KR20190128544A - 곡면 필름코팅판 및 그의 제조방법과 태양광 모듈 - Google Patents

곡면 필름코팅판 및 그의 제조방법과 태양광 모듈 Download PDF

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KR20190128544A
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리숭 타오
이 옌
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Abstract

곡면 필름코팅판을 제공하며, 곡면 필름코팅판은 곡면 투광 기판 및 곡면 투광 기판의 일측에 설치되며, 완전 유전체 필름으로서 굴절률이 곡면 투광 기판의 굴절률보다 높은 고굴절률 소재 필름을 포함하는 필름층을 포함한다. 또한 곡면 필름코팅판의 제조방법 및 이를 포함하는 태양광 모듈을 더 제공한다.

Description

곡면 필름코팅판 및 그의 제조방법과 태양광 모듈{CURVED-SURFACE COATED PLATE, PREPARATION METHOD THEREOF AND SOLAR MODULE}
본 공개는 태양광 기술분야에 관한 것이나 단 이에 한정되지 않으며, 특히 곡면 필름코팅판 및 그의 제조방법과 이를 포함하는 태양광 모듈에 관한 것이다.
태양광 발전 모듈은 컬러 필름코팅 유리를 프론트패널로 사용할 수 있으며, 목적은 적외선 파장 구간의 열반사를 높이고 저방사에 이르기 위한 것이다. 현재, 통상적인 필름코팅 유리의 필름층은 주로 금속층을 함유하며, 이러한 태양광 발전 모듈은 주로 건축물에 사용된다.
어떤 건축물들의 옥상은 평탄하지 않고, 예를 들어 많은 중국식 건축물은 전통적인 용마루 지붕 방식을 채택하고 있으며, 이러한 옥상은 곡면 태양광 발전 모듈을 설치하는 것이 더욱 적합하다. 따라서 곡면 태양광 발전 모듈을 개발할 필요가 있다.
다음은 본문에서 상세히 묘사하는 주제에 대한 개요이며, 본 개요는 청구항의 보호범위를 제한하기 위한 것이 아니다.
본 공개의 적어도 일 실시방안은 일종의 곡면 필름코팅판을 제공하며, 상기 곡면 필름코팅판은 곡면 투광 기판 및 상기 곡면 투광 기판의 일측에 설치되며, 완전 유전체(all-dielectric) 필름으로서, 굴절률이 상기 곡면 투광 기판의 굴절률보다 높은 고굴절률 소재 필름을 포함하는 필름층을 포함한다.
본 공개의 일 실시예에서, 상기 필름층은 상기 고굴절률 소재 필름과 적층 설치되며 굴절률이 상기 곡면 투광 기판의 굴절률보다 낮은 저굴절률 소재 필름을 더 포함할 수 있다.
본 공개의 일 실시예에서, 상기 고굴절률 소재 필름과 상기 저굴절률 소재 필름은 각각 다층일 수 있으며, 다층의 상기 고굴절률 소재 필름과 다층의 상기 저굴절률 소재 필름은 상기 곡면 투광 기판에 교대로 적층 설치된다.
본 공개의 일 실시예에서, 상기 고굴절률 소재 필름은 3층일 수 있고, 상기 저굴절률 소재 필름은 2층일 수 있으며, 상기 곡면 투광 기판은 상기 고굴절률 소재 필름과 서로 이웃한다.
본 공개의 일 실시예에서, 상기 고굴절률 소재 필름은 5층일 수 있고, 상기 저굴절률 소재 필름은 4층일 수 있으며, 상기 곡면 투광 기판은 상기 고굴절률 소재 필름과 서로 이웃한다.
본 공개의 일 실시예에서, 상기 고굴절률 소재 필름은 4층일 수 있고, 상기 저굴절률 소재 필름은 3층일 수 있으며, 상기 곡면 투광 기판은 상기 고굴절률 소재 필름과 서로 이웃한다.
본 공개의 일 실시예에서, 상기 필름층은 상기 곡면 투광 기판의 일측에 순차적으로 설치되는 제1층의 고굴절률 소재 필름, 저굴절률 소재 필름 및 제2층의 고굴절률 소재 필름을 포함할 수 있다.
본 공개의 일 실시예에서, 상기 고굴절률 소재 필름과 상기 저굴절률 소재 필름의 내열 온도는 650℃보다 낮지 않을 수 있다.
본 공개의 일 실시예에서, 상기 고굴절률 소재 필름은 550nm 파장하에서의 굴절률이 1.92 내지 2.60 범위 이내일 수 있다.
본 공개의 일 실시예에서, 상기 저굴절률 소재 필름은 550nm 파장하에서의 굴절률이 1.35 내지 1.50 범위 이내일 수 있다.
본 공개의 일 실시예에서, 상기 고굴절률 소재 필름은 란타늄 티타네이트 필름, 이산화티타늄 필름, 오산화 트리티타늄 필름, 오산화 니오븀 필름, 오산화 탄탈륨 필름, 또는 이산화 지르코늄 필름, 또는 이러한 필름 중의 적어도 2종으로 형성된 복합필름을 포함할 수 있다.
본 공개된 일 실시예에서, 상기 저굴절률 소재 필름은 이산화규소 필름 또는 불화마그네슘 필름, 또는 이산화규소 필름과 불화마그네슘 필름의 복합막을 포함할 수 있다.
본 공개의 일 실시예에서, 상기 필름층에 다층 고굴절률 소재 필름이 포함된 경우, 다층의 상기 고굴절률 소재 필름의 소재는 동일하거나, 또는 적어도 2층의 상기 고굴절률 소재 필름의 소재는 상이할 수도 있다.
본 공개의 일 실시예에서, 상기 필름층에 다층의 저굴절률 소재의 필름이 포함된 경우, 다층의 상기 저굴절률 소재 필름의 소재는 동일하거나, 또는 적어도 2층의 상기 저굴절률 소재 필름의 소재는 상이할 수도 있다.
본 공개의 일 실시예에서, 상기 곡면 필름 코팅판의 색상은 청색, 자색, 금황색, 황색, 적색, 점토색, 회색, 주황색 또는 녹색일 수 있다.
본 공개의 적어도 하나의 실시 방안은 곡면 필름코팅판의 제조방법을 제공하며, 상기 방법은 이하 단계를 포함한다.
평면 투광 기판의 일측 표면에 완전 유전체 필름이면서 굴절률이 상기 평면 투광 기판의 굴절률보다 높은 고굴절률 소재 필름을 포함하는 필름층을 형성하여 평면 필름코팅판을 획득하는 단계;
상기 평면 필름코팅판에 대해 가열 벤딩 처리를 실시하여 곡면 필름코팅판을 획득하는 단계를 포함한다.
