JP6568290B1 - Optical film - Google Patents

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Abstract

【課題】耐衝撃性に優れた光学フィルムを提供する。【解決手段】ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂と、一次粒子径が25nm以下であるフィラーとを含む、光学フィルム。【選択図】なしAn optical film having excellent impact resistance is provided. An optical film comprising at least one resin selected from the group consisting of a polyimide resin and a polyamide resin, and a filler having a primary particle diameter of 25 nm or less. [Selection figure] None

Description

本発明は、画像表示装置の前面板等として用いられる光学フィルム、及び該光学フィルムを備えるフレキシブル画像表示装置に関する。   The present invention relates to an optical film used as a front plate or the like of an image display device, and a flexible image display device including the optical film.

液晶表示装置や有機EL表示装置等の画像表示装置は、携帯電話やスマートウォッチといった種々の用途に広く活用されている。このような画像表示装置の前面板としてガラスが用いられてきたが、ガラスは非常に剛直であり、割れやすいため、例えばフレキシブルディスプレイ等の前面板材料としての利用は難しい。ガラスに代わる材料の一つとして、ポリイミド系樹脂やポリアミド系樹脂があり、これらの樹脂を用いた光学フィルムが検討されている(例えば特許文献1)。   Image display devices such as liquid crystal display devices and organic EL display devices are widely used in various applications such as mobile phones and smart watches. Glass has been used as the front plate of such an image display device. However, since glass is very rigid and easily broken, it is difficult to use it as a front plate material for a flexible display, for example. As one of materials that can replace glass, there are polyimide resins and polyamide resins, and optical films using these resins have been studied (for example, Patent Document 1).

特表2015−521687号公報JP-T-2015-521687

一方、このような画像表示装置の前面板は、使用者が直接触ったり、周囲の物体が直接接触したりすることで、表面に凹み等のキズや破損が生じる場合があるため、前面板に利用される光学フィルムには耐衝撃性が求められる。しかし、本発明者の検討によれば、ポリイミド系樹脂やポリアミド系樹脂を含んでなる光学フィルムは耐衝撃性が十分でない場合があることがわかった。   On the other hand, the front plate of such an image display device may cause scratches such as dents or damage on the front plate due to direct contact by the user or direct contact with surrounding objects. The optical film used is required to have impact resistance. However, according to the study of the present inventor, it has been found that an optical film containing a polyimide resin or a polyamide resin may not have sufficient impact resistance.

従って、本発明の目的は、耐衝撃性に優れた光学フィルム、及び該光学フィルムを備えるフレキシブル画像表示装置を提供することにある。   Therefore, the objective of this invention is providing the flexible image display apparatus provided with the optical film excellent in impact resistance, and this optical film.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、光学フィルムに、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂と、一次粒子径が25nm以下であるフィラー又はSEM画像の解析から得られた円相当半径の平均値が12nm以下であるフィラーとを含むと、上記目的が達成されることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明には、以下の態様が含まれる。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has at least one resin selected from the group consisting of a polyimide resin and a polyamide resin, and a primary particle diameter of 25 nm or less. It has been found that the above object can be achieved when the filler or the filler having an average circle equivalent radius of 12 nm or less obtained from the analysis of the SEM image is achieved, and the present invention has been completed. That is, the present invention includes the following aspects.

[1]ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂と、一次粒子径が25nm以下であるフィラーとを含む、光学フィルム。
[2]前記フィラーの一次粒子径は1nm以上である、[1]に記載の光学フィルム。
[3]ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂と、SEM画像の解析から得られた円相当半径の平均値が12nm以下であるフィラーとを含む、光学フィルム。
[4]前記フィラーの円相当半径は1nm以上である、[3]に記載の光学フィルム。
[5]前記樹脂は、式(13)

Figure 0006568290
[式(13)中、G及びAは、それぞれ独立に、2価の有機基である]
で表される繰り返し構造単位を含む、[1]〜[4]のいずれかに記載の光学フィルム。
[6]前記樹脂は、式(10)
Figure 0006568290
[式(10)中、Gは4価の有機基であり、Aは2価の有機基である]
で表される繰り返し構造単位をさらに含む、[5]に記載の光学フィルム。
[7]ヘイズは1%以下である、[1]〜[6]のいずれかに記載の光学フィルム。
[8]黄色度は5以下である、[1]〜[7]のいずれかに記載の光学フィルム。
[9]フィラーはシリカ粒子である、[1]〜[8]のいずれかに記載の光学フィルム。
[10]フィラーの含有量は、光学フィルムの質量に対して60質量%以下である、[1]〜[9]のいずれかに記載の光学フィルム。
[11]膜厚は25〜100μmである、[1]〜[10]のいずれかに記載の光学フィルム。
[12][1]〜[11]のいずれかに記載の光学フィルムを備える、フレキシブル画像表示装置。
[13]さらに偏光板を含有する、[12]に記載のフレキシブル画像表示装置。
[14]さらにタッチセンサを含有する、[12]又は[13]に記載のフレキシブル画像表示装置。 [1] An optical film comprising at least one resin selected from the group consisting of a polyimide resin and a polyamide resin, and a filler having a primary particle diameter of 25 nm or less.
[2] The optical film according to [1], wherein a primary particle size of the filler is 1 nm or more.
[3] An optical film comprising at least one resin selected from the group consisting of a polyimide resin and a polyamide resin, and a filler having an average equivalent circle radius obtained from an analysis of an SEM image of 12 nm or less. .
[4] The optical film according to [3], wherein the equivalent circle radius of the filler is 1 nm or more.
[5] The resin has the formula (13)
Figure 0006568290
[In Formula (13), G 3 and A 3 are each independently a divalent organic group]
The optical film in any one of [1]-[4] containing the repeating structural unit represented by these.
[6] The resin has the formula (10)
Figure 0006568290
[In Formula (10), G is a tetravalent organic group, and A is a divalent organic group]
The optical film according to [5], further comprising a repeating structural unit represented by:
[7] The optical film according to any one of [1] to [6], wherein the haze is 1% or less.
[8] The optical film according to any one of [1] to [7], wherein the yellowness is 5 or less.
[9] The optical film according to any one of [1] to [8], wherein the filler is silica particles.
[10] The optical film according to any one of [1] to [9], wherein the filler content is 60% by mass or less based on the mass of the optical film.
[11] The optical film according to any one of [1] to [10], wherein the film thickness is 25 to 100 μm.
[12] A flexible image display device comprising the optical film according to any one of [1] to [11].
[13] The flexible image display device according to [12], further including a polarizing plate.
[14] The flexible image display device according to [12] or [13], further including a touch sensor.

本発明の光学フィルムは、耐衝撃性に優れるため、画像表示装置の前面板材料として使用できる。   Since the optical film of the present invention is excellent in impact resistance, it can be used as a front plate material for an image display device.

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。なお、本発明の範囲はここで説明する実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変更をすることができる。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. The scope of the present invention is not limited to the embodiment described here, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

本発明の光学フィルムは、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂と、一次粒子径が25nm以下であるフィラーとを含む。   The optical film of the present invention includes at least one resin selected from the group consisting of a polyimide resin and a polyamide resin, and a filler having a primary particle diameter of 25 nm or less.

<樹脂>
本発明の光学フィルムは、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂を含む。ポリイミド系樹脂とは、イミド基を含む繰返し構造単位を含有する重合体、並びにイミド基及びアミド基の両方を含む繰返し構造単位を含有する重合体(ポリアミドイミドと称する場合がある)からなる群から選択される少なくとも1種の重合体を示す。また、ポリアミド系樹脂とは、アミド基を含む繰り返し構造単位を含有する重合体を示す。なお、本明細書において、繰り返し構造単位を構成単位ということがある。
<Resin>
The optical film of the present invention contains at least one resin selected from the group consisting of polyimide resins and polyamide resins. The polyimide resin is a polymer comprising a repeating structural unit containing an imide group, and a polymer containing a repeating structural unit containing both an imide group and an amide group (sometimes referred to as polyamideimide). 1 shows at least one polymer selected. The polyamide-based resin refers to a polymer containing a repeating structural unit containing an amide group. In the present specification, the repeating structural unit may be referred to as a structural unit.

ポリイミド系樹脂は、式(10)で表される繰り返し構造単位を有することが好ましい。ここで、Gは4価の有機基であり、Aは2価の有機基である。ポリイミド系樹脂は、G及び/又はAが異なる、2種類以上の式(10)で表される繰り返し構造単位を含んでいてもよい。

Figure 0006568290
The polyimide resin preferably has a repeating structural unit represented by the formula (10). Here, G is a tetravalent organic group, and A is a divalent organic group. The polyimide resin may contain a repeating structural unit represented by two or more types of formula (10) in which G and / or A are different.
Figure 0006568290

ポリイミド系樹脂は、光学フィルムの各種物性を損なわない範囲で、式(11)、式(12)及び式(13)で表される繰り返し構造単位からなる群から選択される1以上を含んでいてもよい。   The polyimide resin contains one or more selected from the group consisting of repeating structural units represented by formula (11), formula (12), and formula (13) as long as various physical properties of the optical film are not impaired. Also good.

Figure 0006568290
Figure 0006568290

式(10)及び式(11)中、G及びGは、それぞれ独立に、4価の有機基であり、好ましくは炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。G及びGとしては、式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)又は式(29)で表される基並びに4価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。光学フィルムの黄色度(YI値)を抑制しやすいことから、なかでも、式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)又は式(27)で表される基が好ましい。 In formula (10) and formula (11), G and G 1 are each independently a tetravalent organic group, preferably an organic group that may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. It is a group. The G and G 1, equation (20), equation (21), equation (22), equation (23), equation (24), equation (25), equation (26), equation (27), formula (28 ) Or a group represented by formula (29) and a tetravalent hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms. Since it is easy to suppress the yellowness (YI value) of the optical film, among them, the formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula The group represented by (26) or formula (27) is preferred.

Figure 0006568290
Figure 0006568290

式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29)中、
*は結合手を表し、
Zは、単結合、−O−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−Ar−、−SO−、−CO−、−O−Ar−O−、−Ar−O−Ar−、−Ar−CH−Ar−、−Ar−C(CH−Ar−又は−Ar−SO−Ar−を表す。Arはフッ素原子で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリーレン基を表し、具体例としてはフェニレン基が挙げられる。
In formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) and formula (29) ,
* Represents a bond,
Z is a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C (CH 3) 2 -, - C (CF 3) 2 -, - Ar -, - SO 2 -, - CO -, - O-Ar-O -, - Ar-O-Ar -, - Ar-CH 2 -Ar -, - Ar-C (CH 3) 2 -Ar- , or It represents a -Ar-SO 2 -Ar-. Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom, and specific examples thereof include a phenylene group.

式(12)中、Gは3価の有機基であり、好ましくは炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Gとしては、式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)又は式(29)で表される基の結合手のいずれか1つが水素原子に置き換わった基並びに3価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。 In formula (12), G 2 is a trivalent organic group, preferably an organic group which may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. The G 2, equation (20), equation (21), equation (22), equation (23), equation (24), equation (25), equation (26), equation (27), equation (28) or Examples thereof include a group in which any one of the bonds of the group represented by formula (29) is replaced with a hydrogen atom, and a trivalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms.

式(13)中、Gは2価の有機基であり、好ましくは炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Gとしては、式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)又は式(29)で表される基の結合手のうち、隣接しない2つが水素原子に置き換わった基及び炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。 In Formula (13), G 3 is a divalent organic group, preferably an organic group that may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. The G 3, equation (20), equation (21), equation (22), equation (23), equation (24), equation (25), equation (26), equation (27), equation (28) or Examples of the bond of the group represented by formula (29) include a group in which two that are not adjacent to each other are replaced with hydrogen atoms, and a chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms.

式(10)〜式(13)中、A、A、A及びAは、それぞれ独立に、2価の有機基であり、好ましくは炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。A、A、A及びAとしては、式(30)、式(31)、式(32)、式(33)、式(34)、式(35)、式(36)、式(37)もしくは式(38)で表される基;それらがメチル基、フルオロ基、クロロ基もしくはトリフルオロメチル基で置換された基;並びに炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。 In formula (10) to formula (13), A, A 1 , A 2 and A 3 are each independently a divalent organic group, preferably substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. An organic group that may be used. As A, A 1 , A 2 and A 3 , Formula (30), Formula (31), Formula (32), Formula (33), Formula (34), Formula (35), Formula (36), Formula ( 37) or a group represented by formula (38); a group in which they are substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; and a chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms.

Figure 0006568290
Figure 0006568290

式(30)、式(31)、式(32)、式(33)、式(34)、式(35)、式(36)、式(37)及び式(38)中、
*は結合手を表し、
、Z及びZは、それぞれ独立に、単結合、−O−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−SO−又は−CO−を表す。
1つの例は、Z及びZが−O−であり、かつ、Zが−CH−、−C(CH−、−C(CF−又は−SO−である。ZとZとの各環に対する結合位置、及び、ZとZとの各環に対する結合位置は、それぞれ、各環に対して好ましくはメタ位又はパラ位、より好ましくはパラ位である。
In Formula (30), Formula (31), Formula (32), Formula (33), Formula (34), Formula (35), Formula (36), Formula (37), and Formula (38),
* Represents a bond,
Z 1, Z 2 and Z 3 are independently a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C (CH 3) 2 - , -C (CF 3) 2 - , - representing the or -CO- - SO 2.
One example is when Z 1 and Z 3 are —O— and Z 2 is —CH 2 —, —C (CH 3 ) 2 —, —C (CF 3 ) 2 — or —SO 2 —. is there. The bonding position of each of Z 1 and Z 2 with respect to each ring and the bonding position of each of Z 2 and Z 3 with respect to each ring is preferably a meta position or a para position, and more preferably a para position with respect to each ring. is there.

本発明の一実施態様において、ポリイミド系樹脂は、耐衝撃性を向上しやすい観点から、式(10)で表される繰り返し構造単位と式(13)で表される繰り返し構造単位を少なくとも有するポリアミドイミドであることが好ましい。また、ポリアミド系樹脂は、式(13)で表される繰り返し構造単位を少なくとも有することが好ましい。   In one embodiment of the present invention, the polyimide-based resin is a polyamide having at least a repeating structural unit represented by the formula (10) and a repeating structural unit represented by the formula (13) from the viewpoint of easily improving impact resistance. An imide is preferred. Moreover, it is preferable that a polyamide-type resin has at least the repeating structural unit represented by Formula (13).

本発明の一実施態様において、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂は、耐衝撃性の観点から、式(13)で表される繰り返し構造単位を含むことが好ましく、式(13)で表される繰り返し構造単位と式(10)で表される繰り返し構造単位とを含むことがさらに好ましい。   In one embodiment of the present invention, at least one resin selected from the group consisting of a polyimide resin and a polyamide resin includes a repeating structural unit represented by formula (13) from the viewpoint of impact resistance. It is more preferable that it contains a repeating structural unit represented by the formula (13) and a repeating structural unit represented by the formula (10).

本発明の一実施態様において、樹脂は、複数種のGを含み得、複数種のGは、互いに同一であっても異なっていてもよい。特に、得られる光学フィルムの表面硬度、耐衝撃性及び耐屈曲性向上の観点から、Gの少なくとも一部が、式(3)

Figure 0006568290
[式(3)中、R〜Rは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基を表し、R〜Rに含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
Bは、単結合、−O−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−SO−、−S−、−CO−又は−N(R)−を表し、Rは水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の炭化水素基を表し、
nは0〜4の整数であり、
*は結合手を表す]
で表される構成単位であることが好ましい。 In one embodiment of the present invention, the resin may contain multiple types of G 3 , and the multiple types of G 3 may be the same or different from each other. In particular, from the viewpoint of improving the surface hardness, impact resistance, and flex resistance of the obtained optical film, at least a part of G 3 is represented by formula (3).
Figure 0006568290
[In Formula (3), R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and hydrogen contained in R 1 to R 8. Each atom may be independently substituted with a halogen atom,
B represents a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C (CH 3) 2 -, - C (CF 3) 2 -, - SO 2 —, —S—, —CO— or —N (R 9 ) — is represented, and R 9 represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom,
n is an integer from 0 to 4,
* Represents a bond]
It is preferable that it is a structural unit represented by these.

式(3)において、Bは、それぞれ独立に、単結合、−O−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−SO−、−S−、−CO−又は−N(R)−を表し、光学フィルムの耐衝撃性及び耐屈曲性向上の観点から、好ましくは−O−又は−S−を表し、より好ましくは−O−を表す。R、R、R、R、R、R、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基を表す。炭素数1〜6のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、2−メチル−ブチル基、3−メチルブチル基、2−エチル−プロピル基、n−ヘキシル基等が挙げられる。また、炭素数6〜12のアリール基としては、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。光学フィルムの表面硬度、耐衝撃性、及び柔軟性の観点から、R〜Rは、それぞれ独立に、好ましくは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、さらに好ましくは水素原子を表す。ここで、R〜Rに含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。
は水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の炭化水素基を表す。Rは水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の1価の炭化水素基を表す。炭素数1〜12の1価の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、2−メチル−ブチル基、3−メチルブチル基、2−エチル−プロピル基、n−ヘキシル、n−ヘプチル基、n−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基等が挙げられ、これらはハロゲン原子で置換されていてもよい。前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
In the formula (3), B is independently a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C (CH 3) 2 -, —C (CF 3 ) 2 —, —SO 2 —, —S—, —CO— or —N (R 9 ) —, and preferably from the viewpoint of improving the impact resistance and flex resistance of the optical film, O- or -S- is represented, more preferably -O-. R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Represent. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, 2-methyl- Examples thereof include a butyl group, a 3-methylbutyl group, a 2-ethyl-propyl group, and an n-hexyl group. Moreover, as a C6-C12 aryl group, a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a naphthyl group, a biphenyl group etc. are mentioned, for example. From the viewpoint of the surface hardness, impact resistance, and flexibility of the optical film, R 1 to R 8 each independently preferably represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom or A C1-C3 alkyl group is represented, More preferably, a hydrogen atom is represented. Here, the hydrogen atoms contained in R 1 to R 8 may be each independently substituted with a halogen atom.
R 9 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom. R 9 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, 2-methyl-butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl, n-heptyl group, n-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, etc. These may be substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

式(3)において、nは、0〜4の範囲の整数であり、nがこの範囲内であると、光学フィルムの耐衝撃性、耐屈曲性及び弾性率が良好である。また、式(3)において、nは、好ましくは0〜3の範囲の整数、より好ましくは0〜2の範囲の整数、さらに好ましくは0又は1であり、nがこの範囲内であると、光学フィルムの耐衝撃性、耐屈曲性及び弾性率が良好であると同時に、原料の入手性が比較的良好である。また、Gは、式(3)で表される構成単位を1種又は2種類以上含んでいてもよく、光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性の向上、並びに黄色度(YI値)低減の観点から、特にnの値が異なる2種類以上の構成単位、好ましくはnの値の異なる2種類の構成単位を含んでいてもよい。その場合、光学フィルムが高い弾性率、耐衝撃性、耐屈曲性、及び低い黄色度(YI値)を発現しやすい観点から、nが0と1の構成単位を両方含むことが好ましい。 In Formula (3), n is an integer in the range of 0 to 4, and when n is within this range, the impact resistance, flex resistance and elastic modulus of the optical film are good. In Formula (3), n is preferably an integer in the range of 0 to 3, more preferably an integer in the range of 0 to 2, further preferably 0 or 1, and n is within this range. The impact resistance, flex resistance and elastic modulus of the optical film are good, and at the same time, the availability of raw materials is relatively good. G 3 may contain one or more structural units represented by the formula (3), and improves the impact resistance, elastic modulus and flex resistance of the optical film, and the yellowness (YI From the viewpoint of (value) reduction, two or more types of structural units having different values of n, particularly, two types of structural units having different values of n may be included. In that case, it is preferable that n contains both the structural unit whose n is 0 and 1 from a viewpoint which an optical film tends to express a high elasticity modulus, impact resistance, bending resistance, and low yellowness (YI value).

本発明の好適な実施態様においては、式(3)は、n=0、R〜Rが水素原子である構成単位又は式(3’):

Figure 0006568290
で表される構成単位であり、これらは併用することもできる。この場合、光学フィルムは、高い表面硬度及び耐衝撃性を発揮すると同時に、高い耐屈曲性を有することができ、黄色度を低くすることができる。 In a preferred embodiment of the present invention, the formula (3) is a structural unit in which n = 0, R 1 to R 8 are hydrogen atoms, or the formula (3 ′):
Figure 0006568290
These units can be used in combination. In this case, the optical film can exhibit high surface hardness and impact resistance, and at the same time can have high bending resistance, and can reduce yellowness.

本発明の好適な実施態様において、ポリイミド系樹脂の式(10)で表される構成単位及び式(13)で表される構成単位の合計に対して、nが0〜4である場合の式(3)で表される構成単位は、好ましくは20モル%以上、より好ましくは30モル%以上、さらに好ましくは40モル%以上、特に好ましくは50モル%以上、最も好ましくは60モル%以上であり、好ましくは90モル%以下、より好ましくは85モル%以下、さらに好ましくは80モル%以下である。ポリイミド系樹脂中の式(10)で表される構成単位及び式(13)で表される構成単位の合計に対して、nが0〜4である場合の式(3)で表される構成単位が上記の下限以上であると、光学フィルムは高い表面硬度及び耐衝撃性を発現できるとともに、耐屈曲性や弾性率に優れることができる。ポリイミド系樹脂中の式(10)で表される構成単位及び式(13)で表される構成単位の合計に対して、nが0〜4である場合の式(3)で表される構成単位が上記の上限以下であると、式(3)由来のアミド結合間水素結合による増粘を抑制することで、ポリイミド系樹脂ワニスの粘度を抑制することができ、光学フィルムの加工を容易にすることができる。   In a preferred embodiment of the present invention, the formula in the case where n is 0 to 4 with respect to the total of the structural unit represented by the formula (10) and the structural unit represented by the formula (13) of the polyimide resin. The structural unit represented by (3) is preferably at least 20 mol%, more preferably at least 30 mol%, even more preferably at least 40 mol%, particularly preferably at least 50 mol%, most preferably at least 60 mol%. Yes, preferably 90 mol% or less, more preferably 85 mol% or less, still more preferably 80 mol% or less. The structure represented by Formula (3) when n is 0 to 4 with respect to the total of the structural unit represented by Formula (10) and the structural unit represented by Formula (13) in the polyimide resin. When the unit is at least the above lower limit, the optical film can exhibit high surface hardness and impact resistance, and can be excellent in flex resistance and elastic modulus. The structure represented by Formula (3) when n is 0 to 4 with respect to the total of the structural unit represented by Formula (10) and the structural unit represented by Formula (13) in the polyimide resin. When the unit is not more than the above upper limit, the viscosity of the polyimide resin varnish can be suppressed by suppressing the thickening due to the hydrogen bond between the amide bonds derived from the formula (3), and the processing of the optical film is easy. can do.

