x-선, t-선, 감마선, 또는 그 외 다른 것으로 이루어지든, 모든 형태의 전자기 방사선을 포함한다. "전자기 방사선"라는 용어는 단색성(monochromaticity)과 관련하여 복사의 형태를 제한하지 않으며(즉, 하나 또는 하나 이상의 다른 파장으로 구성되며), 방향성(directionality)과 관련하여 복사의 형태를 제한하지 않으며(즉, 단일의 비-발산(non-divergent) 스폿을 생성하거나 여러 다른 방향으로 방출하며), 또는 간섭성(coherence)과 관련하여 복사의 형태를 제한하지 않는다(즉, 생성된 파장들이 단일 위상 관계 또는 다중 위상 관계로 구성된다). 더욱이, 전자기 방사선의 주파수는, 그에 한정되는 것은 아니지만, (3Hz의 주파수를 가지는) 극단적 저주파 음향 복사로부터 (300EHz의 주파수를 가지는) 감마 복사를 포함하는, 전자기 스펙트럼 내에서 모든 주파수일 수 있다. 전자기 방사선은 연속파 또는 펄스로 전달될 수 있고, 펄스폭은 마이크로초, 나노초, 피코초, 펨토초(femtosecond), 또는 아토초(attosecond)를 포함하는, 모든 시간 간격일 수 있다. 펄스화 된다면, 이에 한정되지는 않지만, 1 Hz부터 100 Hz까지의 반복률을 포함하여 모든 반복률이 이용될 수 있다. 또한, 이에 한정되지는 않지만, 1 W로부터 1000 W까지의 에너지 출력을 포함하여 모든 에너지 출력이 이용될 수 있고, 모든 에너지 밀도가 타겟 치료 측에서 생성될 수 있다. 마지막으로, 이에 한정되지는 않지만, 글라스, 고형체, 액체, 기체, 결정체, 또는 반도체를 포함하는 모든 이득 물질(gain medium)이 이용될 수 있다. 레이저 에너지의 경우, 구체적 이득 물질은 Nd:YAG, 알렉산드라이트(alexandrite), 펄스 색소(pulsed-dye), 또는 다른 모든 물질을 포함할 수 있다.
"레이저"라는 용어는, 적외선, 가시광선, 자외선, 또는 그 외 다른 것으로 구성되든지 간에 광 스펙트럼 내에서의 모든 형태의 방사선(radiation)을 포함한다. "레이저"라는 용어는 단색성(monochromaticity)과 관련하여 복사의 형태를 제한하지 않으며(즉, 하나 또는 하나 이상의 다른 파장으로 구성되며), 방향성(directionality)과 관련하여 복사의 형태를 제한하지 않으며(즉, 단일의 비-발산(non-divergent) 스폿을 생성하거나 여러 다른 방향으로 방출하며), 또는 간섭성(coherence)과 관련하여 복사의 형태를 제한하지 않는다(즉, 생성된 파장들이 단일 위상 관계 또는 다중 위상 관계로 구성된다). 레이저 복사는 연속파 또는 펄스로 전달될 수 있고, 펄스폭은 마이크로초, 나노초, 피코초, 펨토초(femtosecond), 또는 아토초(attosecond)를 포함하는, 모든 시간 간격일 수 있다. 펄스화 된다면, 이에 한정되지는 않지만, 1 Hz부터 100 Hz까지의 반복률을 포함하여 모든 반복률이 이용될 수 있다. 또한, 이에 한정되지는 않지만, 1 W로부터 1000 W까지의 에너지 출력을 포함하여 모든 에너지 출력이 이용될 수 있고, 모든 에너지 밀도가 타겟 치료 측에서 생성될 수 있다. 마지막으로, 이에 한정되지는 않지만, 글라스, 고형체, 액체, 기체, 결정체, 또는 반도체, 보다 상세하게는 Nd:YAG, 알렉산드라이트(alexandrite), 펄스 색소(pulsed-dye), 또는 다른 모든 물질을 포함하여 모든 이득 물질(gain medium)이 이용될 수 있다.
