KR20200019984A - 화학적으로 강화된 방현 유리 및 방현 처리용 유리 - Google Patents

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Abstract

화학적으로 강화된 방현 유리를 제공한다. 상기 유리는 이하의 산화물을 몰%로 포함한다: SiO2 58%~64%, 바람직하게는 62%~64%; Al2O3 5%~8.5%, 바람직하게는 6.2%~8.5%; Na2O 10%~14%, 바람직하게는 12.5%~14%; K2O 3%~5%; 및 MgO 8%~11%; 여기서, 상기 유리의 적어도 한면은 방현 처리가 실시된다. 또한, 방현 처리용 유리 및 이를 통해 제조된 방현 유리가 제공된다.

Description

화학적으로 강화된 방현 유리 및 방현 처리용 유리
본 발명은 화학적으로 강화된 방현 유리에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 방현 처리용 유리에 관한 것이다. 본원에 제공된 유리 또는 방현 유리는 모바일 폰, 컴퓨터, 차량 네비게이터 등의 각종 평판 디스플레이의 커버 유리로서 사용되거나 또는 방현 성능에 대한 요구가 높은 기타 제품에 사용될 수 있다.
시각적 유리 재료의 개발에 의해, 일상 생활과 작업 환경에서 빛과 햇빛의 영향이 더욱 더 명백해지고 있고, 따라서 유리의 방현 기술과 그 적용이 특히 중요하다. 현재, 유리의 방현 기술이 발전하고 있다.
방현 유리의 제조 공정은, 주로 기계적 방법과 화학적 방법으로 구분된다. 기계적 처리 방법은, 주로 샌드블라스팅, 그라인딩 및 블로잉 방법을 포함하고, 화학적 처리 방법은, 주로 화학적 에칭 및 표면 코팅을 포함한다. 이들 중, 당업계에서 가장 일반적으로 사용되는 공정은 간단한 공정, 용이한 제어 및 대형 제작에 적합하다는 장점으로 인하여 화학적 에칭이다. 그러나, 이와 같이 제작된 방현 유리의 강도 특성은 강화 공정을 거친 후에도 그다지 만족스럽지 않다.
따라서, 굽힘 내성, 낙하 내성, 경도 및 스크래치 내성 등의 강도 특성을 만족하는 방현 유리를 제공할 필요가 있다.
따라서, 본 발명의 하나의 형태에 있어서, 화학적으로 강화된 방현 유리를 제공하는 것이고, 여기서, 상기 유리는 이하의 산화물을 몰%로 포함한다:
SiO2 58%~64%, 바람직하게는 62%~64%;
Al2O3 5%~8.5%, 바람직하게는 6.2%~8.5%;
Na2O 10%~14%, 바람직하게는 12.5%~14%;
K2O 3%~5%; 및
MgO 8%~11%.
본 발명의 제 1 형태에 따른 방현 유리는 추가로 이하의 산화물을 몰%로 포함할 수 있다.
ZrO2 0%~2%;
B2O3 0%~1%;
ZnO 0%~1%;
Li2O 0%~1%.
상기 제 1 형태에 있어서, 상기 유리의 적어도 한 면은 방현 처리가 실시될 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 방현 유리는 상기 유리의 양면이 방현 처리가 실시되어도 좋다.
바람직한 상황에 있어서, 본원에 제공된 화학적으로 강화된 방현 유리는 이하의 산화물을 몰%로 포함하거나, 몰%로 이하의 산화물로 이루어진다:
SiO2 58%~64%, 바람직하게는 62%~64%, 더욱 바람직하게는 62.80%, 63.57%, 63.73%, 또는 63.93%;
Al2O3 5%~8.5%, 바람직하게는 6.2%~8.5%, 더욱 바람직하게는 6.45%, 7.22%, 8.06%, 8.12% 또는 8.47%;
Na2O 10%~14%, 바람직하게는 12.5%~14%, 더욱 바람직하게는 12.62%, 12.87%, 13.07%, 13.32% 또는 13.61%;
K2O 3%~5%, 더욱 바람직하게는 3.23%, 3.80%, 3.95%, 4.02%;
MgO 8%~11%, 더욱 바람직하게는 8.77%, 10.52%, 10.68%, 10.86%;
ZrO2 0%~2%, 바람직하게는 1.25%~1.90%;
B2O3 0%~1%, 바람직하게는 0.10%~0.75%;
ZnO 0%~1%, 바람직하게는 0.10%~0.45%; 및
Li2O 0%~1%, 바람직하게는 0.50%~0.75%.