본 공개의 일 실시예에서, 상기 평면 투광 기판의 일측 표면에 필름층을 형성하는 단계는
상기 평면 투광 기판의 일측 표면에 상기 고굴절률 소재의 필름과 굴절률이 상기 평면 투광 기판의 굴절률보다 낮은 저굴절률 소재 필름을 적층 설치하여 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
본 공개의 일 실시예에서, 상기 평면 투광 기판의 일측 표면에 필름층을 형성하는 단계는
상기 평면 투광 기판의 일측 표면에 다층의 상기 고굴절률 소재 필름과 다층의 상기 저굴절률 소재 필름을 교대로 설치하고, 또한 상기 평면 투광 기판과 상기 고굴절률 소재 필름을 서로 이웃하도록 설치하여 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
본 공개의 일 실시예에서, 상기 고굴절률 소재 필름과 상기 저굴절률 소재 필름은 진공 상태에서 증착 필름코팅법 또는 마그네트론 스퍼터링법을 이용하여 상기 평면 투광 기판에 형성되는 것일 수 있다.
본 공개의 일 실시예에서, 필름 코팅 소재를 용융 또는 프리스퍼터링(pre-sputtering)하기 전, 상기 진공 상태의 진공도를 1.0×10-4Pa 내지 1.0×10-3Pa의 범위 내로 유지시킬 수 있으며; 또한 필름 소재를 용융 또는 스퍼터링 시, 상기 진공 상태의 진공도는 3.0×10-2Pa 내지 8.0×10-2Pa의 범위 내로 유지시킬 수 있다.
본 공개의 일 실시예에서, 상기 가열 벤딩 처리의 온도는 650℃ 내지 750℃의 범위 내일 수 있고, 시간은 20분 이상일 수 있다.
본 공개의 적어도 일 실시방안은 태양광 모듈을 제공하며, 상기 태양광 모듈의 프론트패널은 본 공개의 어느 하나의 실시방안이 제공하는 곡면 필름코팅판을 포함한다.
본 공개의 일 실시예에서, 상기 태양광 모듈은 상기 프론트패널의 일측에 순차적으로 설치되는 필름, 태양광 전지와 백플레이트를 포함할 수 있다.
본 공개의 일 실시예에서, 상기 태양광 모듈은 상기 프론트패널의 일측에 순차적으로 설치되는 필름, 태양광 전지, 필름과 백플레이트를 더 포함할 수 있다.
본 공개의 기타 특징과 장점은 아래의 명세서에서 설명할 것이며, 또한 부분적으로 명세서를 통해 명확하게 이해되거나 또는 본 공개의 실시를 통해 이해될 것이다. 본 공개의 목적과 기타 장점은 명세서, 청구항 및 첨부도면에서 특별히 제시한 구조를 통해 구현 및 획득될 수 있다.
첨부도면은 본 공개의 기술방안에 대한 좀 더 구체적인 이해를 제공하기 위한 것이며, 또한 명세서의 일부분을 구성한다. 본 공개의 실시예와 함께 본 공개의 기술방안을 해석하기 위한 것으로서, 결코 본 공개의 기술방안을 제안하는 것이 아니다.
도 1은 통상적인 저방사 필름코팅 유리 및 미코팅된 블랭크 유리의 투과율 곡선 대비도이다.
도 2는 본 공개의 일 실시예에 따른 곡면 필름코팅판의 투과율 곡선도이다.
도 3은 본 공개의 일 실시예에 따른 곡면 필름코팅판의 투과율 곡선도이다.
도 4는 본 공개의 일 실시예에 따른 곡면 필름코팅판의 투과율 곡선도이다.
도 5는 본 공개의 일 실시예에 따른 곡면 필름코팅판의 투과율 곡선도이다.
도 6은 본 공개의 일 실시예에 따른 곡면 필름코팅판의 투과율 곡선도이다.
도 7은 본 공개의 실시예에 따라 곡면 필름코팅판을 제조하는 공정 흐름도이다.
도 8은 본 공개의 실시예에 따른 태양광 모듈의 구조도이다.
도 9는 본 공개의 다른 일 실시에에 따른 태양광 모듈의 구조도이다.
본 공개의 목적, 기술방안과 장점이 더욱 명확하게 이해될 수 있도록, 이하 첨부도면을 결합하여 본 공개의 실시예에 대해 상세히 설명한다. 설명해두어야 할 점으로, 충돌이 없는 한, 본 공개 중의 실시예 및 실시예 중의 특징은 상호 임의로 조합이 가능하다.
통상적인 필름코팅 유리의 필름층은 주로 금속층을 포함하며, 필름성형 공정은 주로 마그네트론 스퍼터링법을 이용한다. 열반사 필름코팅 유리와 저방사 필름코팅 유리는 모두 흔히 볼 수 있는 태양광 모듈의 프론트패널 필름코팅 유리로, 열반사 필름코팅 유리는 솔라 컨트롤 코팅 유리라고도 칭하며, 유리 표면에 한 층의 금속 또는 금속화합물 결합 필름층이 코팅된 제품으로서, 필요에 따라 햇볕의 투과율을 제어하여 이상적인 차광 효과를 얻고 필요한 반사 색상을 발생시킴으로써 적외선 파장 구간의 고반사, 저투과를 구현한다. 저방사 필름코팅 유리는 Low-E 유리라고도 칭하며, 유리 표면에 한 층의 저방사 기능을 갖는 금속 또는 화합물을 결합시킨 박막을 코팅하여 제조되며, 유리 표면이 매우 높은 원적외선 반사율을 지님으로써 보온 목적을 달성한다. 현재 흔히 볼 수 있는 저방사 필름코팅 유리에는 싱글실버 저방사 필름코팅 유리, 더블실버 저방사 필름코팅 유리 및 트리플실버 저방사 필름코팅 유리가 있다. 도 1은 싱글실버 저방사 필름코팅 유리, 더블실버 저방사 필름코팅 유리, 트리플실버 저방사 필름코팅 유리 및 미코팅 블랭크 유리의 투과율 곡선이다.