"경로(pathway)"라는 용어는 레이저 빔, 무선 주파수 경로, 사세르(SASER) 경로, 초음파 경로, 마이크로파 경로, 적외선 경로, 가시광선 경로, 자외선 경로, x-선 경로, t-선 경로, 감마선 경로, 또는 그 외 다른 것과 같은 모든 전자기 방사선 경로를 포함한다. 또한 전자기 방사선은 완전히 평행하거나, 발산 또는 수렴의 모든 배출각일 수 있다. 마지막으로, "경로"라는 용어는 단일 경로 또는 다중 경로를 포함하는 것으로 이해되어야 하며, 다중각은 단일 경로의 스플릿팅(splitting) 또는 스크리닝(screening)으로부터 얻어질 수 있거나, 다중 주파수, 형상, 에너지 밀도 및 다른 특징들을 가지는 다중 경로로 발생될 수 있다. 경로가 레이저 빔이라면, 우각경렌즈(goniolens)를 통해 방사되거나 방사되지 않을 수 있다.
"스폿"이라는 용어는, 레이저 스폿, 무선 주파수 지점(site), 사세르 지점, 초음파 지점, 마이크로파 지점, 적외선 지점, 가시광선 지점, 자외선 지점, x-선 지점, t-선 지점, 감마선 지점, 또는 그 외 다른 것과 같이, 경로와 타겟 셀 또는 티슈 간의 교차 면을 포함한다. "전자기 방사선"라는 용어는 경로 또는 스폿을 특정한 형상, 사이즈, 또는 투사각에 한정하려는 것이 아니다. 스폿은 접하거나. 중첩되거나, 또는 격리(isolated)될 수 있고, 중첩은 모든 방향 (x, y, 또는 z)에서 일어날 수 있다. 그들은 또한 정사각, 직사각, 원형, 타원형, 삼각형, 사다리꼴, 원환체형(torus), 또는 그 외 다른 것일 수 있다. 마지막으로 스폿은, 이에 한정되지는 않지만, 1-10 마이크론, 10-50 마이크론, 50-100 마이크론, 100-200 마이크론, 200-500 마이크론, 500-1,000 마이크론, 또는 1,000 마이크론에서 15 밀리미터를 포함하는 모든 직경일 수 있다.
바람직하게는, 상기 경로의 에너지 밀도는 안과 조직에 대한 원치 않는 그 어떤 손상도 최소화하는 수준으로 설정된다. 비록 바람직한 전자기 방사선 주파수가 그 어떤 각막 손상을 일으키지 않고 각막을 통과할 것이지만, 본 발명의 방법은 전자기 방사선을 인가하기 전에 각막에 구멍을 형성하는 과정을 더 포함할 수 있다. 구멍이 형성되고 나서는, 전자기 방사선이 직접 그 구멍을 통해 도입될 수 있거나, 광-전달 섬유(light-conducting fiber)와 같은 경로-전달 수단( pathway-conducting vehicle)을 통해 도입될 수 있다. 필요하다면, 임시 콘택트 렌즈가 수술 후의 불편함을 줄이기 위해 적용될 수 있다.
본 발명의 하나의 실시예에서, 전자기 방사선이 광파(light wave)를 포함한다. 본 실시예의 하나의 버전에서는, 전자기 방사선 발생기가 레이저이고 전자기 방사선 경로가 레이저 빔이다. 컴퓨터 스캔 시스템이 홍채의 전방 표면에 레이저 빔을 인가한다. 레이저 빔의 프로파일은 가우시안(Gaussian)이며, 그럼으로써 빔 프로파일이 초점에 집중되고 나서 초점으로부터 발산한다. 도 1 참조. 레이저 빔의 프로파일로 인해, 전방 홍채에서의 에너지 밀도가 안저(fundus)에서의 에너지 밀도보다 크다. 본 실시예의 독립적인 대안 버전에서는, 빔의 발산각이 1.0-2.5 도, 2.5-5.0 도, 5.0-7.5 도, 7.5-10.0 도 10.0-12.5 도, 12.5-15.0 도, 15.0-20.0 도이거나, 20.0 도 보다 크다. 본 실시예의 다른 독립적 버전에서는, 레이저 빔에 의해 홍채의 전방 표면에 형성된 스폿이 1-10 마이크론, 10-50 마이크론, 50-100 마이크론, 100-200 마이크론, 200-500 마이크론, 500-1, 000 마이크론, 및 1,000 마이크론 내지 15 밀리미터의 직경을 가진다.