本発明の好適な実施態様において、ポリイミド系樹脂の式(10)で表される構成単位及び式(13)で表される構成単位の合計に対して、式(3)のnが1〜4で表される構成単位の比率は、好ましくは3モル%以上、より好ましくは5モル%以上、さらに好ましくは7モル%以上、特に好ましくは9モル%以上であり、好ましくは90モル%以下、より好ましくは70モル%以下、さらに好ましくは50モル%以下、特に好ましくは30モル%以下である。ポリイミド系樹脂中の式(10)で表される構成単位及び式(13)で表される構成単位の合計に対して、式(3)のnが1〜4で表される構成単位の比率が上記の下限以上であると、光学フィルムは高い表面硬度及び耐衝撃性を発現できるとともに、耐屈曲性がより向上される。ポリイミド系樹脂中の式(10)で表される構成単位及び式(13)で表される構成単位の合計に対して、式(3)のnが1〜4で表される構成単位の比率が上記の上限以下であると、式(3)由来のアミド結合間水素結合による増粘を抑制することで、ポリイミド系樹脂ワニスの粘度を抑制することができ、光学フィルムの加工を容易にすることができる。なお、式(3)で表される構成単位の含有量は、例えばH−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, n in the formula (3) is 1 to 4 with respect to the total of the structural unit represented by the formula (10) and the structural unit represented by the formula (13) of the polyimide resin. The ratio of structural units represented by is preferably 3 mol% or more, more preferably 5 mol% or more, still more preferably 7 mol% or more, particularly preferably 9 mol% or more, preferably 90 mol% or less, More preferably, it is 70 mol% or less, More preferably, it is 50 mol% or less, Most preferably, it is 30 mol% or less. The ratio of the structural unit represented by n in Formula (3) to 1 to 4 with respect to the total of the structural unit represented by Formula (10) and the structural unit represented by Formula (13) in the polyimide resin. Is equal to or more than the above lower limit, the optical film can exhibit high surface hardness and impact resistance, and the flex resistance is further improved. The ratio of the structural unit represented by n in Formula (3) to 1 to 4 with respect to the total of the structural unit represented by Formula (10) and the structural unit represented by Formula (13) in the polyimide resin. Is less than the above upper limit, the viscosity of the polyimide resin varnish can be suppressed by suppressing the increase in viscosity due to the hydrogen bond between the amide bonds derived from the formula (3), and the processing of the optical film is facilitated. be able to. The content of the structural unit represented by the formula (3) can also be calculated from, for example, 1 H-NMR can be measured using, or the material feed ratio.

本発明の好適な実施態様において、上記ポリイミド系樹脂のGの、好ましくは5モル%以上、より好ましくは8モル%以上、さらに好ましくは10モル%以上、特に好ましくは12モル%以上が、nが1〜4である場合の式(3)で表される。ポリイミド系樹脂のGの上記の下限以上が、nが1〜4である場合の式(3)で表されると、光学フィルムは高い表面硬度及び耐衝撃性を発現すると同時に、高い耐屈曲性を有することができる。また、ポリイミド系樹脂中のGの、好ましくは90モル%以下、より好ましくは70モル%以下、さらに好ましくは50モル%以下、特に好ましくは30モル%以下が、nが1〜4である場合の式(3)で表されることが好ましい。ポリイミド系樹脂のGの上記上限以下が、nが1〜4である場合の式(3)で表されると、式(3)由来のアミド結合間水素結合による増粘を抑制することで、樹脂ワニスの粘度を抑制することができ、光学フィルムの加工を容易にすることができる。 In a preferred embodiment of the present invention, G 3 of the polyimide resin is preferably 5 mol% or more, more preferably 8 mol% or more, further preferably 10 mol% or more, particularly preferably 12 mol% or more. It represents with Formula (3) in case n is 1-4. Or above the lower limit of G 3 of polyimide resin is, at the same time n is represented by the formula (3) in the case 1 to 4, the optical film when expressed high surface hardness and impact resistance, high flexural Can have sex. Further, G 3 in the polyimide-based resin is preferably 90 mol% or less, more preferably 70 mol% or less, further preferably 50 mol% or less, particularly preferably 30 mol% or less, and n is 1 to 4. The case is preferably represented by the formula (3). When the above upper limit of G 3 of the polyimide-based resin is represented by the formula (3) when n is 1 to 4, the viscosity increase due to the hydrogen bond between amide bonds derived from the formula (3) is suppressed. The viscosity of the resin varnish can be suppressed, and the optical film can be easily processed.

本発明の好適な実施態様において、上記ポリイミド系樹脂中のGの、好ましくは30モル%以上、より好ましくは50モル%以上、特に好ましくは70モル%以上が、nが0〜4である場合の式(3)で表される。ポリイミド系樹脂のGの上記の下限値以上が、nが0〜4である場合の式(3)で表されると、光学フィルムは高い表面硬度及び耐衝撃性を発現すると同時に、高い耐屈曲性を有することができる。また、ポリイミド系樹脂中のGの、好ましくは100モル%以下が、nが0〜4である場合の式(3)で表されることが好ましい。ポリイミド系樹脂のGの上記の上限値以下が、nが0〜4である場合の式(3)で表されると、式(3)由来のアミド結合間水素結合による増粘を抑制することで、樹脂ワニスの粘度を抑制することができ、光学フィルムの加工を容易にすることができる。なお、ポリイミド系樹脂中の、式(3)で表される構成単位の比率は、例えばH−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, G 3 in the polyimide-based resin is preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, particularly preferably 70 mol% or more, and n is 0 to 4. The case is represented by Equation (3). At the same time more than the above lower limit of G 3 of polyimide resin is, when n is represented by the formula (3) when it is 0-4, the optical film when expressed high surface hardness and impact resistance, high resistance to It can have flexibility. Further, the G 3 in the polyimide-based resin, preferably 100 mol% or less, n is is preferably represented by the formula (3) when it is 0-4. When the above upper limit value of G 3 of the polyimide-based resin is expressed by the formula (3) when n is 0 to 4, the increase in viscosity due to the hydrogen bond between amide bonds derived from the formula (3) is suppressed. Thereby, the viscosity of a resin varnish can be suppressed and the process of an optical film can be made easy. Incidentally, in the polyimide resin, the ratio of structural units represented by the formula (3) can also be calculated from, for example, 1 H-NMR can be measured using, or the material feed ratio.

本発明の好適な実施態様において、式(10)及び式(13)中の複数のA及びAの少なくとも一部は、式(4):

Figure 0006568290
[式(4)中、R10〜R17は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基を表し、R10〜R17に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、*は結合手を表す]
で表される構成単位である。式(10)及び式(13)中の複数のA及びAの少なくとも一部が式(4)で表される基であると、光学フィルムは、高い表面硬度及び耐衝撃性を発現できると同時に、高い透明性を有することができる。 In a preferred embodiment of the present invention, at least some of the plurality of A and A 3 in formula (10) and formula (13) are represented by formula (4):
Figure 0006568290
Wherein (4), R 10 ~R 17 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms having 1 to 6 carbon atoms, hydrogen contained in R 10 to R 17 Each atom may be independently substituted with a halogen atom, and * represents a bond]
It is a structural unit represented by When at least a part of the plurality of A and A 3 in Formula (10) and Formula (13) is a group represented by Formula (4), the optical film can exhibit high surface hardness and impact resistance. At the same time, it can have high transparency.

式(4)において、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16及びR17は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基を表す。炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基としては、式(3)における炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基として例示のものが挙げられる。R10〜R17は、それぞれ独立に、好ましくは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、ここで、R10〜R17に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。R10〜R17は、それぞれ独立に、光学フィルムの表面硬度、耐衝撃性、透明性及び耐屈曲性の観点から、さらに好ましくは水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、特に好ましくはR10、R12、R13、R14、R15、及びR16が水素原子、R11及びR17が水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、特にR11及びR17がメチル基又はトリフルオロメチル基であることが好ましい。 In Formula (4), R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 and R 17 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or 6 carbon atoms. Represents an aryl group of ˜12. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include those exemplified as the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms in the formula (3). R 10 to R 17 each independently preferably represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, where R 10 to R 10 Each hydrogen atom contained in R 17 may be independently substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. R 10 to R 17 are each independently more preferably a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoromethyl group from the viewpoint of the surface hardness, impact resistance, transparency, and flex resistance of the optical film. And particularly preferably R 10 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , and R 16 are hydrogen atoms, R 11 and R 17 are hydrogen atoms, methyl groups, fluoro groups, chloro groups, or trifluoromethyl groups. In particular, R 11 and R 17 are preferably a methyl group or a trifluoromethyl group.

本発明の好適な実施態様においては、式(4)で表される構成単位は式(4’):

Figure 0006568290
で表される構成単位であり、すなわち、複数のA及びAの少なくとも一部は、式(4’)で表される構成単位である。この場合、光学フィルムは、高い透明性を発現すると同時に、フッ素元素を含有する骨格により該樹脂の溶媒への溶解性を向上し、樹脂ワニスの粘度を低く抑制することができ、光学フィルムの加工を容易にすることができる。 In a preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by the formula (4) is represented by the formula (4 ′):
Figure 0006568290
That is, at least some of the plurality of A and A 3 are structural units represented by the formula (4 ′). In this case, the optical film exhibits high transparency, and at the same time, the skeleton containing the fluorine element can improve the solubility of the resin in the solvent, thereby suppressing the viscosity of the resin varnish, and processing the optical film. Can be made easier.

本発明の好適な実施態様において、上記樹脂中のA及びAの、好ましくは30モル%以上、より好ましくは50モル%以上、さらに好ましくは70モル%以上が式(4)、特に式(4’)で表される。上記樹脂における上記範囲内のA及びAが式(4)、特に式(4’)で表されると、光学フィルムは、高い透明性を発現すると同時に、フッ素元素を含有する骨格により該樹脂の溶媒への溶解性を向上し、樹脂ワニスの粘度を低く抑制することができ、また光学フィルムの加工を容易にすることができる。なお、好ましくは、上記樹脂中のA及びAの100モル%以下が式(4)、特に式(4’)で表される。上記樹脂中のA及びAは式(4)、特に(4’)であってもよい。上記樹脂中のA及びAの式(4)で表される構成単位の比率は、例えばH−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, A and A 3 in the resin are preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, and even more preferably 70 mol% or more of the formula (4), particularly the formula ( 4 ′). When A and A 3 within the above-mentioned range in the resin are represented by the formula (4), particularly the formula (4 ′), the optical film exhibits high transparency and at the same time has a resin containing a fluorine element. The solubility of the resin varnish can be improved, the viscosity of the resin varnish can be suppressed to a low level, and the processing of the optical film can be facilitated. Incidentally, preferably, 100 mole percent of A and A 3 in the resin following the expression (4), in particular represented by the formula (4 '). A and A 3 in the resin may be of the formula (4), in particular (4 ′). The ratio of the expression structure unit represented by formula (4) in the resin of the A and A 3, for example, 1 H-NMR can be measured using, or can be calculated from the charge ratio of the raw materials.

本発明の好適な実施態様において、式(10)中の複数のGの少なくとも一部は、式(5):

Figure 0006568290
[式(5)中、R18〜R25は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基を表し、R18〜R25に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、*は結合手を表す]
で表される構成単位である。式(10)中の複数のGの少なくとも一部が式(5)で表される基であると、光学フィルムは、高い透明性を発現すると同時に、ポリイミド系樹脂の溶媒への溶解性を向上し、樹脂ワニスの粘度を低く抑制することができ、また光学フィルムの加工を容易にすることができる。 In a preferred embodiment of the present invention, at least some of the plurality of Gs in formula (10) are represented by formula (5):
Figure 0006568290
Wherein (5), R 18 ~R 25 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms having 1 to 6 carbon atoms, hydrogen contained in R 18 to R 25 Each atom may be independently substituted with a halogen atom, and * represents a bond]
It is a structural unit represented by When at least a part of a plurality of G in the formula (10) is a group represented by the formula (5), the optical film exhibits high transparency and at the same time improves the solubility of the polyimide resin in the solvent. In addition, the viscosity of the resin varnish can be suppressed low, and the processing of the optical film can be facilitated.

式(5)において、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R24及びR25は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基を表す。炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基としては、式(3)における炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基として例示のものが挙げられる。R18〜R25は、それぞれ独立に、好ましくは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、ここで、R18〜R25に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。R18〜R25は、それぞれ独立に、光学フィルムの表面硬度、耐屈曲性、及び透明性を向上しやすい観点から、さらに好ましくは水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、よりさらに好ましくはR18、R19、R20、R23、R24及びR25が水素原子、R21及びR22が水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、特にR21及びR22がメチル基又はトリフルオロメチル基であることが好ましい。 In Formula (5), R 18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 , R 23 , R 24 and R 25 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or 6 carbon atoms. Represents an aryl group of ˜12. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include those exemplified as the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms in the formula (3). R 18 to R 25 are each independently preferably represents an alkyl group having 1 to 6 carbon hydrogen atom or atoms, more preferably represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, wherein, R 18 ~ Each hydrogen atom contained in R 25 may be independently substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. R 18 to R 25 are each independently more preferably a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoromethyl group, from the viewpoint of easily improving the surface hardness, flex resistance, and transparency of the optical film. And more preferably R 18 , R 19 , R 20 , R 23 , R 24 and R 25 are hydrogen atoms, R 21 and R 22 are hydrogen atoms, methyl groups, fluoro groups, chloro groups or trifluoromethyl groups. In particular, R 21 and R 22 are preferably a methyl group or a trifluoromethyl group.

本発明の好適な実施態様においては、式(5)で表される構成単位は、式(5’):

Figure 0006568290
で表される構成単位であり、すなわち、複数のGの少なくとも一部は、式(5’)で表される構成単位である。この場合、光学フィルムは、高い透明性を有することができる。 In a preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by the formula (5) is represented by the formula (5 ′):
Figure 0006568290
That is, at least a part of the plurality of Gs is a structural unit represented by the formula (5 ′). In this case, the optical film can have high transparency.

本発明の好適な実施態様において、上記ポリイミド系樹脂中のGの、好ましくは50モル%以上、より好ましくは60モル%以上、さらに好ましくは70モル%以上が式(5)、特に式(5’)で表される。上記ポリイミド系樹脂における上記範囲内のGが式(5)、特に式(5’)で表されると、光学フィルムは高い透明性を有することができ、さらにフッ素元素を含有する骨格により該ポリイミド系樹脂の溶媒への溶解性を向上し、樹脂ワニスの粘度を低く抑制することができ、また光学フィルムの製造が容易である。なお、好ましくは、上記ポリイミド系樹脂中のGの100モル%以下が式(5)、特に式(5’)で表される。上記ポリイミド系樹脂中のGは式(5)、特に式(5’)であってもよい。上記ポリイミド系樹脂中のGの式(5)で表される構成単位の比率は、例えばH−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, G in the polyimide-based resin is preferably 50 mol% or more, more preferably 60 mol% or more, and even more preferably 70 mol% or more of the formula (5), particularly the formula (5 ') When G within the above-mentioned range in the polyimide resin is represented by the formula (5), particularly the formula (5 ′), the optical film can have high transparency, and the polyimide is further contained by a skeleton containing a fluorine element. The solubility of the resin in the solvent can be improved, the viscosity of the resin varnish can be suppressed low, and the production of the optical film is easy. In addition, Preferably, 100 mol% or less of G in the said polyimide resin is represented by Formula (5), especially Formula (5 '). G in the polyimide resin may be the formula (5), particularly the formula (5 ′). The ratio of the structural unit represented by the formula (5) of G in the polyimide resin can be measured, for example, using 1 H-NMR, or can be calculated from the raw material charge ratio.

本発明の一実施態様において、ポリイミド系樹脂は、ジアミン及びテトラカルボン酸化合物(酸クロライド化合物、テトラカルボン酸二無水物等のテトラカルボン酸化合物類縁体)、並びに、必要に応じて、ジカルボン酸化合物(酸クロライド化合物等のジカルボン酸化合物類縁体)、トリカルボン酸化合物(酸クロライド化合物、トリカルボン酸無水物等のトリカルボン酸化合物類縁体)等を反応(重縮合)させて得られる縮合型高分子である。式(10)又は式(11)で表される繰り返し構造単位は、通常、ジアミン及びテトラカルボン酸化合物から誘導される。式(12)で表される繰り返し構造単位は、通常、ジアミン及びトリカルボン酸化合物から誘導される。式(13)で表される繰り返し構造単位は、通常、ジアミン及びジカルボン酸化合物から誘導される。   In one embodiment of the present invention, the polyimide resin comprises a diamine, a tetracarboxylic acid compound (an acid chloride compound, a tetracarboxylic acid analog such as tetracarboxylic dianhydride), and, if necessary, a dicarboxylic acid compound. It is a condensation polymer obtained by reacting (polycondensation) (dicarboxylic acid compound analogs such as acid chloride compounds), tricarboxylic acid compounds (tricarboxylic acid compound analogs such as acid chloride compounds and tricarboxylic acid anhydrides) and the like. . The repeating structural unit represented by formula (10) or formula (11) is usually derived from a diamine and a tetracarboxylic acid compound. The repeating structural unit represented by the formula (12) is usually derived from a diamine and a tricarboxylic acid compound. The repeating structural unit represented by the formula (13) is usually derived from a diamine and a dicarboxylic acid compound.

本発明の一実施態様において、ポリアミド系樹脂は、ジアミンとジカルボン酸化合物とを反応(重縮合)させて得られる縮合型高分子である。すなわち、式(13)で表される繰り返し構造単位は、通常、ジアミン及びジカルボン酸化合物から誘導される。   In one embodiment of the present invention, the polyamide-based resin is a condensed polymer obtained by reacting (polycondensation) a diamine and a dicarboxylic acid compound. That is, the repeating structural unit represented by the formula (13) is usually derived from a diamine and a dicarboxylic acid compound.

テトラカルボン酸化合物としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物等の芳香族テトラカルボン酸化合物;及び脂肪族テトラカルボン酸二無水物等の脂肪族テトラカルボン酸化合物が挙げられる。テトラカルボン酸化合物は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。テトラカルボン酸化合物は、二無水物の他、酸クロライド化合物等のテトラカルボン酸化合物類縁体であってもよい。   Examples of the tetracarboxylic acid compound include aromatic tetracarboxylic acid compounds such as aromatic tetracarboxylic dianhydrides; and aliphatic tetracarboxylic acid compounds such as aliphatic tetracarboxylic dianhydrides. A tetracarboxylic acid compound may be used independently and may use 2 or more types together. The tetracarboxylic acid compound may be a dianhydride or a tetracarboxylic acid compound analog such as an acid chloride compound.

芳香族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、4,4’−オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDAと表記することもある)、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシフェニル)プロパン二無水物、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDA)、1,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物及び4,4’−(p−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物及び4,4’−(m−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物(6FDA)が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。   Specific examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride include 4,4′-oxydiphthalic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3, 3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (sometimes referred to as BPDA), 2,2', 3,3'-biphenyltetra Carboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis ( 2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane dianhydride, 4,4 ′-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid Product (6FDA), 1,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,2-bis (3 , 4-Dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (2, 3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride and 4,4 ′-(p-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride and 4,4 ′-(m-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride (6FDA) Can be mentioned. These can be used alone or in combination of two or more.

脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、環式又は非環式の脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物とは、脂環式炭化水素構造を有するテトラカルボン酸二無水物であり、その具体例としては、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等のシクロアルカンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、ジシクロヘキシル3,3’−4,4’−テトラカルボン酸二無水物及びこれらの位置異性体が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−ペンタンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられ、これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。また、環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物及び非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物を組合せて用いてもよい。   Examples of the aliphatic tetracarboxylic dianhydride include a cyclic or acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride. The cycloaliphatic tetracarboxylic dianhydride is a tetracarboxylic dianhydride having an alicyclic hydrocarbon structure, and specific examples thereof include 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride. 1, 2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, cycloalkanetetracarboxylic dianhydride such as 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2 .2] Oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyl 3,3′-4,4′-tetracarboxylic dianhydride and their positional isomers. . These can be used alone or in combination of two or more. Specific examples of the acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic dianhydride, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Further, a cycloaliphatic tetracarboxylic dianhydride and an acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride may be used in combination.

上記テトラカルボン酸二無水物の中でも、高透明性及び低着色性の観点から、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物及び4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物、並びにこれらの混合物が好ましい。また、テトラカルボン酸として、上記テトラカルボン酸化合物の無水物の水付加体を用いてもよい。   Among the above tetracarboxylic dianhydrides, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] oct-7-ene are used from the viewpoint of high transparency and low colorability. -2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride and 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride, and mixtures thereof are preferred. Moreover, you may use the water adduct of the said tetracarboxylic acid compound anhydride as tetracarboxylic acid.

トリカルボン酸化合物としては、芳香族トリカルボン酸、脂肪族トリカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロライド化合物、酸無水物等が挙げられ、2種以上を併用してもよい。
具体例としては、1,2,4−ベンゼントリカルボン酸の無水物;2,3,6−ナフタレントリカルボン酸−2,3−無水物;フタル酸無水物と安息香酸とが単結合、−CH−、−C(CH−、−C(CF−、−SO−もしくはフェニレン基で連結された化合物が挙げられる。
Examples of tricarboxylic acid compounds include aromatic tricarboxylic acids, aliphatic tricarboxylic acids, and related acid chloride compounds, acid anhydrides, and the like, and two or more of them may be used in combination.
Specific examples include 1,2,4-benzenetricarboxylic acid anhydride; 2,3,6-naphthalenetricarboxylic acid-2,3-anhydride; phthalic acid anhydride and benzoic acid are a single bond, —CH 2 -, - C (CH 3) 2 -, - C (CF 3) 2 -, - SO 2 - or a compound linked phenylene group.

