KR20180045891A - Optical film and manufacturing method thereof - Google Patents

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KR20180045891A
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준이치 이케우치
고지로 니시
고지 우에다
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스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
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Abstract

변형시킨 상태로 고온고습 환경 하에 보관하더라도 단부에 크랙이 발생하기 어려운 광학 필름을 제공하는 것.
분자 내에 불소 원자를 포함하는 폴리이미드계 고분자를 함유하는 광학 필름으로서, 상기 광학 필름의 단면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 탄소 원자에 대한 원자비 (F/C)가, 상기 광학 필름의 상기 단면으로부터 1 ㎜ 내측을 절단한 자른 면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 탄소 원자에 대한 원자비 (F/C)보다 큰, 광학 필름.
Provided is an optical film in which cracks are unlikely to be generated at the ends even when stored under a high temperature and high humidity environment in a deformed state.
An optical film containing a polyimide-based polymer containing a fluorine atom in a molecule, wherein the atomic ratio (F / C) of the fluorine atom to the carbon atom measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the cross section of the optical film is (F / C) with respect to carbon atoms of fluorine atoms measured by X-ray photoelectron spectroscopy on a cut face cut inside 1 mm from the end face of the optical film.

Description

광학 필름 및 그 제조 방법Optical film and manufacturing method thereof

본 발명은 광학 필름 및 그 제조 방법, 및 플렉시블 디바이스에 관한 것이다.The present invention relates to an optical film, a manufacturing method thereof, and a flexible device.

종래에, 태양 전지나 디스플레이 등의 각종 표시 부재의 기재(基材) 및 전면(前面)판 등의 투명 부재의 재료로서, 유리가 이용되어 왔다. 그러나, 유리는 깨지기 쉽고 무겁다는 결점이 있었다. 또, 최근의 디스플레이의 박형화 및 경량화나, 플렉시블화의 요구에 대하여, 충분한 재질을 갖고 있지 않았다. 그 때문에, 유리를 대신하는 플렉시블 디바이스의 투명 부재로서, 각종 필름(광학 필름)이 검토되고 있다.BACKGROUND ART Conventionally, glass has been used as a material for a transparent member such as a base material and a front plate of various display members such as a solar cell and a display. However, the glass was fragile and heavy. In addition, in recent years, there has not been a sufficient material for the demands for thinning, lightening, and flexibility of displays. For this reason, various films (optical films) have been studied as transparent members of flexible devices replacing glass.

예를 들면, 특허문헌 1에는, 폴리이미드 수지 조성물을 이용하여 형성된, 투명성, 플렉시블성 및 내절성(耐折性) 등이 우수한 폴리이미드 필름이 개시되어 있다.For example, Patent Document 1 discloses a polyimide film formed using a polyimide resin composition and having excellent transparency, flexibility and folding resistance.

일본 공개특허 특개2009-215412호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-215412

광학 필름은, 곡면을 갖는 디스플레이나 접을 수 있는 디바이스, 둥글게 할 수 있는 디스플레이 등에 이용한 경우, 둥글게 된 상태(롤 형상으로 감긴 상태)나 굴곡된 상태 등의 변형된 상태로 보관되는 경우가 있다. 그러나, 종래의 폴리이미드계 필름은, 롤 형상으로 감은 상태나 굴곡시킨 상태 등의 변형시킨 상태로 고온고습 환경 하에 보관한 경우, 단부(端部)에 크랙이 발생하기 쉽다는 문제가 있다.When the optical film is used in a display having a curved surface, a foldable device, or a display capable of being rounded, the optical film may be stored in a deformed state such as a rolled state (rolled state) or a bent state. However, the conventional polyimide-based film has a problem that cracks tend to occur at the end portions when the film is stored under a high temperature and high humidity environment in a deformed state such as a rolled state or a bent state.

본 발명은, 상기 종래 기술이 갖는 과제를 감안하여 이루어진 것이며, 변형시킨 상태로 고온고습 환경 하에 보관하더라도 단부에 크랙이 발생하기 어려운 광학 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은 또한, 상기 광학 필름의 제조 방법, 및 상기 광학 필름을 이용한 플렉시블 디바이스용 전면판 및 플렉시블 디바이스를 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide an optical film which is less susceptible to cracking at its ends even when stored under a high temperature and high humidity environment in a deformed state. It is another object of the present invention to provide a method for producing the optical film, and a front panel and a flexible device for the flexible device using the optical film.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은, 분자 내에 불소 원자를 포함하는 폴리이미드계 고분자를 함유하는 광학 필름으로서, 상기 광학 필름의 단면(端面)에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 탄소 원자에 대한 원자비 (F/C)가, 상기 광학 필름의 상기 단면으로부터 1 ㎜ 내측을 절단한 자른 면(斷面)에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 탄소 원자에 대한 원자비 (F/C)보다 큰, 광학 필름을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides an optical film comprising a polyimide-based polymer containing a fluorine atom in a molecule, wherein the optical film has a fluorine atom (s) measured by X-ray photoelectron spectroscopy (F / C) with respect to the carbon atom of the fluorine atom is not more than a circle for a carbon atom of a fluorine atom measured by X-ray photoelectron spectroscopy in a cut face cut inside 1 mm from the end face of the optical film (F / C). ≪ / RTI >

상기 광학 필름에 의하면, 단면에 있어서의 상기 원자비 (F/C)가, 당해 단면으로부터 1 ㎜ 내측을 절단한 자른 면에 있어서의 상기 원자비 (F/C)보다 큼으로써, 광학 필름을 롤 형상으로 감거나 굴곡시키거나 하는 것 등에 의해 상기 단면을 변형시킨 상태로 고온고습(예를 들면, 85℃, 85% RH) 환경 하에 보관한 경우이더라도, 상기 단면으로부터의 크랙의 발생을 억제할 수 있다. 변형시킨 상태로 고온고습 환경 하에 보관하면, 감거나 굴곡시키거나 하는 것에 의한 변형에 추가하여, 열 팽창, 흡습 팽창에 의해 단부 주변에 복잡한 응력이 발생하기 때문에 크랙이 발생한다고 생각하고 있지만, 단면의 불소 원자가 필름 내부보다 상대적으로 많은 필름에서는, 그 복잡한 응력을 억제할 수 있다고 생각된다.According to the above optical film, since the atomic ratio (F / C) on the cross section is larger than the atomic ratio (F / C) on the cut face cut inside 1 mm from the cross section, (For example, 85 占 폚, 85% RH) in a state in which the above-mentioned section is deformed by winding or bending it into a shape have. When stored under a high temperature and high humidity environment in a deformed state, in addition to deformation caused by winding or bending, a complicated stress is generated around the end portion due to thermal expansion and hygroscopic expansion, It is believed that a film having a fluorine atom relative to the inside of the film can suppress the complicated stress.

상기 광학 필름은, 상기 광학 필름의 단면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 탄소 원자에 대한 원자비 (FE/CE)와, 상기 광학 필름의 상기 단면으로부터 1 ㎜ 내측을 절단한 자른 면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 탄소 원자에 대한 원자비 (FC/CC)와의 비 (FE/CE)/(FC/CC)가 1.1∼10이어도 된다.Wherein the optical film has an atomic ratio (F E / C E ) with respect to carbon atoms of fluorine atoms measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the cross section of the optical film, (F E / C E ) / (F C / C C ) of the fluorine atom to the atomic ratio (F C / C C ) of the fluorine atom measured on the one cut face by the X- .

본 발명은 또한, 분자 내에 불소 원자를 포함하는 폴리이미드계 고분자를 함유하는 광학 필름으로서, 상기 광학 필름의 단면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 산소 원자에 대한 원자비 (F/O)가, 상기 광학 필름의 상기 단면으로부터 1 ㎜ 내측을 절단한 자른 면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 산소 원자에 대한 원자비 (F/O)보다 큰, 광학 필름을 제공한다.The present invention also provides an optical film containing a polyimide-based polymer containing a fluorine atom in a molecule, wherein the atomic ratio (F / R) of the fluorine atom to the oxygen atom measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the cross- O) of the optical film is larger than an atomic ratio (F / O) of oxygen atoms of fluorine atoms measured by X-ray photoelectron spectroscopy on a cut face obtained by cutting 1 mm inward from the end face of the optical film do.

상기 광학 필름에 의하면, 단면에 있어서의 상기 원자비 (F/O)가, 당해 단면으로부터 1 ㎜ 내측을 절단한 자른 면에 있어서의 상기 원자비 (F/O)보다 큼으로써, 광학 필름을 롤 형상으로 감거나 굴곡시키거나 하는 것 등에 의해 상기 단면을 변형시킨 상태로 고온고습(예를 들면, 85℃, 85% RH) 환경 하에 보관한 경우이더라도, 상기 단면으로부터의 크랙의 발생을 억제할 수 있다. 변형시킨 상태로 고온고습 환경 하에 보관하면, 감거나 굴곡시키거나 하는 것에 의한 변형에 추가하여, 열 팽창, 흡습 팽창에 의해 단부 주변에 복잡한 응력이 발생하기 때문에 크랙이 발생한다고 생각하고 있지만, 단면의 불소 원자가 필름 내부보다 상대적으로 많은 필름에서는, 그 복잡한 응력을 억제할 수 있다고 생각된다.According to the above optical film, since the atomic ratio (F / O) on the cross section is larger than the atomic ratio (F / O) on the cut face cut inside 1 mm from the cross section, (For example, 85 占 폚, 85% RH) in a state in which the above-mentioned section is deformed by winding or bending it into a shape have. When stored under a high temperature and high humidity environment in a deformed state, in addition to deformation caused by winding or bending, a complicated stress is generated around the end portion due to thermal expansion and hygroscopic expansion, It is believed that a film having a fluorine atom relative to the inside of the film can suppress the complicated stress.

상기 광학 필름은, 상기 광학 필름의 단면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 산소 원자에 대한 원자비 (FE/OE)와, 상기 광학 필름의 상기 단면으로부터 1 ㎜ 내측을 절단한 자른 면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 산소 원자에 대한 원자비 (FC/OC)와의 비 (FE/OE)/(FC/OC)가 1.1∼10이어도 된다.Wherein the optical film has an atomic ratio (F E / O E ) of oxygen atoms of fluorine atoms measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the cross section of the optical film, and an atomic ratio (F E / O E ) / (F C / O C ) of the fluorine atom to the atomic ratio (F C / O C ) of the fluorine atom to the oxygen atom measured by X-ray photoelectron spectroscopy on one cut face is 1.1 to 10 .

상기 광학 필름은 실리카 입자를 더 함유하고 있어도 된다.The optical film may further contain silica particles.

본 발명은 또한, 분자 내에 불소 원자를 포함하는 폴리이미드계 고분자를 함유하는 광학 필름의 제조 방법으로서, 단면을 산화함으로써, 상기 광학 필름의 상기 단면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 탄소 원자에 대한 원자비 (F/C)를, 상기 광학 필름의 상기 단면으로부터 1 ㎜ 내측을 절단한 자른 면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 탄소 원자에 대한 원자비 (F/C)보다 크게 하는 공정을 갖는, 광학 필름의 제조 방법을 제공한다.The present invention also provides a method of producing an optical film containing a polyimide-based polymer containing a fluorine atom in a molecule, the method comprising the steps of: irradiating the optical film with a fluorine atom (F / C) relative to the carbon atoms of fluorine atoms measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the cut surface obtained by cutting the inside of the optical film by 1 mm from the end face of the optical film, C) of the optical film is increased.

상기 제조 방법에 의해, 변형시킨 상태로 고온고습 환경 하에 보관하더라도 단부에 크랙이 발생하기 어려운 광학 필름을 제조할 수 있다.According to the above production method, it is possible to produce an optical film which is less susceptible to cracking at its ends even when stored under a high temperature and high humidity environment in a deformed state.

본 발명은 또한, 분자 내에 불소 원자를 포함하는 폴리이미드계 고분자를 함유하는 광학 필름의 제조 방법으로서, 상기 광학 필름의 단면을, 레이저 조사에 의해 필름 원반(原反)을 절단하는 것에 의해 형성함으로써, 상기 광학 필름의 상기 단면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 탄소 원자에 대한 원자비 (F/C)를, 상기 광학 필름의 상기 단면으로부터 1 ㎜ 내측을 절단한 자른 면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 탄소 원자에 대한 원자비 (F/C)보다 크게 하는 공정을 갖는, 광학 필름의 제조 방법을 제공한다.The present invention also provides a method for producing an optical film containing a polyimide-based polymer containing a fluorine atom in a molecule, wherein a cross section of the optical film is formed by cutting a film original by laser irradiation (F / C) with respect to carbon atoms of fluorine atoms measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the cross section of the optical film in a cut face obtained by cutting the inside of the optical film by 1 mm from the end face (F / C) relative to carbon atoms of fluorine atoms measured by X-ray photoelectron spectroscopy. The present invention also provides a method for producing an optical film.