컴퓨터 스캔 시스템은 당업계에서 잘 알려져 있다. 예를 들어, Zyoptix Custom Wavefront LASIK (Bausch & Lomb, Rochester, NY)를 참조한다. 상기 스캔 시스템은 하나 이상의 컴퓨터 시스템을 이용하여 구현될 수 있다. 예시적인 컴퓨터 시스템은 소프트웨어, 모니터, 캐비넷, 키보드, 및 마우스를 포함할 수 있다. 캐비넷은, 프로세서, 메모리, 대용량 저장 장치 등과 같은 잘 알려진 컴퓨터 구성요소들을 수용할 수 있다. 대용량 저장 장치는 대용량 디스크 드라이브, 플로피 디스크, Iomega ZIP.TM 디스크, 마그네틱 디스크, 고정 디스크, 하드 디스크, CD-ROM, 기록가능한 CD, DVD, DVD-R, DVD-RW, 플래쉬 및 다른 비휘발성 솔리드 스테이트 스토리지, 테입 스토리지, 리더 및 다른 유사 매체, 그리고 그들의 조합을 포함할 수 있다. 이진수의 기계실행 가능한 버전의 본 발명의 소프트웨어가 대용량 저장 장치에 저장되거나 설치될 수 있다. 나아가, 본 발명의 소프트웨어의 소스코드가 또한 대용량 저장 장치(예를 들어, 마그네틱 디스크, 테입, 또는 CD-ROM)에 저장되거나 설치될 수 있다. 또한, 컴퓨터 시스템은 중앙 처리장치, 시스템 메모리, 입/출력(I/O) 컨트롤러, 디스플레이 어댑터, 시리얼 또는 유니버설 시리얼 버스(USB) 포트, 네트워크 인터페이스, 및 스피커와 같은 서브시스템을 포함할 수 있다. 본 발명은 또한 추가적 또는 소수의 서브시스템을 가지는 컴퓨터 시스템과 함께 사용될 수 있다. 예를 들어, 컴퓨터 시스템은 하나 이상의 프로세서을 포함(즉, 멀티프로세서 시스템)할 수 있거나, 시스템은 캐쉬 메모리를 포함할 수 있다. 상기 빔은, 이에 한정되지는 않지만, 나선형 패턴, 래스터(raster) 패턴, 또는 분리된 국부 패턴을 포함하여, 모든 형태나 패턴으로 안내될 수 있다.
이전 실시예의 다른 버전에서는, 전방 홍채가 2개의 치료구역으로 나뉘고, 각 구역은 동공에 대하여 동심이다. 도 2 참조. 제1치료구역은 대략 동공축소근의 외주로부터 동공의 외주까지 이른다. 제2치료구역은 대략적인 연곽(limbus)으로부터 동공수축근의 외주까지 이른다. 컴퓨터 스캔 시스템은 1차로 제1치료구역에 외주로부터 내주로 레이저 빔을 나선형 패턴으로 인가하고, 2차로 제2치료구역에 외주로부터 내주로 레이저 빔을 나선형 패턴으로 인가한다.