현재 개발된 곡면 태양광 발전 모듈 및 그 곡면 필름코팅판의 프론트패널은 매우 드물다. 그 이유는 한편으로는 곡면 기판에 직접 필름을 코팅하는 난도가 매우 크고, 또한 전체적인 기판 내부의 막 두께 분포를 균일하게 조절하기가 어려울 뿐만 아니라 원가가 비싸며; 다른 한편으로는 평면 기판에 필름을 코팅한 다음 곡면 형상으로 벤딩할 경우, 필름층의 온도저항성 등의 문제로 인해, 필름층이 일정 정도로 탈락될 수 있고, 심지어 필름층이 단열되거나 또는 완전히 탈락하는 현상이 발생할 수 있기 때문이다. 이밖에, 통상적인 컬러 필름코팅 유리는 주로 건축물의 에너지절약 분야에 응용되어, 주로 적외선을 반사하는데, 적외선 파장 구간(780-1100nm)은 고반사, 저투과를 나타내나, 단 태양광 모듈의 발전 파장 범위 내에서, 예를 들어 구리인듐갈륨셀렌(CuInxGa(1-x)Se2, CIGS) 박막 태양광 전지와 결정질 실리콘 전지의 380nm 내지 1100nm의 발전 파장 범위 내에서, 도 1을 통해 볼 수 있듯이, 통상적인 컬러 필름코팅 유리는 평균 투과율이 비교적 낮으며, 따라서 태양광 발전 모듈의 발전에 불리하다. 또한 필름 시스템 구조에는 금속 필름층이 포함되는데, 금속 필름층 자체의 원가가 높고, 또한 금속 필름층은 불안정하여 산화되기가 매우 쉬워, 금속 보호층을 제작하여 금속 필름층의 산화를 방지해야 하므로, 생산비용이 대폭 증가한다. 이밖에, 현재 건축물에 응용되는 광전지 모듈은 주로 검정색으로 미관이 좋지 못하며, 기타 색상의 광전지 모듈은 태양광 반사율이 높고, 태양광 투과율이 비교적 낮아, 태양광 발전 효과가 양호하지 못하다.
본 공개의 실시예는 고온에 견딜 수 있고, 필름층이 완전하며, 태양광 모듈의 발전 파장 범위 내에서의 평균 투과율이 높아, 태양광 모듈의 발전 효과를 향상시킬 수 있으며, 컬러 효과가 양호한 곡면 필름코팅판을 제공하며, 상기 곡면 필름코팅판을 프론트패널로 하여 제조되는 태양광 모듈은 비교적 양호한 발전 효과를 갖는다.
본 공개의 실시예는 곡면 필름코팅판을 제공한다. 곡면 필름코팅판은 곡면 투광 기판 및 곡면 투광 기판의 일측에 설치되며, 완전 유전체 필름으로서, 굴절률이 곡면 투광 기판의 굴절률보다 높은 고굴절률 소재 필름을 포함하는 필름층을 포함한다.
필름층은 고굴절률 소재의 필름층과 적층 설치되며 굴절률이 곡면 투광 기판의 굴절률보다 낮은 저굴절률 소재 필름을 더 포함할 수 있다.
고굴절률 소재 필름과 저굴절률 소재 필름은 각각 다층일 수 있으며, 다층의 고굴절률 소재 필름과 다층의 저굴절률 소재 필름은 곡면 투광 기판에 교대로 적층 설치된다.
곡면 필름코팅판은 순차적으로 적층 설치되는 곡면 투광 기판, 고굴절률 소재 필름, 저굴절률 소재 필름, 고굴절률 소재 필름, 저굴절률 소재 필름, 고굴절률 소재 필름, 저굴절률 소재 필름, 고굴절률 소재 필름, 저굴절률 소재 필름 및 고굴절률 소재 필름을 포함할 수 있다.
곡면 필름코팅판은 순차적으로 적층 설치되는 곡면 투광 기판, 고굴절률 소재 필름, 저굴절률 소재 필름 및 고굴절률 소재 필름을 포함할 수 있다.
곡면 필름코팅판은 순차적으로 적층 설치되는 곡면 투광 기판과 고굴절률 소재 필름을 포함할 수 있다.
곡면 필름코팅판은 순차적으로 적층 설치되는 곡면 투광 기판, 고굴절률 소재 필름, 저굴절률 소재 필름, 고굴절률 소재 필름, 저굴절률 소재 필름, 고굴절률 소재 필름, 저굴절률 소재 필름 및 고굴절률 소재 필름을 포함할 수 있다.
곡면 필름코팅판은 순차적으로 적층 설치되는 곡면 투광 기판, 저굴절률 소재 필름 및 고굴절률 소재 필름을 포함할 수 있다.
곡면 투광 기판 상방에 직접 적층되는 것은 고굴절률 소재 필름일 수도 있고, 저굴절률 소재 필름일 수도 있다.
고굴절률 소재와 저굴절률 소재의 내열 온도는 650℃의 온도보다 낮지 않을 수 있으며, 고굴절률 소재와 저굴절률 소재의 내열 온도는 750℃의 온도일 수 있다. 고굴절률 소재와 저굴절률 소재가 견딜 수 있는 온도는 후속되는 열처리 과정에서 고굴절률 소재와 저굴절률 소재로 형성되는 필름층이 완전함을 유지할 수 있는지 여부를 결정한다. 본 공개가 650℃에서 가열 벤딩 처리되는 경우, 고굴절률 소재와 저굴절률 소재는 650℃의 온도를 견딜 수 있도록 요구되며, 본 공개가 750℃에서 가열 벤딩 처리되는 경우, 고굴절률 소재와 저굴절률 소재는 750℃의 온도를 견딜 수 있도록 요구된다.
고굴절률 소재 필름의 550nm 파장에서의 굴절률은 1.92 내지 2.60일 수 있다. 이러한 고굴절률 소재 필름을 채택하면 곡면 필름코팅판의 태양광 모듈의 발전 파장 범위 내에서의 평균 투과율이 대폭 향상될 수 있으며, 따라서 상기 곡면 필름코팅판을 이용하여 제조되는 태양광 모듈의 발전 효과가 향상된다.
고굴절률 소재 필름은 란타늄 티타네이트 필름, 이산화티타늄 필름, 오산화 트리티타늄 필름, 오산화 니오븀 필름, 오산화 탄탈륨 필름, 또는 이산화 지르코늄 필름, 또는 이러한 필름 중의 적어도 2종으로 형성되는 복합필름을 포함할 수 있다. 고굴절률 소재 필름이 란타늄 티타네이트 필름, 이산화티타늄 필름, 오산화 트리티타늄 필름, 오산화 니오븀 필름, 오산화 탄탈륨 필름과 이산화 지르코늄 필름 중의 어느 하나를 포함하는 경우, 형성되는 고굴절률 소재 필름이 후속되는 열처리 과정에서 완전함을 유지할 수 있고, 또한 곡면 필름코팅판의 태양광 모듈의 발전 파장 범위 내에서의 평균 투과율이 대폭 향상될 수 있으며, 따라서 상기 곡면 필름코팅판을 이용하여 제조되는 태양광 모듈의 발전 효과가 향상된다.
