KR20200044081A - 터치 패널 센서 및 터치 패널 센서의 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
터치 센서 유효 영역의 장척화에 수반하는 터치 감도의 저하를 방지할 수 있고, 또한 터치 검출에 기여하지 않는 영역의 개재를 회피할 수 있는 터치 패널 센서 및 그 제조 방법의 제공을 과제로 하고, 당해 과제는, 기재의 편면에 복수의 센서 채널 (2) 에 의해 구성된 제 1 센서군 (20) 을 구비하고, 반대면에 복수의 센서 채널 (4) 에 의해 구성된 제 2 센서군 (40) 을 구비하고, 복수의 센서 채널 (2) 과 복수의 센서 채널 (4) 은, 서로 교차하는 방향으로 배향되고, 제 1 센서군 (20) 과 제 2 센서군 (40) 에 의해 장방형상의 터치 센서 유효 영역 (S) 이 형성되고, 복수의 센서 채널 (2) 중 가장 긴 센서 채널의 센서 길이를 x 로 하고, 복수의 센서 채널 (4) 중 가장 긴 센서 채널의 센서 길이를 y 로 하고, 터치 센서 유효 영역 (S) 의 장변을 α 로 했을 때에, x≤y<α 를 만족함으로써 해결된다.
Description
본 발명은, 터치 패널 센서 및 터치 패널 센서의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 터치 센서 유효 영역의 장척화에 수반하는 터치 감도의 저하를 방지할 수 있고, 또한 터치 검출에 기여하지 않는 영역의 개재를 회피할 수 있는 터치 패널 센서 및 터치 패널 센서의 제조 방법에 관한 것이다.
종래, 휴대 단말 기기 등의 터치 패널에, 정전 용량 방식의 터치 패널 센서가 이용되고 있다 (특허문헌 1).
특허문헌 2 에는, 횡장 (橫長) 터치 패널에 사용되는 터치 패널 센서가 제안되어 있다.
특허문헌 2 의 기술에서는, 터치 패널 센서에 있어서의 터치 센서 유효 영역을 장척화하려고 하면, 기재 장변 방향으로 배향되는 센서 채널이 장척화에 수반하여 고저항화되어, 터치 감도가 떨어져 버린다.
복수의 터치 패널 센서를 준비하여, 각 터치 패널 센서의 터치 센서 유효 영역이 장척상으로 병설되도록 배치함으로써, 상기 서술한 고저항화는 회피할 수 있다. 그러나, 이 경우에는, 각 터치 패널 센서의 터치 센서 유효 영역간에, 터치 검출에 기여하지 않는 인출 배선부의 스페이스를 형성할 필요가 생긴다. 그 결과, 터치 센서 유효 영역간에, 터치 검출에 기여하지 않는 영역이 개재되게 된다.
그래서 본 발명의 과제는, 터치 센서 유효 영역의 장척화에 수반하는 터치 감도의 저하를 방지할 수 있고, 또한 터치 검출에 기여하지 않는 영역의 개재를 회피할 수 있는 터치 패널 센서 및 터치 패널 센서의 제조 방법을 제공하는 것에 있다.
또 본 발명의 다른 과제는, 이하의 기재에 의해 분명해진다.
상기 과제는, 이하의 각 발명에 의해 해결된다.
1.
기재의 편면에, 복수의 센서 채널에 의해 구성된 제 1 센서군을 구비하고,
상기 기재의 반대면에, 복수의 센서 채널에 의해 구성된 제 2 센서군을 구비하고,
상기 제 1 센서군을 구성하는 상기 복수의 센서 채널과, 상기 제 2 센서군을 구성하는 상기 복수의 센서 채널은, 서로 교차하는 방향으로 배향되고, 상기 제 1 센서군과 상기 제 2 센서군에 의해 장방형상의 터치 센서 유효 영역이 형성되고,
상기 제 1 센서군을 구성하는 상기 복수의 센서 채널 중 가장 긴 센서 채널의 센서 길이를 x 로 하고, 상기 제 2 센서군을 구성하는 상기 복수의 센서 채널 중 가장 긴 센서 채널의 센서 길이를 y 로 하고, 상기 터치 센서 유효 영역의 장변을 α 로 했을 때에, x≤y<α 를 만족하는 터치 패널 센서.
2.
상기 터치 센서 유효 영역의 단변을 β 로 했을 때에, 3β≤α 를 만족하는 상기 1 에 기재된 터치 패널 센서.
3.
상기 제 1 센서군을 구성하는 상기 센서 채널과, 상기 제 2 센서군을 구성하는 상기 센서 채널이 이루는 각도를 θ1 로 했을 때에, 90°≥θ1≥60°를 만족하는 상기 1 또는 2 에 기재된 터치 패널 센서.
4.
상기 제 1 센서군 및 상기 제 2 센서군을 구성하는 상기 복수의 센서 채널의 각각에 접속된 복수의 인출 배선을 구비하고,
상기 복수의 인출 배선은, 장방형상의 상기 터치 센서 유효 영역의 일방의 장변측에서 센서 채널에 접속되는 인출 배선과, 타방의 장변측에서 센서 채널에 접속되는 인출 배선에 의해 구성되어 있는 상기 1 ∼ 3 중 어느 하나에 기재된 터치 패널 센서.
5.
기재의 편면에, 복수의 센서 채널에 의해 구성된 제 1 센서군을 구비하고,
상기 기재의 반대면에, 복수의 센서 채널에 의해 구성된 제 2 센서군을 구비하고,
상기 제 1 센서군을 구성하는 상기 복수의 센서 채널과, 상기 제 2 센서군을 구성하는 상기 복수의 센서 채널은, 서로 교차하는 방향으로 배향되고, 상기 제 1 센서군과 상기 제 2 센서군에 의해 장방형상의 터치 센서 유효 영역이 형성되는 터치 패널 센서의 제조 방법으로서,
상기 제 1 센서군을 구성하는 상기 복수의 센서 채널 중 가장 긴 센서 채널의 센서 길이를 x 로 하고, 상기 제 2 센서군을 구성하는 상기 복수의 센서 채널 중 가장 긴 센서 채널의 센서 길이를 y 로 하고, 상기 터치 센서 유효 영역의 장변을 α 로 했을 때에, x≤y<α 를 만족하도록 하는 터치 패널 센서의 제조 방법.
6.
상기 터치 센서 유효 영역의 단변을 β 로 했을 때에, 3β≤α 를 만족하는 상기 5 에 기재된 터치 패널 센서의 제조 방법.
7.
상기 제 1 센서군을 구성하는 상기 센서 채널과, 상기 제 2 센서군을 구성하는 상기 센서 채널이 이루는 각도를 θ1 로 했을 때에, 90°≥θ1≥60°를 만족하는 상기 5 또는 6 에 기재된 터치 패널 센서의 제조 방법.
8.
상기 제 1 센서군 및 상기 제 2 센서군을 구성하는 상기 복수의 센서 채널의 각각에 접속되는 복수의 인출 배선을 형성하는 공정을 추가로 구비하고,
상기 복수의 인출 배선은, 장방형상의 상기 터치 센서 유효 영역의 일방의 장변측에서 센서 채널에 접속되는 인출 배선과, 타방의 장변측에서 센서 채널에 접속되는 인출 배선에 의해 구성되어 있는 상기 5 ∼ 7 중 어느 하나에 기재된 터치 패널 센서의 제조 방법.