ジカルボン酸化合物としては、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロライド化合物、酸無水物等が挙げられ、それらを2種以上併用してもよい。それらの具体例としては、テレフタル酸ジクロリド;イソフタル酸ジクロリド;ナフタレンジカルボン酸ジクロリド;4,4’−ビフェニルジカルボン酸ジクロリド;3,3’−ビフェニルジカルボン酸ジクロリド;4,4’−オキシビス(ベンゾイルクロリド)(OBBC);炭素数8以下である鎖式炭化水素のジカルボン酸化合物及び2つの安息香酸が単結合、−CH−、−C(CH−、−C(CF−、−SO−もしくはフェニレン基で連結された化合物が挙げられる。これらのジカルボン酸化合物の中でも、テレフタロイルクロリド及び4,4’−オキシビス(ベンゾイルクロリド)がより好ましい。これらのジカルボン酸は単独又は2種以上組合せて使用できる。 Examples of dicarboxylic acid compounds include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids, and related acid chloride compounds, acid anhydrides, and the like, and two or more of them may be used in combination. Specific examples thereof include terephthalic acid dichloride; isophthalic acid dichloride; naphthalene dicarboxylic acid dichloride; 4,4′-biphenyldicarboxylic acid dichloride; 3,3′-biphenyldicarboxylic acid dichloride; 4,4′-oxybis (benzoyl chloride). (OBBC): a dicarboxylic acid compound of a chain hydrocarbon having 8 or less carbon atoms and two benzoic acids are a single bond, —CH 2 —, —C (CH 3 ) 2 —, —C (CF 3 ) 2 —, Examples include compounds linked by —SO 2 — or a phenylene group. Among these dicarboxylic acid compounds, terephthaloyl chloride and 4,4′-oxybis (benzoyl chloride) are more preferable. These dicarboxylic acids can be used alone or in combination of two or more.

ジアミンとしては、例えば、脂肪族ジアミン、芳香族ジアミン又はこれらの混合物が挙げられる。なお、本実施形態において「芳香族ジアミン」とは、アミノ基が芳香環に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に脂肪族基又はその他の置換基を含んでいてもよい。芳香環は単環でも縮合環でもよく、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環及びフルオレン環等が例示されるが、これらに限定されるわけではない。これらの中でも、芳香環がベンゼン環であることが好ましい。また「脂肪族ジアミン」とは、アミノ基が脂肪族基に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に芳香環やその他の置換基を含んでいてもよい。   Examples of diamines include aliphatic diamines, aromatic diamines, and mixtures thereof. In the present embodiment, the “aromatic diamine” represents a diamine in which an amino group is directly bonded to an aromatic ring, and an aliphatic group or other substituent may be included in a part of the structure. The aromatic ring may be a single ring or a condensed ring, and examples thereof include, but are not limited to, a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, and a fluorene ring. Among these, the aromatic ring is preferably a benzene ring. The “aliphatic diamine” refers to a diamine in which an amino group is directly bonded to an aliphatic group, and an aromatic ring or other substituent may be included in a part of the structure.

脂肪族ジアミンとしては、例えば、ヘキサメチレンジアミン等の非環式脂肪族ジアミン及び1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、ノルボルナンジアミン、4,4’−ジアミノジシクロヘキシルメタン等の環式脂肪族ジアミン等が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。   Examples of the aliphatic diamine include acyclic aliphatic diamines such as hexamethylene diamine, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, norbornane diamine, 4,4′- And cycloaliphatic diamines such as diaminodicyclohexylmethane. These can be used alone or in combination of two or more.

芳香族ジアミンとしては、例えば、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、2,4−トルエンジアミン、m−キシリレンジアミン、p−キシリレンジアミン、1,5−ジアミノナフタレン、2,6−ジアミノナフタレン等の、芳香環を1つ有する芳香族ジアミン;4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’−ジメチルベンジジン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノジフェニル(TFMB))、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−クロロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−フルオロフェニル)フルオレン等の、芳香環を2つ以上有する芳香族ジアミンが挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。   Examples of the aromatic diamine include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene, and 2,6-diaminonaphthalene. An aromatic diamine having one aromatic ring, such as 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylpropane, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 3,3 ′ -Diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis ( 4-Aminophenoxy) benzene, 4,4'-diaminodiphe Sulfone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2, 2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2′-dimethylbenzidine, 2,2′-bis (trifluoromethyl) benzidine (2,2′-bis (trifluoromethyl) -4 , 4′-diaminodiphenyl (TFMB)), 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 9 , 9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-methylphenyl) fluorene And aromatic diamines having two or more aromatic rings such as 9,9-bis (4-amino-3-chlorophenyl) fluorene and 9,9-bis (4-amino-3-fluorophenyl) fluorene. . These can be used alone or in combination of two or more.

上記ジアミンの中でも、高透明性及び低着色性の観点からは、ビフェニル構造を有する芳香族ジアミンからなる群から選ばれる1種以上を用いることが好ましい。2,2’−ジメチルベンジジン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル及び4,4’−ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる1種以上を用いることがさらに好ましく、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンを用いることがよりさらに好ましい。   Among the diamines, from the viewpoint of high transparency and low colorability, it is preferable to use one or more selected from the group consisting of aromatic diamines having a biphenyl structure. One selected from the group consisting of 2,2′-dimethylbenzidine, 2,2′-bis (trifluoromethyl) benzidine, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl and 4,4′-diaminodiphenyl ether It is more preferable to use the above, and it is more preferable to use 2,2′-bis (trifluoromethyl) benzidine.

ポリイミド系樹脂は、上記ジアミン、テトラカルボン酸化合物、トリカルボン酸化合物、ジカルボン酸化合物等の各原料を慣用の方法、例えば、撹拌等の方法により混合した後、得られた中間体をイミド化触媒及び必要に応じて脱水剤の存在下で、イミド化することにより得られる。ポリアミド系樹脂は、上記ジアミン、ジカルボン酸化合物等の各原料を慣用の方法、例えば、撹拌等の方法により混合することで得られる。   The polyimide resin is prepared by mixing the raw materials such as the diamine, tetracarboxylic acid compound, tricarboxylic acid compound, and dicarboxylic acid compound by a conventional method, for example, a method such as stirring, and then converting the obtained intermediate into an imidization catalyst and If necessary, it can be obtained by imidization in the presence of a dehydrating agent. The polyamide-based resin can be obtained by mixing raw materials such as the diamine and dicarboxylic acid compound by a conventional method, for example, a method such as stirring.

イミド化工程で使用されるイミド化触媒としては、特に限定されないが、例えばトリプロピルアミン、ジブチルプロピルアミン、エチルジブチルアミン等の脂肪族アミン;N−エチルピペリジン、N−プロピルピペリジン、N−ブチルピロリジン、N−ブチルピペリジン、及びN−プロピルヘキサヒドロアゼピン等の脂環式アミン(単環式);アザビシクロ[2.2.1]ヘプタン、アザビシクロ[3.2.1]オクタン、アザビシクロ[2.2.2]オクタン、及びアザビシクロ[3.2.2]ノナン等の脂環式アミン(多環式);並びに2−メチルピリジン、3−メチルピリジン、4−メチルピリジン、2−エチルピリジン、3−エチルピリジン、4−エチルピリジン、2,4−ジメチルピリジン、2,4,6−トリメチルピリジン、3,4−シクロペンテノピリジン、5,6,7,8−テトラヒドロイソキノリン、及びイソキノリン等の芳香族アミンが挙げられる。   Although it does not specifically limit as an imidation catalyst used at an imidation process, For example, aliphatic amines, such as a tripropylamine, dibutylpropylamine, and ethyl dibutylamine; N-ethylpiperidine, N-propylpiperidine, N-butylpyrrolidine , N-butylpiperidine, and N-propylhexahydroazepine and other alicyclic amines (monocyclic); azabicyclo [2.2.1] heptane, azabicyclo [3.2.1] octane, azabicyclo [2.2 .2] Alicyclic amines (polycyclic) such as octane and azabicyclo [3.2.2] nonane; and 2-methylpyridine, 3-methylpyridine, 4-methylpyridine, 2-ethylpyridine, 3- Ethylpyridine, 4-ethylpyridine, 2,4-dimethylpyridine, 2,4,6-trimethylpyridine, 3 4 cyclopentenopyridine pyridine, 5,6,7,8-tetrahydroisoquinoline, and aromatic amines isoquinoline.

イミド化工程で使用される脱水剤としては、特に限定されないが、例えば無水酢酸、プロピオン酸無水物、イソ酪酸無水物、ピバル酸無水物、酪酸無水物、イソ吉草酸無水物などが挙げられる。   The dehydrating agent used in the imidization step is not particularly limited, and examples thereof include acetic anhydride, propionic anhydride, isobutyric anhydride, pivalic anhydride, butyric anhydride, and isovaleric anhydride.

各原料の混合及びイミド化工程において、反応温度は、特に限定されないが、例えば15〜350℃、好ましくは20〜100℃である。反応時間も特に限定されないが、例えば10分〜10時間程度である。必要に応じて、不活性雰囲気又は減圧の条件下において反応を行ってよい。また、反応は溶媒中で行ってよく、溶媒としては、例えばワニスの調製に使用される溶媒として例示のものが挙げられる。反応後、ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂を精製する。精製方法としては、例えば反応液に貧溶媒を加えて再沈殿法により樹脂を析出させ、乾燥し沈殿物を取りだし、必要に応じて沈殿物をメタノール等の溶媒で洗浄して乾燥させる方法等が挙げられる。
なお、ポリイミド系樹脂の製造は、例えば特開2006−199945号公報又は特開2008−163107号公報に記載の製造方法を参照してもよい。また、ポリイミド系樹脂は、市販品を使用することもでき、その具体例としては、三菱瓦斯化学(株)製ネオプリム(登録商標)、河村産業(株)製KPI−MX300F等が挙げられる。
In the mixing and imidization step of each raw material, the reaction temperature is not particularly limited, but is, for example, 15 to 350 ° C, preferably 20 to 100 ° C. The reaction time is not particularly limited, but is, for example, about 10 minutes to 10 hours. If necessary, the reaction may be carried out under an inert atmosphere or under reduced pressure. The reaction may be performed in a solvent, and examples of the solvent include those exemplified as the solvent used for preparing the varnish. After the reaction, the polyimide resin or the polyamide resin is purified. Examples of the purification method include a method of adding a poor solvent to the reaction solution and precipitating the resin by a reprecipitation method, drying to take out the precipitate, and washing the precipitate with a solvent such as methanol as necessary to dry it. Can be mentioned.
For the production of the polyimide resin, for example, the production method described in JP-A-2006-199945 or JP-A-2008-163107 may be referred to. Commercially available products may also be used as the polyimide resin, and specific examples thereof include Neoprim (registered trademark) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. and KPI-MX300F manufactured by Kawamura Sangyo Co., Ltd.

ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂の重量平均分子量は、好ましくは100,000以上、より好ましくは150,000以上、さらに好ましくは200,000以上、さらにより好ましくは250,000以上、特に好ましくは300,000以上であり、好ましくは600,000以下、より好ましくは500,000以下である。ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂の重量平均分子量が大きいほど、フィルム化した際の高い耐衝撃性及び耐屈曲性を発現しやすい傾向がある。そのため、光学フィルムの耐衝撃性及び耐屈曲性を高めやすい観点からは、重量平均分子量が上記の下限以上であることが好ましい。一方、ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂の重量平均分子量が小さいほど、ワニスの粘度を低くしやすく、加工性を向上させやすい傾向がある。また、ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂の延伸性が向上しやすい傾向がある。そのため、加工性及び延伸性の観点からは、重量平均分子量が上記の上限以下であることが好ましい。なお、本願において重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)測定を行い、標準ポリスチレン換算により求めることができ、例えば実施例に記載の方法により算出できる。   The weight average molecular weight of the polyimide resin or polyamide resin is preferably 100,000 or more, more preferably 150,000 or more, further preferably 200,000 or more, even more preferably 250,000 or more, particularly preferably 300, 000 or more, preferably 600,000 or less, more preferably 500,000 or less. As the weight-average molecular weight of the polyimide resin or polyamide resin is larger, there is a tendency that high impact resistance and bending resistance when formed into a film are easily developed. Therefore, from the viewpoint of easily improving the impact resistance and flex resistance of the optical film, the weight average molecular weight is preferably not less than the above lower limit. On the other hand, the smaller the weight average molecular weight of the polyimide resin or polyamide resin, the easier it is to lower the viscosity of the varnish and the easier it is to improve processability. Moreover, there exists a tendency for the drawability of a polyimide-type resin or a polyamide-type resin to improve easily. Therefore, from the viewpoint of processability and stretchability, the weight average molecular weight is preferably not more than the above upper limit. In addition, in this application, a weight average molecular weight can perform a gel permeation chromatography (GPC) measurement, can be calculated | required by standard polystyrene conversion, for example, can be calculated by the method as described in an Example.

ポリイミド系樹脂のイミド化率は、好ましくは95〜100%、より好ましくは97〜100%、さらに好ましくは98〜100%、特に好ましくは100%である。ワニスの安定性、得られる光学フィルムの機械物性の観点からは、イミド化率が前記の範囲にあることが好ましい。なお、イミド化率は、IR法、NMR法などにより求めることができる。   The imidation ratio of the polyimide resin is preferably 95 to 100%, more preferably 97 to 100%, still more preferably 98 to 100%, and particularly preferably 100%. From the viewpoint of the stability of the varnish and the mechanical properties of the obtained optical film, it is preferable that the imidation ratio is in the above range. The imidization rate can be obtained by IR method, NMR method or the like.

本発明の好ましい一実施形態において、本発明の光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂は、例えば上記の含フッ素置換基等によって導入することができる、フッ素原子等のハロゲン原子を含んでよい。ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂がハロゲン原子を含む場合、光学フィルムの耐衝撃性及び弾性率を向上させかつ黄色度(YI値)を低減させやすい。光学フィルムの耐衝撃性及び弾性率が高いと、該フィルムにおけるキズ及びシワ等の発生を抑制しやすく、また、光学フィルムの黄色度が低いと、該フィルムの透明性を向上させやすくなる。ハロゲン原子は、好ましくはフッ素原子である。ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂にフッ素原子を含有させるために好ましい含フッ素置換基としては、例えばフルオロ基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。   In a preferred embodiment of the present invention, the polyimide resin or polyamide resin contained in the optical film of the present invention contains a halogen atom such as a fluorine atom, which can be introduced by, for example, the above fluorine-containing substituent. Good. When the polyimide resin or polyamide resin contains a halogen atom, it is easy to improve the impact resistance and elastic modulus of the optical film and reduce the yellowness (YI value). When the impact resistance and elastic modulus of the optical film are high, it is easy to suppress the generation of scratches and wrinkles in the film, and when the optical film has a low yellowness, the transparency of the film is easily improved. The halogen atom is preferably a fluorine atom. Preferred fluorine-containing substituents for incorporating a fluorine atom into a polyimide resin or polyamide resin include, for example, a fluoro group and a trifluoromethyl group.

ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂におけるハロゲン原子の含有量は、ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂の質量を基準として、好ましくは1〜40質量%、より好ましくは5〜40質量%、さらに好ましくは5〜30質量%である。ハロゲン原子の含有量が前記の範囲にあると、フィルム化した際の耐衝撃性及び弾性率をより向上し、吸水率を下げ、黄色度(YI値)をより低減できるため、透明性をより向上しやすい。また、ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂の合成が容易になる傾向がある。   The halogen atom content in the polyimide resin or polyamide resin is preferably 1 to 40% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, and still more preferably 5 to 5%, based on the mass of the polyimide resin or polyamide resin. 30% by mass. When the halogen atom content is in the above range, the impact resistance and elastic modulus when formed into a film can be further improved, the water absorption can be lowered, and the yellowness (YI value) can be further reduced. Easy to improve. Moreover, there exists a tendency for the synthesis | combination of a polyimide resin or a polyamide-type resin to become easy.

ポリイミド系樹脂がポリアミドイミドである場合、式(13)で表される構成単位の含有量は、式(10)で表される構成単位1モルに対して、好ましくは0.1モル以上、より好ましくは0.5モル以上、さらに好ましくは1.0モル以上、特に好ましくは1.5モル以上であり、好ましくは6.0モル以下、より好ましくは5.0モル以下、さらに好ましくは4.5モル以下である。式(13)で表される構成単位の含有量が上記下限値以上であると、光学フィルムは、高い表面硬度、耐衝撃性及び耐屈曲性を発現しやすい。また、式(13)で表される構成単位の含有量が上記上限値以下であると、式(13)中のアミド結合間の水素結合による増粘を抑制し、樹脂ワニスの粘度を低減することができ、光学フィルムの製造が容易である。   When the polyimide resin is polyamideimide, the content of the structural unit represented by the formula (13) is preferably 0.1 mol or more with respect to 1 mole of the structural unit represented by the formula (10). Preferably it is 0.5 mol or more, More preferably, it is 1.0 mol or more, Most preferably, it is 1.5 mol or more, Preferably it is 6.0 mol or less, More preferably, it is 5.0 mol or less, More preferably, it is 4. 5 mol or less. When the content of the structural unit represented by the formula (13) is equal to or higher than the lower limit, the optical film easily exhibits high surface hardness, impact resistance, and flex resistance. Moreover, when content of the structural unit represented by Formula (13) is below the said upper limit, the thickening by the hydrogen bond between the amide bonds in Formula (13) will be suppressed, and the viscosity of a resin varnish will be reduced. The optical film can be easily manufactured.

本発明の一実施形態において、光学フィルム中におけるポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂の含有量は、光学フィルムの全質量を基準として、好ましくは40質量%以上、より好ましくは50質量%以上、さらに好ましくは70質量%以上である。ポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂の含有量が上記の下限以上であることが、耐衝撃性及び耐屈曲性等を高めやすい観点から好ましい。なお、光学フィルム中におけるポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂の含有量は、光学フィルムの全質量を基準として、通常100質量%以下である。   In one embodiment of the present invention, the content of the polyimide resin and / or the polyamide resin in the optical film is preferably 40% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, based on the total mass of the optical film. More preferably, it is 70 mass% or more. The content of the polyimide resin and / or the polyamide resin is preferably the above lower limit or more from the viewpoint of easily improving impact resistance, flex resistance, and the like. In addition, content of the polyimide-type resin and / or polyamide-type resin in an optical film is 100 mass% or less normally on the basis of the total mass of an optical film.

<フィラー>
本発明の一実施態様では、本発明の光学フィルムは、一次粒子径が25nm以下であるフィラーを含有する。また、本発明の別の実施態様では、本発明の光学フィルムは、SEM画像の解析から得られた円相当半径の平均値が12nm以下であるフィラーを含有する。本発明の光学フィルムは、前記樹脂に加え、一次粒子径が25nm以下のフィラー、又はSEM画像の解析から得られた円相当半径の平均値が12nm以下であるフィラーを含有することで、優れた耐衝撃性を発現できる。なお、本明細書において、耐衝撃性とは、物体が光学フィルム表面に衝突した際に、凹み等のキズの発生を抑制できる特性、又は表面の形状変化を抑制できる特性を示し、例えば、後述の耐衝撃性試験において、凹み量をより小さくできる特性を示す。
<Filler>
In one embodiment of the present invention, the optical film of the present invention contains a filler having a primary particle diameter of 25 nm or less. In another embodiment of the present invention, the optical film of the present invention contains a filler having an average equivalent circle radius obtained from the analysis of SEM images of 12 nm or less. The optical film of the present invention is excellent in that, in addition to the resin, a filler having a primary particle diameter of 25 nm or less, or a filler having an average circle equivalent radius obtained from analysis of an SEM image of 12 nm or less. Impact resistance can be expressed. In this specification, the impact resistance refers to a characteristic that can suppress the occurrence of scratches such as dents when an object collides with the optical film surface, or a characteristic that can suppress a change in shape of the surface. In the impact resistance test, the characteristic that the dent amount can be further reduced is shown.

前記フィラーの円相当半径の平均値は、SEM(走査型電子顕微鏡)画像の解析により得られたフィラー一次粒子の面積と等しい面積をもつ真円の半径に換算した値の平均値を示す。フィラー(フィラー一次粒子)の円相当半径は、例えば、以下に記載の手順により求めることができる。撮影した電子顕微鏡像に対して必要に応じてスムージング処理やシェーディング補正を行った上で二値化処理を行い、二値化像を得る。二値化像にWatershed法を用いて粒子分割する。粒子分割後の二値化像に対して、粒子解析を行うことで円相当半径分布が得られる。粒子解析はImageJなどの汎用の画像解析ソフトを用いることができる。得られた円相当半径分布より、円相当半径の平均値が得られる。例えば実施例に記載の方法により、フィラーの円相当半径の平均値を求めることができる。   The average value of the circle-equivalent radius of the filler is an average value of values converted into the radius of a perfect circle having an area equal to the area of the filler primary particles obtained by analysis of an SEM (scanning electron microscope) image. The equivalent circle radius of the filler (filler primary particles) can be determined, for example, by the procedure described below. A smoothing process and shading correction are performed on the photographed electron microscope image as necessary, and then a binarization process is performed to obtain a binarized image. The binarized image is divided into particles using the Watershed method. A circle-equivalent radius distribution can be obtained by performing particle analysis on the binarized image after particle division. For particle analysis, general-purpose image analysis software such as ImageJ can be used. From the obtained circle equivalent radius distribution, the average value of the circle equivalent radii is obtained. For example, the average value of the equivalent circle radii of the filler can be obtained by the method described in the examples.

フィラーとしては、例えば有機粒子、無機粒子などが挙げられ、特に無機粒子が好ましい。無機粒子としては、シリカ、ジルコニア、アルミナ、チタニア、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、インジウムスズ酸化物(ITO)、酸化アンチモン、酸化セリウム等の金属酸化物粒子、フッ化マグネシウム、フッ化ナトリウム等の金属フッ化物粒子などが挙げられ、これらの中でも、耐衝撃性を向上しやすい観点から、シリカ粒子、ジルコニア粒子、アルミナ粒子が好ましく、シリカ粒子が特に好ましい。これらのフィラーは単独又は2種以上組合せて使用できる。   Examples of the filler include organic particles and inorganic particles, and inorganic particles are particularly preferable. Inorganic particles include silica, zirconia, alumina, titania, zinc oxide, germanium oxide, indium oxide, tin oxide, indium tin oxide (ITO), antimony oxide, cerium oxide and other metal oxide particles, magnesium fluoride, fluorine Examples thereof include metal fluoride particles such as sodium fluoride. Among these, silica particles, zirconia particles, and alumina particles are preferable, and silica particles are particularly preferable from the viewpoint of easily improving impact resistance. These fillers can be used alone or in combination of two or more.