상기 제조 방법에 의해, 변형시킨 상태로 고온고습 환경 하에 보관하더라도 단부에 크랙이 발생하기 어려운 광학 필름을 제조할 수 있다.According to the above production method, it is possible to produce an optical film which is less susceptible to cracking at its ends even when stored under a high temperature and high humidity environment in a deformed state.

본 발명은 또한, 분자 내에 불소 원자를 포함하는 폴리이미드계 고분자를 함유하는 광학 필름의 제조 방법으로서, 단면을 산화함으로써, 상기 광학 필름의 상기 단면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 산소 원자에 대한 원자비 (F/O)를, 상기 광학 필름의 상기 단면으로부터 1 ㎜ 내측을 절단한 자른 면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 산소 원자에 대한 원자비 (F/O)보다 크게 하는 공정을 갖는, 광학 필름의 제조 방법을 제공한다.The present invention also provides a method of producing an optical film containing a polyimide-based polymer containing a fluorine atom in a molecule, the method comprising the steps of: irradiating the optical film with a fluorine atom (F / O) with respect to an oxygen atom of a fluorine atom measured by X-ray photoelectron spectroscopy on a cut face obtained by cutting the inside of the optical film by 1 mm from the end face, O) of the optical film is increased.

상기 제조 방법에 의해, 변형시킨 상태로 고온고습 환경 하에 보관하더라도 단부에 크랙이 발생하기 어려운 광학 필름을 제조할 수 있다.According to the above production method, it is possible to produce an optical film which is less susceptible to cracking at its ends even when stored under a high temperature and high humidity environment in a deformed state.

본 발명은 또한, 분자 내에 불소 원자를 포함하는 폴리이미드계 고분자를 함유하는 광학 필름의 제조 방법으로서, 상기 광학 필름의 단면을, 레이저 조사에 의해 필름 원반을 절단하는 것에 의해 형성함으로써, 상기 광학 필름의 상기 단면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 산소 원자에 대한 원자비 (F/O)를, 상기 광학 필름의 상기 단면으로부터 1 ㎜ 내측을 절단한 자른 면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 산소 원자에 대한 원자비 (F/O)보다 크게 하는 공정을 갖는, 광학 필름의 제조 방법을 제공한다.The present invention also provides a method for producing an optical film containing a polyimide-based polymer containing a fluorine atom in a molecule, wherein a cross section of the optical film is formed by cutting a film original by laser irradiation, (F / O) with respect to oxygen atoms of fluorine atoms measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the cross section of the optical film was measured by X-ray photoelectron spectroscopy (F / O) of the fluorine atom to the oxygen atom measured by the fluorine atom.

상기 제조 방법에 의해, 변형시킨 상태로 고온고습 환경 하에 보관하더라도 단부에 크랙이 발생하기 어려운 광학 필름을 제조할 수 있다.According to the above production method, it is possible to produce an optical film which is less susceptible to cracking at its ends even when stored under a high temperature and high humidity environment in a deformed state.

본 발명은 또한, 상기 본 발명의 광학 필름을 갖는 플렉시블 디바이스용 전면판을 제공한다.The present invention also provides a front panel for a flexible device having the above optical film of the present invention.

본 발명은 또한, 플렉시블 기능층과, 상기 본 발명의 광학 필름을 갖는 플렉시블 디바이스를 제공한다.The present invention also provides a flexible functional layer and a flexible device having the optical film of the present invention.

본 발명에 의하면, 변형시킨 상태로 고온고습 환경 하에 보관하더라도 단부에 크랙이 발생하기 어려운 광학 필름 및 그 제조 방법, 및 상기 광학 필름을 이용한 플렉시블 디바이스용 전면판 및 플렉시블 디바이스를 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide an optical film in which cracks are unlikely to be generated at the ends even when stored under a high temperature and high humidity environment in a deformed state, a method for producing the optical film, and a front plate and a flexible device for a flexible device using the optical film.

를 얻을 수 있다.Can be obtained.

도 1은 본 발명의 실시 형태에 관련된 광학 필름의 일례를 나타낸 사시도이다.
도 2는 본 발명의 실시 형태에 관련된 플렉시블 디스플레이의 일례를 나타낸 사시도이다.
1 is a perspective view showing an example of an optical film according to an embodiment of the present invention.
2 is a perspective view showing an example of a flexible display according to an embodiment of the present invention.

이하에, 경우에 따라 도면을 참조하면서 본 발명의 적합한 실시 형태에 대하여 상세하게 설명한다. 또한, 도면 중, 동일 또는 상당 부분에는 동일 부호를 붙이고, 중복되는 설명은 생략한다. 또, 도면의 치수 비율은 도면에 나타낸 비율에 한정되는 것은 아니다.BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and a duplicate description will be omitted. Note that the dimensional ratios in the drawings are not limited to the ratios shown in the drawings.

본 실시 형태의 광학 필름은, 분자 내에 불소 원자를 포함하는 폴리이미드계 고분자를 함유하는 것으로서, 하기 조건 (1) 또는 (2)의 일방(一方) 또는 양방(兩方)을 만족시키는 것이다.The optical film of the present embodiment contains a polyimide-based polymer containing fluorine atoms in the molecule and satisfies one or both of the following conditions (1) and (2).

조건 (1): 상기 광학 필름의 단면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 탄소 원자에 대한 원자비 (F/C)가, 상기 광학 필름의 상기 단면으로부터 1 ㎜ 내측을 절단한 자른 면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 탄소 원자에 대한 원자비 (F/C)보다 크다.Condition (1): The ratio of the atomic ratio (F / C) of the fluorine atom to the carbon atom measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the cross section of the optical film is cut by 1 mm from the end face of the optical film (F / C) to the carbon atom of the fluorine atom measured by X-ray photoelectron spectroscopy.

조건 (2): 상기 광학 필름의 단면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 산소 원자에 대한 원자비 (F/O)가, 상기 광학 필름의 상기 단면으로부터 1 ㎜ 내측을 절단한 자른 면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 산소 원자에 대한 원자비 (F/O)보다 크다.Condition (2): The ratio of the atomic ratio (F / O) of the fluorine atom to the oxygen atom measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the cross section of the optical film is cut by 1 mm from the end face of the optical film (F / O) of the fluorine atom to the oxygen atom measured by X-ray photoelectron spectroscopy.

도 1은 본 실시 형태에 관련된 광학 필름의 일례를 나타낸 사시도이다. 도 1에 나타낸 광학 필름(10)은, 직사각형(장방형)의 평면 형상을 갖고 있고, 짧은 쪽 방향에 있어서 서로 대향하는 두 변(직사각형을 형성하는 서로 평행한 2개의 긴 변)의 단면(E1 및 E2), 및, 긴 쪽 방향에 있어서 서로 대향하는 두 변(직사각형을 형성하는 서로 평행한 2개의 짧은 변)의 단면(E3 및 E4)을 갖는다. 광학 필름(10)은, 단면(E1, E2, E3 및 E4)으로부터 1 ㎜ 내측을 절단한 절단면을 각각 자른 면(C1, C2, C3 및 C4)이라고 하였을 경우, 상기 단면(E1∼E4) 및 상기 자른 면(C1∼C4)의 각각에 있어서 X선 광전자 분광법(XPS)에 의해 측정되는 불소 원자의 탄소 원자에 대한 원자비 (F/C)가, 단면의 전체 또는 일부에 있어서, FE/CE가 FC/CC보다 크거나, 및/또는, 상기 단면(E1∼E4) 및 상기 자른 면(C1∼C4)의 각각에 있어서 X선 광전자 분광법(XPS)에 의해 측정되는 불소 원자의 산소 원자에 대한 원자비 (F/O)가, 단면의 전체 또는 일부에 있어서, FE/OE가 FC/OC보다 크다. 또한, 단면에 있어서 XPS에 의해 측정되는 불소 원자의 탄소 원자에 대한 원자비를 FE/CE로 하고, 자른 면에 있어서 XPS에 의해 측정되는 불소 원자의 탄소 원자에 대한 원자비를 FC/CC로 하고, 단면에 있어서 XPS에 의해 측정되는 불소 원자의 산소 원자에 대한 원자비를 FE/OE로 하고, 자른 면에 있어서 XPS에 의해 측정되는 불소 원자의 산소 원자에 대한 원자비를 FC/OC로 한다. 사각형의 디스플레이를 갖는 폴더블 디바이스용의 광학 필름으로서는, 이하의 (I), (II) 중 어느 조건을 만족시키면 바람직하고, 양방을 만족시키면 더 바람직하다.1 is a perspective view showing an example of an optical film according to the present embodiment. The optical film 10 shown in Fig. 1 has a rectangular (rectangular) plane shape, and has two sides (two long sides parallel to each other forming a rectangle) E1 and E2), and two end faces E3 and E4 facing each other in the longitudinal direction (two short sides parallel to each other forming a rectangle). The optical film 10 is a film obtained by cutting the inside of 1 mm from the cross sections E1, E2, E3 and E4 into cut faces C1, C2, C3 and C4, the atomic ratio (F / C) to carbon atoms of the fluorine atom as measured by X ray photoelectron spectrometer (XPS) in each of the cut surfaces (C1~C4), in the whole or a part of cross-section, F E / C E is greater than F C / C or C, and / or, of the cross section (E1~E4) and fluorine atom, measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) in each of the cut surfaces (C1~C4) The atomic ratio (F / O) to the oxygen atom is greater than F C / O C in all or part of the cross section, F E / O E. In addition, the atomic ratio of the atomic ratio to the carbon atom of a fluorine atom, measured by XPS in a cross section to a carbon atom of a fluorine atom, measured by XPS in the surface as F E / C E, and cut F C / C C , the atomic ratio of the fluorine atom to the oxygen atom measured by XPS on the cross section is F E / O E , and the atomic ratio of the fluorine atom to the oxygen atom measured by XPS on the cut surface is F C / O C. The optical film for a foldable device having a quadrangular display preferably satisfies any one of the following conditions (I) and (II), and more preferably satisfies both of them.

(I) 단면(E1, E2)에 있어서, FE/CE가 FC/CC보다 크거나, 및/또는, FE/OE가 FC/OC보다 크다.F E / C E is greater than F C / C C and / or F E / O E is greater than F C / O C in cross section (I) cross section (E1, E2)

(II) 단면(E3, E4)에 있어서, FE/CE가 FC/CC보다 크거나, 및/또는, FE/OE가 FC/OC보다 크다.F E / C E is greater than F C / C C and / or F E / O E is greater than F C / O C in the cross section (II) cross section (E3, E4)

광학 필름(10)이 상기의 조건을 만족시키는 것, 즉, 단면에 있어서 FE/CE가 FC/CC보다 크거나, 및/또는, FE/OE가 FC/OC보다 큼으로써, 광학 필름(10)을 변형시킨 상태로 고온고습 환경 하에 보관하더라도, 단면으로부터의 크랙의 발생을 억제할 수 있다. 모든 단면으로부터의 크랙의 발생을 억제할 수 있다는 관점에서, 광학 필름(10)은 상기 (I) 및 (II)의 조건의 양방을 만족시키는 것이 바람직하다.It is preferable that the optical film 10 satisfies the above condition, that is, F E / C E is larger than F C / C C and / or F E / O E is larger than F C / O C It is possible to suppress the occurrence of cracks from the end face even when the optical film 10 is stored under a high temperature and high humidity environment while being deformed. It is preferable that the optical film 10 satisfies both of the conditions (I) and (II) above from the viewpoint of suppressing the generation of cracks from all the end faces.

