KR20200002727U - 기판 처리 장치 - Google Patents

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요시히로 카와구치
요헤이 야마와키
세이지 나카노
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도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Abstract

적절한 간격을 두고 마주보는 회전 유로와 고정 유로와의 조를 복수 조 형성할 수 있고, 그 조마다 가스의 흐름을 제어할 수 있는 기술을 제공한다. 기판 처리 장치는 기판을 회전시키는 스핀들과, 가스층을 개재하여 상기 스핀들을 회전 가능하게 지지하는 가스 축받이를 구비하고, 상기 스핀들의 내부에는 가스를 흘리는 회전 유로가 복수 형성되고, 상기 가스 축받이의 내부에는 가스를 흘리는 고정 유로가 복수 형성되고, 복수의 상기 고정 유로는, 상기 가스층을 개재하여, 다른 상기 회전 유로와 마주본다.

Description

기판 처리 장치 {SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}
본 개시는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
특허 문헌 1에는, 공기 축받이의 내부에 주축을 장착하고, 이 주축에 진공 척을 장착한 장치가 기재되어 있다. 제 1 진공 통로는, 주축의 진공 척 장착부 단부로부터 주축의 내부를 지나 주축의 외주면에 개구되고, 주축의 외주면에 제 1 접속구를 형성한다. 제 2 진공 통로는, 공기 축받이의 내주면에 있어서의 제 1 접속구에 대향하는 위치에 환상의 제 2 접속구를 형성하고, 제 2 접속구로부터 공기 축받이의 내부를 지난다.
일본특허공개공보 소62-193704호
본 개시의 일태양은, 적절한 간격을 두고 마주보는 회전 유로와 고정 유로와의 조를 복수 조 형성할 수 있고, 그 조마다 가스의 흐름을 제어할 수 있는 기술을 제공한다.
본 개시의 일태양에 따른 기판 처리 장치는,
기판을 회전시키는 스핀들과,
가스층을 개재하여 상기 스핀들을 회전 가능하게 지지하는 가스 축받이를 구비하고,
상기 스핀들의 내부에는 가스를 흘리는 회전 유로가 복수 형성되고, 상기 가스 축받이의 내부에는 가스를 흘리는 고정 유로가 복수 형성되고,
복수의 상기 고정 유로는, 상기 가스층을 개재하여, 다른 상기 회전 유로와 마주본다.
본 개시의 일태양에 따르면, 적절한 간격을 두고 마주보는 회전 유로와 고정 유로와의 조를 복수 조 형성할 수 있고, 그 조마다 가스의 흐름을 제어할 수 있다.
도 1은 일실시 형태에 따른 기판 처리 장치의 기판을 흡착한 상태를 나타내는 단면도이다.
도 2는 도 1의 일부 확대도이다.
도 3은 도 1에 나타내는 진공 척으로부터 기판을 분리한 상태를 나타내는 단면도이다.
도 4는 도 3에 나타내는 회전 척으로부터 진공 척을 분리한 상태를 나타내는 단면도로, 도 5의 IV-IV선을 따른 단면도이다.
도 5는 도 4에 나타내는 기판 처리 장치의 평면도이다.
이하, 본 개시의 실시 형태에 대하여 도면을 참조하여 설명한다. 또한, 각 도면에서 동일한 또는 대응하는 구성에는 동일한 부호를 부여하여, 설명을 생략하는 경우가 있다.
도 1 등에 나타내는 기판 처리 장치(1)는 기판(2)을 회전시키면서, 기판(2)을 처리한다. 기판(2)은 예를 들면 실리콘 웨이퍼 등이다. 기판(2)은 링 형상의 프레임(3)의 개구부를 덮는 테이프(5)에 부착되어도 된다. 프레임(3)을 유지함으로써 기판(2)을 유지할 수 있으므로, 기판(2)의 핸들링성을 향상시킬 수 있다. 또한, 기판(2)은 미리 미도시의 지지 기판과 접합되어도 되며, 지지 기판을 개재하여 테이프(5)에 부착되어도 된다.