フィラー、好ましくはシリカ粒子の一次粒子径は、好ましくは1nm以上、より好ましくは3nm以上、さらに好ましくは5nm以上、特に好ましくは7nm以上であり、好ましくは25nm以下、より好ましくは20nm以下、さらに好ましくは15nm以下、さらにより好ましくは12nm以下、特に好ましくは12nm未満であり、これらの上限と下限とを組合せた範囲内であってよい。シリカ粒子の一次粒子径が上記の下限以上であると、シリカ粒子の凝集を抑制し、光学フィルムの光学特性を向上しやすく、上記の上限以下であると、光学フィルムの耐衝撃性を向上しやすい。フィラーの一次粒子径はBET法により測定できる。なお、透過型電子顕微鏡(TEM)や走査型電子顕微鏡(SEM)の画像解析により、フィラーの一次粒子径(平均一次粒子径)を測定してもよい。   The primary particle size of the filler, preferably silica particles, is preferably 1 nm or more, more preferably 3 nm or more, still more preferably 5 nm or more, particularly preferably 7 nm or more, preferably 25 nm or less, more preferably 20 nm or less, still more preferably. Is 15 nm or less, more preferably 12 nm or less, and particularly preferably less than 12 nm, and may be within a range in which these upper and lower limits are combined. When the primary particle diameter of the silica particles is not less than the above lower limit, the aggregation of the silica particles is suppressed and the optical properties of the optical film are easily improved, and when it is not more than the above upper limit, the impact resistance of the optical film is improved. Cheap. The primary particle diameter of the filler can be measured by the BET method. In addition, you may measure the primary particle diameter (average primary particle diameter) of a filler by the image analysis of a transmission electron microscope (TEM) or a scanning electron microscope (SEM).

フィラー、好ましくはシリカ粒子の円相当半径の平均値は、好ましくは12nm以下、より好ましくは10nm以下、さらに好ましくは8nm以下であり、好ましくは1nm以上、より好ましくは2nm以上、さらに好ましくは3nm以上、特に好ましくは4nm以上であり、これらの上限と下限とを組合せた範囲内であってよい。フィラー、好ましくはシリカ粒子の円相当半径の平均値が上記の上限以下であると、光学フィルムの耐衝撃性を向上しやすく、該平均値が上記の下限以上であると、シリカ粒子の凝集を抑制し、光学フィルムの光学特性を向上しやすい。   The average value of the equivalent circle radius of the filler, preferably silica particles, is preferably 12 nm or less, more preferably 10 nm or less, further preferably 8 nm or less, preferably 1 nm or more, more preferably 2 nm or more, and further preferably 3 nm or more. Particularly preferably, it is 4 nm or more, and may be within a range in which these upper and lower limits are combined. When the average value of the equivalent circle radius of the filler, preferably the silica particles, is not more than the above upper limit, the impact resistance of the optical film is easily improved, and when the average value is not less than the above lower limit, the silica particles are aggregated. It is easy to suppress and improve the optical properties of the optical film.

本発明の好ましい実施態様において、光学フィルムはポリアミド系樹脂と一次粒子径が1〜25nmであるフィラーとを含む。また、本発明の好ましい実施態様において、光学フィルムはポリイミド系樹脂と一次粒子径が5〜20nmであるフィラーとを含む。これらの好ましい実施態様における光学フィルムは耐衝撃性に優れるとともに、優れた光学特性も有する。   In a preferred embodiment of the present invention, the optical film includes a polyamide-based resin and a filler having a primary particle diameter of 1 to 25 nm. In a preferred embodiment of the present invention, the optical film contains a polyimide resin and a filler having a primary particle size of 5 to 20 nm. The optical film in these preferred embodiments is excellent in impact resistance and also has excellent optical properties.

フィラー、好ましくはシリカ粒子の含有量は、光学フィルムの質量に対して、好ましくは1質量%以上、より好ましくは5質量%以上、さらに好ましくは10質量%以上、特に好ましくは20質量%以上であり、好ましくは60質量%以下、より好ましくは50質量%以下、さらに好ましくは45質量%以下、特に好ましくは40質量%以下であり、これらの上限と下限とを組合せた範囲内であってよい。フィラーの含有量が上記の下限以上であると、光学フィルムの耐衝撃性を向上しやすく、上記の上限以下であると、光学フィルムの光学特性を向上しやすい。   The content of the filler, preferably silica particles, is preferably 1% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, further preferably 10% by mass or more, and particularly preferably 20% by mass or more with respect to the mass of the optical film. Yes, preferably 60% by mass or less, more preferably 50% by mass or less, further preferably 45% by mass or less, and particularly preferably 40% by mass or less, and may be within a range in which these upper and lower limits are combined. . When the filler content is not less than the above lower limit, the impact resistance of the optical film is easily improved, and when it is not more than the above upper limit, the optical properties of the optical film are easily improved.

本発明の光学フィルムは、前記樹脂及び前記フィラー以外の他の添加剤を含んでいてよい。他の添加剤としては、例えば、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、ブルーイング剤、可塑剤、界面活性剤等が挙げられる。これらの他の添加剤は単独又は2種以上組合せて使用できる。光学フィルムが他の添加剤を含む場合、他の添加剤の含有量は、光学フィルムの質量に対して、例えば0.01〜20質量部、好ましくは0.1〜10質量部程度であってよい。   The optical film of the present invention may contain an additive other than the resin and the filler. Examples of other additives include leveling agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, bluing agents, plasticizers, and surfactants. These other additives can be used alone or in combination of two or more. When the optical film includes other additives, the content of the other additives is, for example, about 0.01 to 20 parts by mass, preferably about 0.1 to 10 parts by mass with respect to the mass of the optical film. Good.

<光学フィルム>
本発明の光学フィルムは、前記樹脂と、一次粒子径が25nm以下であるフィラー、又はSEM画像の解析から得られた円相当半径の平均値が12nm以下であるフィラーとを含むため、優れた耐衝撃性を有する。さらに本発明の光学フィルムは、光学特性にも優れ、高い透明性を有する。なお、本明細書において、光学特性とは、例えば全光線透過率、黄色度(YI値)、ヘイズ、反射b*を含む光学的に評価し得る特性を示し、光学特性に優れるとは、例えば、ヘイズ(Haze)及び黄色度(YI値)が低いこと、全光線透過率が高いこと、及び反射b*が0に近いことなどを示す。
<Optical film>
Since the optical film of the present invention contains the resin and a filler having a primary particle diameter of 25 nm or less, or a filler having an average circle equivalent radius of 12 nm or less obtained from the analysis of an SEM image, the optical film has excellent resistance. Has impact properties. Furthermore, the optical film of the present invention has excellent optical properties and high transparency. In the present specification, the optical characteristics refer to characteristics that can be optically evaluated including, for example, total light transmittance, yellowness (YI value), haze, and reflection b *. The haze and yellowness (YI value) are low, the total light transmittance is high, and the reflection b * is close to 0.

本発明の光学フィルムの膜厚は、好ましくは25μm以上、より好ましくは30μm以上であり、好ましくは100μm以下、より好ましくは80μm以下、さらに好ましくは60μm以下であり、これらの上限と下限の組合せであってよい。光学フィルムの厚さが上記範囲であると、光学フィルムの耐衝撃性及び光学特性の点で有利である。なお、光学フィルムの膜厚は、マイクロメーターを用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。   The film thickness of the optical film of the present invention is preferably 25 μm or more, more preferably 30 μm or more, preferably 100 μm or less, more preferably 80 μm or less, still more preferably 60 μm or less, and a combination of these upper and lower limits. It may be. When the thickness of the optical film is within the above range, it is advantageous in terms of impact resistance and optical properties of the optical film. In addition, the film thickness of an optical film can be measured using a micrometer, for example, can be measured by the method as described in an Example.

本発明の光学フィルムは耐衝撃性に優れるため、物体が光学フィルムに衝突しても(又は衝撃を受けても)、凹み等のキズの発生又は表面の形状変化を抑制できる。本発明の光学フィルムは、耐衝撃性試験における凹み量が、好ましくは15μm以下、より好ましくは10μm以下、さらに好ましくは5μm以下である。耐衝撃性試験における凹み量が、上記の上限以下であると、優れた耐衝撃性を有することを示す。耐衝撃性試験における凹み量は、耐衝撃性試験を5回行ったときの凹み深さの平均値を示す。耐衝撃性試験における凹み深さは、ガラス、粘着剤層、及び光学フィルムがこの順に積層された積層体を作製し、重り(質量4.6g、衝突箇所が直径0.75mmの球状、ステンレス製)を10cmの高さから積層体の光学フィルム面上に落下させたときに、光干渉膜厚計を用いて観察して得られる最も大きく凹んだ点の深さ(試験前の凹んでいない状態のフィルム表面から最も大きく凹んだ点までの最短距離)を示す。耐衝撃性試験における凹み量は、例えば、実施例の<耐衝撃性試験>の項に記載の方法により測定できる。なお、耐衝撃性試験は落下試験機等を用いて行ってもよい。   Since the optical film of the present invention is excellent in impact resistance, it is possible to suppress the occurrence of scratches such as dents or changes in the shape of the surface even when an object collides (or receives an impact) with the optical film. In the optical film of the present invention, the dent amount in the impact resistance test is preferably 15 μm or less, more preferably 10 μm or less, and further preferably 5 μm or less. It shows that it has the outstanding impact resistance in the amount of dents in an impact resistance test being below said upper limit. The amount of dents in the impact resistance test indicates an average value of the dent depth when the impact resistance test is performed five times. The depth of the dent in the impact resistance test is a laminate in which glass, an adhesive layer, and an optical film are laminated in this order, and a weight (mass 4.6 g, impact point is spherical with a diameter of 0.75 mm, made of stainless steel) ) Is dropped from the height of 10 cm onto the optical film surface of the laminate, the depth of the largest recessed point obtained by observation using an optical interference film thickness meter (the unrecessed state before the test) The shortest distance from the film surface to the most recessed point). The amount of dents in the impact resistance test can be measured, for example, by the method described in the section <Impact resistance test> in the Examples. The impact resistance test may be performed using a drop tester or the like.

本発明の光学フィルムにおいて、厚さ50μmにおける全光線透過率は、好ましくは80%以上、より好ましくは85%以上、さらに好ましくは90%以上である。全光線透過率が上記の下限以上であると、透明性が良好となり、画像表示装置の前面板に使用した場合に、高い視認性に寄与することができる。また全光線透過率の上限は通常100%以下である。なお、全光線透過率は、JIS K 7361−1:1997に準拠してヘイズコンピュータを用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。   In the optical film of the present invention, the total light transmittance at a thickness of 50 μm is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and further preferably 90% or more. When the total light transmittance is equal to or more than the above lower limit, the transparency becomes good, and when used for the front plate of the image display device, it can contribute to high visibility. Further, the upper limit of the total light transmittance is usually 100% or less. In addition, total light transmittance can be measured using a haze computer based on JISK7361-1: 1997, for example, can be measured by the method as described in an Example.

本発明の光学フィルムの黄色度(YI値)は、好ましくは5以下、より好ましくは3以下、さらに好ましくは2.5以下である。光学フィルムの黄色度が上記の上限以下であると、透明性が良好となり、画像表示装置の前面板に使用した場合に、高い視認性に寄与することができる。また黄色度は通常−5以上であり、好ましくは−2以上である。なお、黄色度(YI値)は紫外可視近赤外分光光度計を用いて300〜800nmの光に対する透過率測定を行い、3刺激値(X、Y、Z)を求め、YI=100×(1.2769X−1.0592Z)/Yの式に基づいて算出できる。黄色度は、例えば実施例に記載の方法により測定できる。   The yellowness (YI value) of the optical film of the present invention is preferably 5 or less, more preferably 3 or less, and even more preferably 2.5 or less. When the yellowness of the optical film is not more than the above upper limit, the transparency becomes good, and when used for the front plate of the image display device, it can contribute to high visibility. The yellowness is usually −5 or more, preferably −2 or more. The yellowness (YI value) is determined by measuring transmittance with respect to light of 300 to 800 nm using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer to obtain tristimulus values (X, Y, Z). YI = 100 × ( 1.2769X−1.0592Z) / Y. The yellowness can be measured, for example, by the method described in the examples.

本発明の光学フィルムのヘイズは、好ましくは1%以下、より好ましくは0.5%以下、さらに好ましくは0.2%以下である。光学フィルムのヘイズが上記の上限以下であると、透明性が良好となり、画像表示装置の前面板に使用した場合に、高い視認性に寄与することができる。またヘイズの下限値は通常0.01%以上である。なお、ヘイズはJIS K 7136:2000に準拠してヘイズコンピュータを用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。   The haze of the optical film of the present invention is preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less, and still more preferably 0.2% or less. When the haze of the optical film is not more than the above upper limit, the transparency becomes good and can contribute to high visibility when used for the front plate of the image display device. Moreover, the lower limit of haze is 0.01% or more normally. In addition, haze can be measured using a haze computer based on JISK7136: 2000, for example, can be measured by the method as described in an Example.

本発明の光学フィルムは、表面反射特性にも優れる。ここで、表面反射特性を示すパラメータとして例えば反射b*があり、該反射b*は0に近いほど、光学フィルムの青色や黄色等の色味が少なく透明性が良好であることを示す。本発明の光学フィルムの反射b*(SCE)は、好ましくは−4.0〜4.0、より好ましくは−3.0〜3.0、さらに好ましくは−2.0〜2.0、さらにより好ましくは−1.5〜1.5、特に好ましくは−1.0〜1.0である。光学フィルムの反射b*(SCE)が上記範囲であると、透明性が良好となり、画像表示装置の前面板に使用した場合に、高い視認性を発現できる。なお、光学フィルムの反射b*(SCE)はSCE(Specular Component Excluded:正反射光を除く)方式で求められる光学フィルムを反射した光のL*a*b*表色系におけるb*であり、本明細書においては、光学フィルム平面の垂直方向から所定の角度傾けた方向から入射する、波長380〜780nmの範囲における入射光に対する反射光のうち、正反射光を除いた拡散反射光のCIE1976L*a*b*表色系のb*値をいう。   The optical film of the present invention is also excellent in surface reflection characteristics. Here, as a parameter indicating the surface reflection characteristics, for example, there is a reflection b *. The closer the reflection b * is to 0, the less the color of the optical film such as blue or yellow, and the better the transparency. The reflection b * (SCE) of the optical film of the present invention is preferably −4.0 to 4.0, more preferably −3.0 to 3.0, still more preferably −2.0 to 2.0, and further More preferably, it is -1.5-1.5, Most preferably, it is -1.0-1.0. When the reflection b * (SCE) of the optical film is in the above range, the transparency becomes good and high visibility can be exhibited when used for the front plate of the image display device. Incidentally, the reflection b * (SCE) of the optical film is b * in the L * a * b * color system of the light reflected from the optical film, which is obtained by the SCE (Special Component Excluded) method. In the present specification, CIE 1976 L * of diffuse reflected light excluding regular reflected light out of reflected light with respect to incident light in a wavelength range of 380 to 780 nm, which is incident from a direction inclined at a predetermined angle from the vertical direction of the optical film plane. The b * value of the a * b * color system.

本発明の光学フィルムは、特に限定されないが、例えば以下の工程:
(a)前記樹脂及び前記フィラーを含む液(ワニスと称する場合がある)を調製する工程(ワニス調製工程)、
(b)ワニスを基材に塗布して塗膜を形成する工程(塗布工程)、及び
(c)塗布された液(塗膜)を乾燥させて、光学フィルムを形成する工程(光学フィルム形成工程)
を含む方法によって製造することができる。
Although the optical film of this invention is not specifically limited, For example, the following processes:
(A) a step of preparing a liquid (sometimes referred to as a varnish) containing the resin and the filler (varnish preparation step),
(B) A step of applying a varnish to a substrate to form a coating film (application step), and (c) a step of drying the applied liquid (coating layer) to form an optical film (optical film formation step). )
It can manufacture by the method containing.

ワニス調製工程において、前記樹脂を溶媒に溶解し、前記フィラー及び必要に応じて他の添加剤を添加して撹拌混合することによりワニスを調製する。なお、フィラーとしてシリカ粒子を用いる場合、シリカ粒子を含むシリカゾルの分散液を、前記樹脂が溶解可能な溶媒、例えば下記のワニスの調製に用いられる溶媒で置換したシリカゾルを樹脂に添加してもよい。   In the varnish preparation step, the resin is dissolved in a solvent, and the varnish is prepared by adding the filler and other additives as required and stirring and mixing. When silica particles are used as a filler, a silica sol in which a dispersion of silica sol containing silica particles is replaced with a solvent in which the resin can be dissolved, for example, a solvent used for preparing the following varnish, may be added to the resin. .

ワニスの調製に用いられる溶媒は、前記樹脂を溶解可能であれば特に限定されない。かかる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒;γ−ブチロラクトン(GBL)、γ−バレロラクトン等のラクトン系溶媒;ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒;及びそれらの組合せが挙げられる。これらの中でも、アミド系溶媒又はラクトン系溶媒が好ましい。これらの溶媒は単独又は二種以上組合せて使用できる。また、ワニスには水、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、非環状エステル系溶媒、エーテル系溶媒などが含まれてもよい。ワニスの固形分濃度は、好ましくは1〜25質量%、より好ましくは5〜15質量%である。   The solvent used for the preparation of the varnish is not particularly limited as long as the resin can be dissolved. Examples of such solvents include amide solvents such as N, N-dimethylacetamide and N, N-dimethylformamide; lactone solvents such as γ-butyrolactone (GBL) and γ-valerolactone; dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide, sulfolane and the like. Sulfur-containing solvents of: carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; and combinations thereof. Among these, an amide solvent or a lactone solvent is preferable. These solvents can be used alone or in combination of two or more. The varnish may contain water, alcohol solvents, ketone solvents, acyclic ester solvents, ether solvents and the like. The solid content concentration of the varnish is preferably 1 to 25% by mass, more preferably 5 to 15% by mass.

塗布工程において、公知の塗布方法により、基材上にワニスを塗布して塗膜を形成する。公知の塗布方法としては、例えばワイヤーバーコーティング法、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、ダイコート法、カンマコート法、リップコート法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法、流涎成形法等が挙げられる。   In the coating step, a varnish is coated on the substrate to form a coating film by a known coating method. Known coating methods include, for example, roll coating methods such as wire bar coating, reverse coating, and gravure coating, die coating, comma coating, lip coating, spin coating, screen coating, fountain coating, dipping, Examples thereof include a spray method and a fluent molding method.

光学フィルム形成工程において、塗膜を乾燥し、基材から剥離することによって、光学フィルムを形成することができる。剥離後にさらに光学フィルムを乾燥する乾燥工程を行ってもよい。塗膜の乾燥は、通常50〜350℃の温度にて行うことができる。必要に応じて、不活性雰囲気又は減圧の条件下において塗膜の乾燥を行ってよい。   In an optical film formation process, an optical film can be formed by drying a coating film and peeling from a base material. You may perform the drying process which dries an optical film further after peeling. The coating film can be dried usually at a temperature of 50 to 350 ° C. If necessary, the coating film may be dried under an inert atmosphere or under reduced pressure.

基材の例としては、PETフィルム、PENフィルム、他のポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂フィルム等が挙げられる。中でも、耐熱性に優れる観点から、PETフィルム、PENフィルム等が好ましく、さらに光学フィルムとの密着性及びコストの観点から、PETフィルムがより好ましい。   Examples of the substrate include a PET film, a PEN film, another polyimide resin, or a polyamide resin film. Among these, a PET film, a PEN film, and the like are preferable from the viewpoint of excellent heat resistance, and a PET film is more preferable from the viewpoints of adhesion to the optical film and cost.

本発明の光学フィルムの用途は特に限定されず、種々の用途に使用してよい。本発明の光学フィルムは、上記に述べたように単層であっても、積層体であってもよく、本発明の光学フィルムをそのまま使用してもよいし、さらに他のフィルムとの積層体として使用してもよい。なお、光学フィルムが積層体である場合、光学フィルムの片面又は両面に積層された全ての層を含めて光学フィルムと称する。   The application of the optical film of the present invention is not particularly limited and may be used for various applications. As described above, the optical film of the present invention may be a single layer or a laminate, and the optical film of the present invention may be used as it is, or a laminate with another film. May be used as In addition, when an optical film is a laminated body, all the layers laminated | stacked on the single side | surface or both surfaces of the optical film are called an optical film.

本発明の光学フィルムが積層体である場合、光学フィルムの少なくとも一方の面に1以上の機能層を有することが好ましい。機能層としては、例えば紫外線吸収層、プライマー層、ガスバリア層、粘着層、色相調整層、屈折率調整層、ハードコート層などが挙げられる。機能層は単独又は二種以上組合せて使用できる。   When the optical film of the present invention is a laminate, it is preferable to have one or more functional layers on at least one surface of the optical film. Examples of the functional layer include an ultraviolet absorbing layer, a primer layer, a gas barrier layer, an adhesive layer, a hue adjusting layer, a refractive index adjusting layer, and a hard coat layer. A functional layer can be used individually or in combination of 2 or more types.

紫外線吸収層は、紫外線吸収の機能を有する層であり、例えば、紫外線硬化型の透明樹脂、電子線硬化型の透明樹脂、及び熱硬化型の透明樹脂から選ばれる主材と、この主材に分散した紫外線吸収剤とから構成される。   The ultraviolet absorbing layer is a layer having an ultraviolet absorbing function. For example, a main material selected from an ultraviolet curable transparent resin, an electron beam curable transparent resin, and a thermosetting transparent resin, It is composed of dispersed UV absorbers.

粘着層は、粘着性の機能を有する層であり、光学フィルムを他の部材に接着させる機能を有する。粘着層の形成材料としては、通常知られたものを用いることができる。例えば、熱硬化性樹脂組成物又は光硬化性樹脂組成物を用いることができる。この場合、事後的にエネルギーを供給することで熱硬化性樹脂組成物又は光硬化性樹脂組成物を高分子化し硬化させることができる。   The adhesive layer is a layer having an adhesive function, and has a function of adhering the optical film to another member. As the material for forming the adhesive layer, a conventionally known material can be used. For example, a thermosetting resin composition or a photocurable resin composition can be used. In this case, the thermosetting resin composition or the photocurable resin composition can be polymerized and cured by supplying energy afterwards.

粘着層は、感圧型接着剤(Pressure Sensitive Adhesive、PSA)と呼ばれる、押圧により対象物に貼着される層であってもよい。感圧型接着剤は、「常温で粘着性を有し、軽い圧力で被着材に接着する物質」(JIS K 6800)である粘着剤であってもよく、「特定成分を保護被膜(マイクロカプセル)に内容し、適当な手段(圧力、熱等)によって被膜を破壊するまでは安定性を保持できる接着剤」(JIS K 6800)であるカプセル型接着剤であってもよい。   The pressure-sensitive adhesive layer (Pressure Sensitive Adhesive, PSA), which is attached to an object by pressing, may be used as the pressure-sensitive adhesive layer. The pressure-sensitive adhesive may be a pressure-sensitive adhesive that is “a substance that is adhesive at room temperature and adheres to an adherend with light pressure” (JIS K 6800). ) And a capsule-type adhesive that can maintain stability until the coating is broken by appropriate means (pressure, heat, etc.) (JIS K 6800).