본 발명의 다른 실시예에서, 전자기 방사선이 음파를 포함한다. 본 실시예의 하나의 버전에서는, 전자기 방사선 발생기가 사세르이고, 전자기 방사선 경로는 사세르 빔이다. 컴퓨터 스캔 시스템이 홍채의 전방 표면에 사세르 빔을 인가한다. 사세르 빔의 프로파일은 가우시안이며, 그럼으로써 상기 빔 프로파일은 초점으로 집중되고 나서 초점으로부터 발산한다. 도 1 참조. 사세르 빔의 상기 프로파일로 인해, 전방 홍채에서의 에너지 밀도가 안저에서의 에너지 밀도 보다 크다. 본 실시예의 독립적 대안 버전에서는, 빔의 발산각이 1.0-2.5 도, 2.5-5.0 도, 5.0-7.5 도, 7.5-10.0, 10.0-12.5 도, 12.5-15.0 도, 15.0-20.0 도, 또는 20.0 도 보다 크다. 도 1 참조. 본 실시예의 다른 독립적 대안 버전에서는, 사세르 빔에 의해 홍채의 전방 표면에 형성된 스폿이 1-10 마이크론, 10-50 마이크론, 50-100 마이크론, 100-200 마이크론, 200-500 마이크론, 500-1,000 마이크론, 및 1,000 마이크론 내지 15 밀리미터의 직경을 가진다.
본 발명의 독립적 대안 실시예에서, 전자기 방사선이 홍채의 전체 전방 표면 영역의 1-25%, 25-50%, 50-75%, 또는 75-100%과 동일한 비율로 인가된다.
본 발명의 다른 실시예에서, 전자기 방사선의 인가가 24-시간 주기 이내에 이전의 전자기 방사선 인가와 중첩된다. 도 3 참조. 상술한 레이저 실시예에서는, 예를 들어, 레이저 스폿이 24-시간 주기 이내에 이전에 인가된 레이저 스폿과 중첩되도록 인가된다. 본 실시예의 다른 독립적 대안 버전에서는, 스폿이 이전에 인가된 스폿과 24-시간 주기 이내에 이전 스폿 영역의 0??10%, 10-20%, 20-30%, 30-40%, 40-50%, 50-60%, 60-70%, 70-80%, 80-90%, 또는 90-100%과 같은 비율로 중첩된다. 다른 실시예에서는, 전자기 방사선이 24-시간 주기 이내에 이전의 그 어떤 전자기 방사선 인가와도 중첩되지 않도록 인가된다. 도 4 참조. 상술한 레이저 실시예에서는, 레이저 스폿이 24-시간 주기 이내에 이전에 인가된 그 어떤 레이저 스폿과 중첩되지 않도록 인가된다. 또 다른 실시예에서, 전자기 방사선의 인가는 24-시간 주기 이내에 상기 인가와 이전의 모든 전자기 방사선 인가 사이에 비치료 홍채 영역을 남긴다. 도 5 참조. 상술한 레이저 실시예에서는, 레이저 스폿이 24-시간 주기 이내에 그러한 스폿과 이전에 인가된 모든 레이저 스폿과의 사이에 비치료 홍채 영역을 남기도록 인가된다. 본 실시예의 다른 독립적 버전에서는, 24-시간 주기 이내에 이전에 인가된 레이저 스폿과의 사이에 1-10 마이크론, 10-50 마이크론, 50-100 마이크론, 100-200 마이크론, 200-500 마이크론, 500-1,000 마이크론, 및 1,000 마이크론 내지 15 밀리미터와 동일한 거리를 두도록 스폿이 인가된다. 그리고, 또 다른 실시예에서는, 24-시간 주기 이내에, 몇몇 전자기 방사선 인가는 이전의 인가와 중첩되며, 다른 것들은 중첩되지 않는다. 상술한 레이저 실시예에서는, 24-시간 주기 이내에, 몇몇 레이저 스폿은 이전의 레이저 스폿과 중첩되고, 다른 것들은 중첩되지 않는다.