기판(2)의 처리는 예를 들면 레이저 가공이다. 레이저 광선은, 기판(2)의 내부에 집광 조사되어, 기판(2)의 내부에 개질층을 형성한다. 개질층은 기판(2)의 분할의 기점이 된다. 레이저 광선은 기판(2)의 표면에 성막된 막을 제거하는데 이용되어도 된다. 또한, 기판(2)의 처리는 레이저 가공에는 한정되지 않는다. 예를 들면, 기판(2)의 처리로서, 연삭 가공, 연마 가공, 액 처리, 플라즈마 처리 등을 들 수 있다.
기판 처리 장치(1)는, 도 1 등에 나타내는 바와 같이 기판(2)을 회전시키는 스핀들(10)을 구비한다. 스핀들(10)은 모터(M)와 접속되어, 모터(M)에 의해 회전된다. 모터(M)의 회전축은 스핀들(10)의 연장선 상에 배치되어, 스핀들(10)에 직접 연결된다. 단, 모터(M)의 회전축은 스핀들(10)의 연장선으로부터 어긋나 배치되어도 되고, 타이밍 벨트 또는 기어 등을 개재하여 스핀들(10)과 연결되어도 된다.
스핀들(10)은, 도 2에 나타내는 바와 같이 예를 들면 제 1 회전축(11)과, 제 2 회전축(12)과, 제 1 회전축(11)과 제 2 회전축(12)과의 사이에서 제 1 회전축(11) 및 제 2 회전축(12)보다 작은 직경의 중간축(13)을 포함한다. 제 1 회전축(11)과 제 2 회전축(12)과 중간축(13)은, 본 실시 형태에서는 동일한 연직선 상에 배치되지만, 동일한 수평선 상에 배치되어도 된다.
기판 처리 장치(1)는 가스층(GL)을 개재하여 스핀들(10)을 회전 가능하게 지지하는 가스 축받이(20)를 구비한다. 가스 축받이(20)는 축받이용 가스 공급기(30)와 접속되고, 축받이용 가스 공급기(30)가 가스 축받이(20)에 압축 가스를 공급한다. 가스 축받이(20)는 스핀들(10)과의 사이에 약간의 간극을 형성하여, 그 간극에 압축 가스를 공급하고, 공급한 압축 가스의 압력에 의해 직경 방향의 하중과 축 방향의 하중을 받는다. 압축 가스는 예를 들면 압축 공기이며, 가스 축받이(20)는 예를 들면 공기 축받이다.
가스 축받이(20)는 볼 축받이 및 롤러 축받이와는 달리 비접촉이므로, 가스 축받이(20) 또는 스핀들(10)의 형상 오차에 의해 발생할 수 있는 스핀들(10)의 흔들림을 억제할 수 있어, 기판(2)의 흔들거림을 억제할 수 있다. 그 결과, 기판(2)의 처리 정밀도를 향상시킬 수 있다. 예를 들면, 레이저 광선의 조사 위치의 정밀도를 향상시킬 수 있어, 개질층의 형성 위치 또는 막의 제거 위치의 정밀도를 향상시킬 수 있다.
또한, 가스 축받이(20)는 볼 축받이 및 롤러 축받이에 비해 마찰 저항을 저감시킬 수 있어, 고속 회전을 실현할 수 있다. 마찰이 거의 생기지 않으므로, 분진의 발생이 억제되고, 또한 기계 수명이 길다. 또한, 가스 축받이(20)는 볼 축받이 및 롤러 축받이와는 달리, 윤활제로 윤활하지 않아도 되므로, 윤활제에 의한 오염을 방지할 수 있다.
가스 축받이(20)는 통 형상으로 형성되고, 제 1 회전축(11)의 축 방향 일단면(예를 들면 하면)(11a)과, 제 2 회전축(12)의 축 방향 일단면(예를 들면 상면)(12a)과, 중간축(13)의 외주면(13a)과의 사이에 가스층(GL)을 형성한다. 압축 가스의 압력이 중간축(13)의 외주면(13a)의 둘레 방향 전체에 작용하므로, 직경 방향의 하중을 받을 수 있다. 또한, 압축 가스의 압력이 제 1 회전축(11)의 축 방향 일단면(예를 들면 하면)(11a)과, 제 2 회전축(12)의 축 방향 일단면(예를 들면 상면)(12a)과의 양방에 작용하므로, 축 방향 양방향의 하중을 받을 수 있다.