크랙은 변형이 생기고 있는 단면으로부터 발생하기 쉽기 때문에, 이러한 크랙을 효율적으로 방지하는 관점에서, FE/CE가 FC/CC보다 크거나, 및/또는, FE/OE가 FC/OC보다 큰 단면을, 광학 필름에 굴곡이 생기는 경우(예를 들면, 보관시나 사용시 등)에 굴곡 등의 변형이 생기는 면으로 할 수 있다. 예를 들면, 직사각형의 평면 형상을 갖는 광학 필름을, 광학 필름의 짧은 쪽 방향을 축으로 하여 굴곡시키거나 또는 롤 형상으로 감아 보관하는 경우, 짧은 쪽 방향에 있어서 서로 대향하는 두 변의 단면(예를 들면, 도 1에 나타낸 광학 필름(10)의 경우는 단면(E1 및 E2))에 굴곡에 의한 변형이 생긴다. 이와 같은 경우에는, 적어도 광학 필름의 짧은 쪽 방향에 있어서 서로 대향하는 두 변의 단면에 있어서, 불소 원자가 필름 내부보다 고농도로 존재하고 있는 것이 바람직하다.Since cracks are liable to occur from the end surface which occurs is deformed, with a view to effectively prevent such a crack, F E / C E is F C / C is greater than C, or, and / or, F E / O E a F C If the winding cross-section than the large / O C, the resulting optical film may be a surface deformation such as bending (e. g., storage or when in use, and so on) may occur. For example, when an optical film having a rectangular planar shape is bent or stored in a roll shape in the direction of the shorter side of the optical film as an axis, a cross section of two sides opposite to each other in the shorter direction , The optical films 10 shown in Fig. 1 are deformed by bending in the cross-sections E1 and E2). In such a case, it is preferable that fluorine atoms are present at a higher concentration than in the inside of the film, at least on two cross-sections of mutually opposing sides in the short direction of the optical film.

광학 필름을 플렉시블 디스플레이의 부재로서 이용하는 경우, 디스플레이의 내부에서 필름이 변형되는 개소의 단부가, FE/CE가 FC/CC보다 크거나, 및/또는, FE/OE가 FC/OC보다 큰 단면이 되어 있음으로써, 단부로부터의 크랙에 의한 열화가 억제되고, 보다 높은 신뢰성을 얻을 수 있다. 예를 들면, 곡면을 갖는 디스플레이의 경우에는, 곡률을 갖는 단부가, FE/CE가 FC/CC보다 크거나, 및/또는, FE/OE가 FC/OC보다 큰 단면이 되어 있으면 본 발명의 효과를 얻기 쉬운 경향이 있다. 또, 접을 수 있는 디바이스의 경우, 접는 것에 의해서 구부러지는 측의 단부가, FE/CE가 FC/CC보다 크거나, 및/또는, FE/OE가 FC/OC보다 큰 단면이 되어 있으면 본 발명의 효과를 얻기 쉬운 경향이 있다. 둥글게 하는 것이 가능한 디스플레이의 경우에는, 둥글게 함으로써 곡률을 갖는 단부가, FE/CE가 FC/CC보다 크거나, 및/또는, FE/OE가 FC/OC보다 큰 단면이 되어 있으면 본 발명의 효과를 얻기 쉬운 경향이 있다.When using the optical film as the flexible display member, of the part to be loaded with variations in the interior of the display ends, F E / C E is F C / C is greater than C, or, and / or, F E / O E is F By having a section larger than C / O C , deterioration due to cracks from the ends is suppressed, and higher reliability can be obtained. For example, in the case of a display having a curved surface, the end portion having a curvature, F E / C E is greater than F C / C C, or, and / or, F E / O E is greater than F C / O C The effect of the present invention tends to be easily obtained. In the case of devices that can be folded, a side of the end portion is bent by being folded, F E / C E is greater than F C / C C, or, and / or, F E / O E is more F C / O C If the cross section is large, the effect of the present invention tends to be easily obtained. In the case of a display which can be rounded, the rounded end by curvature may have a cross section with F E / C E greater than F C / C C and / or F E / O E greater than F C / O C The effect of the present invention tends to be easily obtained.

광학 필름의 단면 및 자른 면의 XPS 측정은, 이하의 조건으로 행할 수 있다. 또, XPS 측정은, 광학 필름의 단면 또는 자른 면에 대하여 수직 방향으로부터 X선을 조사하고, 45° 방향으로부터 광전자를 검출함으로써 행할 수 있다.The XPS measurement of the cross section and the cut face of the optical film can be performed under the following conditions. XPS measurement can be performed by irradiating an X-ray from a perpendicular direction to a cross-section or a cut face of the optical film, and detecting photoelectrons from the 45 占 direction.

< XPS 측정 조건 >&Lt; XPS measurement condition >

장치: Quantera SXM(ULVAC PHI사 제)Apparatus: Quantera SXM (manufactured by ULVAC PHI)

X선: AlKα선(1486.6 eV)X-ray: AlK ray (1486.6 eV)

X선 스폿 직경: 50 ㎛X-ray spot diameter: 50 탆

중화 조건: 중화 전자(1 eV), 저속 Ar 이온(10 eV)Neutralization condition: neutralization electron (1 eV), low-rate Ar ion (10 eV)

XPS에 의해 측정되는 불소 원자의 탄소 원자에 대한 원자비 (F/C), 및/또는, 불소 원자의 산소 원자에 대한 원자비 (F/O)는, XPS 스펙트럼의 C1s, O1s 및 F1s 피크의 면적으로부터 구할 수 있다.The atomic ratio (F / C) of the fluorine atom to the carbon atom and / or the atomic ratio (F / O) to the oxygen atom of the fluorine atom, as measured by XPS, satisfy the relationship of C1s, Can be obtained from the area.

XPS 측정을 행하는 자른 면(광학 필름(10)에 있어서의 자른 면(C1∼C4))을 형성할 때의 광학 필름의 절단은, 절단면의 원자 조성이 변화되지 않고, 절단면에 왜곡이 생기지 않는 방법으로 행한다. 절단은, 예를 들면, 면도칼을 이용하여 행할 수 있다.The cutting of the optical film at the time of forming the cut face (cut face (C1 to C4) in the optical film (10)) to be subjected to the XPS measurement is performed by a method in which the atomic composition of the cut face is not changed, . The cutting can be performed, for example, using a razor.

본 발명의 일 실시 형태에 관련된 광학 필름(10)의 단면에 있어서, (FE/CE)/ (FC/CC)의 값은, 1보다 큰 값인 것이 필요하지만, 1.1∼10인 것이 바람직하고, 1.5∼8인 것이 보다 바람직하고, 2∼5인 것이 더 바람직하다. 이 값이 1.1 이상이면, 필름 단면에 있어서의 불소 원자의 농도가 필름 자른 면(필름 내부)에 있어서의 불소 원자의 농도보다 충분히 높고, 당해 단면으로부터의 크랙의 발생을 보다 충분히 억제할 수 있는 경향이 있다.In the cross section of the optical film 10 according to the embodiment of the present invention, the value of (F E / C E ) / (F C / C C ) needs to be larger than 1, More preferably from 1.5 to 8, and even more preferably from 2 to 5. When the value is 1.1 or more, the fluorine atom concentration in the film cross section is sufficiently higher than the concentration of fluorine atoms in the film-cut surface (inside of the film), and the occurrence of cracks from the cross section can be sufficiently suppressed .

광학 필름(10)에 있어서, (FE/CE)/ (FC/CC)의 값이 1보다 큰 단면에 있어서의 FE/CE의 값은, 0.03 이상인 것이 바람직하고, 0.04 이상인 것이 보다 바람직하고, 0.05 이상인 것이 더 바람직하다. 단면의 FE/CE의 값이 0.03 이상이면, 당해 단면으로부터의 크랙의 발생을 보다 충분히 억제할 수 있는 경향이 있다.In the optical film 10, the value of F E / C E in a cross section in which the value of (F E / C E ) / (F C / C C ) is larger than 1 is preferably 0.03 or more, More preferably 0.05 or more. When the value of F E / C E of the cross section is 0.03 or more, occurrence of cracks from the cross section tends to be sufficiently suppressed.

(FE/CE)/(FC/CC)의 값이 1보다 큰 단면은, 레이저 절단에 의해 형성할 수 있다. 상기 방법에 의해 형성된 단면은, (FE/CE)/(FC/CC)의 값이 1보다 커지기 쉽고, 당해 단면으로부터의 크랙의 발생을 보다 충분히 억제할 수 있는 경향이 있다.The cross section having a value of (F E / C E ) / (F C / C C ) greater than 1 can be formed by laser cutting. The cross section formed by the above method tends to have a value of (F E / C E ) / (F C / C C ) larger than 1, and can more sufficiently suppress the occurrence of cracks from the cross section.

본 발명의 다른 일 실시 형태에 관련된 광학 필름(10)의 단면에 있어서, (FE/OE)/(FC/OC)의 값은, 1보다 큰 값인 것이 필요하지만, 1.1∼10인 것이 바람직하고, 1.3∼8인 것이 보다 바람직하고, 1.5∼5인 것이 더 바람직하다. 이 값이 1.1 이상이면, 필름 단면에 있어서의 불소 원자의 농도가 필름 자른 면(필름 내부)에 있어서의 불소 원자의 농도보다 충분히 높고, 당해 단면으로부터의 크랙의 발생을 보다 충분히 억제할 수 있는 경향이 있다.In the cross section of the optical film 10 according to another embodiment of the present invention, the value of (F E / O E ) / (F C / O C ) More preferably from 1.3 to 8, and further preferably from 1.5 to 5. When the value is 1.1 or more, the fluorine atom concentration in the film cross section is sufficiently higher than the concentration of fluorine atoms in the film-cut surface (inside of the film), and the occurrence of cracks from the cross section can be sufficiently suppressed .

광학 필름(10)에 있어서, (FE/OE)/ (FC/OC)의 값이 1보다 큰 단면에 있어서의 FE/OE의 값은, 0.2 이상인 것이 바람직하다. 단면의 FE/OE의 값이 0.2 이상이면, 당해 단면으로부터의 크랙의 발생을 보다 충분히 억제할 수 있는 경향이 있다.In the optical film 10, the value of F E / O E in a cross section where (F E / O E ) / (F C / O C ) is larger than 1 is preferably 0.2 or more. When the value of F E / O E of the cross section is 0.2 or more, the generation of cracks from the cross section tends to be more sufficiently suppressed.

(FE/OE)/(FC/OC)의 값이 1보다 큰 단면은, 레이저 절단에 의해 형성할 수 있다. 상기 방법으로 형성된 단면은, (FE/OE)/(FC/OC)의 값이 1보다 커지기 쉽고, 당해 단면으로부터의 크랙의 발생을 보다 충분히 억제할 수 있는 경향이 있다.(F E / O E ) / (F C / O C ) greater than 1 can be formed by laser cutting. The cross section formed by the above method tends to have a value of (F E / O E ) / (F C / O C ) greater than 1, and can more sufficiently suppress the occurrence of cracks from the cross section.

상기의 광학 필름(10)은, 굴절률이 통상 1.45∼1.70이고, 바람직하게는 1.50∼1.66이다.The refractive index of the above optical film 10 is usually 1.45 to 1.70, preferably 1.50 to 1.66.

광학 필름(10)의 두께는, 플렉시블 디바이스의 종류 등에 따라서 적당히 조정되지만, 통상 10∼500 ㎛이고, 15∼200 ㎛인 것이 바람직하고, 20∼100 ㎛인 것이 보다 바람직하다.The thickness of the optical film 10 is appropriately adjusted according to the type of the flexible device and the like, but is usually 10 to 500 占 퐉, preferably 15 to 200 占 퐉, and more preferably 20 to 100 占 퐉.

광학 필름(10)은 통상 투명하다. 광학 필름(10)은, JIS K 7105: 1981에 준거한 전체 광선 투과율이, 통상 85% 이상이고, 바람직하게는 90% 이상이다.The optical film 10 is usually transparent. The optical film 10 has a total light transmittance generally in accordance with JIS K 7105: 1981 of 85% or more, and preferably 90% or more.

광학 필름(10)은, JIS K 7105: 1981에 준거한 Haze가 1 이하일 수 있고, 0.9 이하일 수도 있다.The optical film 10 may have haze of not more than 1 and not more than 0.9 according to JIS K 7105: 1981.

또한, 굴절률, 전체 광선 투과율 및 Haze는, 광학 필름의 두께 방향에 있어서 측정하는 값이다.The refractive index, total light transmittance and haze are values measured in the thickness direction of the optical film.