본 발명에서 제공되는 방현 유리에 있어서, 상기 방현 처리가 실시된 표면은 거칠고, 조도는 10㎛~60㎛이다. 상기 방현 유리의 헤이즈는 3%~7%일 수 있다. 바람직하게는 방현 유리의 측정된 60°광택도는 100~110GU일 수 있다.
상기 방현 유리는 화학적 강화 처리가 실시되는 것이 바람직하다. 상기 화학적 강화 공정에 있어서, 상기 유리는 KNO3 강화액에 침지되어 KNO3 강화액과 유리 사이에 이온 교환이 일어난다. 바람직하게는, 상기 KNO3 강화액에서의 상기 NA+ 이온 농도는 10,000ppm 미만이다.
화학적 강화 후, 본 발명에 따른 방현 유리는 이하의 특성을 가질 수 있다: 표면 압축 응력 CS≥650MPa, 바람직하게는 700MPa; 및/또는 응력 층 깊이 DOL≥30㎛, 바람직하게는 ≥35㎛; 및/또는 연필 경도(H)>9, 및/또는 4점 굽힘 강도는 ≥500MPa, 바람직하게는 ≥600MPa, 더욱 바람직하게는 ≥700MPa이다.
일반적으로, 본 발명에 따른 방현 유리는 유리판이고, 두께는 0.2mm~3mm일 수 있다.
제 2 형태에 있어서, 본 발명은 방현 처리용 유리를 제공하고, 여기서, 상기 방현 처리용 유리는 이하의 산화물을 몰%로 포함한다:
SiO2 58%~64%, 바람직하게는 62%~64%, 더욱 바람직하게는 62.80%, 63.57%, 63.73% 또는 63.93%;
Al2O3 5%~8.5%, 바람직하게는 6.2%~8.5%, 더욱 바람직하게는 6.45%, 7.22%, 8.06%, 8.12% 또는 8.47%;
Na2O 10%~14%, 바람직하게는 12.5%~14%, 더욱 바람직하게는 12.62%, 12.87%, 13.07%, 13.32% 또는 13.61%;
K2O 3%~5%, 더욱 바람직하게는 3.23%, 3.80%, 3.95%, 4.02%;
MgO 8%~11%, 더욱 바람직하게는 8.77%, 10.52%, 10.68%, 10.86%.
제 2 형태에 따른 유리는 추가로 이하의 산화물을 몰%로 포함할 수 있다:
ZrO2 0%~2%, 바람직하게는 1.25%~1.90%;
B2O3 0%~1%, 바람직하게는 0.10%~0.75%;
ZnO 0%~1%, 바람직하게는 0.10%~0.45%; 및
Li2O 0%~1%, 바람직하게는 0.50%~0.75%.
따라서, 다른 형태에 있어서, 본 발명은 상기 방현 처리용 유리의 적어도 한 면에 방현 처리를 실시함으로써 얻어진 방현 유리를 제공한다.
특히, 방현 처리는 화학적 에칭일 수 있다.
방현 처리 후, 상기 방현 처리 유리의 표면 조도는 10㎛~60㎛이고, 헤이즈는 3%~7%이고, 60°광택도는 100~110GU이다.
상술한 바와 같이, 본 발명은 만족스러운 강도 성능 및 방현 효과를 갖는 유리, 특히 화학적 에칭에 의해 제조된 방현 유리를 제공하고자 한다. 즉, 본원에서 제공되는 유리(플레이트)는 종래의 화학적 강화 공정을 거친 후 방현 효과를 손상시키지 않으면서 우수한 강도 특성을 가질 수 있다.
본 발명의 발명자들은 유리 원료를 최적화함으로써 이러한 유리(원시트)가 제공될 수 있음을 예상치 못하게 발견하였다. 이러한 유리 원판은 방현 처리 및 화학 강화를 거친 후에 우수한 강도 성능(예를 들면, 낙하 내성, 굽힘 내성, 고경도 등) 및 방현 효과를 갖는 유리 완성품을 제공할 수 있다.