저굴절률 소재 필름은 550nm 파장에서의 굴절률이 1.35 내지 1.50인 소재일 수 있다. 이러한 저굴절률 소재 필름을 채택하면 곡면 필름코팅판의 태양광 모듈의 발전 파장 범위 내에서의 평균 투과율이 대폭 향상될 수 있으며, 따라서 상기 곡면 필름코팅판을 이용하여 제조되는 태양광 모듈의 발전 효과가 향상된다.
저굴절률 소재 필름은 이산화규소 필름 또는 불화마그네슘 필름, 또는 이산화규소 필름과 불화마그네슘 필름의 복합막을 포함할 수 있다. 저굴절률 소재 필름이 이산화규소 필름 또는 불화마그네슘 필름인 경우, 형성되는 저굴절률 소재 필름이 후속되는 열처리 과정에서 완전함을 유지할 수 있고, 또한 곡면 필름코팅판의 태양광 모듈의 발전 파장 범위 내에서의 평균 투과율이 대폭 향상될 수 있으며, 따라서 상기 곡면 필름코팅판을 이용하여 제조되는 태양광 모듈의 발전 효과가 향상된다.
필름층이 다층의 고굴절률 소재 필름을 포함하는 경우, 다층의 고굴절률 소재 필름은 동일하거나 또는 완전히 동일하지 않을 수 있다.
필름층이 다층의 저굴절률 소재 필름을 포함하는 경우, 다층의 저굴절률 소재 필름은 동일하거나 또는 완전히 동일하지 않을 수 있다.
다층의 고굴절률 소재 필름 또는 다층의 저굴절률 소재 필름의 상이함은 소재, 두께, 형상, 면적 등 성질이 다름을 포함할 수 있으나 단 이에 한정되지 않는다.
곡면 필름코팅판은 컬러일 수 있으며, 즉 색상을 지닐 수 있다. 필름층의 디자인에 따라, 곡면 필름코팅판의 색상은 청색, 자색, 금황색, 황색, 적색, 점토색, 회색, 주황색 또는 녹색 등일 수 있다. 따라서 본 공개의 실시예의 곡면 필름코팅판은 태양광 모듈의 발전 파장 범위 내에서 비교적 높은 평균 투과율을 갖는다는 전제하에 필요에 따라 각기 다른 색상으로 제조될 수 있어, 풍부하고 다채로운 색상 요구를 만족시킬 수 있을 뿐만 아니라, 건축물과 결합 후 외관이 더욱 미려하며, 본 공개의 실시예의 곡면 필름코팅판은 장식 효과가 요구되는 덮개판에도 응용될 수 있다.
곡면 필름코팅판의 필름 코팅 디자인 구조는 곡면 필름코팅판의 희망하는 색상에 따라, Essential Macleod, TFCacl 또는 OptiLayer 등과 같은 필름 코팅 디자인 소프트웨어를 이용하여 디자인할 수 있다. 필름 시스템 코팅 디자인을 통해 필름코팅판의 구조를 최적화하여, 후속되는 열처리 과정 중의 고온을 견딜 수 있어 필름층의 완전함을 유지할 수 있는 필름 시스템 코팅 구조를 선택할 수 있고, 또한 각기 다른 색상 요구를 만족시키는 상황에서 비용이 비교적 저렴하고, 제조 공정이 비교적 단순한 필름 시스템 코팅 디자인 구조를 선택할 수 있다.
이하 약간의 곡면 필름코팅판의 실시예를 열거하며, 그 중, H는 고굴절률 소재를 나타내고, L은 저굴절률 소재인 SiO2를 나타내며, Sub는 투광 기판, 예를 들어 울트라 화이트 플로팅 유리를 나타내며, Air는 공기를 나타내고, Air/Sub는 투광 기판의 필름층과 접촉되지 않는 측이 직접 공기와 접촉되는 것을 나타낸다. H(1)는 투광 기판상의 제1층이 고굴절률 소재임을 나타내고, L(2)은 제2층이 저굴절률 소재임을 나타내며, 이와 같이 유추한다. "Air/Sub/H(1)/L(2)/H(3)/L(4)/H(5)/Air"는 상기 필름코팅판이 순차적으로 적층 설치되는 투광 기판, 제1층의 고굴절률 소재 필름, 제2층의 저굴절률 소재 필름, 제3층의 고굴절률 소재 필름, 제4층의 저굴절률 소재 필름만 포함하는 것을 나타내며, 이와 같이 유추한다.
본 공개의 일 실시방안은 주황색의 곡면 필름코팅판을 제공하며, 상기 주황색의 곡면 필름코팅판은 5층의 완전 유전체 필름을 포함할 수 있고, 그 필름 시스템 코팅 디자인 구조는
Air/Sub/H(1)/L(2)/H(3)/L(4)/H(5)/Air일 수 있으며;
그 중, H(1)의 두께는 91.42nm±20nm이고, L(2)의 두께는 43.67nm±20nm이며, H(3)의 두께는 43.85nm±20nm이고, L(4)의 두께는 19.98nm±20nm이며, H(5)의 두께는 27.53nm±20nm이고;
H는 ZrO2, Nb2O5, TiO5 또는 Ta2O5일 수 있다.
상기 주황색의 곡면 필름코팅판의 투과율 곡선은 도 2를 참조한다.
본 공개의 일 실시방안은 녹색의 곡면 필름코팅판을 제공하며, 상기 녹색의 곡면 필름코팅판은 9층의 완전 유전체 필름을 포함할 수 있고, 그 필름 시스템 코팅 디자인 구조는
Air/Sub/H(1)/L(2)/H(3)/L(4)/H(5)/L(6)/H(7)/L(8)/H(9)/Air일 수 있으며;
그 중, H(1)의 두께는 54.63nm±20nm이고, L(2)의 두께는 12.36nm±20nm이며, H(3)의 두께는 38.39nm±20nm이고, L(4)의 두께는 35.92nm±20nm이며, H(5)의 두께는 52.45nm±20nm이고; L(6)의 두께는 31.36nm±20nm이며, H(7)의 두께는 45.53nm±20nm이고, L(8)의 두께는 33.32nm±20nm이며, H(9)의 두께는 23.29nm±20nm이고;
H는 ZrO2, Nb2O5, TiO5 또는 Ta2O5일 수 있다.
상기 녹색의 곡면 필름코팅판의 투과율 곡선은 도 3을 참조한다.
본 공개의 일 실시방안은 점토색의 곡면 필름코팅판을 제공하며, 상기 점토색의 곡면 필름코팅판은 3층의 완전 유전체 필름을 포함할 수 있고, 그 필름 시스템 코팅 디자인 구조는
Air/Sub/H(1)/L(2)/H(3)/Air일 수 있으며;
그 중, H(1)의 두께는 233.30nm±20nm이고, L(2)의 두께는 332.52nm±20nm이며, H(3)의 두께는 92.10nm±20nm이고;
H는 ZrO2, Nb2O5, TiO5 또는 Ta2O5일 수 있다.