광학 필름(10)의 크기는, 사용되는 플렉시블 디바이스의 크기에 따라서 적당히 조절할 수 있다. 광학 필름(10)의 평면 형상은, 통상 직사각형 또는 정방형이지만, 사다리꼴, 평행사변형 등의 그 외의 사각형이어도 된다. 또, 광학 필름(10)의 평면 형상은 모서리가 둥글게 된 사각형이어도 된다.The size of the optical film 10 can be appropriately adjusted in accordance with the size of the flexible device used. The plane shape of the optical film 10 is generally rectangular or square, but other squares such as a trapezoid, a parallelogram, and the like may be used. In addition, the optical film 10 may have a rectangular shape with rounded corners.

(필름의 재질)(Material of film)

(투명 수지)(Transparent resin)

상기 광학 필름은, 분자 내에 불소 원자를 포함하는 폴리이미드계 고분자 등의 투명 수지를 포함한다.The optical film includes a transparent resin such as a polyimide-based polymer containing a fluorine atom in the molecule.

(폴리이미드계 고분자)(Polyimide-based polymer)

본 명세서에 있어서, 폴리이미드란, 이미드기를 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 중합체이고, 폴리아미드란, 아미드기를 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 중합체이다. 폴리이미드계 고분자란, 폴리이미드 및 이미드기 및 아미드기의 양방을 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 중합체를 나타낸다.In the present specification, the polyimide is a polymer containing a repeating structural unit containing an imide group, and the polyamide is a polymer containing a repeating structural unit containing an amide group. The polyimide-based polymer refers to a polymer containing repeating structural units including both polyimide and imide groups and amide groups.

본 실시 형태에 관련된 폴리이미드계 고분자는, 후술하는 테트라카르본산 화합물과 디아민 화합물을 주된 원료로서 제조할 수 있고, 식 (10)으로 나타내어지는 반복 구조 단위를 갖는다. 여기서, G는 4가의 유기기이고, A는 2가의 유기기이다. G 및/또는 A가 다른, 2 종류 이상의 식 (10)으로 나타내어지는 구조를 포함하고 있어도 된다.The polyimide-based polymer according to the present embodiment can be produced as a main raw material of a tetracarboxylic acid compound and a diamine compound described later, and has a repeating structural unit represented by the formula (10). Here, G is a tetravalent organic group and A is a divalent organic group. G, and / or A may contain two or more kinds of structures represented by formula (10).

또, 본 실시 형태에 관련된 폴리이미드계 고분자는, 얻어지는 폴리이미드계 고분자 필름의 각종 물성을 손상하지 않는 범위에서, 식 (11)∼식 (13) 중 어느 것으로 나타내어지는 구조를 포함하고 있어도 된다.The polyimide-based polymer according to the present embodiment may include a structure represented by any one of the formulas (11) to (13) within a range that does not impair various physical properties of the resulting polyimide-based polymer film.

Figure pct00001
Figure pct00001

Figure pct00002
Figure pct00002

Figure pct00003
Figure pct00003

Figure pct00004
Figure pct00004

G 및 G1은 4가의 유기기이고, 바람직하게는 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되는 유기기이며, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타내어지는 기 및 4가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다. 식 중의 *은 결합손을 나타내고, Z는 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -Ar-, -SO2-, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH2-Ar-, -Ar-C(CH3)2-Ar- 또는 -Ar-SO2-Ar-을 나타낸다. Ar은 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 6∼20의 아릴렌기를 나타내고, 구체예로서는 페닐렌기를 들 수 있다. G 및 G1은, 얻어지는 필름의 황색도를 억제하기 쉽기 때문에, 식 (20)∼식 (27)로 나타내어지는 기로부터 선택되는 어느 기인 것이 바람직하다.(21), (22), (23), and (23), G and G 1 are each a tetravalent organic group and are preferably organic groups which may be substituted by a hydrocarbon group or a fluorine- Examples of the group represented by the formula (24), the formula (25), the formula (26), the formula (27), the formula (28) or the formula (29) and the quadrivalent cyclic hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms are exemplified. Z represents a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH (CH 3 ) -, -C (CH 3 ) 2 -, -C (CF 3 ) 2 -, -Ar-, -SO 2 -, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH 2 -Ar-, -Ar-C CH 3 ) 2 -Ar- or -Ar-SO 2 -Ar-. Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted by a fluorine atom, and specific examples thereof include a phenylene group. It is preferable that G and G 1 are any groups selected from the groups represented by formulas (20) to (27) since the degree of yellowness of the resulting film is easily suppressed.

Figure pct00005
Figure pct00005

G2는 3가의 유기기이고, 바람직하게는 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되는 유기기이며, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타내어지는 기의 결합손 중 어느 하나가 수소 원자로 치환된 기 및 3가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다.G 2 is a trivalent organic group, preferably an organic group which may be substituted by a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, and is an organic group represented by Formula (20), Formula (21), Formula (22) Any one of the groups bonded to each other represented by the formulas (24), (25), (26), (27), (28) or (29) Of the chain hydrocarbon group are exemplified.

G3은 2가의 유기기이고, 바람직하게는 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되는 유기기이며, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타내어지는 기의 결합손 중, 인접하지 않는 2개가 수소 원자로 치환된 기 및 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다.G 3 is a divalent organic group, preferably an organic group which may be substituted by a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, and is an organic group represented by Formula (20), Formula (21), Formula (22) Of the groups bonded to each other represented by formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) or formula (29) The following chain hydrocarbon groups are exemplified.

A, A1∼A3은 모두 2가의 유기기이고, 바람직하게는 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되는 유기기이며, 식 (30), 식 (31), 식 (32), 식 (33), 식 (34), 식 (35), 식 (36), 식 (37) 또는 식 (38)로 나타내어지는 기; 그들이 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기에 의해 치환된 기 및 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다. 식 중의 *은 결합손을 나타내고, Z1, Z2 및 Z3은, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 -CO-를 나타낸다. 하나의 예는, Z1 및 Z3이 -O-이고, 또한, Z2가 -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2- 또는 -SO2-이다. Z1과 Z2, 및, Z2와 Z3은, 각각, 각 환에 대하여 메타 위치 또는 파라 위치인 것이 바람직하다.(30), (31), (32), (32), and (32), A and A 1 to A 3 are all bivalent organic groups and preferably may be substituted by a hydrocarbon group or a fluorine- A group represented by formulas (33), (34), (35), (36), (37) or (38); A group substituted by a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, and a chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms. Z 1 , Z 2 and Z 3 each independently represent a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH (CH 3 ) -, , -C (CH 3) 2 - , -C (CF 3) 2 - or denotes a -CO- -, -SO 2. One example is where Z 1 and Z 3 are -O- and Z 2 is -CH 2 -, -C (CH 3 ) 2 -, -C (CF 3 ) 2 - or -SO 2 -. Z 1 and Z 2 , and Z 2 and Z 3 are each preferably a meta position or a para position with respect to each ring.

Figure pct00006
Figure pct00006

상기 광학 필름은 폴리아미드를 포함하고 있어도 된다. 본 실시 형태에 관련된 폴리아미드는, 식 (13)으로 나타내어지는 반복 구조 단위를 주(主)로 하는 중합체이다. 바람직한 예 및 구체예는, 폴리이미드계 고분자에 있어서의 G3 및 A3과 동일하다. G3 및/또는 A3이 다른, 2 종류 이상의 식 (13)으로 나타내어지는 구조를 포함하고 있어도 된다.The optical film may contain a polyamide. The polyamide according to the present embodiment is a polymer mainly comprising a repeating structural unit represented by formula (13). Preferred examples and specific examples are the same as G 3 and A 3 in the polyimide-based polymer. G 3 and / or A 3 may contain two or more kinds of structures represented by formula (13).

폴리이미드계 고분자는, 예를 들면, 디아민과 테트라카르본산 화합물(테트라카르본산 2 무수물 등)과의 중축합에 의해서 얻어지고, 예를 들면, 일본 공개특허 특개2006-199945호 공보 또는 일본 공개특허 특개2008-163107호 공보에 기재되어 있는 방법에 따라서 합성할 수 있다. 폴리이미드의 시판품으로서는, 미츠비시 가스 화학(주) 제 네오푸림, 가와무라 산업(주) 제 KPI-MX300F 등을 들 수 있다.The polyimide-based polymer is obtained, for example, by polycondensation of a diamine with a tetracarboxylic acid compound (tetracarboxylic acid dianhydride or the like). For example, JP-A-2006-199945 or JP- Can be synthesized according to the method described in JP-A-2008-163107. Examples of commercially available products of polyimide include Neopurim, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. and KPI-MX300F manufactured by Kawamura Industry Co., Ltd.

폴리이미드계 고분자의 합성에 이용되는 테트라카르본산 화합물로서는, 방향족 테트라카르본산 2 무수물 등의 방향족 테트라카르본산 화합물 및 지방족 테트라카르본산 2 무수물 등의 지방족 테트라카르본산 화합물을 들 수 있다. 테트라카르본산 화합물은 단독으로 이용해도 되고 2종 이상을 병용해도 된다. 테트라카르본산 화합물은, 2 무수물 외에, 산 클로라이드 화합물 등의 테트라카르본산 화합물 유연체(類緣體)여도 된다.Examples of the tetracarboxylic acid compound used in the synthesis of the polyimide-based polymer include aromatic tetracarboxylic acid compounds such as aromatic tetracarboxylic dianhydrides and aliphatic tetracarboxylic acid compounds such as aliphatic tetracarboxylic dianhydrides. The tetracarboxylic acid compound may be used alone or in combination of two or more. The tetracarboxylic acid compound may be a tetracarboxylic acid compound derivative such as an acid chloride compound in addition to dianhydrides.

방향족 테트라카르본산 2 무수물의 구체예로서는 4,4'-옥시디프탈산 2 무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2 무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2 무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2 무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 2 무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 2 무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2 무수물, 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 2 무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 2 무수물, 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 2 무수물, 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 2 무수물 및 2,3,6,7-나프탈렌테트라카르본산 2 무수물을 들 수 있고, 바람직하게는 4,4'-옥시디프탈산 2 무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2 무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2 무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2 무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 2 무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 2 무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2 무수물, 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 2 무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 2 무수물, 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 2 무수물 및 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 2 무수물을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.Specific examples of the aromatic tetracarboxylic acid dianhydride include 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-benzophenone Tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4 (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2- Bis (3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane dianhydride, 4,4 '- (hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride, 1,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 4,4 '- (p- Oxy) diphthalic dianhydride, 4,4 '- (m-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride and 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, preferably 4,4' 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, Biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2 ', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 2'- Bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) Propane dianhydride, 4,4'- (hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride, 1,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1- Bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1- Dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 4,4 '- (p-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride and 4,4' - ) Diphthalic acid dianhydride. These may be used alone or in combination of two or more.

지방족 테트라카르본산 2 무수물로서는, 환식 또는 비환식의 지방족 테트라카르본산 2 무수물을 들 수 있다. 환식 지방족 테트라카르본산 2 무수물이란, 지환식 탄화수소 구조를 갖는 테트라카르본산 2 무수물이며, 그 구체예로서는 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르본산 2 무수물, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르본산 2 무수물, 1,2,3,4-시클로펜탄테트라카르본산 2 무수물 등의 시클로알칸테트라카르본산 2 무수물, 비시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르본산 2 무수물, 디시클로헥실 3,3'- 4,4'-테트라카르본산 2 무수물 및 이들의 위치 이성체를 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 비환식 지방족 테트라카르본산 2 무수물의 구체예로서는 1,2,3,4-부탄테트라카르본산 2 무수물, 1,2,3,4-펜탄테트라카르본산 2 무수물 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.Examples of the aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride include cyclic or acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydrides. The cyclic aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride is tetracarboxylic dianhydride having an alicyclic hydrocarbon structure, and specific examples thereof include 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclo Butane tetracarboxylic acid dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride and the like, cycloalkanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] oct-7-ene-2,3,5 , 6-tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyl 3,3'-4,4'-tetracarboxylic dianhydride, and their positional isomers. These may be used alone or in combination of two or more. Specific examples of the non-cyclic aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic dianhydride, etc., Two or more species may be used in combination.

상기 테트라카르본산 2 무수물 중에서도, 고투명성 및 저착색성의 관점에서, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르본산 2 무수물, 비시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르본산 2 무수물 및 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2 무수물이 바람직하다.Among the tetracarboxylic dianhydrides, from the viewpoint of high transparency and low coloring property, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] oct- 5,6-tetracarboxylic dianhydride and 4,4 '- (hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride are preferable.