또한, 가스 축받이(20)는 특허 문헌 1의 공기 축받이와 마찬가지로, 축 방향 일방향만의 하중을 받아도 된다. 이 경우, 가스 축받이(20)는 제 1 회전축(11)의 축 방향 일단면(예를 들면 하면)(11a)과, 중간축(13)의 외주면(13a)과의 사이에 가스층(GL)을 형성한다. 중간축(13)의 직경과 제 2 회전축(12)의 직경은 동일해도 된다.
가스 축받이(20)는, 예를 들면 다공질인 제 1 원통부(21)와, 제 1 원통부(21)를 둘러싸는 제 2 원통부(22)를 포함한다. 제 1 원통부(21)는 축받이용 가스 공급기(30)로부터 공급되는 압축 가스를, 제 1 회전축(11)의 축 방향 일단면(11a)과, 제 2 회전축(12)의 축 방향 일단면(12a)과, 중간축(13)의 외주면(13a)을 향해 분사한다. 한편, 제 2 원통부(22)는 제 1 원통부(21)를 둘러싸고, 압축 가스가 제 1 원통부(21)로부터 직경 방향 외방으로 유출되는 것을 억제하여, 가스층(GL)의 압력을 높인다.
기판 처리 장치(1)는, 도 1 등에 나타내는 바와 같이, 기판(2)을 흡착하는 척(40)을 구비한다. 기판(2)이 테이프(5)에 부착되는 경우, 척(40)은 테이프(5)를 개재하여 기판(2)을 흡착한다. 척(40)은 기판(2)을 흡착한 상태에서, 스핀들(10)과 함께 회전한다. 척(40)의 기판(2)을 흡착하는 흡착면(41)에는 스핀들(10)로부터 부압이 공급된다.
본 명세서에 있어서, 부압이란, 기판 처리 장치(1)의 내부의 기압(예를 들면 대기압)보다 낮은 기압을 의미한다. 기판 처리 장치(1)의 내부의 기압은 대기압과 동일하지 않아도 되며, 대기압보다 낮아도 되고, 대기압보다 높아도 된다.
척(40)이 기판(2)의 전체를 흡착할 수 있도록, 척(40)의 직경은 기판(2)의 직경과 동일하다. 또한, 척(40)의 직경은 기판(2)의 직경 이상이면 되며, 기판(2)의 직경보다 커도 된다.
척(40)은 예를 들면 원반체(42)와, 원반체(42)의 편면의 오목부에 감합되는 원반 형상의 다공질체(43)를 가진다. 다공질체(43)의 수는 본 실시 형태에서는 1 개이지만, 복수여도 된다. 복수의 다공질체(43)는 동심원 형상으로 배치된다. 다공질체(43)에 부압이 공급되어, 그 부압에 의해 척(40)이 기판(2)을 흡착한다.
기판 처리 장치(1)는 척(40)을 흡착하는 회전체(50)를 구비한다. 회전체(50)는 스핀들(10)에 볼트 등으로 조여진다. 스핀들(10)에는 회전체(50)를 개재하여 척(40)이 장착된다. 회전체(50)는 척(40)을 흡착한 상태에서, 스핀들(10)과 함께 회전한다. 회전체(50)의 척(40)을 흡착하는 흡착면(51)에는 스핀들(10)로부터 부압이 공급된다.
회전체(50)는, 예를 들면 원반체(52)와, 원반체(52)의 편면의 오목부에 감합되는 링 형상의 다공질체(53)를 가진다. 다공질체(53)의 수는 본 실시 형태에서는 복수이지만, 1 개여도 된다. 복수의 다공질체(53)는 동심원 형상으로 배치된다. 다공질체(53)에 부압이 공급되고, 그 부압에 의해 회전체(50)가 척(40)을 흡착한다. 또한, 다공질체(53) 대신에 홈 공간이 형성되어도 된다.