본 발명의 다른 실시예에서, 본 디바이스는 시술 동안 머리의 움직임을 제한하는 장치를 포함한다. 본 실시예의 하나의 버전에서, 머리의 움직임이 수술용 머리 고정기(surgical head restrain)를 이용하여 제한된다. 수술용 머리 고정기는 당업계에 잘 알려져 있다. 그 예는 Surgical Head Restraint System (RTP Company, Winona, MN) 및 Cmax Shoulder Chair (Equip. No. BF594) (Steris Corporation, Mentor, OH)에 사용되는 머리 고정 스트랩(head restrain straps) (Equip. No. BF039)을 포함한다. 본 실시예의 다른 버전에서는, 시술 동안 머리의 움직임을 제한하기 위해 바이트 바(bite bar)가 이용된다. 머리 움직임을 제한하는 바이트 바의 사용은, 뇌영상법 과정에서의 바이트 바 사용을 포함하여, 당업계에 잘 알려져 있다. 예를 들어, Menon 등의 Design and efficacy of a head-coil bite bar for reducing movement-related artifacts during functional MRI scanning, 29 Behav. Res. Meth., Instr., & Comp. 589-94 (1997)를 참조한다. 본 실시예의 또 다른 버전에서는, 시술 동안 머리의 움직임을 제한하기 위해 머리 고정 타겟(head fixation target)이 이용된다. 이 머리 고정 타겟은 출원인에 의해 발명된 새로운 디바이스이다. 이는 어느 금속, 직물, 플라스틱, 또는 다른 어떤 재료로 이루어진 하나 이상의 로드(rod), 바, 스트랩을 이용하여 환자의 머리의 예정된 지점들에 압력을 가하며, 그럼으로써 모든 움직임에 관하여 환자에게 피드백(feedback)을 제공한다. 도 6 참조.
본 발명의 또 다른 실시예에서, 본 디바이스는 시술 동안 눈의 움직임을 제한하는 장치를 포함한다. 본 실시예의 하나의 버전에서는, 눈의 움직임이 석션링(suction ring)을 이용하여 제한된다. 안과용 석션링은 당업계에 잘 알려져 있다. Corneal Surgery: Theory, Technique, and Tissue 722 (Brightbill, ed., 4th ed., 2009) 참조. 다른 버전에서는, 움직임이 시선 고정 타겟을 이용하여 제한된다. 시선 고정은 당업계에 잘 알려져 있다. Simonova, Ocular and orbital legions, in Principles and practice of stereotactic radiosurgery 593 (Chin & Regine, eds., 2008) 참조. 시선 고정은, 이에 한정되지는 않지만, 3차원 대상물, 2차원 이미지, 또는 광(light)을 포함하여 모든 고정 대상물을 활용할 수 있다. 출원인에 의해 발명된 본 실시예의 본 버전에 관한 하나의 새로운 변형예에서는, 광원이 튜브의 단부에 배치되며, 그럼으로써 환자는 광원을 보기 위해 튜브를 통하여 바라보아야 한다. 시선 고정 타겟을 제공하는 것에 더해, 환자가 축(axis)으로부터 벗어난다면 광원이 보이지 않기 때문에, 본 변형예는 또한 머리 고정 타겟을 제공한다. 출원인에 의해 발명된 본 실시예의 본 버전에 관한 다른 새로운 변형예에서는, 광원에 의해 생성된 광이 시술 동안 색상이 변경된다. 상기 광은, 예를 들어, 황색(amber), 붉은색, 녹색, 및 노란색을 순환할 수 있다. 색상이 변하는 고정 타겟은 망막 상의 이미지를 새롭게 하기 위한 눈의 비자발적인 경련이나 다른 움직임, 또는 그 대신 그러한 움직임을 억제하면서 생기는 불편함을 덜 유발하게 된다. Tomimatsu의 "rotating snakes" in smooth motion do not appear to rotate, 39 Perception 721-24 (2010) 참조. 