또한, 본 실시 형태에 관련된 폴리이미드계 고분자는, 얻어지는 폴리이미드계 고분자 필름의 각종 물성을 손상하지 않는 범위에서, 상기의 폴리이미드 합성에 이용되는 테트라카르본산의 무수물에 추가하여, 테트라카르본산, 트리카르본산 및 디카르본산 및 그들의 무수물 및 유도체를 추가로 반응시킨 것이어도 된다.In addition to the anhydride of the tetracarboxylic acid used in the polyimide synthesis, the polyimide-based polymer according to the present embodiment may contain tetracarboxylic acid, Tricarboxylic acid, dicarboxylic acid and anhydrides and derivatives thereof may be further reacted.

트리카르본산 화합물로서는 방향족 트리카르본산, 지방족 트리카르본산 및 그들의 유연(類緣)의 산 클로라이드 화합물, 산 무수물 등을 들 수 있고, 2종 이상을 병용해도 된다. 구체예로서는 1,2,4-벤젠트리카르본산의 무수물; 2,3,6-나프탈렌트리카르본산-2,3-무수물; 프탈산 무수물과 안식향산이 단결합, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 페닐렌기에 의해 연결된 화합물을 들 수 있다.Examples of the tricarboxylic acid compound include aromatic tricarboxylic acids, aliphatic tricarboxylic acids and their acid chloride compounds and acid anhydrides, and two or more of them may be used in combination. Specific examples include anhydrides of 1,2,4-benzenetricarboxylic acid; 2,3,6-naphthalenetricarboxylic acid-2,3-anhydride; Compounds in which phthalic anhydride and benzoic acid are linked by a single bond, -CH 2 -, -C (CH 3 ) 2 -, -C (CF 3 ) 2 -, -SO 2 - or phenylene group.

디카르본산 화합물로서는 방향족 디카르본산, 지방족 디카르본산 및 그들의 유연의 산 클로라이드 화합물, 산 무수물 등을 들 수 있고, 2종 이상을 병용해도 된다. 구체예로서는 테레프탈산; 이소프탈산; 나프탈렌디카르본산; 4,4'-비페닐디카르본산; 3,3'-비페닐디카르본산; 탄소수 8 이하인 쇄식 탄화수소,의 디카르본산 화합물 및 2개의 안식향산이 단결합, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 페닐렌기에 의해 연결된 화합물을 들 수 있다.Examples of the dicarboxylic acid compound include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids and their flexible acid chloride compounds and acid anhydrides, and two or more of them may be used in combination. Specific examples include terephthalic acid; Isophthalic acid; Naphthalene dicarboxylic acid; 4,4'-biphenyldicarboxylic acid; 3,3'-biphenyldicarboxylic acid; A dicarboxylic acid compound of a cyclic hydrocarbon having 8 or less carbon atoms and two benzoic acids are bonded to a single bond, -CH 2 -, -C (CH 3 ) 2 -, -C (CF 3 ) 2 -, -SO 2 - And the like.

폴리이미드계 고분자의 합성에 이용되는 디아민으로서는, 지방족 디아민, 방향족 디아민 또는 그들의 혼합물이어도 된다. 또한, 본 실시 형태에 있어서 「방향족 디아민」이란, 아미노기가 방향환에 직접 결합하고 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 지방족 기 또는 기타의 치환기를 포함하고 있어도 된다. 방향환은 단환이어도 되고 축합환이어도 되고, 벤젠환, 나프탈렌환, 안트라센환 및 플루오렌환 등이 예시되지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 이들 중에서도 바람직하게는 벤젠환이다. 또, 「지방족 디아민」이란, 아미노기가 지방족기에 직접 결합하고 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 방향환이나 기타의 치환기를 포함하고 있어도 된다.The diamine used for synthesis of the polyimide-based polymer may be an aliphatic diamine, an aromatic diamine, or a mixture thereof. In the present embodiment, the term "aromatic diamine" refers to a diamine in which an amino group is directly bonded to an aromatic ring, and a part of the structure may contain an aliphatic group or other substituent. The aromatic ring may be a monocyclic ring or a condensed ring, and examples thereof include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring and a fluorene ring, but are not limited thereto. Of these, benzene rings are preferable. The term &quot; aliphatic diamine &quot; means a diamine in which an amino group is bonded directly to an aliphatic group, and an aromatic ring or other substituent may be contained in a part of the structure.

지방족 디아민으로서는 예를 들면, 헥사메틸렌디아민 등의 비환식 지방족 디아민 및 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산, 1,4-비스(아미노메틸)시클로헥산, 노르보르난디아민, 4,4'-디아미노디시클로헥실메탄 등의 환식 지방족 디아민 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.Examples of the aliphatic diamines include alicyclic diamines such as hexamethylene diamine and the like; alicyclic diamines such as 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, norbornanediamine, -Diaminodicyclohexylmethane, and the like, and they may be used alone or in combination of two or more.

방향족 디아민으로서는 예를 들면, p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, 2,4-톨루엔디아민, m-크실렌디아민, p-크실렌디아민, 1,5-디아미노나프탈렌, 2,6-디아미노나프탈렌 등의, 방향환을 1개 갖는 방향족 디아민, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-메틸페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-클로로페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-플루오로페닐)플루오렌 등의, 방향환을 2개 이상 갖는 방향족 디아민을 들 수 있고, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.Examples of the aromatic diamine include aromatic diamines such as p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylenediamine, p-xylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene, Naphthalene, aromatic diamines having one aromatic ring, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4 ' - diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone , 4,4'-diaminodiphenylsulfone, bis [4- (4-aminophenoxy) benzene, Bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- Bis (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, - Aminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 9,9- Phenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-chlorophenyl) fluorene and 9,9-bis Or an aromatic diamine having two or more aromatic diamines. These diamines may be used alone or in combination of two or more.

상기 디아민 중에서도, 고투명성 및 저착색성의 관점에서는, 비페닐 구조를 갖는 방향족 디아민으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 바람직하다. 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐 및 4,4'-디아미노디페닐에테르로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 더 바람직하고, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘이 포함되는 것이 보다 더 바람직하다.Among the above diamines, from the viewpoints of high transparency and low coloring property, it is preferable to use at least one selected from the group consisting of aromatic diamines having a biphenyl structure. (4-aminophenoxy) biphenyl and 4,4'-diaminodiphenyl ether, which is composed of 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, , More preferably at least one selected from the group consisting of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, and still more preferably 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine.

식 (10)∼식 (13) 중 어느 것으로 나타내어지는 반복 구조 단위를 적어도 1종 포함하는 중합체인 폴리이미드계 고분자 및 폴리아미드는, 디아민과, 테트라카르본산 화합물(산 클로라이드 화합물, 테트라카르본산 2 무수물 등의 테트라카르본산 화합물 유연체), 트리카르본산 화합물(산 클로라이드 화합물, 트리카르본산 무수물 등의 트리카르본산 화합물 유연체) 및 디카르본산 화합물(산 클로라이드 화합물 등의 디카르본산 화합물 유연체)로 이루어지는 군에 포함되는 적어도 1종류의 화합물과의 중축합 생성물인 축합형 고분자이다. 출발 원료로서는, 이들에 추가하여, 추가로 디카르본산 화합물(산 클로라이드 화합물 등의 유연체를 포함함)을 이용하는 경우도 있다. 식 (11)로 나타내어지는 반복 구조 단위는, 통상 디아민류 및 테트라카르본산 화합물로부터 유도된다. 식 (12)로 나타내어지는 반복 구조 단위는, 통상 디아민 및 트리카르본산 화합물로부터 유도된다. 식 (13)으로 나타내어지는 반복 구조 단위는, 통상 디아민 및 디카르본산 화합물로부터 유도된다. 디아민 및 테트라카르본산 화합물의 구체예는 상술한 바와 같다.Polyimide-based polymers and polyamides, which are polymers containing at least one repeating structural unit represented by any one of formulas (10) to (13), are obtained by reacting a diamine with a tetracarboxylic acid compound (acid chloride compound, tetracarboxylic acid 2 (A derivative of a tetracarboxylic acid compound such as an anhydride), a tricarboxylic acid compound (an acid chloride compound, a tricarboxylic acid compound such as a tricarboxylic acid anhydride) and a dicarboxylic acid compound ) And at least one kind of compound contained in the group consisting of the compound represented by the general formula (1). As the starting material, there may be used a dicarboxylic acid compound (including a derivative such as an acid chloride compound) in addition to these. The repeating structural unit represented by the formula (11) is usually derived from diamines and tetracarboxylic acid compounds. The repeating structural unit represented by the formula (12) is usually derived from a diamine and a tricarboxylic acid compound. The repeating structural unit represented by the formula (13) is usually derived from a diamine and a dicarboxylic acid compound. Specific examples of the diamine and tetracarboxylic acid compound are as described above.

본 실시 형태에 관련된 폴리이미드계 고분자 및 폴리아미드의 표준 폴리스티렌 환산 중량평균 분자량은, 통상 10,000∼500,000이고, 바람직하게는 50,000∼500,000이고, 더 바람직하게는 100,000∼400,000이다. 폴리이미드계 고분자 및 폴리아미드의 중량평균 분자량이 클수록 필름화하였을 때에 높은 내굴곡성을 발현하기 쉬운 경향이 있지만, 폴리이미드계 고분자의 중량평균 분자량이 너무 크면, 바니시의 점도가 높아지고, 가공성이 저하되는 경향이 있다.The weight average molecular weight of the polyimide-based polymer and the polyamide according to the present embodiment in terms of standard polystyrene standards is generally 10,000 to 500,000, preferably 50,000 to 500,000, and more preferably 100,000 to 400,000. The larger the weight average molecular weight of the polyimide-based polymer and the polyamide tends to exhibit high flex resistance when formed into a film, but when the weight average molecular weight of the polyimide-based polymer is too large, the viscosity of the varnish increases and the workability decreases There is a tendency.

폴리이미드계 고분자 및 폴리아미드는, 함불소 치환기를 포함함으로써, 필름화하였을 때의 탄성률이 향상됨과 함께, YI 값이 저감되고, 투명성도 향상되는 경향이 있다. 필름의 탄성률이 높으면, 흠집 및 주름 등의 발생이 억제되는 경향이 있다. 또, 분자 내에 불소 원자를 포함하는 폴리이미드계 고분자는, 상술한 (FE/CE)/(FC/CC)의 값 및/또는 (FE/OE)/(FC/OC)의 값이 1보다 큰 단면을 가짐으로써, 변형시킨 상태로 고온고습 환경 하에 보관하더라도, 당해 단부로부터의 크랙의 발생을 충분히 억제할 수 있다. 함불소 치환기의 구체예로서는 플루오로기 및 트리플루오로메틸기를 들 수 있다.When the polyimide-based polymer and the polyamide contain a fluorine-substituted substituent, the YI value is reduced and the transparency tends to be improved as well as the modulus of elasticity when the film is made into a film. If the elastic modulus of the film is high, the occurrence of scratches and wrinkles tends to be suppressed. In addition, the value of a polyimide-based polymer containing the fluorine atom, the above-described (F E / C E) / (F C / C C) in the molecule and / or (F E / O E) / (F C / O C ) is larger than 1, even when stored under a high temperature and high humidity environment in a deformed state, occurrence of cracks from the end portion can be sufficiently suppressed. Specific examples of fluorine-substituted groups include a fluoro group and a trifluoromethyl group.