회전체(50) 및 척(40)은 각각 원반 형상이며, 회전체(50)의 직경은 척(40)의 직경보다 작다. 척(40)의 흡착면(41)의 면적 저하를 억제하고, 기판(2)의 자세 안정성의 저하를 억제하면서, 모터(M)에 의해 회전시키는 부재 전체의 관성 모멘트를 저감시킬 수 있어, 모터(M)의 용량을 저감시킬 수 있으므로, 모터(M)를 소형화할 수 있다.
개개의 부재의 관성 모멘트는 개개의 부재의 직경과 두께 등으로 정해진다. 모터(M)의 소형화에는, 상기한 바와 같이, 회전체(50)의 직경을 척(40)의 직경보다 작게 하는 것이 유효하지만, 척(40)의 두께를 얇게 하는 것도 유효하다.
한편, 척(40)의 두께가 얇으면, 척(40)을 회전체(50)에 볼트 등으로 조이는 것이 곤란해진다. 볼트는 척(40)을 국소적으로 조이므로, 척(40)이 변형되어, 척(40)의 흡착면(41)의 평탄도가 악화되어 버리기 때문이다.
본 실시 형태에 따르면, 회전체(50)가 척(40)을 흡착하므로, 척(40)의 흡착면(41)의 평탄도를 유지하면서, 척(40)을 박화할 수 있어, 모터(M)를 소형화할 수 있다. 즉, 본 실시 형태에서는, 모터(M)의 소형화를 목적으로 하여, 척(40)과 스핀들(10) 사이에 회전체(50)가 배치된다.
회전체(50)의 흡착면(51)에는, 도 5에 나타내는 바와 같이 위치 결정 핀(54)이 형성되어도 된다. 위치 결정 핀(54)은 척(40)의 위치 결정홀에 감합하여, 회전체(50)의 중심과 척(40)의 중심을 스핀들(10)의 연장선 상에 배치시킨다. 또한, 위치 결정 핀(54)과 위치 결정홀의 배치는 반대여도 되며, 위치 결정홀이 회전체(50)에 형성되고, 위치 결정 핀(54)이 척(40)에 형성되어도 된다.
기판 처리 장치(1)는 척(40)의 외측에서, 프레임(3)을 흡착하는 프레임 흡착체(60)를 구비한다. 프레임 흡착체(60)는 프레임(3)을 흡착한 상태에서, 척(40)과 함께 회전한다. 프레임(3)과 기판(2)을 동일한 회전 속도로 회전시킬 수 있어, 테이프(5)의 꼬임을 억제할 수 있다. 프레임 흡착체(60)의 프레임(3)을 흡착하는 흡착면(61)에는, 스핀들(10)로부터 부압이 공급된다.
프레임 흡착체(60)는, 예를 들면 회전체(50)로부터 직경 방향 외방으로 연장되는 암(62)의 선단에 장착된다. 암(62)은 방사 형상으로 복수 배치되고, 복수의 암(62)의 각각의 선단에 프레임 흡착체(60)가 장착된다. 프레임 흡착체(60)는 회전체(50)의 둘레 방향에 등피치로 복수 배치되어도 된다.
상기한 바와 같이, 기판 처리 장치(1)는 스핀들(10)과 함께 회전하는 흡착 부재를 복수 가진다. 흡착 부재의 구체예로서, 척(40), 회전체(50) 및 프레임 흡착체(60)를 들 수 있다. 이들 흡착 부재에는 개별로, 스핀들(10)로부터 부압이 공급된다.
따라서 도 2에 나타내는 바와 같이, 스핀들(10)의 내부에는, 가스를 흘리는 회전 유로가 복수 형성된다. 회전 유로로서, 예를 들면 제 1 회전 유로(71)와, 제 2 회전 유로(72)와, 제 3 회전 유로(73)가 형성된다. 또한, 회전 유로의 수는 스핀들(10)과 함께 회전하는 흡착 부재의 수에 따라 적절히 선택되면 되며, 3 개에는 한정되지 않고, 2 개여도 되고, 4 개 이상이어도 된다.