출원인에 의해 발명된 본 실시예의 본 버전에 대한 다른 새로운 변형예에서는, 광원에 의해 생성된 광은 시술 동안 강도가 변한다. 광은, 또는 예로서, 밝음, 중간, 및 어둑함을 순환할 수 있다. 강도가 변하는 고정 타겟도 또한 망막 상의 이미지를 새롭게 하기 위한 눈의 비자발적인 경련이나 다른 움직임, 또는 그 대신 그러한 움직임을 억제하면서 생기는 불편함을 덜 유발하게 된다. 동 서적의 721-24 참조. 출원인에 의해 발명된 본 실시예의 본 버전에 대한 또 다른 새로운 변형예에서는, 상기 고정 타겟이 동영상을 포함하며, 이 영상들은, 컬러 또는 흑백의 2차원 또는 3차원의, 만화로 제작되거나 라이브 액션(live action)일 수 있다. 동영상 고정 타겟도 또한 망막 상의 이미지를 새롭게 하기 위한 눈의 비자발적인 경련이나 다른 움직임, 또는 그 대신 그러한 움직임을 억제하면서 생기는 불편함을 덜 유발하게 된다. 동 서적 721-24 참조. 이들 실시예, 변형예, 또는 버전의 전부는, 시술 동안 치료되는 눈의 고정을 위해 치료되는 눈 또는 상대편 눈 앞에 배치될 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에서, 본 디바이스는 치료 동안 눈의 움직임을 감지하는 장치는 포함한다. 본 실시예의 하나의 버전에서, 능동적인 눈 추적이 이용되며, 그럼으로써 눈의 움직임이 식별되고, 전자기 경로가 눈의 움직임에 상응하여 이동된다. 이들 움직임은 홍채의 전방 표면을 따르는 이동(소위 x-y 평면을 따르는 이동), 깊이의 이동(소위 z축을 따르는 이동), 궤도 축 둘레의 회전, 또는 그 외의 것들로 구성될 수 있다. 능동적 눈 추적은 당업계에 잘 알려져 있다. 예를 들어, SMI Surgery Guidance (SensoMotoric Instruments GmbH, Teltow, Germany) 참조. 본 실시예의 다른 버전에서는, 수동적 눈 추적이 이용되며, 그럼으로써 눈의 움직임이 식별되고, 전자기 방사선 경로가 종료되거나 중단된다. 출원인에 의해 발명된 본 실시예의 본 버전에 대한 새로운 변형예에서는, 눈의 이동이 식별되고, 전자기 방사선 경로는 눈이 이전 위치로 복귀하거나 어느 다른 원하는 위치에 위치할 때까지 중단되며, 그러고 나서 전자기 방사선 경로가 재개된다. 본 실시예의 이들 버전에 대한 독립적인 대안 변형예에서, 전자기 방사선 경로는 (a) 전자기 방사선 소스에 대한 파워를 종료하거나 중단함으로써, (b) 전자기 방사선 소스를 끔으로써, (c) 전자기 방사선 경로를 상기 타겟 영역으로부터 벗어나서 다시 방사함으로써, (d) 셔터, 배플(baffle), 쉴드(shield) 또는 다른 차단 장치를 이용하여 전자기 방사선 경로를 중단시킴으로써, 또는 (e) (음향 -광학(acousto-optical) 변조기 또는 전기-광학(electro-optical) 변조기와 같은) 광 변조기 또는 에너지 변조기를 사용하여 전자기 방사선 경로를 중단시킴으로써 종료되거나 중단된다.
본 발명의 다른 실시예에서, 디바이스는 적외선 홍채 투조(transillumination) 기술을 포함한다. 이 기술은 당업계에 잘 알려져 있다. Chan의 Digital Camera System to Perform Infrared Photography of Iris Transillumination, 11 J. Glaucoma 426-28 (2002) 참조. 많은 안구-추적 기술은 동공을 이용하여 눈 움직임을 추적한다. 그러나, 암흑 홍채(dark iris)에서는, 동공의 위치를 찾기가 어렵다. 따라서, 출원인에 의해 발명된 본 실시예에 관한 새로운 변형예에서는, 암흑 홍채에서 동공을 보다 쉽게 식별하기 위하여 적외선 홍채 투조가 이용된다.