상기 점토색의 곡면 필름코팅판의 투과율 곡선은 도 4를 참조한다.
본 공개의 일 실시방안은 회색의 곡면 필름코팅판을 제공하며, 상기 회색의 곡면 필름코팅판은 1층의 완전 유전체 필름을 포함할 수 있고, 그 필름 시스템 코팅 디자인 구조는
Air/Sub/H(1)/Air일 수 있으며;
그 중, H(1)의 두께는 26.00nm±20nm이고;
H는 ZrO2, Nb2O5, TiO5 또는 Ta2O5일 수 있다.
상기 회색의 곡면 필름코팅판의 투과율 곡선은 도 5를 참조한다.
본 공개의 일 실시방안은 자색의 곡면 필름코팅판을 제공하며, 상기 자색의 곡면 필름코팅판은 7층의 완전 유전체 필름을 포함할 수 있고, 그 필름 시스템 코팅 디자인 구조는
Air/Sub/H(1)/L(2)/H(3)/L(4)/H(5)/L(6)/H(7)/Air일 수 있으며;
그 중, H(1)의 두께는 17.38nm±20nm이고, L(2)의 두께는 61.14nm±20nm이며, H(3)의 두께는 34.78nm±20nm이고, L(4)의 두께는 61.14nm±20nm이며, H(5)의 두께는 34.78nm±20nm이고; L(6)의 두께는 61.14nm±20nm이며, H(7)의 두께는 17.38nm±20nm이고;
그 중, H는 ZrO2, Nb2O5, TiO5 또는 Ta2O5일 수 있다.
상기 자색의 곡면 필름코팅판의 투과율 곡선은 도 6을 참조한다.
도 2-6을 통해 볼 수 있듯이, 본 공개의 실시예의 컬러 곡면 필름코팅판은 비록 가시광 영역의 투과율이 낮은 편이나, 단 적외선 영역의 투과율이 높으며, 따라서 태양광 모듈의 발전 파장 범위 내에서, 특히 380nm 내지 1100nm 파장 구간 범위 내에서의 평균 투과율이 높다. 이를 컬러 태양광 모듈의 프론트패널로 사용할 경우 바람직한 발전 효과를 획득할 수 있다.
본 공개의 실시예의 곡면 필름코팅판은 필요에 따라 상이한 색상으로 제작할 수 있어, 풍부하고 다채로운 색상 요구를 만족시킬 수 있을 뿐만 아니라, 건축물과 결합 후 외관이 더욱 미려해질 수 있다.
이밖에, 동일한 고굴절률 소재와 저굴절률 소재를 사용하여, 코팅 필름층의 수량 증감 및 각 층의 필름 두께 조정, 예를 들어 필름의 두께를 두껍게 하거나 얇게 하는 조정을 통해서도 동일한 색상의 곡면 필름코팅판을 제작할 수 있음을 이해하여야 한다. 또한, 시험을 거쳐, 상이한 필름 시스템 코팅 디자인 구조로 제조되는 동일한 색상의 곡면 필름코팅판의 광스펙트럼은 거의 동일한 것으로 나타났다. 그러나 필름 시스템 코팅 디자인 시 가능한 한 적은 층수의 필름을 사용하여 비용을 절감하도록 하여야 한다.
본 공개의 실시예는 위와 같은 곡면 필름코팅판의 제조 방법을 더 제공하며, 상기 방법은
평면 투광 기판의 일측 표면에 완전 유전체 필름으로서, 굴절률이 평면 투광 기판의 굴절률보다 높은 고굴절률 소재 필름을 포함하는 필름층을 형성하여 평면 필름코팅판을 획득하는 단계;
평면 필름코팅판에 대해 가열 벤딩 처리를 실시하여 곡면 필름코팅판을 획득하는 단계를 포함한다.
그 중, 평면 투광 기판은 벤딩 변형 전후의 굴절률이 변하지 않는다.
평면 투광 기판의 일측 표면에 필름층을 형성하는 단계는
상기 평면 투광 기판의 일측 표면에 상기 고굴절률 소재의 필름과 굴절률이 상기 평면 투광 기판의 굴절률보다 낮은 저굴절률 소재 필름을 적층 설치하여 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 평면 투광 기판의 일측 표면에 필름층을 형성하는 단계는
상기 평면 투광 기판의 일측 표면에 다층의 상기 고굴절률 소재 필름과 다층의 상기 저굴절률 소재 필름을 교대로 설치하고, 또한 상기 평면 투광 기판과 상기 고굴절률 소재 필름을 서로 이웃하도록 설치하여 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 고굴절률 소재 필름과 상기 저굴절률 소재 필름은 진공 상태에서 증착필름코팅법 또는 마그네트론 스퍼터링법으로 상기 평면 투광 기판에 형성된다.
진공 필름코팅법은 증착 필름코팅법 또는 마그네트론 스퍼터링법일 수 있다. 증착 필름코팅법은 전자총 증착 필름코팅법일 수 있으며, 광학 분야의 광학 유리에 필름을 형성하는 진공 필름코팅법을 이용하여 본 공개의 평면 투광 기판 표면에 적어도 한 층의 고굴절률 소재 필름과 선택적으로 적어도 한 층의 저굴절률 소재 필름을 증착할 수 있다. 예를 들어 촬영기 렌즈의 광학 유리에 필름을 코팅하는 진공 필름코팅법을 이용한다.
도 7에 도시된 바와 같이, 예시성 실시예에서 상기 방법은 이하 단계를 포함할 수 있다.
단계 S1: 평면 투광 기판을 세척하고 건조시키는 단계;
단계 S2: 건조 후의 평면 투광 기판을 필름코팅 장치의 진공 캐비티 내에 넣고, 진공 캐비티를 진공 상태로 진공화하는 단계;
단계 S3: 필름 코팅 소재를 용융 또는 프리스퍼터링(pre-sputtering)하는 단계;
단계 S4: 필름 시스템 코팅 디자인을 필름 코팅 공정 프로그램에 도입하는 단계;
단계 S5: 증착 필름코팅법 또는 마그네트론 스퍼터링법을 이용하여 용융 또는 프리스퍼터링된 필름 코팅 소재를 평면 투광 기판 표면에 증착하여 적어도 한 층의 고굴절률 소재 필름과 선택적으로 적어도 한 층의 저굴절률 소재 필름을 형성하여 평면 필름코팅판을 획득하는 단계;
단계 S6: 진공을 해제하고 평면 필름코팅판을 취출하는 단계;
단계 S7: 평면 필름코팅판에 대해 검출을 실시하여 합격된 평면 필름코팅판을 열처리 장치로 회전 진입시키고; 합격된 평면 필름코팅판에 대해 가열 벤딩 또는 벤딩 강화 처리를 실시하여 곡면 필름코팅판을 획득하는 단계;
단계 S8: 곡면 필름코팅판에 대해 검출을 실시하여 합격된 제품을 포장하는 단계.