마찬가지로, 가스 축받이(20)의 내부에는, 가스를 흘리는 고정 유로가 복수 형성된다. 고정 유로로서, 예를 들면 제 1 고정 유로(81)와, 제 2 고정 유로(82)와, 제 3 고정 유로(83)가 형성된다. 또한, 고정 유로의 수는 스핀들(10)과 함께 회전하는 흡착 부재의 수에 따라 적절히 선택되면 되며, 3 개에는 한정되지 않고, 2 개여도 되고, 4 개 이상이어도 된다.
복수의 고정 유로는 가스층(GL)을 개재하여, 다른 회전 유로와 마주본다. 예를 들면, 가스층(GL)을 개재하여 제 1 회전 유로(71)와 제 1 고정 유로(81)가 마주하고, 제 2 회전 유로(72)와 제 2 고정 유로(82)가 마주하고, 제 3 회전 유로(73)와 제 3 고정 유로(83)가 마주본다.
가스층(GL)의 두께는, 스핀들(10)을 원활하게 회전시키기 위하여 고정밀도로 관리되고, 가스층(GL)의 가스의 압력을 높이기 위하여 얇은 두께로 관리된다. 그 때문에, 적절한 간격을 두고 서로 마주보는 고정 유로와 회전 유로와의 조를 복수 조 형성할 수 있고, 그 조마다 가스의 흐름을 제어할 수 있다. 서로 마주보는 고정 유로와 회전 유로와의 간격이 좁고, 고정 유로와 회전 유로와의 사이에서 가스가 원활히 흐르기 때문이다. 따라서, 복수의 흡착 부재에 개별로 부압을 공급할 수 있어, 흡착 부재마다 흡착과 흡착의 해제를 실시할 수 있다. 예를 들면, 회전체(50)가 척(40)을 흡착한 상태에서, 척(40)이 기판(2)을 흡착하거나, 그 흡착을 해제하거나 할 수 있다. 또한, 회전체(50)가 척(40)을 흡착한 상태에서, 프레임 흡착체(60)가 프레임(3)을 흡착하거나, 그 흡착을 해제할 수 있다.
도 2에 나타내는 바와 같이, 복수의 고정 유로, 예를 들면 제 1 고정 유로(81)와 제 2 고정 유로(82)와 제 3 고정 유로(83)는 가스 축받이(20)의 내주면(20a)에서, 가스 축받이(20)의 축 방향으로 간격을 두고 개구된다. 도 2에서 81a는 제 1 고정 유로(81)의 개구이며, 82a는 제 2 고정 유로(82)의 개구이며, 83a는 제 3 고정 유로(83)의 개구이다.
한편, 복수의 회전 유로, 예를 들면 제 1 회전 유로(71)와 제 2 회전 유로(72)와 제 3 회전 유로(73)는 중간축(13)의 외주면(13a)에서, 중간축(13)의 축 방향에 간격을 두고 개구되고, 중간축(13)의 둘레 방향 전체에 걸쳐 링 형상으로 개구된다. 도 2에서 71a는 제 1 회전 유로(71)의 개구이며, 72a는 제 2 회전 유로(72)의 개구이며, 73a는 제 3 회전 유로(73)의 개구이다.
제 1 고정 유로(81)의 개구(81a)와 제 1 회전 유로(71)의 개구(71a)가 마주하고, 제 2 고정 유로(82)의 개구(82a)와 제 2 회전 유로(72)의 개구(72a)가 마주하고, 제 3 고정 유로(83)의 개구(83a)와 제 3 회전 유로(73)의 개구(73a)가 마주본다.
회전되는 개구(71a, 72a, 73A)는 링 형상으로 형성되므로, 고정되는 개구(81a, 82a, 83a)와 항상 마주할 수 있다. 그 결과, 스핀들(10)의 회전 중에, 부압의 공급이 중단되는 것을 방지할 수 있다.
또한 본 실시 형태에서는, 모든 고정 유로가 가스 축받이(20)의 내주면(20a)에서 개구되지만, 1 개 이상의 고정 유로가 가스 축받이(20)의 축 방향 일단면(20b) 또는 축 방향 타단면(20c)에서 개구되어도 된다.