본 발명에 의하면, 터치 센서 유효 영역의 장척화에 수반하는 터치 감도의 저하를 방지할 수 있고, 또한 터치 검출에 기여하지 않는 영역의 개재를 회피할 수 있는 터치 패널 센서 및 터치 패널 센서의 제조 방법을 제공할 수 있다.
도 1 은 제 1 실시형태에 관련된 터치 패널 센서에 있어서의 기재의 편면의 구성을 설명하는 도면.
도 2 는 제 1 실시형태에 관련된 터치 패널 센서에 있어서의 기재의 반대면의 구성을 설명하는 도면.
도 3 은 기재의 편면에 형성된 제 1 센서군과, 기재의 반대면에 형성된 제 2 센서군을, 동일한 방향에서 평면에서 본 평면도.
도 4 는 제 2 실시형태에 관련된 터치 패널 센서를 설명하는 도면.
도 5 는 제 3 실시형태에 관련된 터치 패널 센서를 설명하는 도면.
도 6 은 코히스테인 현상에 의한 세선 형성을 설명하는 도면.
도 7 은 메시 패턴 형성의 제 1 양태를 설명하는 도면.
도 8 은 메시 패턴 형성의 제 2 양태를 설명하는 도면.
도 9 는 참고예에 관련된 터치 패널 센서를 설명하는 도면.
도 2 는 제 1 실시형태에 관련된 터치 패널 센서에 있어서의 기재의 반대면의 구성을 설명하는 도면.
도 3 은 기재의 편면에 형성된 제 1 센서군과, 기재의 반대면에 형성된 제 2 센서군을, 동일한 방향에서 평면에서 본 평면도.
도 4 는 제 2 실시형태에 관련된 터치 패널 센서를 설명하는 도면.
도 5 는 제 3 실시형태에 관련된 터치 패널 센서를 설명하는 도면.
도 6 은 코히스테인 현상에 의한 세선 형성을 설명하는 도면.
도 7 은 메시 패턴 형성의 제 1 양태를 설명하는 도면.
도 8 은 메시 패턴 형성의 제 2 양태를 설명하는 도면.
도 9 는 참고예에 관련된 터치 패널 센서를 설명하는 도면.
이하에, 본 발명을 실시하기 위한 형태에 대하여 상세하게 설명한다.
본 발명의 터치 패널 센서는, 기재의 편면에, 복수의 센서 채널 (센서 전극이라고 하는 경우도 있다) 에 의해 구성된 제 1 센서군을 구비하고, 상기 기재의 반대면에, 복수의 센서 채널에 의해 구성된 제 2 센서군을 구비한다. 상기 제 1 센서군을 구성하는 상기 복수의 센서 채널과, 상기 제 2 센서군을 구성하는 상기 복수의 센서 채널은, 서로 교차하는 방향으로 배향되고, 상기 제 1 센서군과 상기 제 2 센서군에 의해 장방형상의 터치 센서 유효 영역이 형성된다. 상기 제 1 센서군을 구성하는 상기 복수의 센서 채널 중 가장 긴 센서 채널의 센서 길이를 x 로 하고, 상기 제 2 센서군을 구성하는 상기 복수의 센서 채널 중 가장 긴 센서 채널의 센서 길이를 y 로 하고, 상기 터치 센서 유효 영역의 장변을 α 로 했을 때에, x≤y<α 를 만족한다. 이러한 터치 패널 센서에 의하면, 터치 센서 유효 영역의 장척화에 수반하는 터치 감도의 저하를 방지할 수 있고, 또한 터치 검출에 기여하지 않는 영역의 개재를 회피할 수 있는 효과가 얻어진다.
우선, 도 1 ∼ 도 3 을 참조하여, 제 1 실시형태에 관련된 터치 패널 센서에 대하여 설명한다. 도 1 은 터치 패널 센서를 구성하는 기재 (1) 의 편면에 형성된 구성을 설명하는 평면도이다. 도 2 는 기재 (1) 의 반대면에 형성된 구성을 도 1 과 동일한 방향에서 평면에서 본 평면도이다. 도 2 에 있어서, 기재 (1) 의 반대면에 배치된 구성은, 설명의 편의상, 실선으로 나타내고 있다. 또, 도 3 은 기재 (1) 의 편면에 형성된 제 1 센서군 (20) 과, 기재 (1) 의 반대면에 형성된 제 2 센서군 (40) 을, 도 1 과 동일한 방향에서 평면에서 본 평면도이다.
도 1 에 나타내는 바와 같이, 터치 패널 센서는, 기재 (1) 의 편면에, 복수의 센서 채널 (2) 에 의해 구성된 제 1 센서군 (20) 을 구비한다.
기재 (1) 로는, 예를 들어 투명 기재 등을 들 수 있다. 투명 기재의 투명 정도는 특별히 한정되지 않고, 그 광 투과율이 수 % ∼ 수십 % 의 어느 것이어도 되고, 그 분광 투과율도 어떠한 것이어도 된다. 이들 광 투과율 및 분광 투과율은 용도, 목적에 따라 적절히 정할 수 있다.
기재 (1) 의 재질은 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 합성 수지 재료 등을 사용할 수 있다. 합성 수지 재료로는, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 수지, 폴리에틸렌나프탈레이트 (PEN) 수지, 폴리부틸렌테레프탈레이트 수지, 셀룰로오스계 수지 (폴리아세틸셀룰로오스, 셀룰로오스디아세테이트, 셀룰로오스트리아세테이트 등), 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌계 수지, 메타크릴계 수지, 고리형 폴리올레핀계 수지, 폴리스티렌계 수지, 아크릴로니트릴-(폴리)스티렌 공중합체 (AS 수지), 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체 (ABS 수지), 폴리염화비닐계 수지, 폴리(메트)아크릴계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리아미드이미드계 수지 등을 들 수 있다. 이들의 재질을 이용하면, 기재 (1) 에 양호한 투명성을 부여할 수 있다. 또, 특히 합성 수지 재료를 사용함으로써, 기재 (1) 에 양호한 플렉시블성을 부여할 수 있다. 합성 수지 재료로 이루어지는 기재 (1) 는, 연신되어 있어도 되고, 미연신이어도 된다.
기재 (1) 의 형상은 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 판상 (판재) 등으로 할 수 있다. 판재로 하는 경우, 두께는 특별히 한정되지 않고, 용도, 목적에 따라 적절히 정할 수 있고, 예를 들어 1 ㎛ ∼ 10 ㎝ 정도, 나아가서는 20 ㎛ ∼ 300 ㎛ 정도로 할 수 있다. 또, 기재 (1) 로서, 장척상의 터치 센서 유효 영역 (S) 을 형성할 수 있을 만큼의 크기 (면적) 및 형상을 갖는 것을 바람직하게 사용할 수 있다.
또, 기재 (1) 에는, 표면 에너지를 변화시키기 위한 표면 처리를 실시해도 된다. 또한, 기재 (1) 는, 단층 구조이거나 적층 구조여도 된다. 기재 (1) 는 표면에 반사 방지층 등을 구비해도 된다.