따라서, 본 발명은 우선 기초로서, 유리 조성물을 제공하고, 여기서 본원에서 제공되는 유리는 이하의 산화물을 몰%로 포함한다:
SiO2 58%~64%;
Al2O3 5%~8.5%;
Na2O 10%~14%;
K2O 3%~5%; 및
MgO 0%~11%.
바람직하게는 상기 유리는 추가로 이하의 산화물을 몰%로 포함할 수 있다.
ZrO2 0%~2%;
B2O3 0%~1%;
ZnO 0%~1%; 및
Li2O 0%~1%.
바람직한 실시형태에 있어서, 본 발명에 따른 유리는 SiO2 62~64%를 몰%로 포함한다.
바람직한 실시형태에 있어서, 본 발명에 따른 유리는 Al2O3 6.2~8.5%를 몰%로 포함한다.
바람직한 실시형태에 있어서, 본 발명에 따른 유리는 Na2O 12.5%~14%를 몰%로 포함한다.
특히 바람직한 실시형태에 있어서, 본 발명에 따른 유리는 상술의 성분으로이루어진다.
본 발명에 따른 유리는 제공된 유리 조성물로 당업계의 통상의 유리 제조 방법에 의해 제조될 수 있다. 종래의 유리 제조 방법은 플로트 방법 또는 오버플로우 방법을 포함하지만 이것에 한정되지는 않는다.
제조된 유리에 기초하여 본 발명은, 또한 방현 유리를 제공한다. 상기 방현 유리는 이하의 산화물을 몰%로 포함한다.
SiO2 58%~64%;
Al2O3 5%~8.5%;
Na2O 10%~14%;
K2O 3%~5%; 및
MgO 8%~11%.
여기서, 상기 유리의 적어도 한 면은 방현 처리가 실시된다. 방현 효과의 실제 요건 및 적용 시나리오에 따라서, 상기 방현 처리는 방현 유리의 양면에 행해질 수 있다.
바람직하게는, 상기 방현 유리는 추가로 이하의 산화물을 몰%로 포함할 수 있다:
ZrO2 0%~2%;
B2O3 0%~1%;
ZnO 0%~1%;
Li2O 0%~1%.
바람직한 실시형태에 있어서, 본 발명에 따른 방현 유리는 SiO2 62%~64%를 몰%로 포함한다.
바람직한 실시형태에 있어서, 본 발명에 따른 방현 유리는 Al2O3 6.2%~8.5%를 몰%로 포함한다.
바람직한 실시형태에 있어서, 본 발명에 따른 방현 유리는 Na2O 12.5%~14%를 몰%로 포함한다.
특히, 바람직한 실시형태에 있어서, 본 발명에 따른 방현 유리는 상술의 성분으로 이루어진다.
본원 문맥에 있어서, 상기 유리의 "방현 처리"는 유리의 광반사율을 감소시키기 위해 유리의 적어도 한 면이 특수 처리되는 것을 의미함으로써 주변광의 간섭을 감소시키고 스크린의 반사를 감소시켜 화상이 더욱 선명해진다. 본 명세서에 있어서, "방현 처리"는 원칙적으로 기계적 처리 및 화학적 처리를 포함할 수 있다. 유리한 경우로, 본원의 방현 처리는 화학적 에칭 방법을 사용한다.
본 발명에 따른 유리에 대하여, 방현 처리가 실시된 표면은 거칠고, 그 조도는 10㎛~60㎛이다. 바람직하게는, 헤이즈는 3%~7%이고 및/또는 60°광택도는 100~110GU이다. 본 발명의 발명자들은 이러한 방현 효과가 각종 평판 디스플레이 용 커버 유리에 특히 적합하다는 것을 발견했다.
본원에서 사용되는 바와 같이, "60°광택도"는 유리 표면의 법선에 대해 60°의 각도로 샘플에 광이 입사될 때의 광택 측정을 의미한다. 상기 광택도의 단위는 GU, 즉 광택 단위이다.
본원에서 사용되는 바와 같이, "헤이즈"는 총 투과광 강도에 비하여 입사광으로부터 2.5 °의 각도를 초과하는 투과광 강도의 백분율이다.