마찬가지로 본 실시 형태에서는, 모든 회전 유로가 중간축(13)의 외주면(13a)에서 개구되지만, 1 개 이상의 회전 유로가 제 1 회전축(11)의 축 방향 일단면(11a) 또는 제 2 회전축(12)의 축 방향 일단면(12a)에서 개구되어도 된다.
제 1 고정 유로(81)와, 제 1 회전 유로(71)는 척(40)의 흡착면(41)에 부압을 공급하는 제 1 부압 공급 라인(91)을 형성한다. 제 1 부압 공급 라인(91)은, 도 1에 나타내는 바와 같이 가스 축받이(20), 스핀들(10) 및 회전체(50)를 통하여, 척(40)의 흡착면(41)에 부압을 공급한다. 제 1 부압 공급 라인(91)의 일단에는, 가스를 흡인하는 제 1 가스 흡인기(101)가 설치된다. 제 1 가스 흡인기(101)로서, 예를 들면 진공 펌프 또는 이젝터가 이용된다. 제 1 가스 흡인기(101)에 의해 발생한 부압은, 제 1 부압 공급 라인(91)에 의해, 척(40)의 흡착면(41)에 공급된다.
제 1 부압 공급 라인(91)의 제 1 고정 유로(81)와, 제 1 가스 흡인기(101)와의 사이에는, 가스의 흐름 방향을 전환하는 제 1 전환기(111)를 개재하여, 척(40)의 흡착면(41)을 향해 가스를 공급하는 제 1 가스 공급기(121)가 설치된다. 제 1 전환기(111)는 제 1 고정 유로(81)를, 제 1 가스 흡인기(101)에 대하여 개방하고 또한 제 1 가스 공급기(121)에 대하여 폐색한 상태와, 제 1 가스 흡인기(101)에 대하여 폐색하고 또한 제 1 가스 공급기(121)에 대하여 개방한 상태로 전환된다. 제 1 전환기(111)로서, 예를 들면 삼방 전환 밸브가 이용된다. 삼방 전환 밸브 대신에, 복수의 개폐 밸브가 이용되어도 된다.
흡착의 해제 시에는, 제 1 가스 공급기(121)에 의해 발생한 정압이, 제 1 전환기(111)로부터, 제 1 고정 유로(81)와 제 1 회전 유로(71)를 지나, 척(40)의 흡착면(41)에 공급된다. 그 결과, 흡착의 해제를 확실하게 행할 수 있다. 또한 정압 대신에, 기판 처리 장치(1)의 내부의 기압과 동일한 기압이, 척(40)의 흡착면(41)에 공급되어도 된다. 또한, 제 1 부압 공급 라인(91)의 도중에 리크 밸브가 설치되어, 리크 밸브가 부압의 해제, 나아가서는 흡착의 해제를 실시해도 된다.
제 2 고정 유로(82)와, 제 2 회전 유로(72)는 회전체(50)의 흡착면(51)에 부압을 공급하는 제 2 부압 공급 라인(92)을 형성한다. 제 2 부압 공급 라인(92)은 가스 축받이(20), 스핀들(10)을 지나, 회전체(50)의 흡착면(51)에 부압을 공급한다. 제 2 부압 공급 라인(92)의 일단에는, 가스를 흡인하는 제 2 가스 흡인기(102)가 설치된다. 제 2 가스 흡인기(102)에 의해 발생한 부압은, 제 2 부압 공급 라인(92)에 의해, 회전체(50)의 흡착면(51)에 공급된다.
제 2 부압 공급 라인(92)의 제 2 고정 유로(82)와, 제 2 가스 흡인기(102)와의 사이에는, 가스의 흐름 방향을 전환하는 제 2 전환기(112)를 개재하여, 회전체(50)의 흡착면(51)을 향해 가스를 공급하는 제 2 가스 공급기(122)가 설치된다. 제 2 전환기(112)는 제 2 고정 유로(82)를, 제 2 가스 흡인기(102)에 대하여 개방하고 또한 제 2 가스 공급기(122)에 대하여 폐색한 상태와, 제 2 가스 흡인기(102)에 대하여 폐색하고 또한 제 2 가스 공급기(122)에 대하여 개방한 상태로 전환된다.