그 중, 필름 코팅 소재를 용융 또는 프리스퍼터링하기 전, 진공 캐비티의 진공도를 1.0×10-4Pa 내지 1.0×10-3Pa의 범위 내로 유지시킬 수 있으며; 고굴절률 소재 필름 또는 저굴절률 소재 필름을 증착 시, 진공 캐비티의 진공도를 3.0×10-2Pa 내지 8.0×10-2Pa의 범위 내로 유지시킬 수 있다. 본 공개는 고굴절률 소재 필름 또는 저굴절률 소재 필름을 증착 시, 진공 캐비티의 진공도를 3.0×10-2Pa 내지 8.0×10-2Pa의 범위 내로 제어하여, 순도가 높고, 경도가 적합한 필름층을 더욱 용이하게 획득할 수 있다.
가열 벤딩 처리의 온도는 650℃ 내지 750℃의 범위 내일 수 있고, 시간은 20분 이상일 수 있다.
평면 투광 기판은 평면 유리 기판 또는 평면 투광 고분자 소재 기판일 수 있다.
평면 유리 기판은 평면 울트라 화이트 플로팅 유리, 평면 보통 플로팅 유리, 평면 본체 착색 유리 또는 평면 광학 유리 등 투광성 유리일 수 있다.
평면 투광 고분자 소재 기판은 평면 투광 수지 기판일 수 있다.
평면 투광 수지 기판은 평면인 폴리카보네이트(Polycarbonate, PC) 기판 또는 폴리메틸 메타크릴레이트(Polymethyl Methacrylate, PMMA) 기판 등 투광 기판일 수 있다.
본 공개의 실시예의 곡면 필름코팅판은 완전 유전체 필름을 채택하고, 필름 코팅 소재의 최적화 선택 및 필름 시스템 구조의 조정을 통해, 필름층이 후속되는 열처리 과정 중의 고온, 예를 들어 650℃의 고온을 견딜 수 있고, 열처리 후, 필름층이 완전성을 유지할 수 있게 함으로써, 사용 장소의 필요에 따라 필름 코팅 후의 평면 기판을 각종 곡면 형상으로 열처리할 수 있다. 또한, 본 공개의 실시예의 곡면 필름코팅판 중의 소재 필름은 완전 유전체 필름을 채택하고, 곡면 필름코팅판의 적외선 파장 구간에서의 투과율을 높임으로써, 곡면 필름코팅판의 태양광 모듈의 발전 파장 범위 내, 특히 380nm 내지 1100nm 파장 구간에서의 평균 투과율을 높였으며, 이로써 상기 곡면 필름코팅판으로 제조되는 태양광 모듈의 발전 효율이 현저히 향상된다. 이밖에, 본 공개 실시예의 곡면 필름코팅판은 금속 필름층을 사용하지 않아, 금속 필름층이 산화되는 문제를 피할 수 있을 뿐만 아니라 금속 보호층을 더 설치할 필요가 없어 원가가 절약된다.
본 공개 실시예는 태양광 모듈을 더 제공하며, 상기 태양광 모듈은 본 공개의 어느 하나의 실시예가 제공하는 곡면 필름코팅판을 프론트패널로 사용한다. 본 공개의 실시예가 제공하는 곡면 필름코팅판은 태양광 모듈의 발전 파장 범위 내에서의 평균 투과율이 비교적 높기 때문에, 태양광 모듈의 발전 효과가 비교적 양호하다.
도 8에 도시된 바와 같이, 태양광 모듈은 순차적으로 설치되는 프론트패널(1), 접착층(2), 태양광 전지(3) 및 백플레이트(4)를 포함하며, 백플레이트(4)의 하방 또는 일측에 태양광 전지(3)와 전기적으로 연결되는 단자함(5)이 설치된다. 프론트패널(1)은 본 공개의 실시예가 제공하는 곡면 필름코팅판이다.
도 9에 도시된 바와 같이, 태양광 모듈은 순차적으로 설치되는 프론트패널(1), 접착층(2), 태양광 전지(3), 접착층(2) 및 백플레이트(4)를 포함하며, 백플레이트(4)의 하방 또는 일측에 태양광 전지(3)와 전기적으로 연결되는 단자함(5)이 설치된다. 프론트패널(1)은 본 공개의 실시예가 제공하는 곡면 필름코팅판이다.
그 중, 접착층은 점성을 지닌 중합체류 소재로 형성될 수 있으며, 예를 들어 폴리비닐 부티랄(Polyvinyl Butyral, PVB) 또는 에틸렌 비닐 아세테이트(Ethylene Vinyl Acetate, EVA)로 형성되고;
태양광 전지는 각종 유형의 플렉시블 박막 태양광 전지 또는 플렉시블 결정질 실리콘 태양광 전지일 수 있으며, 예를 들어, 플렉시블 구리인듐갈륨셀렌(CuInxGa(1-x)Se2, CIGS) 박막 태양광 전지일 수 있다.
이해하여야 할 점으로, 본 공개의 실시예의 태양광 모듈은 본 분야에서 상용되는 태양광 모듈의 제조방법을 이용하여 제조될 수 있다.
따라서, 필요에 따라 본 공개의 태양광 모듈의 구체적인 구조, 점착층과 태양광 전지의 유형을 선택할 수 있으며, 따라서 본 공개의 태양광 모듈은 더욱 많은 장소에서 사용될 수 있다. 본 공개의 곡면 필름코팅판은 CIGS 박막 태양광 전지 또는 결정질 실리콘 태양광 전지의 발전 파장 범위 380nm-1100nm 내에서의 평균 투과율이 특히 높으며, 따라서 태양광 전지로 CIGS 박막 태양광 전지 또는 결정질 실리콘 태양광 전지를 선택 시, 태양광 모듈의 발전 효과가 더욱 우수하다.
이밖에, 건축물에 응용되는 경우 이외에, 본 공개의 실시예의 곡면 필름코팅판은 장식 효과가 요구되는 덮개판, 예를 들어 핸드폰 백플레이트, 냉장고 패널 등등에도 더 응용될 수 있다.