본 발명의 다른 실시예에서는, 본 디바이스가 눈의 굴절률을 측정하는 장치를 포함하여 치료 동안 광의 굴절률을 감안하여 광의 인가를 조절한다. 본 실시예에 대한 하나의 버전에서, 상기 장치는 눈의 전안방(anterior chamber)의 깊이를 측정하고, 치료 동안 광의 굴절률을 감안하여 광의 인가를 조절한다. 전안방 깊이를 측정하는 장치는 당업계에 잘 알려져 있다. 그 예는 Haag-Streit AG (Koeniz, Switzerland)의 Lenstarㄾ technology와 Carl Zeiss Meditec AG (Jena, Germany)의 IOLMasterㄾ technology를 포함한다. 본 실시예의 다른 버전에서는, 상기 장치가 각막의 형상을 측정하고, 치료 동안 광의 굴절률을 감안하여 광의 인가를 조절한다. 전안방의 깊이를 측정하는 장치는 당업계에 잘 알려져 있다. 그 예는 OCULUS Optikgerate GmbH (Wetzlar, Germany)의 Pentacamㄾ HR technology와 Carl Zeiss Meditec AG (Jena, Germany)의 ATLAS™ 9000 Corneal Topography System을 포함한다.
당업계의 통상의 지식을 자진 자는 많은 다른 변형물, 수정물, 및 대체물을 알 수 있을 것이다. 상술한 예들은 순전히 예시를 위한 것으로서, 여기의 청구항의 범위를 한정하여서는 안된다. 또한 여기에 설명된 예들과 실시예들은 오로지 설명을 위한 것으로서 광에 있어서의 그의 다양한 변형물 또는 변경물이 당업계의 지식을 가진 자에게 제시될 것이며 본 출원의 사상과 범위 및 첨부된 청구항의 범위에 포함된다.
본 발명에 대한 설명은 예시와 설명의 목적으로 주어졌다. 이는 완벽하거나 본 발명을 개시된 정확한 형태에 제한하려는 것이 아니며, 위에서 교시한 광에 있어서 많은 변형물 및 변형예가 가능하다. 실시예들은 본 발명의 원리와 그의 실제 응용을 가장 잘 설명하기 위해 선택 및 개시되었다. 본 설명은 당업자가 본 발명을 다양한 실시예와 특정한 용도에 적합한 다양한 수정물로서 가장 잘 활용하고 실행할 수 있게 할 것이다. 본 발명의 범위는 다음의 청구항에 의해 정의된다.
Claims (24)
- 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하기 위한 장치로서,
레이저빔을 발생하는 레이저 디바이스를 포함하는 전자기 방사선 발생기;
(a) 눈에 부착될 수 있는 흡입 링 및 시선 고정 타겟 중 적어도 하나를 포함하여, 시술 동안 눈의 움직임을 제한하는 눈의 움직임 제한부, 또는 (b) 눈의 움직임이 식별된 경우 레이저 빔이 눈의 움직임에 대응하여 이동되거나, 종료되거나 중단되도록 하기 위해, 시술 동안 xy 평면 또는 z 축 중 적어도 하나를 따라 눈의 움직임을 식별하는 눈의 움직임 식별부, (a), (b) 중 하나 이상; 및
상기 홍채의 전방 표면의 25 % 이상에 레이저 빔을 인가하기 위한 컴퓨터화된 스캐닝 시스템;을 포함하고;
상기 전자기 방사선 발생기는 각막을 통과하는 레이저 빔을 방출하도록 구성되고, 상기 레이저 빔은 홍채 전방으로 수렴하고, 홍채에 제 1 에너지 밀도를 전달하며, 안저가 레이저 빔에 우발적으로 노출되는 경우, 상기 레이저 빔은 상기 홍채의 후방으로 발산하여 상기 안저에 제 2 에너지 밀도를 전달하며, 상기 제 1 에너지 밀도는 상기 제 2 에너지 밀도보다 큰 것을 특징으로 하는, 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하는 장치.
- 청구항 1에 있어서,
상기 전자기 방사선은 상기 홍채의 전방 표면적의 50-75 %에 적용되는 것을 특징으로 하는, 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하는 장치.
- 청구항 1에 있어서,
상기 전자기 방사선은 홍채의 전방 표면적의 75-100 %에 적용되는 것을 특징으로 하는, 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하는 장치.
- 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 레이저 빔은 1-10 마이크론(microns)의 직경으로 홍채의 전방 표면에 스폿을 생성하는 것을 특징으로 하는, 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하는 장치.