물론, 당업계에서 유리를 강화시키는 다양한 통상적인 방법에 의한 후처리 공정에 있어서, 본 발명에 따른 유리 또는 방현 처리된 유리의 강도 특성이 개선될 수 있음을 이해할 수 있다. 상기 방법은 물리적 템퍼링, 화학적 강화, 폴리싱 및 그라인딩 등을 포함하지만, 이들로 제한되지 않는다. 본 발명에 따른 유리의 가공 공정에서, 화학 강화는 나중의 강화 방법으로 채용되는 것이 바람직하다.
본원에 사용되는 바와 같이, "화학적 강화"는 유리 제조 분야의 당업자에게 공지된 이온 교환 방법에 의해 유리를 강화시키는 것을 의미하는 것으로 이해되어야 한다. 이러한 이온 교환 방법은 핫 알칼리 알루미노실리케이트 유리(또는 다른 적당한 알칼리-함유 유리)의 핫 멜티드 용액에 의한 처리를 포함하지만, 이것에 한정되지 않고, 여기서, 상기 핫 멜티드 용액은 유리의 표면에 존재하는 이온보다 큰 이온 반경을 갖는 이온을 함유함으로써 보다 작은 이온을 보다 큰 이온으로 대체한다. 예를 들면, 칼륨 이온은 유리의 나트륨 또는 리튬 이온을 대체할 수 있다. 또는 루비듐 또는 세슘과 같은 보다 큰 원자 반경을 지닌 다른 알칼리 금속 이온은 상기 유리에 있어서, 칼륨 등의 보다 작은 알칼리 금속 이온을 대체할 수 있다. 동일하게, 술페이트, 할라이드 등을 포함하지만, 이들에 제한되지 않는 다른 알칼리 금속 염이 상기 이온 교환 방법에 사용될 수 있다. 예를 들면, 유리판을 390~450℃에서 질산 칼륨 용융액에 3~6시간 이상 침지시켜 화학적 강화를 완료할 수 있다. 바람직하게는, 질산 칼륨 용융액의 Na+ 이온 농도가 10,000ppm 미만이다.
본 발명의 발명자들은 화학적 강화가 행해진 후의 본원에 제공된 방현 유리가 방현 효과가 우수할 뿐만 아니라 강도 성능이 크게 향상된다는, 예상치 못한 것을 발견하였다. 유리한 경우에, 화학적으로 강화된 방현 유리는 표면 압축 응력 CS≥650MPa, 바람직하게는 700MPa; 응력 층 깊이 DOL≥30㎛, 바람직하게는 ≥35㎛; 연필 경도(H)>9 및 4점 굽힘 강도 ≥500MPa, 바람직하게는 ≥600MPa, 더욱 바람직하게는 ≥700MPa를 갖는다. 이러한 기계적 성질은 또한 본원에 제공된 화학적으로 강화된 방현 유리를 각종 평판 디스플레이용 커버 유리로서 사용하기에 더욱 적합하게 한다.
단지, 하나의 예로서, 본 발명에 따른 화학적으로 강화된 방현 유리는 다음과 같이 제조될 수 있다.
1. 제공된 조성물에 따른 유리 성분을 제공한다.
2. 유리의 표면을 스크래치, 패임, 기포 및 다른 결함이 없음을 확인하여 배칭→용융→성형→어닐링→절단 공정에 따라서 원판 유리 시트가 얻어진다. 상기 유리 표면 상의 점 결함은 유리의 강도 특성에 영향을 줄 수 있다. 여기서, 상기 유리의 두께는 0.2mm~3mm일 수 있다.
3. 원판 유리 시트는 가장자리 그라인딩 후 유리의 가장자리에 대한 가장자리 파손 사이즈가 30㎛ 미만을 보장하는 컴퓨터 수치 제어(CNC) 공작 기계의 가공 조작에 의해 소망의 크기로 제작되고, 가장자리 가공 품질은 유리의 강도 특성에 영향을 줄 수 있다.
4. 상기 유리 시트(유리 샘플)를 에칭액(예를 들면, NH4HF2 및 10% 프로필렌글리콜의 혼합 용액)에 담가 유리 표면을 거칠게 한 후, 꺼내어 세정한다. 이 단계에서, 유리의 양면이 화학적으로 에칭될 수 있다. 또한, 필요에 따라, 유리의 한 면에 필름을 적용하여 다른 한 면만 화학적으로 에칭할 수 있다.