色相調整層は、色相調整の機能を有する層であり、光学フィルムを目的の色相に調整することができる層である。色相調整層は、例えば、樹脂及び着色剤を含有する層である。この着色剤としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、弁柄、チタニウムオキサイド系焼成顔料、群青、アルミン酸コバルト、及びカーボンブラック等の無機顔料;アゾ系化合物、キナクリドン系化合物、アンスラキノン系化合物、ペリレン系化合物、イソインドリノン系化合物、フタロシアニン系化合物、キノフタロン系化合物、スレン系化合物、及びジケトピロロピロール系化合物等の有機顔料;硫酸バリウム、及び炭酸カルシウム等の体質顔料;並びに塩基性染料、酸性染料、及び媒染染料等の染料を挙げることができる。   The hue adjustment layer is a layer having a function of hue adjustment, and is a layer capable of adjusting the optical film to a target hue. A hue adjustment layer is a layer containing resin and a coloring agent, for example. Examples of the colorant include inorganic pigments such as titanium oxide, zinc oxide, dial, titanium oxide-based fired pigment, ultramarine, cobalt aluminate, and carbon black; azo-based compounds, quinacridone-based compounds, anthraquinone-based compounds, Organic pigments such as perylene compounds, isoindolinone compounds, phthalocyanine compounds, quinophthalone compounds, selenium compounds, and diketopyrrolopyrrole compounds; extender pigments such as barium sulfate and calcium carbonate; and basic dyes, Examples include acid dyes and mordant dyes.

屈折率調整層は、屈折率調整の機能を有する層であり、例えば単層の光学フィルムとは異なる屈折率を有し、光学フィルムに所定の屈折率を付与することができる層である。屈折率調整層は、例えば、適宜選択された樹脂、及び場合によりさらに顔料を含有する樹脂層であってもよいし、金属の薄膜であってもよい。屈折率を調整する顔料としては、例えば、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン、酸化ジルコニウム及び酸化タンタルが挙げられる。該顔料の平均一次粒子径は、0.1μm以下であってもよい。顔料の平均一次粒子径を0.1μm以下とすることにより、屈折率調整層を透過する光の乱反射を防止し、透明度の低下を防止することができる。屈折率調整層に用いられる金属としては、例えば、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ケイ素、酸化インジウム、酸窒化チタン、窒化チタン、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素等の金属酸化物又は金属窒化物が挙げられる。   The refractive index adjustment layer is a layer having a function of adjusting the refractive index. For example, the refractive index adjustment layer has a refractive index different from that of a single-layer optical film and can impart a predetermined refractive index to the optical film. The refractive index adjustment layer may be, for example, an appropriately selected resin, and optionally a resin layer further containing a pigment, or may be a metal thin film. Examples of the pigment for adjusting the refractive index include silicon oxide, aluminum oxide, antimony oxide, tin oxide, titanium oxide, zirconium oxide, and tantalum oxide. The average primary particle diameter of the pigment may be 0.1 μm or less. By setting the average primary particle diameter of the pigment to 0.1 μm or less, irregular reflection of light transmitted through the refractive index adjusting layer can be prevented, and a decrease in transparency can be prevented. Examples of the metal used for the refractive index adjustment layer include metals such as titanium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, silicon oxide, indium oxide, titanium oxynitride, titanium nitride, silicon oxynitride, and silicon nitride. Oxides or metal nitrides may be mentioned.

ハードコート層は、活性エネルギー線照射、或いは熱エネルギー付与により架橋構造を形成し得る反応性材料を含むハードコート組成物を硬化させて形成することができ、活性エネルギー線照射によるものが好ましい。活性エネルギー線は、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることができるエネルギー線と定義され、可視光、紫外線、赤外線、X線、α線、β線、γ線及び電子線などが挙げられ、好ましくは紫外線が挙げられる。前記ハードコート組成物は、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物を含有する。   The hard coat layer can be formed by curing a hard coat composition containing a reactive material capable of forming a crosslinked structure by irradiation with active energy rays or application of thermal energy, and is preferably formed by irradiation with active energy rays. Active energy rays are defined as energy rays that can generate active species by decomposing compounds that generate active species. Visible light, ultraviolet rays, infrared rays, X-rays, α rays, β rays, γ rays, and electron rays Etc., preferably ultraviolet rays. The hard coat composition contains at least one polymer of a radical polymerizable compound and a cationic polymerizable compound.

前記ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合性基を有する化合物である。前記ラジカル重合性化合物が有するラジカル重合性基としては、ラジカル重合反応を生じ得る官能基であればよく、炭素−炭素不飽和二重結合を含む基などが挙げられ、具体的には、ビニル基、(メタ)アクリロイル基などが挙げられる。なお、前記ラジカル重合性化合物が2個以上のラジカル重合性基を有する場合、これらのラジカル重合性基はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。前記ラジカル重合性化合物が1分子中に有するラジカル重合性基の数は、ハードコート層の硬度を向上する点から、好ましくは2以上である。前記ラジカル重合性化合物としては、反応性の高さの点から、好ましくは(メタ)アクリロイル基を有する化合物が挙げられ、具体的には1分子中に2〜6個の(メタ)アクリロイル基を有する多官能アクリレートモノマーと称される化合物やエポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレートと称される分子内に数個の(メタ)アクリロイル基を有する分子量が数百から数千のオリゴマーが挙げられ、好ましくはエポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート及びポリエステル(メタ)アクリレートから選択された1種以上が挙げられる。   The radical polymerizable compound is a compound having a radical polymerizable group. The radical polymerizable group possessed by the radical polymerizable compound may be any functional group capable of causing a radical polymerization reaction, such as a group containing a carbon-carbon unsaturated double bond, and specifically a vinyl group. , (Meth) acryloyl groups and the like. When the radical polymerizable compound has two or more radical polymerizable groups, these radical polymerizable groups may be the same or different from each other. The number of radical polymerizable groups in the molecule of the radical polymerizable compound is preferably 2 or more from the viewpoint of improving the hardness of the hard coat layer. The radical polymerizable compound is preferably a compound having a (meth) acryloyl group from the viewpoint of high reactivity, and specifically includes 2 to 6 (meth) acryloyl groups in one molecule. From several hundreds of molecular weights having several (meth) acryloyl groups in molecules called polyfunctional acrylate monomers, epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, and polyester (meth) acrylates Thousands of oligomers are mentioned, Preferably, 1 or more types selected from epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, and polyester (meth) acrylate are mentioned.

前記カチオン重合性化合物は、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基等のカチオン重合性基を有する化合物である。前記カチオン重合性化合物が1分子中に有するカチオン重合性基の数は、ハードコート層の硬度を向上する点から、好ましくは2以上であり、より好ましくは3以上である。
また、前記カチオン重合性化合物としては、中でも、カチオン重合性基としてエポキシ基及びオキセタニル基の少なくとも1種を有する化合物が好ましい。エポキシ基、オキセタニル基等の環状エーテル基は、重合反応に伴う収縮が小さいという点から好ましい。また、環状エーテル基のうちエポキシ基を有する化合物は多様な構造の化合物が入手し易く、得られたハードコート層の耐久性に悪影響を与えず、ラジカル重合性化合物との相溶性もコントロールし易いという利点がある。また、環状エーテル基のうちオキセタニル基は、エポキシ基と比較して重合度が高くなりやすく、低毒性であり、得られたハードコート層のカチオン重合性化合物から得られるネットワーク形成速度を早め、ラジカル重合性化合物と混在する領域でも未反応のモノマーを膜中に残さずに独立したネットワークを形成する等の利点がある。
エポキシ基を有するカチオン重合性化合物としては、例えば、脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル又は、シクロヘキセン環、シクロペンテン環含有化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化する事によって得られる脂環族エポキシ樹脂;脂肪族多価アルコール、又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジル(メタ)アクリレートのホモポリマー、コポリマーなどの脂肪族エポキシ樹脂;ビスフェノールA、ビスフェノールFや水添ビスフェノールA等のビスフェノール類、又はそれらのアルキレンオキサイド付加体、カプロラクトン付加体等の誘導体と、エピクロルヒドリンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル、及びノボラックエポキシ樹脂等でありビスフェノール類から誘導されるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂等が挙げられる。
The cationic polymerizable compound is a compound having a cationic polymerizable group such as an epoxy group, an oxetanyl group, or a vinyl ether group. The number of cationically polymerizable groups in one molecule of the cationically polymerizable compound is preferably 2 or more, more preferably 3 or more, from the viewpoint of improving the hardness of the hard coat layer.
In addition, the cationic polymerizable compound is preferably a compound having at least one of an epoxy group and an oxetanyl group as a cationic polymerizable group. Cyclic ether groups such as epoxy groups and oxetanyl groups are preferred from the viewpoint of small shrinkage accompanying the polymerization reaction. In addition, compounds having an epoxy group among the cyclic ether groups are easily available as compounds having various structures, do not adversely affect the durability of the obtained hard coat layer, and easily control the compatibility with the radical polymerizable compound. There is an advantage. Of the cyclic ether groups, the oxetanyl group tends to have a higher degree of polymerization than the epoxy group, has low toxicity, and accelerates the network formation rate obtained from the cationically polymerizable compound of the obtained hard coat layer. There are advantages such as forming an independent network without leaving unreacted monomer in the film even in a region mixed with the polymerizable compound.
As the cationically polymerizable compound having an epoxy group, for example, a polyglycidyl ether of a polyhydric alcohol having an alicyclic ring, a cyclohexene ring or a cyclopentene ring-containing compound may be used with an appropriate oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid. Alicyclic epoxy resin obtained by epoxidation; polyglycidyl ether of aliphatic polyhydric alcohol or alkylene oxide adduct thereof, polyglycidyl ester of aliphatic long-chain polybasic acid, homopolymer of glycidyl (meth) acrylate, Aliphatic epoxy resins such as copolymers; glycidyl esters produced by the reaction of bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F and hydrogenated bisphenol A, or derivatives thereof such as alkylene oxide adducts and caprolactone adducts, and epichlorohydrin. Ether, and novolac epoxy resins such as a and glycidyl ether type epoxy resins derived from bisphenols are exemplified.

前記ハードコート組成物は重合開始剤をさらに含むことができる。重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等が挙げられ、適宜選択して用いられる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。
ラジカル重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくともいずれかによりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であればよい。例えば、熱ラジカル重合開始剤としては、過酸化水素、過安息香酸等の有機過酸化物、アゾビスブチロニトリル等のアゾ化合物等があげられる。
活性エネルギー線ラジカル重合開始剤としては、分子の分解でラジカルが生成されるType1型ラジカル重合開始剤と、3級アミンと共存して水素引き抜き型反応でラジカルを生成するType2型ラジカル重合開始剤があり、それらは単独でまたは併用して使用される。
カチオン重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくともいずれかによりカチオン重合を開始させる物質を放出することが可能であればよい。カチオン重合開始剤としては、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、シクロペンタジエニル鉄(II)錯体等が使用できる。これらは、構造の違いによって活性エネルギー線照射または加熱のいずれかまたはいずれでもカチオン重合を開始することができる。
The hard coat composition may further include a polymerization initiator. Examples of the polymerization initiator include radical polymerization initiators, cationic polymerization initiators, radicals and cationic polymerization initiators, which are appropriately selected and used. These polymerization initiators are decomposed by at least one of active energy ray irradiation and heating to generate radicals or cations to advance radical polymerization and cationic polymerization.
The radical polymerization initiator only needs to be able to release a substance that initiates radical polymerization by at least one of irradiation with active energy rays and heating. Examples of the thermal radical polymerization initiator include organic peroxides such as hydrogen peroxide and perbenzoic acid, and azo compounds such as azobisbutyronitrile.
As active energy ray radical polymerization initiators, there are Type 1 type radical polymerization initiators that generate radicals by molecular decomposition and Type 2 type radical polymerization initiators that generate radicals by hydrogen abstraction reaction in the presence of tertiary amines. Yes, they are used alone or in combination.
The cationic polymerization initiator only needs to be capable of releasing a substance that initiates cationic polymerization by irradiation with active energy rays and / or heating. As the cationic polymerization initiator, aromatic iodonium salts, aromatic sulfonium salts, cyclopentadienyl iron (II) complexes and the like can be used. Depending on the structure, they can initiate cationic polymerization either by irradiation with active energy rays or heating, or any of them.

前記重合開始剤の含有量は、前記ハードコート組成物全体100質量%に対して好ましくは0.1〜10質量%である。前記重合開始剤の含量が前記の範囲にあると、硬化を十分に進行させることができ、最終的に得られる塗膜の機械的物性や密着力を良好な範囲とすることができ、また、硬化収縮による接着力不良や割れ現象及びカール現象が発生し難くなる傾向がある。   The content of the polymerization initiator is preferably 0.1 to 10% by mass with respect to 100% by mass of the entire hard coat composition. When the content of the polymerization initiator is in the above range, curing can sufficiently proceed, and the mechanical properties and adhesion of the finally obtained coating film can be in a good range, There is a tendency that adhesion failure, cracking phenomenon and curling phenomenon due to curing shrinkage hardly occur.

前記ハードコート組成物はさらに溶剤、添加剤からなる群から選択される一つ以上をさらに含むことができる。
前記溶剤は、前記重合性化合物及び重合開始剤を溶解又は分散させることができるもので、本技術分野のハードコート組成物の溶剤として知られている溶剤であれば、本発明の効果を阻害しない範囲で、使用することができる。
前記添加剤は、無機粒子、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、帯電防止剤、潤滑剤、防汚剤などをさらに含むことができる。
The hard coat composition may further include one or more selected from the group consisting of a solvent and an additive.
The solvent can dissolve or disperse the polymerizable compound and the polymerization initiator, and does not hinder the effects of the present invention as long as it is a solvent known as a hard coat composition solvent in this technical field. In range, can be used.
The additive may further include inorganic particles, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, an antistatic agent, a lubricant, an antifouling agent, and the like.

ハードコート層の厚さは特に限定されず、例えば、2〜100μmであってもよい。前記ハードコート層の厚さが前記の範囲にあると、十分な耐擦傷性を確保することができ、また耐屈曲性が低下しにくく、硬化収縮によるカール発生の問題が発生し難い傾向がある。   The thickness of a hard-coat layer is not specifically limited, For example, 2-100 micrometers may be sufficient. When the thickness of the hard coat layer is in the above range, sufficient scratch resistance can be ensured, the flex resistance is not easily lowered, and the problem of curling due to curing shrinkage tends not to occur. .

光学フィルムは、保護フィルムをさらに含んでいてもよい。保護フィルムは、光学フィルムの片面又は両面に積層されていてもよい。光学フィルムの片面に機能層を有する場合には、保護フィルムは、光学フィルム側の表面又は機能層側の表面に積層されていてもよく、光学フィルム側と機能層側の両方に積層されていてもよい。光学フィルムの両面に機能層を有する場合には、保護フィルムは、片方の機能層側の表面に積層されていてもよく、両方の機能層側の表面に積層されていてもよい。保護フィルムは、光学フィルム又は機能層の表面を一時的に保護するためのフィルムであり、光学フィルム又は機能層の表面を保護できる剥離可能なフィルムである限り特に限定されない。保護フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂フィルム;ポリエチレン、ポリプロピレンフィルムなどのポリオレフィン系樹脂フィルム、アクリル系樹脂フィルム等が挙げられ、ポリオレフィン系樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレート系樹脂フィルム及びアクリル系樹脂フィルムからなる群から選択されることが好ましい。光学フィルムが保護フィルムを2つ有する場合、各保護フィルムは同一又は異なっていてもよい。   The optical film may further include a protective film. The protective film may be laminated on one side or both sides of the optical film. When having a functional layer on one side of the optical film, the protective film may be laminated on the surface on the optical film side or the surface on the functional layer side, and is laminated on both the optical film side and the functional layer side. Also good. When it has a functional layer on both surfaces of an optical film, the protective film may be laminated | stacked on the surface by the side of one functional layer, and may be laminated | stacked on the surface by the side of both functional layers. The protective film is a film for temporarily protecting the surface of the optical film or the functional layer, and is not particularly limited as long as it is a peelable film that can protect the surface of the optical film or the functional layer. Examples of the protective film include polyester resin films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; polyolefin resin films such as polyethylene and polypropylene films, acrylic resin films, and the like. It is preferably selected from the group consisting of a terephthalate resin film and an acrylic resin film. When the optical film has two protective films, each protective film may be the same or different.

保護フィルムの厚さは、特に限定されるものではないが、通常、10〜100μm、好ましくは10〜80μm、より好ましくは10〜50μmである。光学フィルムが保護フィルムを2つ有する場合、各保護フィルムの厚さは同じであってもよく、異なっていてもよい。   Although the thickness of a protective film is not specifically limited, Usually, 10-100 micrometers, Preferably it is 10-80 micrometers, More preferably, it is 10-50 micrometers. When the optical film has two protective films, the thickness of each protective film may be the same or different.

本発明の光学フィルムは、耐衝撃性及び光学特性に優れるため、画像表示装置等における光学フィルムとして好適に使用できる。本発明の光学フィルムは、好ましくは画像表示装置の前面板、特にフレキシブル画像表示装置(フレキシブルディスプレイ)の前面板(ウインドウフィルム)として有用である。フレキシブルディスプレイは、例えば、フレキシブル機能層と、フレキシブル機能層に重ねられて前面板として機能する光学フィルムを有する。すなわち、フレキシブルディスプレイの前面板は、フレキシブル機能層の上の視認側に配置される。この前面板は、フレキシブル機能層を保護する機能を有する。また、耐衝撃性にすぐれることから、フレキシブル画像表示装置の接触等による破損が生じにくくなり、省エネルギーに貢献し得る。   Since the optical film of the present invention is excellent in impact resistance and optical characteristics, it can be suitably used as an optical film in an image display device or the like. The optical film of the present invention is preferably useful as a front plate of an image display device, particularly as a front plate (window film) of a flexible image display device (flexible display). The flexible display includes, for example, a flexible functional layer and an optical film that is stacked on the flexible functional layer and functions as a front plate. That is, the front plate of the flexible display is arranged on the viewing side on the flexible functional layer. This front plate has a function of protecting the flexible functional layer. In addition, since it is excellent in impact resistance, it is difficult to cause damage due to contact of the flexible image display device, which can contribute to energy saving.

画像表示装置としては、テレビ、スマートフォン、携帯電話、カーナビゲーション、タブレットPC、携帯ゲーム機、電子ペーパー、インジケーター、掲示板、時計、及びスマートウォッチ等のウェアラブルデバイス等が挙げられる。フレキシブルディスプレイとしては、フレキシブル特性を有する画像表示装置全てである。   Examples of the image display device include wearable devices such as a television, a smartphone, a mobile phone, a car navigation, a tablet PC, a portable game machine, electronic paper, an indicator, a bulletin board, a clock, and a smart watch. The flexible display is all image display devices having flexible characteristics.

[フレキシブル画像表示装置]
本発明は、本発明の光学フィルムを備える、フレキシブル画像表示装置を包含する。本発明の光学フィルムは、上記の通り、好ましくはフレキシブル画像表示装置において前面板として用いられ、該前面板はウインドウフィルムと称されることがある。フレキシブル画像表示装置は、フレキシブル画像表示装置用積層体と、有機EL表示パネルとからなり、有機EL表示パネルに対して視認側にフレキシブル画像表示装置用積層体が配置され、折り曲げ可能に構成されている。フレキシブル画像表示装置用積層体としては、ウインドウフィルム、偏光板、タッチセンサを含有していてもよく、それらの積層順任意であるが、視認側からウインドウフィルム、偏光板、タッチセンサまたはウインドウフィルム、タッチセンサ、偏光板の順に積層されていることが好ましい。タッチセンサの視認側に偏光板が存在すると、タッチセンサのパターンが視認されにくくなり表示画像の視認性が良くなるので好ましい。それぞれの部材は接着剤、粘着剤等を用いて積層することができる。また、前記ウインドウフィルム、偏光板、タッチセンサのいずれかの層の少なくとも一面に形成された遮光パターンを具備することができる。
[Flexible image display device]
The present invention includes a flexible image display device including the optical film of the present invention. As described above, the optical film of the present invention is preferably used as a front plate in a flexible image display device, and the front plate may be referred to as a window film. The flexible image display device includes a laminate for a flexible image display device and an organic EL display panel, and the flexible image display device laminate is arranged on the viewing side with respect to the organic EL display panel, and is configured to be bendable. Yes. As a laminate for a flexible image display device, it may contain a window film, a polarizing plate, and a touch sensor, and the stacking order is arbitrary, but from the viewing side, the window film, the polarizing plate, the touch sensor or the window film, It is preferable that the touch sensor and the polarizing plate are laminated in this order. The presence of a polarizing plate on the viewing side of the touch sensor is preferable because the touch sensor pattern is less visible and the visibility of the display image is improved. Each member can be laminated | stacked using an adhesive agent, an adhesive, etc. Moreover, the light-shielding pattern formed in at least one surface of the any one layer of the said window film, a polarizing plate, and a touch sensor can be comprised.

[偏光板]
本発明のフレキシブル画像表示装置は、上記の通り、偏光板、好ましくは円偏光板を含有する。円偏光板は、直線偏光板にλ/4位相差板を積層することにより右若しくは左円偏光成分のみを透過させる機能を有する機能層である。たとえば外光を右円偏光に変換して有機ELパネルで反射されて左円偏光となった外光を遮断し、有機ELの発光成分のみを透過させることで反射光の影響を抑制して画像を見やすくするために用いられる。円偏光機能を達成するためには、直線偏光板の吸収軸とλ/4位相差板の遅相軸は理論上45°である必要があるが、実用的には45±10°である。直線偏光板とλ/4位相差板とは必ずしも隣接して積層される必要はなく、吸収軸と遅相軸の関係が前述の範囲を満足していればよい。全波長において完全な円偏光を達成することが好ましいが実用上は必ずしもその必要はないので本発明における円偏光板は楕円偏光板をも包含する。直線偏光板の視認側にさらにλ/4位相差フィルムを積層して、出射光を円偏光とすることで偏光サングラスをかけた状態での視認性を向上させることも好ましい。
[Polarizer]
As described above, the flexible image display device of the present invention contains a polarizing plate, preferably a circularly polarizing plate. The circularly polarizing plate is a functional layer having a function of transmitting only a right or left circularly polarized component by laminating a λ / 4 retardation plate on a linearly polarizing plate. For example, external light is converted into right circularly polarized light, the external light reflected by the organic EL panel and turned into left circularly polarized light is blocked, and only the light emitting component of the organic EL is transmitted to suppress the influence of the reflected light and image Used to make it easier to see. In order to achieve the circular polarization function, the absorption axis of the linearly polarizing plate and the slow axis of the λ / 4 retardation plate need to be 45 ° theoretically, but practically 45 ± 10 °. The linearly polarizing plate and the λ / 4 retardation plate are not necessarily laminated adjacent to each other as long as the relationship between the absorption axis and the slow axis satisfies the above range. Although it is preferable to achieve complete circular polarization at all wavelengths, the circular polarization plate in the present invention includes an elliptical polarization plate because it is not always necessary in practice. It is also preferable to further improve the visibility in a state where polarized sunglasses are applied by laminating a λ / 4 retardation film on the viewing side of the linearly polarizing plate and making the emitted light circularly polarized.