(분자 내에 불소 원자를 포함하는 폴리이미드계 고분자)(A polyimide-based polymer containing a fluorine atom in a molecule)

분자 내에 불소 원자를 포함하는 폴리이미드계 고분자는, 폴리이미드계 고분자의 분자 구조 중의 G, G1∼G3, A, A1∼A3 및 Ar 중 적어도 하나에, 불소 치환된 기를 갖는다. 분자 내에 불소 원자를 포함하는 폴리이미드계 고분자에 있어서의 불소 원자의 함유량은, 폴리이미드계 고분자의 질량을 기준으로 하여, 바람직하게는 1 질량% 이상 40 질량% 이하이고, 더 바람직하게는 5 질량% 이상 40 질량% 이하이다. 불소 원자의 함유량이 1 질량% 이상이면, 필름화하였을 때의 탄성률을 보다 향상하고, YI 값을 보다 저감하고, 투명성을 보다 향상할 수 있는 경향이 있다. 불소 원자의 함유량이 40 질량% 이하이면, 비용이나 합성시의 반응성이 유리해지는 경향이 있다.The polyimide-based polymer containing a fluorine atom in the molecule has a fluorine-substituted group in at least one of G, G 1 to G 3 , A, A 1 to A 3 and Ar in the molecular structure of the polyimide-based polymer. The content of fluorine atoms in the polyimide-based polymer containing fluorine atoms in the molecule is preferably 1% by mass or more and 40% by mass or less based on the mass of the polyimide-based polymer, more preferably 5% % Or more and 40 mass% or less. When the fluorine atom content is 1% by mass or more, the elastic modulus at the time of film formation is further improved, the YI value is further reduced, and the transparency tends to be further improved. When the content of fluorine atoms is 40 mass% or less, the cost and the reactivity at the time of synthesis tend to be favorable.

본 실시 형태에 관련된 광학 필름에 있어서, 폴리이미드계 고분자의 함유량은, 광학 필름의 전체 질량을 기준으로 하여, 통상 30 질량% 이상이고, 바람직하게는 40 질량% 이상이고, 더 바람직하게는 50 질량% 이상이다. 폴리이미드계 고분자의 함유량이 30 질량% 이상이면, 필름의 내굴곡성이 유리해지는 경향이 있다.In the optical film related to the present embodiment, the content of the polyimide-based polymer is usually 30% by mass or more, preferably 40% by mass or more, more preferably 50% by mass or more based on the total mass of the optical film %. When the content of the polyimide-based polymer is 30 mass% or more, the bending resistance of the film tends to be advantageous.

(무기 입자)(Inorganic particles)

본 실시 형태에 관련된 광학 필름은, 상기의 폴리이미드계 고분자에 추가하여, 무기 입자 등의 무기 재료를 더 함유하고 있어도 된다.The optical film according to this embodiment may further contain an inorganic material such as inorganic particles in addition to the above-mentioned polyimide-based polymer.

무기 재료로서 바람직하게는 실리카 입자, 오르토 규산 테트라에틸(TEOS) 등의 4급 알콕시실란 등의 규소 화합물을 들 수 있고, 바니시 안정성의 관점에서, 실리카 입자가 바람직하다.The inorganic material is preferably a silicon compound such as silica particles or quaternary alkoxysilane such as tetraethylorthosilicate (TEOS), and from the viewpoint of the varnish stability, silica particles are preferable.

실리카 입자의 평균 1차 입자경은 바람직하게는 10∼100 ㎚, 더 바람직하게는 20∼80 ㎚이다. 실리카 입자의 평균 1차 입자경이 100 ㎚ 이하이면 투명성이 향상되는 경향이 있다. 실리카 입자의 평균 1차 입자경이 10 ㎚ 이상이면, 실리카 입자의 응집력이 약해지기 때문에 취급하기 쉬워지는 경향이 있다.The average primary particle size of the silica particles is preferably 10 to 100 nm, more preferably 20 to 80 nm. When the average primary particle diameter of the silica particles is 100 nm or less, the transparency tends to be improved. When the average primary particle diameter of the silica particles is 10 nm or more, the cohesive force of the silica particles is weakened, and therefore, the silica particles tend to be easy to handle.

본 실시 형태에 관련된 실리카 미립자는, 유기 용제 등에 실리카 입자를 분산시킨 실리카 졸이어도 되고, 기상법에 의해 제조한 실리카 미립자 분말을 이용해도 되지만, 핸들링이 용이하기 때문에 실리카 졸인 것이 바람직하다.The silica fine particles according to the present embodiment may be silica sol in which silica particles are dispersed in an organic solvent or the like, and silica fine particle powders produced by a vapor phase method may be used, but silica sol is preferable because handling is easy.

광학 필름 중의 실리카 입자의 (평균) 1차 입자경은, 투과형 전자현미경(TEM)에 의한 관찰에 의해 구할 수 있다. 광학 필름을 형성하기 전의 실리카 입자의 입도 분포는, 시판의 레이저 회절식 입도분포계에 의해 구할 수 있다.The (average) primary particle size of the silica particles in the optical film can be obtained by observation with a transmission electron microscope (TEM). The particle size distribution of the silica particles before forming the optical film can be obtained by a commercially available laser diffraction particle size distribution meter.

본 실시 형태에 관련된 광학 필름에 있어서, 무기 재료의 함유량은, 광학 필름의 전체 질량을 기준으로 하여 통상 0 질량% 이상 70 질량% 이하이고, 바람직하게는 0 질량% 이상 60 질량% 이하이고, 더 바람직하게는 0 질량% 이상 50 질량% 이하이다. 무기 재료(규소 재료)의 함유량이 상기의 범위 내이면, 광학 필름의 투명성 및 기계적 강도를 양립시키기 쉬운 경향이 있다.In the optical film related to the present embodiment, the content of the inorganic material is usually 0 mass% or more and 70 mass% or less, preferably 0 mass% or more and 60 mass% or less based on the total mass of the optical film, And preferably 0 mass% or more and 50 mass% or less. When the content of the inorganic material (silicon material) is within the above range, the transparency and the mechanical strength of the optical film tends to be compatible with each other.

본 실시 형태에 관련된 광학 필름은, 이상으로 설명한 성분에 추가하여, 첨가제를 더 함유하고 있어도 된다. 상기 첨가제로서는 예를 들면, pH 조정제, 실리카 분산제, 자외선흡수제, 산화방지제, 이형제, 안정제, 블루잉제 등의 착색제, 난연제, 활제(滑劑) 및 레벨링제를 들 수 있다.The optical film according to the present embodiment may further contain an additive in addition to the above-described components. Examples of the additives include pH adjusters, silica dispersants, ultraviolet absorbers, antioxidants, releasing agents, stabilizers, coloring agents such as bluing agents, flame retardants, lubricants and leveling agents.

수지 성분 및 무기 재료 이외의 성분의 함유량은, 광학 필름의 전체 질량을 기준으로 하여, 바람직하게는 0 질량% 이상 20 질량% 이하이고, 더 바람직하게는 0 질량% 초과 10 질량% 이하이다.The content of the components other than the resin component and the inorganic material is preferably 0 mass% or more and 20 mass% or less, more preferably 0 mass% or more and 10 mass% or less, based on the total mass of the optical film.

(광학 필름의 제조 방법)(Production method of optical film)

다음으로, 본 실시 형태의 광학 필름의 제조 방법의 일례를 설명한다.Next, an example of a manufacturing method of the optical film of the present embodiment will be described.

본 실시 형태에 관련된 광학 필름의 제작에 이용하는 바니시는, 예를 들면, 상기 테트라카르본산 화합물, 상기 디아민 및 상기의 기타의 원료로부터 선택하여 반응시켜서 얻어지는, 폴리이미드계 고분자의 반응액, 용매 및 필요에 따라서 이용되는 상기 첨가제를 혼합, 교반함으로써 조제할 수 있다. 폴리이미드계 고분자 등의 반응액 대신에, 구입한 폴리이미드계 고분자 등의 용액이나, 구입한 고체의 폴리이미드계 고분자 등의 용액을 이용해도 된다.The varnish used in the production of the optical film according to the present embodiment can be obtained, for example, by reacting a reaction solution of a polyimide-based polymer obtained by selecting from the tetracarboxylic acid compound, the diamine and the above- Can be prepared by mixing and stirring the above-mentioned additive to be used in accordance with the present invention. Instead of the reaction liquid such as the polyimide-based polymer, a solution of the purchased polyimide-based polymer or the like or a solution of the purchased solid polyimide-based polymer may be used.

상기 바니시에 포함되는 용매는, 폴리이미드계 고분자를 용해 가능하면 된다. 용매로서는 예를 들면, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드계 용매, γ-부티로락톤, γ-발레로락톤 등의 락톤계 용매, 디메틸술폰, 디메틸술폭시드, 술포란 등의 함유황계 용제, 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등의 카보네이트계 용매를 이용할 수 있다. 이들 용매 중에서도 아미드계 용제 또는 락톤계 용매가 바람직하다. 또, 이들 용매는 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 이용해도 된다.The solvent contained in the varnish may be any solvent capable of dissolving the polyimide-based polymer. Examples of the solvent include amide solvents such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide, lactone solvents such as? -Butyrolactone and? -Valerolactone, dimethylsulfone, , Sulfur-containing solvents such as sulfolane, carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate can be used. Of these solvents, amide solvents or lactone solvents are preferred. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

이어서, 공지의 롤 투 롤이나 배치 방식에 의해, 수지 기재, 스테인리스강 벨트, 또는 유리 기재 상에, 상기의 바니시를 도포하여 도막을 형성하고, 그 도막을 건조하여, 기재로부터 박리함으로써, 폴리이미드계 고분자를 포함하는 필름을 얻는다. 박리 후에 추가로 필름의 건조를 행해도 된다.Subsequently, the above-mentioned varnish is applied onto a resin substrate, a stainless steel belt, or a glass substrate by a known roll-to-roll method or a batch method to form a coated film. The coated film is dried and peeled off from the substrate, To obtain a film containing the polymer. After the peeling, the film may be further dried.

도막의 건조는 온도 50∼350℃에서 용매를 증발시킴으로써 행한다. 건조는, 대기 하, 불활성 분위기 하, 또는 감압 하에서 행해도 된다.The coating film is dried by evaporating the solvent at a temperature of 50 to 350 캜. The drying may be carried out under atmospheric pressure, in an inert atmosphere, or under a reduced pressure.

수지 기재의 예로서는 PET, PEN, 폴리이미드, 폴리아미드이미드 등을 들 수 있다. 그 중에서도 내열성이 우수한 수지가 바람직하다. 특히, PET 기재가 필름과의 밀착성 및 비용의 관점에서 바람직하다.Examples of the resin substrate include PET, PEN, polyimide, and polyamideimide. Above all, a resin having excellent heat resistance is preferable. In particular, the PET substrate is preferable from the viewpoint of adhesion with the film and cost.

계속해서, 필름의 단면에 대하여, 당해 단면에 대하여 XPS에 의해 측정되는 불소 원자의 탄소 원자에 대한 원자비 (FE/CE) 및/또는 불소 원자의 산소 원자에 대한 원자비 (FE/OE)가, 당해 단면으로부터 1 ㎜ 내측을 면도칼로 절단한 자른 면에 대하여 XPS에 의해 측정되는 불소 원자의 탄소 원자에 대한 원자비 (FC/CC) 및/또는 불소 원자의 산소 원자에 대한 원자비 (FE/OE)보다 커지도록 처리를 실시한다.Next, the atomic ratio of the oxygen atoms of the atomic ratio (F E / C E) and / or fluorine atoms with respect to the end face of the film, a carbon atom such as fluorine atom, measured by XPS in respect of the cross-section (F E / O E ) of the fluorine atom to the cut surface cut by a razor within 1 mm from the cross section, the atomic ratio (F C / C C ) to the carbon atom of the fluorine atom measured by XPS and / (F E / O E ).

또, 본 발명은 폴리이미드계 고분자를 포함하는 광학 필름의 단면을 산화하는 방법, 레이저를 조사하는 방법을 포함한다. 이들 방법에 의해서, 변형된 상태로 고온고습 환경 하에 보관하더라도 단부에 크랙이 발생하기 어려운 폴리이미드계 고분자를 포함하는 필름을 얻을 수 있다.The present invention also includes a method of oxidizing a cross section of an optical film comprising a polyimide-based polymer, and a method of irradiating a laser. By these methods, it is possible to obtain a film containing a polyimide-based polymer which is less susceptible to cracking at its ends even when stored under a high-temperature and high-humidity environment in a deformed state.