제 1 센서군 (20) 을 구성하는 각각의 센서 채널 (2) 은, 광 투과성을 갖는 것이 바람직하다. 센서 채널 (2) 은, 예를 들어 기재 (1) 상에 2 차원적으로 배열된 복수의 도전성 세선 (21) 에 의해 구성하는 양태나, ITO (인듐-주석의 복합 산화물) 와 같은 투명한 도전성 재료에 의해 구성하는 양태 등 어느 쪽이어도 되지만, 도 1 에 나타내는 바와 같이 복수의 도전성 세선 (21) 에 의해 구성하는 것이 바람직하다. 복수의 도전성 세선 (21) 에 의해 구성된 센서 채널 (2) 은, 도전성 세선 (21) 간의 간극을 광이 투과할 수 있기 때문에, 도전성 재료 자체가 투명하지 않아도, 양호한 광 투과성을 발휘한다. 복수의 도전성 세선 (21) 에 의해 형성되는 패턴은, 도시된 메시 패턴에 한정되지 않고, 예를 들어 스트라이프 패턴이나 랜덤 패턴 등이어도 된다.
기재 (1) 상에 도전성 세선 (21) 을 형성하는 방법으로는, 인쇄법이나 포토리소그래피 등을 들 수 있고, 특히 인쇄법이 바람직하게 사용된다. 인쇄법에 있어서는, 도전성 재료를 함유하는 잉크를 기재 (1) 상에 부여하여 도전성 세선 (21) 을 형성할 수 있다. 인쇄법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 스크린 인쇄법, 볼록판 인쇄법, 오목판 인쇄법, 오프셋 인쇄법, 플렉소 인쇄법, 잉크젯법 등을 들 수 있고, 그 중에서도 잉크젯법이 바람직하다. 잉크젯법에 있어서의 잉크젯 헤드의 액적 토출 방식은 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 피에조 방식이나 서멀 방식 등을 들 수 있다. 인쇄법을 사용하는 경우에는, 나중에 상세히 서술하는 코히스테인 현상을 이용하는 것이 바람직하다.
센서 채널 (2) 은 기재 (1) 의 편면 상에 띠형상으로 형성되어 있다. 복수의 띠형상의 센서 채널 (2) 은, 그 센서 채널 (2) 의 폭 방향으로 소정의 간격을 두고 병설되어 있다.
센서 채널 (2) 의 길이 방향 (도 1 중, 좌측 아래에서 우측 위를 향하는 방향) 은, 장방형상의 터치 센서 유효 영역 (S) 의 장변 및 단변의 어느 쪽에 대해서도 경사져 있다.
제 1 센서군 (20) 을 구성하는 각각의 센서 채널 (2) 에는, 인출 배선 (3) 이 접속되어 있다. 인출 배선 (3) 은, 장방형상의 기재 (1) 의 일방의 장변 (11) 측에 형성된 커넥터부 (6) 까지 연장되어 있다.
인출 배선 (3) 은, 센서 채널 (2) 을, 터치 검출을 위한 도시되지 않은 연산 회로 (예를 들어 터치 패널 컨트롤 (IC)) 에 접속하기 위해서 형성된다.
인출 배선 (3) 에 대해서도, 상기 서술한 인쇄법이나 포토리소그래피 등에 의해 형성할 수 있고, 도전성 재료를 함유하는 잉크를 사용한 인쇄법에 의해 형성하는 것이 바람직하고, 잉크젯법을 사용하는 것이 특히 바람직하다.
커넥터부 (6) 는, 도시되지 않은 FPC (플렉시블 프린트 배선 기판) 등의 외부 배선을 접속하기 위한 부위이며, 병설된 복수의 인출 배선 (3) 의 일단에 각각 접속된 복수의 단자에 의해 구성되어 있다. 센서 채널 (2) 은, 인출 배선 (3), 커넥터부 (4) 및 FPC 를 개재시켜, 연산 회로에 전기적으로 접속할 수 있다.
커넥터부 (6) 에 대해서도, 상기 서술한 인쇄법이나 포토리소그래피 등에 의해 형성할 수 있고, 도전성 재료를 함유하는 잉크를 사용한 인쇄법에 의해 형성하는 것이 바람직하고, 잉크젯법을 사용하는 것이 특히 바람직하다.
한편, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 그 터치 패널 센서는, 기재 (1) 의 반대면에, 복수의 센서 채널 (4) 에 의해 구성된 제 2 센서군 (40) 을 구비한다.
기재 (1) 의 반대면에 형성되는 각 구성은, 특별히 언급이 없는 한, 상기 서술한 기재 (1) 의 편면에 형성되는 각 구성과 동일하고, 그 편면에 대하여 한 설명을 원용하여, 여기서의 자세한 설명은 생략한다.
본 실시형태에 있어서, 제 2 센서군 (40) 을 구성하는 센서 채널 (4) 은, 제 1 센서군 (20) 을 구성하는 센서 채널 (2) 과 마찬가지로, 복수의 도전성 세선 (41) 에 의해 구성되어 있다. 제 2 센서군 (40) 을 구성하는 센서 채널 (4) 은, 사이에 기재 (1) 를 개재시킴으로써, 제 1 센서군 (20) 을 구성하는 센서 채널 (2) 과 전기적으로 절연되어 있다.
센서 채널 (4) 은 기재 (1) 의 반대면 상에 띠형상으로 형성되어 있다. 복수의 띠형상의 센서 채널 (4) 은, 장방형의 터치 센서 유효 영역 (S) 내에 소정의 간격을 두고 병설되어 있다.
센서 채널 (4) 의 길이 방향 (도 2 중, 우측 아래에서 좌측 위를 향하는 방향) 은, 터치 센서 유효 영역 (S) 의 장변 및 단변의 어느 쪽에 대해서도 경사져 있다.
제 2 센서군 (40) 을 구성하는 각각의 센서 채널 (2) 에는 인출 배선 (5) 이 접속되어 있다. 인출 배선 (5) 은, 장방형상의 기재 (1) 의 타방의 장변 (12) 측에 형성된 커넥터부 (7) 까지 연장되어 있다.
도 3 에 나타내는 바와 같이, 제 1 센서군 (20) 을 구성하는 복수의 센서 채널 (2) 과, 제 2 센서군 (40) 을 구성하는 복수의 센서 채널 (4) 은, 기재 (1) 를 사이에 두고, 서로 교차하는 방향으로 배향되어 있다.
장방형상의 터치 센서 유효 영역 (S) 의 전역에 걸쳐서, 제 1 센서군 (20) 과 제 2 센서군 (40) 이 형성되어 있고, 이로써, 터치 센서 유효 영역 (S) 내에서, 2 차원 좌표계에서의 터치 검출이 가능해진다.
센서 채널 (2, 4) 은, 기재의 장변 방향 및 단변 방향에 대하여 경사져 있지만, 예를 들어 연산 회로에 의한 좌표 변화 등에 따라, 기재의 장변 방향 및 단변 방향에 대응하는 2 차원 좌표계에서 터치 검출하는 것도 가능하다.
본 실시형태에 있어서, 제 1 센서군 (20) 을 구성하는 복수의 센서 채널 (2) 중 가장 긴 센서 채널 (2) 의 센서 길이를 x 로 하고, 제 2 센서군 (40) 을 구성하는 복수의 센서 채널 (4) 중 가장 긴 센서 채널 (4) 의 센서 길이를 y 로 하고, 터치 센서 유효 영역 (S) 의 장변을 α 로 했을 때에, x≤y<α 를 만족한다.
가장 긴 센서 채널 (2) 이라는 것은, 복수의 센서 채널 (2) 중 길이 방향의 길이가 가장 긴 것을 가리킨다. 가장 긴 센서 채널 (4) 이라는 것은, 복수의 센서 채널 (4) 중 길이 방향의 길이가 가장 긴 것을 가리킨다.