直線偏光板は、透過軸方向に振動している光は通すが、それとは垂直な振動成分の偏光を遮断する機能を有する機能層である。前記直線偏光板は、直線偏光子単独又は直線偏光子及びその少なくとも一面に貼り付けられた保護フィルムを備えた構成であってもよい。前記直線偏光板の厚さは、200μm以下であってもよく、好ましくは、0.5〜100μmである。厚さが前記の範囲にあると柔軟性が低下し難い傾向にある。
前記直線偏光子は、ポリビニルアルコール(PVA)系フィルムを染色、延伸することで製造されるフィルム型偏光子であってもよい。延伸によって配向したPVA系フィルムに、ヨウ素等の二色性色素が吸着、又はPVAに吸着した状態で延伸されることで二色性色素が配向し、偏光性能を発揮する。前記フィルム型偏光子の製造においては、他に膨潤、ホウ酸による架橋、水溶液による洗浄、乾燥等の工程を有していてもよい。延伸や染色工程はPVA系フィルム単独で行ってもよいし、ポリエチレンテレフタレートのような他のフィルムと積層された状態で行うこともできる。用いられるPVA系フィルムの厚さは好ましくは10〜100μmであり、延伸倍率は好ましくは2〜10倍である。
さらに前記偏光子の他の一例としては、液晶偏光組成物を塗布して形成する液晶塗布型偏光子であってもよい。前記液晶偏光組成物は、液晶性化合物及び二色性色素化合物を含むことができる。前記液晶性化合物は液晶状態を示す性質を有していればよく、特にスメクチック相等の高次の配向状態を有していると高い偏光性能を発揮することができるため好ましい。また、液晶性化合物は重合性官能基を有していることも好ましい。
The linear polarizing plate is a functional layer having a function of blocking polarized light having a vibration component perpendicular to the light that is oscillating in the transmission axis direction. The linear polarizing plate may include a linear polarizer alone or a linear polarizer and a protective film attached to at least one surface thereof. The linear polarizing plate may have a thickness of 200 μm or less, preferably 0.5 to 100 μm. When the thickness is in the above range, flexibility tends to be difficult to decrease.
The linear polarizer may be a film-type polarizer manufactured by dyeing and stretching a polyvinyl alcohol (PVA) film. A dichroic dye such as iodine is adsorbed on a PVA-based film oriented by stretching or is stretched in a state of being adsorbed to PVA, whereby the dichroic dye is oriented and exhibits polarizing performance. In the production of the film-type polarizer, other processes such as swelling, crosslinking with boric acid, washing with an aqueous solution, and drying may be included. The stretching or dyeing process may be performed by a PVA film alone or in a state where it is laminated with another film such as polyethylene terephthalate. The thickness of the PVA film used is preferably 10 to 100 μm, and the draw ratio is preferably 2 to 10 times.
Furthermore, as another example of the polarizer, a liquid crystal-coated polarizer formed by coating a liquid crystal polarizing composition may be used. The liquid crystal polarizing composition may include a liquid crystal compound and a dichroic dye compound. The liquid crystalline compound only needs to have the property of exhibiting a liquid crystal state. In particular, the liquid crystalline compound preferably has a higher-order alignment state such as a smectic phase because it can exhibit high polarization performance. The liquid crystal compound preferably has a polymerizable functional group.

前記二色性色素は、前記液晶化合物とともに配向して二色性を示す色素であって、二色性色素自身が液晶性を有していてもよいし、重合性官能基を有していることもできる。液晶偏光組成物の中のいずれかの化合物は重合性官能基を有している。
前記液晶偏光組成物はさらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。
前記液晶偏光層は、配向膜上に液晶偏光組成物を塗布して液晶偏光層を形成することにより製造される。
液晶偏光層は、フィルム型偏光子に比べて厚さを薄く形成することができる。前記液晶偏光層の厚さは好ましくは0.5〜10μm、より好ましくは1〜5μmであってもよい。
前記配向膜は、例えば基材上に配向膜形成組成物を塗布し、ラビング、偏光照射等により配向性を付与することで製造することができる。前記配向膜形成組成物は、配向剤の他に溶剤、架橋剤、開始剤、分散剤、レベリング剤、シランカップリング剤等を含んでいてもよい。前記配向剤としては、例えば、ポリビニルアルコール類、ポリアクリレート類、ポリアミック酸類、ポリイミド類を使用できる。光配向を適用する場合にはシンナメート基を含む配向剤を使用することが好ましい。前記配向剤として使用される高分子の重量平均分子量が10,000〜1,000,000程度であってもよい。前記配向膜の厚さは、配向規制力の観点から、好ましくは5〜10,000nm、より好ましくは10〜500nmである。前記液晶偏光層は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウインドウの透明基材としての役割を担うことも好ましい。
The dichroic dye is a dye that is aligned with the liquid crystal compound and exhibits dichroism, and the dichroic dye itself may have liquid crystallinity or have a polymerizable functional group. You can also Any compound in the liquid crystal polarizing composition has a polymerizable functional group.
The liquid crystal polarizing composition may further contain an initiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, a crosslinking agent, a silane coupling agent, and the like.
The liquid crystal polarizing layer is manufactured by applying a liquid crystal polarizing composition on an alignment film to form a liquid crystal polarizing layer.
The liquid crystal polarizing layer can be formed thinner than a film-type polarizer. The thickness of the liquid crystal polarizing layer may be preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 1 to 5 μm.
The alignment film can be produced, for example, by applying an alignment film forming composition on a substrate and imparting alignment by rubbing, polarized light irradiation, or the like. The alignment film forming composition may contain a solvent, a crosslinking agent, an initiator, a dispersant, a leveling agent, a silane coupling agent and the like in addition to the aligning agent. Examples of the aligning agent include polyvinyl alcohols, polyacrylates, polyamic acids, and polyimides. When applying photo-alignment, it is preferable to use an aligning agent containing a cinnamate group. The polymer used as the aligning agent may have a weight average molecular weight of about 10,000 to 1,000,000. The thickness of the alignment film is preferably 5 to 10,000 nm, more preferably 10 to 500 nm, from the viewpoint of the alignment regulating force. The liquid crystal polarizing layer can be peeled off from the base material, transferred and laminated, or the base material can be laminated as it is. It is also preferable that the base material plays a role as a transparent base material for a protective film, a retardation plate, or a window.

前記保護フィルムとしては、透明な高分子フィルムであればよく、前記透明基材に使用される材料、添加剤が使用できる。セルロース系フィルム、オレフィン系フィルム、アクリルフィルム、ポリエステル系フィルムが好ましい。エポキシ樹脂等のカチオン硬化組成物やアクリレート等のラジカル硬化組成物を塗布して硬化して得られるコーティング型の保護フィルムであってもよい。必要により可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。前記保護フィルムの厚さは、200μm以下であってもよく、好ましくは、1〜100μmである。前記保護フィルムの厚さが前記の範囲にあると、保護フィルムの柔軟性が低下し難い。保護フィルムは、ウインドウの透明基材の役割を兼ねることもできる。   The protective film may be a transparent polymer film, and materials and additives used for the transparent substrate can be used. A cellulose film, an olefin film, an acrylic film, and a polyester film are preferred. It may be a coating-type protective film obtained by applying and curing a cationic curing composition such as an epoxy resin or a radical curing composition such as an acrylate. If necessary, plasticizers, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, colorants such as pigments and dyes, fluorescent brighteners, dispersants, thermal stabilizers, light stabilizers, antistatic agents, antioxidants, lubricants, solvents, etc. May be included. The protective film may have a thickness of 200 μm or less, preferably 1 to 100 μm. When the thickness of the protective film is within the above range, the flexibility of the protective film is difficult to decrease. The protective film can also serve as a transparent substrate of the window.

前記λ/4位相差板は、入射光の進行方向に直行する方向(フィルムの面内方向)にλ/4の位相差を与えるフィルムである。前記λ/4位相差板は、セルロース系フィルム、オレフィン系フィルム、ポリカーボネート系フィルム等の高分子フィルムを延伸することで製造される延伸型位相差板であってもよい。必要により位相差調整剤、可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。前記延伸型位相差板の厚さは、200μm以下であってもよく、好ましくは1〜100μmである。厚さが前記の範囲にあるとフィルムの柔軟性が低下し難い傾向にある。
さらに前記λ/4位相差板の他の一例としては、液晶組成物を塗布して形成する液晶塗布型位相差板であってもよい。前記液晶組成物は、ネマチック、コレステリック、スメクチック等の液晶状態を示す性質を有する液晶性化合物を含む。液晶組成物の中の液晶性化合物を含むいずれかの化合物は重合性官能基を有している。前記液晶塗布型位相差板はさらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。前記液晶塗布型位相差板は、前記液晶偏光層での記載と同様に配向膜上に液晶組成物を塗布硬化して液晶位相差層を形成することで製造することができる。液晶塗布型位相差板は、延伸型位相差板に比べて厚さを薄く形成することができる。前記液晶偏光層の厚さは、通常0.5〜10μm、好ましくは1〜5μmであってもよい。前記液晶塗布型位相差板は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウインドウの透明基材としての役割を担うことも好ましい。
The λ / 4 phase difference plate is a film that gives a phase difference of λ / 4 in a direction (in-plane direction of the film) perpendicular to the traveling direction of incident light. The λ / 4 retardation plate may be a stretched retardation plate manufactured by stretching a polymer film such as a cellulose film, an olefin film, or a polycarbonate film. If necessary, retardation adjusting agents, plasticizers, UV absorbers, infrared absorbers, colorants such as pigments and dyes, fluorescent brighteners, dispersants, heat stabilizers, light stabilizers, antistatic agents, antioxidants Further, it may contain a lubricant, a solvent and the like. The stretchable retardation plate may have a thickness of 200 μm or less, preferably 1 to 100 μm. When the thickness is in the above range, the flexibility of the film tends not to decrease.
Furthermore, as another example of the λ / 4 retardation plate, a liquid crystal coating type retardation plate formed by applying a liquid crystal composition may be used. The liquid crystal composition includes a liquid crystal compound having a property of exhibiting a liquid crystal state, such as nematic, cholesteric, and smectic. Any compound including a liquid crystal compound in the liquid crystal composition has a polymerizable functional group. The liquid crystal-coated retardation plate may further contain an initiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, a crosslinking agent, a silane coupling agent, and the like. The liquid crystal coating type retardation plate can be produced by coating and curing a liquid crystal composition on an alignment film to form a liquid crystal retardation layer, as described for the liquid crystal polarizing layer. The liquid crystal coated retardation plate can be formed thinner than the stretched retardation plate. The thickness of the liquid crystal polarizing layer may be usually 0.5 to 10 μm, preferably 1 to 5 μm. The liquid crystal coating type retardation plate can be peeled off from the substrate, transferred, and laminated, or the substrate can be laminated as it is. It is also preferable that the base material plays a role as a transparent base material for a protective film, a retardation plate, or a window.

一般的には、短波長ほど複屈折が大きく長波長になるほど小さな複屈折を示す材料が多い。この場合には全可視光領域でλ/4の位相差を達成することはできないので、視感度の高い560nm付近に対してλ/4となるような面内位相差100〜180nm、好ましくは130〜150nmとなるように設計されることが多い。通常とは逆の複屈折率波長分散特性を有する材料を用いた逆分散λ/4位相差板を用いることは視認性をよくすることができるので好ましい。このような材料としては延伸型位相差板の場合は特開2007‐232873号公報等、液晶塗布型位相差板の場合には特開2010‐30979号公報記載されているものを用いることも好ましい。
また、他の方法としてはλ/2位相差板と組合せることで広帯域λ/4位相差板を得る技術も知られている(特開平10−90521号公報)。λ/2位相差板もλ/4位相差板と同様の材料方法で製造される。延伸型位相差板と液晶塗布型位相差板との組合せは任意であるが、どちらも液晶塗布型位相差板を用いることは厚さを薄くすることができるので好ましい。
前記円偏光板には斜め方向の視認性を高めるために、正のCプレートを積層する方法も知られている(特開2014‐224837号公報)。正のCプレートも液晶塗布型位相差板であっても延伸型位相差板であってもよい。厚さ方向の位相差は−200〜−20nm好ましくは−140〜−40nmである。
In general, there are many materials that exhibit higher birefringence as the wavelength is shorter and smaller birefringence as the wavelength is longer. In this case, since a phase difference of λ / 4 cannot be achieved in the entire visible light region, an in-plane phase difference of 100 to 180 nm, preferably 130, becomes λ / 4 with respect to the vicinity of 560 nm having high visibility. Often designed to be ˜150 nm. It is preferable to use a reverse dispersion λ / 4 phase difference plate using a material having birefringence wavelength dispersion characteristics opposite to that of normal, since the visibility can be improved. As such a material, it is also preferable to use a material described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-232873 in the case of a stretch-type phase difference plate and a method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-30979 in the case of a liquid crystal coating type phase difference plate. .
As another method, a technique for obtaining a broadband λ / 4 phase difference plate by combining with a λ / 2 phase difference plate is also known (Japanese Patent Laid-Open No. 10-90521). The λ / 2 phase difference plate is also manufactured by the same material method as the λ / 4 phase difference plate. Although the combination of the stretchable retardation plate and the liquid crystal coating type retardation plate is arbitrary, it is preferable to use the liquid crystal coating type retardation plate for both because the thickness can be reduced.
A method of laminating a positive C plate on the circularly polarizing plate to improve visibility in an oblique direction is also known (Japanese Patent Laid-Open No. 2014-224837). The positive C plate may also be a liquid crystal coated retardation plate or a stretched retardation plate. The retardation in the thickness direction is -200 to -20 nm, preferably -140 to -40 nm.

[タッチセンサ]
本発明のフレキシブル画像表示装置は、上記の通り、タッチセンサを含有する。タッチセンサは入力手段として用いられる。タッチセンサとしては、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式等様々な様式が提案されており、いずれの方式でも構わない。中でも静電容量方式が好ましい。静電容量方式タッチセンサは活性領域及び前記活性領域の外郭部に位置する非活性領域に区分される。活性領域は表示パネルで画面が表示される領域(表示部)に対応する領域であって、使用者のタッチが感知される領域であり、非活性領域は表示装置で画面が表示されない領域(非表示部)に対応する領域である。タッチセンサはフレキシブルな特性を有する基板と;前記基板の活性領域に形成された感知パターンと;前記基板の非活性領域に形成され、前記感知パターンとパッド部を介して外部の駆動回路と接続するための各センシングラインを含むことができる。フレキシブルな特性を有する基板としては、前記ウインドウの透明基板と同様の材料が使用できる。タッチセンサの基板は、その靱性が2,000MPa%以上であるものがタッチセンサのクラック抑制の面から好ましい。より好ましくは靱性が2,000〜30,000MPa%であってもよい。ここで、靭性は、高分子材料の引張実験を通じて得られる応力(MPa)−歪み(%)曲線(Stress-strain curve)で破壊点までの曲線の下部面積として定義される。
[Touch sensor]
The flexible image display device of the present invention contains a touch sensor as described above. The touch sensor is used as input means. Various types of touch sensors such as a resistive film method, a surface acoustic wave method, an infrared method, an electromagnetic induction method, and a capacitance method have been proposed, and any method may be used. Of these, the electrostatic capacity method is preferable. The capacitive touch sensor is divided into an active region and a non-active region located in an outer portion of the active region. The active area is an area corresponding to an area (display unit) where the screen is displayed on the display panel, and is an area where a user's touch is sensed. An inactive area is an area where the screen is not displayed on the display device (non-display area). This is a region corresponding to the display unit. The touch sensor includes a flexible substrate; a sensing pattern formed in an active region of the substrate; and formed in an inactive region of the substrate and connected to an external driving circuit through the sensing pattern and a pad portion. Each sensing line can be included. As the substrate having flexible characteristics, the same material as the transparent substrate of the window can be used. The substrate of the touch sensor preferably has a toughness of 2,000 MPa% or more from the viewpoint of suppressing cracks in the touch sensor. More preferably, the toughness may be 2,000 to 30,000 MPa%. Here, toughness is defined as a lower area of a curve up to a fracture point in a stress (MPa) -strain (%) curve (Stress-strain curve) obtained through a tensile test of a polymer material.

前記感知パターンは、第1方向に形成された第1パターン及び第2方向に形成された第2パターンを備えることができる。第1パターンと第2パターンは互いに異なる方向に配置される。第1パターン及び第2パターンは、同一層に形成され、タッチされる地点を感知するためには、それぞれのパターンが電気的に接続されなければならない。第1パターンは各単位パターンが継ぎ手を介して互いに接続された形態であるが、第2パターンは各単位パターンがアイランド形態に互いに分離された構造になっているので、第2パターンを電気的に接続するためには別途のブリッジ電極が必要である。感知パターンは周知の透明電極素材を適用することができる。例えば、インジウムスズ酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)、亜鉛酸化物(ZnO)、インジウム亜鉛スズ酸化物(IZTO)、インジウムガリウム亜鉛酸化物(IGZO)、カドミウムスズ酸化物(CTO)、PEDOT(poly(3,4―ethylenedioxythiophene))、炭素ナノチューブ(CNT)、グラフェン、金属ワイヤなどを挙げることができ、これらは単独又は2種以上混合して使用することができる。好ましくはITOを使用することができる。金属ワイヤに使用される金属は特に限定されず、例えば、銀、金、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、チタン、テレニウム、クロムなどを挙げることができる。これらは単独又は2種以上混合して使用することができる。   The sensing pattern may include a first pattern formed in a first direction and a second pattern formed in a second direction. The first pattern and the second pattern are arranged in different directions. The first pattern and the second pattern are formed in the same layer, and each pattern must be electrically connected in order to sense a touched point. The first pattern is a form in which each unit pattern is connected to each other through a joint, but the second pattern has a structure in which each unit pattern is separated from each other in an island form. A separate bridge electrode is required for connection. A known transparent electrode material can be applied to the sensing pattern. For example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc tin oxide (IZTO), indium gallium zinc oxide (IGZO), cadmium tin oxide (CTO) , PEDOT (poly (3,4-ethylenedithiothiophene)), carbon nanotube (CNT), graphene, metal wire, and the like. These can be used alone or in combination of two or more. Preferably ITO can be used. The metal used for the metal wire is not particularly limited, and examples thereof include silver, gold, aluminum, copper, iron, nickel, titanium, telenium, and chromium. These can be used alone or in admixture of two or more.

ブリッジ電極は感知パターン上部に絶縁層を介して前記絶縁層上部に形成することができ、基板上にブリッジ電極が形成されており、その上に絶縁層及び感知パターンを形成することができる。前記ブリッジ電極は感知パターンと同じ素材で形成することもでき、モリブデン、銀、アルミニウム、銅、パラジウム、金、白金、亜鉛、スズ、チタン又はこれらのうちの2種以上の合金などの金属で形成することもできる。第1パターンと第2パターンは電気的に絶縁されなければならないので、感知パターンとブリッジ電極の間には絶縁層が形成される。絶縁層は第1パターンの継ぎ手とブリッジ電極の間にのみ形成することもでき、感知パターンを覆う層の構造に形成することもできる。後者の場合は、ブリッジ電極は絶縁層に形成されたコンタクトホールを介して第2パターンを接続することができる。前記タッチセンサはパターンが形成されたパターン領域と、パターンが形成されていない非パターン領域間の透過率の差、具体的には、これらの領域における屈折率の差によって誘発される光透過率の差を適切に補償するための手段として基板と電極の間に光学調節層をさらに含むことができ、前記光学調節層は無機絶縁物質又は有機絶縁物質を含むことができる。光学調節層は光硬化性有機バインダー及び溶剤を含む光硬化組成物を基板上にコーティングして形成することができる。前記光硬化組成物は無機粒子をさらに含むことができる。前記無機粒子によって光学調節層の屈折率が上昇することができる。
前記光硬化性有機バインダーは、例えば、アクリレート系単量体、スチレン系単量体、カルボン酸系単量体などの各単量体の共重合体を含むことができる。前記光硬化性有機バインダーは、例えば、エポキシ基含有繰り返し単位、アクリレート繰り返し単位、カルボン酸繰り返し単位などの互いに異なる各繰り返し単位を含む共重合体であってもよい。
前記無機粒子は、例えば、ジルコニア粒子、チタニア粒子、アルミナ粒子などを含むことができる。前記光硬化組成物は、光重合開始剤、重合性モノマー、硬化補助剤などの各添加剤をさらに含むこともできる。
The bridge electrode can be formed on the sensing pattern via the insulating layer and on the insulating layer. The bridge electrode is formed on the substrate, and the insulating layer and the sensing pattern can be formed thereon. The bridge electrode may be formed of the same material as the sensing pattern, and is formed of a metal such as molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium, or an alloy of two or more of these. You can also Since the first pattern and the second pattern must be electrically insulated, an insulating layer is formed between the sensing pattern and the bridge electrode. The insulating layer may be formed only between the joint of the first pattern and the bridge electrode, or may be formed in a layer structure covering the sensing pattern. In the latter case, the bridge electrode can be connected to the second pattern via a contact hole formed in the insulating layer. The touch sensor has a transmittance difference between a pattern area where a pattern is formed and a non-pattern area where a pattern is not formed, specifically, a light transmittance induced by a difference in refractive index in these areas. As a means for appropriately compensating for the difference, an optical adjustment layer may be further included between the substrate and the electrode, and the optical adjustment layer may include an inorganic insulating material or an organic insulating material. The optical adjustment layer can be formed by coating a photocurable composition containing a photocurable organic binder and a solvent on a substrate. The photocurable composition may further include inorganic particles. The refractive index of the optical adjustment layer can be increased by the inorganic particles.
The photocurable organic binder can include, for example, a copolymer of monomers such as an acrylate monomer, a styrene monomer, and a carboxylic acid monomer. The photocurable organic binder may be a copolymer including different repeating units such as an epoxy group-containing repeating unit, an acrylate repeating unit, and a carboxylic acid repeating unit.
Examples of the inorganic particles include zirconia particles, titania particles, and alumina particles. The photocurable composition may further contain additives such as a photopolymerization initiator, a polymerizable monomer, and a curing auxiliary agent.