흡착의 해제 시에는, 제 2 가스 공급기(122)에 의해 발생한 정압이, 제 2 전환기(112)로부터, 제 2 고정 유로(82)와 제 2 회전 유로(72)를 지나, 회전체(50)의 흡착면(51)에 공급된다. 그 결과, 흡착의 해제를 확실히 행할 수 있다. 또한 정압 대신에, 기판 처리 장치(1)의 내부의 기압과 동일한 기압이, 회전체(50)의 흡착면(51)에 공급되어도 된다. 또한, 제 2 부압 공급 라인(92)의 도중에 리크 밸브가 설치되어, 리크 밸브가 부압의 해제, 나아가서는 흡착의 해제를 실시해도 된다.
제 3 고정 유로(83)와, 제 3 회전 유로(73)는 프레임 흡착체(60)의 흡착면(61)에 부압을 공급하는 제 3 부압 공급 라인(93)을 형성한다. 제 3 부압 공급 라인(93)은 가스 축받이(20), 스핀들(10)을 지나, 프레임 흡착체(60)의 흡착면(61)에 부압을 공급한다. 제 3 부압 공급 라인(93)의 일단에는, 가스를 흡인하는 제 3 가스 흡인기(103)가 설치된다. 제 3 가스 흡인기(103)에 의해 발생한 부압은, 제 3 부압 공급 라인(93)에 의해, 프레임 흡착체(60)의 흡착면(61)에 공급된다.
제 3 부압 공급 라인(93)은 가요성의 튜브(63)를 포함하고, 튜브(63)가 회전체(50)와 프레임 흡착체(60)과의 사이에 유로를 형성한다. 튜브(63)는 도 5에 나타내는 바와 같이, 예를 들면 회전체(50)로부터 직경 방향 외방으로 돌출되고, 도중으로부터 2 개로 분기하여, 2 개의 프레임 흡착체(60)에 장착된다. 튜브(63)의 배치 및 수는 프레임 흡착체(60)의 배치 및 수에 따라 적절히 선택된다.
제 3 부압 공급 라인(93)의 제 3 고정 유로(83)와, 제 3 가스 흡인기(103)의 사이에는, 가스의 흐름 방향을 전환하는 제 3 전환기(113)를 개재하여, 프레임 흡착체(60)의 흡착면(61)을 향해 가스를 공급하는 제 3 가스 공급기(123)가 설치된다. 제 3 전환기(113)는 제 3 고정 유로(83)를, 제 3 가스 흡인기(103)에 대하여 개방하고 또한 제 3 가스 공급기(123)에 대하여 폐색한 상태와, 제 3 가스 흡인기(103)에 대하여 폐색하고 또한 제 3 가스 공급기(123)에 대하여 개방한 상태로 전환된다.
흡착의 해제 시에는, 제 3 가스 공급기(123)에 의해 발생한 정압이, 제 3 전환기(113)로부터, 제 3 고정 유로(83)와 제 3 회전 유로(73)를 지나, 프레임 흡착체(60)의 흡착면(61)에 공급된다. 그 결과, 흡착의 해제를 확실히 행할 수 있다. 또한 정압 대신에, 기판 처리 장치(1)의 내부의 기압과 동일한 기압이, 프레임 흡착체(60)의 흡착면(61)에 공급되어도 된다. 또한, 제 3 부압 공급 라인(93)의 도중에 리크 밸브가 설치되어, 리크 밸브가 부압의 해제, 나아가서는 흡착의 해제를 실시해도 된다.
이상, 본 개시에 따른 기판 처리 장치에 대하여 설명했지만, 본 개시는 상기 실시 형태 등에 한정되지 않는다. 특허 청구의 범위에 기재된 범주 내에서 각종의 변경, 수정, 치환, 부가, 삭제 및 조합이 가능하다. 그들에 대해서도 당연하게 본 개시의 기술적 범위에 속한다.
기판(2)은 실리콘 웨이퍼에는 한정되지 않는다. 기판(2)은 예를 들면 탄화규소 웨이퍼, 질화갈륨 웨이퍼, 산화갈륨 웨이퍼 등이어도 된다. 또한, 기판(2)은 글라스 기판이어도 된다. 기판(2)과 접합되는 지지 기판에 대하여 동일하다.