레이저 조사에 이용할 수 있는 레이저로서는 특별히 한정되지 않고, 임의의 레이저를 이용할 수 있다. 사용 가능한 레이저로서 구체적으로는, CO2 레이저, 엑시머 레이저 등의 기체 레이저; YAG 레이저 등의 고체 레이저; 반도체 레이저 등을 들 수 있다. 레이저 조사에 이용할 수 있는 적합한 레이저는 CO2 레이저이다. 구체적으로는, 폴리이미드계 고분자 필름 원반을 원하는 크기로 CO2 레이저에 의해 절단함으로써, 변형된 상태로 고온고습 환경 하에 보관하더라도 단부에 크랙이 발생하기 어려운 폴리이미드계 고분자를 포함하는 필름을 용이하게 얻을 수 있다. 단면의 산화는 레이저 조사에 의해서 행해도 된다.The laser usable for laser irradiation is not particularly limited, and any laser can be used. Specific examples of usable lasers include gas lasers such as CO 2 lasers and excimer lasers; Solid state lasers such as YAG lasers; Semiconductor lasers, and the like. A suitable laser for laser irradiation is a CO 2 laser. Specifically, by cutting the original polyimide-based polymer film with a CO 2 laser in a desired size, it is possible to easily produce a film containing a polyimide-based polymer in which cracks are unlikely to be generated at the ends even when stored under a high temperature and high humidity environment in a deformed state Can be obtained. The cross-section may be oxidized by laser irradiation.

레이저 조사는, 필름 단면의 원자비 (FE/CE)를 필름 내부의 원자비 (FC/CC)보다 용이하게 또한 충분히 높게 하거나, 및/또는, 필름 단면의 원자비 (FE/OE)를 필름 내부의 원자비 (FC/OC)보다 용이하게 또한 충분히 높게 하는 관점에서, 이하의 조건으로 행하는 것이 바람직하다. 즉, 레이저는 CO2 레이저가 바람직하고, 10 ㎛ 이하의 파장이면 더 바람직하다. 출력은 필름을 절단 가능한 조건이라면, 절단과 동시에 단부의 불소량을 증가할 수 있으므로, 바람직하다. 출력은 10 W 이상이 바람직하고, 12 W 이상이 더 바람직하다. 레이저에 의한 가공 속도는 50 ㎜/sec 이상인 것이 바람직하고, 100 ㎜/sec 이상이면 더 바람직하다. 단부에 복수 회 레이저를 조사해도 된다.Laser irradiation, and an atomic ratio of a section of the film (F E / C E) to facilitate than the atomic ratio of the inner film (F C / C C) also sufficiently high, and / or, and an atomic ratio of a section of the film (F E / O E ) of the film is preferably made higher than the atomic ratio (F C / O C ) inside the film easily and sufficiently. That is, the laser is preferably a CO 2 laser, and more preferably 10 탆 or less. The output is preferable because the amount of fluorine at the end portion can be increased at the same time as the cutting is performed if the film is cutable. The output is preferably 10 W or more, and more preferably 12 W or more. The processing speed by the laser is preferably 50 mm / sec or more, more preferably 100 mm / sec or more. The end portion may be irradiated with a laser a plurality of times.

얻어진 광학 필름은, 예를 들면, 곡면을 갖는 디스플레이나 접을 수 있는 디바이스, 둥글게 할 수 있는 디스플레이 등에 이용하는 경우, 둥글게 된 상태(롤 형상으로 감긴 상태)나 굴곡된 상태 등의 변형된 상태로 보관되는 경우가 있다. 이 때, 광학 필름의 단면은 변형된 상태가 된다. 또, 변형된 상태의 광학 필름은, 보관시에는 고온고습 환경 하에 놓여지는 경우가 있다. 이와 같이 광학 필름을 변형시킨 상태로 고온고습 환경 하에 보관한 경우, 종래의 광학 필름에서는 단부에 크랙이 발생하기 쉽다는 문제가 있었지만, 본 실시 형태의 광학 필름에 의하면, 단면에 있어서 FE/CE가 FC/CC보다 높거나, 및/또는, FE/OE가 FC/OC보다 높은 것에 의해, 단부에 크랙이 발생하는 것을 억제할 수 있다.The resulting optical film is stored in a deformed state such as a rolled state (rolled state) or a bent state when it is used, for example, in a display having a curved surface, a foldable device, or a display capable of being rolled There is a case. At this time, the cross section of the optical film becomes deformed. The optical film in a deformed state may be placed under a high temperature and high humidity environment during storage. If the storage under high temperature and humidity environment, in a state in which deformation of the optical film as described above, in the conventional optical film, but a problem is liable to crack at the ends, according to the optical film of the present embodiment, in the cross-section F E / C When E is higher than F C / C C and / or F E / O E is higher than F C / O C , generation of cracks at the ends can be suppressed.

(용도)(Usage)

이와 같은 광학 필름은, 플렉시블 디바이스의 전면판으로서 적합하게 사용할 수 있다. 본 실시 형태에 관련된 플렉시블 디바이스는, 플렉시블 기능층과, 플렉시블 기능층에 겹쳐져 전면판으로서 기능하는 상기의 광학 필름을 갖는다. 즉, 플렉시블 디바이스의 전면판은, 플렉시블 기능층 위의 시인측에 배치된다. 이 전면판은 플렉시블 기능층을 보호하는 기능을 갖는다.Such an optical film can be suitably used as a front plate of a flexible device. The flexible device according to the present embodiment has a flexible functional layer and the above optical film which overlaps the flexible functional layer and functions as a front plate. That is, the front panel of the flexible device is disposed on the visible side on the flexible functional layer. This front plate has a function of protecting the flexible functional layer.

플렉시블 디바이스의 예로서는 화상 표시 장치(플렉시블 디스플레이, 전자 페이퍼 등), 태양 전지 등을 들 수 있다. 예를 들면, 디스플레이 기능층, 태양 전지 기능층이 플렉시블 기능층이 된다.Examples of the flexible device include an image display device (such as a flexible display and an electronic paper), a solar cell, and the like. For example, the display functional layer and the solar cell functional layer are flexible functional layers.

플렉시블 디스플레이의 일례를 도 2에 나타낸다. 이 플렉시블 디스플레이(100)는 표면측(시인측)으로부터 순서대로 전면판(110)/편광판 보호 필름(120B)/편광자(120A)/편광판 보호 필름(120B)/터치 센서 필름(130)/유기 EL 소자층(140)/TFT 기판(150)이라는 구성을 갖는다. 플렉시블 디스플레이(100)에 있어서의 전면판(110) 이외의 층이 플렉시블 기능층(190)이다. 편광판 보호 필름(120B)/편광자(120A)/편광판 보호 필름(120B)은 편광판(120)을 구성한다. 각 층의 표면 및 각 층 사이에, 하드 코팅층, 점착층, 접착층, 위상차층 등을 포함해도 된다. 전면판(110)으로서 상기의 광학 필름(10)을 사용할 수 있다. 이러한 플렉시블 디스플레이는 태블릿 PC, 스마트폰, 휴대 게임기 등의 화상 표시부로서 이용할 수 있다.An example of the flexible display is shown in Fig. The flexible display 100 includes a front plate 110, a polarizer protective film 120B, a polarizer 120A, a polarizer protective film 120B, a touch sensor film 130, an organic EL The element layer 140 / the TFT substrate 150. [ The flexible functional layer 190 is a layer other than the front plate 110 in the flexible display 100. [ The polarizing plate protective film 120B / polarizer 120A / polarizing plate protective film 120B constitute the polarizing plate 120. A hard coating layer, an adhesive layer, an adhesive layer, a retardation layer, and the like may be included between the surface of each layer and each layer. As the front plate 110, the above optical film 10 can be used. Such a flexible display can be used as an image display unit of a tablet PC, a smart phone, a portable game machine, or the like.

본 실시 형태에 관련된 플렉시블 디바이스에 의하면, 전면판(110)으로서 상기의 광학 필름(10)을 이용하고 있다. 광학 필름(10)은 단면으로부터의 크랙의 발생이 억제되어 있기 때문에, 신뢰성의 향상이 가능하게 된다.According to the flexible device according to the present embodiment, the above optical film 10 is used as the front plate 110. Since the occurrence of cracks from the end face of the optical film 10 is suppressed, reliability can be improved.

또한, 이 광학 필름의 표면에, 자외선흡수층, 하드 코팅층, 점착층, 색상 조정층, 굴절률 조정층 등의 여러 가지 기능층을 부가한 적층체로 할 수도 있다.It is also possible to form a laminate in which various functional layers such as an ultraviolet absorbing layer, a hard coat layer, an adhesive layer, a color adjusting layer, and a refractive index adjusting layer are added to the surface of the optical film.

[실시예][Example]

이하에, 실시예 및 비교예에 기초하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described more specifically based on examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples.

(실시예 1)(Example 1)

폴리이미드계 고분자인 미츠비시 가스 화학사 제 「네오푸림 C6A20」(γ-부티로락톤 용매, 22 질량%), γ-부티로락톤에 고형분 농도 30 질량%의 실리카 입자를 분산한 용액, 아미노기를 갖는 알콕시실란의 디메틸아세트아미드 용액, 및, 물을 혼합하고, 30분간 교반하였다. 여기서, 실리카와 폴리이미드의 질량비를 30:70, 아미노기를 갖는 알콕시실란의 양을 실리카 및 폴리이미드의 합계 100 질량부에 대하여 1.67 질량부, 물을 실리카 및 폴리이미드의 합계 100 질량부에 대하여 10 질량부로 하였다.A solution prepared by dispersing silica particles having a solid content concentration of 30 mass% in? -Butyrolactone, a neopurine C6A20 (? -Butyrolactone solvent, 22 mass%) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Silane in dimethylacetamide, and water were mixed and stirred for 30 minutes. Here, the mass ratio of the silica and the polyimide was 30:70, the amount of the alkoxysilane having the amino group was 1.67 parts by mass based on 100 parts by mass of the total of the silica and the polyimide, and 10 parts by mass of water was added to 100 parts by mass of the total amount of the silica and the polyimide Mass part.

얻어진 혼합 용액을, 유리 기판에 도포하고, 50℃에서 30분, 140℃에서 10분 가열하여 용매를 건조하였다. 그 후, 필름을 유리 기판으로부터 박리하고, 금속 프레임을 장착하여 210℃에서 1시간 가열함으로써 두께 50 ㎛의 투명 폴리이미드계 필름 원반을 얻었다. 필름 원반의 굴절률은 1.57이었다.The obtained mixed solution was applied to a glass substrate and heated at 50 占 폚 for 30 minutes and at 140 占 폚 for 10 minutes to dry the solvent. Thereafter, the film was peeled off from the glass substrate, and a metal frame was mounted thereon and heated at 210 DEG C for 1 hour to obtain a transparent polyimide film original having a thickness of 50 mu m. The refractive index of the original disc was 1.57.

CO2 레이저 조사를 이하의 조건으로 실시함으로써, 필름의 절단과 단부의 개질을 행하였다.CO 2 laser irradiation was performed under the following conditions to cut off the film and modify the end portions.

장치: 키엔스사 제 ML-Z9510TApparatus: ML-Z9510T manufactured by KEYENCE CORPORATION

파장: 9.3 ㎛Wavelength: 9.3 탆

출력: 80%Output: 80%

가공 속도: 150 ㎜/초Processing speed: 150 mm / sec

가공 사이즈: 5 ㎝ × 5 ㎝Processing Size: 5 cm × 5 cm

(비교예 1)(Comparative Example 1)

실시예 1과 동일한 방법으로 폴리이미드계 고분자 필름 원반을 얻었다. 얻어진 필름 원반으로부터 셰어 날로 직사각형(5 ㎝ × 5 ㎝)의 영역을 잘라내어 광학 필름을 얻었다.An original disc of a polyimide-based polymer film was obtained in the same manner as in Example 1. An area of a rectangle (5 cm x 5 cm) was cut out from the obtained master disc by a shear blade to obtain an optical film.

< XPS 측정 ><XPS measurement>

실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 필름의 단부에 대하여, 이하의 단계 1 및 2에 의해 X선 광전자 분광법(XPS) 측정을 행하였다. XPS 측정 조건은 이하와 같다.X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) measurements were performed on the ends of the optical films obtained in the examples and comparative examples by the following steps 1 and 2. XPS measurement conditions are as follows.