[接着層]
前記フレキシブル画像表示装置用積層体を形成する各層(ウインドウ、円偏光板、タッチセンサ)並びに各層を構成するフィルム部材(直線偏光板、λ/4位相差板等)は接着剤によって形成することができる。接着剤としては、水系接着剤、有機溶剤系、無溶剤系接着剤、固体接着剤、溶剤揮散型接着剤、湿気硬化型接着剤、加熱硬化型接着剤、嫌気硬化型、活性エネルギー線硬化型接着剤、硬化剤混合型接着剤、熱溶融型接着剤、感圧型接着剤(粘着剤)、再湿型接着剤等汎用に使用されているものが使用できる。中でも水系溶剤揮散型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、粘着剤がよく用いられる。接着剤層の厚さは、求められる接着力等に応じて適宜調節することができ、0.01〜500μm、好ましくは0.1〜300μmであり、前記フレキシブル画像表示装置用積層体には複数存在するがそれぞれの厚さ及び用いられる粘着剤の種類は同じであっても異なっていてもよい。
[Adhesive layer]
Each layer (window, circular polarizing plate, touch sensor) forming the flexible image display device laminate and a film member (linear polarizing plate, λ / 4 retardation plate, etc.) forming each layer may be formed by an adhesive. it can. Adhesives include water based adhesives, organic solvent based, solventless based adhesives, solid adhesives, solvent volatilizing adhesives, moisture curable adhesives, heat curable adhesives, anaerobic curable adhesives, and active energy ray curable adhesives. Commonly used materials such as an adhesive, a curing agent mixed adhesive, a hot-melt adhesive, a pressure-sensitive adhesive (adhesive), and a rewet adhesive can be used. Of these, water-based solvent volatile adhesives, active energy ray-curable adhesives, and pressure-sensitive adhesives are often used. The thickness of the adhesive layer can be appropriately adjusted according to the required adhesive force and the like, and is 0.01 to 500 μm, preferably 0.1 to 300 μm. Although present, each thickness and the type of pressure-sensitive adhesive used may be the same or different.

前記水系水系溶剤揮散型接着剤としてはポリビニルアルコール系ポリマー、でんぷん等の水溶性ポリマー、エチレン−酢酸ビニル系エマルジョン、スチレン−ブタジエン系エマルジョン等水分散状態のポリマーを主剤ポリマーとして使用することができる。水、前記主剤ポリマーに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、染料、顔料、無機フィラー、有機溶剤等を配合してもよい。前記水系水系溶剤揮散型接着剤によって接着する場合、前記水系水系溶剤揮散型接着剤を被接着層間に注入して被着層を貼合した後、乾燥させることで接着性を付与することができる。前記水系水系溶剤揮散型接着剤を用いる場合の接着層の厚さは0.01〜10μm、好ましくは0.1〜1μmであってもよい。前期水系溶剤揮散型接着剤を複数層の形成に用いる場合、それぞれの層の厚さ及び前記接着剤の種類は同じであっても異なっていてもよい。   As the water-based aqueous solvent volatilization type adhesive, water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol polymers and starches, water-dispersed polymers such as ethylene-vinyl acetate emulsions and styrene-butadiene emulsions can be used as the main polymer. In addition to water and the main polymer, a crosslinking agent, a silane compound, an ionic compound, a crosslinking catalyst, an antioxidant, a dye, a pigment, an inorganic filler, an organic solvent, and the like may be blended. In the case of bonding with the aqueous aqueous solvent volatile adhesive, the aqueous aqueous solvent volatile adhesive is injected between the layers to be bonded and bonded to the adherent layer, and then dried to provide adhesion. . The thickness of the adhesive layer in the case of using the aqueous aqueous solvent volatilization type adhesive may be 0.01 to 10 μm, preferably 0.1 to 1 μm. In the case where the pre-aqueous solvent volatile adhesive is used for forming a plurality of layers, the thickness of each layer and the kind of the adhesive may be the same or different.

前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、活性エネルギー線を照射して接着剤層を形成する反応性材料を含む活性エネルギー線硬化組成物の硬化により形成することができる。前記活性エネルギー線硬化組成物は、ハードコート組成物と同様のラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物を含有することができる。前記ラジカル重合性化合物とは、ハードコート組成物と同様であり、ハードコート組成物と同様の種類のものが使用できる。接着層に用いられるラジカル重合性化合物としてはアクリロイル基を有する化合物が好ましい。接着剤組成物としての粘度を下げるために単官能の化合物を含むことも好ましい。   The active energy ray-curable adhesive can be formed by curing an active energy ray-curable composition containing a reactive material that irradiates active energy rays to form an adhesive layer. The active energy ray-curable composition can contain at least one polymer of a radical polymerizable compound and a cationic polymerizable compound similar to the hard coat composition. The radical polymerizable compound is the same as the hard coat composition, and the same kind as the hard coat composition can be used. As the radical polymerizable compound used for the adhesive layer, a compound having an acryloyl group is preferable. It is also preferable to contain a monofunctional compound in order to lower the viscosity of the adhesive composition.

前記カチオン重合性化合物は、ハードコート組成物と同様であり、ハードコート組成物と同様の種類のものが使用できる。活性エネルギー線硬化組成物に用いられるカチオン重合性化合物としては、エポキシ化合物が特に好ましい。接着剤組成物としての粘度を下げるために単官能の化合物を反応性希釈剤として含むことも好ましい。
活性エネルギー線組成物には重合開始剤をさらに含むことができる。重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等であり、適宜選択して用いることができる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。ハードコート組成物の記載の中で活性エネルギー線照射によりラジカル重合又はカチオン重合の内の少なくともいずれか開始することができる開始剤を使用することができる。
The cationic polymerizable compound is the same as that of the hard coat composition, and the same kind as that of the hard coat composition can be used. As the cationic polymerizable compound used in the active energy ray-curable composition, an epoxy compound is particularly preferable. In order to reduce the viscosity of the adhesive composition, it is also preferable to include a monofunctional compound as a reactive diluent.
The active energy ray composition may further contain a polymerization initiator. Examples of the polymerization initiator include radical polymerization initiators, cationic polymerization initiators, radicals and cationic polymerization initiators, which can be appropriately selected and used. These polymerization initiators are decomposed by at least one of active energy ray irradiation and heating to generate radicals or cations to advance radical polymerization and cationic polymerization. In the description of the hard coat composition, an initiator capable of initiating at least one of radical polymerization or cationic polymerization by irradiation with active energy rays can be used.

前記活性エネルギー線硬化組成物はさらに、イオン捕捉剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、密着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動粘度調整剤、可塑剤、消泡剤溶剤、添加剤、溶剤を含むことができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤によって接着する場合、前記活性エネルギー線硬化組成物を被接着層のいずれか又は両方に塗布後貼合し、いずれかの被着層又は両方の被着層を通して活性エネルギー線を照射して硬化させることで接着することができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を用いる場合の接着層の厚さは0.01〜20μm、好ましくは0.1〜10μmであってもよい。前期活性エネルギー線硬化型接着剤を複数層の形成に用いる場合には、それぞれの層の厚さ及び用いられる接着剤の種類は同じであっても異なっていてもよい。   The active energy ray curable composition further includes an ion scavenger, an antioxidant, a chain transfer agent, an adhesion promoter, a thermoplastic resin, a filler, a flow viscosity modifier, a plasticizer, an antifoaming solvent, an additive, a solvent. Can be included. When adhering with the active energy ray curable adhesive, the active energy ray curable composition is applied to either or both of the adherend layers and then bonded, and the active energy ray curable composition is activated through either of the adherent layers or both of the adherent layers. It can be bonded by irradiating with energy rays and curing. When the active energy ray-curable adhesive is used, the thickness of the adhesive layer may be 0.01 to 20 μm, preferably 0.1 to 10 μm. When the active energy ray-curable adhesive is used for forming a plurality of layers, the thickness of each layer and the type of the adhesive used may be the same or different.

前記粘着剤としては、主剤ポリマーに応じて、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤等に分類され何れを使用することもできる。粘着剤には主剤ポリマーに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、粘着付与剤、可塑剤、染料、顔料、無機フィラー等を配合してもよい。前記粘着剤を構成する各成分を溶剤に溶解・分散させて粘着剤組成物を得て、該粘着剤組成物を基材上に塗布した後に乾燥させることで、粘着剤層接着層が形成される。粘着層は直接形成されてもよいし、別途基材に形成したものを転写することもできる。接着前の粘着面をカバーするためには離型フィルムを使用することも好ましい。前記粘着剤を用いる場合の接着層の厚さは1〜500μm、好ましくは2〜300μmであってもよい。前期粘着剤を複数層の形成に用いる場合、それぞれの層の厚さ及び用いられる粘着剤の種類は同じであっても異なっていてもよい。   The pressure-sensitive adhesive is classified into an acrylic pressure-sensitive adhesive, a urethane pressure-sensitive adhesive, a rubber pressure-sensitive adhesive, a silicone pressure-sensitive adhesive, and the like depending on the main polymer, and any of them can be used. In addition to the main polymer, the adhesive may contain a crosslinking agent, a silane compound, an ionic compound, a crosslinking catalyst, an antioxidant, a tackifier, a plasticizer, a dye, a pigment, an inorganic filler, and the like. Each component constituting the pressure-sensitive adhesive is dissolved / dispersed in a solvent to obtain a pressure-sensitive adhesive composition, and the pressure-sensitive adhesive composition is coated on a substrate and then dried to form a pressure-sensitive adhesive layer adhesive layer. The The pressure-sensitive adhesive layer may be directly formed, or a layer separately formed on the substrate can be transferred. In order to cover the adhesive surface before bonding, it is also preferred to use a release film. When the pressure-sensitive adhesive is used, the thickness of the adhesive layer may be 1 to 500 μm, preferably 2 to 300 μm. When the first-stage pressure-sensitive adhesive is used for forming a plurality of layers, the thickness of each layer and the type of pressure-sensitive adhesive used may be the same or different.

[遮光パターン]
前記遮光パターンは前期フレキシブル画像表示装置のベゼルまたはハウジングの少なくとも一部として適用することができる。遮光パターンによって前記フレキシブル画像表示装置の辺縁部に配置される配線が隠されて視認されにくくすることで、画像の視認性が向上する。前記遮光パターンは単層または複層の形態であってもよい。遮光パターンのカラーは特に制限されることはなく、黒色、白色、金属色などの多様なカラーを有することができる。遮光パターンはカラーを具現するための顔料と、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーンなどの高分子で形成することができる。これらの単独または2種類以上の混合物で使用することもできる。前記遮光パターンは、印刷、リソグラフィ、インクジェットなど各種の方法にて形成することができる。遮光パターンの厚さは、通常1〜100μm、好ましくは2〜50μmである。また、光パターンの厚さ方向に傾斜等の形状を付与することも好ましい。
[Shading pattern]
The light shielding pattern can be applied as at least a part of a bezel or a housing of a flexible image display device in the previous period. The visibility of the image is improved by concealing the wiring arranged at the edge portion of the flexible image display device by the light shielding pattern and making it difficult to see. The light shielding pattern may be a single layer or a multilayer. The color of the light-shielding pattern is not particularly limited, and can have various colors such as black, white, and metal color. The light shielding pattern can be formed of a pigment for embodying a color and a polymer such as an acrylic resin, an ester resin, an epoxy resin, polyurethane, or silicone. These can be used alone or in a mixture of two or more. The light shielding pattern can be formed by various methods such as printing, lithography, and inkjet. The thickness of the light shielding pattern is usually 1 to 100 μm, preferably 2 to 50 μm. It is also preferable to give a shape such as an inclination in the thickness direction of the light pattern.

以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。例中の「%」及び「部」は、特記ない限り、質量%及び質量部を意味する。まず測定及び評価方法について説明する。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated more concretely based on an Example and a comparative example, this invention is not limited to a following example. Unless otherwise specified, “%” and “part” in the examples mean mass% and part by mass. First, measurement and evaluation methods will be described.

<シリカ粒子の一次粒子径>
実施例及び比較例におけるシリカ粒子の一次粒子径はBET法で測定評価した。
<Primary particle diameter of silica particles>
The primary particle diameter of the silica particles in Examples and Comparative Examples was measured and evaluated by the BET method.

<シリカ粒子の円相当半径>
実施例及び比較例におけるフィルム中のシリカ一次粒子の円相当半径は、電子顕微鏡像の画像解析で評価した。各フィルムのSEM画像(画像サイズ:1280pixel×898pixel、画素サイズ:2.48nm/pixel)を撮影し、大津の自動判別法により二値化像を得た。画像解析ソフトImageJのWatershedを用い、一次粒子に分割処理した後、Despeckleを実行し、再度Watershedを実行し、画像解析ソフトImageJのAnalyze Particlesより各一次粒子のArea(ピクセル数)を算出した。ただし、2ピクセル以下はノイズと判断し、集計からは除外した。下記式により各一次粒子の円相当半径R(nm)を得た。
R=2.48×(Area/3.14)0.5
各一次粒子の円相当半径Rから得られる円相当半径分布から、シリカ粒子(シリカ一次粒子)の円相当半径の平均値を求めた。
<Circle equivalent radius of silica particles>
The circle-equivalent radius of the silica primary particles in the films in Examples and Comparative Examples was evaluated by image analysis of electron microscope images. SEM images of each film (image size: 1280 pixels × 898 pixels, pixel size: 2.48 nm / pixel) were photographed, and binarized images were obtained by Otsu's automatic discrimination method. Using Watershed of the image analysis software ImageJ, the particle was divided into primary particles, then Executed Despeckle, again executed Watershed, and the Area (number of pixels) of each primary particle was calculated from the Analyze Particles of the image analysis software ImageJ. However, 2 pixels or less were judged as noise and excluded from the totalization. The equivalent circle radius R (nm) of each primary particle was obtained by the following formula.
R = 2.48 × (Area / 3.14) 0.5
From the circle equivalent radius distribution obtained from the circle equivalent radius R of each primary particle, the average value of the circle equivalent radii of the silica particles (silica primary particles) was determined.

<ヘイズ(Haze)>
JIS K 7136:2000に準拠して、実施例及び比較例で得られた光学フィルムを30mm×30mmの大きさにカットし、ヘイズコンピュータ(スガ試験機(株)製、「HGM−2DP」)を用いてヘイズ(%)を測定した。
<Haze>
In accordance with JIS K 7136: 2000, the optical films obtained in Examples and Comparative Examples were cut into a size of 30 mm × 30 mm, and a haze computer (“HGM-2DP” manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.) was used. Using, haze (%) was measured.

<黄色度(YI値)>
実施例及び比較例で得られた光学フィルムの黄色度(Yellow Index:YI値)を、日本分光(株)製の紫外可視近赤外分光光度計「V−670」を用いて測定した。サンプルがない状態でバックグランド測定を行った後、光学フィルムをサンプルホルダーにセットして、300〜800nmの光に対する透過率測定を行い、3刺激値(X、Y、Z)を求め、下記式に基づいてYI値を算出した。
YI=100×(1.2769X−1.0592Z)/Y
<Yellowness (YI value)>
The yellowness (Yellow Index: YI value) of the optical films obtained in Examples and Comparative Examples was measured using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer “V-670” manufactured by JASCO Corporation. After measuring the background without a sample, set the optical film on the sample holder, measure the transmittance for light of 300 to 800 nm, and obtain the tristimulus values (X, Y, Z). YI value was calculated based on the above.
YI = 100 × (1.2769X−1.0592Z) / Y

<全光線透過率(Tt)>
JIS K 7361−1:1997に準拠して、実施例及び比較例で得られた光学フィルムを30mm×30mmの大きさにカットし、ヘイズコンピュータ(スガ試験機(株)製、「HGM−2DP」)を用いて、光学フィルムの厚さ50μmにおける全光線透過率(%)を測定した。
<Total light transmittance (Tt)>
In accordance with JIS K 7361-1: 1997, the optical films obtained in Examples and Comparative Examples were cut into a size of 30 mm × 30 mm, and a haze computer (“HGM-2DP” manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.) ) Was used to measure the total light transmittance (%) at an optical film thickness of 50 μm.

<反射b*>
実施例及び比較例で得られた光学フィルムを50×50mmの大きさにカットし、黒色PET((株)巴川製紙所製、「くっきりミエール」)に貼り付けて作製したサンプルについて、分光測色計(コニカミノルタ(株)製、「CM−3700A」)を用いて、SCE(正反射を除く)を測定し、反射b*(SCE)の値を得た。
<Reflection b *>
Spectral colorimetry for samples prepared by cutting the optical films obtained in Examples and Comparative Examples to a size of 50 × 50 mm and affixing to black PET (manufactured by Yodogawa Paper Co., Ltd., “Kukiri Mieru”) The SCE (excluding regular reflection) was measured using a meter (“CM-3700A” manufactured by Konica Minolta, Inc.), and the value of reflection b * (SCE) was obtained.

<耐衝撃性試験>
・耐衝撃性評価用サンプルの作製
攪拌機、温度計、還流冷却器、滴下装置及び窒素導入管を備えた反応容器に、アクリル酸n−ブチル97.0質量部、アクリル酸1.0質量部、アクリル酸2−ヒドロキシエチル0.5質量部、酢酸エチル200質量部、及び2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.08質量部を仕込み、上記反応容器内の空気を窒素ガスで置換した。窒素雰囲気下で攪拌しながら、反応溶液を60℃に昇温し、6時間反応させた後、室温まで冷却した。得られた溶液の一部の重量平均分子量を測定した所、180万の(メタ)アクリル酸エステル重合体の生成を確認した。
<Impact resistance test>
-Preparation of sample for impact resistance evaluation In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, a dropping device and a nitrogen introduction tube, 97.0 parts by mass of n-butyl acrylate, 1.0 part by mass of acrylic acid, 0.5 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate, 200 parts by mass of ethyl acetate, and 0.08 parts by mass of 2,2′-azobisisobutyronitrile were charged, and the air in the reaction vessel was replaced with nitrogen gas. . While stirring under a nitrogen atmosphere, the reaction solution was heated to 60 ° C., reacted for 6 hours, and then cooled to room temperature. When the weight average molecular weight of a part of the obtained solution was measured, production of 1,800,000 (meth) acrylic acid ester polymer was confirmed.

上記工程で得られた(メタ)アクリル酸エステル重合体100質量部(固形分換算値;以下同じ)と、イソシアネート系架橋剤として、トリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート(東ソー(株)製、商品名「コロネート(登録商標) L」)0.30質量部と、シランカップリング剤として、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製,商品名「KBM403」)0.30質量部とを混合し、十分に撹拌して、酢酸エチルで希釈することにより、粘着剤組成物の塗工溶液を得た。
セパレータ(リンテック(株)製:SP−PLR382190)の離型処理面(剥離層面)に、アプリケーターにより、乾燥後の厚さが25μmとなるように前記塗工溶液を塗工した後、100℃で1分間乾燥し、粘着剤層のセパレータが貼合された面とは反対面に、もう1枚のセパレータ(リンテック(株)製:SP−PLR381031)を貼合し、両面セパレータ付き粘着剤層を得た。
100 parts by mass of the (meth) acrylic acid ester polymer obtained in the above process (converted to solid content; the same shall apply hereinafter) and trimethylolpropane-modified tolylene diisocyanate (trade name, manufactured by Tosoh Corporation) as an isocyanate crosslinking agent "Coronate (registered trademark) L") 0.30 parts by mass and, as a silane coupling agent, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name "KBM403") 0.30 parts by mass Were mixed, sufficiently stirred, and diluted with ethyl acetate to obtain a coating solution of the pressure-sensitive adhesive composition.
After applying the coating solution on the release treatment surface (peeling layer surface) of the separator (manufactured by Lintec Corporation: SP-PLR382190) with an applicator so that the thickness after drying becomes 25 μm, at 100 ° C. Dry for 1 minute, and paste another separator (Lintec Co., Ltd .: SP-PLR381031) on the side opposite to the side where the separator of the pressure-sensitive adhesive layer is bonded. Obtained.

両面セパレータ付き粘着剤層から粘着剤層をガラスに移着することで粘着剤層を形成し、該粘着剤層上に実施例及び比較例で得られた光学フィルムを貼り合わせて、ガラス、粘着剤層、及び光学フィルムがこの順に積層された積層体(耐衝撃性評価用サンプル)を得た。   A pressure-sensitive adhesive layer is formed by transferring the pressure-sensitive adhesive layer from the pressure-sensitive adhesive layer with a double-sided separator to glass, and the optical films obtained in Examples and Comparative Examples are bonded onto the pressure-sensitive adhesive layer to form a glass, adhesive A laminate (a sample for impact resistance evaluation) in which the agent layer and the optical film were laminated in this order was obtained.

・耐衝撃性評価
耐衝撃性を評価した。具体的には、上記積層体(耐衝撃性評価用サンプル)の光学フィルム面上に10cmの高さから重りを落下させて凹みを作製した。重りは、質量4.6g、該光学フィルム面に衝突する箇所が直径0.75mmの球状で、ステンレス製である。次いで、光干渉膜厚計((株)菱化システム社製、「Micromap(MM557N−M100型)」)を用いて光学フィルム表面の前記凹みの形状の観察を行い、試験前の凹んでいない状態のフィルム表面を基準に、最も大きく凹んだ点の深さ(試験前の凹んでいない状態のフィルム表面から最も大きく凹んだ点までの最短距離)を計測した。測定は5回繰り返し行い、凹み深さの平均値を耐衝撃性試験における凹み量とした。
-Impact resistance evaluation Impact resistance was evaluated. Specifically, a weight was dropped from a height of 10 cm onto the optical film surface of the laminate (impact resistance evaluation sample) to prepare a dent. The weight is 4.6 g in mass, and the portion that collides with the optical film surface is spherical with a diameter of 0.75 mm and is made of stainless steel. Next, the shape of the dent on the optical film surface was observed using an optical interference film thickness meter ("Micromap (MM557N-M100 type)" manufactured by Ryoka System Co., Ltd.), and the dent was not in the state before the test. The depth of the largest recessed point (the shortest distance from the unrecessed film surface before the test to the largest recessed point) was measured on the basis of the film surface. The measurement was repeated 5 times, and the average value of the dent depth was defined as the dent amount in the impact resistance test.