가장 긴 센서 채널 (2, 4) 의 센서 길이 x, y 는, 그 센서 채널 (2, 4) 의 길이 방향의 길이이다. 센서 채널 (2, 4) 이 소정의 폭을 갖는 경우에는, 도 1 및 도 2 에 나타낸 바와 같이, 폭의 중심을 기준으로 했을 때의 길이 방향의 길이이다.
x≤y<α 를 만족함으로써, 터치 센서 유효 영역 (S) 의 장척화에 수반하는 터치 감도의 저하를 방지할 수 있고, 또한 터치 검출에 기여하지 않는 영역의 개재를 회피할 수 있는 효과가 얻어진다. 이 효과에 대하여, 이하에 도 9 를 참조하여 참고예와 대비하여 설명한다.
도 9 는 참고예에 관련된 터치 패널 센서를 설명하는 도면이다.
도 9 에 있어서, 101 은 터치 센서 유효 영역 (S) 의 장변 방향으로 배향된 센서 채널이고, 102 는 센서 채널 (101) 에 접속되는 인출 배선이다. 또, 103 은 터치 센서 유효 영역 (S) 의 단변 방향으로 배향된 센서 채널이고, 104 는 센서 채널 (103) 에 접속되는 인출 배선이다.
도 9(a) 에 나타내는 참고예에서는, 터치 패널 센서에 있어서의 터치 센서 유효 영역 (S) 을 장척화하려고 하면, 터치 센서 유효 영역 (S) 의 장변 방향으로 배향되는 센서 채널 (101) 이 장척화에 수반하여 고저항화되어, 터치 감도가 떨어져 버린다. 장척화 정도가 클수록, 이 문제는 현저해진다.
이 문제를 해소하기 위해, 도 9(b) 에 나타내는 참고예와 같이, 복수의 터치 패널 센서를 준비하여, 각 터치 패널 센서의 터치 센서 유효 영역 (S) 이 장척상으로 병설되도록 배치함으로써, 상기 서술한 고저항화는 회피할 수 있다. 그러나, 이 경우에는, 각 터치 패널 센서의 터치 센서 유효 영역 (S) 간에, 터치 검출에 기여하지 않는 인출 배선부의 스페이스 (도면 중, 인출 배선 (102) 이 둘러쳐지는 스페이스) 를 형성할 필요가 생긴다. 그 결과, 터치 센서 유효 영역 (S) 간에, 터치 검출에 기여하지 않는 영역이 개재되게 된다. 장척화 정도가 클수록, 고저항화를 회피하기 위해서 터치 검출에 기여하지 않는 영역을 다수 개재시키지 않으면 안 된다.
이에 비하여, 본 실시형태에서는, x≤y<α 를 만족함으로써, 센서 채널 (2, 4) 은, 가장 긴 것이라도, 터치 센서 유효 영역 (S) 의 장변 α 보다 짧기 때문에, 센서 채널 (2, 4) 의 고저항화가 방지된다. 그 때문에, 도 9(a) 에 나타낸 참고예와 대비하여, 터치 센서 유효 영역 (S) 의 장척화에 수반하는 터치 감도의 저하를 방지할 수 있다. 또, 본 실시형태에서는, 장척화된 터치 센서 유효 영역 (S) 내의 전체에 걸쳐서 터치 검출이 가능하고, 도 9(b) 에 나타낸 참고예와 대비하여, 터치 검출에 기여하지 않는 영역의 개재를 회피할 수 있다.
본 실시형태에서는, 터치 센서 유효 영역 (S) 이 장척화되어도, 센서 채널 (2, 4) 의 고저항화가 방지되고, 또한 터치 검출에 기여하지 않는 영역의 개재를 회피할 수 있다. 그 때문에, 터치 센서 유효 영역 (S) 의 장척화 정도가 클수록, 예를 들어 상기 서술한 참고예와 대비하여, 효과가 현저하게 발휘된다. 이와 같은 관점에서, 장척화 정도는 큰 것이 바람직하고, 구체적으로는, 터치 센서 유효 영역 (S) 의 단변을 β 로 했을 때에, 3β≤α 를 만족하는 것이 특히 바람직하다. 또, 본 실시형태에 의하면, 터치 센서 유효 영역 (S) 의 장척화와 함께 대면적화에도 바람직하게 대응할 수 있고, 예를 들어 애스펙트비 16 : 9 로 50 인치 이상, 보다 구체적으로는 55 인치 ∼ 60 인치 정도의 디스플레이를 장변 방향으로 2 개 이상 병설했을 경우의 면적을 피복할 수 있도록, 터치 센서 유효 영역 (S) 을 장척화 또한 대면적화할 수도 있다.
터치 센서 유효 영역 (S) 이 장척화되어도, 센서 채널 (2, 4) 의 고저항화가 방지되기 때문에, 센서 채널 (2, 4) 을 구성하는 도전성 재료의 선택의 자유도가 높아지는 효과도 얻어진다. 도전성 재료로서, 예를 들어 금속 등과 비교하여 도전성이 떨어지는 ITO 를 사용하는 경우라도, 센서 채널 (2, 4) 을 짧게 할 수 있기 때문에 고저항화가 방지되어, 재료 자체의 도전성이 떨어지는 것이 터치 감도의 저하를 잘 초래하지 않게 된다.
또, 터치 센서 유효 영역 (S) 이 장척화되어도, 센서 채널 (2, 4) 의 고저항화가 방지되기 때문에, 센서 채널 (2, 4) 을 복수의 도전성 세선 (21, 41) 에 의해 구성하는 경우에 있어서, 그 도전성 세선 (21, 41) 의 선폭을 가늘게 형성하는 것이 허용된다. 요컨대, 도전성 세선 (21, 41) 의 선폭을 가늘게 할수록 도전성은 저하되지만, 센서 채널 (2, 4) 을 짧게 할 수 있기 때문에 고저항화가 방지되어, 선폭을 가늘게 해도 터치 감도의 저하를 잘 초래하지 않게 된다. 그 때문에, 시인하는 것이 곤란할 정도로 선폭을 가늘게 한 도전성 세선 (21, 41) 이더라도 바람직하게 사용할 수 있고, 센서 채널 (2, 4) 의 투명성이나 저시인성 (육안으로 식별하기 어려운 성질) 을 향상시킬 수 있다. 예를 들어, 도전성 세선 (21, 41) 의 선폭을, 예를 들어 20 ㎛ 이하, 15 ㎛ 이하, 나아가서는 10 ㎛ 이하까지 가늘게 함으로써, 투명성이나 저시인성이 우수하고, 또한 터치 감도도 우수한 효과가 얻어진다. 도전성 세선 (21, 41) 의 선폭의 하한은 특별히 한정되지 않지만, 안정적인 도전성을 부여하는 등의 관점에서는, 예를 들어 1 ㎛ 이상으로 할 수 있다. 또, 이와 같이 선폭이 가는 도전성 세선 (21, 41) 이면, 정전 용량 변화를 검출하는 정전 용량 방식의 터치 센서에 있어서, 우수한 터치 감도를 실현할 수 있다. 굵은 도선을 사용한 경우와 비교하여, 정전 용량 변화의 비율을 상대적으로 크게 할 수 있기 때문이다.
제 1 센서군 (20) 을 구성하는 센서 채널 (2) 과, 제 2 센서군 (40) 을 구성하는 센서 채널 (4) 이 이루는 각도를 θ1 로 했을 때에, 90°≥θ1≥60°를 만족하는 것이 바람직하다. 이로써, 터치 검출의 위치 정밀도가 향상되는 효과가 얻어진다.