5. 이어서, 유체가 표면을 통과하도록 샘플을 수직으로 유지하면서, 상기 유리 샘플을 산성 용액(예컨대, H2SO4)에 침지한다. 산성 용액 배쓰에 상기 유리 샘플을 침지하면서, 수직 이동에 의한 기계적 교반이 행해진다.
6. 상기 유리 샘플을 탈이온수로 다시 세척한 후, HF 및 HCl을 함유한 혼합 용액에 침지하고 연마시킨다. 상기 샘플은, 상기 산성 용액 배쓰에 있어서의 동일한 교반 방법을 사용함으로써 HF 및 HCl을 함유하는 혼합 용액의 배쓰에서 교반된다.
7. 마지막으로 상기 유리 샘플을 꺼내어 탈이온수로 세정한 후, 질소 기류 하에 건조시킨다
8. 이어서, 세정 및 건조된 유리 샘플이 화학적으로 강화되었고, 상기 KNO3 용융액 중의 Na+ 이온 농도는 10,000ppm 미만이다. 상기 Na+ 이온 농도가 너무 높으면, 화학 강화 후 유리 성능에 영향을 줄 수 있다.
이와 같이 하여 본 발명에 따른 화학 강화 방현 유리가 얻어진다.
본원에 제공된 화학적으로 강화된 방현 유리에 따르면, 종래 기술과 비교하여 화학적 강화 후에 보다 강한 강도 특성을 갖는 유리판이 얻어지고, 우수한 방현 특성 이외에, 상기 유리의 굽힘 내성, 낙하 내성, 경도 및 스크래치 내성을 포함한 특성이 시판의 방현 유리보다 우수하다.
따라서, 본원에 제공된 유리는 디스플레이 장치의 방현 유리판으로 사용하기에 특히 적합하다. 예를 들면, 본원에 제공된 유리(플레이트)는 모바일 폰, 컴퓨터, 차량 내비게이터 등과 같은 일련의 평판 디스플레이의 커버 유리, 또는 높은 강도 성능이 요구되는 기타의 경우에 사용될 수 있다.
실시예
이하, 본 발명의 실시형태에 대하여 상세하게 기재한다. 본원에 기술된 특정 실시형태는 단지 본 발명의 예시이고, 본 발명을 한정하고자 함이 아님을 이해해야한다.
우선, 유리판이 준비된다. 표 1의 실시예 1~10의 성분 비율에 따라, 다른 성분 함량을 지닌 본 발명의 유리판이 제조된다. 또한, 5개의 비교예의 유리가 이하의 표, 즉 비교예 1~5로 제공된다. 이하의 표 중의 데이터는 산화물의 몰%로 제공된다.
Figure pct00001
본원에 제공된 유리판의 구체적인 제조 공정은 다음과 같다:
상기 표 1의 성분비에 따라서, 혼합된 원료를 밀봉된 백에 각각 넣고, 밀봉된 백에서 혼합한 다음, 백금 도가니에 부어 용융시키고, 용융된 유리 액체가 금속 몰드에 부어진다. 정밀 어닐링 및 냉각을 위해, 상기 금속 몰드와 함께 유리를 어닐링 로에 위치시키고, 최종적으로 0.70mm 두께의 유리판이 각각 형성된다.
상기 유리판을 CNC에 의해 50mm × 50mm × 0.70mm의 유리 샘플로 제작하고, 각 실시예 및 비교예에 대해 20개의 유리 샘플이 준비된다. 이어서, 현미경을 사용하여 가장자리를 검사하여 가장자리 파손 사이즈가 30㎛ 이하인지 확인한다.
가장자리 검사를 통과한 유리 시트(유리 샘플)를 6중량%의 NH4HF2 및 10중량%의 프로필렌글리콜을 함유하는 정적 용액에 5분 동안 침지시키고, 즉, 양면에 방현 처리를 행한다. 이어서, 유리 샘플을 1분 동안 탈이온수(DI)로 세정한다.
이어서, 1M H2SO4에 5분 동안 침지시키고, 그동안 상기 유리 샘플이 수직을 유지하여 유체가 표면 상을 통과할 수 있게 하고, 상기 유리 샘플이 H2SO4 배쓰에 침지되는 동안, 수직 이동에 의해 기계적 교반이 행해진다. 교반 속도는 약 2Hz이고 이동 거리는 약 2인치이다.