<重量平均分子量(Mw)>
ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)測定
・前処理方法
実施例で得られたポリアミドイミドにDMF溶離液(10mM臭化リチウム溶液)を濃度2mg/mLとなるように加え、80℃にて30分間攪拌しながら加熱し、冷却後、0.45μmメンブランフィルターでろ過したものを測定溶液とした。
・測定条件
カラム:TSKgel SuperAWM−H×2+SuperAW2500×1(6.0mm I.D.×150mm×3本)
溶離液:DMF(10mMの臭化リチウム添加)
流量:1.0mL/min.
検出器:RI検出器
カラム温度:40℃
注入量:100μL
分子量標準:標準ポリスチレン
<Weight average molecular weight (Mw)>
Gel Permeation Chromatography (GPC) Measurement / Pretreatment Method A DMF eluent (10 mM lithium bromide solution) is added to the polyamideimide obtained in the example to a concentration of 2 mg / mL, and the mixture is stirred at 80 ° C. for 30 minutes. The solution was heated, cooled, and filtered through a 0.45 μm membrane filter to obtain a measurement solution.
Measurement conditions Column: TSKgel SuperAWM-H × 2 + SuperAW2500 × 1 (6.0 mm ID × 150 mm × 3)
Eluent: DMF (10 mM lithium bromide added)
Flow rate: 1.0 mL / min.
Detector: RI detector Column temperature: 40 ° C
Injection volume: 100 μL
Molecular weight standard: Standard polystyrene

<光学フィルムの膜厚>
実施例及び比較例で得られた光学フィルムの膜厚は、(株)ミツトヨ製のマイクロメーターを用いて測定した。
<Thickness of optical film>
The film thicknesses of the optical films obtained in Examples and Comparative Examples were measured using a micrometer manufactured by Mitutoyo Corporation.

[実施例1]
(シリカゾルの調製)
1000mLのフラスコにメタノール分散シリカゾル(一次粒子径11nm、シリカ固形分21.0%)523.8g及びγ−ブチロラクトン(GBL)440.0gを入れ、真空エバポレータで45℃の湯浴下、400hPaで1時間、250hPaで1時間メタノールを蒸発させた。さらに250hPa下で70℃まで昇温して30分間加熱し、γ−ブチロラクトン分散シリカゾル1(GBL分散シリカゾル1)を得た。得られたGBL分散シリカゾル1の固形分濃度は19.3%であった。
[Example 1]
(Preparation of silica sol)
A 1000 mL flask was charged with 523.8 g of methanol-dispersed silica sol (primary particle size 11 nm, silica solid content 21.0%) and 440.0 g of γ-butyrolactone (GBL), and 1 at 400 hPa in a 45 ° C. hot water bath with a vacuum evaporator. The methanol was evaporated for 1 hour at 250 hPa for 1 hour. Further, the temperature was raised to 70 ° C. under 250 hPa and heated for 30 minutes to obtain γ-butyrolactone-dispersed silica sol 1 (GBL-dispersed silica sol 1). The obtained GBL-dispersed silica sol 1 had a solid content concentration of 19.3%.

(ポリアミドイミドの調製)
窒素ガス雰囲気下、撹拌翼を備えた1Lセパラブルフラスコに、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノジフェニル(TFMB)45g(140.52mmol)及びN,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)768.55gを加え、室温で撹拌しながらTFMBをDMAcに溶解させた。次に、フラスコに4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDA)18.92g(42.58mmol)を添加し、室温で3時間撹拌した。その後、4,4’−オキシビス(ベンゾイルクロリド)(OBBC)4.19g(14.19mmol)、次いでテレフタロイルクロリド(TPC)17.29g(85.16mmol)をフラスコに加え、室温で1時間撹拌した。次いで、フラスコに4−メチルピリジン4.63g(49.68mmol)と無水酢酸13.04g(127.75mmol)とを加え、室温で30分間撹拌後、オイルバスを用いて70℃に昇温し、さらに3時間撹拌し、反応液を得た。
得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入し、析出した沈殿物を取り出し、メタノールで6時間浸漬後、メタノールで洗浄した。次に、100℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミドイミド1を得た。得られたポリアミドイミド1の重量平均分子量は、400,000であった。
(Preparation of polyamideimide)
Under a nitrogen gas atmosphere, in a 1 L separable flask equipped with a stirring blade, 45 g (140.52 mmol) of 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4′-diaminodiphenyl (TFMB) and N, N-dimethyl were added. Acetamide (DMAc) 768.55 g was added, and TFMB was dissolved in DMAc while stirring at room temperature. Next, 18.92 g (42.58 mmol) of 4,4 ′-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride (6FDA) was added to the flask and stirred at room temperature for 3 hours. Thereafter, 4.19 g (14.19 mmol) of 4,4′-oxybis (benzoyl chloride) (OBBC) and then 17.29 g (85.16 mmol) of terephthaloyl chloride (TPC) were added to the flask and stirred at room temperature for 1 hour. did. Next, 4.63 g (49.68 mmol) of 4-methylpyridine and 13.04 g (127.75 mmol) of acetic anhydride were added to the flask. After stirring at room temperature for 30 minutes, the temperature was raised to 70 ° C. using an oil bath, The mixture was further stirred for 3 hours to obtain a reaction solution.
The resulting reaction solution was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol in the form of a thread, the deposited precipitate was taken out, immersed in methanol for 6 hours, and washed with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 100 ° C. to obtain polyamideimide 1. The weight average molecular weight of the obtained polyamideimide 1 was 400,000.

(光学フィルムの製造)
ポリアミドイミド1をGBLに溶解し、上記のGBL分散シリカゾルを加えて十分に混合することで、ポリアミドイミド1/シリカ粒子混合ワニスを得た。ポリアミドイミド1とシリカ粒子の比率は70:30であった。また、ポリアミドイミド1/シリカ粒子濃度(ワニスの質量に対する樹脂とシリカ粒子の総質量)が10質量%となるように調製した。
得られた混合ワニスを目開き10マイクロメートルのフィルターでろ過した後、ポリエステル基材(東洋紡(株)製、商品名「A4100」)の平滑面上に自立膜の膜厚が55μmとなるようにアプリケーターを用いて塗工し、50℃で30分間、次いで140℃で15分間乾燥し、ポリエステル基材を剥離することで、自立膜を得た。自立膜を金枠に固定して200℃で乾燥させ、膜厚50μmの光学フィルム1を得た。
(Manufacture of optical films)
Polyamideimide 1 was dissolved in GBL, and the above GBL-dispersed silica sol was added and mixed well to obtain a polyamideimide 1 / silica particle mixed varnish. The ratio of polyamideimide 1 and silica particles was 70:30. Moreover, it prepared so that the polyamideimide 1 / silica particle density | concentration (total mass of resin and a silica particle with respect to the mass of a varnish) might be 10 mass%.
After filtering the obtained mixed varnish with a filter having an opening of 10 micrometers, the film thickness of the free-standing film is 55 μm on the smooth surface of the polyester base material (trade name “A4100” manufactured by Toyobo Co., Ltd.). The film was applied using an applicator, dried at 50 ° C. for 30 minutes, then at 140 ° C. for 15 minutes, and the polyester substrate was peeled off to obtain a self-supporting film. The self-supporting film was fixed to a metal frame and dried at 200 ° C. to obtain an optical film 1 having a thickness of 50 μm.

[実施例2]
(シリカゾルの調製)
1000mLのフラスコにメタノール分散シリカゾル(一次粒子径10nm、シリカ固形分15.7%)509.6g及びGBL436.1gを入れ、真空エバポレータで45℃の湯浴下、400hPaで1時間、250hPaで1時間メタノールを蒸発させた。さらに250hPa下で70℃まで昇温して30分間加熱し、γ−ブチロラクトン分散シリカゾル2(GBL分散シリカゾル2)を得た。得られたGBL分散シリカゾル2の固形分濃度は15.4%であった。
[Example 2]
(Preparation of silica sol)
509.6 g of methanol-dispersed silica sol (primary particle size 10 nm, silica solid content 15.7%) and GBL 436.1 g were placed in a 1000 mL flask, and heated in a 45 ° C. water bath with a vacuum evaporator at 400 hPa for 1 hour and 250 hPa for 1 hour. Methanol was evaporated. Further, the temperature was raised to 70 ° C. under 250 hPa and heated for 30 minutes to obtain γ-butyrolactone-dispersed silica sol 2 (GBL-dispersed silica sol 2). The obtained GBL-dispersed silica sol 2 had a solid content concentration of 15.4%.

(ポリアミドイミドの調製及び光学フィルムの製造)
GBL分散シリカゾルとして、シリカ粒子の一次粒子径が10nmの上記GBL分散シリカゾル2を使用したこと以外は、実施例1と同様にして光学フィルムを得た。
(Preparation of polyamideimide and production of optical film)
As the GBL-dispersed silica sol, an optical film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the GBL-dispersed silica sol 2 having a silica particle primary particle diameter of 10 nm was used.

[実施例3]
(シリカゾルの調製)
1000mLのフラスコにメタノール分散シリカゾル(一次粒子径12nm、シリカ固形分31.1%)398.5g及びGBL272.2gを入れ、真空エバポレータで45℃の湯浴下、400hPaで1時間、250hPaで1時間メタノールを蒸発させた。さらに250hPa下で70℃まで昇温して30分間加熱し、γ−ブチロラクトン分散シリカゾル3(GBL分散シリカゾル3)を得た。得られたGBL分散シリカゾル3の固形分濃度は30.9%であった。
[Example 3]
(Preparation of silica sol)
In a 1000 mL flask, 398.5 g of methanol-dispersed silica sol (primary particle size 12 nm, silica solid content 31.1%) and 272.2 g of GBL were placed. In a 45 ° C. hot water bath with a vacuum evaporator, 400 hPa for 1 hour, 250 hPa for 1 hour. Methanol was evaporated. Further, the temperature was raised to 70 ° C. under 250 hPa and heated for 30 minutes to obtain γ-butyrolactone-dispersed silica sol 3 (GBL-dispersed silica sol 3). The solid content concentration of the obtained GBL-dispersed silica sol 3 was 30.9%.

(ポリアミドイミドの調製及び光学フィルムの製造)
GBL分散シリカゾルとして、シリカ粒子の一次粒子径が12nmの上記GBL分散シリカゾル3を使用したこと以外は、実施例1と同様にして光学フィルムを得た。
(Preparation of polyamideimide and production of optical film)
As the GBL-dispersed silica sol, an optical film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the GBL-dispersed silica sol 3 having a primary particle diameter of 12 nm was used.

[実施例4]
(シリカゾルの調製)
1000mLのフラスコにメタノール分散シリカゾル(一次粒子径21nm、シリカ固形分30.9%)398.1g及びGBL269.9gを入れ、真空エバポレータで45℃の湯浴下、400hPaで1時間、250hPaで1時間メタノールを蒸発させた。さらに250hPa下で70℃まで昇温して30分間加熱し、γ−ブチロラクトン分散シリカゾル4(GBL分散シリカゾル4)を得た。得られたGBL分散シリカゾル4の固形分濃度は30.3%であった。
[Example 4]
(Preparation of silica sol)
In a 1000 mL flask, 398.1 g of methanol-dispersed silica sol (primary particle diameter 21 nm, silica solid content 30.9%) and GBL 269.9 g were placed, and a vacuum evaporator at 45 ° C. in a hot water bath at 400 hPa for 1 hour, 250 hPa for 1 hour. Methanol was evaporated. Further, the temperature was raised to 70 ° C. under 250 hPa and heated for 30 minutes to obtain γ-butyrolactone-dispersed silica sol 4 (GBL-dispersed silica sol 4). The solid content concentration of the obtained GBL-dispersed silica sol 4 was 30.3%.

(ポリアミドイミドの調製及び光学フィルムの製造)
GBL分散シリカゾルとして、シリカ粒子の一次粒子径が21nmの上記GBL分散シリカゾル4を使用したこと以外は、実施例1と同様にして光学フィルムを得た。
(Preparation of polyamideimide and production of optical film)
As the GBL-dispersed silica sol, an optical film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the GBL-dispersed silica sol 4 having a primary particle diameter of 21 nm was used.

[実施例5]
(ポリアミドイミドの調製)
窒素ガス雰囲気下、撹拌翼を備えた1Lセパラブルフラスコに、TFMB53.05g(165.66mmol)及びDMAc670.91gを加え、室温で撹拌しながらTFMBをDMAcに溶解させた。次に、フラスコに、6FDA22.11g(49.77mmol)、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)4.88g(16.59mmol)を添加し、次いで、TPC20.21g(99.54mmol)を添加し、室温で1時間撹拌した。次いで、フラスコにピリジン10.53g(133.08mmol)と無水酢酸13.77g(134.83mmol)とを加え、室温で30分間撹拌後、オイルバスを用いて70℃に昇温し、さらに3時間撹拌し、反応液を得た。
得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入し、析出した沈殿物を取り出し、メタノールで6時間浸漬後、メタノールで洗浄した。次に、100℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、ポリアミドイミド2を得た。得られたポリアミドイミド2の重量平均分子量は、190,000であった。
[Example 5]
(Preparation of polyamideimide)
Under a nitrogen gas atmosphere, 53.05 g (165.66 mmol) of TFMB and 670.91 g of DMAc were added to a 1 L separable flask equipped with a stirring blade, and TFMB was dissolved in DMAc while stirring at room temperature. Next, 22.11 g (49.77 mmol) of 6FDA, 4.88 g (16.59 mmol) of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) were added to the flask, and then TPC20 .21 g (99.54 mmol) was added and stirred at room temperature for 1 hour. Next, 10.53 g (133.08 mmol) of pyridine and 13.77 g (134.83 mmol) of acetic anhydride were added to the flask, stirred at room temperature for 30 minutes, then heated to 70 ° C. using an oil bath, and further 3 hours Stir to obtain a reaction solution.
The resulting reaction solution was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol in the form of a thread, the deposited precipitate was taken out, immersed in methanol for 6 hours, and washed with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 100 ° C. to obtain polyamideimide 2. The obtained polyamide-imide 2 had a weight average molecular weight of 190,000.

(光学フィルムの製造)
ポリアミドイミドとして、上記ポリアミドイミド2を用いたこと以外は、実施例1と同様にして光学フィルムを得た。
(Manufacture of optical films)
An optical film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the polyamideimide 2 was used as the polyamideimide.

[比較例1]
(シリカゾルの調製)
1,000mLのフラスコにメタノール分散シリカゾル(一次粒子径27nm、シリカ粒子固形分30.5%)442.6g及びGBL 301.6gを入れ、真空エバポレータで45℃の湯浴下、400hPaで1時間、250hPaで1時間メタノールを蒸発させた。さらに250hPa下で70℃まで昇温して30分間加熱し、GBL分散シリカゾル5を得た。得られたGBL分散シリカゾル5の固形分濃度は28.9%であった。
[Comparative Example 1]
(Preparation of silica sol)
In a 1,000 mL flask, 442.6 g of methanol-dispersed silica sol (primary particle diameter 27 nm, silica particle solid content 30.5%) and GBL 301.6 g were placed, and a vacuum evaporator in a 45 ° C. water bath at 400 hPa for 1 hour. Methanol was evaporated at 250 hPa for 1 hour. Further, the temperature was raised to 70 ° C. under 250 hPa and heated for 30 minutes to obtain GBL-dispersed silica sol 5. The obtained GBL-dispersed silica sol 5 had a solid content concentration of 28.9%.

(ポリアミドイミドの調製及び光学フィルムの製造)
GBL分散シリカゾルとして、シリカ粒子の一次粒子径が27nmの上記GBL分散シリカゾル5を使用したこと以外は、実施例1と同様にして光学フィルムを得た。
(Preparation of polyamideimide and production of optical film)
As the GBL-dispersed silica sol, an optical film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the GBL-dispersed silica sol 5 having a primary particle diameter of 27 nm was used.

[比較例2]
ポリアミドイミドに代えて、ポリイミド(河村産業(株)製「KPI−MX300F」)を用いたこと以外は、比較例1と同様にして光学フィルムを得た。
[Comparative Example 2]
An optical film was obtained in the same manner as in Comparative Example 1, except that polyimide (“KPI-MX300F” manufactured by Kawamura Sangyo Co., Ltd.) was used instead of polyamideimide.

[比較例3]
メタノール分散シリカを使用せず、ポリアミドイミド濃度(ワニスの質量に対するポリアミドイミドの質量)が6質量%となるようにワニスを調製したこと以外は、実施例1と同様にして光学フィルムを得た。
[Comparative Example 3]
An optical film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the varnish was prepared so that the concentration of polyamideimide (mass of polyamideimide relative to the mass of varnish) was 6 mass% without using methanol-dispersed silica.

実施例1〜5及び比較例1〜3で得られた光学フィルムにおいて、樹脂の種類、シリカ含有量、シリカの一次粒子径、シリカの円相当半径、耐衝撃性試験における凹み量、全光線透過率、黄色度、ヘイズ及び反射b*を表1に示した。表1中、PAI(1)はポリアミドイミド1を示し、PAI(2)はポリアミドイミド2を示し、PIはポリイミドを示し、シリカ含有量(質量%)は、光学フィルムの質量(樹脂とシリカ粒子の総質量)に対するシリカ粒子の質量を示す。   In the optical films obtained in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3, the type of resin, silica content, primary particle diameter of silica, equivalent circle radius of silica, dent amount in impact resistance test, total light transmission The rate, yellowness, haze, and reflection b * are shown in Table 1. In Table 1, PAI (1) indicates polyamideimide 1, PAI (2) indicates polyamideimide 2, PI indicates polyimide, and the silica content (% by mass) indicates the mass of the optical film (resin and silica particles). The total mass of the silica particles).

Figure 0006568290
Figure 0006568290

表1に示されるように、実施例1〜5の光学フィルムは、比較例1〜3の光学フィルムと比べ、耐衝撃性試験における凹み量が顕著に少なく、耐衝撃性に優れることが確認された。また、実施例1の光学フィルムは全光線透過率が高く、低黄色度及び低ヘイズであり、反射b*が0に近く、優れた光学特性を有することが確認された。   As shown in Table 1, it was confirmed that the optical films of Examples 1 to 5 had significantly less dents in the impact resistance test than the optical films of Comparative Examples 1 to 3, and were excellent in impact resistance. It was. In addition, it was confirmed that the optical film of Example 1 had high total light transmittance, low yellowness and low haze, reflection b * was close to 0, and excellent optical characteristics.

Claims (12)

式(13)
Figure 0006568290
[式(13)中、G 及びA は、それぞれ独立に、2価の有機基である]
で表される繰り返し構造単位、及び式(10)
Figure 0006568290
[式(10)中、Gは4価の有機基であり、Aは2価の有機基である]
で表される繰り返し構造単位を含むポリアミドイミドと、BET法により測定された一次粒子径が25nm以下であるフィラーとを含み、式(13)におけるG の30モル%以上が式(3)
Figure 0006568290
[式(3)中、R 〜R は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基を表し、R 〜R に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、Bは、単結合、−O−、−CH −、−CH −CH −、−CH(CH )−、−C(CH −、−C(CF −、−SO −、−S−、−CO−又は−N(R )−を表し、R は水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の炭化水素基を表し、nは0〜4の整数であり、*は結合手を表す]
で表される、光学フィルム。
Formula (13)
Figure 0006568290
[In Formula (13), G 3 and A 3 are each independently a divalent organic group]
A repeating structural unit represented by formula (10):
Figure 0006568290
[In Formula (10), G is a tetravalent organic group, and A is a divalent organic group]
In a polyamide-imide containing repeating structural units represented, viewed contains a filler primary particle size measured by the BET method is 25nm or less, at least 30 mole% of G 3 in formula (13) formula (3)
Figure 0006568290
[In Formula (3), R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and hydrogen contained in R 1 to R 8. atoms each independently may be substituted with a halogen atom, B represents a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C (CH 3 ) 2 —, —C (CF 3 ) 2 —, —SO 2 —, —S—, —CO— or —N (R 9 ) — is represented, and R 9 is substituted with a hydrogen atom or a halogen atom. Represents an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, n is an integer of 0 to 4, and * represents a bond.
An optical film represented by
前記フィラーの一次粒子径は1nm以上である、請求項1に記載の光学フィルム。   The optical film of Claim 1 whose primary particle diameter of the said filler is 1 nm or more. 式(13)
Figure 0006568290
[式(13)中、G 及びA は、それぞれ独立に、2価の有機基である]
で表される繰り返し構造単位、及び式(10)
Figure 0006568290
[式(10)中、Gは4価の有機基であり、Aは2価の有機基である]
で表される繰り返し構造単位を含むポリアミドイミドと、SEM画像の解析から得られた円相当半径の平均値が12nm以下であるフィラーとを含み、式(13)におけるG の30モル%以上が式(3)
Figure 0006568290
[式(3)中、R 〜R は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基を表し、R 〜R に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、Bは、単結合、−O−、−CH −、−CH −CH −、−CH(CH )−、−C(CH −、−C(CF −、−SO −、−S−、−CO−又は−N(R )−を表し、R は水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の炭化水素基を表し、nは0〜4の整数であり、*は結合手を表す]
で表される、光学フィルム。
Formula (13)
Figure 0006568290
[In Formula (13), G 3 and A 3 are each independently a divalent organic group]
A repeating structural unit represented by formula (10):
Figure 0006568290
[In Formula (10), G is a tetravalent organic group, and A is a divalent organic group]
In a polyamide-imide containing repeating structural units represented, viewed contains a filler average equivalent circle radius obtained from analysis of the SEM image is 12nm or less, equation (13) more than 30 mole% of G 3 in Is the formula (3)
Figure 0006568290
[In Formula (3), R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and hydrogen contained in R 1 to R 8. atoms each independently may be substituted with a halogen atom, B represents a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C (CH 3 ) 2 —, —C (CF 3 ) 2 —, —SO 2 —, —S—, —CO— or —N (R 9 ) — is represented, and R 9 is substituted with a hydrogen atom or a halogen atom. Represents an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, n is an integer of 0 to 4, and * represents a bond.
An optical film represented by
前記フィラーの円相当半径は1nm以上である、請求項3に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 3, wherein a circle-equivalent radius of the filler is 1 nm or more. ヘイズは1%以下である、請求項1〜のいずれかに記載の光学フィルム。 The optical film according to any one of claims 1 to 4 , wherein the haze is 1% or less. 黄色度は5以下である、請求項1〜のいずれかに記載の光学フィルム。 The optical film according to any one of claims 1 to 5 , wherein the yellowness is 5 or less. フィラーはシリカ粒子である、請求項1〜のいずれかに記載の光学フィルム。 Filler is silica particles, optical film according to any one of claims 1-6. フィラーの含有量は、光学フィルムの質量に対して60質量%以下である、請求項1〜のいずれかに記載の光学フィルム。 The content of the filler is 60 wt% or less based on the mass of the optical film, the optical film according to any one of claims 1-7. 膜厚は25〜100μmである、請求項1〜のいずれかに記載の光学フィルム。 The film thickness is 25 to 100 m, the optical film according to any one of claims 1-8. 請求項1〜のいずれかに記載の光学フィルムを備える、フレキシブル画像表示装置。 Comprising an optical film according to any one of claims 1 to 9 flexible image display apparatus. さらに偏光板を含有する、請求項10に記載のフレキシブル画像表示装置。 Furthermore, the flexible image display apparatus of Claim 10 containing a polarizing plate. さらにタッチセンサを含有する、請求項10又は11に記載のフレキシブル画像表示装置。 Furthermore, the flexible image display apparatus of Claim 10 or 11 containing a touch sensor.
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