각도 θ1 에 대하여, 도 3 에 나타내는 바와 같이, 제 1 센서군 (20) 을 구성하는 센서 채널 (2) 의 길이 방향 D1 과, 제 2 센서군 (40) 을 구성하는 센서 채널 (4) 의 길이 방향 D2 가 교차하여 생기는 4 개의 각의 각도가 동등한 경우, θ1 은 90°이다. 그 이외의 경우, 각도가 작은 쪽의 각의 각도를 θ1 로 한다. 도시된 예에서는, θ1=90°인 경우에 대하여 나타내고 있다.
서로 인접하는 2 개의 센서 채널 (2) 과, 서로 인접하는 2 개의 센서 채널 (4) 이 교차하여 형성되는 사각형은, 정방형인 것이 바람직하다. θ1=90°이며, 또한 복수의 센서 채널 (2) 이 병설되는 피치와, 복수의 센서 채널 (4) 이 병설되는 피치를 동일하게 함으로써, 이러한 사각형을 정방형으로 할 수 있다. 이로써, 기재에 대하여 경사진 센서 채널 (2, 4) 에 의한 터치 위치 검출의 좌표계를, 연산 회로에 의해 기재의 장변 방향 및 단변 방향에 대응하는 좌표계로 변환하는 것이 용이해져, 터치 감도를 더욱 향상시킬 수 있다.
상기 서술한 바와 같이, 제 1 센서군 (20) 및 제 2 센서군 (40) 을 구성하는 복수의 센서 채널 (2, 4) 의 각각에는, 인출 배선 (3, 5) 이 접속된다.
도 1 에 나타낸 바와 같이, 복수의 인출 배선 (3) 은, 장방형상의 터치 센서 유효 영역 (S) 의 일방의 장변측에서 센서 채널 (2) 에 접속되는 인출 배선 (3) 과, 타방의 장변측에서 센서 채널 (2) 에 접속되는 인출 배선 (3) 에 의해 구성되어 있는 것이 바람직하다.
마찬가지로, 도 2 에 나타낸 바와 같이, 복수의 인출 배선 (5) 은, 장방형상의 터치 센서 유효 영역 (S) 의 일방의 장변측에서 센서 채널 (4) 에 접속되는 인출 배선 (5) 과, 타방의 장변측에서 센서 채널 (4) 에 접속되는 인출 배선 (5) 에 의해 구성되어 있는 것이 바람직하다.
이와 같이, 터치 센서 유효 영역 (S) 의 2 개의 장변의 각각으로부터 인출 배선을 인출함으로써, 인출 배선을 인출하기 위한 스페이스를, 터치 센서 유효 영역 (S) 의 단변측에 형성할 필요가 없어진다. 이로써, 터치 센서 유효 영역 (S) 의 단변측을 협베젤화 (프레임 협소화) 할 수 있는 등의 효과가 얻어진다.
이상에 설명한 제 1 실시형태에서는, 제 1 센서군 (20) 의 커넥트부 (6) 를, 장방형상의 기재 (1) 의 일방의 장변 (11) 측에 형성하고, 제 2 센서군 (40) 의 커넥트부 (7) 를, 장방형상의 기재 (1) 의 타방의 장변 (12) 측에 형성하는 경우에 대하여 나타냈지만, 이것에 한정되지 않는다. 이에 대하여, 도 4 를 참조하여 설명한다.
도 4 는 제 2 실시형태에 관련된 터치 패널 센서를 설명하는 도면이다. 도 4(a) 는, 터치 패널 센서를 구성하는 기재 (1) 의 편면에 형성된 구성을 설명하는 평면도이다. 도 4(b) 는, 기재 (1) 의 반대면에 형성된 구성을 도 4(a) 와 동일한 방향에서 평면에서 본 평면도이다. 도 4(b) 에 있어서, 기재 (1) 의 반대면에 배치된 구성은, 설명의 편의상, 실선으로 나타내고 있다.
제 2 실시형태에서는, 도 4(a) 에 나타내는 바와 같이, 제 1 센서군 (20) 의 커넥트부 (6) 를, 장방형상의 기재 (1) 의 일방의 장변 (11) 측에 형성하고 있다. 또, 도 4(b) 에 나타내는 바와 같이, 제 2 센서군 (40) 의 커넥트부 (7) 도, 장방형상의 기재 (1) 의 일방의 장변 (11) 측에 형성하고 있다. 이와 같이, 제 1 센서군 (20) 의 커넥트부 (6) 와 제 2 센서군 (40) 의 커넥트부 (7) 를 모두, 기재 (1) 의 일방의 장변 (11) 측에 형성함으로써, 기재 (1) 의 타방의 장변 (12) 측을 협베젤화할 수 있는 등의 효과가 얻어진다.
제 1 센서군 (20) 의 커넥트부 (6) 는, 장방형상의 기재 (1) 의 일방의 장변 (11) 측 또는 타방의 장변 (12) 측에 하나로 모아 형성되어도 되지만, 일방의 장변 (11) 측과, 타방의 장변 (12) 측으로 나눠지도록 형성되어도 된다. 이에 대하여, 도 5 를 참조하여 설명한다.
도 5 는 제 3 실시형태에 관련된 터치 패널 센서를 설명하는 도면이다. 도 5(a) 는, 터치 패널 센서를 구성하는 기재 (1) 의 편면에 형성된 구성을 설명하는 평면도이다. 도 5(b) 는, 기재 (1) 의 반대면에 형성된 구성을 도 5(a) 와 동일한 방향에서 평면에서 본 평면도이다. 도 5(b) 에 있어서, 기재 (1) 의 반대면에 배치된 구성은, 설명의 편의상, 실선으로 나타내고 있다.
제 3 실시형태에서는, 우선 도 5(a) 에 나타내는 바와 같이, 제 1 센서군 (20) 의 커넥트부 (6) 를, 기재 (1) 의 일방의 장변 (11) 측과, 타방의 장변 (12) 측으로 나누도록 형성하고 있다.
여기서, 제 1 센서군 (20) 의 복수의 센서 채널 (2) 에 각각 접속된 복수의 인출 배선 (3) 은, 장방형상의 터치 센서 유효 영역 (S) 의 일방의 장변측에서 센서 채널 (2) 에 접속되는 인출 배선 (3) 과, 타방의 장변측에서 센서 채널 (2) 에 접속되는 인출 배선 (3) 에 의해 구성되어 있다.
이들 인출 배선 (3) 중, 장방형상의 터치 센서 유효 영역 (S) 의 일방의 장변측에서 센서 채널 (2) 에 접속되는 인출 배선 (3) 은, 기재 (1) 의 일방의 장변 (11) 측에 형성된 커넥트부 (6) 까지 연장되어 있다. 한편, 장방형상의 터치 센서 유효 영역 (S) 의 타방의 장변측에서 센서 채널 (2) 에 접속되는 인출 배선 (3) 은, 기재 (1) 의 타방의 장변 (12) 측에 형성된 커넥트부 (6) 까지 연장되어 있다.