장치: Quantera SXM(ULVAC PHI사 제)Apparatus: Quantera SXM (manufactured by ULVAC PHI)

X선: AlKα선(1486.6 eV)X-ray: AlK ray (1486.6 eV)

X선 스폿 직경: 50 ㎛X-ray spot diameter: 50 탆

중화 조건: 중화 전자(1 eV), 저속 Ar 이온(10 eV)Neutralization condition: neutralization electron (1 eV), low-rate Ar ion (10 eV)

(단계 1)(Step 1)

광학 필름을 금속 블록에 첩부하여, 필름 단면이 위를 향한 상태로 고정하고, 상방(수직 방향)으로부터 필름 단면에 X선을 조사하고, 45° 방향으로부터 광전자를 검출하여 필름 단면을 평가하였다. 얻어진 XPS 스펙트럼의 C1s 및 F1s 피크의 면적으로부터 F/C를 산출하였다. 필름의 한 변의 단면에 대하여 등간격으로 떨어져 있는 3점을 측정하여 F/C를 산출하고, 그들의 평균값을 당해 단면의 F/C로 하였다. 또, 동일하게 하여 F/O를 구하였다.The optical film was attached to the metal block, and the film was fixed in a state that the end face thereof faced upward. X-ray was irradiated from the upper side (vertical direction) to the end face of the film and photoelectrons were detected from the direction of 45 degrees. F / C was calculated from the area of C1s and F1s peaks of the obtained XPS spectrum. Three points spaced apart at regular intervals were measured on the cross section of one side of the film to calculate F / C, and the average value of the F / C was determined as the F / C of the cross section. In the same manner, F / O was obtained.

(단계 2)(Step 2)

다음으로, 필름 단면으로부터 내측으로 1 ㎜ 떨어져 있는 개소를, 면도날(PERSONNA사 제, Single Edge, 스테인리스스틸, 3-Facet. 009"/.23 ㎜)로 눌러 잘라 절단하였다. 면도칼에 의한 절단면에 대하여, 단계 1과 동일한 조건으로 XPS 측정하고, 필름 자른 면(필름 내부)의 F/C로 하였다. 또, 동일하게 하여 F/O를 구하였다.Next, a portion spaced 1 mm inward from the end face of the film was cut and cut with a razor blade (PERSONNA, Single Edge, stainless steel, 3-Facet. 009 "/. 23 mm). , XPS measurement was carried out under the same conditions as in step 1, and F / C was determined on the cut surface (film inside) of the film.

상기 XPS 측정은, 먼저, 실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 필름의 대향하는 두 변의 단부(각각 제 1 단부 및 제 2 단부라고 함)에 대하여 행하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. 또한, 실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 필름에 대해서는, 4변 모두 제 1 단부 및 제 2 단부와 동등한 XPS 측정 결과였다.The XPS measurement was performed on the opposite ends of the optical film obtained in Examples and Comparative Examples (referred to as the first end and the second end, respectively). The results are shown in Table 1. The optical films obtained in Examples and Comparative Examples were XPS measurement results equivalent to those of the first and second ends in all four sides.

< 내(耐)크랙성의 평가 >&Lt; Evaluation of resistance against cracking >

실시예 및 비교예에서 얻어진 5 ㎝ × 5 ㎝의 광학 필름을, 5 ㎜ 직경의 SUS 막대에 감고, 85℃, 85% RH 환경 하에서 15시간 보관하였다. 감는 것은, 제 1 단부, 제 2 단부의 두 변이 SUS 막대에 수직으로 옮겨 감는 방향으로 행하였다. 보관 후의 광학 필름의 제 1 단부 및 제 2 단부를 관찰하고, 발생한 크랙을 광학현미경으로 확인하였다. 제 1 단부 및 제 2 단부의 폭 5 ㎝당의, 100 ㎛를 초과하는 길이의 크랙 수를 세고, 양단부의 크랙 수의 평균값을 구하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.The optical film of 5 cm x 5 cm obtained in Examples and Comparative Examples was wound on a SUS bar having a diameter of 5 mm and stored for 15 hours under the conditions of 85 ° C and 85% RH. The winding was performed in such a direction that the two ends of the first end and the second end were moved vertically to the SUS rod. The first end and the second end of the optical film after storage were observed, and the generated crack was confirmed by an optical microscope. The number of cracks having a length of more than 100 mu m per 5 cm width of the first end portion and the second end portion was counted to obtain an average value of the number of cracks at both ends. The results are shown in Table 1.

Figure pct00007
Figure pct00007

표 1에 나타낸 결과로부터, 실시예 1의 필름 단면은 산소 원자가 증가하고 있어 산화되고 있다는 것을 알 수 있다. 또, 표 1에 나타낸 결과로부터 명백한 바와 같이, 필름 내부보다 단면 쪽이 F/C의 값이 큰 실시예 1의 광학 필름에 의하면, 변형시킨 상태로 고온고습 환경 하에 보관하더라도 단부에 크랙이 발생하기 어렵다는 것이 확인되었다. 또, 필름 내부보다 단면 쪽이 F/O의 값이 큰 실시예 1의 광학 필름에 의하면, 변형시킨 상태로 고온고습 환경 하에 보관하더라도 단부에 크랙이 발생하기 어렵다는 것이 확인되었다.From the results shown in Table 1, it can be seen that the cross-section of the film of Example 1 is oxidized due to an increase in oxygen atoms. As is clear from the results shown in Table 1, according to the optical film of Example 1 having a larger F / C value at the end face than at the inside of the film, cracks were generated at the end portions even if they were stored under a high temperature and high humidity environment in a deformed state It was confirmed that it was difficult. Further, according to the optical film of Example 1 in which the value of F / O is larger in the section than in the inside of the film, it was confirmed that cracks are unlikely to occur at the ends even when stored under a high temperature and high humidity environment in a deformed state.

10: 광학 필름, 100: 플렉시블 디스플레이10: Optical film, 100: Flexible display

Claims (11)

분자 내에 불소 원자를 포함하는 폴리이미드계 고분자를 함유하는 광학 필름으로서,
상기 광학 필름의 단면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 탄소 원자에 대한 원자비 (F/C)가, 상기 광학 필름의 상기 단면으로부터 1 ㎜ 내측을 절단한 자른 면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 탄소 원자에 대한 원자비 (F/C)보다 큰, 광학 필름.
An optical film containing a polyimide-based polymer containing a fluorine atom in a molecule,
Wherein an atomic ratio (F / C) of carbon atoms of fluorine atoms measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the cross section of the optical film is 1 / (F / C) relative to the carbon atom of the fluorine atom measured by photoelectron spectroscopy.
제 1 항에 있어서,
상기 광학 필름의 단면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 탄소 원자에 대한 원자비 (FE/CE)와, 상기 광학 필름의 상기 단면으로부터 1 ㎜ 내측을 절단한 자른 면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 탄소 원자에 대한 원자비 (FC/CC)의 비 (FE/CE)/(FC/CC)가 1.1∼10인, 광학 필름.
The method according to claim 1,
(F E / C E ) with respect to carbon atoms of fluorine atoms measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the cross section of the above optical film and a ratio of an atomic ratio (F E / C E ) Wherein the ratio (F E / C E ) / (F C / C C ) of the atomic ratio (F C / C C ) to the carbon atom of the fluorine atom measured by X-ray photoelectron spectroscopy is 1.1 to 10.
분자 내에 불소 원자를 포함하는 폴리이미드계 고분자를 함유하는 광학 필름으로서,
상기 광학 필름의 단면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 산소 원자에 대한 원자비 (F/O)가, 상기 광학 필름의 상기 단면으로부터 1 ㎜ 내측을 절단한 자른 면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 산소 원자에 대한 원자비 (F/O)보다 큰, 광학 필름.
An optical film containing a polyimide-based polymer containing a fluorine atom in a molecule,
Wherein an atomic ratio (F / O) of oxygen atoms of fluorine atoms measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the cross section of the optical film is larger than an atomic ratio (F / (F / O) of oxygen atoms of fluorine atoms measured by photoelectron spectroscopy.
제 3 항에 있어서,
상기 광학 필름의 단면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 산소 원자에 대한 원자비 (FE/OE)와, 상기 광학 필름의 상기 단면으로부터 1 ㎜ 내측을 절단한 자른 면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 산소 원자에 대한 원자비 (FC/OC)의 비 (FE/OE)/(FC/OC)가 1.1∼10인, 광학 필름.
The method of claim 3,
(F E / O E ) with respect to oxygen atoms of fluorine atoms measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the cross section of the optical film and a ratio of an atomic ratio (F E / O E ) Wherein the ratio (F E / O E ) / (F C / O C ) of the atomic ratio (F C / O C ) of the fluorine atom to the oxygen atom measured by X-ray photoelectron spectroscopy is 1.1 to 10.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
실리카 입자를 추가로 함유하는, 광학 필름.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
An optical film further comprising silica particles.
분자 내에 불소 원자를 포함하는 폴리이미드계 고분자를 함유하는 광학 필름의 제조 방법으로서,
단면을 산화함으로써, 상기 광학 필름의 상기 단면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 탄소 원자에 대한 원자비 (F/C)를, 상기 광학 필름의 상기 단면으로부터 1 ㎜ 내측을 절단한 자른 면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 탄소 원자에 대한 원자비 (F/C)보다 크게 하는 공정을 갖는, 광학 필름의 제조 방법.
A method for producing an optical film containing a polyimide-based polymer containing a fluorine atom in a molecule,
(F / C) with respect to carbon atoms of fluorine atoms measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the cross section of the optical film by oxidizing a cross section of the optical film by 1 mm inside from the end face of the optical film (F / C) relative to carbon atoms of fluorine atoms measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the cut face of the optical film.
분자 내에 불소 원자를 포함하는 폴리이미드계 고분자를 함유하는 광학 필름의 제조 방법으로서,
상기 광학 필름의 단면을, 레이저 조사에 의해 필름 원반을 절단하는 것에 의해 형성함으로써, 상기 광학 필름의 상기 단면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 탄소 원자에 대한 원자비 (F/C)를, 상기 광학 필름의 상기 단면으로부터 1 ㎜ 내측을 절단한 자른 면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 탄소 원자에 대한 원자비 (F/C)보다 크게 하는 공정을 갖는, 광학 필름의 제조 방법.
A method for producing an optical film containing a polyimide-based polymer containing a fluorine atom in a molecule,
The cross section of the optical film is formed by cutting the original film by laser irradiation so that the atomic ratio (F / C) of the fluorine atom to the carbon atom of the fluorine atom measured by the X-ray photoelectron spectroscopy on the cross section of the optical film (F / C) with respect to carbon atoms of fluorine atoms measured by X-ray photoelectron spectroscopy on a cut face cut inside 1 mm from the end face of the optical film, &Lt; / RTI &gt;
분자 내에 불소 원자를 포함하는 폴리이미드계 고분자를 함유하는 광학 필름의 제조 방법으로서,
단면을 산화함으로써, 상기 광학 필름의 상기 단면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 산소 원자에 대한 원자비 (F/O)를, 상기 광학 필름의 상기 단면으로부터 1 ㎜ 내측을 절단한 자른 면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 산소 원자에 대한 원자비 (F/O)보다 크게 하는 공정을 갖는, 광학 필름의 제조 방법.
A method for producing an optical film containing a polyimide-based polymer containing a fluorine atom in a molecule,
(F / O) of oxygen atoms of fluorine atoms measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the cross section of the optical film by oxidizing the cross section by 1 mm inside the cross section of the optical film (F / O) with respect to oxygen atoms of fluorine atoms measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the cut face of the optical film.
분자 내에 불소 원자를 포함하는 폴리이미드계 고분자를 함유하는 광학 필름의 제조 방법으로서,
상기 광학 필름의 단면을, 레이저 조사에 의해 필름 원반을 절단하는 것에 의해 형성함으로써, 상기 광학 필름의 상기 단면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 산소 원자에 대한 원자비 (F/O)를, 상기 광학 필름의 상기 단면으로부터 1 ㎜ 내측을 절단한 자른 면에 있어서 X선 광전자 분광법에 의해 측정되는 불소 원자의 산소 원자에 대한 원자비 (F/O)보다 크게 하는 공정을 갖는, 광학 필름의 제조 방법.
A method for producing an optical film containing a polyimide-based polymer containing a fluorine atom in a molecule,
The cross section of the optical film is formed by cutting the original film by laser irradiation so that the atomic ratio (F / O) of the fluorine atom to the oxygen atom measured by the X-ray photoelectron spectroscopy on the cross section of the optical film (F / O) with respect to oxygen atoms of fluorine atoms measured by X-ray photoelectron spectroscopy on a cut surface cut by 1 mm inward from the end face of the optical film, &Lt; / RTI &gt;
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름을 구비하는 플렉시블 디바이스용 전면판.A front panel for a flexible device comprising the optical film according to any one of claims 1 to 5. 플렉시블 기능층과, 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름을 갖는 플렉시블 디바이스.A flexible device having the flexible functional layer and the optical film according to any one of claims 1 to 5.
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