Claims (9)

  1. 기판을 회전시키는 스핀들과,
    가스층을 개재하여 상기 스핀들을 회전 가능하게 지지하는 가스 축받이를 구비하고,
    상기 스핀들의 내부에는 가스를 흘리는 회전 유로가 복수 형성되고, 상기 가스 축받이의 내부에는 가스를 흘리는 고정 유로가 복수 형성되고,
    복수의 상기 고정 유로는, 상기 가스층을 개재하여, 상이한 상기 회전 유로와 마주보는, 기판 처리 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 기판을 흡착하는 척과,
    상기 척을 흡착하는 회전체를 구비하고,
    상기 스핀들에는, 상기 회전체를 개재하여 상기 척이 장착되고,
    하나의 상기 고정 유로와, 하나의 상기 회전 유로는 상기 척의 흡착면에 부압을 공급하는 제 1 부압 공급 라인을 형성하고,
    다른 하나의 상기 고정 유로와, 다른 하나의 상기 회전 유로는 상기 회전체의 흡착면에 부압을 공급하는 제 2 부압 공급 라인을 형성하는, 기판 처리 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 회전체 및 상기 척은 각각, 원반 형상이며,
    상기 회전체의 직경은, 상기 척의 직경보다 작은, 기판 처리 장치.
  4. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,
    상기 척의 직경은, 상기 기판의 직경 이상인, 기판 처리 장치.
  5. 제 2 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 1 부압 공급 라인의 일단에는, 가스를 흡인하는 제 1 가스 흡인기가 설치되고,
    상기 제 1 부압 공급 라인의 상기 고정 유로와 상기 제 1 가스 흡인기와의 사이에는, 가스의 흐름 방향을 전환하는 제 1 전환기를 개재하여, 상기 척의 흡착면을 향해 가스를 공급하는 제 1 가스 공급기가 설치되는, 기판 처리 장치.
  6. 제 2 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판은, 링 형상의 프레임의 개구부를 덮는 테이프에 부착되고,
    상기 척의 외측에서 상기 프레임을 흡착하고, 상기 척과 함께 회전하는 프레임 흡착체를 더 구비하고,
    또 다른 상기 고정 유로와, 또 다른 상기 회전 유로는 상기 프레임 흡착체의 흡착면에 부압을 공급하는 제 3 부압 공급 라인을 형성하는, 기판 처리 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 기판은, 링 형상의 프레임의 개구부를 덮는 테이프에 부착되고,
    상기 기판을 흡착하여, 상기 스핀들과 함께 회전하는 척과,
    상기 척의 외측에서 상기 프레임을 흡착하고, 상기 척과 함께 회전하는 프레임 흡착체를 구비하고,
    하나의 상기 고정 유로와, 하나의 상기 회전 유로는 상기 척의 흡착면에 부압을 공급하는 부압 공급 라인을 형성하고,
    다른 하나의 상기 고정 유로와, 다른 하나의 상기 회전 유로는, 상기 프레임 흡착체의 흡착면에 부압을 공급하는 부압 공급 라인을 형성하는, 기판 처리 장치.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 스핀들은, 제 1 회전축과, 제 2 회전축과, 상기 제 1 회전축과 상기 제 2 회전축과의 사이에서 상기 제 1 회전축 및 상기 제 2 회전축보다 작은 직경의 중간축을 포함하고,
    상기 가스 축받이는, 통 형상으로 형성되고, 상기 제 1 회전축의 축 방향 일단면과, 상기 제 2 회전축의 축 방향 일단면과, 상기 중간축의 외주면과의 사이에 상기 가스층을 형성하는, 기판 처리 장치.
  9. 제 8 항에 있어서,
    복수의 상기 고정 유로는, 상기 가스 축받이의 내주면에서, 상기 가스 축받이의 축 방향으로 간격을 두고 개구되고,
    복수의 상기 회전 유로는, 상기 중간축의 외주면에서, 상기 중간축의 축 방향으로 간격을 두고 개구되고, 상기 중간축의 둘레 방향 전체에 걸쳐 링 형상으로 개구되는, 기판 처리 장치.
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