이것은, 도 5(b) 에 나타내는 기재 (1) 의 반대면의 제 2 센서군 (40) 에 대해서도 동일하며, 인출 배선 (5) 중, 장방형상의 터치 센서 유효 영역 (S) 의 일방의 장변측에서 센서 채널 (4) 에 접속되는 인출 배선 (5) 은, 기재 (1) 의 일방의 장변 (11) 측에 형성된 커넥트부 (7) 까지 연장되어 있다. 한편, 장방형상의 터치 센서 유효 영역 (S) 의 타방의 장변측에서 센서 채널 (4) 에 접속되는 인출 배선 (5) 은, 기재 (1) 의 타방의 장변 (12) 측에 형성된 커넥트부 (7) 까지 연장되어 있다.
이러한 제 3 실시형태에 의하면, 인출 배선 (3, 5) 을 터치 센서 유효 영역 (S) 의 단변측으로 둘러칠 필요가 없기 때문에, 터치 센서 유효 영역 (S) 의 단변측을 더욱 협베젤화할 수 있는 효과가 얻어진다.
다음으로, 센서 채널의 바람직한 형성 방법에 대하여 설명한다. 이하의 설명에서는, 주로 센서 채널 (2) 의 형성 방법에 대하여 설명하겠지만, 이 설명은, 센서 채널 (4) 의 형성 방법에 원용할 수 있다.
센서 채널 (2) 은 복수의 도전성 세선에 의해 형성하는 것이 바람직하다. 도전성 세선을 인쇄법에 의해 형성하는 경우, 기재 상에 부여된 잉크를 건조시킬 때에 코히스테인 현상을 이용하여 도전성 세선을 형성하는 것이 바람직하다. 이에 대하여, 도 6 을 참조하여 설명한다.
우선, 도 6(a) 에 나타내는 바와 같이, 기재 (1) 상에, 도전성 재료를 포함하는 잉크로 이루어지는 라인상 액체 (22) 를 부여한다.
이어서, 라인상 액체 (22) 를 건조시키는 과정에서 라인상 액체 (22) 의 가장자리에 도전성 재료를 선택적으로 퇴적시킴으로써, 도 6(b) 에 나타내는 바와 같이, 도전성 세선 (21) 을 형성할 수 있다. 이 예에서는, 라인상 액체 (22) 의 길이 방향을 따른 양 가장자리에 도전성 재료를 선택적으로 퇴적시킴으로써, 1 쌍의 도전성 세선 (21, 21) 을 형성하고 있다. 라인상 액체 (22) 의 선폭을 균일하게 형성함으로써, 1 쌍의 도전성 세선 (21, 21) 을 서로 평행하게 형성할 수 있다.
도전성 세선 (21) 의 선폭은, 라인상 액체 (22) 의 선폭보다 가늘고, 예를 들어 20 ㎛ 이하, 15 ㎛ 이하, 나아가서는 10 ㎛ 이하로 할 수 있다. 도전성 세선 (21) 의 선폭의 하한은 특별히 한정되지 않지만, 안정적인 도전성을 부여하는 등의 관점에서는, 예를 들어 1 ㎛ 이상으로 할 수 있다.
1 또는 복수의 도전성 세선 (21) 에 따라 다양한 패턴을 형성할 수 있다. 이와 같은 패턴으로서, 예를 들어 스트라이프 패턴이나 메시 패턴 등을 들 수 있다. 센서 채널 (2) 은, 예를 들어 스트라이프 패턴이나 메시 패턴 등을 형성하도록 형성된 복수의 도전성 세선 (21) 에 의해 구성된다. 이하에, 도 7 을 참조하여 메시 패턴 형성의 제 1 양태에 대하여 설명하고, 이어서, 도 8 을 참조하여 메시 패턴 형성의 제 2 양태에 대하여 설명한다.
메시 패턴 형성의 제 1 양태에 있어서는, 우선 도 7(a) 에 나타내는 바와 같이, 기재 (1) 상에, 소정의 간격으로 병설된 복수의 라인상 액체 (22) 를 형성한다.
이어서, 도 7(b) 에 나타내는 바와 같이, 라인상 액체 (22) 를 건조시킬 때에 코히스테인 현상을 이용하여, 각각의 라인상 액체 (22) 로부터 1 쌍의 도전성 세선 (21, 21) 을 형성한다.
이어서, 도 7(c) 에 나타내는 바와 같이, 앞서 형성된 복수의 도전성 세선 (21) 과 교차하도록, 소정의 간격으로 병설된 복수의 라인상 액체 (22) 를 형성한다.
이어서, 도 7(d) 에 나타내는 바와 같이, 라인상 액체 (22) 를 건조시킬 때에 코히스테인 현상을 이용하여, 각각의 라인상 액체 (22) 로부터 1 쌍의 도전성 세선 (21, 21) 을 형성한다. 이상과 같이 하여 메시 패턴을 형성할 수 있다.
도 6 및 도 7 의 예에서는, 라인상 액체 (22) 및 도전성 세선 (21) 을 직선으로 하고 있지만, 이것에 한정되지 않는다. 라인상 액체 (22) 및 도전성 세선 (21) 의 형상은, 예를 들어 파선 또는 절선 (지그재그선) 등이어도 된다.
메시 패턴 형성의 제 2 양태에 있어서는, 우선 도 8(a) 에 나타내는 바와 같이, 기재 (1) 상에, 기재 (1) 의 길이 방향 (도면 중, 상하 방향) 및 폭 방향 (도면 중, 좌우 방향) 으로 소정의 간격으로 병설된, 복수의 사각형을 이루는 라인상 액체 (22) 를 형성한다.
이어서, 도 8(b) 에 나타내는 바와 같이, 라인상 액체 (22) 를 건조시킬 때에 코히스테인 현상을 이용하여, 각각의 라인상 액체 (22) 로부터, 1 쌍의 도전성 세선 (21, 21) 으로 이루어지는 세선 유닛을 형성한다. 이러한 세선 유닛에 있어서, 도전성 세선 (21, 21) 은, 일방 (외측의 도전성 세선 (21)) 이 타방 (내측의 도전성 세선 (21)) 을 내부에 포함하고 있고, 동심상으로 형성되어 있다. 또, 도전성 세선 (21, 21) 은 각각, 라인상 액체 (22) 의 양 가장자리 (내주연 및 외주연) 의 형상에 대응하여 사각형을 이루고 있다.
이어서, 도 8(c) 에 나타내는 바와 같이, 기재 (1) 상에, 기재 (1) 의 길이 방향 및 폭 방향으로 소정의 간격으로 병설된, 복수의 사각형을 이루는 라인상 액체 (22) 를 형성한다. 여기서, 복수의 사각형을 이루는 라인상 액체 (22) 는, 앞서 형성된 세선 유닛의 사이에 끼워지는 위치에 형성된다. 여기서는, 사각형을 이루는 라인상 액체 (22) 는, 이것에 인접하는 세선 유닛 중 외측의 도전성 세선 (21) 과 접촉하지만, 내측의 도전성 세선 (21) 과는 접촉하지 않도록 배치되어 있다.
이어서, 도 8(d) 에 나타내는 바와 같이, 라인상 액체 (22) 를 건조시킬 때에 코히스테인 현상을 이용하여, 각각의 라인상 액체 (22) 로부터, 1 쌍의 도전성 세선 (21, 21) 으로 이루어지는 세선 유닛을 추가로 형성한다.
도 8(d) 에 나타내는 패턴에 있어서, 외측의 도전성 세선 (21) 은, 인접하는 외측의 도전성 세선 (21) 과 서로 접속되어 있다. 한편, 내측의 도전성 세선 (21) 은, 다른 내측의 도전성 세선 (21), 및 외측의 도전성 세선 (21) 과 접속되어 있지 않다. 즉, 내측의 도전성 세선 (21) 은, 고립되도록 배치되어 있다.