본 공개 내용은 본 공개의 실시예의 원칙의 예시이며, 결코 본 공개에 대해 어떠한 형식적 또는 실질적인 면에서 한정하거나, 또는 본 공개를 구체적인 실시방안으로 한정시키는 것이 아니다. 본 분야의 기술자에게 있어서, 위와 같은 본 공개의 실시예, 기술방안, 예를 들어 청구항에 정의된 원리, 정신과 범위에 위배되지 않고, 본 공개의 실시예의 기술 방안의 요소, 방법 및 시스템 등에 대해 변동, 변경, 변화, 개조를 실시할 수 있음은 매우 자명하다. 이러한 변동, 변경, 변화, 개조된 실시방안은 모두 본 공개의 동등한 실시예 내에 포함되며, 이러한 동등한 실시예들은 모두 본 공개의 청구항으로 한정된 범위 내에 포함된다. 비록 많은 상이한 형식으로 본 공개의 실시예를 구체화시킬 수 있으나, 단 여기에서는 본 공개의 약간의 실시방안만 상세히 묘사하였다. 이밖에, 본 공개의 실시예는 여기서의 각종 실시방안의 약간 또는 모든 임의의 가능한 조합을 포함하며, 또한 본 공개의 청구항으로 한정된 범위 내에 포함된다. 본 공개 중 또는 어느 하나의 인용된 특허, 인용된 특허 출원 또는 기타 인용된 자료 중의 어느 곳에서 언급된 모든 특허, 특허 출원 및 기타 인용 자료는 이에 의거하여 인용을 통해 그 전체를 병합시켰다.
이상의 공개 내용은 망라성이 아닌 설명성으로 규정된다. 본 분야의 기술자에게 있어서, 본 명세서는 많은 변화와 선택 가능한 방안을 암시할 수 있다. 이러한 모든 선택 가능한 방안 및 변화는 본 청구항의 범위 내에 포함되도록 하는 것이 목적이며, 그 중 "포함한다"는 "포함하되, 단 ~로 한정되지 않는다"는 의미이다.
여기서 본 공개의 선택 가능한 실시방안의 설명을 완료한다. 본 분야의 기술자는 여기에서의 실시방안의 기타 등가의 변환을 인식할 수 있을 것이며, 이러한 등가의 변환 역시 본문에 첨부되는 청구항에 포함된다.

Claims (21)

  1. 곡면 필름코팅판에 있어서,
    상기 곡면 필름코팅판은 곡면 투광 기판 및 상기 곡면 투광 기판의 일측에 설치되며, 완전 유전체 필름으로서 굴절률이 상기 곡면 투광 기판의 굴절률보다 높은 고굴절률 소재 필름을 포함하는 필름층을 포함하는
    곡면 필름코팅판.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 필름층은 상기 고굴절률 소재 필름과 적층 설치되며 굴절률이 상기 곡면 투광 기판의 굴절률보다 낮은 저굴절률 소재 필름을 더 포함하는, 곡면 필름코팅판.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 고굴절률 소재 필름과 상기 저굴절률 소재 필름은 각각 다층이며, 다층의 상기 고굴절률 소재 필름과 다층의 상기 저굴절률 소재 필름이 상기 곡면 투광 기판에 교대로 적층 설치되는, 곡면 필름코팅판.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 고굴절률 소재 필름은 3층이고, 상기 저굴절률 소재 필름은 2층이며, 상기 곡면 투광 기판은 상기 고굴절률 소재 필름과 서로 이웃하거나; 또는
    상기 고굴절률 소재 필름은 5층이고, 상기 저굴절률 소재 필름은 4층이며, 상기 곡면 투광 기판은 상기 고굴절률 소재 필름과 서로 이웃하거나; 또는
    상기 고굴절률 소재 필름은 4층이고, 상기 저굴절률 소재 필름은 3층이며, 상기 곡면 투광 기판은 상기 고굴절률 소재 필름과 서로 이웃한, 곡면 필름코팅판.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 필름층은 상기 곡면 투광 기판의 일측에 순차적으로 설치되는 제1층의 고굴절률 소재 필름, 저굴절률 소재 필름 및 제2층의 고굴절률 소재 필름을 포함하는, 곡면 필름코팅판.
  6. 제2항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 고굴절률 소재 필름과 상기 저굴절률 소재 필름의 내열 온도가 650℃보다 낮지 않은, 곡면 필름코팅판.
  7. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 고굴절률 소재 필름은 550nm 파장하에서의 굴절률이 1.92 내지 2.60 범위 이내인, 곡면 필름코팅판.
  8. 제2항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 저굴절률 소재 필름은 550nm 파장하에서의 굴절률이 1.35 내지 1.50 범위 이내인, 곡면 필름코팅판.
  9. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 고굴절률 소재 필름은 란타늄 티타네이트 필름, 이산화티타늄 필름, 오산화 트리티타늄 필름, 오산화 니오븀 필름, 오산화 탄탈륨 필름, 또는 이산화 지르코늄 필름, 또는 이러한 필름 중의 적어도 2종으로 형성된 복합필름을 포함하는, 곡면 필름코팅판.
  10. 제2항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 저굴절률 소재 필름은 이산화규소 필름 또는 불화마그네슘 필름, 또는 이산화규소 필름과 불화마그네슘 필름의 복합막을 포함하는, 곡면 필름코팅판.
  11. 제2항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 필름층에 다층 고굴절률 소재의 필름이 포함된 경우, 다층의 상기 고굴절률 소재의 필름의 재료는 동일하거나, 또는 적어도 2층의 상기 고굴절률 소재 필름의 소재는 상이하며;
    상기 필름층에 다층의 저굴절률 소재의 필름이 포함된 경우, 다층의 상기 저굴절률 소재의 필름의 재료는 동일하거나, 또는 적어도 2층의 상기 저굴절률 소재 필름의 소재는 상이한, 곡면 필름코팅판.
  12. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 곡면 필름 코팅판의 색상은 청색, 자색, 금황색, 황색, 적색, 점토색, 회색, 주황색 또는 녹색인, 곡면 필름코팅판.
  13. 곡면 필름코팅판의 제조방법에 있어서,
    평면 투광 기판의 일측 표면에 완전 유전체 필름으로서, 굴절률이 상기 평면 투광 기판의 굴절률보다 높은 고굴절률 소재 필름을 포함하는 필름층을 형성하여 평면 필름코팅판을 획득하는 단계; 및
    상기 평면 필름코팅판에 대해 가열 벤딩 처리를 실시하여 곡면 필름코팅판을 획득하는 단계
    를 포함하는 곡면 필름코팅판의 제조방법.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 평면 투광 기판의 일측 표면에 필름층을 형성하는 단계는
    상기 평면 투광 기판의 일측 표면에 상기 고굴절률 소재 필름과 굴절률이 상기 평면 투광 기판의 굴절률보다 낮은 저굴절률 소재 필름을 적층 설치하여 형성하는 단계를 포함하는, 곡면 필름코팅판의 제조방법.