이어서, 유리 샘플을 1분 동안 탈이온수로 다시 세정한 후, 4중량% HF + 4중량% HCl을 함유하는 용액에 10분 동안 침지시킨다. H2SO4 배쓰에 동일한 교반 방법을 사용하여 상기 유리 샘플을 HF+HCl 배쓰에서 교반한다.
상기 유리 샘플을 꺼내고 탈이온수로 세정하고, 이어서 질소 기류 하에 건조시킨다. 건조된 유리 샘플을 400℃에서 약 4시간 동안 KNO3 강화액(Na+ 농도 약 3000ppm)에서 화학적으로 강화시킨다.
이어서, 상기 유리 시료를 꺼내고 표면 압축 응력(CS), 응력 층 깊이(DOL), 연필 경도(H), 4점 굽힘 성능(4PB)을 포함한 그 강도 특성과 60°광택도, 헤이즈 및 조도 성능을 테스트한다. 각 샘플에 대한 20개 유리 시트의 테스트 결과의 평균값이 표 2에 나타내어진다;
Figure pct00002
상기 표 2로부터 명백할 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따른 실시예 1~10에 나타낸 각 성분의 유리 시트의 방현 특성은 비교예 1~5의 유리 시트와 동일하지만, 각종 강도 특성이 비교예 1~5의 유리 시트의 것보다 명백하게 우수하다.
상기 실시예는 본 발명의 바람직한 실시예일 뿐이며, 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것이 아니다. 본 발명의 설계 원리를 기초로 하는, 창조 작업이 없이 행해진 모든 변경은 본 발명의 보호 범위에 포함될 것이다.

Claims (10)

  1. 이하의 산화물을 몰%로 포함하는 화학적으로 강화된 방현 유리로서,
    상기 유리의 적어도 한 면은 방현 처리가 실시된 화학적으로 강화된 방현 유리.
    SiO2 58%~64%, 바람직하게는 62%~64%;
    Al2O3 5%~8.5%, 바람직하게는 6.2%~8.5%;
    Na2O 10%~14%, 바람직하게는 12.5%~14%;
    K2O 3%~5%; 및
    MgO 8%~11%.
  2. 제 1 항에 있어서,
    추가로 이하의 산화물을 몰%로 포함하는 방현 유리.
    ZrO2 0%~2%;
    B2O3 0%~1%;
    ZnO 0%~1%;
    Li2O 0%~1%.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 방현 처리가 실시된 표면의 조도는 10㎛~60㎛, 헤이즈는 3%~7%, 60°광택도는 100~110GU인 방현 유리.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    화학적 강화는 상기 유리를 KNO3 강화액에 침지시키는 것을 포함하고, 상기 KNO3 용융액의 Na+ 이온 농도는 10,000ppm 미만인 방현 유리.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 방현 유리의 표면 압축 응력(CS) ≥650, 바람직하게는 ≥700MPa; 응력 층 깊이(DOL) ≥30㎛, 바람직하게는 ≥35㎛; 연필 경도(H) >9; 및 4점 굽힘 강도 ≥500MPa, 바람직하게는 ≥600MPa, 더욱 바람직하게는 ≥700MPa인 방현 유리.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    두께가 0.2mm~3mm인 방현 유리.
  7. 이하의 산화물을 몰%로 포함하는 방현 처리용 유리.
    SiO2 58%~64%, 바람직하게는 62%~64%;
    Al2O3 5%~8.5%, 바람직하게는 6.2%~8.5%;
    Na2O 10%~14%, 바람직하게는 12.5%~14%;
    K2O 3%~5%; 및
    MgO 8%~11%.
  8. 제 7 항에 있어서,
    추가로 이하의 산화물을 몰%로 포함하는 방현 처리용 유리.
    ZrO2 0%~2%;
    B2O3 0%~1%;
    ZnO 0%~1%;
    Li2O 0%~1%.
  9. 제 7 항 또는 제 8 항에 기재된 방현 처리용 유리의 적어도 한 면에 방현 처리, 바람직하게는 화학적 에칭을 실시함으로써 얻어지는 방현 유리.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 방현 처리가 실시된 표면의 조도는 10㎛~60㎛, 헤이즈는 3%~7%, 60°광택도는 100~110GU인 방현 유리.
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