도 8(d) 에 나타내는 패턴을, 그대로 메시 패턴으로서 사용해도 된다. 또, 도 8(d) 에 나타내는 패턴에 있어서의 내측의 도전성 세선 (21) 을 제거하고, 외측의 도전성 세선 (21) 으로 이루어지는 메시 패턴 (도 8(e)) 을 형성해도 된다. 메시 패턴 형성의 제 2 양태에 의하면, 도전성 세선 (21) 을 자유도 높게 형성할 수 있는 효과가 얻어진다. 특히 복수의 도전성 세선 (21) 의 배치 간격을, 라인상 액체 (22) 의 선폭에 의거하지 않고 자유도 높게 설정할 수 있는 효과가 얻어진다.
내측의 도전성 세선 (21) 을 제거하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 레이저광 등과 같은 에너지선을 조사하는 방법이나, 화학적으로 에칭 처리하는 방법 등을 사용할 수 있다.
또, 외측의 도전성 세선 (21) 에 전해 도금을 실시할 때에, 내측의 도전성 세선 (21) 을 도금액에 의해 제거하는 방법을 사용해도 된다. 상기 서술한 바와 같이 내측의 도전성 세선 (21) 은 고립되도록 배치되어 있어, 외측의 도전성 세선 (21) 에 전해 도금을 실시하기 위한 통전 경로로부터 제외할 수 있다. 그 때문에, 외측의 도전성 세선 (21) 에 전해 도금을 실시하고 있는 동안 (통전하고 있는 동안) 에, 전해 도금이 실시되지 않는 내측의 도전성 세선 (21) 을, 도금액에 의해 용해 또는 분해하여 제거할 수 있다.
이상과 같이 하여, 사각형을 이루는 도전성 세선 (21) 을 복수 조합하여, 메시 패턴을 구성할 수 있다. 이러한 메시 패턴에 있어서, 사각형을 이루는 도전성 세선 (21) 은, 사각형의 2 개의 대각선 방향으로, 이차원적으로 복수 병설되어 있다. 그리고, 서로 인접하는 사각형을 이루는 도전성 세선 (21) 은, 정점을 사이에 두는 양변끼리를 교차시켜 2 개의 교점에서 교차되어 있다. 이로써, 서로 인접하는 사각형을 이루는 도전성 세선 (21) 간의 도전성이 안정적으로 되어, 메시 패턴 전체의 도전성을 향상시킬 수 있다.
도 8(d) 에 나타낸 메시 패턴에서는, 전체 조 (組) 가 서로 인접하는 사각형을 이루는 도전성 세선 (21) 이, 정점을 사이에 두는 양변끼리를 교차시켜 2 개의 교점에서 교차되어 있는 경우에 대하여 나타냈지만, 이것에 한정되지 않고, 적어도 1 조가 서로 인접하는 사각형을 이루는 도전성 세선 (21) 이, 정점을 사이에 두는 양변끼리를 교차시켜 2 개의 교점에서 교차되도록 해도 된다.
도 8 의 예에서는, 라인상 액체 (22) 및 도전성 세선 (21) 을 사각형으로 하고 있지만, 이것에 한정되지 않는다. 라인상 액체 (20) 및 도전성 세선 (21) 의 형상으로서, 예를 들어 닫힌 기하학 도형을 들 수 있다. 닫힌 기하학 도형으로는, 예를 들어 삼각형, 사각형, 육각형, 팔각형 등의 다각형을 들 수 있다. 또, 닫힌 기하학 도형은, 예를 들어 원형, 타원형 등과 같이 곡선 요소를 포함할 수 있다.
다음으로, 인쇄법, 특히 상기 서술한 코히스테인 현상에 바람직하게 사용되는 잉크에 대하여 상세하게 설명한다.
잉크에 함유시키는 도전성 재료는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 도전성 미립자, 도전성 폴리머 등을 들 수 있다.
도전성 미립자로서, 예를 들어 금속 미립자, 카본 미립자 등을 들 수 있다.
금속 미립자를 구성하는 금속으로서, 예를 들어 Au, Pt, Ag, Cu, Ni, Cr, Rh, Pd, Zn, Co, Mo, Ru, W, Os, Ir, Fe, Mn, Ge, Sn, Ga, In 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, Au, Ag, Cu 가 바람직하고, Ag 가 특히 바람직하다. 금속 미립자의 평균 입자경은, 예를 들어 1 ∼ 100 ㎚, 나아가서는 3 ∼ 50 ㎚ 로 할 수 있다. 평균 입자경은, 체적 평균 입자경으로, 말번사 제조 「제타사이저 1000HS」에 의해 측정할 수 있다.
카본 미립자로는, 예를 들어 그라파이트 미립자, 카본 나노 튜브, 풀러렌 등을 들 수 있다.
도전성 폴리머로는, 특별히 한정되지 않지만, π 공액계 도전성 고분자를 바람직하게 들 수 있다. π 공액계 도전성 고분자로는, 예를 들어 폴리티오펜류나 폴리아닐린류 등을 들 수 있다. π 공액계 도전성 고분자는, 예를 들어 폴리스티렌술폰산 등과 같은 폴리아니온과 함께 사용해도 된다.
잉크 중의 도전성 재료의 농도는, 예를 들어 5 중량% 이하로 할 수 있고, 나아가서는 0.01 중량% 이상 1.0 중량% 이하로 할 수 있다. 이로써, 코히스테인 현상이 촉진되어, 도전성 세선을 더욱 가늘게 할 수 있는 등의 효과가 얻어진다.
잉크에 사용되는 용매는 특별히 한정되지 않고, 물이나 유기 용제에서 선택된 1 종 또는 복수종을 포함할 수 있다. 유기 용제로는, 예를 들어 1,2-헥산디올, 2-메틸-2,4-펜탄디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 프로필렌글리콜 등의 알코올류, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르 등의 에테르류 등을 들 수 있다.
또, 잉크에는 계면 활성제 등의 다른 성분을 함유시킬 수 있다. 계면 활성제는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 실리콘계 계면 활성제 등을 들 수 있다. 잉크 중의 계면 활성제의 농도는, 예를 들어 1 중량% 이하로 할 수 있다.
기재 상에 부여된 잉크 (라인상 액체) 의 건조 방법은 자연 건조이거나 강제 건조여도 된다. 강제 건조에 사용하는 건조 방법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 기재의 표면을 소정 온도로 가온시키는 방법이나, 기재의 표면에 기류를 형성하는 방법 등을 단독으로, 혹은 조합하여 사용할 수 있다. 기류는, 예를 들어 팬 등을 사용하여, 송풍 또는 흡인을 실시함으로써 형성할 수 있다.
기재 상에 형성된 도전성 세선에 후처리를 실시할 수 있다. 후처리로서, 예를 들어 소성 처리, 도금 처리 등을 들 수 있다. 소성 처리를 실시한 후, 도금 처리를 실시해도 된다.
소성 처리로는, 예를 들어 광 조사 처리, 열 처리 등을 들 수 있다. 광 조사 처리에는, 예를 들어 감마선, X 선, 자외선, 가시광, 적외선 (IR), 마이크로파, 전파 등을 사용할 수 있다. 열 처리에는, 예를 들어 열풍, 가열 스테이지, 가열 프레스 등을 사용할 수 있다.