- 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 레이저 빔은 10 내지 50 마이크론의 직경으로 홍채의 전방 표면에 스폿을 생성하는 것을 특징으로 하는, 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하는 장치.
- 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 레이저 빔은 50 내지 100 마이크론의 직경으로 홍채의 전면에 스폿을 생성하는 것을 특징으로 하는, 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하는 장치.
- 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 레이저 빔은 100 내지 200 마이크론의 직경을 갖는 홍채의 전방 표면에 스폿을 생성하는 것을 특징으로 하는, 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하는 장치.
- 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 레이저 빔은 200 내지 500 마이크론의 직경으로 홍채의 전방 표면에 스폿을 생성하는 것을 특징으로 하는, 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하는 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 눈의 움직임 제한부는 눈에 부착 가능한 흡입 링을 포함하는 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는, 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하는 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 눈의 움직임 제한부는 시선 고정 타겟을 포함하는 것을 특징으로 하는, 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하는 장치.
- 제 1 항에 있어서,
상기 눈의 움직임 식별부는 시술 동안 눈의 움직임을 x-y 평면을 따라 식별하는 것을 특징으로 하는, 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하는 장치.
- 제 1 항에 있어서,
상기 눈의 움직임 식별부는 시술 동안 눈의 움직임을 z 축을 따라 식별하는 것을 특징으로 하는, 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하는 장치.
- 제 1 항에 있어서,
상기 눈의 움직임 식별부에 의해 시술 중에 눈의 움직임이 검출되는 경우, 상기 레이저 빔은 상기 눈의 움직임에 대응하여 이동되는 것을 특징으로 하는, 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하는 장치.
- 제 1 항에 있어서,
상기 눈의 움직임 식별부에 의해 시술 중에 눈의 움직임이 검출되는 경우, 상기 레이저 빔이 종료되는 것을 특징으로 하는, 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하는 장치.
- 제 1 항에 있어서,
상기 눈의 움직임 식별부에 의해 시술 중에 눈의 움직임이 검출되는 경우, 상기 레이저 빔은 중단되는 것을 특징으로 하는, 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하는 장치.
- 청구항 1에 있어서,
상기 레이저빔은 상기 홍체의 후방에서 10.0-12.5도의 발산 각도로 발산하는 것을 특징으로 하는, 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하는 장치.
- 청구항 1에 있어서,
상기 레이저빔은 상기 홍체의 후방에서 12.5-15.0도의 발산 각도로 발산하는 것을 특징으로 하는, 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하는 장치.
- 청구항 1에 있어서,
상기 레이저빔은 상기 홍체의 후방에서 15.0-20.0도의 발산 각도로 발산하는 것을 특징으로 하는, 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하는 장치.
- 청구항 1에 있어서,
상기 레이저빔은 상기 홍체의 후방에서 20도보다 큰 발산 각도로 발산하는 것을 특징으로 하는, 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하는 장치.
- 청구항 1에 있어서,
상기 컴퓨터 스캔 시스템은 상기 홍채의 전방 표면에 제1 레이저 스폿과 제2 레이저 스폿을 인가하도록 이루어진 것을 특징으로 하는, 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하는 장치.
- 제 1 항에 있어서,
상기 레이저 빔은 1.0 내지 2.5 도의 발산 각도로 홍채의 후방에서 발산되는 것을 특징으로 하는, 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하는 장치.
- 제 1 항에 있어서,
상기 레이저 빔은 2.5 내지 5.0 도의 발산 각도로 상기 홍채의 후방에서 발산되는 것을 특징으로 하는, 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하는 장치.
- 제 1 항에 있어서,
상기 레이저 빔은 5.0 내지 7.5 도의 발산 각도로 홍채의 후방에서 발산되는 것을 특징으로 하는, 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하는 장치.
- 제 1 항에 있어서,
상기 레이저 빔은 7.5-10 도의 발산 각도로 상기 홍채의 후방에서 발산되는 것을 특징으로 하는, 인간 눈의 홍채의 전방 표면에 전자기 방사선을 인가하는 장치.
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