  15. 제13항에 있어서,
    상기 평면 투광 기판의 일측 표면에 필름층을 형성하는 단계는
    상기 평면 투광 기판의 일측 표면에 다층의 상기 고굴절률 소재 필름과 다층의 저굴절률 소재 필름을 교대로 설치하고, 또한 상기 평면 투광 기판과 상기 고굴절률 소재 필름을 서로 이웃하도록 설치하여 형성하는 단계를 포함하는, 곡면 필름코팅판의 제조방법.
  16. 제14항 또는 제15항에 있어서,
    상기 고굴절률 소재 필름과 상기 저굴절률 소재 필름은 진공 상태에서 증착 필름코팅법 또는 마그네트론 스퍼터링법을 이용하여 상기 평면 투광 기판에 형성되는, 곡면 필름코팅판의 제조방법.
  17. 제16항에 있어서,
    필름 코팅 소재를 용융 또는 프리스퍼터링하기 전, 상기 진공 상태의 진공도를 1.0×10-4Pa 내지 1.0×10-3Pa의 범위 내로 유지시키고; 또한 필름 소재를 용융 또는 스퍼터링 시, 상기 진공 상태의 진공도를 3.0×10-2Pa 내지 8.0×10-2Pa의 범위 내로 유지시키는, 곡면 필름코팅판의 제조방법.
  18. 제13항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 가열 벤딩 처리의 온도는 650℃ 내지 750℃의 범위 내이고, 시간은 20분 이상인, 곡면 필름코팅판의 제조방법.
  19. 태양광 모듈에 있어서,
    상기 태양광 모듈의 프론트패널은 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 따른 곡면 필름코팅판을 포함하는
    태양광 모듈.
  20. 제19항에 있어서,
    상기 태양광 모듈은 상기 프론트패널의 일측에 순차적으로 설치되는 필름, 태양광 전지와 백플레이트를 포함하는 태양광 모듈.
  21. 제19항에 있어서,
    상기 태양광 모듈은 상기 프론트패널의 일측에 순차적으로 설치되는 필름, 태양광 전지, 필름과 백플레이트를 더 포함하는 태양광 모듈.
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN208753333U (zh) * 2018-06-11 2019-04-16 汉能移动能源控股集团有限公司 一种太阳能发电瓦用基底以及太阳能发电瓦
CN109239820A (zh) * 2018-10-19 2019-01-18 布勒莱宝光学设备（北京）有限公司 可透光用于植物生长的聚光太阳能反射镜
CN109437582A (zh) * 2018-12-03 2019-03-08 仙游县元生智汇科技有限公司 一种具有抗眩光的3d玻璃的制作方法
CN110556434B (zh) * 2019-09-19 2021-06-25 金陵科技学院 一种渐变彩色太阳能电池组件及其镀膜装置和方法
CN111123567B (zh) * 2020-01-16 2020-09-15 深圳市乐华数码科技有限公司 一种显示器屏幕曲面镀膜工艺及应用该工艺制成的显示器
CN111253081B (zh) * 2020-03-20 2021-02-26 山东大学 一种彩色玻璃及其制备方法
CN111559151B (zh) * 2020-04-01 2022-05-17 维达力实业（赤壁）有限公司 3d复合板材及其制备方法
CN111584652A (zh) * 2020-06-01 2020-08-25 北京金茂绿建科技有限公司 一种光伏组件用绿色前板玻璃及其制备的绿色光伏组件
CN111477710A (zh) * 2020-06-01 2020-07-31 北京金茂绿建科技有限公司 一种光伏组件用蓝色前板玻璃及其制备的蓝色光伏组件
CN111584653A (zh) * 2020-06-04 2020-08-25 北京金茂绿建科技有限公司 一种光伏组件用仿low-e玻璃幕墙颜色前板玻璃及其制备方法

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU631354B2 (en) * 1988-05-24 1992-11-26 Asahi Glass Company Limited Solar cell substrate and solar panel for automobile
US5149351A (en) * 1988-05-24 1992-09-22 Asahi Glass Company Ltd. Method for making a curved solar panel for an automobile
JP4129275B2 (ja) * 1999-12-22 2008-08-06 株式会社きもと 透視可能な透過型スクリーン
WO2003005457A1 (en) * 2001-07-04 2003-01-16 Ebara Corporation Solar cell module and method of manufacturing the same
CN101111783B (zh) * 2005-01-31 2010-12-08 旭硝子株式会社 带防反射膜的基体
WO2007020792A1 (ja) * 2005-08-16 2007-02-22 Asahi Glass Company, Limited 赤外線反射ガラス板および車両窓用合わせガラス
JP4820152B2 (ja) * 2005-11-18 2011-11-24 ケイミュー株式会社 複合被膜構造及び塗装外装材
JP4851953B2 (ja) * 2007-02-07 2012-01-11 株式会社日立製作所 光学部材
CN101446648B (zh) * 2007-11-27 2010-06-02 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 分光镜及其分光膜层
DE102011005736B4 (de) * 2011-03-17 2013-11-14 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Verfahren zur Herstellung eines gebogenen Spiegels
JP5647924B2 (ja) * 2011-03-18 2015-01-07 富士フイルム株式会社 光学部材の製造方法
CN103703400A (zh) * 2011-07-26 2014-04-02 柯尼卡美能达株式会社 太阳光聚光用反射镜及具有该太阳光聚光用反射镜的太阳能热发电系统
TW201403837A (zh) * 2012-07-04 2014-01-16 Chip City Science And Technology Co Ltd 利用熱成形之曲面太陽能板製造方法
JP2015166287A (ja) * 2012-07-09 2015-09-24 旭硝子株式会社 積層体の製造方法および積層体
CN103000728B (zh) * 2012-12-03 2016-04-20 3M材料技术(合肥)有限公司 太阳能电池背板组件和太阳能电池组件
WO2014127867A1 (de) * 2013-02-20 2014-08-28 Saint-Gobain Glass France Scheibe mit wärmestrahlung reflektierender beschichtung
CN103395247B (zh) * 2013-07-30 2015-05-13 深圳欧菲光科技股份有限公司 盖板玻璃及其制备方法
JP2016225225A (ja) * 2015-06-02 2016-12-28 旭硝子株式会社 表示装置用の導光板
US10942302B2 (en) * 2015-09-16 2021-03-09 Vitro Flat Glass Llc Solar mirrors and methods of making solar mirrors having improved properties
CN106853706A (zh) * 2016-12-21 2017-06-16 蚌埠玻璃工业设计研究院 一种高透过高反射隔热膜
CN107757495B (zh) * 2017-09-27 2023-05-05 信义光伏产业(安徽)控股有限公司 汽车后视镜用蓝镜及其制备方法

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Publication number Publication date
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EP3567638A1 (en) 2019-11-13
JP2019197202A (ja) 2019-11-14
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