도금 처리로는, 예를 들어 무전해 도금, 전해 도금 등을 들 수 있다. 전해 도금에서는, 도전성 세선의 도전성을 이용하고, 그 도전성 세선에 선택적으로 도금을 실시할 수 있다. 전해 도금시에, 상기 서술한 도금용 버스 라인으로부터 급전하는 것은 바람직한 것이다.
도전성 세선에 복수회의 도금 처리를 실시해도 된다. 도금 금속을 다르게 한 복수회의 도금 처리를 실시해도 된다. 복수회의 도금 처리에 의해, 도전성 세선 상에 복수의 금속층을 적층할 수 있다. 복수의 금속층을 적층하는 경우, 도전성 세선 상에, 구리로 이루어지는 제 1 금속층, 니켈 또는 크롬으로 이루어지는 제 2 금속층을 순서대로 적층함으로써, 구리에 의한 도전성 향상의 효과와, 니켈 또는 크롬에 의한 내후성 향상의 효과 및 색미를 지우는 효과를 얻을 수 있다. 또, 전해 도금에 사용하는 도금액에, 예를 들어 과황산나트륨, 염화제 2 구리, 과산화수소 등과 같은 산화제를 함유시켜도 된다. 산화제의 사용에 의해, 도전성 세선의 도전성을 향상시킬 수 있고, 또한 도금 굵기가 억제된다. 이 효과는, 코히스테인 현상을 이용하여 형성된 도전성 세선을 대상으로 하는 경우에 특히 양호하게 발휘된다.
센서 채널이나 인출 배선이 형성된 기재 상에는, 예를 들어 경화막 등의 막을 형성할 수 있다. 경화막은, 예를 들어 미경화의 경화성 수지 (수지 재료) 에 의해 구성된 경화성 도포액을 도포하고, 경화 처리를 실시함으로써 형성할 수 있다.
기재의 편면 및 반대면에 제 1 센서군 및 제 2 센서군이 각각 형성된 터치 패널 센서를 얻는 경우, 예를 들어 그 기재의 편면 및 반대면에 제 1 센서군 및 제 2 센서군을 각각 형성할 수 있다. 또, 다른 예로서, 제 1 센서군이 형성된 제 1 기재와, 제 2 센서군이 형성된 제 2 기재를 적층하여, 제 1 기재와 제 2 기재의 적층체에 의해 구성된 기재의 편면 및 반대면에 제 1 센서군 및 제 2 센서군이 각각 형성된 터치 패널 센서를 얻을 수도 있다.
터치 패널 센서에 있어서의 터치 검출 방식은 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 터치된 부분의 저항치 변화를 검출하는 저항막 방식, 혹은 정전 용량 변화를 검출하는 정전 용량 방식, 또는 광량 변화를 검출하는 광 센서 방식 등을 들 수 있다. 경화막이 부착된 터치 센서는, 다양한 디바이스에 있어서의 터치 패널을 구성하기 위해 사용할 수 있다.
이상의 설명에 있어서, 하나의 실시형태, 하나의 양태에 대하여 설명된 구성은, 다른 실시형태에 적절히 적용할 수 있다.
1 : 기재
11 : 일방의 장변
12 : 타방의 장변
2, 4 : 센서 채널
3, 5 : 인출 배선
6, 7 : 커넥트부
20 : 제 1 센서군
40 : 제 2 센서군
11 : 일방의 장변
12 : 타방의 장변
2, 4 : 센서 채널
3, 5 : 인출 배선
6, 7 : 커넥트부
20 : 제 1 센서군
40 : 제 2 센서군
Claims (8)
- 기재의 편면에, 복수의 센서 채널에 의해 구성된 제 1 센서군을 구비하고,
상기 기재의 반대면에, 복수의 센서 채널에 의해 구성된 제 2 센서군을 구비하고,
상기 제 1 센서군을 구성하는 상기 복수의 센서 채널과, 상기 제 2 센서군을 구성하는 상기 복수의 센서 채널은, 서로 교차하는 방향으로 배향되고, 상기 제 1 센서군과 상기 제 2 센서군에 의해 장방형상의 터치 센서 유효 영역이 형성되고,
상기 제 1 센서군을 구성하는 상기 복수의 센서 채널 중 가장 긴 센서 채널의 센서 길이를 x 로 하고, 상기 제 2 센서군을 구성하는 상기 복수의 센서 채널 중 가장 긴 센서 채널의 센서 길이를 y 로 하고, 상기 터치 센서 유효 영역의 장변을 α 로 했을 때에, x≤y<α 를 만족하는 터치 패널 센서. - 제 1 항에 있어서,
상기 터치 센서 유효 영역의 단변을 β 로 했을 때에, 3β≤α 를 만족하는 터치 패널 센서. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 제 1 센서군을 구성하는 상기 센서 채널과, 상기 제 2 센서군을 구성하는 상기 센서 채널이 이루는 각도를 θ1 로 했을 때에, 90°≥θ1≥60°를 만족하는 터치 패널 센서. - 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 센서군 및 상기 제 2 센서군을 구성하는 상기 복수의 센서 채널의 각각에 접속된 복수의 인출 배선을 구비하고,
상기 복수의 인출 배선은, 장방형상의 상기 터치 센서 유효 영역의 일방의 장변측에서 센서 채널에 접속되는 인출 배선과, 타방의 장변측에서 센서 채널에 접속되는 인출 배선에 의해 구성되어 있는 터치 패널 센서. - 기재의 편면에, 복수의 센서 채널에 의해 구성된 제 1 센서군을 구비하고,
상기 기재의 반대면에, 복수의 센서 채널에 의해 구성된 제 2 센서군을 구비하고,
상기 제 1 센서군을 구성하는 상기 복수의 센서 채널과, 상기 제 2 센서군을 구성하는 상기 복수의 센서 채널은, 서로 교차하는 방향으로 배향되고, 상기 제 1 센서군과 상기 제 2 센서군에 의해 장방형상의 터치 센서 유효 영역이 형성되는 터치 패널 센서의 제조 방법으로서,
상기 제 1 센서군을 구성하는 상기 복수의 센서 채널 중 가장 긴 센서 채널의 센서 길이를 x 로 하고, 상기 제 2 센서군을 구성하는 상기 복수의 센서 채널 중 가장 긴 센서 채널의 센서 길이를 y 로 하고, 상기 터치 센서 유효 영역의 장변을 α 로 했을 때에, x≤y<α 를 만족하도록 하는 터치 패널 센서의 제조 방법. - 제 5 항에 있어서,
상기 터치 센서 유효 영역의 단변을 β 로 했을 때에, 3β≤α 를 만족하는 터치 패널 센서의 제조 방법. - 제 5 항 또는 제 6 항에 있어서,
상기 제 1 센서군을 구성하는 상기 센서 채널과, 상기 제 2 센서군을 구성하는 상기 센서 채널이 이루는 각도를 θ1 로 했을 때에, 90°≥θ1≥60°를 만족하는 터치 패널 센서의 제조 방법. - 제 5 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 센서군 및 상기 제 2 센서군을 구성하는 상기 복수의 센서 채널의 각각에 접속되는 복수의 인출 배선을 형성하는 공정을 추가로 구비하고,
상기 복수의 인출 배선은, 장방형상의 상기 터치 센서 유효 영역의 일방의 장변측에서 센서 채널에 접속되는 인출 배선과, 타방의 장변측에서 센서 채널에 접속되는 인출 배선에 의해 구성되어 있는 터치 패널 센서의 제조 방법.
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